JP4165732B2 - コリオリ質量流量コントローラ - Google Patents
コリオリ質量流量コントローラ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4165732B2 JP4165732B2 JP2000587158A JP2000587158A JP4165732B2 JP 4165732 B2 JP4165732 B2 JP 4165732B2 JP 2000587158 A JP2000587158 A JP 2000587158A JP 2000587158 A JP2000587158 A JP 2000587158A JP 4165732 B2 JP4165732 B2 JP 4165732B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass flow
- sensor tube
- coriolis mass
- flow
- flow controller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 56
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 20
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 11
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 27
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 17
- 230000006870 function Effects 0.000 description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 9
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229910000938 samarium–cobalt magnet Inorganic materials 0.000 description 3
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 2
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 210000003813 thumb Anatomy 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005355 Hall effect Effects 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910000963 austenitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 210000003811 finger Anatomy 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910001105 martensitic stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 titanium-vanadium-aluminum Chemical compound 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
- G01F1/8404—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters details of flowmeter manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
- G01F1/8409—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details
- G01F1/8422—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details exciters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
- G01F1/8409—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details
- G01F1/8427—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details detectors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
- G01F1/8409—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details
- G01F1/8436—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details signal processing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
- G01F1/8409—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details
- G01F1/844—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details microfluidic or miniaturised flowmeters
- G01F1/8445—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters constructional details microfluidic or miniaturised flowmeters micromachined flowmeters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/76—Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
- G01F1/78—Direct mass flowmeters
- G01F1/80—Direct mass flowmeters operating by measuring pressure, force, momentum, or frequency of a fluid flow to which a rotational movement has been imparted
- G01F1/84—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters
- G01F1/845—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters arrangements of measuring means, e.g., of measuring conduits
- G01F1/8468—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters arrangements of measuring means, e.g., of measuring conduits vibrating measuring conduits
- G01F1/8472—Coriolis or gyroscopic mass flowmeters arrangements of measuring means, e.g., of measuring conduits vibrating measuring conduits having curved measuring conduits, i.e. whereby the measuring conduits' curved center line lies within a plane
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
Description
本発明は質量流量の測定及び制御に関し、特にコリオリ力効果(Coriolis force effect)に基づき、検知、制御及び通信の電気部品を有する統合フローコントロールバルブを有するような質量流量の測定及び制御装置に関する。
【背景技術】
コリオリ力効果に基づく質量流量測定は、次のような方法で行うことができる。コリオリ力は、質量をある確立(establish)された方向に動かし、次に方向を通常フローの確立された方向へのベクトル成分に変化させる効果を生じさせる。これは次式で表すことができる。
【0002】
【数1】
【0003】
【外1】
【0004】
回転系においては、角速度ベクトルは回転軸に延在するように配置される。「右手の法則」を用いれば、親指以外の指が回転方向を画定し、伸ばした親指が角速度ベクトル方向を画定する。典型的なコリオリフローセンサの場合においては、チューブを振動させ、チューブを通過して流体フローが確立される。しばしばチューブは1個又はそれ以上のループの形状をしている。ループ形状は、ループの異なる点において質量流量ベクトルが逆方向に向くような形状である。チューブループは、例えばU字型、長方形、三角形またはΔ(デルタ)型或いはコイル状とすることができる。ストレートチューブでは特別な場合に、質量流量ベクトルの方向が1つであっても、チューブのアンカーポイントに一致する角速度ベクトルは同時に2つ存在する。
【0005】
振動システムでは回転方向が変化するので、角速度ベクトルの方向が変化する。その結果、あらゆる与えられた時点において、コリオリの力は逆向きに作用し、質量流量ベクトル又は角速度ベクトルが逆方向に向けられる。角速度ベクトルは振動システムに起因して絶えず変化するので、コリオリの力も常に変化する。その結果、チューブの連続往復運動に加えて動的ねじれ運動を発生させる。ねじれの大きさは、与えられた角速度に対する質量流量に比例する。
【0006】
質量流量の測定は、センサチューブを通過する流体が発生させるコリオリの力に起因するセンサチューブ内のねじれを画定することにより行われる。典型的な公知の装置においては、コリオリの力が誘導する変位が最大になると予測されるフローチューブ上の位置に置かれた磁石とコイルのペアからなるピックオフセンサが用いられる。コイル及び磁石は対向する構造体に取り付けられる。例えば、磁石がチューブに取り付けられ、コイルが固定パッケージ壁に取り付けられる。磁石はコイルに出入りし、コイル内に電流を誘導する。この電流は、コイルに関連する磁石の速度に比例する。これは速度の測定であるので、速度と、従って信号は、フローチューブが静止点を交差する(零交差)時に最大になる。コリオリの力が誘導するねじれは、2個の速度センサの零交差時間の差を測定することにより検出されるような速度信号において位相ずれを引き起こす。実際問題として、位相ずれは時間計測回路に大きな精度負荷を与える。これにより、コリオリ技術を用いた質量流量計測の最大感度を制限することになり得る。
【0007】
