JPH0641108B2 - 湿式ホーニング用研磨材懸濁液及びそれを用いた表面処理方法 - Google Patents
湿式ホーニング用研磨材懸濁液及びそれを用いた表面処理方法Info
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- JPH0641108B2 JPH0641108B2 JP3087386A JP8738691A JPH0641108B2 JP H0641108 B2 JPH0641108 B2 JP H0641108B2 JP 3087386 A JP3087386 A JP 3087386A JP 8738691 A JP8738691 A JP 8738691A JP H0641108 B2 JPH0641108 B2 JP H0641108B2
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- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/34—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents characterised by additives enhancing special physical properties, e.g. wear resistance, electric conductivity, self-cleaning properties
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体用導電
性基体の表面処理を行うための湿式ホーニング用研磨材
及びそれを用いた表面処理方法に関する。
性基体の表面処理を行うための湿式ホーニング用研磨材
及びそれを用いた表面処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザービームをライン走査する
方式の電子写真プリンタは、レーザービームとして、７
５０ｎｍ以上の長波長領域で発振波長を有する半導体レ
ーザーを使用するようになり、長波長光に対して高い電
子写真特性を持つ電子写真感光体の開発が行われてい
る。この長波長光に対して感光性を有する電子写真感光
体において、良好な画質を得るためには、画像形成時に
現出する干渉縞模様の問題と、白斑点（反転現像方式を
用いる場合には、黒斑点）などの画質欠陥の問題を同時
に解決し得るものでなければならない。前者の問題は、
感光層内で吸収されなかった透過光が、基体を含む感光
層内部で正反射し、レーザービームの多重反射光を生じ
て、感光層表面の反射光との間で干渉を生じることが原
因とされており、一方、後者の問題は、感光層の塗膜欠
陥、感光層中に混入した異種イオン、異種元素、異種粒
子、塵等の不純物の存在が原因とされており、塗膜欠陥
のない、かつ不純物の混入のない感光層を作製すること
が望まれている。
方式の電子写真プリンタは、レーザービームとして、７
５０ｎｍ以上の長波長領域で発振波長を有する半導体レ
ーザーを使用するようになり、長波長光に対して高い電
子写真特性を持つ電子写真感光体の開発が行われてい
る。この長波長光に対して感光性を有する電子写真感光
体において、良好な画質を得るためには、画像形成時に
現出する干渉縞模様の問題と、白斑点（反転現像方式を
用いる場合には、黒斑点）などの画質欠陥の問題を同時
に解決し得るものでなければならない。前者の問題は、
感光層内で吸収されなかった透過光が、基体を含む感光
層内部で正反射し、レーザービームの多重反射光を生じ
て、感光層表面の反射光との間で干渉を生じることが原
因とされており、一方、後者の問題は、感光層の塗膜欠
陥、感光層中に混入した異種イオン、異種元素、異種粒
子、塵等の不純物の存在が原因とされており、塗膜欠陥
のない、かつ不純物の混入のない感光層を作製すること
が望まれている。
【０００３】従来、この両者の問題を同時に解決する方
法として、例えば特開平２−８７１５４号公報に記載さ
れているように、研磨材の懸濁液を用いた湿式ホーニン
グ法により基体を粗面化する方法が提案されている。こ
の方法は、短い加工時間で、容易に安定して粗面化させ
ることができること、また、所望の粗さを正確に得るこ
とができること、塗膜欠陥の原因となる異常凹凸部が極
めて少ない均一な粗さを持つ粗面が得られることなどの
理由によって、生産上の観点からも、白斑点や干渉縞模
様に対する画質安定性の点からも、陽極酸化法或るいは
バフ研磨法などによる粗面化法に比して優れたものであ
る。
法として、例えば特開平２−８７１５４号公報に記載さ
れているように、研磨材の懸濁液を用いた湿式ホーニン
グ法により基体を粗面化する方法が提案されている。こ
の方法は、短い加工時間で、容易に安定して粗面化させ
ることができること、また、所望の粗さを正確に得るこ
とができること、塗膜欠陥の原因となる異常凹凸部が極
めて少ない均一な粗さを持つ粗面が得られることなどの
理由によって、生産上の観点からも、白斑点や干渉縞模
様に対する画質安定性の点からも、陽極酸化法或るいは
バフ研磨法などによる粗面化法に比して優れたものであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
湿式ホーニング法は、上記のように、干渉縞模様や基体
