JP2018075540A - 浸漬塗布装置並びに電子写真感光体及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】簡単な装置構成でありながら、被塗布物及び塗布槽のうち少なくとも一方の相対的な昇降動作による風の流れに起因する塗膜の膜厚ムラを抑制することができる浸漬塗布装置並びに電子写真感光体及び画像形成装置を提供する。【解決手段】浸漬塗布装置は、被塗布物を浸漬して被塗布物の表面に塗膜を形成するための塗布液を収容する塗布槽と、被塗布物及び塗布槽のうち少なくとも一方を相対的に昇降させて被塗布物を塗布槽における塗布液中に浸漬しかつ塗布液から引き上げる昇降手段とを備えている。塗布槽の上方には、外風を遮蔽するための遮風部が周方向の全周に亘って設けられている。遮風部の上部には、外側に向けて屈曲した屈曲部が周方向の全周に亘って設けられている。【選択図】図２

Description

本発明は、浸漬塗布法により塗布液を被塗布物に塗布する浸漬塗布装置、並びに、塗布液が基体に塗布されることにより製造された電子写真感光体及び電子写真感光体を備えた複写機、複合機、プリンタ、ファクシミリ装置等の電子写真方式の画像形成装置に関する。

浸漬塗布法により塗布液を被塗布物に塗布する浸漬塗布装置は、従来から知られている。例えば、浸漬塗布装置は、電子写真感光体〔具体的には有機系感光体（ＯＰＣ：Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｈｏｔｏ Ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）〕を製造する電子写真感光体製造装置として広く用いられている。

かかる浸漬塗布装置は、通常、被塗布物を浸漬して被塗布物の表面に塗膜を形成するための塗布液を収容する塗布槽と、被塗布物及び塗布槽のうち少なくとも一方を相対的に昇降させて被塗布物を塗布槽における塗布液中に浸漬しかつ塗布液から引き上げる昇降手段とを備え、塗布槽に、被塗布物を所定の深さまで浸漬したのち、被塗布物を引き上げることで、被塗布物（例えば電子写真感光体を構成する基体）の表面に塗膜（例えば下引き層、電荷発生層、電荷輸送層）を形成するようになっている。

特開平９−１９７６８９号公報 特開２０１０−１１５６４１号公報

このような浸漬塗布装置においては、被塗布物を塗布槽内の塗布液に浸漬した後、塗布液から被塗布物を引き上げて被塗布物の表面に塗膜を形成する際に、塗膜近傍で風の流れが発生し、塗布槽における塗布液や塗膜からの溶剤蒸気濃度に差ができる。そうすると、塗膜の乾燥性に差ができ、塗膜に膜厚ムラが発生する。このことは、例えば、電荷輸送層のように膜厚が厚い場合（例えば２８μｍ以上の膜厚の場合）に、特に顕著となる。これは、近年、浸漬塗布装置にて製造される製品の高品質化（例えば、製造される製品が電子写真感光体の場合、電子写真感光体のロングライフ化及び高画質化）の要望が高いことから、従来よりも大きな課題になってきている。

この点に関し、特許文献１には、全壁面がメッシュ状の筒状遮風部を塗布槽の上方に設けることが、また、特許文献２には、塗布液に浸漬した被塗布物を伸縮式スライドフードで被塗布物の側面を覆いながら引き上げることが提案されている。

しかしながら、特許文献１に記載の構成のように、メッシュ状の筒状遮風部を用いる場合には、横からの風を防ぐことには効果が大きいものの、被塗布物及び塗布槽のうち少なくとも一方を相対的に昇降させた時に発生する風を防ぐことには効果がなく、塗膜に縦スジ状の膜厚ムラが発生する場合があり、塗膜の膜厚ムラの十分な抑制効果が得られないという課題がある。

また、特許文献２に記載の構成のように、伸縮式スライドフードを用いる場合には、被塗布物全体を覆うことができることから、塗膜の膜厚ムラの抑制効果が大きいものの、伸縮式スライドフードの伸縮の際に、段階的に空気の流れが発生し、塗膜にリング状の膜厚ムラが発生し易く、また、装置構成が大掛かりになり易いことから、生産性という点で課題が残る。

そこで、本発明は、簡単な装置構成でありながら、被塗布物及び塗布槽のうち少なくとも一方の相対的な昇降動作による風の流れに起因する塗膜の膜厚ムラを抑制することができる浸漬塗布装置並びに電子写真感光体及び画像形成装置を提供することを目的とする。

本発明者らは、前記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、次のことを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、被塗布物を浸漬して被塗布物の表面に塗膜を形成するための塗布液を収容する塗布槽と、被塗布物及び塗布槽のうち少なくとも一方を相対的に昇降させて被塗布物を塗布槽における塗布液中に浸漬しかつ塗布液から引き上げる昇降手段とを備えた浸漬塗布装置において、例えば、電子写真感光体を製造する場合、塗膜（例えば電荷輸送層）の膜厚ムラを解消のために、特許文献１に提案されているようなメッシュ状の円筒状遮風部を設置したところ、塗膜のランダムな膜厚ムラ及び斜め状の膜厚ムラの解消には効果的であったが、塗膜に縦スジ状の膜厚ムラが発生し、電子写真感光体を備えた画像形成装置において、形成される画像上に濃淡スジが発生する結果となった。この結果を受け、円筒状の遮風部の大きさや、四角柱状などの遮風部の形状を変更して電子写真感光体を製造したが同様の結果であった。

以上のことから、塗布槽の上方に周方向の全周に亘って設けられた遮風部は、塗膜に対して横からの風を防ぐことで、塗膜のランダムな膜厚ムラ及び斜め状の膜厚ムラには効果があるものの、被塗布物及び塗布槽のうち少なくとも一方を相対的に昇降させることによる風に対しては、効果がなかったと考えられる。

詳しくは、浸漬塗布装置においては、被塗布物を塗布槽内の塗布液に浸漬した後、塗布液から被塗布物を引き上げて被塗布物の表面に塗膜を形成する際に、遮風部の外側壁面の近傍の空気が遮風部の外側壁面に沿って遮風部の上部から被塗布物に向けて回り込んでくる。そうすると、局所的な溶剤蒸気濃度の差が生じ、これにより、塗膜に縦スジ状の膜厚ムラが発生するものと考えられる。

かかる不都合を解消するために、鋭意検討を行ったところ、遮風部の上部に、外側に向けて屈曲した屈曲部を周方向の全周に亘って設ける屈曲構造にすることで、塗膜の縦スジ状の膜厚ムラの抑制に対して有効であることを見出した。これは、被塗布物を塗布槽内の塗布液に浸漬した後、塗布液から被塗布物を引き上げて被塗布物の表面に塗膜を形成する際に、遮風部の外側壁面の近傍の空気が屈曲部により遮風部の外側壁面に沿って遮風部の上部から被塗布物に向けて回り込むことを効果的に防ぐことができ、これにより、局所的な溶剤蒸気濃度の差を少なくすることができるためであると考えられる。

本発明は、かかる知見に基づくものであり、次の浸漬塗布装置並びに電子写真感光体及び画像形成装置を提供する。

（１）浸漬塗布装置
本発明に係る浸漬塗布装置は、被塗布物を浸漬して前記被塗布物の表面に塗膜を形成するための塗布液を収容する塗布槽と、前記被塗布物及び前記塗布槽のうち少なくとも一方を相対的に昇降させて前記被塗布物を前記塗布槽における前記塗布液中に浸漬しかつ前記塗布液から引き上げる昇降手段とを備えた浸漬塗布装置であって、前記塗布槽の上方には、外風を遮蔽するための遮風部が周方向の全周に亘って設けられており、前記遮風部の上部には、外側に向けて屈曲した屈曲部が周方向の全周に亘って設けられていることを特徴とする。

（２）電子写真感光体
本発明に係る電子写真感光体は、前記本発明に係る浸漬塗布装置にて前記塗布液が基体に塗布されることにより製造されたことを特徴とする。

（３）画像形成装置
本発明に係る画像形成装置は、前記本発明に係る電子写真感光体を備えていることを特徴とする。

本発明において、前記屈曲部は、前記遮風部の外側壁面から外側に直線状に屈曲する直線部を有している態様を例示できる。

本発明において、前記屈曲部は、前記遮風部の外側壁面に対して、予め定めた所定の屈曲角度範囲内の予め定めた所定の屈曲角度で屈曲している態様を例示できる。

本発明において、前記所定の屈曲角度範囲は、４５°〜１５０°である態様を例示できる。

本発明において、前記屈曲部は、前記遮風部の外側壁面から外側に湾曲状に屈曲する湾曲部を有している態様を例示できる。

本発明において、前記屈曲部は、先端が前記遮風部の外側壁面に対して、水平方向において予め定めた所定の水平距離だけ離れている態様を例示できる。

本発明において、前記所定の水平距離は、１０ｍｍ以上である態様を例示できる。

本発明において、前記屈曲部は、シート状の部材で構成されている態様を例示できる。

本発明において、前記遮風部は、外側壁面の全部若しくは一部が予め定めた所定の目開き範囲内の予め定めた所定の目開きで、かつ、予め定めた所定の開孔率範囲内の予め定めた所定の開孔率の多孔状に形成されている態様を例示できる。

本発明において、前記所定の目開き範囲は、５０μｍ〜１００μｍであり、前記所定の開孔率範囲は、３０％〜５０％である態様を例示できる。

本発明に係る画像形成装置において、前記電子写真感光体の表面を直流電圧のみで帯電させる接触帯電方式の帯電手段をさらに備えている態様を例示できる。

本発明によると、簡単な装置構成でありながら、被塗布物及び塗布槽のうち少なくとも一方の相対的な昇降動作による風の流れに起因する塗膜の膜厚ムラを抑制することが可能となる。