更に、コリオリ技術に基づく公知の装置の流量は、しばしば多くの用途に対して所望の流量よりも大きな流量に限定される。更に、既存のコリオリ質量流量計測装置は、積分フロー制御能力を有しない質量流量検知を与えるに過ぎず、フロー制御手段はユーザに委ねられていた。
【0008】
本発明は、先行技術に関連する欠点を解決する。
【0009】
【発明の開示】
本発明の或る側面において、質量流量測定装置のための容量型ピックオフセンサを開示する。質量流量測定装置は、フローセンサチューブと、フローセンサチューブを振動させる駆動装置とを有する。容量型ピックオフセンサは少なくとも1枚の導電板を有し、導電板は第1の電圧に接続可能で、第2の電圧に接続されたフローセンサチューブの近傍に配置される。導電板は、導電板間のギャップを画定するべくフローセンサチューブに関係して配置される。導電板とフローセンサチューブの間の導電容量は、フローセンサチューブが振動する際に、導電板とフローセンサチューブの相対運動に起因して変化する。
【0010】
本発明の別の側面においては、コリオリ質量流量センサは、フローセンサチューブと、フローセンサチューブを振動させるべくフローセンサチューブに関係して配置された駆動装置と、コリオリの力に起因するセンサチューブ内のねじれを測定するためにフローセンサチューブに関係して配置された容量型変位ゲージとを有する。実施例においては、電磁駆動装置、静電駆動装置、音響駆動装置、圧電駆動装置を単独もしくは組み合わせて用いてフローセンサチューブを振動させる。更に別の実施例においては、圧電駆動装置を用いて、フローセンサチューブの振動とフローセンサチューブ内のねじれ測定の両方を行う。
【0011】
本発明の更に別の側面において、コリオリ質量流量コントローラは、フローセンサチューブと、フローセンサチューブを振動させるべくフローセンサチューブに関係して配置された駆動装置と、コリオリの力に起因するフローセンサチューブ内のねじれを測定するためにフローセンサチューブに関係して配置された位置検出器とを有する。コリオリ質量流量制御は、フローセンサチューブから流体を受容するように接続された積分フロー制御装置を更に有する。関連するセンサ電気部品を有する積分フローバルブは、取り扱いがより容易な、より小型のパッケージを供与し、動的性能を著しく向上させる。
【0012】
本発明の更に別の側面において、コリオリの質量流量センサは、フローセンサチューブと、フローセンサチューブが内部に配置されたハウジングと、フローセンサチューブを振動させるための、ハウジング外部に配置された駆動装置と、コリオリの力に起因するフローセンサチューブ内のねじれを測定するためにフローセンサチューブに関係して配置された少なくとも1個のピックオフセンサを有する。例として示すような実施例において、ピックオフセンサはハウジング内に配置されている。更に別の実施例において、磁石はフローセンサチューブに結合され、駆動装置は電磁コイルから構成される。磁石は非希土類磁石であることが好ましく、より具体的にはニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石であるとよい。電磁コイルは、パワーインダクタから構成することができる。
【0013】
本発明の更に別の側面に基づき、質量流量測定装置は、第1及び第2の端を有するケーシングと、フロー本体と、ケーシングの第1の端とフロー本体をシール結合するようにケーシングの第1の端及びフロー本体に関連して配置された第1のシール部材とを有する。ユーザインターフェースアセンブリ及び第2のシール部材は、ユーザインターフェースアセンブリと第2の端をシール結合するようにケーシングの第2の端に関係して配置される。シール部材は、ユーザインターフェースアセンブリ即ちIP-65/NEMA 4Xコンプライアントを含むマルチタイプのユーザインターフェースアセンブリ間で交換を可能にし、追加流体を保持する。
【0014】
(発明を実施するための最良の実施例)
本発明の実施例について図面を参照して以下に説明する。明快に説明する観点から、ここでは実際に実施した全ての機能を説明することはしない。実際の実施例の開発において、開発者が目標を達成するためにシステム関連及び事業関連の制約に応じて等、実施毎に異なる無数の決定をしなければならなかったことは、当然賞賛に値する。更に、そのような開発努力が複雑且つ時間のかかるものであろうことも理解されようが、しかしそれも本発明を開示することで利益を受ける分野における通常の知識を有する者のために決まりきった手順を踏んでいるにすぎない。
【0015】
図1は、本発明の或る側面に基づきコリオリ質量流量センサを概略的に示すブロック線図である。コリオリ質量流量センサ1は、フローセンサチューブ2を有し、駆動装置3がチューブ2を振動させるためにフローセンサチューブ2に関係して配置されている。変位ゲージ4は、コリオリの力に起因するチューブ2内のねじれを測定するべくチューブ2に関係して配置されている。
【0016】
センサチューブ2に用いられる典型的な材料は、316Lステンレス鋼である。316Lステンレス鋼を用いる理由は、316Lステンレス鋼が多数の物質からの化学的攻撃に強く、通常のプロセス圧力による破壊に強く、通常は非汚染であり、コリオリセンサチューブの望ましい形状に容易に加工できるからである。しかしながら、316Lステンレス鋼が全ての用途に対して好適であるわけではない。従って、316Lステンレス鋼の不適用途をカバーするような他のチューブ材料が入手可能であることが必要である。公知の装置では、316Lステンレス鋼に代わる材料としてシリコンが用いられる。316Lステンレス鋼に対するシリコンの特長は、316Lステンレス鋼で作るセンサチューブよりも小さな形状のセンサチューブを作ることが可能なことである。
【0017】
センサチューブ2の材料を選択する際には、応力誘導腐食又は強腐食(enhanced corrosion)に対する耐性も考慮すべきである。応力は、チューブが取り付けられている曲げアームの底部に発生する。多結晶物質では、微結晶粒状領域の間の結晶粒界において応力が物質中の不純物を拡散及び集中させる。多くの場合、このことは微結晶間の結合を弱め、物質を化学的攻撃に対してより脆弱なものとする。シリコン又はサファイアのような単一結晶物質は、多結晶物質と比較するとこのように影響を受けることは少ない。
【0018】
316Lステンレス鋼のような金属は通常多結晶体であるので、程度の差こそあれこのようなタイプの化学的攻撃にはより脆弱である。石英ガラスのようなアモルファス物質及び数種のプラスチックも、応力誘導された化学的攻撃に対してより大きな耐性を有するが、それは多結晶物質と異なりこれらの物質は結晶粒構造を有していないからである。基礎をなす材料の使用がその他の点で魅力的であるならば、化学的攻撃に対して脆弱なチューブ材料は、チューブ材料の表面改質をするか、表面に対する腐食または化学的攻撃を最小限にするようにコーティングするとよい。
【0019】
表面改質は、イオン注入、熱拡散、化学反応又は電気化学反応によって行うことができる。表面改質は、化学的耐性を有する層を表面に残すような電子又は分子の化学種の除去、再分配、或いは導入を行うことを意図したものである。表面コーティングは、高温で表面に衝突する蒸気、液体又は粉末からの熱活性めっき(thermally activated deposition)によって行う。化学反応性の化学種が例えばレーザからの強烈な光子フラックスやプラズマによっても励起或いはイオン化される場合には、表面改質はより低温で行う。化学的攻撃に耐性がある他の物質は、熱ビーム蒸着、電子ビーム蒸着またはイオンスパッタリングによる非反応性の物理蒸着法によってめっきしてもよい。高エネルギーのイオンビームを用いてスパッタリングを行い、スパッタリングされた化学種が化学的に励起或いはイオン化するようにする場合には、表面との化学反応も行われる。これは或る種のめっき物質にとっては望ましいことであろう。また、化学種を加速し、運動エネルギーを用いた化学反応の活性化或いは強化を可能にすることにより、表面における化学反応を行わせることもできる。
【0020】
本発明の或る実施例において、コリオリフローセンサチューブ2に用いられるチューブ材料は、オーステナイトステンレス鋼、マルテンサイトステンレス鋼、高ニッケル合金、チタニウム、ジルコニウム、チタニウムとジルコニウムの合金、特にチタニウム−バナジウム−アルミニウム合金及びジルカロイ(これらは降伏強さが大きくヤング率が低いため)、シリコン、サファイア、炭化珪素、石英ガラス及びプラスチックである。本発明に基づいて用いられるチューブコーティング材料は、炭化珪素、ニッケル、クロム、ダイヤモンド、耐火カーバイド、耐火窒化金属及び耐火酸化金属等である。
【0021】
図2は、本発明の或る実施例に基づくコリオリ質量流量センサ1を示す。コリオリ質量流量センサ1は、実施例においては正弦波信号源からなるような信号源(図示せず)によって駆動される電磁石12を有する電磁駆動装置10を用いている。電磁石12は、センサチューブ16に取り付けられた小さな永久磁石14の近傍に配置される。センサチューブ16は、1つの孔19からフローチューブ16を介して別の孔19へ流れる流路を画定するように、第1及び第2の孔19を有する基礎18に結合される。ここに開示されている実施例に示されるセンサチューブ16は、通常U字型である。尤も他の形状、例えばΔ型、長方形、コイル状またはストレートチューブを用いてもよい。
【0022】
図3に示す実施例は図9に示すものと同様であるが、静電駆動装置を用いている。静電駆動装置20は、センサチューブ16に取り付けられた小さな絶縁板24の近傍に配置された帯電板22を有する。チューブ16が誘電体から製造されている場合は、帯電板22をチューブ16の近傍に配置し、絶縁板24を取り除いてもよい。ここでもまた、正弦波信号源等の信号源(図示せず)によって帯電板が駆動される。帯電板22に印加される電圧は、帯電板22と絶縁板24との間に電界を発生させる。電界は絶縁板24上に表面電荷を発生させる。電圧極性は帯電板22上で急速に変化するので、帯電板22と絶縁板24の間の抵抗電界はフローチューブ16を振動させるような引力及び斥力を交互に発生させる。
【0023】
図4は、新しい音響駆動装置30を用いたコリオリ質量流量センサの別の実施例を示す。音響駆動装置30は、チューブ16の近傍に配置された小さなスピーカ32を有する。スピーカ32から発生する圧力波が、チューブ16を振動させる。
【0024】
図5は、コリオリ質量流量センサ1の更に別の実施例を示す。図5のコリオリ質量流量センサ1には圧電駆動装置40が用いられている。フローチューブの各脚16には向かい合うように2本の圧電スタック42が配置され、結果的に図5に示されるように各脚16上に2個のバイモルフが生成される。チューブ16の撓みを生じさせ或いは検出するべく圧電効果及び逆圧電効果を用いることができる。
【0025】
質量流量の測定は、センサチューブ16を通過する流体が発生させるコリオリの力に起因するセンサチューブ16内のねじれを画定することにより行われる。典型的な公知の装置においては、コリオリの力が誘導する変位が最大になると予測されるフローチューブ16上の位置に置かれた磁石とコイルのペアからなるピックオフセンサが用いられる。コイル及び磁石は対向する構造体に取り付けられる。例えば、磁石がチューブ16に取り付けられ、コイルが固定パッケージ壁に取り付けられる。磁石はコイルに出入りし、コイル内に電流を誘導する。この電流は、コイルに関連する磁石の速度に比例する。これは速度の測定であるので、速度と、従って信号は、フローチューブ16が静止点を交差する(零交差)時に最大になる。コリオリの力が誘導するねじれは、2個の速度センサの零交差時間の差を測定することにより検出されるような速度信号において位相ずれを引き起こす。実際問題として、位相ずれは時間計測回路に大きな精度負荷を与える。このことはコリオリ技術を用いた質量流量計測の最大感度を制限し得る。