の異常凹凸部より生じる塗膜欠陥が引き起こす白斑点の
問題に対して、改善効果があるが、基体に付着した不純
物から引き起こされる画質欠陥については、依然として
問題が残されていた。すなわち、湿式ホーニング法で用
いられている研磨材には、異種イオン、異種粒子、塵等
の不純物が混入しており、導電性基体に研磨材が吹き付
けられた際に、それら不純物は導電性基体表面に付着す
る。そして、導電性基体表面に付着したこれらの不純物
は、導電性基体や感光層の変質、均一な下引き層形成の
阻害、導電性基体と下引き層の接着性の悪化等の阻害を
引き起こし、感光層内へのキャリア注入部を形成し、画
質欠陥の原因となる。そのため、導電性基体の洗浄によ
る不純物除去の方法も検討されているが、一度粗面化さ
れた導電性基体の凹部に入り込んで付着した不純物は、
粗面化前に付着している不純物に比して、付着力が強
く、また洗浄が困難であるため、取り除くことが極めて
難しいという問題があった。
湿式ホーニング法は、上記のように、干渉縞模様や基体
の異常凹凸部より生じる塗膜欠陥が引き起こす白斑点の
問題に対して、改善効果があるが、基体に付着した不純
物から引き起こされる画質欠陥については、依然として
問題が残されていた。すなわち、湿式ホーニング法で用
いられている研磨材には、異種イオン、異種粒子、塵等
の不純物が混入しており、導電性基体に研磨材が吹き付
けられた際に、それら不純物は導電性基体表面に付着す
る。そして、導電性基体表面に付着したこれらの不純物
は、導電性基体や感光層の変質、均一な下引き層形成の
阻害、導電性基体と下引き層の接着性の悪化等の阻害を
引き起こし、感光層内へのキャリア注入部を形成し、画
質欠陥の原因となる。そのため、導電性基体の洗浄によ
る不純物除去の方法も検討されているが、一度粗面化さ
れた導電性基体の凹部に入り込んで付着した不純物は、
粗面化前に付着している不純物に比して、付着力が強
く、また洗浄が困難であるため、取り除くことが極めて
難しいという問題があった。
【０００５】本発明は、上記のような実情に鑑みてなさ
れたものである。すなわち、本発明の目的は、レーザー
光によって画像形成をした場合、干渉縞模様及び白斑点
（反転現像時の場合は黒斑点）等の画質欠陥の両者の点
で改善された電子写真感光体を作製するために用いる、
湿式ホーニング用研磨材懸濁液を提供することにある。
本発明の他の目的は、電子写真用感光体の導電性基体の
表面処理方法を提供することにある。
れたものである。すなわち、本発明の目的は、レーザー
光によって画像形成をした場合、干渉縞模様及び白斑点
（反転現像時の場合は黒斑点）等の画質欠陥の両者の点
で改善された電子写真感光体を作製するために用いる、
湿式ホーニング用研磨材懸濁液を提供することにある。
本発明の他の目的は、電子写真用感光体の導電性基体の
表面処理方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、粗面化し
た導電性基体に付着した不純物により引き起こされる画
質欠陥の問題を解消するには、不純物が基体に付着しな
いように工夫することが最も確実な手段であることに着
目し、本発明を完成するに至った。すなわち、湿式ホー
ニング法で導電性基体の表面を粗面化する際に使用する
研磨材に付着、混入している不純物が、画質欠陥に与え
る影響について検討した結果、純水で洗浄した研磨材に
より粗面化した導電性基体を使用して作製された電子写
真感光体は、洗浄しない研磨材により粗面化した導電性
基体を使用した場合に比して、画質の繰り返し特性が著
しく向上することを見出し、本発明を完成するに至っ
た。本発明は、電子写真感光体用導電性基体の表面処理
を行うための湿式ホーニング用研磨材に関するものであ
って、純水中に研磨材を２０重量％以上の含有量で懸濁
させた懸濁液よりなり、そしてその懸濁液の電気伝導度
が１０μｓ／ｃｍ以下であることを特徴とする。
た導電性基体に付着した不純物により引き起こされる画
質欠陥の問題を解消するには、不純物が基体に付着しな
いように工夫することが最も確実な手段であることに着
目し、本発明を完成するに至った。すなわち、湿式ホー
ニング法で導電性基体の表面を粗面化する際に使用する
研磨材に付着、混入している不純物が、画質欠陥に与え
る影響について検討した結果、純水で洗浄した研磨材に
より粗面化した導電性基体を使用して作製された電子写
真感光体は、洗浄しない研磨材により粗面化した導電性
基体を使用した場合に比して、画質の繰り返し特性が著
しく向上することを見出し、本発明を完成するに至っ
た。本発明は、電子写真感光体用導電性基体の表面処理
を行うための湿式ホーニング用研磨材に関するものであ
って、純水中に研磨材を２０重量％以上の含有量で懸濁
させた懸濁液よりなり、そしてその懸濁液の電気伝導度
が１０μｓ／ｃｍ以下であることを特徴とする。
【０００７】また、本発明の電子写真感光体用導電性基
体の表面処理方法は、純水中に研磨材２０重量％以上を
懸濁してなる電気伝導度１０μｓ／ｃｍ以下の研磨材懸
濁液を用いて湿式ホーニング処理を施すことを特徴とす
る。
体の表面処理方法は、純水中に研磨材２０重量％以上を
懸濁してなる電気伝導度１０μｓ／ｃｍ以下の研磨材懸
濁液を用いて湿式ホーニング処理を施すことを特徴とす
る。