本発明の実施の形態に係る浸漬塗布装置の概略構成を示す正面図である。 第１実施形態に係る浸漬塗布装置の遮風部及び屈曲部部分を中心に示す概略分解斜視図である。 第２実施形態に係る浸漬塗布装置の遮風部及び屈曲部部分を中心に示す概略分解斜視図である。 第３実施形態に係る浸漬塗布装置の遮風部及び屈曲部部分を中心に示す概略分解斜視図である。 第４実施形態に係る浸漬塗布装置の遮風部及び屈曲部部分を中心に示す概略分解斜視図である。 第５実施形態に係る浸漬塗布装置の遮風部及び屈曲部部分を拡大して示す概略縦断面図である。 第６実施形態に係る浸漬塗布装置の遮風部及び屈曲部部分を拡大して示す概略縦断面図である。 第７実施形態に係る浸漬塗布装置の遮風部及び屈曲部部分を拡大して示す概略縦断面図である。 第８実施形態に係る浸漬塗布装置の遮風部及び屈曲部部分を拡大して示す概略縦断面図である。 図１に示す浸漬塗布装置にて塗布液が基体に塗布されることにより製造される電子写真感光体の一例の概略構成を示す縦断面図である。 図１０に示す電子写真感光体の一例の表面部分を拡大した部分断面図である。 図１に示す浸漬塗布装置により製造された電子写真感光体を備える画像形成装置の概略構成を模式的に示す断面図である。

以下、本発明に係る実施の形態について図面を参照しながら説明する。

（浸漬塗布装置）
先ず、本発明の実施の形態に係る浸漬塗布装置１００について図１を参照しながら以下に説明する。

図１は、本発明の実施の形態に係る浸漬塗布装置１００の概略構成を示す正面図である。なお、図１において、矢印は塗布液Ｌの流れ方向を表している。

図１に示すように、浸漬塗布装置１００（この例では電子写真感光体製造装置）は、被塗布物Ｅを浸漬して被塗布物Ｅの表面Ｅａに塗膜を形成するための塗布液Ｌを収容する塗布槽１０と、被塗布物Ｅ及び塗布槽１０のうち少なくとも一方（この例では被塗布物Ｅ）を相対的に昇降させて被塗布物Ｅを塗布槽１０における塗布液Ｌ中に浸漬しかつ塗布液Ｌから引き上げる昇降部２０（昇降手段の一例）（具体的には昇降機構部）とを備えている。

浸漬塗布装置１００は、塗布槽１０に、被塗布物Ｅを所定の深さまで浸漬したのち、被塗布物Ｅを引き上げることで、被塗布物Ｅの表面Ｅａに塗膜を形成するようになっている。これにより、被塗布物Ｅの表面Ｅａに塗布液Ｌを塗布することにより塗膜した製品を製造することができる。

この例では、被塗布物Ｅは、鉛直方向Ｖに長い長尺状の被塗布物（例えば、円筒状の被塗布物）とされている。具体的には、被塗布物Ｅは、電子写真感光体Ｆ（後述する図１０及び図１１参照）を構成する基体Ｆ１（具体的には導電性基体）（図１０及び図１１参照）とされ、被塗布物Ｅの表面Ｅａに形成する塗膜は、複数の層（例えば干渉防止層や下引き層、電荷発生層、電荷輸送層）とされ、被塗布物Ｅの表面Ｅａに塗布液Ｌを塗布することにより塗膜して得られる製品は、電子写真感光体Ｆ（例えば積層型の有機系感光体）とされている。

＜塗布槽＞
塗布槽１０は、上面を開放した開口部１０ａを有し、被塗布物Ｅが開口部１０ａから挿通されるようになっている。塗布槽１０は、被塗布物Ｅが収容可能な大きさになっている。また、塗布槽１０は、生産性を向上させるという観点から、複数の被塗布物Ｅ〜Ｅに塗布液Ｌを同時的（同時又は略同時）に塗布可能な塗布槽（具体的には単一の塗布槽や、複数の被塗布物Ｅ〜Ｅに塗布液Ｌをそれぞれ塗布するための複数の塗布槽）を用いてもよい。

＜昇降部＞
昇降部２０は、被塗布物Ｅを支持する支持機構２１と、支持機構２１を昇降させる駆動装置２２とを備えている。この例では、昇降部２０は、ボールネジ機構により被塗布物Ｅを昇降するようになっている。

支持機構２１は、駆動装置２２に接続される支持部２１１（具体的には支持板）と、支持部２１１の先端側の下面２１１ａに連設されて被塗布物Ｅ（例えば被塗布物Ｅの上端面Ｅｂ）を着脱可能に保持する保持部２１２とを備えている。

なお、保持部２１２は、被塗布物Ｅを着脱可能に保持できるものであれば、何れの構成のものであってもよく、特に限定されるものではない。例えば、保持部２１２は、被塗布物Ｅの上端面Ｅｂに設けられた突起部を着脱可能に掴むチャック爪機構を備えたものであってもよい。或いは、保持部２１２は、被塗布物Ｅの上端面Ｅｂに設けられたループ部に係脱可能なフック部を備えたのものであってもよい。

駆動装置２２は、係止部材２２１（この例では雄ネジ部を有するスクリューシャフト）と、係止部材２２１を駆動（この例では回転駆動）する昇降駆動部２２２（この例ではモータ）とを備えている。

支持機構２１における支持部２１１には、係止部材２２１（この例では雄ネジ部）に係合（この例では螺合）する係合部２１１ｂ（この例では雌ネジ孔）が設けられている。

かかる構成を備えた昇降部２０では、昇降駆動部２２２にて係止部材２２１が一方向又は他方向に駆動（この例では正回転駆動又は逆回転駆動）することにより、支持部２１１と共に被塗布物Ｅを鉛直方向Ｖ又は略鉛直方向Ｖに昇降させることができる。なお、昇降駆動部２２２として、駆動速度調整可能な駆動部、例えば、サーボモータを用いることができる。こうすることで、支持部２１１の昇降速度を容易に調整することができる。

詳しくは、係止部材２２１は、鉛直方向Ｖ又は略鉛直方向Ｖに延びている。支持部２１１は、水平方向Ｈ又は略水平方向Ｈに延びている。支持部２１１は、係止部材２２１に水平方向Ｈ又は略水平方向Ｈに沿って係合される。被塗布物Ｅは、鉛直方向Ｖ又は略鉛直方向Ｖに延びた状態で保持部２１２に着脱可能に取り付けられている。

支持機構２１は、支持部２１１を鉛直方向Ｖ又は略鉛直方向Ｖに沿って案内する案内部材２２３（この例ではガイドシャフト）と、係止部材２２１の下端２２１ａを軸線回りに回転自在に支持し、かつ、案内部材２２３の下端２２３ａを支持する下側支持台２２４と、係止部材２２１の上端２２１ｂを軸線回りに回転自在に支持し、かつ、案内部材２２３の上端２２３ｂを支持する上側支持台２２５とをさらに備えている。

支持機構２１における支持部２１１には、案内部材２２３を挿通する挿通部２１１ｃ（具体的にはガイド孔）が設けられている。案内部材２２３は、鉛直方向Ｖ又は略鉛直方向Ｖに延びている。係止部材２２１及び案内部材２２３は、互いに平行又は略平行になるように下側支持台２２４及び上側支持台２２５に支持されている。下側支持台２２４及び上側支持台２２５の何れか一方（この例では上側支持台２２５）には、昇降駆動部２２２が設けられている。

かかる構成を備えた昇降部２０では、案内部材２２３にて支持機構２１における支持部２１１を鉛直方向Ｖ又は略鉛直方向Ｖに沿って案内することにより、係止部材２２１にて支持機構２１における支持部２１１を被塗布物Ｅと共に鉛直方向Ｖ又は略鉛直方向Ｖに確実に昇降させることができる。

なお、この例では、昇降部２０は、ボールネジ機構により被塗布物Ｅを昇降するようにしたが、他の昇降機構、例えば、シリンダ機構、ボールネジ機構又はシリンダ機構と組み合わされたリンク機構などを用いてもよい。

本実施の形態では、浸漬塗布装置１００は、塗布液Ｌを塗布槽１０に供給して塗布槽１０からオーバーフローさせるための塗布液供給部３０と、塗布槽１０及び塗布液供給部３０の間で塗布液Ｌを循環させるための循環部４０（循環手段の一例）とをさらに備えている。

この例では、昇降部２０が単一の被塗布物Ｅを保持するようにして昇降させる場合を例示したが、生産性を向上させるという観点から、昇降部２０にて複数の被塗布物Ｅ〜Ｅを保持するようにして昇降させ、一度の浸漬で複数の被塗布物Ｅ〜Ｅを同時的（同時又は略同時）に塗布するように構成してもよい。この場合、塗布槽１０及び後述する塗布液回収部４１を複数の被塗布物Ｅ〜Ｅを浸漬できる大きさに形成することができる。

＜塗布液供給部＞
塗布液供給部３０は、塗布液Ｌを貯留する貯留部３１（具体的には貯留タンク）と、貯留部３１に貯留されている塗布液Ｌを塗布槽１０に導く供給経路３２（具体的には供給管）と、供給経路３２に設けられて貯留部３１から塗布液Ｌを塗布槽１０に供給する供給駆動部３３（具体的にはポンプ）とを備えている。

貯留部３１は、循環に最低限必要な量の塗布液Ｌと被塗布物Ｅの体積分の塗布液Ｌとを収容できる容積があればよい。また、塗布液Ｌの投入と、塗布液Ｌ及び塗布液Ｌ中の溶媒の追加が可能なように、貯留部３１の上部に開閉可能な蓋部３１ａが設けられている。また、貯留部３１内の塗布液Ｌを攪拌混合するための攪拌機（図示せず）、塗布液Ｌの粘度を計測する粘度計（図示せず）などを貯留部３１に設けて、塗布液Ｌの液物性を調整できるようにしてもよい。

また、貯留部３１の底部には、塗布液Ｌを流出する流出口３１ｂが設けられている。塗布槽１０の底部には、塗布液Ｌを流入する流入口１０ｂが設けられている。供給経路３２は、一端部３２ａが貯留部３１における流出口３１ｂに接続され、かつ、他端部３２ｂが塗布槽１０における流入口１０ｂに接続されている。

供給駆動部３３としては、例えば、サインポンプやマグネットポンプ、ギアポンプ等の脈動が比較的少ないポンプを好適に用いることができる。

＜循環部＞
循環部４０は、塗布槽１０からオーバーフローした塗布液Ｌを回収する塗布液回収部４１と、塗布槽１０からオーバーフローした塗布液Ｌを貯留部３１に導く循環経路４２（具体的には循環管）とを備えている。

塗布液回収部４１は、塗布槽１０の外周壁面１１の上端部分に液密に一体化された断面視Ｌ字状の受け部４１１と、受け部４１１における塗布液Ｌの蒸発を抑制するための蓋部４１２とを備えている。蓋部４１２は、受け部４１１の上端に設けられている。この例では、蓋部４１２は、受け部４１１の上端面に載置されている。また、蓋部４１２には、被塗布物Ｅを塗布槽１０内に出し入れするための開口部４１２ａが設けられている。

受け部４１１の側壁には、塗布液Ｌを流出する流出口４１１ａが設けられている。貯留部３１の側壁には、塗布液Ｌを流入する流入口３１ｃが設けられている。循環経路４２は、一端部４２ａが受け部４１１における流出口４１１ａに接続され、かつ、他端部４２ｂが貯留部３１における流入口３１ｃに接続されている。

ここで、受け部４１１における流出口４１１ａは、貯留部３１における流入口３１ｃよりも高い位置に配置されている。このため、塗布液回収部４１にて回収した塗布液Ｌを流出口４１１ａから循環経路４２を経て流入口３１ｃを通って貯留部３１内へ流入させることができる。これにより、塗布槽１０及び貯留部３１の間で塗布液Ｌを循環させることができる。

＜遮風部＞
塗布槽１０の上方には、外風を遮蔽するための遮風部５０が周方向の全周に亘って設けられている。

遮風部５０は、外風を遮蔽することができれば、何れの形状のものであってもよい。この例では、遮風部５０は、筒状のものとされている。遮風部５０は、蓋部４１２と一体的に設けられている。

遮風部５０を構成することができる材料としては、溶剤蒸気による変質がない或いは殆どない材料であれば、何れのものを用いてよく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂材料、アルミニウム、ステンレス鋼等の金属材料、紙材料等の自然素材を挙げることができ、これらのうち、遮風部５０の強度を向上させるという観点から、ステンレス鋼を用いることが好ましい。

＜屈曲部＞
そして、遮風部５０の上部５０ａには、外側に向けて屈曲した屈曲部６０が周方向の全周に亘って設けられている。ここで、上部５０ａは、遮風部５０の上端５０ｂから下方への周方向における予め定めた所定の範囲の部分である。

本実施の形態によれば、塗布槽１０の上方に遮風部５０が周方向の全周に亘って設けられているので、被塗布物Ｅを塗布槽１０内の塗布液Ｌに浸漬した後、塗布液Ｌから被塗布物Ｅを引き上げて被塗布物Ｅの表面Ｅａに塗膜を形成する際に、遮風部５０により被塗布物Ｅに対して横からの風を抑制することができ、これにより、塗膜のランダムな膜厚ムラ及び斜め状の膜厚ムラを抑制することができる。

しかも、遮風部５０の上部５０ａに屈曲部６０が周方向の全周に亘って設けられているので、装置構成を簡素化することができる上、被塗布物Ｅを塗布槽１０内の塗布液Ｌに浸漬した後、塗布液Ｌから被塗布物Ｅを引き上げて被塗布物Ｅの表面Ｅａに塗膜を形成する際に、遮風部５０の外側壁面５１の近傍の空気が屈曲部６０により遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込むことを効果的に防止することができ、これにより、被塗布物Ｅ及び塗布槽１０のうち少なくとも一方（この例では被塗布物Ｅ）の相対的な昇降動作による風を効果的に防ぐことができる。その結果、局所的な溶剤蒸気濃度の差を少なくすることができ、従って、塗膜の縦スジ状の膜厚ムラを抑制することができ、ひいては塗膜の各所での膜厚差を可及的に少なくすることができる。

また、浸漬塗布装置１００にて塗布液Ｌを基体Ｆ１（図１０及び図１１参照）に塗布することにより、塗膜の各所での膜厚差が可及的に少ない、安定した電子写真感光体Ｆ（図１０及び図１１参照）を得ることができる。

なお、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００において、生産性を向上させるために、一度の浸漬で複数の被塗布物Ｅ〜Ｅを同時的（同時又は略同時）に塗布する場合があるが、その場合は、複数の被塗布物Ｅ〜Ｅの全てを囲う１つの遮風部５０に屈曲部６０を設けてもよいし、複数の被塗布物Ｅ〜Ｅをそれぞれ囲う複数の遮風部５０〜５０に屈曲部６０をそれぞれ設けてもよい。一度の浸漬で複数の被塗布物Ｅ〜Ｅを同時的（同時又は略同時）に塗布する場合、遮風部５０の内側と外側との蒸気濃度差が大きくなるため、屈曲部６０を設けることで、塗膜の縦スジ状の膜厚ムラの抑制効果を大きくすることができる。

また、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００において、被塗布物Ｅ及び塗布槽１０のうち、被塗布物Ｅのみを昇降させるようにしたが、塗布槽１０のみを昇降させるか、或いは、被塗布物Ｅ及び塗布槽１０の双方を昇降させるようにしてもよい。

ここで、被塗布物Ｅの相対浸漬速度としては、５ｍｍ／ｓｅｃ〜２０ｍｍ／ｓｅｃ程度を例示でき、被塗布物Ｅの相対引き上げ速度としては、１ｍｍ／ｓｅｃ〜３ｍｍ／ｓｅｃ程度を例示できる。

また、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００において、遮風部５０は、塗布槽１０と一体化させてもよい。その場合、遮風部５０は、塗布槽１０の上部と連接される。

〔第１実施形態から第１０実施形態について〕
次に、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００における遮風部５０及び屈曲部６０の詳細について図１に加えて、図２から図９を参照しながら以下に説明する。

遮風部５０としては、例えば、円筒状のものであってもよいし、角筒状（上面及び底面が開放した中空の四角柱状）のものであってもよい。

（第１実施形態及び第２実施形態）
図２及び図３は、それぞれ、第１実施形態及び第２実施形態に係る浸漬塗布装置１００の遮風部５０及び屈曲部６０部分を中心に示す概略分解斜視図である。

図２に示す第１実施形態に係る浸漬塗布装置１００における遮風部５０は、円筒状のものとされている。図３に示す第２実施形態に係る浸漬塗布装置１００における遮風部５０は、角筒状のものとされている。

そして、第１実施形態及び第２実施形態に係る浸漬塗布装置１００において、屈曲部６０は、遮風部５０の外側壁面５１から外側に直線状に屈曲する直線部６１を有している。すなわち、屈曲部６０は、遮風部５０の外側壁面５１から外側に直線状に形成されている。

こうすることで、遮風部５０の外側壁面５１の近傍の空気ＡＲが直線状に屈曲する直線部６１により遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込むことを確実に防ぐことができる。

（第３実施形態及び第４実施形態）
図４及び図５は、それぞれ、第３実施形態及び第４実施形態に係る浸漬塗布装置１００の遮風部５０及び屈曲部６０部分を中心に示す概略分解斜視図である。

ところで、遮風部５０が風（空気ＡＲ）を全く通さない形状に形成されていると、遮風部５０により横からの風を効果的に防ぐことができ、それだけ、塗膜のランダムな膜厚ムラ及び斜め状の膜厚ムラを抑制することができる。しかしながら、その一方で、遮風部５０が風を全く通さない形状に形成されていると、塗布液Ｌの溶剤蒸気濃度が上昇し易く、そうすると、塗布液Ｌを塗布された被塗布物Ｅの表面Ｅａの上部における塗膜と下部における塗膜との膜厚差が大きくなり易い。

図４及び図５に示す第３実施形態及び第４実施形態に係る浸漬塗布装置１００における遮風部５０は、第１実施形態に係る浸漬塗布装置１００における遮風部５０において、外側壁面５１の全部（全面）（図４参照）若しくは一部（一部の面）（図５参照）が予め定めた所定の目開き範囲内の予め定めた所定の目開きで、かつ、予め定めた所定の開孔率範囲内の予め定めた所定の開孔率の多孔状Ｍ（メッシュ状）に形成される。なお、かかるメッシュ構造は、勿論、第２実施形態に係る浸漬塗布装置１００における遮風部５０に形成されていてもよい。

ここで、「目開き」は、「開孔（開口）」の大きさであり、例えば、開孔が円形状のものであれば、開孔の直径、正方形状のものであれば、開孔の一辺の長さ、長尺形状のものであれば、開孔の長手方向の長さとすることができる。

また、「開孔率（開口率）」は、多孔状の部分全体の面積に対する開孔の部分の面積の割合であり、開孔率＝（「目開き総面積」／「多孔状の部分全体の面積」）×１００［％］の計算式で算出することができる。

第４実施形態に係る浸漬塗布装置１００における遮風部５０において、外側壁面５１の全体の面積に対する多孔状Ｍの部分の面積の割合、及び、多孔状Ｍの部分を設ける位置は、遮風部５０の形状、塗布液Ｌの溶剤の種類や量等の塗布液Ｌの溶剤蒸気濃度に関与する各種の条件に応じて適宜設定することができる。この例では、多孔状Ｍは、外側壁面５１の下側の半分程度に部分に周方向における全周に亘って形成されている。

第３実施形態及び第４実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、外側壁面５１の全部若しくは一部が所定の目開き範囲内の所定の目開きで、かつ、所定の開孔率範囲内の所定の開孔率の多孔状Ｍ（メッシュ状）に形成されていることで、塗布液Ｌを塗布された被塗布物Ｅの表面Ｅａの上部における塗膜と下部における塗膜との膜厚差を小さくすることができる。これは、多孔状Ｍが形成された遮風部５０において、遮風部５０の内部の溶剤蒸気濃度を適度に下げることができ、これにより、塗膜を生成するときに塗布液Ｌが垂れることを抑制することができるためであると考えられる。

所定の目開き及び所定の開孔率は、遮風部５０の形状、塗布液Ｌの溶剤の種類や量等の塗布液Ｌの溶剤蒸気濃度に関与する各種の条件に応じて適宜設定することができる。

ところで、所定の目開きが所定の目開き範囲の下限値よりも小さい若しくは所定の開孔率が所定の開孔率範囲の下限値よりも小さいと、溶剤蒸気濃度を下げる効果を得難い。一方、所定の目開きが所定の目開き範囲の上限値よりも大きい若しくは所定の開孔率が所定の開孔率範囲の上限値よりも大きいと、被塗布物Ｅが遮風部５０を介して横からの風を受け易くなり、これにより、塗膜のランダムな膜厚ムラ及び斜め状の膜厚ムラが発生し易くなる。

この点、第３実施形態及び第４実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、所定の目開きが所定の目開き範囲内にあることで、溶剤蒸気濃度を下げる効果を得ることができる一方で、所定の開孔率が所定の開孔率範囲内にあることで、被塗布物Ｅが遮風部５０を介して横からの風を受け難くすることができ、それだけ効果的に塗膜のランダムな膜厚ムラ及び斜め状の膜厚ムラを抑制することができる。

第３実施形態及び第４実施形態に係る浸漬塗布装置１００において、所定の目開き範囲としては、５０μｍ〜１００μｍ程度を例示でき、所定の開孔率範囲としては、３０％〜５０％程度を例示できる。

このように、所定の目開き範囲が５０μｍ〜１００μｍ程度であり、所定の開孔率範囲が３０％〜５０％程度である場合には、塗布液Ｌを塗布された被塗布物Ｅの上部における塗膜と下部における塗膜との膜厚差を確実に小さくすることができる。

（第５実施形態）
図６は、第５実施形態に係る浸漬塗布装置１００の遮風部５０及び屈曲部６０部分を拡大して示す概略縦断面図である。

図６に示すように、第５実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、図２から図５に示す浸漬塗布装置１００の遮風部５０において、屈曲部６０を構成する直線部６１は、遮風部５０の外側壁面５１に対して、予め定めた所定の屈曲角度範囲内の予め定めた所定の屈曲角度θで屈曲している。ここで、直線部６１の所定の屈曲角度θは、遮風部５０の外側壁面５１の直線部６１よりも下側の部分と、直線部６１とのなす角度という。また、所定の屈曲角度範囲は、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込む空気ＡＲを確実に妨げることができる屈曲角度範囲である。

ところで、屈曲角度θが所定の屈曲角度範囲の下限値を下回る或いは上限値を上回ると、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａに向かう空気ＡＲが遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込むことを効果的に防ぐことができない。

この点、第５実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、屈曲角度θが所定の屈曲角度範囲内にあることで、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａに向かう空気ＡＲを遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込むことを効果的に防ぐことができ、それだけ効果的に塗膜の膜厚ムラを抑制することができる。

第５実施形態に係る浸漬塗布装置１００において、所定の屈曲角度範囲としては、４５°〜１５０°程度を例示でき、より好ましくは、６０°〜７５°程度を例示できる。

このように、所定の屈曲角度範囲が４５°〜１５０°程度である場合には、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａに向かう空気ＡＲを遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込むことを確実に防ぐことができる。しかも、所定の屈曲角度範囲が６０°〜７５°程度である場合には、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａに向かう空気ＡＲを屈曲部６０により遮風部５０の外側壁面５１から屈曲部６０の屈曲角度θ分だけ斜め下方向に向けることができ、これにより、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａに向かう空気ＡＲを遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込むことをさらに確実に防ぐことでき、それだけ効果的に塗膜の膜厚ムラを抑制することができる。

（第６実施形態）
図７は、第６実施形態に係る浸漬塗布装置１００の遮風部５０及び屈曲部６０部分を拡大して示す概略縦断面図である。

図７に示すように、第６実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、図２から図５に示す浸漬塗布装置１００の遮風部５０において、屈曲部６０は、遮風部５０の外側壁面５１から外側に湾曲状に屈曲する湾曲部６２を有している。すなわち、屈曲部６０は、遮風部５０の外側壁面５１から外側に向けて湾曲状に形成されている。ここで、湾曲状としては、円弧状、楕円弧状を例示できる。湾曲形状の向きとしては、上に凸の湾曲形状、先端が斜め上方に向かう湾曲形状、先端が水平方向Ｈ又は略水平方向Ｈに向かう湾曲形状、先端が斜め下方に向かう湾曲形状、先端が遮風部５０の外側壁面５１に向かう湾曲形状を例示できる。

こうすることで、遮風部５０の外側壁面５１の近傍の空気ＡＲが湾曲状に屈曲する湾曲部６２により遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込むことを確実に防ぐことができる。

（第７実施形態）
図８は、第７実施形態に係る浸漬塗布装置１００の遮風部５０及び屈曲部６０部分を拡大して示す概略縦断面図である。

図８に示すように、第７実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、図２から図５に示す浸漬塗布装置１００の遮風部５０において、屈曲部６０は、直線状に屈曲する直線部６１と、直線部６１の先端に連設されて湾曲状に屈曲する湾曲部６２とを有している。ここで、湾曲状としては、円弧状、楕円弧状を例示できる。湾曲形状の向きとしては、上に凸の湾曲形状、先端が斜め上方に向かう湾曲形状、先端が水平方向Ｈ又は略水平方向Ｈに向かう湾曲形状、先端が斜め下方に向かう湾曲形状、先端が遮風部５０の外側壁面５１に向かう湾曲形状を例示できる。

屈曲部６０を構成する直線部６１は、遮風部５０の外側壁面５１に対して、予め定めた所定の屈曲角度範囲内の予め定めた所定の屈曲角度θで屈曲している。所定の屈曲角度範囲及び所定の屈曲角度θは、第５実施形態の説明と同じであり、ここでは説明を省略する。

こうすることで、遮風部５０の外側壁面５１の近傍の空気ＡＲが直線部６１及び湾曲部６２を有する屈曲部６０により遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込むことをさらに確実に防ぐことができる。

しかも、直線部６１の所定の屈曲角度θがたとえ所定の屈曲角度範囲の上限値を超えたとしても、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａに向かう空気ＡＲを湾曲部６２により斜め上方、横方向や斜め下向等に向けることができ、これにより、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａに向かう空気ＡＲを遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込み難くすることでき、それだけ効果的に塗膜の膜厚ムラを抑制することができる。

この例では、屈曲部６０を構成する直線部６１及び湾曲部６２は、一体的に形成されている。

なお、図示を省略したが、屈曲部６０は、遮風部５０の外側壁面５１から湾曲状に屈曲する湾曲部と、湾曲部の先端に連設されて直線状に屈曲する直線部を有する構成、すなわち、遮風部５０の外側壁面５１から外側に湾曲状に形成され、さらに、直線状に形成された構成であってもよい。

（第８実施形態）
図９は、第８実施形態に係る浸漬塗布装置１００の遮風部５０及び屈曲部６０部分を拡大して示す概略縦断面図である。

第５実施形態から第７実施形態では、屈曲部６０は、遮風部５０の上端５０ｂ（図６から図８参照）に設けられているが、図９に示すように、第８実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、図２から図５に示す浸漬塗布装置１００の遮風部５０において、遮風部５０の上端５０ｂよりも予め定めた所定の鉛直距離ｈ（例えば５ｍｍ）だけ下側の位置に設けられている。なお、図９では、第５実施形態の例を示している。ここで、所定の距離範囲は、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込む空気ＡＲを確実に妨げることができる距離範囲である。

こうすることで、屈曲部６０を遮風部５０の上端５０ｂに設けることができないときに、遮風部５０の上端５０ｂよりも所定の鉛直距離ｈだけ下側に設けたとしも、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込む空気ＡＲを確実に妨げることができる。

（第９実施形態）
第９実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、第５実施形態から第８実施形態に係る浸漬塗布装置１００において、屈曲部６０は、先端６０ａ（図６から図９参照）が遮風部５０の外側壁面５１に対して、水平方向Ｈにおいて予め定めた所定の水平距離ｄ（図６から図９参照）だけ離れている。ここで、所定の水平距離ｄは、水平方向Ｈに沿った仮想直線（図示せず）の屈曲部６０の先端６０ａと遮風部５０の外側壁面５１との間の距離である。また、所定の水平距離ｄは、遮風部５０の外側壁面５１に沿って遮風部５０の上部５０ａから被塗布物Ｅに向けて回り込む空気ＡＲを確実に妨げることができる水平距離である。

ところで、屈曲部６０の先端６０ａが遮風部５０の外側壁面５１に対して所定の水平方向Ｈにおける水平距離ｄよりも近い距離に位置していると、塗布液Ｌの被塗布物Ｅへの塗布速度の差、及び／又は、塗布液Ｌの被塗布物Ｅへの塗布環境の差、及び／又は、被塗布物Ｅに対する連続塗工により、塗膜の膜厚ムラの抑制効果が低下する場合があり、そうすると、製造される製品の安定性に欠けることになる。特に、塗布速度が速い場合や塗布液Ｌの固形分濃度が低い場合に、塗膜の膜厚ムラが発生し易い。

この点、第９実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、屈曲部６０の先端６０ａが遮風部５０の外側壁面５１に対して水平方向Ｈにおいて所定の水平距離ｄだけ離れていることで、塗布速度の差及び／又は塗布環境の差及び／又は連続塗工により、塗膜の膜厚ムラの抑制効果の低下を回避することができ、これにより、製造される製品の安定性を向上させることができる。

第９実施形態に係る浸漬塗布装置１００において、所定の水平距離ｄとしては、１０ｍｍ程度以上を例示できる。

このように、所定の水平距離ｄが１０ｍｍ程度以上である場合には、塗布速度の差及び／又は塗布環境の差及び／又は連続塗工により、塗膜の膜厚ムラを抑制することができ、これにより、製造される製品の安定性を確実に向上させることができる。

（第１０実施形態）
ところで、屈曲部６０は、遮風部５０と一体化させることで、例えば、遮風部５０自体を加工することで、遮風部５０の上部５０ａに設けるようにしてもよいが、この場合、加工に手間がかかる上、加工コストが高くつく。しかも、既存の遮風部５０に実質上対応することができない。

この点、第１０実施形態に係る浸漬塗布装置１００では、屈曲部６０は、シート状の部材で構成されている。これにより、屈曲部６０は、遮風部５０に対して着脱可能に設けることができる。例えば、シート状の部材で構成された屈曲部６０は、遮風部５０の上部５０ａに粘着シート（例えば粘着テープ）により貼り付けることができる。

こうすることで、遮風部５０自体を加工する必要がないので、加工の手間を軽減させることができる上、遮風部５０の上部５０ａにシート状の部材を設けるといったさらに簡単な構成でありながら、塗膜の膜厚ムラを抑制することができる。しかも、既存の遮風部５０に容易に対応することができる。

［電子写真感光体］
次に、図１に示す浸漬塗布装置１００により製造される電子写真感光体Ｆについて図１０及び図１１を参照しながら以下に説明する。

図１０は、図１に示す浸漬塗布装置１００にて塗布液Ｌが基体Ｆ１に塗布されることにより製造される電子写真感光体Ｆの一例の概略構成を示す縦断面図である。また、図１１は、図１０に示す電子写真感光体Ｆの一例の表面部分を拡大した部分断面図である。

本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００による浸漬塗布は、前述した屈曲部６０が設けられた遮風部５０を用いることを除き、従来の浸漬塗布装置を用いて電子写真感光体を製造する場合と同一の条件で実施することができる。

製造される電子写真感光体Ｆは、単層型のものと、積層型のものとに大別されるが、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００は、特にどちらのタイプにおいても、画像特性の優れた電子写真感光体Ｆを製造することができる。

図１０に示すように、電子写真感光体Ｆ（この例では電子写真感光体ドラム）は、被塗布物Ｅとしての円筒状の基体Ｆ１（具体的には導電性基体）及び基体Ｆ１の外周面に形成される感光層Ｆ２を含む複数の層からなる感光体本体Ｆ３（感光体ドラム本体）と、感光体本体Ｆ３の回転軸線方向における両端の開口部を閉塞しつつ支持する一対のフランジＦ４，Ｆ４とを備えている。

図１１に示すように、電子写真感光体Ｆは、基体Ｆ１（Ｅ）と感光層Ｆ２とを有する。感光層Ｆ２は、基体Ｆ１の外周面上に形成される。

電子写真感光体Ｆは、この例では、積層型のものであり、感光層Ｆ２は、電荷発生層Ｆ２１（具体的には電荷発生物質含有層）（図１１参照）及び電荷輸送層Ｆ２２（具体的には電荷輸送物質含有層）（図１１参照）を含む。このような積層型の電子写真感光体Ｆは、電子写真の技術の分野において広く用いられている。

電荷発生層Ｆ２１は、電荷を発生させる電荷発生物質を含む。電荷発生層Ｆ２１は、基体Ｆ１上に積層される。電荷輸送層Ｆ２２は、電荷発生層Ｆ２１にて発生した電荷を輸送する電荷輸送物質を含む。電荷輸送層Ｆ２２は、電荷発生層Ｆ２１上に積層される。

本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００は、前述した電子写真感光体Ｆにおける各層以外の層の製造にも使用することができる。

例えば、電荷注入防止の目的で基体Ｆ１と電荷発生層Ｆ２１との間に設けられる干渉防止層や下引き層、最上位層に設けられる保護層についても本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００を用いて形成することができる。

次に、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００を用いて製造される電子写真感光体Ｆを構成する基体Ｆ１及び基体Ｆ１の上に設けられる各層について以下に説明する。

＜基体＞
基体Ｆ１（具体的には導電性基体）は、電子写真感光体Ｆの電極としての機能と支持部材としての機能とを有している。基体Ｆ１の構成材料は、当該技術分野で用いられる材料であれば特に限定されるものではない。

具体的には、基体Ｆ１の構成材料として、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス鋼、チタンなどの金属材料、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエステル、ポリオキシメチレン、ポリスチレンなどの高分子材料、硬質紙材料、ガラスなどの非導電性材料からなる支持体表面に金属箔等の導電性膜をラミネートしたもの、ガラスなどの非導電性材料からなる支持体表面に金属材料や、導電性高分子、酸化スズ、酸化インジウムなどの導電性化合物の層を蒸着もしくは塗布したものなどを挙げることができる。これらの中でも、ＪＩＳ３００３系、ＪＩＳ５０００系及びＪＩＳ６０００系などのアルミニウム合金が特に好ましい。

また、基体Ｆ１の形状としては、円筒形を例示でき、基体Ｆ１の直径としては、１０ｍｍ〜３００ｍｍ程度を例示でき、基体Ｆ１の長さとしては、２００ｍｍ〜１０００ｍｍ程度を例示できる。

基体Ｆ１の表面は、必要に応じて、画質に影響のない範囲内で、陽極酸化皮膜処理、薬品、熱水などによる表面処理、着色処理、表面を粗面化するなどの乱反射処理が施されていてもよい。

＜下引き層＞
下引き層は、例えば、樹脂材料を適当な溶剤に溶解又は分散させて下引き層用塗布液を調製し、この下引き層用塗布液を基体Ｆ１の表面に塗布し、乾燥により有機溶剤を除去することによって形成することができる。

下引き層に用いることができる樹脂材料としては、例えば、後述する感光層Ｆ２に含まれるものと同様のバインダ樹脂（例えばポリアミド樹脂など）に加えて、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロースなどの天然高分子材料などを挙げることができ、これらの１種又は２種以上を使用することができる。これらの樹脂材料の中でも、ポリアミド樹脂が好ましく、特にアルコール可溶性ナイロン樹脂及びピペラジン系化合物を含有したポリアミド樹脂が特に好ましい。

下引き層に用いることができる樹脂材料を溶解又は分散させる溶剤としては、例えば、水、メタノール、エタノール、ブタノールなどのアルコール類、メチルカルビトール、ブチルカルビトールなどのグライム類、ジクロロエタン、クロロホルム若しくはトリクロロエタンなどの塩素系溶剤、アセトン、ジオキソラン、これらの溶剤を２種以上混合した混合溶剤などを挙げることができる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、例えば、非ハロゲン系有機溶剤を好適に用いることができる。

また、下引き層用塗布液は、金属酸化物粒子を含んでいてもよい。金属酸化物粒子は、中間層の体積抵抗値を容易に調節することができ、感光層Ｆ２への電荷の注入をさらに抑制することができると共に、各種環境下において電子写真感光体Ｆの電気特性を維持することができる。金属酸化物粒子に用いることができる材料としては、例えば、酸化チタン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化スズなどの材料を挙げることができる。

下引き層用塗布液におけるバインダ樹脂と金属酸化物粒子との合計重量Ｃと溶剤の重量Ｄとの比率（Ｃ／Ｄ）としては、例えば、１／９９〜４０／６０程度が好ましく、２／９８〜３０／７０程度が特に好ましい。

また、バインダ樹脂の重量Ｅと金属酸化物粒子の重量Ｆとの比率（Ｅ／Ｆ）としては、例えば、９０／１０〜１／９９程度が好ましく、７０／３０〜５／９５程度が特に好ましい。

下引き層の塗膜の乾燥工程における温度としては、使用した有機溶剤を除去し得る温度であれば特に限定されるものではないが、例えば、５０℃〜１４０℃程度が適当であり、８０℃〜１３０℃が特に好ましい。

下引き層の塗膜の乾燥温度が５０℃程度未満では、乾燥時間が長くなることがある。また、下引き層の塗膜の乾燥温度が１４０℃程度を超えると、電子写真感光体Ｆの繰返し使用時の電気的特性が悪化して、得られる画像が劣化するおそれがある。

かかる温度条件は、下引き層のみならず後述する感光層Ｆ２などの層形成や他の処理においても共通する。

下引き層の膜厚としては、特に限定されるものではないが、例えば、０.０１μｍ〜２０μｍ程度が好ましく、０.０５μｍ〜１０μｍ程度が特に好ましい。

＜電荷発生層＞
電荷発生層Ｆ２１は、画像形成装置などの電子写真装置において光ビーム（具体的には半導体レーザ）などの光を出射する光出射装置で照射された光を吸収することによって電荷を発生する機能を有し、電荷発生物質を主成分とし、必要に応じてバインダ樹脂や添加剤を含有する。電荷発生物質としては、当該技術分野で用いられる化合物を使用することができる。

具体的には、電荷発生物質として、例えば、モノアゾ系顔料、ビスアゾ系顔料及びトリスアゾ系顔料などのアゾ系顔料、インジゴ及びチオインジゴなどのインジゴ系顔料、ペリレンイミド及びペリレン酸無水物などのペリレン系顔料、アントラキノン及びピレンキノンなどの多環キノン系顔料、オキソチタニウムフタロシアニンなどの金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩類、チオピリリウム塩類、トリフェニルメタン系色素などの有機光導電性材料、並びに、セレン及び非晶質シリコンなどの無機光導電性材料などを挙げることができ、露光波長域に感度を有するものを適宜選択して用いることができる。これらの電荷発生物質は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

電荷発生層Ｆ２１は、結着性を向上させる目的でバインダ樹脂を含有していてもよい。電荷発生層Ｆ２１に用いることができるバインダ樹脂としては、当該技術分野で用いられる結着性を有する樹脂を使用することができ、電荷発生物質との相溶性に優れるものが好ましい。

具体的には、電荷発生層Ｆ２１に用いることができるバインダ樹脂として、例えば、ポリエステル、ポリスチレン、ポリウレタン、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、これらの樹脂を構成する繰返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂などを挙げることができる。共重合体樹脂としては、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体樹脂及びアクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂などの絶縁性樹脂などを挙げることができる。電荷発生層Ｆ２１に用いることができるバインダ樹脂は、これらに限定されるものではなく、当該技術分野において一般に用いられる樹脂をバインダ樹脂として使用することができる。これらのバインダ樹脂は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

電荷発生層Ｆ２１に用いることができる溶剤としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサンなどのエーテル類、１,２−ジメトキシエタンなどのエチレングリコールのアルキルエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの非プロトン性極性溶剤などを挙げることができる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、例えば、非ハロゲン系有機溶剤を好適に用いることができる。これらの溶剤は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

電荷発生物質をバインダ樹脂溶液中に溶解又は分散させるために、ペイントシェーカー、ボールミル及びサンドミルなどの分散機を用いることができる。このとき、容器及び分散機を構成する部材から摩耗などによって不純物が発生し、塗布液中に混入しないように、分散条件を適宜設定することが好ましい。

その他の工程や、その条件は、下引き層の形成と同様であり、ここでは、説明を省略する。

電荷発生層Ｆ２１の膜厚としては、特に限定されないが、好ましくは０．０５μｍ〜５μｍ程度を例示でき、より好ましくは０．１μｍ〜１μｍ程度を例示できる。

＜電荷輸送層＞
電荷輸送層Ｆ２２は、電荷発生物質で発生した電荷を受入れて電子写真感光体Ｆの表面Ｆａ（図１０及び図１１参照）まで輸送する機能を有し、電荷輸送物質及びバインダ樹脂、必要に応じて添加剤を含有する。電荷輸送物質としては、当該技術分野で用いられる化合物を使用することができる。

具体的には、電荷輸送物質として、例えば、カルバゾール誘導体、ピレン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、多環芳香族化合物、インドール誘導体、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、トリアリールメタン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、エナミン誘導体、ベンジジン誘導体、これらの化合物から誘導される基を主鎖又は側鎖に有するポリマー（ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−ビニルピレン、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂、トリフェニルメタンポリマー、ポリ−９−ビニルアントラセンなど）、ポリシランなどを挙げることができる。これらの電荷輸送物質は、１種を単独で又は２種以上を組み合せて使用することができる。

電荷輸送層Ｆ２２に用いることができるバインダ樹脂としては、当該技術分野で用いられる結着性を有する樹脂を使用することができ、電荷輸送物質との相溶性に優れるものが好ましい。

具体的には、電荷輸送層Ｆ２２に用いることができるバインダ樹脂として、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルなどのビニル重合体樹脂及びそれらの共重合体樹脂、並びに、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリスルホン、フェノキシ、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアリレート、ポリアミド、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリアクリルアミド、フェノール樹脂、ポリフェニレンオキサイドなどの樹脂、これらの樹脂を部分的に架橋した熱硬化性樹脂などを挙げることができる。これらのバインダ樹脂は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

これらの中でも、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート及びポリフェニレンオキサイドは、体積抵抗値が１０^１３Ω以上であって電気絶縁性に優れ、かつ、成膜性、電位特性などにも優れるので好ましく、これらの中でも、ポリカーボネートが特に好ましい。

電荷輸送物質とバインダ樹脂との比率Ａ／Ｂとしては、好ましくは１０／１２〜１０／３０程度を例示できる。

電荷輸送層Ｆ２２に用いることができる溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン及びモノクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素、ジクロロメタン及びジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ジオキサン及びジメトキシメチルエーテルなどのエーテル類、並びに、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶剤などを挙げることができる。また、必要に応じてアルコール類、アセトニトリル又はメチルエチルケトンなどの溶剤をさらに加えて使用することもできる。これらの溶剤の中でも、地球環境に対する配慮から、例えば、非ハロゲン系有機溶剤を好適に用いることができる。これらの溶剤は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

電荷輸送層Ｆ２２の膜厚としては、特に限定されないが、好ましくは５μｍ〜５０μｍ程度を例示でき、より好ましくは１０μｍ〜４０μｍ程度を例示できる。

また、単層型の電子写真感光体Ｆを製造する場合の塗布液は、前述した電荷発生物質、電荷輸送物質、結着樹脂及び溶剤を混合（分散）して調合することができる。

［画像形成装置］
次に、図１に示す浸漬塗布装置１００により製造された電子写真感光体Ｆを備える画像形成装置７００について図１２を参照しながら以下に説明する。なお、画像形成装置７００及びその動作について以下の記載事項に限定されるものではない。

＜画像形成装置の構成＞
図１２は、図１に示す浸漬塗布装置１００により製造された電子写真感光体Ｆを備える画像形成装置７００の概略構成を模式的に示す断面図である。

図１２に示すように、画像形成装置７００は、電子写真感光体Ｆと、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａを帯電させる帯電手段（具体的には帯電器７１０）と、帯電器７１０によって帯電された電子写真感光体Ｆを露光して静電潜像を形成する露光手段（具体的には露光装置７２０）と、露光装置７２０によって形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段（具体的には現像器７３０）と、現像器７３０によって形成されたトナー像を記録紙等の記録媒体Ｐ上に転写する転写手段（具体的には転写帯電器７４０）と、電子写真感光体Ｆに残留するトナーを除去し回収するクリーニング手段（具体的にはクリーナ装置７５０）と、転写帯電器７４０によって転写されたトナー像を記録媒体Ｐ上に定着して画像を形成する定着手段（具体的には定着器７６０）とを備えている。この例では、画像形成装置７００は、モノクロのプリンタ（具体的にはレーザプリンタ）とされている。

なお、画像形成装置７００は、この例では、モノクロの画像形成装置であるが、例えば、カラー画像を形成できる中間転写方式のカラー画像形成装置であってもよい。具体的には、トナー像がそれぞれ形成される複数の電子写真感光体Ｆ〜Ｆを所定方向（例えば水平方向Ｈ又は略水平方向Ｈ）に並設した構成、所謂タンデム式のフルカラー画像形成装置であってもよい。また、画像形成装置７００は、他のカラー画像形成装置であってもよい。また、画像形成装置７００は、この例では、プリンタとしたが、例えば、複写機、複合機又はファクシミリ装置であってもよい。

電子写真感光体Ｆは、画像形成装置７００の本体フレーム（図示せず）に回転自在に支持され、駆動手段（図示せず）によって回転軸線α１回りに所定の回転方向Ｒ（図中時計方向）に回転駆動される。駆動手段は、例えば、電動機と減速歯車とを含んで構成され、回転駆動力を電子写真感光体Ｆの基体Ｆ１に伝達することによって、電子写真感光体Ｆを所定の周速度で回転駆動させるようになっている。

電子写真感光体Ｆの周りには、回転方向Ｒにおける上流側から下流側に向って、帯電器７１０、露光装置７２０、現像器７３０、転写帯電器７４０及びクリーナ装置７５０がこの順で設けられている。

帯電器７１０は、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａを高電圧印加手段（具体的には高電圧印加装置７１１）にて均一に所定の電位に一様に帯電させる帯電手段である。帯電手段としては、非接触帯電方式のもの及び接触帯電方式のものを例示できる。非接触帯電方式としては、例えば、帯電チャージャーによるコロナ帯電方式を挙げることができ、接触帯電方式としては、例えば、帯電ローラ若しくは帯電ブラシによる方式を挙げことができる。この例では、帯電器７１０は、帯電ローラを備えている。

ところで、従来の画像形成装置において、電子写真感光体の表面を接触帯電方式の帯電手段により直流電圧のみで帯電させる場合、オゾンの発生及び電子写真感光体へのダメージを軽減させるという点で優れているが、塗膜の僅かな膜厚差により各所で帯電性が変化し、形成されるハーフトーン等の画像上において電子写真感光体に形成される各層（例えば電荷発生層や電荷輸送層）の膜厚差に起因する画像濃度ムラ（具体的には濃淡スジ）が発生し易くなることが知られている。

この点、本実施の形態に係る画像形成装置７００では、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａを直流電圧のみで帯電させる接触帯電方式の帯電手段（具体的には帯電器７１０）を用いたとしても、形成されるハーフトーン等の画像上において電子写真感光体Ｆに形成される各層（例えば電荷発生層Ｆ２１や電荷輸送層Ｆ２２）の膜厚差に起因する画像濃度ムラ（具体的には濃淡スジ）を無くす或いはほぼ無くすことができる。

露光装置７２０は、画像情報に基づいて変調された光を出射する露光手段である。この例では、露光装置７２０は、例えば、半導体レーザ若しくは発光ダイオード（ＬＥＤ：Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）を含む光源（図示せず）を備え、光源から出力される光を帯電器７１０と現像器７３０との間の電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに照射することによって、一様に帯電された電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに画像情報に応じた静電潜像を形成する。露光装置７２０は、画像情報に基づいて変調された光を回転駆動される電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに主走査方向である電子写真感光体Ｆの回転軸線α１方向に繰返し走査する。これにより、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに静電潜像を形成することができる。

現像器７３０は、現像剤Ｄ（例えば２成分現像剤ではトナー及びキャリア、１成分現像剤ではトナー）を収容し、露光装置７２０によって電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに形成された静電潜像を現像剤Ｄによって現像する現像手段である。この例では、現像器７３０は、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに対向するように設けられて電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに現像剤Ｄを供給する現像ローラ７３０ａと、現像剤Ｄを収容する現像槽７３０ｂ（具体的にはケーシング）とを備えている。現像槽７３０ｂは、現像ローラ７３０ａを電子写真感光体Ｆの回転軸線α１と平行又は略平行な回転軸線α２回りに回転自在に支持している。

転写帯電器７４０は、現像器７３０によって電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに形成された可視像であるトナー像を搬送手段（図示せず）によって所定の搬送方向Ｗに搬送される記録媒体Ｐ上に転写させる転写手段である。転写手段は、高電圧印加手段７４１（具体的には高電圧印加装置）にて電子写真感光体Ｆと転写帯電器７４０との間に形成される転写ニップ部ＴＮに所定の高電圧を印加する。転写手段は、前述した帯電手段と同様に構成することができ、この例では、記録媒体Ｐにトナーと逆極性の電荷を与えることによってトナー像を記録媒体Ｐ上に転写させる接触式の転写手段とされている。

クリーナ装置７５０は、転写帯電器７４０による転写動作後に電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに残留するトナーを除去し回収するクリーニング手段である。この例では、クリーナ装置７５０は、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに残留するトナーを除去するクリーニングブレード７５０ａと、クリーニングブレード７５０ａによって除去されたトナーを収容する回収用ケーシング７５０ｂとを備えている。また、クリーナ装置７５０は、図示を省略した除電手段（具体的には除電ランプ）と共に設けられている。

定着器７６０は、転写帯電器７４０により記録媒体Ｐに転写されたトナー像を記録媒体Ｐに定着させる定着手段である。定着器７６０は、搬送方向Ｗにおいて電子写真感光体Ｆと転写帯電器７４０との間の転写ニップ部ＴＮよりも下流側に設けられている。この例では、定着器７６０は、加熱手段（具体的には加熱ローラ７６０ａ）と、加熱ローラ７６０ａに対向して設けられる加圧手段（具体的には加圧ローラ７６０ｂ）とを備えている。加圧ローラ７６０ｂは、加熱ローラ７６０ａに押圧されて定着ニップ部ＦＮを形成する。

また、画像形成装置７００は、記録媒体Ｐを電子写真感光体Ｆから分離する分離手段（具体的には分離爪７７０）と、画像形成装置７００を構成する各構成要素を収容する筐体（具体的にはケーシング７８０）さらに備えている。

＜画像形成装置の動作＞
以上説明した画像形成装置７００では、まず、電子写真感光体Ｆが駆動手段によって所定の回転方向Ｒに回転駆動されると、帯電器７１０によって、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａが所定の電位に均一に帯電される。

次いで、露光装置７２０から画像情報に応じた光が均一に帯電された電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに照射される。電子写真感光体Ｆの表面Ｆａには、露光装置７２０にて光が照射されることにより、静電潜像が形成される。

電子写真感光体Ｆの表面Ｆａに形成された静電潜像は、現像器７３０により現像され、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａ上にトナー像が形成される。

搬送方向Ｗにおいて電子写真感光体Ｆよりも上流側から送られてきた記録媒体Ｐは、電子写真感光体Ｆの表面Ｆａ上に形成されたトナー像と同期して、電子写真感光体Ｆと転写帯電器７４０との間の転写ニップ部ＴＮに供給される。

電子写真感光体Ｆの表面Ｆａにおけるトナー像は、転写ニップ部ＴＮに供給された記録媒体Ｐを介して転写帯電器７４０にてトナー像の帯電極性とは逆極性の電荷が与えられることにより、記録媒体Ｐ上に転写される。

トナー像が転写された記録媒体Ｐは、さらに定着器７６０に搬送され、定着器７６０における加熱ローラ７６０ａと加圧ローラ７６０ｂとの間の定着ニップ部ＦＮを通過する際にトナー像が加熱及び加圧され、さらに、画像形成装置７００の外部へ排出される。

一方、転写帯電器７４０によるトナー像の転写後に電子写真感光体Ｆの表面Ｆａ上に残留するトナーは、クリーナ装置７５０にて電子写真感光体Ｆの表面Ｆａから除去されて回収される。

そして、複数の記録媒体Ｐに連続して画像を形成する場合には、前記した一連の動作が繰返される。

電子写真感光体Ｆ及び電子写真感光体Ｆを備えた画像形成装置７００によれば、形成されるハーフトーン等の画像上において電子写真感光体Ｆに形成される各層（例えば電荷発生層Ｆ２１や電荷輸送層Ｆ２２）の膜厚差に起因する画像濃度ムラ（具体的には濃淡スジ）を無くす或いはほぼ無くすことができる。

［実施例］
次に、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００の具体的な実施例１から実施例１１を比較例１から比較例４と共に以下に説明する。但し、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００は、これらの実施例１〜１１に限定されるものではない。

実施例１から実施例１１及び比較例１から比較例４では、塗布液Ｌとして、下引き層用塗布液、電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液を用い、基体Ｆ１に下引き層用塗布液、電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液をこの順に塗布して基体Ｆ１上に下引き層、電荷発生層Ｆ２１及び電荷輸送層Ｆ２２を形成した電子写真感光体Ｆ（以下、単に感光体Ｆという。）を作製した。

（塗布液の作製）
＜下引き層用塗布液＞
酸化チタン（昭和電工株式会社製、商品名：ＴＳ−０４３）３重量部及び共重合ポリアミド（ナイロン）（東レ株式会社製、商品名：ＣＭ８０００）２重量部を、メチルアルコール２５重量部に加え、ペイントシェーカー（分散機）にて８時間分散処理して下引き層用塗布液を調製した。

＜電荷発生層用塗布液＞
まず、下記の構造式で示される電荷発生物質を以下のようにして作製した。

ジイミノイソインドリン２９.２ｇ及びスルホラン２００ｍｌを混合し、さらにチタニウムテトライソプロポキシド１７.０ｇを加え、窒素雰囲気下、１４０℃で２時間反応させた。得られた反応混合物を放冷した後、析出物を濾取し、クロロホルム及び２％の塩酸水溶液で順次洗浄し、さらに水及びメタノールで順次洗浄し、乾燥させて青紫色の結晶物２５.５ｇを得た。

得られた化合物の化学分析の結果、上記の構造式で示されるオキソチタニルフタロシアニンであることを確認した（収率８８．５％）。

得られたチタニルフタロシアニン１重量部及びブチラール樹脂（電気化学工業株式会社製、商品名：ＢＭ−２）１重量部を、メチルエチルケトン９８重量部に加え、ペイントシェーカーにて２時間分散処理して電荷発生層用塗布液を調製した。

＜電荷輸送層用塗布液＞
電荷輸送物質としての下記の構造式で表されるトリフェニルアミン系化合物（ＴＰＤ）（東京化成工業株式会社製、商品名：Ｄ２４４８）２重量部、Ｚ型ポリカーボネート（帝人化成株式会社製、商品名：ＴＳ２０５０）３重量部、テトラヒドロフラン２４重量部を加え、電荷輸送層用塗布液を調製した。

（実施例１）
以上のように調製した下引き層用塗布液、電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液と、図２に示す構造の円筒状の遮風部５０（材質：ＳＵＳ３０４、直径：８０ｍｍφ、高さ：１００ｍｍ）及び図６に示す構造の屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：９０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１５ｍｍ）を設けた図１に示す構造の浸漬塗布装置１００とを用いて、感光体Ｆを作製した。屈曲部６０は、遮風部５０と一体化させた。

十点平均粗さＲｚが０．９０の３０ｍｍ（直径）×３５７ｍｍ（長さ）の円筒状のアルミニウム製基体に、下引き層用塗布液を、乾燥膜厚が１．０μｍになるような引上げ速度で塗布し、自然乾燥させた。次いで、電荷発生層用塗布液を、乾燥膜厚が０．２μｍになるような引上げ速度で塗布し、自然乾燥させた。さらに電荷輸送層用塗布液を、乾燥膜厚が３４μｍになるような引上げ速度で塗布し、乾燥温度１３０℃で６０分間乾燥させた。このようにして感光体Ｆを作製した。

（実施例２）
図３に示す構造の四角筒状の遮風部（材質：ＳＵＳ３０４、幅：８０ｍｍ、奥行：８０ｍｍ、高さ：１００ｍｍ）及び図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：９０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１５ｍｍ）を設けた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例３）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：７０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１３ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例４）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：４５°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１３ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例５）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：１５０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１３ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例６）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：９０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１０ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例７）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図７に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：円弧状、遮風部５０からの水平距離ｄ：１５ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例８）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図８に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状及び円弧状、屈曲角度θ：９０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１５ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例９）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図９に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：９０°、遮風部の上端５０ｂより５ｍｍ下に配設、遮風部５０からの水平距離ｄ：１５ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例１０）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ポリエチレンテレフタレート、形状：直線状、屈曲角度θ：９０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１０ｍｍ、粘着テープにて貼付）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（実施例１１）
遮風部５０の全面を図４に示す構造のメッシュ状（材質：ＳＵＳ３０４、目開き７４μｍでかつ開孔率３４％）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（比較例１）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を設けなかった以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（比較例２）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：３０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１３ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（比較例３）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：１６０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：１３ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