【0026】
本発明の或る側面は、典型的な時間ベースの信号調整技術と比べてフロー能力が低く、より直接的で、且つ回路においてそれほどの精度が要求されないようなフロー測定技術を与えている。図2から4に示されている実施例を参照すると、振動するセンサチューブの変位は容量型ピックオフセンサを用いて測定される。センサチューブ16を通過する流体が発生させるコリオリの力に起因するセンサチューブ16内のねじれを測定するべく、2個の静電容量変位ゲージ50がチューブ16の形状に対称をなすようにチューブ16の近傍に配置されている。本発明の或る実施例において、静電容量変位ゲージ50は小型化されてセンサパッケージ壁又はフローセンサチューブのループ内に挿入されたセンサブロックに表面取付される。コリオリの力に起因するセンサチューブ16内のねじれは、静電容量変位ゲージ50からの2つの信号間で位相ずれを引き起こす。これは変位の測定であるので、信号は変位に正比例する。チューブの各側の相対変位は、位相ずれとして測定される。ゲージドライバ及び信号調整の電気部品は、チューブ16の相対変位を高レベル信号に変換する。高レベル信号は位相ずれの機能であり、フローがチューブ16の中を流れる際にコリオリ効果を測定するために用いることができる。
【0027】
第1の信号処理技術は、一方の変位ゲージ50から参照信号を受信し、他方の変位ゲージ50から入力信号を受信するようなロックイン増幅器を用いる。参照信号または入力信号を発信するのはいずれのゲージ50でもよい。ロックイン増幅器からの位相出力は、フローに比例する。図6はロックイン増幅器52の機能回路図であり、ロックイン増幅器52を用いて本発明に基づくコリオリの力に起因する位相ずれを測定するための方法を実施することが可能である。信号は、図6に示すように左から右に伝わる。左入力100及び右入力102の信号は、各々左及び右変位ゲージ50から伝わる。例えば、左入力100は参照信号として用いることができる。正弦出力103は、左入力100の信号にフェーズロックされた駆動信号である。これは、フローセンサチューブ16を共振させる。右入力102は、2個の位相検出器(PSD)106内において、左/参照入力100の信号及び90°位相ずれ信号104と混合される。機能的には、PSD106は2つの信号を掛け合わせて高周波成分及び直流成分を生成する。低域フィルタ108は、X出力110及びY出力112において直流電圧を発生させるような高周波成分を除去する。X出力110は参照信号に関係する信号の同相分と呼ばれ、Y出力112は直角分と呼ばれる。同相分及び直角分は位相を感知するが、次の関係式によってベクトルの大きさ及び位相成分を分離することが可能である。
【0028】
【数2】
【0029】
ロックイン増幅器52からの出力信号と変位ゲージ50からの入力信号との関係は、次のように導かれる。
【0030】
任意の振幅、任意の位相差を有する正弦波として2つの信号を考える。各信号は次式で表すことができる。
【0031】
【数3】
【0032】
PSD106の下部では、次のようになる。
【0033】
【数4】
【0034】
この信号は、2倍の周波数で1つの直流電圧成分及び1つの交流成分を有する。低域フィルタ(LPF)108は、残りの交流成分を除去して次式の如くする。
【0035】
【数5】
【0036】
PSD106の上部では、次のようになる。
【0037】
【数6】
【0038】
ここで、cosωt=sin(ωt+90°) より、次式が得られる。
【0039】
【数7】
【0040】
ここで再び直流成分及び交流成分を有する信号が得られたわけであるが、LPF108を通過した後では次式のようになる。
【0041】
【数8】
【0042】
式1及び式2より、大きさR及び位相角θは次のように計算される。
【0043】
【数9】
【0044】
以上の計算は、好適なデジタルまたはアナログの処理装置120で実行できる。ベクトル位相は質量流量に比例する。
【0045】
本発明の実施例に基づく別の方法では、一方の変位ゲージ50から参照信号及び1つの入力信号を受信し、他方の変位ゲージ50から第2の入力信号を受信するような2チャンネルロックイン増幅器が必要である。2つの入力信号の差は、参照信号に対照して測定される。ロックイン増幅器からの合成位相出力は、フローに比例する。図7は、2チャンネルロックイン増幅器54の機能回路図である。図6に示されている回路におけるものと同様の方法で信号が伝わり、同様の明瞭度を有する。左入力100は、ここでも参照信号として用いられる。図6と同様に、正弦出力103は、左入力100の信号にフェーズロックされた駆動信号である。図7の例では、右入力102の信号から左入力100の信号を減算し、2個の位相検出器(PSD)106内において左/参照入力100の信号及び90°位相ずれ信号104と混合する。内部機能は、図6のロックイン増幅器52と同様である。
【0046】
ロックイン増幅器54からの出力信号と変位ゲージ52からの入力信号との関係は、次に示す式を用いて導くことができる。計算は、好適なデジタルまたはアナログの処理装置120で実行できる。
【0047】
任意の振幅、任意の位相差を有する正弦波として2つの信号を考える。各信号は次式で表すことができる。
【0048】
【数10】
【0049】
ここで、低雑音差動増幅器114からの出力は、Vref −Vright である。
【0050】
PSD106の下部では、次のようになる。
【0051】
【数11】
【0052】
この信号は、2倍の周波数で1つの直流電圧成分及び1つの交流成分を有する。低域フィルタ(LPF)108は、残りの交流成分を除去して次式の如くする。
【0053】
【数12】
【0054】
PSD106の上部では、次のようになる。
【0055】
【数13】
【0056】
ここで、cosωt=sin(ωt+90°) より、次式が得られる。
【0057】
【数14】
【0058】
ここで再び直流成分及び交流成分を有する信号が得られたわけであるが、LFP108を通過した後では次式のようになる。
【0059】
【数15】
【0060】
式1及び式2より、大きさR及び位相角θは次のように計算される。
【0061】
【数16】
【0062】
θはもはや位相角ではないが、左入力信号及び右入力信号の位相角度及び振幅の関数のアークタンジェントである。この式を分析すると、θはφの強力な関数であることが分かる。実際、入力信号の相対振幅によってこの関数の強度を制御することができる。これは図8のグラフで説明することができ、図8のA及びBは、各々左信号及び右信号の振幅である。2つの振幅が近づくにつれて、ロックイン増幅器の出力θに対する感度が高くなる。たとえその差が2%以内であるような振幅に対しても、φに対するθの感度は標準ロックイン増幅器の感度と比べて約100倍である。
【0063】
図9は、本発明に基づきコリオリの力が誘導する位相ずれを測定するための別の方法に用いられるデュアルロックイン増幅器56の機能的回路図である。信号が動く方法及び定義は、既に開示したものと同様である。左入力100もまた参照信号として用いられる。既に開示したものと同様に、正弦信号103は駆動信号であり、左入力100の信号にフェーズロックされている。この場合、左入力100の信号は、上部ロックイン増幅器58における2個の位相検出器(PSD)106において左入力100の信号及びその90度位相ずれした信号と混合される。底部ロックイン増幅器60では、右入力102の信号は、2個の位相検出器(PSD)106において左入力100の信号及びその90度位相ずれした信号と混合される。位相ずれしていないPSD106及び位相ずれしたPSD106からの対をなす出力は、低雑音差動増幅器114において微分される。信号の直流成分は、低域フィルタ108を通過して通常のロックイン増幅器出力を与える。好適なデジタルまたはアナログの処理装置120によって実行される計算は、図7に関連して概説した方法と同様であるが、作動順序は異なる。図7の2チャンネルロックイン技術において、僅かな差がある2個の高レベル信号が減算される。次に低レベル信号が高レベル信号と乗算されるが、この乗算がアナログ回路における雑音或いはデジタル回路における丸め誤差を生じさせ得る。図9のデュアルロックイン技術において、まずハイレベル信号が乗算されて、次に振幅の近似している乗算結果の信号が減算されて低騒音出力が生じる。
【0064】
極めて大きな振幅の雑音に埋もれた低レベル信号の測定には、ロックイン増幅器を使用することが最も有名である。ロックイン増幅器は、極めて狭い帯域フィルタとして作用し、このような測定をなし遂げている。信号及び騒音は、参照正弦波及び余弦波が乗算され、次に低域フィルタを通過して参照周波数が除去される。乗算及びフィルタ動作の結果、複素数ベクトル(x+iy)で表される直流信号が得られる。参照周波数と対象信号(signal of interest)との位相差は、atan(y/x)によって決定することができる。
【0065】
コリオリの力の測定に関して、同一周波数の2個の信号間の位相差は重要である。これはデュアルロックイン増幅器を用いて行うことができ、各増幅器は図10に示すように同一の参照周波数で駆動される。図10に示す機能回路図において、左入力信号100及び右入力信号102は、参照周波数発生装置114が与える参照正弦波及び余弦波と乗算される。入力信号100、102は、PSD106において正弦信号及び余弦信号と混合され、次に図6、図7及び図9に関連して説明したように5次ベッセルIIR低域フィルタ148を通過する。上記の乗算及びフィルタプロセスは、左入力信号100および右入力信号102において実行され、参照周波数に対する各信号の位相差出力X、Yを生じさせる。2個の出力信号XとYの差は、2個の入力信号100と102の位相差を表す。コリオリ質量流量の場合は、この位相差は質量流量152の表示を表す。
【0066】
ロックイン増幅器を用いてコリオリ質量流量に関連する極端に小さな位相差を測定する場合には、参照周波数を対象信号に合うように調整する必要がある。参照信号が対象信号にそれほど近似していなければ、極低周波数の交流信号が低域フィルタ148の出力に現れるであろう。コリオリセンサの周波数は、質量流量、温度、密度及び圧力と共に変化し、測定プロセスを更に複雑にしている。
【0067】
入力信号100、102の1つからの出力ベクトルを処理することによって、参照周波数を正確に調整することができる。まず、出力ベクトルの導関数を計算する。出力ベクトルの導関数は、2つの連続する出力ベクトル間の複素差分を計算することにより算出できる。次に元の出力ベクトルを90°回転させ、このベクトルのドット積及び導関数を計算すると、参照周波数発生装置144に与えられるエラー信号150が求められる。参照周波数を下げるか、上げるか、変化させない必要がある場合には、エラー信号150は各々負、正、或いはゼロである。
【0068】
参照周波数の調整量は位相測定の精度によるが、一般に調整が緻密であればあるほど精度は高くなる。精度は、多数の出力サンプルに対する標準偏差を計算して決定される。しかしながら、信号周波数においてステップの変化がある場合には、参照周波数のより緻密な調整(小さなステップの変化)は好ましくない。参照周波数発生装置144が目的の周波数を発生させるまでに長時間を要するためである。信号周波数が頻繁にステップを変える場合には、PIDまたは適応アルゴリズムを用いて、より応答の良い方法で参照周波数を調整することができる。