【０００８】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の湿式ホーニング用研磨材懸濁液は、純水中に研磨
材２０重量％以上の含有量で懸濁させてなるものであっ
て、その際、懸濁液の電気伝導度が１０μｓ／ｃｍ以下
であることが必要である。懸濁液の電気伝導度が高いこ
とは、研磨材に付着している不純物が高いことを意味
し、その電気伝導度が１０μｓ／ｃｍよりも高い場合に
は、研磨材が導電性基体表面に吹き付けられた際に、導
電性基体表面に不純物が付着し、画質欠陥の発生する原
因となる。本発明において、研磨材懸濁液の電気伝導度
を１０μｓ／ｃｍ以下にする為には、研磨材を予め純水
で洗浄すればよい。
発明の湿式ホーニング用研磨材懸濁液は、純水中に研磨
材２０重量％以上の含有量で懸濁させてなるものであっ
て、その際、懸濁液の電気伝導度が１０μｓ／ｃｍ以下
であることが必要である。懸濁液の電気伝導度が高いこ
とは、研磨材に付着している不純物が高いことを意味
し、その電気伝導度が１０μｓ／ｃｍよりも高い場合に
は、研磨材が導電性基体表面に吹き付けられた際に、導
電性基体表面に不純物が付着し、画質欠陥の発生する原
因となる。本発明において、研磨材懸濁液の電気伝導度
を１０μｓ／ｃｍ以下にする為には、研磨材を予め純水
で洗浄すればよい。
【０００９】本発明において使用する研磨材を構成する
材料としては、例えば、炭化ケイ素、窒化ケイ素素、炭
化ケイ素、窒化ほう素等があげられる。これら研磨材
は、一般に２０〜８０μｍの範囲の粒径のものとして使
用される。
材料としては、例えば、炭化ケイ素、窒化ケイ素素、炭
化ケイ素、窒化ほう素等があげられる。これら研磨材
は、一般に２０〜８０μｍの範囲の粒径のものとして使
用される。
【００１０】本発明において湿式ホーニング処理が施さ
れる導電性基体としては、アルミニウム、銅、鉄、ニッ
ケル、亜鉛等の金属及びそれらの合金よりなるドラム、
シート等があげられる。これらの導電性基体を湿式ホー
ニング処理により表面処理する場合、形成される表面粗
さは、吹き付け圧力、速度、研磨材の量、種類、形状、
大きさ、硬度及び懸濁液濃度等により適宜制御すること
ができる。本発明においては、その場合、純水中に研磨
材を２０重量％以上含有し、電気伝導度１０μｓ／ｃｍ
以下の研磨材懸濁液を使用することが必要である。
れる導電性基体としては、アルミニウム、銅、鉄、ニッ
ケル、亜鉛等の金属及びそれらの合金よりなるドラム、
シート等があげられる。これらの導電性基体を湿式ホー
ニング処理により表面処理する場合、形成される表面粗
さは、吹き付け圧力、速度、研磨材の量、種類、形状、
大きさ、硬度及び懸濁液濃度等により適宜制御すること
ができる。本発明においては、その場合、純水中に研磨
材を２０重量％以上含有し、電気伝導度１０μｓ／ｃｍ
以下の研磨材懸濁液を使用することが必要である。
【００１１】湿式ホーニング処理は、例えば、図１に示
す液体ホーニング装置を用いて行えばよい。図１中、１
は導電性基体、２はポンプ、３はガン、４は空気導入
管、５は処理容器である。上記研磨材を純水に懸濁さ
せ、得られた研磨材懸濁液をポンプ２を駆動することに
よって、所定の流量でガン３に送液し、ガンを上下方向
に移動させて、所定の圧縮空気圧で、回転する導電性基
体１表面に吹き付けることによって行うことができる。
す液体ホーニング装置を用いて行えばよい。図１中、１
は導電性基体、２はポンプ、３はガン、４は空気導入
管、５は処理容器である。上記研磨材を純水に懸濁さ
せ、得られた研磨材懸濁液をポンプ２を駆動することに
よって、所定の流量でガン３に送液し、ガンを上下方向
に移動させて、所定の圧縮空気圧で、回転する導電性基
体１表面に吹き付けることによって行うことができる。
【００１２】次に、上記のようにして表面処理された導
電性基体を用いて電子写真感光体を製造する場合につい
て説明する。上記のようにして表面処理された導電性基
体の上には、所望により下引き層が形成される。下引き
層は公知の樹脂を用いて形成され、膜厚０．０５〜１０
μｍ、特に０．１〜２μｍの範囲に設定するのが好まし
い。
電性基体を用いて電子写真感光体を製造する場合につい
て説明する。上記のようにして表面処理された導電性基
体の上には、所望により下引き層が形成される。下引き
層は公知の樹脂を用いて形成され、膜厚０．０５〜１０
μｍ、特に０．１〜２μｍの範囲に設定するのが好まし
い。
【００１３】下引き層の上には感光層が形成される。感
光層は、単層構造でも、積層構造でもよい。感光層が電
荷発生層と電荷輸送層との積層構造の場合、それらのい
ずれが下引き層の上に設けられていてもよい。電荷発生
層は、電荷発生材料を結着樹脂中に分散してなり、電荷
発生材料としては公知のものが使用される。例えば、ク
ロロダイアンブルー等のアゾ顔料、アントアントロン、
ピレンキノン等のキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリ
レン顔料、ペリノン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイ
ミダゾール顔料、銅フタロシアニン、バナジルフタロシ
アニン等のフタロシアニン顔料、アズレニウム塩、スク
エアリウム顔料、キナクリドン顔料等が使用できる。ま
た、結着樹脂としては、例えば、ポリスチレン樹脂、ポ
リビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレー
ト樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂等、公
知の材料が使用される。電荷発生層は、電荷発生材料を
上記結着樹脂の溶液中に分散させ、塗布することによっ
て形成される。分散に用いる溶剤としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、酢酸メチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メ
チレンクロライド、クロロホルム等、通常使用される有
機溶剤が使用できる。電荷発生層の膜厚は、一般に０．
１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍの範囲に設
定される。
光層は、単層構造でも、積層構造でもよい。感光層が電
荷発生層と電荷輸送層との積層構造の場合、それらのい
ずれが下引き層の上に設けられていてもよい。電荷発生
層は、電荷発生材料を結着樹脂中に分散してなり、電荷
発生材料としては公知のものが使用される。例えば、ク
ロロダイアンブルー等のアゾ顔料、アントアントロン、
ピレンキノン等のキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリ
レン顔料、ペリノン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイ
ミダゾール顔料、銅フタロシアニン、バナジルフタロシ
アニン等のフタロシアニン顔料、アズレニウム塩、スク
エアリウム顔料、キナクリドン顔料等が使用できる。ま
た、結着樹脂としては、例えば、ポリスチレン樹脂、ポ
リビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレー
ト樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂等、公
知の材料が使用される。電荷発生層は、電荷発生材料を
上記結着樹脂の溶液中に分散させ、塗布することによっ
て形成される。分散に用いる溶剤としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、
ベンジルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、酢酸メチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メ
チレンクロライド、クロロホルム等、通常使用される有
機溶剤が使用できる。電荷発生層の膜厚は、一般に０．
１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍの範囲に設
定される。
【００１４】電荷輸送層は、電荷輸送材料及び結着樹脂
より構成される。電荷輸送材料としては、例えば、アン
トラセン、ピレン、フェナントレン等の多環芳香族化合
物、インドール、カルバゾール、イミダゾール等の含窒
素複素環を有する化合物、ピラゾリン化合物、ヒドラゾ
ン化合物、トリフェニルメタン化合物、トリフェニルア
ミン化合物、ベンジジン化合物、エナミン化合物、スチ
ルベン化合物等、公知のものならば如何なるものでも使
用でき、さらにまた、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、
ハロゲン化ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニル
アントラセン、ポリ−Ｎ−ビニルフェニルアントラセ
ン、ポリビニルピレン、ポリビニルアクリジン、ポリビ
ニルアセナフチレン、ポリグリシジルカルバゾール、ピ
レン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール−ホ
ルムアルデヒド樹脂等の光導電性ポリマーがあげられ、
これらは、それ自体で電荷輸送層を形成してもよい。結
着樹脂は、広範囲な絶縁性樹脂から選択することができ
る。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミ
ド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹
脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン等の絶縁性樹脂を
あげることができる。
より構成される。電荷輸送材料としては、例えば、アン
トラセン、ピレン、フェナントレン等の多環芳香族化合
物、インドール、カルバゾール、イミダゾール等の含窒
素複素環を有する化合物、ピラゾリン化合物、ヒドラゾ
ン化合物、トリフェニルメタン化合物、トリフェニルア
ミン化合物、ベンジジン化合物、エナミン化合物、スチ
ルベン化合物等、公知のものならば如何なるものでも使
用でき、さらにまた、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、
ハロゲン化ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニル
アントラセン、ポリ−Ｎ−ビニルフェニルアントラセ