（比較例４）
遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０を図６に示す構造の遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０（材質：ＳＵＳ３０４、形状：直線状、屈曲角度θ：９０°、遮風部５０からの水平距離ｄ：５ｍｍ）に変えた以外は、実施例１と同様にして感光体Ｆを作製した。

［評価］
実施例１から実施例１１及び比較例１から比較例４で作製した各感光体Ｆの膜厚を膜厚測定装置（フィルメトリックス社製、型式：Ｆ−２０−ＥＸＲ）で測定して膜の均一性を評価した。

測定は、感光体Ｆ〜Ｆのそれぞれにつき、塗布上端から下側に７８．５ｍｍ、１２７．５ｍｍ、２７８．５ｍｍの位置を周方向に１０°おきに３６点測定し、それらの値の平均値、及び、最大値と最小値との差Δを求めた。

さらに、直流電圧のみを印加する接触帯電方式（帯電ローラ）に改造したデジタル複写機（シャープ株式会社製、型式：ＭＸ−５１４０ＦＮ）の黒色用感光体ユニットに、実施例１から実施例１１及び比較例１から比較例４で作製した各感光体Ｆ〜Ｆを装着し、Ａ４用紙にモノクロで、誤差拡散のような画像ムラを目立たなくする画像処理を施さない（画像処理無しの）ハーフトーン画像と、誤差拡散の画像処理を施した（画像処理有りの）ハーフトーン画像とをそれぞれ５枚出力し、画像評価を行った。

以上の評価結果を表１に示す。なお、表１の［画像評価］において、［画像処理有り］の画像及び［画像処理無し］の画像共に感光体Ｆの周期の濃淡スジかった場合を「Ａ」評価とし、［画像処理有り］の画像で感光体Ｆの周期の濃淡スジが無く、［画像処理無し］の画像で感光体Ｆの塗布下端部分に対応する箇所にうっすら感光体Ｆの周期の濃淡スジが発生した場合を「Ｂ」評価とし、感光体Ｆの塗布上端から下端にかけて感光体Ｆの周期の濃淡スジが発生した場合を「Ｃ」評価とした。そして、［判定］において、実使用上問題無い場合を「◎」判定とし、実使用上許容できる場合を「○」判定とし、実使用上許容できない場合を「×」判定とした。

表１に示すように、比較例１では、遮風部５０の上部５０ａに屈曲部６０を設けないことで、感光体Ｆの塗布上端から下端にかけて感光体Ｆの周期の濃淡スジが発生したのに対して、実施例１から実施例１１では、本実施の形態に係る浸漬塗布装置１００を用いることで、感光体Ｆの周方向における塗膜の各所での膜厚差（膜厚分布）に大きな差がなく、実使用で画像処理される画像処理有りのハーフトーン画像上にも濃淡スジが発生せず、良好な結果が得られた。

また、比較例２及び比較例３では、屈曲部６０の屈曲角度θが３０°及び１６０°で濃淡スジが発生したのに対して、実施例１から実施例６及び実施例８から実施例１１では、屈曲部６０の屈曲角度θが４５°〜１５０°で濃淡スジの抑制効果を発揮することができた。中でも、実施例３では、屈曲部６０の屈曲角度θが７０°であることで、［画像処理無し］でも濃淡スジが発生せず、非常に良好であった。

また、比較例４では、遮風部５０の外側壁面５１からの屈曲部６０の先端６０ａの水平距離ｄが５ｍｍで濃淡スジが発生したのに対して、実施例１から実施例１１では、遮風部５０の外側壁面５１からの屈曲部６０の先端６０ａの水平距離ｄが１０ｍｍ以上で塗膜の膜厚ムラの抑制効果を発揮することができた。

また、実施例７から実施例９では、図７から図９に示すような形状でも濃淡スジの抑制効果が大きかった。特に、遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０が円弧状である実施例７、及び、遮風部５０の上部５０ａにおける屈曲部６０が直線状及び円弧状である実施例８の構造は、［画像処理無し］でも濃淡スジが発生せず、非常に良好であった。

また、実施例１０では、屈曲部６０の材質を実施例１から実施例９及び実施例１１のＳＵＳに代えてポリエチレンテレフタレートを用いても十分な効果を発揮することができた。

また、実施例１１では、遮風部５０自体をメッシュ構造にすることで、感光体Ｆの塗布上端から７８．５ｍｍ、１２７．５ｍｍ、２７８．５ｍｍの部分の膜厚差、及び、感光体Ｆの塗布上端から７８．５ｍｍ、２７８．５ｍｍの部分の周方向における膜厚差が小さくなり、膜厚差が小さい感光体Ｆを作製することができた。

なお、本実施の形態では、電子写真感光体を製造する電子写真感光体製造装置を実施例として挙げているが、本発明に係る浸漬塗布装置は、被塗布物を電子写真感光体の基体として電子写真感光体を製造するものに限定されるものではなく、浸漬塗布法で作製されるもの、例えば、光触媒薄膜を作製するものや、電極用の酸化亜鉛薄膜を製造するものといった、あらゆる技術分野のものに適用可能である。

本発明は、以上説明した実施の形態に限定されるものではなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、かかる実施の形態はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には、なんら拘束されない。さらに、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。

１０ 塗布槽
１１ 外周壁面
２０ 昇降部
２１ 支持機構
２２ 駆動装置
３０ 塗布液供給部
３１ 貯留部
３２ 供給経路
３３ 供給駆動部
４０ 循環部
４１ 塗布液回収部
４２ 循環経路
５０ 遮風部
５０ａ 上部
５０ｂ 上端
５１ 外側壁面
６０ 屈曲部
６０ａ 先端
６１ 直線部
６２ 湾曲部
１００ 浸漬塗布装置
７００ 画像形成装置
ＡＲ 空気
Ｅ 被塗布物
Ｅａ 表面
Ｅｂ 上端面
Ｆ 電子写真感光体
Ｆ１ 基体
Ｆ２ 感光層
Ｆ２１ 電荷発生層
Ｆ２２ 電荷輸送層
Ｆａ 表面
Ｈ 水平方向
Ｌ 塗布液
Ｍ 多孔状
Ｖ 鉛直方向
ｄ 水平距離
ｈ 鉛直距離
θ 屈曲角度

Claims (13)

1. 被塗布物を浸漬して前記被塗布物の表面に塗膜を形成するための塗布液を収容する塗布槽と、前記被塗布物及び前記塗布槽のうち少なくとも一方を相対的に昇降させて前記被塗布物を前記塗布槽における前記塗布液中に浸漬しかつ前記塗布液から引き上げる昇降手段とを備えた浸漬塗布装置であって、
   前記塗布槽の上方には、外風を遮蔽するための遮風部が周方向の全周に亘って設けられており、
   前記遮風部の上部には、外側に向けて屈曲した屈曲部が周方向の全周に亘って設けられていることを特徴とする浸漬塗布装置。
2. 請求項１に記載の浸漬塗布装置であって、
   前記屈曲部は、前記遮風部の外側壁面から外側に直線状に屈曲する直線部を有していることを特徴とする浸漬塗布装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の浸漬塗布装置であって、
   前記屈曲部は、前記遮風部の外側壁面に対して、予め定めた所定の屈曲角度範囲内の予め定めた所定の屈曲角度で屈曲していることを特徴とする浸漬塗布装置。
4. 請求項３に記載の浸漬塗布装置であって、
   前記所定の屈曲角度範囲は、４５°〜１５０°であることを特徴とする浸漬塗布装置。
5. 請求項１に記載の浸漬塗布装置であって、
   前記屈曲部は、前記遮風部の外側壁面から外側に湾曲状に屈曲する湾曲部を有していることを特徴とする浸漬塗布装置。
6. 請求項１から請求項５までの何れか１つに記載の浸漬塗布装置であって、
   前記屈曲部は、先端が前記遮風部の外側壁面に対して、水平方向において予め定めた所定の水平距離だけ離れていることを特徴とする浸漬塗布装置。
7. 請求項６に記載の浸漬塗布装置であって、
   前記所定の水平距離は、１０ｍｍ以上であることを特徴とする浸漬塗布装置。
8. 請求項１から請求項７までの何れか１つに記載の浸漬塗布装置であって、
   前記屈曲部は、シート状の部材で構成されていることを特徴とする浸漬塗布装置。
9. 請求項１から請求項８までの何れか１つに記載の浸漬塗布装置であって、
   前記遮風部は、外側壁面の全部若しくは一部が予め定めた所定の目開き範囲内の予め定めた所定の目開きで、かつ、予め定めた所定の開孔率範囲内の予め定めた所定の開孔率の多孔状に形成されていることを特徴とする浸漬塗布装置。
10. 請求項９に記載の浸漬塗布装置であって、
    前記所定の目開き範囲は、５０μｍ〜１００μｍであり、前記所定の開孔率範囲は、３０％〜５０％であることを特徴とする浸漬塗布装置。
11. 請求項１から請求項１０までの何れか１つに記載の浸漬塗布装置にて前記塗布液が基体に塗布されることにより製造されたことを特徴とする電子写真感光体。
12. 請求項１１に記載の電子写真感光体を備えていることを特徴とする画像形成装置。
13. 請求項１２に記載の画像形成装置であって、
    前記電子写真感光体の表面を直流電圧のみで帯電させる接触帯電方式の帯電手段をさらに備えていることを特徴とする画像形成装置。

Images