【0069】
別の実施例においては、静電容量変位プローブ50を圧電アクチュエータに取り付けることができる。圧電アクチュエータは、まず静電容量変位プローブ50を3次元に配列する。更に、本明細書に開示されている2チャンネルロックイン増幅器又はデュアルロックイン増幅器の方法を用いる場合は、圧電アクチュエータがフローセンサの感度を動的に調整することができ、従ってセンサの範囲を拡張させることができる。
【0070】
このような動的位置決め(dynamic positioning)、特に静電容量変位プローブに関連するフローセンサの位置決めによって、製作のばらつきを埋め合わせることができる。動的位置決めはまた、様々な成分の相対熱膨張に起因する寸法のずれを埋め合わせる。2チャンネルロックイン増幅器又はデュアルロックイン増幅器と組み合わせて用いることにより、動的位置決めは2個の変位信号を非常に近づけてフローに対する可変感度を与えることができる。高いフロー条件に対しては低い感度が用いられ、拡張された低いフロー条件に対しては高い感度が用いられ、従って、フロー測定のダイナミックレンジを広げる。
【0071】
本発明の実施例は、更に静電容量測定技術を向上させ、特に静電容量変位プローブの新たな幾何学的配列を向上させる。通常或る物体の変位は静電容量変位プローブへの垂直線の寸法として測定される。変位はまた、静電容量変位プローブに対する接線方向の寸法としても測定される。図11を参照すると、2枚の板130を近接して並べ、板130の間に一定のギャップ132を設け、図11に示すような運動(矢印136で示す)に対して接線方向の平面に、センサチューブ134の近傍に配置することによって変位を特定することができる。或る実施例では、板130を同じ位置に設置し、センサチューブ134を大地電位に設置するものもある。ギャップに対して垂直線方向への運動136が予測されるようにして板130の間のギャップ132を直接覆うようにセンサチューブ134を配置すれば、センサチューブ134のサイクル運動によってチューブ134が2枚の板130のいずれか一方に接近するであろう。相対静電容量は、各板130とセンサチューブ134の間で測定される。センサチューブ134が2枚の板130の何れか一方またはもう一方に向かって運動するにつれて静電容量に寄与する総面積が変化するので、相対静電容量が測定される。
【0072】
図12に示されるように、ギャップ132がセンサチューブ134の間を斜めに貫く形状のものもある。このような形状では、板130の平面に対してセンサチューブ134を配置する精度が低下する。センサチューブ134のアライメントの不備は、ギャップ132が平行である場合と比較すると信号においてより小さな不整合を生じさせる。
【0073】
或いはギャップ132は、図13に示すように鋸歯形模様である場合もある。鋸歯形は斜めのギャップ132に対して改良されたものとなっている。ギャップ132が平行であれ斜めであれ、ギャップ132に関係するセンサチューブ134が角度アライメントの不備により2枚の板130の間に静電容量の変化率に差異を生じさせ、このことが2つの信号間の位相において好ましくない変化を生み出すであろう。鋸歯形模様は、センサチューブ134のあらゆる角度アライメントの不備を平均させ、より対称的な信号を与える。
【0074】
本発明の1実施例に基づく例として低フローコリオリ質量流量コントローラ200について説明する。コリオリ質量流量コントローラ200は、フローセンサ部分202及びフロー制御部分204を有する。質量流量コントローラ200に対する内部または外部の処理装置は、セットポイントまたは所望の質量流量の表示を受け取る。セットポイント値をフローセンサ部分202が示す実際の質量流量と比較し、偏差を求める。フロー制御部分204はバルブを有し、バルブを操作することで流量を調整し、偏差を最小にする。特定の制御機構を実行することは、本発明の開示の利益を受ける当業者が行う日常的な作業であるので、ここでは実施の詳細について詳述しない。
【0075】
フローセンサ部分202は、ケーシング205により囲まれ、ループ状に曲げられたセンサチューブ206、駆動装置208、及び2個のピックオフセンサ210を有する。ピックオフセンサ210は、センサチューブ206の逆側に配置され、センサチューブ206の側面の変位を測定する。
【0076】
既存のコリオリ装置のセンサは通常、溶接された金属のハウジング内に設置されていた。ハウジング内のセンサチューブには、変位センサまたは速度センサが取り付けられ、これらのセンサはフィードスルーを介してハウジング外部の電気部品に接続された電線を用いてセンサチューブに取り付けられていた。このような装置におけるセンサチューブは、比較的大型であり、約100Hzの共振周波数を有する。本発明の実施例のようにより小さなセンサチューブに対する共振周波数は幾分高くなり、200Hz以上のオーダーになる。周波数が増大するにつれて、センサケーシングの内部大気条件に起因する粘性減衰効果が大きくなる。ケーシングを排気し、真空に適合する材質を利用することによって、粘性減衰を減少させ或いはゼロにすることが可能である。従って、センサチューブ206が真空センサハウジング207内に設置されている。
【0077】
センサチューブ206は、チューブのループの脚を結ぶ線に直交する方向の弾性曲げを可能にするように設計された。ループは、ループの中心線付近で弾性ねじれを生じさせるのに十分な幅を有する。低フローにおけるコリオリの力を測定するため、センサチューブ206の質量を最小にする必要がある。チューブを小さくし、しかも拡張圧力において流体を保持できるようにする必要があるので、チューブサイズの決定は重大である。チューブ206との接触またはチューブ206への質量負荷によってコリオリの力が抑制できるので、ピックオフセンサ210を非接触とすることが望ましい。
【0078】
ピックオフセンサ技術には、容量型、磁気的、圧電性、及び光学的技術がある。圧電ひずみゲージ変位センサは、チューブに接触するが、変位が最小でひずみが最大となるようなループの下部と接触する。こうすることでチューブの振動への影響を最小にするであろう。光学技術には、レーザまたは白光干渉変位技術、三角測量技術、多重内部反射及びビーム掩蔽技術が含まれる。磁気変位技術には、ホール効果、渦電流、可変磁気抵抗及び磁気抵抗技術が含まれる。
【0079】
容量型ピックオフセンサ技術は、チューブ変位を測定するために必要な感度を有し、非接触で、磁気駆動装置に影響されないので、実施例に用いられている。容量型ピックオフセンサ210は、各々少なくとも1枚の導電板300を有し、導電板は与えられた電位に接続され、導電板間のギャップを画定するべくフローセンサチューブ206の近傍に配置されている。導電板300とフローセンサチューブ206との間の静電容量は、フローセンサチューブ206が振動する際の導電板300及びフローセンサチューブ206の相対運動によって変化する。
【0080】
図11〜13に関連して説明したように、導電板は第1及び第2の板からなる。或る実施例においては、図13に示すような鋸歯形の板が用いられている。容量型ピックオフセンサ208は、組み込まれたセンサブロック301にアセンブルされている。センサブロック301は、プレスピン302によりケーシング207の後壁を寸法的に参照して、ケーシング207に合わせてサイズを決定した。容量型ピックオフセンサ210の導電板300は、寄生静電容量を最小にする保護層と、センサブロック301にはんだ付けするための裏板とを供給するような多層プリント回路板上で作製される。容量型ピックオフセンサ210は、真空で作動することが要求されるので、実施例では低ガス放出材料が用いられている。標準繊維ガラス材料は、真空には適合しない。望ましい材料特性は、真空に適合し、はんだ付けが可能で、低ガス放出結合で多層に接着でき、単一保護層デザインに対して一定の低誘電率を有することである。或る実施例では、市販のDRUOIDが用いられている。
【0081】
容量型ピックオフセンサ208を有するセンサブロック301は、センサチューブ206との間隔を最適化するように調整することが可能である。調整は、放電加工したヒンジ板を用いて行う。テーパ止めネジは、容量型ピックオフセンサの線運動及び角運動を起こすべくギャップを拡げる。更に、容量型ピックオフセンサの導電板300は接触パッドを有し、接触パッドによって電線をはんだ付けしたり、センサブロックの正面にプリント回路板303を電線接続したりすることが可能になる。センサブロックは、センサケーシング207外部の容量型変位電気部品と連動する気密封止電気コネクタを用いて、容量型ピックオフセンサ210と相互に連結されている。
【0082】
駆動装置208は、チューブ206を曲げモード振動に駆動し、振動を生じさせる。実施例において、駆動装置208は、センサチューブ206にはんだ付けされた小さな磁石304と、磁石304に交互に出入りする小さな電磁コイル306を有する。実施例においては、非希土類磁石、特にニッケルめっきされたサマリウムコバルト磁石が用いられている。サマリウムコバルト磁石は、重量比に対して強い磁力を有する。実施例では、磁石の重量は約20mgである。磁極がチューブの好適な変位方向に平行をなすように、磁石304はセンサチューブ206の上中心部に配置する。
【0083】
コイル306は、センサケーシング207の外部に配置され、回路板209に結合される。センサケーシング207は非磁性であるので、磁界へ透過する。コイル306は、環状デザインとは全く異なり、開路型である。本実施例におけるコイル306は、少なくとも1mHのインダクタンスを有する市販のパワーインダクタである。コイル306の中心軸は、磁石304の表面に垂直になるように調整する。フェーズロックループ(PLL)機能を介するコイル駆動回路へのフィードバックとしての、容量型ピックオフセンサの1つからの信号を用いて、センサチューブ206を共振させる。PLL機能は、電気回路として或いはソフトウエアにおいて実行される。
【0084】
基礎部分212は、フロー入口214及びフロー出口216を画定する。センサチューブ206を基礎部分212上に取り付け、フローが入口からセンサチューブ206、フロー制御部204を介してセンサフロー出口216へという流路で流れるようにする。フロー制御部202は、バルブコイル228及びコイルカバー230を内部に配置したメータ本体222を含む。バルブ軸(stem)232及びプランジャ234はバルブコイル228内に配置し、バルブ本体236はメータ本体222にシール238で結合する。弁座240、ばね242及びオリフィス244は、バルブ本体236内に配置する。端受224、225は、フロー制御部204のいずれかの端に配置する。メータ本体222と端受224との間、及びバルブ本体236と端受225との間は、シール226で結合する。或る実施例において、シール226は電鋳ニッケルシールからなる。
【0085】