ン、ポリビニルピレン、ポリビニルアクリジン、ポリビ
ニルアセナフチレン、ポリグリシジルカルバゾール、ピ
レン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール−ホ
ルムアルデヒド樹脂等の光導電性ポリマーがあげられ、
これらは、それ自体で電荷輸送層を形成してもよい。結
着樹脂は、広範囲な絶縁性樹脂から選択することができ
る。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラー
ル、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミ
ド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹
脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン等の絶縁性樹脂を
あげることができる。
【００１５】電荷輸送層は、これらの電荷輸送材料を結
着樹脂の溶液に添加し、得られた塗布液を塗布すること
によって形成される。塗布液に使用する溶剤としては、
具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等の
エーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、
クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四塩
化炭素、トリクロルエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロルベン
ゼン、ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素等を用いる
ことができる。電荷輸送層の膜厚は、通常、５〜５０μ
ｍ程度に設定される。
着樹脂の溶液に添加し、得られた塗布液を塗布すること
によって形成される。塗布液に使用する溶剤としては、
具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等の
エーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、
クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四塩
化炭素、トリクロルエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化
水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、モノクロルベン
ゼン、ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水素等を用いる
ことができる。電荷輸送層の膜厚は、通常、５〜５０μ
ｍ程度に設定される。
【００１６】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳細に説
明する。 実施例１〜４及び比較例１〜９ １ｍｍ厚×４０ｍｍφ×３１０ｍｍのアルミニウムパイ
プを用意し、これにダイヤモンドバイトを用いた鏡面旋
盤により切削加工を行い、表面をＲａ０．０４μｍの平
滑面に仕上げた。このアルミニウムパイプを、図１に示
す液体ホーニング装置により粗面化処理を行った。すな
わち、表１に示す研磨材１０ｋｇを純水４０リットルに
懸濁させ、それをポンプで６リットル／分の流量でガン
に送り、所定の圧縮空気圧で表１に示す吹き付け速度で
アルミニウムパイプに吹き付けた。ガンは４０ｃｍ／分
でアルミニウムパイプの軸方向に移動させ、一方、アル
ミニウムパイプは１００ｒｐｍで回転させた。なお、表
１に示す研磨材の２０重量％懸濁水電気伝導度は、使用
時に測定したものである。また、実施例１〜４で使用し
た研磨材は、２μｓ／ｃｍ以下の電気伝導度を示す純水
中に研磨材を加え、攪拌懸濁させてから静置し、研磨材
を沈降させた後、水のみを捨てる操作を、２０重量％懸
濁水電気伝導度が１０μｇ／ｃｍ以下になるまで繰り返
して行ったものである。
明する。 実施例１〜４及び比較例１〜９ １ｍｍ厚×４０ｍｍφ×３１０ｍｍのアルミニウムパイ
プを用意し、これにダイヤモンドバイトを用いた鏡面旋
盤により切削加工を行い、表面をＲａ０．０４μｍの平
滑面に仕上げた。このアルミニウムパイプを、図１に示
す液体ホーニング装置により粗面化処理を行った。すな
わち、表１に示す研磨材１０ｋｇを純水４０リットルに
懸濁させ、それをポンプで６リットル／分の流量でガン
に送り、所定の圧縮空気圧で表１に示す吹き付け速度で
アルミニウムパイプに吹き付けた。ガンは４０ｃｍ／分
でアルミニウムパイプの軸方向に移動させ、一方、アル
ミニウムパイプは１００ｒｐｍで回転させた。なお、表
１に示す研磨材の２０重量％懸濁水電気伝導度は、使用
時に測定したものである。また、実施例１〜４で使用し
た研磨材は、２μｓ／ｃｍ以下の電気伝導度を示す純水
中に研磨材を加え、攪拌懸濁させてから静置し、研磨材
を沈降させた後、水のみを捨てる操作を、２０重量％懸
濁水電気伝導度が１０μｇ／ｃｍ以下になるまで繰り返
して行ったものである。
【００１７】なお、使用した研磨材及びそれに相当する
市販品は次の通りであった。 実施例１ 昭和電工（株）製：グレーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃４００） 実施例２ 昭和電工（株）製：グレーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃１５００） 実施例３ 昭和電工（株）製：デンシック（Ｃ＃２８
０） 実施例４ 昭和電工（株）製：デンシック（Ｃ＃７０
０） 比較例１ 昭和電工（株）製：グレーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃４０００） 比較例２ 昭和電工（株）製：グレーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃２４０） 比較例３ 昭和電工（株）製：グリーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃２４０）を調整して、百分率での５０％粒径を５
２．５μｍにしたもの 比較例４ 比較例１の研磨材と同一組成であるが、平均
粒径８μｍ、かさ比重０．６９ｇ／ｃｃの研磨材 比較例５及び６ 実施例１と同一の研磨材 比較例７ 溶融ジルコンを主成分とする研磨材 比較例８ 窒化鋼を主成分とする研磨材 比較例９ ガラスビーズ（不二精機製作所製：フジブラ
イト）
市販品は次の通りであった。 実施例１ 昭和電工（株）製：グレーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃４００） 実施例２ 昭和電工（株）製：グレーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃１５００） 実施例３ 昭和電工（株）製：デンシック（Ｃ＃２８
０） 実施例４ 昭和電工（株）製：デンシック（Ｃ＃７０
０） 比較例１ 昭和電工（株）製：グレーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃４０００） 比較例２ 昭和電工（株）製：グレーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃２４０） 比較例３ 昭和電工（株）製：グリーンデンシック（Ｇ
Ｃ＃２４０）を調整して、百分率での５０％粒径を５
２．５μｍにしたもの 比較例４ 比較例１の研磨材と同一組成であるが、平均
粒径８μｍ、かさ比重０．６９ｇ／ｃｃの研磨材 比較例５及び６ 実施例１と同一の研磨材 比較例７ 溶融ジルコンを主成分とする研磨材 比較例８ 窒化鋼を主成分とする研磨材 比較例９ ガラスビーズ（不二精機製作所製：フジブラ
イト）
【００１８】上記のようにして湿式ホーニング処理を施
したアルミニウムパイプに、それぞれ共重合ナイロン樹
脂（ＣＭ８０００、東レ（株）製）のメタノール／ブタ
ノール溶液を、リング塗布器によって塗布し、膜厚０．
７μｍの下引き層を障壁層として形成した。次いで、３
部のバナジルフタロシアニンをポリエステル樹脂（ＰＥ
１００、グッドイヤーケミカル社製）の１０％シクロヘ
キサノン溶液７０部に分散した。分散操作は、１０ｍｍ
φボールを用いて、混合物をボールミルで２時間混合す
ることによって行った。これに２−ブタノン１０部を加
えて塗布液とし、上記障壁層上にリング塗布器によって
塗布し、膜厚０．４μｍの電荷発生層を形成した。形成
された電荷発生層の上に、電荷輸送層を形成した。すな
わち、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−メチ
ルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジ
アミン４部を電荷輸送材料とし、ポリカーボネートＺ樹
脂６部と共に、モノクロルベンゼン４０部に溶解し、得
られた塗布液を、浸漬塗布装置によって１１ｃｍ／分の
引上げ速度で塗布した。１１０℃で１時間乾燥して、膜
厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を得
た。
したアルミニウムパイプに、それぞれ共重合ナイロン樹
脂（ＣＭ８０００、東レ（株）製）のメタノール／ブタ
ノール溶液を、リング塗布器によって塗布し、膜厚０．
７μｍの下引き層を障壁層として形成した。次いで、３
部のバナジルフタロシアニンをポリエステル樹脂（ＰＥ
１００、グッドイヤーケミカル社製）の１０％シクロヘ
キサノン溶液７０部に分散した。分散操作は、１０ｍｍ
φボールを用いて、混合物をボールミルで２時間混合す
ることによって行った。これに２−ブタノン１０部を加
えて塗布液とし、上記障壁層上にリング塗布器によって
塗布し、膜厚０．４μｍの電荷発生層を形成した。形成
された電荷発生層の上に、電荷輸送層を形成した。すな
わち、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−メチ
ルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジ
アミン４部を電荷輸送材料とし、ポリカーボネートＺ樹
脂６部と共に、モノクロルベンゼン４０部に溶解し、得
られた塗布液を、浸漬塗布装置によって１１ｃｍ／分の
引上げ速度で塗布した。１１０℃で１時間乾燥して、膜
厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を得
た。
【００１９】得られた電子写真感光体を、４００ｄｐｉ
のドット密度のレーザープリンター（ＬＢＰ）に取り付
けた。このＬＢＰの出力画像を調べたところ、表１に示
す結果が得られた。すなわち、実施例１〜４の場合に
は、干渉縞模様及び白斑点、黒斑点等の画像欠陥は認め
られなかった。また、画像２００００枚の出力試験を行
っても、何等異常は発生しなかった。これに対して、比
較例の場合には、次のような結果が得られた。すなわ
ち、比較例１〜８の場合には、画像２００００枚の出力
試験を行った場合、白斑点、黒斑点の画像欠陥が全ての
例において観察された。また、比較例１、４、５、９に
おいては、十分な梨地面を得ることができず、干渉縞模
様が発生した。
のドット密度のレーザープリンター（ＬＢＰ）に取り付
けた。このＬＢＰの出力画像を調べたところ、表１に示
す結果が得られた。すなわち、実施例１〜４の場合に
は、干渉縞模様及び白斑点、黒斑点等の画像欠陥は認め
られなかった。また、画像２００００枚の出力試験を行
っても、何等異常は発生しなかった。これに対して、比
較例の場合には、次のような結果が得られた。すなわ
ち、比較例１〜８の場合には、画像２００００枚の出力
試験を行った場合、白斑点、黒斑点の画像欠陥が全ての
例において観察された。また、比較例１、４、５、９に
おいては、十分な梨地面を得ることができず、干渉縞模
様が発生した。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【発明の効果】本発明の湿式ホーニング用研磨材懸濁液
は、上記の構成を有するから、これを用いて表面処理さ
れた導電性基体は、表面に不純物の付着が少なくきれい
な状態の粗面が作製される。したがって、この導電性基
体を用いて作製された電子写真感光体は、レーザー光に
よって画像形成を行った場合、干渉縞模様が発生しな
く、また、白斑点（反転現像時の場合は黒斑点）等の画
質欠陥のない優れた画質の画像を形成する。したがっ
て、レーザー光を利用する電子写真複写装置、特に、レ
ーザービームを像様にライン走査するする方式の電子写
真プリンタに好適な電子写真感光体の作成に有用であ
る。
は、上記の構成を有するから、これを用いて表面処理さ
れた導電性基体は、表面に不純物の付着が少なくきれい
な状態の粗面が作製される。したがって、この導電性基
体を用いて作製された電子写真感光体は、レーザー光に
よって画像形成を行った場合、干渉縞模様が発生しな
く、また、白斑点（反転現像時の場合は黒斑点）等の画
質欠陥のない優れた画質の画像を形成する。したがっ
て、レーザー光を利用する電子写真複写装置、特に、レ
ーザービームを像様にライン走査するする方式の電子写
真プリンタに好適な電子写真感光体の作成に有用であ
る。
【図１】 本発明に使用する湿式ホーニング装置の略構
成図である。
成図である。
１ 導電性基体 ２ ポンプ ３ ガン ４ 空気導入管 ５ 処理容器
Claims (2)
- 【請求項１】 純水中に研磨材２０重量％以上の含有量
で懸濁させてなり、電気伝導度が１０μｓ／ｃｍ以下で
あることを特徴とする電子写真感光体用導電性基体の表
面処理を行うための湿式ホーニング用研磨材懸濁液。 - 【請求項２】 純水中に研磨材２０重量％以上を懸濁し
てなる電気伝導度１０μｓ／ｃｍ以下の研磨材懸濁液を
用いて湿式ホーニング処理を施すことを特徴とする電子
写真感光体用導電性基体の表面処理方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087386A JPH0641108B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 湿式ホーニング用研磨材懸濁液及びそれを用いた表面処理方法 |
| US07/860,095 US5238467A (en) | 1991-03-28 | 1992-03-30 | Abrasive suspension for wet honing and surface treating method using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3087386A JPH0641108B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 湿式ホーニング用研磨材懸濁液及びそれを用いた表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04300163A JPH04300163A (ja) | 1992-10-23 |
| JPH0641108B2 true JPH0641108B2 (ja) | 1994-06-01 |
Family
ID=13913455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3087386A Expired - Fee Related JPH0641108B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 湿式ホーニング用研磨材懸濁液及びそれを用いた表面処理方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5238467A (ja) |