例として示すような実施例において、コリオリ質量流量コントローラ200は、次のようにアセンブルする。メータ本体222及びセンサケーシング207は、ベースプレート310、中柱312及びセンサチューブ206と同様、センサチューブ206をセンサケーシング207の壁に寸法的に参照するような取付具によって所定位置にアセンブルし、保持する。残りの部分は、プレスピン330により割り出しする。これらの部分は、単一のユニットとしてロウ付けする。磁石304は、センサチューブ206にはんだ付けする。センサブロック301をアセンブルし、プレスピン302を用いてセンサケーシング207内に取り付ける。プレスピン302は、センサケーシング207の背面から約0.5mm延ばす。気密封止コネクタ320は、センサケーシング207の裏面の開口322に押し込む。センサブロックプレスピン302及び気密封止コネクタ320は、レーザ溶接してリーク密封を与える。カバー324は、真空環境でセンサケーシング207の正面を覆うように配置し、所定位置に電子ビーム溶接し、真空密封環境を与える。
【0086】
次に、残りのバルブ部品及び端受ブロック224、225をメータ本体222にアセンブルする。電鋳ニッケルシール226を用いても、エストラマーOリングを較正に用いた後でニッケルシールに交換してもよい。完全なアセンブリ上で電気部品をアセンブルし、取り付ける。Oリング332は、ベースプレート310上に取り付け、ケーシング205はOリングシール332に対して下向きに押し付ける。ベースプレート310上のカム錠を回転させ、ケーシング205を下にロックする。Oリング334は、電気部品カバーキャップ336上に取り付ける。電気部品キャップ336は、ユーザインターフェースコネクタ338に被せる。電気部品キャップ336は、Oリングシールに影響を与えるようなケーシング205上の位置に押し込む。次にアセンブルした質量流量コントローラ200を試験し、較正する。
【0087】
例として示すようなコリオリ質量流量コントローラ200は、幾つかの利点を供与するモジュラー設計を有する。上記のように、フロー本体(ケーシング205の下端とベースプレート310との間)及びユーザインターフェースキャップ(ケーシング205の上端と電気部品キャップ336との間)においてOリングシールに影響を与えるように電気部品パッケージを設計する。電気部品キャップ336は、電気部品を検知し、制御するべく、コリオリ質量流量コントローラ200及びその内部のユーザインターフェースボード340と相互に接続される。電気部品キャップ336及びユーザインターフェースボード340は共にユーザの電気部品に接続するためのインターフェースを画定する。このことは、ユーザ装置毎に異なる検知、制御の電気部品及びケーシングを設計する必要がなく、ユーザの要求通りのインターフェースを柔軟に形成する。
【0088】
例えば種々のインターフェースキャップは、装置即ちIP-65/NEMA 4Xコンプライアントを与えるべくシール及び電線管を有するであろう。そのような例として、装置400が挙げられる。対照的に、上述した実施例は、ユーザインターフェースボード340に接続されたコネクタ342を有する。装置400において、電気部品キャップ337は拡張されて、特定の用途のために要求される追加部品のための空間を与える。
【0089】
Oリングシールケーシング205の別の機能は第3の流体を保持することである。センサチューブ206が第1の流体を保持し、センサケーシング207が第2の流体を保持する。
【0090】
制御される気泡が流体内に存在する場合、既存のバルブでは、プランジャ周辺の環状開口がバルブ出口への気泡の通路を制限していた。気泡は、液体のフローが制限されてフロー制御が失われるような場所への環状開口の入口に集まる。環状開口を拡げると、バルブコイルからのプランジャの空間が増加し、それによって磁気回路の磁界強さが弱められ、また流体が生じさせる水力に対してバルブを開閉するために必要な慣性力が弱められる。従って、実施例におけるコリオリ質量流量コントローラ200では、プランジャ234を通すような丸孔246が設けられる。丸孔246は、気泡の形状及びサイズに適合するものとし、気泡がより滑らかにバルブを通過するようにする。このようにして、気泡がフローを制限する可能性を最小にする。プランジャ234の中心を通過するような孔246は、水力に対してバルブを開閉するための力が維持すべく、磁気回路に対するあらゆる影響を最小にする。
【0091】
典型的な既存のバルブでは、バルブプランジャは、オリフィスのランドに押し付けられた時にフローに対するシールを形成するような変形可能な材料から製造した固定座を有していた。常時閉のソレノイドバルブの場合、ばね釣り合いにより弁座に対して力を生じさせることで、ソレノイド作用によってオリフィスランドから弁座を揚げるようにすることが可能であった。常時開のソレノイドバルブの場合、ソレノイド作用により弁座に対して力を生じさせて均衡を取ることで、磁界が取り除かれた時、ばねによってオリフィスから弁座を揚げるようにすることが可能であった。弁座の材料は、弾性、可塑性、または延性の金属とすることができる。
【0092】
繰り返し使用可能とすべく、通常シールは塑性変形よりも弾性変形であることが好ましい。或いは、弁座及びランドに硬質材料を用いてもよいが、弁座とランドとの間で表面をぴたりと合わせることを含めて非常に厳格な許容差を以って製造する。この方法は非常に費用がかかる。プランジャにおける磁力は変位に対し線形でないため、弁座とランドの空間はバルブ操作に重大である。常時開のバルブの場合、弁座がランドと逆に動かされる時に最大の力を与え、また開口位置で最大のフローを与えるために、プランジャのノーマル位置と、従ってランドに関係する弁座のノーマル位置とを最適化する必要がある。常時閉のバルブの場合、ランドに対する弁座の力はばねによって与えられる。ばねの力は、水力に対してバルブを閉にするのに十分な力とする必要がある。更に、最大のフローを得るのに十分な距離までは磁力によって弁座をランドから揚げられるように、最小の力にもする必要がある。
【0093】
既存の装置では、ランドまたは弁座の下にシムを置いたり、オリフィス部品に調整ネジを用いたり等、種々の手段を用いて弁座とランドの間の空間が調整されてきた。しかしながら、図14(a)に示すように、通常オリフィスの調整ネジはオリフィス本体250とバルブ本体252との間をシールしておらず、ねじ山256の間に漏れ経路254を残す。このような調整ネジでは、流体が漏れないようにねじ山256をシールする必要がある。Oリングやガスケット等の分離シールによりねじ山256をシールする。
【0094】
本発明の或る側面に基づき、オリフィス244及びランドの少なくとも一方は、精密オリフィスのねじ部品に機械加工するのに適した、VESPEL(登録商標)等の塑性材料から製造する。図14(b)の実施例に示すように、オリフィス本体250とバルブ本体252との間に締りばめ258ができるようにねじ山256を大き目に機械加工し、このように分離シール(Oリングまたはガスケット)を不要にする。これでオリフィスランドは、弁座240及びプランジャ234の設計及び製作を単純化するような変形可能な部材となった。
【0095】
しかしながら、本発明は特定のプランジャ構造に限定する必要はない。或る実施例では、バルブに代えてポンプが用いられる。例えば、流体制御の目的で計量型ポンプを用いてもよい。特に、複数の圧電チューブ部分を有する圧電ポンプを用いることができる。異なるチューブ部分を圧縮または膨張させるような方法で圧電チューブ部分を制御するので、圧電チューブ部分は流体のフローを望ましいように制御することを可能にする。
【0096】
以上に開示した特定の実施例は例証にすぎず、本発明は、本明細書の開示の利益を有する当業者に自明な同等の別の形態で、改変を加えて実施することが可能である。更に、本発明の請求項によって画定される以外の構成またはデザイン等の詳細に、何らかの制限を加えることは意図されていない。従って、本発明の範囲及び精神から逸脱することなく、本明細書に開示した特定の実施例の置換及び部分的な変更が可能であり、様々な改変が考えられることは容易に理解できよう。本発明が保護を求める範囲は、請求項に記載の通りである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の或る側面に基づきコリオリ質量流量センサを概略的に示すブロック線図である。
【図2】本発明に基づき電磁駆動装置を用いたコリオリ質量流量センサを示す図である。
【図3】本発明に基づき静電駆動装置を用いたコリオリ質量流量センサを示す図である。
【図4】本発明に基づき音響駆動装置を用いたコリオリ質量流量センサを示す図である。
【図5】本発明に基づき圧電駆動装置を用いたコリオリ質量流量センサを示す図である。
【図6】本発明に基づきコリオリの力が引き起こす位相ずれを測定するためのロックイン増幅器の回路図である。
【図7】本発明に基づきコリオリの力に起因する位相ずれを測定するための2チャンネルロックイン増幅器の回路図である。
【図8】本発明に基づく信号処理方法を用いたセンサチューブ位置検出器からの入力信号の大きさの関係を示すグラフである。
【図9】本発明に基づきコリオリの力が引き起こす位相ずれを測定するためのデュアルロックイン増幅器の回路図である。
【図10】本発明に基づきコリオリの力に起因する位相ずれを測定するためのデュアルロックイン増幅器であって、参照周波数の調整を含むデュアルロックイン増幅器の回路図である。
【図11】本発明に基づく容量型変位プローブの第1の実施例を示す図である。
【図12】本発明に基づく容量型変位プローブの第2の実施例を示す図である。
【図13】本発明に基づく容量型変位プローブの第3の実施例を示す図である。
【図14】図14は(a)及び(b)からなり、(a)は先行技術のねじ込みバルブ接続を、(b)は本発明に基づくシールねじ込みバルブ接続を示す図である。
Claims (22)
- コリオリ質量流量コントローラであって、
フロー入口と、
フロー出口と、
各々が前記フロー入口及び前記フロー出口に流体連通する第1及び第2の端を有するフローセンサチューブと、
前記フローセンサチューブに関連して配置された、前記フローセンサチューブを振動させるための駆動装置と、
コリオリの力に起因する前記フローセンサチューブ内のねじれを測定すべく前記フローセンサチューブに関連して配置された位置検出器と、
前記フローセンサチューブからの流体を受容するべく適合されたフロー制御装置とから構成され、
前記フロー制御装置は、
前記フロー入口と流体連通する第1の端と前記フロー出口と流体連通する第2の端を有し、前記フローセンサチューブの前記第1及び第2の端を受容するメータ本体と、
前記メータ本体内に配置されたバルブコイルと、
前記バルブコイルに受容されるバルブ軸と、
前記バルブコイルに受容されるプランジャであって、前記プランジャを貫通する流体の流路を確立するように前記プランジャを貫通する少なくとも 1 個の孔を画定するプランジャと、
シールで前記メータ本体に結合するバルブ本体と、
前記バルブ本体内に配置された弁座であって、前記プランジャが流れに対してシールを形成するためにランドに対して前記弁座を押し付けるのに適合している弁座と、
前記位置検出器に接続され、所望の質量流量率の指示を受容するプロセッサとを含み、該プロセッサは、コリオリの力に起因する前記フローセンサチューブ内の測定されたねじれに基づいて実際の質量流量率を決定し、且つ前記所望の質量流量率と前記実際の質量流量率に応じて前記プランジャを操作するようにプログラムされていることを特徴とするコリオリ質量流量コントローラ。 - 前記位置検出器は、コリオリの力に起因する前記フローセンサチューブ内のねじれを測定するべく前記フローセンサチューブに関連して配置された少なくとも1個の容量変位ゲージを有し、該少なくとも1個の容量変位ゲージは、前記フローセンサチューブが振動する際に前記フローセンサチューブの運動に対して接線方向にあるような平面上に並んで配置される第1及び第2の板を有することを特徴とする請求項1に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記駆動装置が、電磁駆動装置よりなることを特徴とする請求項1に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記駆動装置が、静電駆動装置よりなることを特徴とする請求項1に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記駆動装置が、音響駆動装置よりなることを特徴とする請求項1に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記駆動装置が、圧電駆動装置よりなることを特徴とする請求項1に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記少なくとも1個の容量変位ゲージが、2個の容量変位ゲージよりなることを特徴とする請求項2に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記2個の容量変位ゲージが、前記センサチューブの形状に対し対称な位置に配置されることを特徴とする請求項7に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記2個の容量変位ゲージが、センサパッケージ壁表面に取り付けられることを特徴とする請求項7に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- コリオリの力によって生起する位相ずれを測定する回路を更に有することを特徴とする請求項1に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記回路が、ロックイン増幅器を有することを特徴とする請求項10に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記少なくとも1個の容量変位ゲージが、アクチュエータの上に取り付けられ、該アクチュエータが該容量変位ゲージを前記フローセンサチューブと関係するように位置付けることを特徴とする請求項2に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記アクチュエータが、圧電アクチュエータよりなることを特徴とする請求項12に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記アクチュエータが、前記少なくとも1個の容量変位ゲージを流れの状態に応じて位置付けることを特徴とする請求項12に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記アクチュエータが、前記少なくとも1個の容量変位ゲージを3次元に配列することを特徴とする請求項12に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記第1及び第2の板が、その間に一様なギャップを画定することを特徴とする請求項2に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記第1及び第2の板が同一の電位にあり、前記フローセンサチューブが接地電位にあることを特徴とする請求項2に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記第1及び第2の板が概ね矩形であり、前記ギャップが前記フローセンサチューブに対して概ね平行に延在することを特徴とする請求項2に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記第1及び第2の板が概ね三角形であり、前記ギャップが前記フローセンサチューブに対して対角線方向に交差することを特徴とする請求項2に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記第1及び第2の板が概ね鋸歯形であり、前記ギャップが概ね鋸歯形を画定することを特徴とする請求項2に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 更に排気ハウジングを有し、前記フローセンサチューブが該排気ハウジング内に配置されることを特徴とする請求項1に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
- 前記フローセンサチューブの前記第1及び第2の端の各々の上に配置された第1及び第2の圧電スタックを更に有し、圧電効果及び逆圧電効果が、前記フローセンサチューブの振動を生起し、且つコリオリの力に起因するフローセンサチューブ内のねじれを前記フローセンサチューブに検知させることを特徴とする請求項1に記載のコリオリ質量流量コントローラ。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11150498P | 1998-12-08 | 1998-12-08 | |
US60/111,504 | 1998-12-08 | ||
US09/326,949 US6513392B1 (en) | 1998-12-08 | 1999-06-07 | Coriolis mass flow controller |
US09/326,949 | 1999-06-07 | ||
US09/430,881 | 1999-11-01 | ||
US09/430,881 US6526839B1 (en) | 1998-12-08 | 1999-11-01 | Coriolis mass flow controller and capacitive pick off sensor |
PCT/US1999/029072 WO2000034748A2 (en) | 1998-12-08 | 1999-12-07 | Coriolis mass flow controller |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008148367A Division JP2008268227A (ja) | 1998-12-08 | 2008-06-05 | コリオリ質量流量センサ |
JP2008148447A Division JP4680282B2 (ja) | 1998-12-08 | 2008-06-05 | 質量流量測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002531859A JP2002531859A (ja) | 2002-09-24 |
JP4165732B2 true JP4165732B2 (ja) | 2008-10-15 |
Family
ID=46149828
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000587158A Expired - Fee Related JP4165732B2 (ja) | 1998-12-08 | 1999-12-07 | コリオリ質量流量コントローラ |
JP2008148367A Pending JP2008268227A (ja) | 1998-12-08 | 2008-06-05 | コリオリ質量流量センサ |
JP2008148447A Expired - Lifetime JP4680282B2 (ja) | 1998-12-08 | 2008-06-05 | 質量流量測定装置 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008148367A Pending JP2008268227A (ja) | 1998-12-08 | 2008-06-05 | コリオリ質量流量センサ |
JP2008148447A Expired - Lifetime JP4680282B2 (ja) | 1998-12-08 | 2008-06-05 | 質量流量測定装置 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
EP (4) | EP2088403A3 (ja) |
JP (3) | JP4165732B2 (ja) |
KR (6) | KR100883622B1 (ja) |
CN (1) | CN100443861C (ja) |
AR (3) | AR021594A1 (ja) |
AU (1) | AU771345B2 (ja) |
BR (1) | BR9915802B1 (ja) |
CA (4) | CA2684135C (ja) |
HK (5) | HK1044985B (ja) |
ID (1) | ID29450A (ja) |
MX (1) | MXPA01005768A (ja) |
MY (1) | MY128330A (ja) |
PL (1) | PL198415B1 (ja) |
WO (1) | WO2000034748A2 (ja) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6526839B1 (en) * | 1998-12-08 | 2003-03-04 | Emerson Electric Co. | Coriolis mass flow controller and capacitive pick off sensor |
US6513392B1 (en) | 1998-12-08 | 2003-02-04 | Emerson Electric Co. | Coriolis mass flow controller |
US6748813B1 (en) | 1998-12-08 | 2004-06-15 | Emerson Electric Company | Coriolis mass flow controller |
TW466136B (en) * | 2000-01-28 | 2001-12-01 | F L Smidth & Amp Co As | Method and apparatus for grinding of particulate material |
CA2354957C (en) * | 2000-08-18 | 2011-10-04 | Micro Motion, Inc. | Coriolis mass flow controller |
JP2002350207A (ja) * | 2001-05-29 | 2002-12-04 | Kazumasa Onishi | コリオリ流量計 |
US20030098069A1 (en) | 2001-11-26 | 2003-05-29 | Sund Wesley E. | High purity fluid delivery system |
KR20080039498A (ko) | 2005-08-18 | 2008-05-07 | 마이크로 모우션, 인코포레이티드 | 유량계의 다상 유동 물질에 대한 센서 신호를 처리하기위한 방법 및 계측 전자장치 |
EP2682721B1 (en) * | 2005-10-06 | 2021-03-17 | Micro Motion Inc. | Magnet assembly |