| JP (1) | JPH0641108B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0715589B2 (ja) * | 1988-09-26 | 1995-02-22 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、その基体の処理方法および電子写真感光体の製造方法 |
| JP2770870B2 (ja) * | 1992-01-31 | 1998-07-02 | キヤノン株式会社 | アルミニウム管の製造方法、その製造方法により製造された電子写真感光体およびその電子写真感光体を有する電子写真装置 |
| JP3098661B2 (ja) * | 1993-07-28 | 2000-10-16 | キヤノン株式会社 | 研磨剤組成物及びそれを用いる研磨方法 |
| US5573445A (en) * | 1994-08-31 | 1996-11-12 | Xerox Corporation | Liquid honing process and composition for interference fringe suppression in photosensitive imaging members |
| US5670240A (en) * | 1995-11-09 | 1997-09-23 | Flex Products, Inc. | Embossed substrate and photoreceptor device incorporating the same and method |
| JPH09294958A (ja) * | 1996-05-07 | 1997-11-18 | Yamaki Kogyo Kk | 防眩金属板及びその製造方法 |
| US5919594A (en) * | 1998-05-26 | 1999-07-06 | Xerox Corporation | Substrate honing method |
| US7167615B1 (en) | 1999-11-05 | 2007-01-23 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Resonant waveguide-grating filters and sensors and methods for making and using same |
| GB2375725A (en) * | 2001-05-26 | 2002-11-27 | Siemens Ag | Blasting metallic surfaces |
| CN110480517B (zh) * | 2019-08-06 | 2021-11-05 | 安徽硕日光电科技有限公司 | 一种水流环绕冲击式导线去毛刺装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4125969A (en) * | 1977-01-25 | 1978-11-21 | A. Long & Company Limited | Wet abrasion blasting |
| US4666465A (en) * | 1982-10-15 | 1987-05-19 | Fuji Seiki Machine Works, Ltd. | Process for manufacturing fine blasting media for use in wet blasting |
| JPS5969265A (ja) * | 1982-10-15 | 1984-04-19 | Fuji Seiki Seizosho:Kk | 精密湿式ブラスト用投射材及びその製法 |
| US4579564A (en) * | 1985-01-18 | 1986-04-01 | Smith Robert S | Polishing pad for a fine finish |
| US4690693A (en) * | 1985-12-05 | 1987-09-01 | Gte Products Corporation | High purity silicon nitride polishing compound |
| JP2668985B2 (ja) * | 1988-09-26 | 1997-10-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体 |
-
1991
- 1991-03-28 JP JP3087386A patent/JPH0641108B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-03-30 US US07/860,095 patent/US5238467A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04300163A (ja) | 1992-10-23 |
| US5238467A (en) | 1993-08-24 |
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