DK1949047T3 (en) * | 2005-10-18 | 2015-04-20 | Micro Motion Inc | Electronic device for measurement and the methods for determining a difference in phase between a first sensor signal and a second sensor signal of a flow meter |
KR101042337B1 (ko) * | 2008-09-30 | 2011-06-17 | 주식회사 엘지생활건강 | 화장품 용기 |
US7930115B2 (en) | 2008-10-15 | 2011-04-19 | Honeywell International Inc. | Low-power flow meter and related method |
EP2478339B1 (en) * | 2009-09-14 | 2017-05-24 | Micro Motion, Inc. | Corrosion-resistant coating for a vibratory flowmeter and method for forming the coating |
EP2888562A1 (en) * | 2012-08-21 | 2015-07-01 | Micro Motion, Inc. | Coriolis flowmeter and method with improved meter zero |
DE102013113689B4 (de) | 2013-12-09 | 2018-02-01 | Endress + Hauser Flowtec Ag | Dichte-Meßgerät |
DE102013114731A1 (de) | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Spule |
WO2015090776A1 (de) | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Spule |
JP2018091810A (ja) * | 2016-12-07 | 2018-06-14 | アイシン精機株式会社 | 静電センサ |
CN106768115B (zh) * | 2017-01-23 | 2023-04-18 | 成都安迪生精测科技有限公司 | 一种高真空质量流量计 |
DE102017121157A1 (de) | 2017-08-09 | 2019-02-14 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Spule sowie Meßwandler mit einer solchen Spule |
DE102017131199A1 (de) | 2017-12-22 | 2019-06-27 | Endress + Hauser Flowtec Ag | Coriolis-Massendurchfluß-Meßgerät |
DE102018133117A1 (de) | 2018-12-20 | 2020-06-25 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Coriolis-Massendurchfluß-Meßgerät |
US20220099543A1 (en) | 2018-12-20 | 2022-03-31 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Coriolis mass flow meter |
EP3899447B1 (de) | 2018-12-20 | 2023-09-20 | Endress + Hauser Flowtec AG | Coriolis-massendurchfluss-messgerät |
EP3899448B1 (de) | 2018-12-21 | 2024-03-27 | Endress + Hauser Flowtec AG | Coriolis-massendurchfluss-messer mit magnetfelddetektor |
JP2020140711A (ja) * | 2019-02-26 | 2020-09-03 | 株式会社フジキン | マスフローコントローラ、流体制御装置、半導体製造装置および半導体製造方法 |
JP7429703B2 (ja) | 2019-09-12 | 2024-02-08 | 株式会社堀場エステック | コリオリ流量計、流量測定方法、及び、コリオリ流量計用プログラム |
DE102019133610A1 (de) | 2019-12-09 | 2021-06-10 | Endress + Hauser Flowtec Ag | Vibronisches Meßsystem zum Messen eines Massestroms eines fluiden Meßstoff |
DE102020127382A1 (de) | 2020-10-16 | 2022-04-21 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Verfahren zum Überprüfen eines vibronischen Meßsystems |
DE102020134707A1 (de) * | 2020-12-22 | 2022-06-23 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Coriolis-Massedurchflussmessgerät und Verfahren zum Bestimmen von Einflussgrößen auf dessen totalen Nullpunktfehler, Verfahren zum Ermitteln des totalen Nullpunktfehlers und Betriebsverfahren dafür |
DE102022112523A1 (de) | 2022-05-18 | 2023-11-23 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Vibronisches Meßsystem |
DE102022116111A1 (de) | 2022-06-28 | 2023-12-28 | Endress+Hauser Flowtec Ag | Vibronisches Meßsystem |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2070435A5 (ja) * | 1969-12-04 | 1971-09-10 | Lignes Telegraph Telephon | |
JPS58206926A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-12-02 | Yokogawa Hokushin Electric Corp | 質量流量計 |
JPH0650090B2 (ja) * | 1983-05-17 | 1994-06-29 | 日産自動車株式会社 | 分配型燃料噴射ポンプの燃料遮断弁 |
US4747312A (en) | 1986-02-21 | 1988-05-31 | Fischer & Porter Co. | Double-loop Coriolis type mass flowmeter |
JPS63231603A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-27 | Tokico Ltd | 流量制御装置 |
US5069074A (en) * | 1987-07-22 | 1991-12-03 | Exac Corporation | Apparatus and method for measuring the mass flow rate of material flowing through at least one vibrating conduit |
GB8809715D0 (en) * | 1988-04-25 | 1988-06-02 | Pa Consulting Services | Fluid mass flow & density sensor |
DE3923409A1 (de) * | 1989-07-14 | 1991-01-24 | Danfoss As | Nach dem coriolis-prinzip arbeitendes massendurchfluss-messgeraet |
JPH0429578A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Canon Inc | 振動波モータの駆動回路 |
DE4027936A1 (de) * | 1990-09-04 | 1992-03-05 | Rota Yokogawa Gmbh & Co Kg | Massedosierautomat |
DE9012610U1 (de) * | 1990-09-04 | 1990-11-08 | Zaschel, Jörg, Dr., 7410 Reutlingen | Massedosierautomat |
DE4032661A1 (de) * | 1990-10-15 | 1992-04-16 | Basf Ag | Verfahren zur regelung des massenstromes fluider medien |
WO1992014123A1 (en) * | 1991-02-05 | 1992-08-20 | Donald Reed Cage | Improved coriolis mass flow rate meter |
JPH053754U (ja) * | 1991-06-28 | 1993-01-22 | エヌオーケー株式会社 | 電磁弁 |
JP2951456B2 (ja) * | 1991-12-04 | 1999-09-20 | 義朗 富川 | コリオリ質量流量計 |
JPH05306786A (ja) * | 1992-05-06 | 1993-11-19 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電磁弁 |
JPH0650784A (ja) * | 1992-07-28 | 1994-02-25 | Fuji Electric Co Ltd | 質量流量計 |
FR2698962B1 (fr) * | 1992-12-07 | 1995-02-10 | Commissariat Energie Atomique | Procédé et dispositif de mesure sans contact de la tension et de la vitesse de défilement d'un fil. |
DE9306625U1 (de) * | 1993-05-03 | 1993-07-15 | Feige GmbH, Abfülltechnik, 2060 Bad Oldesloe | Füllvorrichtung für flexible Behälter |
DE4327052C3 (de) * | 1993-08-12 | 1998-10-22 | Krohne Ag | Massendurchflußmeßgerät |
JPH07198392A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-01 | Canon Inc | 圧電素子および圧電素子の分極処理方法並びに振動ジャイロ |
GB9404416D0 (en) * | 1994-03-08 | 1994-04-20 | Turner Intellect Property Ltd | Device for finding concealed studs |
JP3219122B2 (ja) * | 1994-07-11 | 2001-10-15 | 横河電機株式会社 | コリオリ質量流量計 |
US5691693A (en) * | 1995-09-28 | 1997-11-25 | Advanced Safety Concepts, Inc. | Impaired transportation vehicle operator system |
IL112218A0 (en) * | 1995-01-02 | 1995-03-30 | Netzer Yishay | A method and apparatus for measuring linear displacements |
JPH08327368A (ja) * | 1995-05-30 | 1996-12-13 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電振動子 |
JP3555632B2 (ja) * | 1995-08-30 | 2004-08-18 | 横河電機株式会社 | コリオリ質量流量計 |
DE19605923C2 (de) * | 1996-02-17 | 2001-09-13 | Danfoss As | Durchflußmesser |
DE19621365C2 (de) * | 1996-05-29 | 1999-12-02 | Krohne Ag Basel | Massendurchflußmeßgerät |
-
1999
- 1999-12-07 ID IDW00200101473A patent/ID29450A/id unknown
- 1999-12-07 KR KR1020077012347A patent/KR100883622B1/ko active IP Right Grant
- 1999-12-07 CA CA2684135A patent/CA2684135C/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-07 JP JP2000587158A patent/JP4165732B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-07 EP EP08170304.3A patent/EP2088403A3/en not_active Withdrawn
- 1999-12-07 PL PL381145A patent/PL198415B1/pl unknown
- 1999-12-07 KR KR1020017007060A patent/KR100678430B1/ko active IP Right Grant
- 1999-12-07 CA CA2683770A patent/CA2683770C/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-07 BR BRPI9915802-7A patent/BR9915802B1/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-12-07 WO PCT/US1999/029072 patent/WO2000034748A2/en active IP Right Grant
- 1999-12-07 KR KR1020077026243A patent/KR100846692B1/ko active IP Right Grant
- 1999-12-07 KR KR1020067022630A patent/KR20060116260A/ko active Application Filing
- 1999-12-07 KR KR1020087000072A patent/KR100880285B1/ko active IP Right Grant
- 1999-12-07 EP EP08170301A patent/EP2131161A1/en not_active Withdrawn
- 1999-12-07 MX MXPA01005768A patent/MXPA01005768A/es active IP Right Grant
- 1999-12-07 CA CA2354697A patent/CA2354697C/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-07 KR KR1020087000071A patent/KR100880286B1/ko active IP Right Grant
- 1999-12-07 CN CNB998141208A patent/CN100443861C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-07 EP EP08170299A patent/EP2071297A3/en not_active Withdrawn
- 1999-12-07 AU AU24772/00A patent/AU771345B2/en not_active Expired
- 1999-12-07 CA CA2684010A patent/CA2684010C/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-07 EP EP99968086.1A patent/EP1137914B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-08 MY MYPI99005327A patent/MY128330A/en unknown
- 1999-12-09 AR ARP990106261A patent/AR021594A1/es active IP Right Grant
-
2002
- 2002-06-12 HK HK02104383.5A patent/HK1044985B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-06-12 HK HK08111254.0A patent/HK1116862A1/xx unknown
- 2002-06-12 HK HK06107350.3A patent/HK1087174A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-06-13 AR ARP060102499A patent/AR054775A2/es active IP Right Grant
- 2006-06-13 AR ARP060102498A patent/AR054774A2/es active IP Right Grant
-
2008
- 2008-06-05 JP JP2008148367A patent/JP2008268227A/ja active Pending
- 2008-06-05 JP JP2008148447A patent/JP4680282B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2009
- 2009-12-11 HK HK09111687.6A patent/HK1134338A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2009-12-11 HK HK09111686.7A patent/HK1134347A1/xx unknown
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4680282B2 (ja) | 質量流量測定装置 | |
JP4522985B2 (ja) | コリオリ質量流量コントローラ | |
JP4691186B2 (ja) | コリオリ質量流量センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040820 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040824 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20041122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050119 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20041210 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050223 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050419 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050809 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20050927 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20051028 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20051118 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20061004 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20061026 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080305 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080310 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080404 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080409 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080605 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080724 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4165732 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 3 |
|
S802 | Written request for registration of partial abandonment of right |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R311802 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |