JP4156700B2 - 露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体 - Google Patents
露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4156700B2 JP4156700B2 JP06545498A JP6545498A JP4156700B2 JP 4156700 B2 JP4156700 B2 JP 4156700B2 JP 06545498 A JP06545498 A JP 06545498A JP 6545498 A JP6545498 A JP 6545498A JP 4156700 B2 JP4156700 B2 JP 4156700B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shape
- pattern
- divided block
- data
- cpu
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. program control
- H01J37/3023—Program control
- H01J37/3026—Patterning strategy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
- H01J2237/31776—Shaped beam
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路の設計パターンを露光媒体に対して露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体に関するものである。
【０００２】
近年の半導体集積回路（ＬＳＩ）においては、大規模化及び高集積化が進められ、そのＬＳＩのパターンを露光する際のショット数、即ちＬＳＩを作成するために必要な露光データのデータ量も増大している。ショット数の増加は露光時間の長時間化、ひいてはＬＳＩの製造時間の長時間化を招くことから、ショット数を低減して露光時間を短くすることが要求されている。
【０００３】
【従来の技術】
図４３は、電子ビーム（ＥＢ）露光装置の概略構成図である。ＥＢ露光装置は、プレート１１及びステンシルマスク（又はブロックマスクという）１２を備えている。プレート１１には、所定面積の矩形形状の開口１３が形成されている。図４４に示すように、ステンシルマスク１２には、複数の第１透過孔１４と複数のブロック領域１５が形成されている。第１透過孔１４は、所定面積の矩形形状に形成されている。
【０００４】
ブロック領域１５には、第２透過孔１６又は第３透過孔１７が形成されている。第２透過孔１６の形状は、ＬＳＩのレイアウトパターンデータから共通部分を抽出した「繰り返しパターン」の形状に形成されている。繰り返しパターンには、複数種類のパターンが含まれる。この第２透過孔１６が形成されたブロック領域を「繰り返しブロック」という。
【０００５】
第３透過孔１７の形状は、斜辺を含む「分割パターン」の形状に形成されている。分割パターンは、ＬＳＩのレイアウトパターンデータから斜辺を含むレイアウトパターンを、ブロック領域１４の大きさに対応して斜辺を含むように分割したパターンである。この第３透過孔１７が形成されたブロック領域を「分割ブロック」という。
【０００６】
露光装置は、図４３の第１，第２電磁偏向器１９，２０を制御し、プレート１１により成形したビームとステンシルマスク１２の第１〜第３透過孔１４〜１６との重なり具合を変え、各透過孔を透過するビームの断面形状、即ち露光パターンを制御する。そして、露光装置は、第３電磁偏向器２１を制御して透過ビームを偏向させると共に、ステージ２２をＸ，Ｙ軸方向に移動させ、該ステージ２２上に載置された露光媒体としてのウェハ２３に所望のパターンを露光する。
【０００７】
露光装置は、第１透過孔１４を透過したビームにより、矩形形状のパターンを露光する。また、露光装置は、プレート１１により成形したビームと第１透過孔１４の重なり具合を変えることにより、ウェハ２３上に露光される矩形パターンの大きさを制御する。これにより、露光装置は、可変矩形方式による露光方法を提供する。
【０００８】
露光装置は、第２透過孔１５を透過したビームにより、複数種類のパターンをを含む繰り返しパターンを一度のショットにて露光する。また、露光装置は、第３電磁偏向器２１，ステージ２２を制御し、第２透過孔１５を透過したビームにより同一形状の繰り返しパターンを複数露光する。これにより、露光装置は、「繰り返しブロック」を用いたブロック露光による露光方法を提供する。このブロック露光は、ショット数を少なくして露光時間を短縮する。
【０００９】
又、露光装置は、第３透過孔１６を透過したビームにより、斜辺を含む分割パターンを一度のショットにて露光する。露光装置は、分割パターンを組み合わせることにより、所望の形状のパターンを露光する。これにより、露光装置は、「分割ブロック」を用いたブロック露光による露光方法を提供する。
【００１０】
一般に、図４５上段に示すように、斜辺を有するパターン２４を図４３のウェハ２３に露光する場合、可変矩形露光を行う露光装置はパターン２４をショット分割し、図４５左下に示すごとく複数の矩形パターン２５を露光する。即ち、この露光装置は、１つのパターン２４を複数の矩形パターン２５に分割して露光する。このことは、ショット数を増加させ、露光時間の長時間化を招く。また、矩形パターン２５によるショット分割は、基のパターン２４の斜辺が階段状に露光される。この斜辺の段差を小さくするためには矩形パターン２５の幅を狭くする必要があるが、これにより基のパターン２４を矩形パターン２５に分割する分割数が多くなるため、ショット数を更に増加させる。
【００１１】
そこで、図４５右下に示すように、基のパターン２４に含まれる斜辺と同じ傾きの斜辺を有する直角三角形状の第３透過孔１７ａを図４４のステンシルマスク１２に形成する。露光装置は、この第３透過孔１７ａの形状に基づいて、基のパターン２４を三角形のパターン２６ａ，２６ｂと矩形のパターン２７ａ，２７ｂにショット分割する。このときの分割数は、左側の矩形パターン２５のみによるショット分割の分割数に比べて少ない。即ち、ショット数が少ない。
【００１２】
露光装置は、第３透過孔１７ａを透過したビームにより三角形状のパターン２６ａを、図４３のプレート１１を透過したビームと第３透過孔１７ａの重なり具合を変え、小さな三角形状のパターン２６ｂを露光する。また、露光装置は、プレート１１を透過したビームと図４４の第１透過孔１４の重なり具合を変え、矩形状のパターン２７ａ，２７ｂを露光する。これにより、基のパターン２４に含まれる斜辺が第３透過孔１７ａの斜辺にて露光されるため、斜辺の精度が良くなる。
【００１３】
ＬＳＩの露光データは、図示しない露光データ作成装置により作成され、上記の露光装置に供給される。露光データ作成装置は、ＬＳＩのレイアウトパターンの形状が表現可能形状か表現不可形状かを判断する。表現可能形状は露光装置にて露光可能な形状であり、表現不可形状は露光装置にて露光不可能な形状である。
【００１４】
露光装置は、表現可能形状のレイアウトデータに対応する露光データを上記の繰り返しパターン，分割パターンをそのまま、又は分割パターン，矩形パターンによりショット分割して露光する。このレイアウトデータの表現可能形状は水平，垂直な辺を含む図形であり、例えば図４６に示すように、矩形、直角三角形、平行四辺形、台形等のパターン２９ａ〜２９ｎを含む。また、分割ブロックに搭載される第３透過孔１７の形状も表現可能形状である。従って、水平，垂直な辺を含まない任意図形は表現不可形状である。
【００１５】
表現不可形状は露光装置にて露光不可能であるため、露光データ作成装置は、表現不可形状のパターンデータを露光装置における表現可能形状にショット分割して露光データを作成する。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、レイアウトデータから露光データを作成する際に、誤差が含まれる場合がある。即ち、露光データ作成装置は、ＬＳＩのレイアウトデータを基に、サイジングやシュリンク等の図形処理，露光装置が扱うデータのグリッド（座標値）にレイアウトデータの座標値を合わせる丸め処理等を施して露光データを作成する。これらの処理により作成される露光データは、基のレイアウトデータに対して誤差を含む場合がある。この露光データに含まれる誤差により表現可能形状であったレイアウトデータの座標値がずれることにより、レイアウトデータの形状が分割ブロックを利用することができない表現不可形状となる。特に、４５度の倍角ではない斜辺含むレイアウトパターンの場合、そのレイアウトパターンに基づく第３透過孔１６をステンシルマスク１２に形成しておいても、僅かな誤差により斜辺の傾きが変化してしまい、表現不可形状となる。
【００１７】
上記により、第３透過孔１７を利用する事ができなくなる。すると、露光データ作成装置は、表現不可形状のレイアウトデータに基づく露光データに対して、矩形パターンを用いたショット分割処理を実施し、矩形パターンによる露光データを作成する。これにより、露光装置におけるショット数が増加し、１枚のウェハに対する露光時間が長くなる。
【００１８】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的はショット数を少なくして露光時間の短縮を図ることのできる露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、露光媒体に半導体集積回路を作成するための設計パターンを予め形状が設定された分割ブロックパターンを搭載したマスクを用いて露光するブロック露光のための露光データを作成する露光データ作成方法であって、前記設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み前記露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かを判定する第１判定ステップと、前記第１判定ステップにおける判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現不可形状を表現可能形状に補正する第１補正ステップと、前記補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する第２判定ステップと、前記第２判定ステップにおける判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正する第２補正ステップと、前記分割ブロックパターンのデータに基づいて露光データを作成する露光データ作成ステップとを含む。
【００２０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の露光データ作成方法において、前記第１判定ステップは、前記表現不可形状と前記表現可能形状とを形状比較し、前記表現不可形状を前記表現可能形状に変更するのに必要とする変化量を計算するステップと、前記変化量と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現不可形状を前記表現可能形状に補正可能か否かを判定するステップとを含む。
【００２１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の露光データ作成方法において、前記第２判定ステップは、前記分割ブロックパターンの形状の大きさを前記表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と前記表現可能形状とを比較し、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の間の相違値を計算するステップと、前記相違値と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するステップとを含む。
【００２２】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記設計パターンの形状は三角形形状であり、前記第１判定ステップにおいて、前記三角形形状の設計パターンを直角三角形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、前記第２判定ステップにおいて、前記直角三角形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記設計パターンの形状は四角形形状であり、前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、前記第２判定ステップにおいて、前記平行四辺形の表現可能形状を、平行四辺形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。
【００２４】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記設計パターンの形状は四角形形状であり、前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、前記第２判定ステップにおいて、前記平行四辺形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。
【００２５】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記設計パターンの形状は四角形形状であり、前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを台形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、前記第２判定ステップにおいて、前記台形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。
【００２６】
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至７のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記第２補正ステップは、前記表現可能形状を前記第２判定ステップにおいて前記表現可能形状の大きさに前記分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更し、その変更後の形状を前記分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータを作成するようにした。
【００２７】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至８のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンを作成し、その縮小パターンが前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定し、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータを作成するステップを含む。
【００２８】
請求項１０に記載の発明は、請求項１乃至８のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の相違値が前記誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンを作成し、その縮小パターンにより前記表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータを作成するステップを含む。
【００２９】
請求項１１に記載の発明は、露光媒体に半導体集積回路を作成するための設計パターンを予め形状が設定された分割ブロックパターンを搭載したマスクを用いて露光するブロック露光のための露光データを作成する露光データ作成装置であって、前記設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み前記露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かを判定する第１判定手段と、前記第１判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現不可形状を表現可能形状に補正する第１補正手段と、前記補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する第２判定手段と、前記第２判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正する第２補正手段と、前記分割ブロックパターンのデータに基づいて露光データを作成する露光データ作成手段とを備えた。
【００３０】
請求項１２に記載の発明は、請求項１１に記載の露光データ作成装置において、前記第１判定手段は、前記表現不可形状と前記表現可能形状とを形状比較し、前記表現不可形状を前記表現可能形状に変更するのに必要とする変化量を計算する手段と、前記変化量と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現不可形状を前記表現可能形状に補正可能か否かを判定する手段とを備えた。
【００３１】
請求項１３に記載の発明は、請求項１１又は１２に記載の露光データ作成装置において、前記第２判定手段は、前記分割ブロックパターンの形状の大きさを前記表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と前記表現可能形状とを比較し、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の間の相違値を計算する手段と、前記相違値と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する手段とを備えた。
【００３２】
請求項１４に記載の発明は、請求項１１乃至１３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置において、前記第２補正手段は、前記表現可能形状を前記第２判定ステップにおいて前記表現可能形状の大きさに前記分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更し、その変更後の形状を前記分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータを作成するようにした。
【００３３】
請求項１５に記載の発明は、請求項１１乃至１４のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置において、前記第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンを作成し、その縮小パターンが前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定し、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータを作成する手段を備えた。
【００３４】
請求項１６に記載の発明は、請求項１１乃至１４のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置において、前記第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の相違値が前記誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンを作成し、その縮小パターンにより前記表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータを作成する手段を備えた。
【００３５】
請求項１７に記載の発明は、記録媒体には、請求項１乃至１０のうちのいずれか１項に記載のステップよりなるプログラムを記録した。
（作用）
従って、請求項１に記載の発明によれば、設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かが判定される。その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に表現不可形状を表現可能形状に補正される。補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定され、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正される。これにより、露光データのデータ量が少なくなる。
【００３６】
請求項２に記載の発明によれば、表現不可形状と表現可能形状とが形状比較され、表現不可形状を表現可能形状に変更するのに必要とする変化量が計算される。その変化量と予め設定された誤差範囲値が比較され、その比較結果に基づいて表現不可形状を表現可能形状に補正可能か否かが判定される。
【００３７】
請求項３に記載の発明によれば、分割ブロックパターンの形状の大きさを表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と表現可能形状とが比較され、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の間の相違値が計算される。その相違値と予め設定された誤差範囲値が比較され、その比較結果に基づいて表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００３８】
請求項４に記載の発明によれば、設計パターンの形状は三角形形状であり、第１判定ステップにおいて、三角形形状の設計パターンを直角三角形の表現可能形状に補正可能か否かが判定され、第２判定ステップにおいて、直角三角形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００３９】
請求項５に記載の発明によれば、設計パターンの形状は四角形形状であり、第１判定ステップにおいて、四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かが判定され、第２判定ステップにおいて、平行四辺形の表現可能形状を、平行四辺形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００４０】
請求項６に記載の発明によれば、設計パターンの形状は四角形形状であり、第１判定ステップにおいて、四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かが判定され、第２判定ステップにおいて、平行四辺形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００４１】
請求項７に記載の発明によれば、設計パターンの形状は四角形形状であり、第１判定ステップにおいて、四角形形状の設計パターンを台形の表現可能形状に補正可能か否かが判定され、第２判定ステップにおいて、台形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００４２】
請求項８に記載の発明によれば、第２補正ステップにおいて、表現可能形状を、その表現可能形状の大きさに分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更され、その変更後の形状を分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータが作成される。
【００４３】
請求項９に記載の発明によれば、第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンが作成され、その縮小パターンが分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定され、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータが作成される。
【００４４】
請求項１０に記載の発明によれば、第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の相違値が誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンが作成され、その縮小パターンにより表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータが作成される。
【００４５】
請求項１１に記載の発明によれば、第１判定手段は、設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かを判定する第１補正手段は、第１判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に表現不可形状を表現可能形状に補正する。第２判定手段は、補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する。そして、第２補正手段は、第２判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正する。これにより、露光データのデータ量が少なくなる。
【００４６】
請求項１２に記載の発明によれば、第１判定手段には、表現不可形状と表現可能形状とを形状比較し、表現不可形状を表現可能形状に変更するのに必要とする変化量を計算する手段と、変化量と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて表現不可形状を表現可能形状に補正可能か否かを判定する手段とが備えられる。
【００４７】
請求項１３に記載の発明によれば、第２判定手段には、分割ブロックパターンの形状の大きさを表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と表現可能形状とを比較し、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の間の相違値を計算する手段と、相違値と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する手段とが備えられる。
【００４８】
請求項１４に記載の発明によれば、第２補正手段は、表現可能形状を、第２判定ステップにおいて表現可能形状の大きさに分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更し、その変更後の形状を分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータを作成する。
【００４９】
請求項１５に記載の発明によれば、第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンが作成され、その縮小パターンが分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定され、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータが作成される。
【００５０】
請求項１６に記載の発明によれば、第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の相違値が誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンが作成され、その縮小パターンにより表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータが作成される。
【００５１】
請求項１７に記載の発明によれば、記録媒体には、請求項１乃至９のうちのいずれか１項に記載のステップよりなるプログラムが記録され提供される。
【００５２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した一実施の形態を図１〜図４２に従って説明する。
図３は、露光データ作成装置の概略構成図である。露光データ作成装置３１は、中央演算処理装置（以下、ＣＰＵという）３２、メモリ装置３３、ＭＴ装置３４、端末装置３５、ディスク装置３６を備え、各装置３３〜３６はＣＰＵ３２に接続されている。
【００５３】
ディスク装置３６には、図１に示す露光データ作成処理のプログラムデータが予め記憶されている。その露光データ作成処理のプログラムデータは、図３の記録媒体としての磁気テープ（ＭＴ）３７に記録されている。磁気テープ３７は、ＭＴ装置３４にセットされ、ＣＰＵ３２はＭＴ装置３４により磁気テープ３７からプログラムデータを読み出し、ディスク装置３６に格納する。そして、ＣＰＵ３２は、端末装置３５の操作に基づいて起動され、図１，２の各ステップに従って露光データ作成処理を実行する。
【００５４】
図３のディスク装置３６には、図１に示す第１データファイル４１が記憶されている。第１データファイル４１には、例えば図示しないＣＡＤ装置により回路設計及びレイアウト設計されたメモリ等の繰り返しの多いパターンを含む半導体装置（ＬＳＩ）チップの設計データが予め格納されている。図３のＣＰＵ３２は、データフィル４１から設計データであるパターンデータを入力し、そのパターンデータに基づいて図１に示される露光データ作成処理を実行する。
【００５５】
また、図３中のディスク装置３６には、図１に示す第２〜第７データファイル４２〜４７が格納される。ＣＰＵ３２は、図１に示されるフローチャートのステップＳ１〜Ｓ８に従って露光データ作成処理を実行し、その処理において作成した各データを第２〜第７データファイル４２〜４７に格納する。
【００５６】
即ち、図１に示されるステップＳ１は処理データ入力処理（処理データ入力手段）であって、図３中のＣＰＵ３２は、データフィル４１からパターンデータを基データとして入力する。
【００５７】
次に、図１に示されるステップＳ２において、ＣＰＵ３２は、全てのパターンデータに対して、所定の図形処理、例えば、ＯＲ処理、サイジング処理、リサイズ処理等のように、ＬＳＩの露光データを作成する上で必要となる図形処理を施す。また、ＣＰＵ３２は、５角形以上の多角形のレイアウトデータに対してパターン分割処理を施し、三角形のレイアウトデータと四角形のレイアウトデータに分割する。そして、ＣＰＵ３２は、処理後のレイアウトデータを中間データとしてディスク装置３６上の第２データファイル４２に格納する。中間データの格納を終了すると、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２からステップＳ３に移る。
【００５８】
次に、図１に示されるステップＳ３において、ＣＰＵ３２は、第２データファイル４２から中間データを入力する。中間データの入力を終了すると、ＣＰＵ３２は、ステップＳ３からステップＳ４に移る。
【００５９】
ステップＳ４は繰り返しデータ抽出処理（繰り返しデータ抽出手段）であって、図３中のＣＰＵ３２は、入力した中間データから繰り返し性のあるレイアウトパターンデータを認識及び抽出する。そして、ＣＰＵ３２は、抽出したレイアウトパターンデータを繰り返しブロックデータとして図１中の第４データファイル４４に格納する。
【００６０】
また、ＣＰＵ３２は、入力した中間データから繰り返しブロックデータを除くレイアウトパターンデータを第１パターンデータとして第３データファイル４３に格納する。そして、繰り返しブロックデータ，第１パターンデータの格納を終了すると、ＣＰＵ３２は、図１に示されるステップＳ４からステップＳ５に移る。
【００６１】
ステップＳ５は分割ブロックデータ入力処理であって、図３中のＣＰＵ３２は、図４４のステンシルマスク１２に搭載する分割ブロックパターンの形状データを入力する。形状データの入力を終了すると、ＣＰＵ３２は、ステップＳ５からステップＳ６に移る。
【００６２】
ステップＳ６は、形状補正処理（形状補正手段）であり、先ずＣＰＵ３２は、第３データファイル４３に格納された第１パターンデータを入力する。次に、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状認識を行い、第１パターンデータの形状が表現可能形状か表現不可形状かを判断する。その判断結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、表現不可形状の第１パターンデータを表現可能形状のデータに補正する。
【００６３】
詳しくは、ＣＰＵ３２は、先ず第１パターンデータの形状を表現可能形状への補正が可能かを判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、補正可能な場合に、第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正し、補正後のデータを第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納する。
【００６４】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータと、ステップＳ５にて入力した分割ブロックパターンの形状データとを比較する。その比較結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判断する。
【００６５】
補正可能な場合、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンの形状に補正し、その補正後のデータを分割ブロックパターンデータとして第６データファイル４６に格納する。このように、分割ブロックパターンに補正することにより、分割ブロックを用いた露光が可能となる。これにより、矩形パターンにショット分割する場合に比べて、斜辺を精度良く露光することができるとともに、ショット数が少なくなる。
上記した表現可能形状への補正が可能か否かを判定した判定結果に基づいて、第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正不可能な場合、図３中のＣＰＵ３２は、図１のステップＳ６からステップＳ７に移る。そのステップＳ７はショット分割処理であって、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータを矩形パターンにてショット分割する。ＣＰＵ３２は、ショット分割により生成したデータを第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納する。
【００６６】
全ての第１パターンデータに対して補正処理又はショット分割処理を施すと、図３中のＣＰＵ３２は、図１のステップＳ６，Ｓ７からステップＳ８に移る。
ステップＳ８は露光データ作成処理である。ここで、図３中のＣＰＵ３２は、第４〜第６データファイル４４〜４６から各パターンデータを読み込み、各データを露光データに変換する。そして、ＣＰＵ３２は、その露光データを図１の第７データファイル４７に格納する。その後、ＣＰＵ３２は露光データ作成処理を終了する。
【００６７】
第７データファイル４７に格納された露光データは、露光媒体としてのウェハ２３を露光する場合に利用される。即ち、図２２に示す露光装置において、第７データファイル４７に格納された露光データに基づいて、第１〜第３電磁偏向器１９〜２１及びステージ２２が制御され、ウェハ２３の所定位置に所望の露光パターンが露光される。
【００６８】
表現不可形状を分割ブロックパターンの形状に補正することにより、矩形パターンによるショット分割を行う場合に比べてショット数が少なくなる。これにより、ウェハ１枚当たりの露光時間が短縮される。
【００６９】
次に、図１中のステップＳ６における形状補正処理を、図２に示すフローチャートのステップＳ１１〜Ｓ２０に従って詳述する。
先ず、図２に示されるステップＳ１１〜Ｓ２０は図１中のステップＳ６における形状補正処理のサブステップである。先ず、図３中のＣＰＵ３２は、図２中のステップＳ１１で第３データファイル４３に格納された第１パターンデータを読み込む。そのデータの読み込みを終了すると、ＣＰＵ３２は図２のステップＳ１１からステップＳ１２に移る。
【００７０】
ステップＳ１２は形状認識処理（形状認識手段）であり、図３のＣＰＵ３２は、ステップＳ１１で入力した１つのパターンデータに対する形状認識処理を行う。この形状認識処理において、ＣＰＵ３２は、入力した第１パターンデータの形状が三角形か四角形かを判断する。第１パターンデータの形状によって、補正処理の方法が異なるからである。ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状を認識すると、図２のステップＳ１２からステップＳ１３に移る。
【００７１】
ステップＳ１３は矩形判定処理（矩形判定手段）であり、図３のＣＰＵ３２は、ステップＳ１２において認識した第１パターンデータの形状が矩形か否かを判定する。矩形は表現可能形状である。従って、ＣＰＵ３２は、矩形形状の第１パターンデータに対して形状補正処理を行う必要がない。そのため、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状が矩形の場合、次の第１パターンデータを読み込むためにステップＳ１３からステップＳ２０に移る。そして、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状が矩形ではない場合にその第１パターンデータに対する形状補正処理を行うためにステップＳ１３からステップＳ１４に移る。
【００７２】
ステップＳ１４は変化量計算処理（変化量計算手段）であり、図３のＣＰＵ３２は、表現可能形状への補正が可能か否かを判断するための補正判定値とする変化量を求める。変化量は、第１パターンデータの形状を表現可能形状に変形した場合に、元の第１パターンデータの形状と変形後の形状の差である。パターンデータの形状は、辺の座標値、辺の角度等によりに示される。尚、本実施形態では第１パターンデータの辺の座標値と表現可能形状の辺の座標値の差を変化量とする。
【００７３】
そして、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータに含まれる各辺のうち、その第１パターンデータの形状に応じた辺を特定する。特定する辺は、第１パターンデータの形状が三角形の場合、最も大きな角度の内角を構成する２辺であり、その形状が四角形の場合には相対向する２辺である。ＣＰＵ３２は、特定した辺を水平（Ｘ軸と平行）又は垂直（Ｘ軸に対して垂直であってＹ軸と平行）に変更するときの変化量を求める。
【００７４】
例えば、第１パターンデータの形状が図４（ａ）に実線で示す三角形の場合、第１パターンデータは、辺Ａ，Ｂ，Ｃのデータを含む。辺Ａ，Ｂ，Ｃは、両端の座標値（＝各頂点の座標値）にてそれぞれの位置が指定される。従って、第１パターンデータは、辺Ａ〜Ｃを示す座標値（＝各頂点の座標値）を格納するための領域を含む。
【００７５】
図４（ａ）において、辺Ａ〜Ｃのうち、最も大きな角度の内角を構成する２辺は辺Ａ，Ｂである。そして、図４（ａ）では、辺Ａは水平である。従って、図３のＣＰＵ３２は、形状補正処理において、第１パターンデータの形状を、図４（ａ）に一点差線で示す直角三角形の表現可能形状に補正する。この場合、ＣＰＵ３２は、辺Ｂが辺Ａと直角をなすように、辺Ｂ，Ｃに挟まれた頂点Ｔ１を表現可能形状の頂点Ｔ２まで各辺Ｂ，Ｃを移動させる。
【００７６】
そして、第１パターンデータの頂点Ｔ１の座標値（ｘ１，ｙ１）と、表現可能形状の頂点Ｔ２の座標値（ｘ２，ｙ２）の差ΔＸ（＝ｘ１−ｘ２），Δｙ（＝ｙ１−ｙ２）を辺Ｂにおける変化量とする。そして、この辺Ｂにおける変化量を、変化量ＢΔｘ，ＢΔｙとして表す。尚、辺Ａが水平ではない場合、ＣＰＵ３２は、辺Ｂと同様に辺Ａにおける変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを求める。
【００７７】
また、第１パターンデータの形状が図４（ｂ）に実線で示す四角形の場合、第１パターンデータは辺Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄのデータを含む。図３のＣＰＵ３２は、形状補正処理において、第１パターンデータの形状を、図４（ｂ）に一点鎖線で示す四角形（図４（ｂ）では平行四辺形）の表現可能形状に補正する。この場合、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｂ，Ｃを移動させると共に、辺Ａ，Ｃを平行にする。従って、図４（ｂ）に示す形状の第１パターンデータの場合、辺Ａ，Ｃの右端点の座標値のＹ軸方向の差Δｙが変化量となる。
【００７８】
また、変化量として第１パターンデータの辺の角度と表現可能形状の辺の角度の差（図４（ａ）に示す角度θ）、第１パターンデータの辺と表現可能形状の辺に挟まれた領域の面積（図４（ａ）にハッチングにて示した領域の面積）を用いても良い。
【００７９】
図３中のＣＰＵ３２は、図２のステップＳ１１において読み込んだ第１パターンデータに対する変化量を求めると、図２のステップＳ１４からステップＳ１５に移る。
【００８０】
ステップＳ１５は第１補正判定処理（第１補正判定手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、ステップＳ１４にて求めた第１パターンデータの変化量と予め設定した誤差範囲値により、第１パターンデータの形状が表現可能形状に補正可能か否か判定する。誤差範囲値は、変形後の形状の第１パターンデータに基づいて実際のパターンを形成した場合に、そのパターンがＬＳＩの性能に影響を与えない範囲の値である。
【００８１】
例えば、補正後の第１パターンデータに基づいて形成した実際の配線パターンが設計上の第１パターンデータの形状よりもはるかに大きく隣接するパターン等に近づいた場合、両パターン間の信号が干渉する。また、実際のパターンの幅が第１パターンデータのそれよりも極端に狭くなると、そのパターンを通過する信号が大きく減衰する。これらは、ＬＳＩの性能に影響を与える。
【００８２】
従って、第１パターンデータの変化量が所定の範囲値内にある時、その第１パターンデータに基づいて形成される実際の配線パターン等は、ＬＳＩの性能に影響を与えない。このような範囲を示す値が誤差範囲値である。
【００８３】
図３中のＣＰＵ３２は、第１パターンデータの変化量が誤差範囲値以内である場合、その第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正可能であると判定する。その場合、ＣＰＵ３２は、補正処理を行うために図２のステップＳ１５からステップＳ１６へ移る。
【００８４】
一方、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの変化量が誤差範囲値を越えている場合、その第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正不可能であると判定する。その場合、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータをショット分割するために図２のステップＳ１５からステップＳ７へ移る。
【００８５】
ステップＳ１６は第１補正処理（第１補正手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正する。そして、ＣＰＵ３２は、補正後の第１パターンデータを第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納する。
【００８６】
具体的には、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータに含まれる各辺の座標値を格納するための領域に、表現可能形状を構成する辺の座標値を格納する。例えば、図４（ａ）に示す形状の場合、第１パターンデータに含まれる辺Ｂ，Ｃの座標値（ｘ１，ｙ１）が格納された領域に座標値（ｘ２，ｙ２）を格納する。そして、この座標値（ｘ２，ｙ２）を含む第１パターンデータを第２パターンデータとして図２の第５データファイル４５に格納する。第２パターンデータの格納を終了すると、図３中のＣＰＵ３２は、ステップＳ１６からステップＳ１７に移る。
【００８７】
ステップＳ１７は相違値計算処理（相違値計算手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状をブロックパターンの形状に補正可能であるか否かを判定するために用いる相違値を計算する。相違値は、第２パターンデータの形状とブロックパターンの形状の差分であり、本実施形態では上記した変化量と同様に、両図形の頂点の座標値の差である。尚、変化量と同様に、相違値に角度、面積が用いられても良い。
【００８８】
この相違値計算処理について詳述すれば、先ず、図３中のＣＰＵ３２は、第５データファイル４５に格納した第２パターンデータを読み込む。そして、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状に類似した形状、又は組み合わせにより第２パターンデータの形状を表現することができる形状のブロックパターンを選択する。
【００８９】
例えば、第２パターンデータの形状が直角三角形の場合、ＣＰＵ３２は、その直角三角形と相似した直角三角形の透過孔を有するブロックパターンを選択する。第２パターンデータの形状が平行四辺形の場合、ＣＰＵ３２はその平行四辺形と相似した平行四辺形の透過孔を有するブロックパターンを選択する。平行四辺形は、直角三角形を組み合わせることにより表現可能である。従って、ＣＰＵ３２は、組み合わせにより平行四辺形を表現することができる直角三角形の透過孔を有するブロックパターンを選択する。
【００９０】
図６は、登録された分割ブロックパターンを示す。各分割ブロックパターンは、それぞれ所定の形状の透過孔（図のハッチング部分）を有している。そして、各ブロックパターンには、それぞれ固有のブロック番号が付けられている。このブロック番号は、図５に示す分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ａに格納される。そして、図４３に示すブロック露光装置は、分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ａに格納されたブロック番号に基づいて図４４に示すステンシルマスク１２に搭載されたブロック領域１５のうち、該当する透過孔１７が形成されたブロック領域１５を選択する。これにより、ブロック番号に対応する形状のパターンが図４３のウェハ２３に露光される。尚、露光データには、図５に示す分割ブロックパターンデータ５２以外に、繰り返しブロックデータ５１、パターンデータ５３が含まれる。
【００９１】
次に、ＣＰＵ３２は、選択したブロックパターンの大きさを、第２パターンデータの大きさと同じにする。具体的には、ＣＰＵ３２は、選択したブロックパターンのデータをＸ，Ｙ方向に拡大又は縮小し、そのＸ，Ｙ方向のサイズを第２パターンデータの形状のＸ，Ｙ方向のサイズと同じにする。そして、ＣＰＵ３２は、拡大又は縮小したブロックパターンの各辺の座標値と、第２パターンデータの各辺の座標値の差を計算する。
【００９２】
ステップＳ１８は第２補正判定処理（第２補正判定手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状が分割ブロックパターンデータの形状に補正可能か否かを判定する。このとき、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１７において求めた第２パターンデータの相違値と予め設定した誤差範囲値とを比較する。そして、ＣＰＵ３２は、相違値が誤差範囲値内の場合に第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンデータの形状に補正可能であると判定する。その場合、ＣＰＵ３２は、補正処理を行うために図２のステップＳ１８からステップＳ１９へ移る。
【００９３】
一方、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータの相違値が誤差範囲値を越えている場合、その第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンデータの形状に補正不可能であると判定する。そして、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１８からステップＳ２０に移る。
【００９４】
この場合、ＣＰＵ３２は、図１のステップＳ８において第２パターンデータを露光データにデータ変換し、その露光データを第７データファイル４７に格納する。この露光データは形状を示すデータであるため、露光データのデータ量はショット分割した場合のデータ量に比べて少ない。そして、露光データは、入力したデータから所定の矩形パターンに矩形分割した分割データを作成し、その作成した分割データに基づいて露光を行う。
【００９５】
ステップＳ１９は第２補正処理（第２補正手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、ステップＳ１８において補正可能と判断した第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンデータの形状に変更する補正処理を行う。そして、補正処理後のデータを分割ブロックパターンデータとして第６データファイル４６に格納する。
【００９６】
このとき、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータのデータ形式を分割ブロックパターンデータのデータ形式に変更し、第６データファイル４６に格納する。
図５は、露光データ作成処理にて扱われる各データのデータ形式を示す。
【００９７】
繰り返しブロックデータ５１は、図４４の「繰り返しブロック」である第２透過孔１６が形成されたブロック領域を用いて繰り返し性のあるパターンを露光するためのデータである。分割ブロックデータ５２は、図４４の分割ブロックである第３透過孔１７が形成されたブロック領域を用いてパターンを露光するためのデータである。第１パターンデータは、繰り返しブロックデータとならない、即ち繰り返しブロックを用いることができない形状のパターンを露光するためのデータである。第２パターンデータは、分割ブロックパターンデータとはならない、即ち、分割ブロックを用いることができない形状のパターンを露光するためのデータである。
【００９８】
繰り返しブロックデータ５１は、ステンシルマスク上に搭載されている繰り返しブロックの番号、ブロックの種類、チップ上の配置位置のデータを格納するための領域５１ａ〜５１ｄを有する。
【００９９】
分割ブロックパターンデータ５２は、ステンシルマスク上に搭載されている分割ブロックの番号とブロックの種類、その分割ブロックで露光されるパターンデータの情報（ブロックの形状、配置位置、大きさ）を格納するための領域５２ａ〜５２ｆを有する。
【０１００】
パターンデータ５３は、第１，第２パターンデータであり、パターンの形状、配置位置、パターンの大きさのデータを格納するための領域５３ａ〜５３ｄを有する。
【０１０１】
図３中のＣＰＵ３２は、パターンデータ５３の領域５３ａ〜５３ｄに格納されたデータを分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ｃ〜５２ｆに格納するとともに、分割ブロックパターンデータ５２に固有の領域５２ａ，５２ｂにそれぞれ対応する情報を格納する。
【０１０２】
即ち、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ａに、図２のステップＳ１７において選択したブロック番号を格納する。ＣＰＵ３２は、領域５２ｂに分割ブロックを示す情報を格納し、領域５２ｃに露光する第１パターンデータの形状を示す情報を格納する。更に、ＣＰＵ３２は、パターンデータ５３の領域５３ｂ〜５３ｄに格納された配置座標（ｘ、ｙ）とパターンの大きさをそれぞれ分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ｄ〜５２ｆに格納する。
【０１０３】
上記のステップＳ１４〜Ｓ１９の処理を、図７〜図１０に従って説明する。
先ず、第１パターンの形状が三角形の場合を、図７，図８に従って説明する。図７（ａ）は、図２のステップＳ１１において第３データファイル４３から読み出された三角形の第１パターン６１を示す。先ず、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターン６１に対する変化量を求める。この第１パターン６１の場合、最も大きな角度の内角を構成する辺Ａ，Ｂを特定する。そして、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｂにおける変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙを求める。ここで、第１パターン６１において、辺Ａは水平であるため、ＣＰＵ３２は、辺Ａにおける変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを共に「０」とする。
【０１０４】
次に、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１５において求めた辺Ｂにおける変化量ＢΔｘ，ＢΔｙが誤差範囲値内であるか否かを判定し、その判定結果に基づいて第１パターンデータ６１を図７（ｂ）に一点鎖線で示す表現可能形状の第２パターンデータ６１ａに補正する。
【０１０５】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターン６１ａの形状に類似した形状の透過孔を有する分割ブロックパターンを選択する。この場合、ＣＰＵ３２は、図６に示す番号「２」の分割ブロックパターンＢＰを選択する。この分割ブロックパターンＢＰ（２）を図７（ｂ）に点線で示す。尚、括弧内の数字は、選択した番号「２」を示す。
【０１０６】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターン６１ａの形状を分割ブロックパターンＢＰ（２）の形状に補正可能か否かを判定するために両形状の相違値を求める。図７（ｂ）の場合、ＣＰＵ３２は、透過孔領域６２の大きさを拡大した拡大パターン６３を生成する。この拡大パターン６３の底辺の長さは、辺Ａの長さと一致する。そして、ＣＰＵ３２は、辺Ｂ１とその辺Ｂ１に対応する拡大パターン６３の辺のＹ軸方向の長さの差（＝Δｙ）を相違値として求める。ＣＰＵ３２は、相違値Δｙが誤差範囲値内であるため、図２のステップＳ１８において第２パターンの形状を分割ブロックパターンＢＰ（２）の形状に補正可能であると判定し、ステップＳ１９の第２補正処理を実施する。このようにして、図７（ｃ）に示すように、元の第１パターン６１を分割ブロックパターンＢＰ（２）を用いて露光することとする。
【０１０７】
この第２補正処理において、ＣＰＵ３２は、図８に示すデータ形式にて分割ブロックパターンデータを図２の第６データファイル４６に格納する。即ち、ＣＰＵ３２は、領域６４ａに選択したブロックパターンデータＢＰ（２）の番号「２」を、領域６４ｂにブロックの種類である「分割」を示す情報を、領域６４ｃにパターン形状である「三角形」を示す情報を格納する。更に、ＣＰＵ３２は、領域６４ｄ，６４ｅに第２パターンを配置するＸ座標，Ｙ座標を、領域６４ｆに第２パターンの大きさを示す情報を格納する。
【０１０８】
次に、第１パターンの形状が四角形の場合を、図９，図１０に従って説明する。
図９（ａ）は、図２のステップＳ１１において第３データファイル４３から読み出された四角形の第１パターン７１を示す。先ず、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターン７１に対する変化量を求める。この第１パターン７１の場合、ＣＰＵ３２は、垂直又は水平な辺とその辺に対向する辺を特定する。
【０１０９】
図９（ａ）において、辺Ｄが垂直である。従って、ＣＰＵ３２は、辺Ｂ，Ｄを特定する。ＣＰＵ３２は、辺Ｂを垂直に補正可能であるか否かを判定するために、辺Ｂにおける変化量ＢΔｘを求める。そして、ＣＰＵ３２は、求めた変化量ＢΔｘと誤差範囲値とを比較し、第１パターン７１を表現可能形状に補正可能か否かを判定する。
【０１１０】
次に、ＣＰＵ３２は、第１パターン７１を表現可能形状の内の平行四辺形に補正可能か否かを判定する。ＣＰＵ３２は、辺Ｂを垂直に補正した場合における斜辺の辺Ａ，Ｃの相違値を求める。この場合、ＣＰＵ３２は、図９（ｂ）に示すように、辺Ａ，Ｃの一端を重ね合わせ、他端の座標値の差を相違値Δｙ１を求める。ＣＰＵ３２は、求めた相違値Δｙ１が誤差範囲値以下であれば第１パターン７１の形状を平行四辺形に補正し、相違値Δｙ１が誤差範囲値以上のであれば台形に補正する。
【０１１１】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターン７２の形状に類似した形状の透過孔を有する分割ブロックパターンを選択する。この場合、ＣＰＵ３２は、図６に示す番号「１１」の分割ブロックパターンＢＰを選択する。この分割ブロックパターンＢＰ（１１）を図９（ｃ）に点線で示す。
【０１１２】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターン７２の形状を分割ブロックパターンＢＰ（１１）の形状に補正可能か否かを判定するために両形状の相違値を求める。図９（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、透過孔領域７３の大きさを拡大した拡大パターン７４を生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン７４の左辺の長さを、辺Ｄの長さと一致させる。ＣＰＵ３２は、辺Ａ１（又は辺Ｃ１）におけるＹ軸方向の差（＝Δｙ２）を相違値として求める。ＣＰＵ３２は、相違値Δｙ２が誤差範囲値内であるため、図２のステップＳ１８において第２パターンの形状を分割ブロックパターンＢＰ（１１）の形状に補正可能であると判定し、ステップＳ１９の第２補正処理を実施する。このようにして、図９（ｄ）に示すように、第２パターン７２を分割ブロックパターンＢＰ（１１）を用いて露光することとする。
【０１１３】
この第２補正処理において、ＣＰＵ３２は、図１０に示すデータ形式にて分割ブロックパターンデータを図２の第６データファイル４６に格納する。即ち、ＣＰＵ３２は、領域７５ａに選択した分割ブロックパターンＢＰ（１１）の番号「１１」を、領域７５ｂにブロックの種類である「分割」を示す情報を、領域７５ｃにパターン形状である「平行四辺形」を示す情報を格納する。更に、ＣＰＵ３２は、領域７５ｄ，７５ｅに第２パターンを配置するＸ座標，Ｙ座標を、領域７５ｆにパターンの大きさを示す情報を格納する。
【０１１４】
ステップＳ２０は終了判定処理（終了判定手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、全ての第１パターンデータに対する形状補正処理を終了したか否かを判定する。ＣＰＵ３２は、まだ処理を行っていない第１パターンデータが存在している場合、図２のステップＳ２０からステップＳ１１に移る。そして、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１１において、次の第１パターンデータを第３データファイル４３から読み込む。
【０１１５】
即ち、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１１からステップＳ２０のループを繰り返し実行する。そして、ＣＰＵ３２は、全ての第１パターンデータに対して補正処理を実施した場合、形状補正処理を終了する。
【０１１６】
次に、図２中のステップＳ１４〜Ｓ１９の各処理を、第１パターンデータの形状に対応して詳述する。
［第１パターンデータの形状が三角形の場合］
先ず、第１パターンデータの形状が三角形の時の形状補正処理を、図１１のフローチャート及び図１２〜図１６に従って詳述する。
【０１１７】
（１）第１パターンデータの形状が図１２（ａ）に示す形状の場合。
図１１のステップＳ２１〜Ｓ２３は、図２のステップＳ１４のサブステップであり、変化量計算処理である。また、図１１のステップＳ２４，Ｓ２５は、図２のステップ１５のサブステップであり、第１補正判定処理である。更に、図１１のステップＳ２６〜Ｓ２９は、図２のステップＳ１６〜Ｓ１９にそれぞれ対応している。
【０１１８】
先ず、図１１のステップＳ２１において、図３中のＣＰＵ３２は、図１２（ａ）に示す三角形形状の第１パターン８１の内角の内、最も大きい角度を構成している辺Ａと辺Ｂを求める。次に、ステップＳ２２において、ＣＰＵ３２は、辺Ａの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを求める。この時、辺Ａは水平であるため、ＣＰＵ３２は、変化量ＡΔｙを「０」とする。更に、ＣＰＵ３２は、辺Ａの端点を水平方向に移動させないため、変化量ＡΔｘを「０」とする。同様に、ステップＳ２３において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂの変化量ＢΔｘ，ＢΔｙを求める。
【０１１９】
ステップＳ２４において、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｂの変化量ＡΔｙ，ＢΔｘが共に誤差範囲値以下であるため、第１パターン８１が表現可能形状に補正可能であると判断する。そして、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２４からステップＳ２５に移る。そのステップＳ２５において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂを垂直に補正した時に辺Ａと辺Ｂが構成する内角が９０度となるため、ステップＳ２５からステップＳ２６に移る。
【０１２０】
ステップＳ２６において、ＣＰＵ３２は、第１パターン８１の形状から辺Ｂを垂直にした直角三角形の形状に補正変更した第２パターン８１ａ（図１２（ｂ）参照）を生成する。更に、ＣＰＵ３２は、補正変更後の第２パターンの形状を示すデータを第２パターンデータとして図１１の第５データファイル４５に格納する。そして、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２６からステップＳ２７に移る。
【０１２１】
次に、ステップＳ２７において、ＣＰＵ３２は、補正により生成した第２パターン８１ａに類似する分割ブロックパターンを選択する。この場合、ＣＰＵ３２は、図６中のブロック番号２の分割ブロックパターンＢＰを選択する。そして、ＣＰＵ３２は、第２パターン８１ａの形状と選択した分割ブロックパターンＢＰ（２）の形状との比較を行う。
【０１２２】
この時、図１２（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンＢＰ（２）の透過孔の形状を補正後の第２パターン８１ａの大きさまで拡大した拡大パターン８１ｂを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した拡大パターン８１ｂと第２パターン８１ａを重ね合わせて、先端の差分Δｙを求める。この差分Δｙを相違値と呼ぶ。
【０１２３】
ステップＳ２８において、ＣＰＵ３２は、求めた相違値（＝Δｙ）が誤差範囲値以内であるため第２パターン８１ａを分割ブロックパターンＢＰ（２）の形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２８からステップＳ２９へ移る。
【０１２４】
ステップＳ２９において、ＣＰＵ３２は、図１２（ｄ）に示すように、第２パターン８１ａの斜辺の傾きを分割ブロックパターンＢＰ（２）と同じ傾きに補正変更する。そして、ＣＰＵ３２は、補正変更した第２パターン８１ａのための分割ブロックパターンデータ８２（図１３参照）を作成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ８２を図１１の第６データファイル４６に格納する。そして、分割ブロックパターンデータの格納を終了すると、ＣＰＵ３２は、形状補正処理を終了する。
【０１２５】
（２）第１パターンデータの形状が図１４（ａ）に示す形状の場合。
図１１のステップＳ２１において、図３中のＣＰＵ３２は、図１４（ａ）に示す三角形形状の第１パターン８３の内角のうち、最も大きい角度を構成している辺Ａと辺Ｂを求める。次に、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２２において辺Ａの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを求め、ステップＳ２３において辺Ｂの変化量ＢΔｘ，ＢΔｙを求める。
【０１２６】
ステップＳ２４において、ＣＰＵ３２は、辺Ａの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙが共に誤差範囲値より大きいため、第１パターン８３の形状を表現可能形状に補正不可能と判断する。そして、ＣＰＵ３２は、図１１のステップＳ２４からステップＳ７に移る。
【０１２７】
ステップＳ７において、ＣＰＵ３２は、図１４（ｂ）に示すように、第１パターン８３を複数の短冊状の矩形パターン８４にショット分割する。そして、ＣＰＵ３２は、複数の矩形パターン８４のパターンデータを第２パターンデータとして図１１の第５データファイル４５に格納する。そして、第２パターンデータの格納を終了すると、ＣＰＵ３２は、形状補正処理を終了する。
【０１２８】
（３）第１パターンデータの形状が図１５（ａ）に示す形状の場合。
図１１のステップＳ２１において、図３中のＣＰＵ３２は、図１５（ａ）に示す三角形形状の第１パターン８５の内角のうち、最も大きい角度を構成している辺Ａと辺Ｂを求る。次に、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２２において辺Ａの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを求め、ステップＳ２３において辺Ｂの変化量ＢΔｘ，ＢΔｙを求める。
【０１２９】
ステップＳ２４において、ＣＰＵ３２は、辺Ａの変化量ＡΔｘと辺Ｂの変化量ＢΔｙが共に誤差範囲値以内であるため、第１パターン８５の形状を表現可能形状に補正可能と判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２４からステップＳ２５に移る。そのステップＳ２５において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂを水平な辺Ｂ１に補正したとき、辺Ａと辺Ｂ１が構成する内角は９０度であるため、ステップＳ２５からステップＳ２６に移る。
【０１３０】
ステップＳ２６において、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｂ１を含む直角三角形に形状を変更した第２パターン８５ａ（図１５（ｂ）参照）を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した第２パターン８５ａのパターンデータを第２パターンデータとして図１１の第５データファイル４５に格納する。そして、ＣＰＵ３２は、ステップ２６からステップ２７に移る。
【０１３１】
次に、ステップＳ２７において、ＣＰＵ３２は、第２パターン８５ａに類似したブロック番号８のブロックパターンＢＰ（図６参照）を選択する。そして、ＣＰＵ３２は、図１５（ｃ）に示すように、分割ブロックパターンＢＰ（８）を拡大した拡大パターン８５ｂを生成し、その拡大パターンと第２パターン８５ａを比較して相違値Δｘを求める。
【０１３２】
ステップＳ２８において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２７において求めた相違値Δｘが誤差範囲値以内であるため、第２パターン８５ａを分割ブロックパターンＢＰ（８）の形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２８からステップＳ２９へ移る。
【０１３３】
ステップＳ２９において、ＣＰＵ３２は、図１５（ｄ）に示すように、第２パターン８５ａの斜辺の傾きを分割ブロックパターンＢＰ（８）と同じ傾きに補正変更する。そして、ＣＰＵ３２は、補正変更した第２パターン８５ｂのための分割ブロックパターンデータ８６（図１６参照）を生成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ８６を図１１の第６データファイル４６に格納する。
【０１３４】
［第１パターンデータの形状が四角形であり、四角形の分割ブロックパターンに補正する場合］
次に、第１パターンデータの形状が四角形の時の形状補正処理を詳述する。
【０１３５】
第１パターンデータの形状が四角形の場合、補正に用いる分割ブロックパターンの形状に対応して処理が異なる。先ず、平行四辺形の分割ブロックパターンを用いる場合を、図１７のフローチャート及び図１８〜図２１に従って説明する。
【０１３６】
図１７のステップＳ３１，Ｓ３２は、図２のステップＳ１４のサブステップであり、変化量計算処理である。また、図１７のステップＳ３３〜Ｓ３９は、図２のステップＳ１５のサブステップであり、第１補正判定処理である。更に、図１７のステップＳ４０，Ｓ４４は、図２のステップＳ１６のサブステップであり、第１補正処理である。また、図１７のステップＳ４１〜Ｓ４３は、図２のステップＳ１７〜Ｓ１９にそれぞれ対応している。
【０１３７】
（１）第１パターンデータの形状が図１８（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図１７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図１８（ａ）に示す四角形形状の第１パターン９１を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙ、ＣΔｘ，ＣΔｙ、ＤΔｘ，ＤΔｙを求める。
【０１３８】
次に、ステップＳ３２において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂ，Ｄを判定の対象とし、各辺Ｂ，Ｄの変化量ＢΔｘ，ＤΔｘが誤差範囲値以下か否かを判定する。
次に、ステップＳ３３において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂの変化量ＢΔｘと辺Ｄの変化量ＤΔｘが共に誤差判定値以下であるため、第１パターン９１を表現可能形状に補正可能であると判定する。更に、ＣＰＵ３２は、補正可能な辺の組み合わせが辺Ｂと辺Ｄであるため、ステップＳ３３からステップＳ３４に移る。
【０１３９】
ステップＳ３４において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂを垂直な辺Ｂ１に補正した第２パターン９１ａ（図１８（ｂ）参照）を生成する。次に、ステップＳ３６において、ＣＰＵ３２は、第２パターン９１ａの形状が平行四辺形形状に類似しているか否かを認識するために辺Ａと辺Ｃの傾斜方向が同じであるか否かを判定する。この場合、辺Ａ，Ｃは傾斜方向が同じであるため、ＣＰＵ３２は、図１７のステップＳ３６からステップＳ３８へ移る。
【０１４０】
ステップＳ３８において、ＣＰＵ３２は、斜辺である辺Ａ、辺Ｃを、図１８（ｃ）に示すように、一端（左端）を重ね合わせた時の他端（右端）の座標値の差を相違値Δｙとしてを求める。
【０１４１】
ステップＳ３９において、ＣＰＵ３２は、求めた相違値Δｙが誤差範囲値以内であるため、第２パターン９１ａを平行四辺形に補正可能と判定し、ステップＳ３９からステップＳ４０へ移る。
【０１４２】
ステップＳ４０において、ＣＰＵ３２は、辺Ｃの傾きを辺Ａの傾きに一致させ、第２パターン９１ａの形状を平行四辺形形状に補正変更した第３パターン９１ｂ（図１８（ｄ）参照）を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した第３パターン９１ｂの形状を示すパターンデータを第２パターンデータとして図１７の第５データファイル４５に格納する。
【０１４３】
次に、ステップＳ４１において、ＣＰＵ３２は、補正により生成した第３パターン９１ｂに類似した形状の分割ブロックパターンを選択する。この場合、ＣＰＵ３２は、図６中のブロック番号１２の分割ブロックパターンＢＰを選択する。そして、ＣＰＵ３２は、第３パターン９１ｂの形状と選択した分割ブロックパターンＢＰ（１２）の形状との比較を行う。
【０１４４】
この時、分割ブロックパターンＢＰ（１２）の透過孔形状を第３パターン９１ｂの大きさまで拡大した拡大パターン９１ｃを生成し、その拡大パターン９１ｃと第３パターン９１ｂを重ね合わせ、図１８（ｅ）に示すように先端（右端）の差分である相違値Δｙを求める。
【０１４５】
次に、図１７のステップＳ４２において、ＣＰＵ３２は、求めた相違値Δｙと誤差範囲値を比較する。この場合、相違値Δｙが誤差範囲値以内であるため、ＣＰＵ３２は第３パターン９１ｂの形状を分割ブロックパターンＢＰ（１２）の形状に補正可能と判定し、ステップＳ４２からステップＳ４３へ移る。
【０１４６】
ステップＳ４３において、ＣＰＵ３２は、図１８（ｆ）に示すように、第３パターン９１ｂの斜辺の傾きを分割ブロックパターンＢＰ（１１）と同じに補正変更した補正パターン（この場合は拡大パターン９１ｃと同じ形状であるため同じ符号を付す）９１ｃを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、補正パターン９１ｃのデータを、パターンデータ形式から図１９に示す分割パターンデータ用のデータ形式に変更したデータ９２を生成し、その変更後のデータ９２を分割ブロックパターンデータとして図１７の第６データファイル４６に格納する。
【０１４７】
（２）第１パターンデータの形状が図２０（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図１７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図２０（ａ）に示す四角形形状の第１パターン９３を構成するから４つの辺Ａ〜Ｄの変化量を求める。この第１パターン９３は平行四辺形であるため、ＣＰＵ３２はステップＳ３２，Ｓ３３，Ｓ３４，Ｓ３６の各処理を実行した後、ステップＳ３６からステップＳ３８へ移る。
【０１４８】
ステップＳ３８において、ＣＰＵ３２は、斜辺である辺Ａと辺Ｃを図２０（ｂ）に示すように左端を重ねた時の右端における相違値Δｙを求める。この相違値Δｙは誤差範囲値より大きいため、ＣＰＵ３２は、ステップＳ３９において平行四辺形への補正が不可能と判定し、ステップＳ３９からステップＳ４４へ移る。
【０１４９】
ステップＳ４４において、ＣＰＵ３２は、台形形状のパターンデータとして第１パターン９３のパターンデータを図１７の第５データファイル４５に格納する。
【０１５０】
（３）第１パターンデータの形状が図２１（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図１７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図２１（ａ）に示す四角形形状の第１パターン９４を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量を求める。
【０１５１】
次に、ステップＳ３２において、ＣＰＵ３２は、変化量ＡΔｙ（＝０）のみが誤差範囲値以内であるため、第１パターン９４を表現可能形状に補正不可能と判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ３３からステップＳ７へ移る。
【０１５２】
ステップＳ７において、ＣＰＵ３２は、表現不可形状である第１パターン９４を図２１（ｂ）に示すようにショット分割して複数の矩形パターン９５を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、全ての矩形パターン９５のデータを第２パターンデータとして図１７の第５データファイル４５に格納する。
【０１５３】
［第１パターンデータの形状が四角形であり、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正する場合］
次に、直角三角形の分割ブロックパターンを用いる場合を、図２２のフローチャート及び図２３〜図２６に従って説明する。尚、図２２のフローチャートに示す処理において、図１７のフローチャートと同じ処理については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【０１５４】
図２２のステップＳ３１，Ｓ３２は、図２のステップＳ１４のサブステップであり、変化量計算処理である。また、図２２のステップＳ３３〜Ｓ３９は、図２のステップＳ１５のサブステップであり、第１補正判定処理である。更に、図２２のステップＳ４０，Ｓ４４は、図２のステップＳ１６のサブステップであり、第１補正処理である。また、図２２のステップＳ５１，Ｓ５２は、図２のステップＳ１７のサブステップであり、相違値計算処理である。更にまた、図２２のステップＳ４２，Ｓ５３は、図２のステップＳ１８，Ｓ１９にそれぞれ対応している。
【０１５５】
（１）第１パターンに対する第１補正処理後の形状が図２３（ａ）に示す形状の場合。
図２２のステップＳ３１〜Ｓ３９の各処理は、図１７のそれらの処理と同じであるため説明を省略する。そして、ステップＳ４０において、図３中のＣＰＵ３２は、図２３（ａ）に示すように、第１補正処理を施した平行四辺形形状の第１パターン１０１を生成する。
【０１５６】
次に、図２２のステップＳ５１において、図２３（ａ）に示すように、ＣＰＵ３２は、第１パターン１０１の斜辺である辺Ａを含む第１直角三角形１０１ａを発生させる。ＣＰＵ３２は、この第１直角三角形１０１ａと類似した図６中のブロック番号４の分割ブロックパターンＢＰを選択する。
【０１５７】
図２３（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（４）の透過孔形状の大きさを、第１直角三角形１０１ａの大きさに拡大した拡大パターン１０１ｃを生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１０１ｃと第１直角三角形１０１ａを形状比較し、相違値ＡΔｙを求める。
【０１５８】
次に、ステップＳ５２において、図２３（ａ）に示すように、ＣＰＵ３２は、第１パターン１０１の斜辺である辺Ｃを含む第２直角三角形１０１ｂを発生させる。ＣＰＵ３２は、この第２直角三角形１０１ｂと類似した形状の図６中のブロック番号２の分割ブロックパターンＢＰを選択する。
図２３（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（２）の透過孔形状の大きさを、第２直角三角形１０１ｂの大きさに拡大した拡大パターン１０１ｄを生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１０１ｄと第２直角三角形１０１ｂを形状比較し、相違値ＣΔｙを求める。
【０１５９】
ステップＳ４２において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ５１，５２において求めた相違値ＡΔｙ，ＣΔｙが誤差範囲値以内であるため、第１パターン１０１を分割ブロックパターンの形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ４２からステップＳ５３へ移る。
【０１６０】
ステップＳ５３において、ＣＰＵ３２は、図２３（ｄ）に示すように、第１パターン１０１を分割ブロックパターンＢＰ（４），ＢＰ（２）の透過孔形状と相似の直角三角形形状の分割パターン１０２，１０３にパターン分割する。そして、ＣＰＵ３２は、各分割パターン１０２，１０３のデータ１０２ａ，１０３ａを、パターンデータ形式から図２４に示す分割ブロックパターン形式に変更し、その変更後のデータを分割ブロックパターンデータとして図２２の第６データファイル４６に格納する。
【０１６１】
尚、図２２のステップＳ５３におけるパターン分割処理により、分割の具合によって図２３（ｄ）に示す矩形形状のパターン１０４が生じる場合がある。この場合、ＣＰＵ３２は、生じた矩形形状のパターン１０４のデータ１０４ａを第２パターンデータとして図２２の第５データファイル４５に格納する。
【０１６２】
（２）第１パターンデータの形状が図２５（ａ）に示す形状の場合。
この場合、ＣＰＵ３２は、ステップＳ５１，Ｓ５２において、第１パターン１０５を斜辺である辺Ｂ，Ｄを含む第１，第２直角三角形１０５ａ, １０５ｂを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した第１，第２直角三角形１０５ａ，１０５ｂの類似した図６中のブロック番号５，１の分割ブロックパターンＢＰをそれぞれ選択する。
【０１６３】
そして、ＣＰＵ３２は、図２５（ｃ）、（ｂ）に示すように、それぞれ第１，第２直角三角形１０５ａ，１０５ｂを選択した分割ブロックパターンＢＰ（５）、ＢＰ（１）の透過孔形状を拡大した形状の拡大パターン１０６，１０７と形状比較する。その比較結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、図２３（ｄ）に示すように、第１，第２直角三角形１０５ａ，１０５ｂを補正した補正パターン１０６．１０７を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、補正パターン１０６，１０７の分割ブロックパターンデータ１０６ａ，１０７ａ（図２６参照）を図２２の第６データファイル４６に格納する。また、ＣＰＵ３２は、図２３（ｄ）の補正パターン１０６，１０７に含まれない矩形パターン１０５ｃのパターンデータ１０５ｃａ（図２６参照）を第２パターンデータとして図２２の第５データファイル４５に格納する。
【０１６４】
［第１パターンデータの形状が四角形であり、台形の分割ブロックパターンの形状に補正する場合］
次に、台形の分割ブロックパターンを用いる場合を、図２７のフローチャート及び図２８〜図３１に従って説明する。尚、図２７のフローチャートに示す処理において、図１７，２２のフローチャートと同じ処理については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【０１６５】
図２７のステップＳ３１，Ｓ３２は、図２のステップＳ１４のサブステップであり、変化量計算処理である。また、図２７のステップＳ３３〜Ｓ３７，Ｓ６３は、図２のステップＳ１５のサブステップであり、第１補正判定処理である。更に、図２７のステップＳ６１，Ｓ６４は、図２のステップＳ１６のサブステップであり、第１補正処理である。また、図２７のステップＳ５１，５２は、図２のステップＳ１７のサブステップであり、相違値計算処理である。更にまた、図２７のステップＳ４２，Ｓ６２は、図２のステップＳ１８，Ｓ１９にそれぞれ対応している。
【０１６６】
（１）第１パターンデータの形状が図２８（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図２７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図２８（ａ）に示す四角形形状の第１パターン１１１を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙ、ＣΔｘ，ＣΔｙ、ＤΔｘ，ＤΔｙを求める。
【０１６７】
次に、ステップＳ３２において、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｃを判定の対象とし、各辺Ａ，Ｃの変化量ＡΔｙ，ＣΔｙが誤差範囲値以下か否かを判定する。
次に、ステップＳ３３において、ＣＰＵ３２は、辺Ａの変化量ＡΔｙと辺Ｃの変化量ＣΔｙが共に誤差判定値以下であるため、第１パターン１１１を表現可能形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２はステップＳ３３からステップＳ３５に移る。
【０１６８】
ステップＳ３５において、ＣＰＵ３２は、辺Ｃを水平な辺Ｃ１に補正した第２パターン１１１ａ（図２８（ｂ）参照）を生成する。次に、ステップＳ３７において、ＣＰＵ３２は、第２パターン１１１ａの形状が台形形状か否かを認識するために辺Ｂと辺Ｄの傾斜方向が同じであるかを判定する。この場合、辺Ｂ，Ｄは傾斜方向が異なるため、ＣＰＵ３２は、第２パターン１１１ａを台形と判定し、図２７のステップＳ３７からステップＳ６１へ移る。
【０１６９】
ステップＳ６１において、ＣＰＵ３２は、補正変更した台形形状の第２パターン１１１ａを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した第２パターン１１１ａの形状を示すパターンデータを第２パターンデータとして図２７の第５データファイル４５に格納する。
【０１７０】
次に、ステップＳ５１において、図２８（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、第２パターン１１１ａの辺Ｂを含む第１直角三角形１１１ｂを生成する。ＣＰＵ３２は、この第１直角三角形１１１ｂと類似した図６中のブロック番号７の分割ブロックパターンＢＰを選択する。
【０１７１】
図２８（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（７）の透過孔形状の大きさを第１直角三角形１１１ｂの大きさに拡大した拡大パターン１１２を生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１１２と第１直角三角形１１１ｂを形状比較し、相違値ＢΔｙ２を求める。
【０１７２】
次に、ステップＳ５２において、図２８（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータ１１１ａの辺Ｄを含む第２直角三角形１１１ｃを生成する。ＣＰＵ３２は、この第２直角三角形１１１ｃと類似した図６中のブロック番号３の分割ブロックパターンＢＰを選択する。
【０１７３】
図２８（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（３）の透過孔形状の大きさを第２直角三角形１１１ｃの大きさに拡大した拡大パターン１１３を生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１１３と第２直角三角形１１１ｃを形状比較し、相違値ＤΔｘ２を求める。
【０１７４】
ステップＳ４２において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ５１，５２において求めた相違値ＢΔｙ２，ＤΔｘ２が誤差範囲値以内であるため、第２パターン１１１ａを分割ブロックパターンの形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ４２からステップＳ６２へ移る。
【０１７５】
ステップＳ６２において、ＣＰＵ３２は、図２８（ｄ）に示すように、第２パターン１１１ａを分割ブロックパターンＢＰ（３），ＢＰ（７）の透過孔形状と相似の直角三角形形状の分割パターン１１３，１１２にパターン分割する。そして、ＣＰＵ３２は、各分割パターンのデータを、パターンデータ形式から図２９に示す分割ブロックパターン形式に変更した分割ブロックパターンデータ１１３ａ，１１２ａをそれぞれ生成する。そして、ＣＰＵ３２は、両データ１１３ａ，１１２ａを図２７の第６データファイル４６に格納する。
【０１７６】
尚、図２７のステップＳ６２におけるパターン分割処理により、図２８（ｄ）に示す矩形形状のパターン１１１ｄが残る。ＣＰＵ３２は、矩形パターン１１１ｄのデータ１１１ｄａ（図２９参照）を第２パターンデータとして図２７の第５データファイル４５に格納する。
【０１７７】
（２）第１パターンの形状が図３０（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図２７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図３０（ａ）に示す四角形形状の第１パターン１１４を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙ、ＣΔｘ，ＣΔｙ、ＤΔｘ，ＤΔｙを求める。この第１パターン１１４は、辺Ａ，Ｃが平行である台形形状であるため、ＣＰＵ３２は、ステップＳ３２，Ｓ３３，Ｓ５３，Ｓ３７，Ｓ６１の各処理を実行した後、ステップＳ５１へ移る。
【０１７８】
ステップＳ５１，Ｓ５２において、図３０（ｂ）（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、辺Ｂ，Ｄを含む第１，第２直角三角形１１４ａ，１１４ｂを生成する。しかしながら、第１，第２直角三角形１１４ａ，１１４ｂに類似した分割ブロックパターンは存在しない。そのため、ＣＰＵ３２は、各直角三角形１１４ａ，１１４ｂの各辺における相違値を求めることができない。そのため、ＣＰＵ３２は、ステップＳ４２における判定処理により形状補正処理を終了する。
【０１７９】
この場合、図２７のステップＳ６１において、台形形状の第１パターン１１４のデータ第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納されている。これにより、第１パターン１１４は、露光装置にて第２パターンデータに基づいてショット分割され所望のパターンが露光される。
【０１８０】
（３）第１パターンデータの形状が図３１（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図２７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図３１（ａ）に示す四角形形状の第１パターン１１５を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙ、ＣΔｘ，ＣΔｙ、ＤΔｘ，ＤΔｙを求める。この第１パターン１１５の場合、誤差範囲以内である変化量はＡΔｙだけであるので、ＣＰＵ３２はステップＳ３３において表現可能形状に補正不可能と判定し、ステップＳ３３からステップＳ７へ移る。
【０１８１】
ステップＳ７において、ＣＰＵ３２は、表現不可形状である第１パターン１１５を図３１（ｂ）に示すようにショット分割して複数の矩形パターン１１６を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、全ての矩形パターン１１６のデータを第２パターンデータとして図２７の第５データファイル４５に格納する。
【０１８２】
［ブロック分割による補正処理を行う第１の場合］
次に、分割ブロックパターンを用いてブロック分割により補正処理を行う第１の場合を、図３２のフローチャート及び図３３〜図３６に従って説明する。尚、図２７のフローチャートに示す処理において、図１７，２２のフローチャートと同じ処理については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【０１８３】
図３２のステップＳ７１〜Ｓ７４は、図２のステップＳ１２，Ｓ１４〜Ｓ１６にそれぞれ対応している。また、図３２のステップＳ７５，Ｓ７８は、図２のステップＳ１７のサブステップであり、相違値計算処理である。更に、図３２のステップＳ７６，Ｓ７９は、図２のステップＳ１８のサブステップであり、第２補正判定処理である。また、図３２のステップＳ７７，Ｓ８０，Ｓ８１は、図２のステップＳ１９のサブステップであり、第２補正処理である。
【０１８４】
（１）第１パターンに対する第１補正処理後の形状が図３３（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図３２のステップＳ７１において、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターンの形状認識を行い、その結果に基づいて、第１パターンが矩形形状以外の場合にステップＳ７２における変化量計算処理を実行し変化量を求める。
【０１８５】
次に、ステップＳ７３において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７２において求めた変化量に基づいて、第１パターンの形状を表現可能形状に補正可能か否かを判定する。そして、その判定結果に基づいて、補正可能な場合にＣＰＵ３２はステップＳ７５における第１補正処理を実行する。その第１補正処理により補正された第１パターン１２１の図形を図３３（ａ）に示す。
【０１８６】
次に、図３２のステップＳ７５において、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターン１２１の形状に類似した図６中のブロック番号１９の分割ブロックパターンＢＰを選択する。そして、図３３（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（１９）の透過孔パターンを拡大した拡大パターン１２２を生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１２２と第１パターン１２１を形状比較し、下端の座標値の差を第１相違値Δｘ１として求める。次に、ステップＳ７６において、ＣＰＵ３２は、第１相違値Δｘ１と誤差範囲値を比較する。この時、相違値Δｘ１は誤差範囲値より大きいので、ＣＰＵ３２はステップＳ７６からステップＳ７８に移る。
【０１８７】
ステップＳ７８において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７５における処理とは逆に、第１パターン１２１を分割ブロックＢＰ（１９）のパターンと同じ大きさに縮小した縮小パターン１２２を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、図３３（ｃ）に示すように、縮小パターン１２３と分割ブロックＢＰ（１９）の透過孔パターンを比較し、第２相違値Δｘ２を求める。
【０１８８】
次に、ステップＳ７９において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７８において求めた第２相違値Δｘ２と誤差範囲値を比較する。この場合、相違値Δｘ２は誤差範囲値以内であるため、ＣＰＵ３２はステップＳ７９からステップＳ８０へ移る。
【０１８９】
ステップＳ８０において、ＣＰＵ３２は、図３３（ｄ）に示すように、第１パターン１２１を分割ブロックＢＰ（１９）のパターン１２４のサイズで分割するパターン分割を行う。更に、ＣＰＵ３２は、パターン分割した複数のパターン１２４のための分割ブロックパターン１２４ａ（図３４参照）を生成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ１２４ａを図３２の第６データファイル４６に格納する。
【０１９０】
（２）第１パターンに対する第１補正処理後の形状が図３５（ａ）に示す形状の場合。
先ず、ＣＰＵ３２は、図３２のステップＳ７１〜Ｓ７４の各処理を実行し、図３５（ａ）に示す第１パターン１２５を生成する。
【０１９１】
次に、ステップＳ７５において、ＣＰＵ３２は、第１パターン１２５の形状に類似した図６中のブロック番号１の分割ブロックＢＰを選択する。そして、図３５（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックＢＰ（１）の透過孔パターンを拡大した拡大パターン１２６を生成する。
【０１９２】
ＣＰＵ３２は、拡大パターン１２６と第１パターン１２５を形状比較し、右端の座標値の差を第１相違値Δｙ１として求める。次に、ステップＳ７６において、ＣＰＵ３２は、第１相違値Δｙ１と誤差範囲値を比較する。この時、相違値Δｙ１は誤差範囲値より大きいので、ＣＰＵ３２はステップＳ７６からステップＳ７８に移る。
【０１９３】
ステップＳ７８において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７５における処理とは逆に、第１パターン１２５を分割ブロックＢＰ（１）の透過孔パターンと同じ大きさに縮小した縮小パターン１２７を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、図３５（ｃ）に示すように、縮小パターン１２７と分割ブロックＢＰ（１）の透過孔パターンを比較し、第２相違値Δｙ２を求める。
【０１９４】
次に、ステップＳ７９において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７８において求めた第２相違値Δｙ２と誤差範囲値を比較する。この場合、相違値Δｙ２は誤差範囲値以内であるため、ＣＰＵ３２はステップＳ７９からステップＳ８０へ移る。
【０１９５】
ステップＳ８０において、ＣＰＵ３２は、図３５（ｄ）に示すように、第１パターン１２５を分割ブロックＢＰ（１）のパターン１２８と矩形パターン１２９で分割するパターン分割を行う。更に、ＣＰＵ３２は、パターン分割した複数のパターン１２８のための分割ブロックパターンデータ１２８ａと、矩形パターン１２９のためのパターンデータ１２９ａを生成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ１２８ａを図３２の第６データファイル４６に格納し、パターンデータ１２９ａを第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納する。
【０１９６】
［ブロック分割による補正処理を行う第２の場合］
次に、分割ブロックパターンを用いてブロック分割により補正処理を行う第２の場合を、図３７のフローチャート及び図３８〜図４１に従って説明する。尚、図３７のフローチャートに示す処理において、図３２のフローチャートと同じ処理については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【０１９７】
図３７のステップＳ７１〜Ｓ７６は、図２のステップＳ１２，Ｓ１４〜Ｓ１８にそれぞれ対応している。また、図３７のステップＳ７７，Ｓ８０，Ｓ８１は、図２のステップＳ１９のサブステップであり、第２補正処理である。
【０１９８】
（１）第１補正処理後の形状が図３８（ａ）に示す三角形形状の場合。
先ず、ＣＰＵ３２は、図３２のステップＳ７１〜Ｓ７４の各処理を実行し、図３８（ａ）に示す第１パターン１３１を生成する。
【０１９９】
次に、ステップＳ７５において、ＣＰＵ３２は、第１パターン１３１の形状に類似した図６中のブロック番号１０の分割ブロックＢＰを選択する。そして、図３８（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックＢＰ（１０）の透過孔パターンを拡大した拡大パターン１３２を生成する。
【０２００】
ＣＰＵ３２は、拡大パターン１３２と第１パターン１３１を形状比較し、右端の座標値の差を第１相違値Δｘ１として求める。次に、ステップＳ７６において、ＣＰＵ３２は、第１相違値Δｘ１と誤差範囲値を比較する。この時、相違値Δｘ１は誤差範囲値より大きいので、ＣＰＵ３２はステップＳ７６からステップＳ８２に移る。
【０２０１】
ステップＳ８２において、ＣＰＵ３２は、図３８（ｃ）に示すように、第１パターン１３１と分割ブロックＢＰ（１０）の透過孔形状のパターン１３３の相違値Δｘ２が誤差範囲値を越えた位置で第１パターン１３１を分割する。即ち、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンＢＰ（１０）の透過孔形状に基づくパターン１３３の大きさを、そのパターン１３３と第１パターン１３１との相違値が誤差範囲値を越えないように決定する。
【０２０２】
次に、ステップＳ８３において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ８２において分割したパターン１３３のための分割ブロックパターンデータ１３３ａ（図３９参照）を生成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ１３３ａを図３７の第６データファイル４６に格納する。
【０２０３】
尚、図３８（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、上記のように第１パターン１３１を分割する際に矩形パターン１３４を用いて分割する。ＣＰＵ３２は、この矩形パターン１３４のパターンデータ１３４ａ（図３９参照）を第２パターンデータとして図３７の第５データファイル４５に格納する。
【０２０４】
（２）第１補正処理後の形状が図４０（ａ）に示す四角形形状の場合。
先ず、ＣＰＵ３２は、図３２のステップＳ７１〜Ｓ７４の各処理を実行し、図４０（ａ）に示す第１パターン１３５を生成する。
【０２０５】
次に、ステップＳ７５において、ＣＰＵ３２は、第１パターン１３５の形状に類似した図６中のブロック番号１４の分割ブロックＢＰを選択する。そして、図４０（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックＢＰ（１４）の透過孔パターンを拡大した拡大パターン１３６を生成する。
【０２０６】
ＣＰＵ３２は、拡大パターン１３６と第１パターン１３５を形状比較し、右端の座標値の差を第１相違値Δｙ１として求める。次に、ステップＳ７６において、ＣＰＵ３２は、第１相違値Δｙ１と誤差範囲値を比較する。この時、相違値Δｙ１は誤差範囲値より大きいので、ＣＰＵ３２はステップＳ７６からステップＳ８２に移る。尚、第１パターン１３５を分割ブロックパターンＢＰ（１４）の大きさに縮小した縮小パターン１３７においても、相違値が誤差範囲値以上であるため、図３２に示す補正処理においてはＣＰＵ３２は補正不可能と判定する。
【０２０７】
ステップＳ８２において、ＣＰＵ３２は、図４０（ｃ）に示すように、第１パターン１３５と分割ブロックＢＰ（１４）の透過孔形状のパターン１３８の相違値が誤差範囲値を越えた位置で第１パターン１３５を分割する（図４０（ｄ）参照）。即ち、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンＢＰ（１４）の透過孔形状に基づく縮小パターン１３８の大きさを、その縮小パターン１３８と第１パターン１３５との相違値が誤差範囲値を越えないように決定する。次に、ステップＳ８３において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ８２において分割したパターン１３８のための分割ブロックパターン１３８ａを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ１３８ａを図３７の第６データファイル４６に格納する。
【０２０８】
以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）設計パターンが表現不可形状である場合に、その表現不可形状を表現可能形状に補正可能か否かを判定する。その判定結果に基づいて、補正可能と判定した場合に表現不可形状を表現可能形状に補正した後、その表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する。その判定結果に基づいて、補正可能と判定した場合に表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正するようにした。これにより、露光データのデータ量が少なくなるため、露光装置におけるショット時間を短くすることができる。
【０２０９】
（２）表現不可形状と表現可能形状とを形状比較して変化量を求め、その変化量と予め設定された誤差範囲値を比較して表現不可形状を表現可能形状に補正可能か否かを判定するようにした。その結果、判定のための時間を短縮することができ、露光データの作成に要する時間を短くすることができる。
【０２１０】
（３）分割ブロックパターンの形状の大きさを表現可能形状の大きさに対応させて相違値を求め、その相違値と予め設定された誤差範囲値を比較して表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。その結果、判定のための時間を短縮することができ、露光データの作成に要する時間を短くすることができる。
【０２１１】
（４）表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正不可能と判定した場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンを作成し、その縮小パターンが分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する。そして、その判定結果に基づいて、補正可能と判定した場合に、表現可能形状を縮小パターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータを作成するようにした。その結果、多くの種類のパターンから分割ブロックパターンデータを生成することができるため、露光データのデータ量が少なくなり、露光装置におけるショット時間を短くすることができる。
【０２１２】
（５）表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正不可能と判定した場合に、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の相違値が誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンを作成し、その縮小パターンにより表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータを作成するようにした。その結果、多くの種類のパターンから分割ブロックパターンデータを生成することができるため、露光データのデータ量が少なくなり、露光装置におけるショット時間を短くすることができる。
【０２１３】
尚、本発明は前記実施形態の他、以下の態様で実施してもよい。
○上記実施の形態では、四角形形状のパターンの一部を分割した直角三角形を生成し、その三角形が補正可能か否かを判定するようにしたが、三角形形状のパターンを複数の直角三角形に分割した後、その複数の直角三角形が補正可能か否か判断するようにしてもよい。例えば、図４２に示す三角形形状のパターン１４１〜１４４は、上記各処理では表現可能形状に補正不可能と判定される。しかしながら、各パターン１４１〜１４４において点線にてそれぞれ直角三角形１４１ａ，１４１ｂ〜１４４ａ，１４４ｂに分割する。これらの直角三角形１４１ａ〜１４４ｂは表現可能形状である。これにより、更に各直角三角形１４１ａ〜１４４ｂが分割ブロックパターンに補正可能であり、露光データのデータ量を少なくすると共に露光時間を短縮することができる。
【０２１４】
また、図１４（ａ）の三角形形状の第１パターン８３は、図の点線から辺Ａを含む三角形形状のパターンと、辺Ｂを含む直角三角形パターンに分割する。これにより、辺Ｂを含むパターンは表現可能形状であるため更に分割ブロックパターンに補正が可能である。これにより、露光データのデータ量を少なくすると共に露光時間を短縮することができる。
【０２１５】
○上記実施形態では、四角形をその２つの斜辺を含む三角形状のパターンに分割した時に、２つのパターンをともの補正可能な場合において分割ブロックパターンの形状に補正するようにしたが、一方のパターンのみに対して補正判定を行うようにしても良い。
【０２１６】
○上記実施の形態では、出力する分割ブロックパターンデータの領域に格納するブロック種類を「分割」としたが、分割ブロックパターン形状と一致している場合には繰り返しブロックパターンデータ形式として出力しても良い。これにより、露光装置におけるショット分割の際にショット分割の判定及び計算が不要となり、露光時間の短縮が図られる。
【０２１７】
○上記実施形態では、表現不可形状に対するショット分割処理を露光データ作成装置にて行うようにしたが、露光装置にて行うようにするべく露光データを作成する処理構成としても良い。逆に、表現可能形状に対するショット分割を露光装置にて行うようにするべく露光データを作成したが、露光データ作成装置３１にて表現可能形状のショット分割を行い、その処理後のデータを露光データに変換して露光装置に供給する構成としてもよい。
【０２１８】
○上記実施形態では、露光媒体としてウェハ２３にＬＳＩのレイアウトパターンを露光する場合について説明したが、露光媒体としてはウェハ以外の物でもよく、例えば、ＬＣＤやＰＤＰ等に用いられる基板にパターンを露光する場合に用いてもよい。
【０２１９】
○上記実施形態のプログラムを記録した記録媒体は、コンピュータソフトウエアを記録できるものならどのようなものでもよい。具体的には、半導体メモリ、フロッピ−デイスク（ＦＤ）、ハードディスク（ＨＤ）、光ディスク（ＣＤ，ＤＶＤ）、光磁気ディスク（ＭＯ，ＭＤ）、相変化ディスク（ＰＤ）、磁気テープ等が含まれる。
【０２２０】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項１〜１０に記載の発明によれば、ショット数を少なくして露光時間の短縮を図ることの可能な露光データ作成方法を提供することができる。
【０２２１】
請求項１１〜１６に記載の発明によれば、ショット数を少なくして露光時間の短縮を図ることの可能な露光データ作成装置を提供することができる。
請求項１７に記載の発明によれば、ショット数を少なくして露光時間の短縮を図ることの可能なプログラムを記録した記録媒体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 露光データ作成処理の概略フローチャート。
【図２】 補正処理の詳細なフローチャート。
【図３】 露光データ作成装置の概略構成図。
【図４】 （ａ）（ｂ）は、誤差範囲値を示す説明図。
【図５】 データ形式を示す説明図。
【図６】 登録されたブロックの形状を示す説明図。
【図７】 （ａ）〜（ｃ）は、三角形に対する補正処理の説明図。
【図８】 図７（ｃ）のパターンデータを示す説明図。
【図９】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図１０】 図９（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図１１】 三角形のパターンに対する補正処理のフローチャート。
【図１２】 （ａ）〜（ｄ）は、三角形に対する補正処理の説明図。
【図１３】 図１２（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図１４】 （ａ），（ｂ）は、三角形に対する補正処理の説明図。
【図１５】 （ａ）〜（ｄ）は、三角形に対する補正処理の説明図。
【図１６】 図１５（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図１７】 四角形のパターンに対する補正処理のフローチャート。
【図１８】 （ａ）〜（ｆ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図１９】 図１８（ｆ）のパターンデータを示す説明図。
【図２０】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２１】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２２】 四角形のパターンに対する補正処理のフローチャート。
【図２３】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２４】 図２４（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図２５】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２６】 図２５（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図２７】 四角形のパターンに対する補正処理のフローチャート。
【図２８】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２９】 図２８（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図３０】 （ａ）〜（ｃ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図３１】 （ａ），（ｂ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図３２】 分割ブロックへの補正処理を示すフローチャート。
【図３３】 （ａ）〜（ｄ）は、分割ブロックへの補正処理の説明図。
【図３４】 図３３（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図３５】 （ａ）〜（ｄ）は、分割ブロックへの補正処理の説明図。
【図３６】 図３５（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図３７】 分割ブロックへの補正処理を示すフローチャート。
【図３８】 （ａ）〜（ｃ）は、分割ブロックへの補正処理の説明図。
【図３９】 図３８（ｃ）のパターンデータを示す説明図。
【図４０】 （ａ）〜（ｄ）は、分割ブロックへの補正処理の説明図。
【図４１】 図４０（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図４２】三角形のパターンを表現可能形状に分割する説明図。
【図４３】 ブロック露光装置の概略構成図。
【図４４】 ステンシルマスクの平面図。
【図４５】 従来の露光データ作成処理を示す説明図。
【図４６】 表現可能パターンの形状を示す説明図。
【符号の説明】
Ｓ１４ 第１判定ステップとしての変化量計算処理
Ｓ１５ 第１判定ステップとしての第１判定処理
Ｓ１６ 第１補正ステップとしての第１補正処理
Ｓ１７ 第２判定ステップとしての相違値計算処理
Ｓ１８ 第２判定ステップとしての第２判定処理
Ｓ１９ 第２補正ステップとしての第２補正処理
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路の設計パターンを露光媒体に対して露光するために用いられる露光データを作成する露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体に関するものである。
【０００２】
近年の半導体集積回路（ＬＳＩ）においては、大規模化及び高集積化が進められ、そのＬＳＩのパターンを露光する際のショット数、即ちＬＳＩを作成するために必要な露光データのデータ量も増大している。ショット数の増加は露光時間の長時間化、ひいてはＬＳＩの製造時間の長時間化を招くことから、ショット数を低減して露光時間を短くすることが要求されている。
【０００３】
【従来の技術】
図４３は、電子ビーム（ＥＢ）露光装置の概略構成図である。ＥＢ露光装置は、プレート１１及びステンシルマスク（又はブロックマスクという）１２を備えている。プレート１１には、所定面積の矩形形状の開口１３が形成されている。図４４に示すように、ステンシルマスク１２には、複数の第１透過孔１４と複数のブロック領域１５が形成されている。第１透過孔１４は、所定面積の矩形形状に形成されている。
【０００４】
ブロック領域１５には、第２透過孔１６又は第３透過孔１７が形成されている。第２透過孔１６の形状は、ＬＳＩのレイアウトパターンデータから共通部分を抽出した「繰り返しパターン」の形状に形成されている。繰り返しパターンには、複数種類のパターンが含まれる。この第２透過孔１６が形成されたブロック領域を「繰り返しブロック」という。
【０００５】
第３透過孔１７の形状は、斜辺を含む「分割パターン」の形状に形成されている。分割パターンは、ＬＳＩのレイアウトパターンデータから斜辺を含むレイアウトパターンを、ブロック領域１４の大きさに対応して斜辺を含むように分割したパターンである。この第３透過孔１７が形成されたブロック領域を「分割ブロック」という。
【０００６】
露光装置は、図４３の第１，第２電磁偏向器１９，２０を制御し、プレート１１により成形したビームとステンシルマスク１２の第１〜第３透過孔１４〜１６との重なり具合を変え、各透過孔を透過するビームの断面形状、即ち露光パターンを制御する。そして、露光装置は、第３電磁偏向器２１を制御して透過ビームを偏向させると共に、ステージ２２をＸ，Ｙ軸方向に移動させ、該ステージ２２上に載置された露光媒体としてのウェハ２３に所望のパターンを露光する。
【０００７】
露光装置は、第１透過孔１４を透過したビームにより、矩形形状のパターンを露光する。また、露光装置は、プレート１１により成形したビームと第１透過孔１４の重なり具合を変えることにより、ウェハ２３上に露光される矩形パターンの大きさを制御する。これにより、露光装置は、可変矩形方式による露光方法を提供する。
【０００８】
露光装置は、第２透過孔１５を透過したビームにより、複数種類のパターンをを含む繰り返しパターンを一度のショットにて露光する。また、露光装置は、第３電磁偏向器２１，ステージ２２を制御し、第２透過孔１５を透過したビームにより同一形状の繰り返しパターンを複数露光する。これにより、露光装置は、「繰り返しブロック」を用いたブロック露光による露光方法を提供する。このブロック露光は、ショット数を少なくして露光時間を短縮する。
【０００９】
又、露光装置は、第３透過孔１６を透過したビームにより、斜辺を含む分割パターンを一度のショットにて露光する。露光装置は、分割パターンを組み合わせることにより、所望の形状のパターンを露光する。これにより、露光装置は、「分割ブロック」を用いたブロック露光による露光方法を提供する。
【００１０】
一般に、図４５上段に示すように、斜辺を有するパターン２４を図４３のウェハ２３に露光する場合、可変矩形露光を行う露光装置はパターン２４をショット分割し、図４５左下に示すごとく複数の矩形パターン２５を露光する。即ち、この露光装置は、１つのパターン２４を複数の矩形パターン２５に分割して露光する。このことは、ショット数を増加させ、露光時間の長時間化を招く。また、矩形パターン２５によるショット分割は、基のパターン２４の斜辺が階段状に露光される。この斜辺の段差を小さくするためには矩形パターン２５の幅を狭くする必要があるが、これにより基のパターン２４を矩形パターン２５に分割する分割数が多くなるため、ショット数を更に増加させる。
【００１１】
そこで、図４５右下に示すように、基のパターン２４に含まれる斜辺と同じ傾きの斜辺を有する直角三角形状の第３透過孔１７ａを図４４のステンシルマスク１２に形成する。露光装置は、この第３透過孔１７ａの形状に基づいて、基のパターン２４を三角形のパターン２６ａ，２６ｂと矩形のパターン２７ａ，２７ｂにショット分割する。このときの分割数は、左側の矩形パターン２５のみによるショット分割の分割数に比べて少ない。即ち、ショット数が少ない。
【００１２】
露光装置は、第３透過孔１７ａを透過したビームにより三角形状のパターン２６ａを、図４３のプレート１１を透過したビームと第３透過孔１７ａの重なり具合を変え、小さな三角形状のパターン２６ｂを露光する。また、露光装置は、プレート１１を透過したビームと図４４の第１透過孔１４の重なり具合を変え、矩形状のパターン２７ａ，２７ｂを露光する。これにより、基のパターン２４に含まれる斜辺が第３透過孔１７ａの斜辺にて露光されるため、斜辺の精度が良くなる。
【００１３】
ＬＳＩの露光データは、図示しない露光データ作成装置により作成され、上記の露光装置に供給される。露光データ作成装置は、ＬＳＩのレイアウトパターンの形状が表現可能形状か表現不可形状かを判断する。表現可能形状は露光装置にて露光可能な形状であり、表現不可形状は露光装置にて露光不可能な形状である。
【００１４】
露光装置は、表現可能形状のレイアウトデータに対応する露光データを上記の繰り返しパターン，分割パターンをそのまま、又は分割パターン，矩形パターンによりショット分割して露光する。このレイアウトデータの表現可能形状は水平，垂直な辺を含む図形であり、例えば図４６に示すように、矩形、直角三角形、平行四辺形、台形等のパターン２９ａ〜２９ｎを含む。また、分割ブロックに搭載される第３透過孔１７の形状も表現可能形状である。従って、水平，垂直な辺を含まない任意図形は表現不可形状である。
【００１５】
表現不可形状は露光装置にて露光不可能であるため、露光データ作成装置は、表現不可形状のパターンデータを露光装置における表現可能形状にショット分割して露光データを作成する。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、レイアウトデータから露光データを作成する際に、誤差が含まれる場合がある。即ち、露光データ作成装置は、ＬＳＩのレイアウトデータを基に、サイジングやシュリンク等の図形処理，露光装置が扱うデータのグリッド（座標値）にレイアウトデータの座標値を合わせる丸め処理等を施して露光データを作成する。これらの処理により作成される露光データは、基のレイアウトデータに対して誤差を含む場合がある。この露光データに含まれる誤差により表現可能形状であったレイアウトデータの座標値がずれることにより、レイアウトデータの形状が分割ブロックを利用することができない表現不可形状となる。特に、４５度の倍角ではない斜辺含むレイアウトパターンの場合、そのレイアウトパターンに基づく第３透過孔１６をステンシルマスク１２に形成しておいても、僅かな誤差により斜辺の傾きが変化してしまい、表現不可形状となる。
【００１７】
上記により、第３透過孔１７を利用する事ができなくなる。すると、露光データ作成装置は、表現不可形状のレイアウトデータに基づく露光データに対して、矩形パターンを用いたショット分割処理を実施し、矩形パターンによる露光データを作成する。これにより、露光装置におけるショット数が増加し、１枚のウェハに対する露光時間が長くなる。
【００１８】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的はショット数を少なくして露光時間の短縮を図ることのできる露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、露光媒体に半導体集積回路を作成するための設計パターンを予め形状が設定された分割ブロックパターンを搭載したマスクを用いて露光するブロック露光のための露光データを作成する露光データ作成方法であって、前記設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み前記露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かを判定する第１判定ステップと、前記第１判定ステップにおける判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現不可形状を表現可能形状に補正する第１補正ステップと、前記補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する第２判定ステップと、前記第２判定ステップにおける判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正する第２補正ステップと、前記分割ブロックパターンのデータに基づいて露光データを作成する露光データ作成ステップとを含む。
【００２０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の露光データ作成方法において、前記第１判定ステップは、前記表現不可形状と前記表現可能形状とを形状比較し、前記表現不可形状を前記表現可能形状に変更するのに必要とする変化量を計算するステップと、前記変化量と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現不可形状を前記表現可能形状に補正可能か否かを判定するステップとを含む。
【００２１】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の露光データ作成方法において、前記第２判定ステップは、前記分割ブロックパターンの形状の大きさを前記表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と前記表現可能形状とを比較し、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の間の相違値を計算するステップと、前記相違値と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するステップとを含む。
【００２２】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記設計パターンの形状は三角形形状であり、前記第１判定ステップにおいて、前記三角形形状の設計パターンを直角三角形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、前記第２判定ステップにおいて、前記直角三角形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。
【００２３】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記設計パターンの形状は四角形形状であり、前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、前記第２判定ステップにおいて、前記平行四辺形の表現可能形状を、平行四辺形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。
【００２４】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記設計パターンの形状は四角形形状であり、前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、前記第２判定ステップにおいて、前記平行四辺形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。
【００２５】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記設計パターンの形状は四角形形状であり、前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを台形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、前記第２判定ステップにおいて、前記台形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。
【００２６】
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至７のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記第２補正ステップは、前記表現可能形状を前記第２判定ステップにおいて前記表現可能形状の大きさに前記分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更し、その変更後の形状を前記分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータを作成するようにした。
【００２７】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至８のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンを作成し、その縮小パターンが前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定し、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータを作成するステップを含む。
【００２８】
請求項１０に記載の発明は、請求項１乃至８のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法において、前記第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の相違値が前記誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンを作成し、その縮小パターンにより前記表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータを作成するステップを含む。
【００２９】
請求項１１に記載の発明は、露光媒体に半導体集積回路を作成するための設計パターンを予め形状が設定された分割ブロックパターンを搭載したマスクを用いて露光するブロック露光のための露光データを作成する露光データ作成装置であって、前記設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み前記露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かを判定する第１判定手段と、前記第１判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現不可形状を表現可能形状に補正する第１補正手段と、前記補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する第２判定手段と、前記第２判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正する第２補正手段と、前記分割ブロックパターンのデータに基づいて露光データを作成する露光データ作成手段とを備えた。
【００３０】
請求項１２に記載の発明は、請求項１１に記載の露光データ作成装置において、前記第１判定手段は、前記表現不可形状と前記表現可能形状とを形状比較し、前記表現不可形状を前記表現可能形状に変更するのに必要とする変化量を計算する手段と、前記変化量と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現不可形状を前記表現可能形状に補正可能か否かを判定する手段とを備えた。
【００３１】
請求項１３に記載の発明は、請求項１１又は１２に記載の露光データ作成装置において、前記第２判定手段は、前記分割ブロックパターンの形状の大きさを前記表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と前記表現可能形状とを比較し、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の間の相違値を計算する手段と、前記相違値と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する手段とを備えた。
【００３２】
請求項１４に記載の発明は、請求項１１乃至１３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置において、前記第２補正手段は、前記表現可能形状を前記第２判定ステップにおいて前記表現可能形状の大きさに前記分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更し、その変更後の形状を前記分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータを作成するようにした。
【００３３】
請求項１５に記載の発明は、請求項１１乃至１４のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置において、前記第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンを作成し、その縮小パターンが前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定し、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータを作成する手段を備えた。
【００３４】
請求項１６に記載の発明は、請求項１１乃至１４のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置において、前記第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の相違値が前記誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンを作成し、その縮小パターンにより前記表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータを作成する手段を備えた。
【００３５】
請求項１７に記載の発明は、記録媒体には、請求項１乃至１０のうちのいずれか１項に記載のステップよりなるプログラムを記録した。
（作用）
従って、請求項１に記載の発明によれば、設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かが判定される。その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に表現不可形状を表現可能形状に補正される。補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定され、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正される。これにより、露光データのデータ量が少なくなる。
【００３６】
請求項２に記載の発明によれば、表現不可形状と表現可能形状とが形状比較され、表現不可形状を表現可能形状に変更するのに必要とする変化量が計算される。その変化量と予め設定された誤差範囲値が比較され、その比較結果に基づいて表現不可形状を表現可能形状に補正可能か否かが判定される。
【００３７】
請求項３に記載の発明によれば、分割ブロックパターンの形状の大きさを表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と表現可能形状とが比較され、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の間の相違値が計算される。その相違値と予め設定された誤差範囲値が比較され、その比較結果に基づいて表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００３８】
請求項４に記載の発明によれば、設計パターンの形状は三角形形状であり、第１判定ステップにおいて、三角形形状の設計パターンを直角三角形の表現可能形状に補正可能か否かが判定され、第２判定ステップにおいて、直角三角形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００３９】
請求項５に記載の発明によれば、設計パターンの形状は四角形形状であり、第１判定ステップにおいて、四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かが判定され、第２判定ステップにおいて、平行四辺形の表現可能形状を、平行四辺形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００４０】
請求項６に記載の発明によれば、設計パターンの形状は四角形形状であり、第１判定ステップにおいて、四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かが判定され、第２判定ステップにおいて、平行四辺形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００４１】
請求項７に記載の発明によれば、設計パターンの形状は四角形形状であり、第１判定ステップにおいて、四角形形状の設計パターンを台形の表現可能形状に補正可能か否かが判定され、第２判定ステップにおいて、台形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定される。
【００４２】
請求項８に記載の発明によれば、第２補正ステップにおいて、表現可能形状を、その表現可能形状の大きさに分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更され、その変更後の形状を分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータが作成される。
【００４３】
請求項９に記載の発明によれば、第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンが作成され、その縮小パターンが分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定され、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータが作成される。
【００４４】
請求項１０に記載の発明によれば、第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の相違値が誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンが作成され、その縮小パターンにより表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータが作成される。
【００４５】
請求項１１に記載の発明によれば、第１判定手段は、設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かを判定する第１補正手段は、第１判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に表現不可形状を表現可能形状に補正する。第２判定手段は、補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する。そして、第２補正手段は、第２判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正する。これにより、露光データのデータ量が少なくなる。
【００４６】
請求項１２に記載の発明によれば、第１判定手段には、表現不可形状と表現可能形状とを形状比較し、表現不可形状を表現可能形状に変更するのに必要とする変化量を計算する手段と、変化量と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて表現不可形状を表現可能形状に補正可能か否かを判定する手段とが備えられる。
【００４７】
請求項１３に記載の発明によれば、第２判定手段には、分割ブロックパターンの形状の大きさを表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と表現可能形状とを比較し、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の間の相違値を計算する手段と、相違値と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する手段とが備えられる。
【００４８】
請求項１４に記載の発明によれば、第２補正手段は、表現可能形状を、第２判定ステップにおいて表現可能形状の大きさに分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更し、その変更後の形状を分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータを作成する。
【００４９】
請求項１５に記載の発明によれば、第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンが作成され、その縮小パターンが分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かが判定され、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータが作成される。
【００５０】
請求項１６に記載の発明によれば、第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の相違値が誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンが作成され、その縮小パターンにより表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータが作成される。
【００５１】
請求項１７に記載の発明によれば、記録媒体には、請求項１乃至９のうちのいずれか１項に記載のステップよりなるプログラムが記録され提供される。
【００５２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した一実施の形態を図１〜図４２に従って説明する。
図３は、露光データ作成装置の概略構成図である。露光データ作成装置３１は、中央演算処理装置（以下、ＣＰＵという）３２、メモリ装置３３、ＭＴ装置３４、端末装置３５、ディスク装置３６を備え、各装置３３〜３６はＣＰＵ３２に接続されている。
【００５３】
ディスク装置３６には、図１に示す露光データ作成処理のプログラムデータが予め記憶されている。その露光データ作成処理のプログラムデータは、図３の記録媒体としての磁気テープ（ＭＴ）３７に記録されている。磁気テープ３７は、ＭＴ装置３４にセットされ、ＣＰＵ３２はＭＴ装置３４により磁気テープ３７からプログラムデータを読み出し、ディスク装置３６に格納する。そして、ＣＰＵ３２は、端末装置３５の操作に基づいて起動され、図１，２の各ステップに従って露光データ作成処理を実行する。
【００５４】
図３のディスク装置３６には、図１に示す第１データファイル４１が記憶されている。第１データファイル４１には、例えば図示しないＣＡＤ装置により回路設計及びレイアウト設計されたメモリ等の繰り返しの多いパターンを含む半導体装置（ＬＳＩ）チップの設計データが予め格納されている。図３のＣＰＵ３２は、データフィル４１から設計データであるパターンデータを入力し、そのパターンデータに基づいて図１に示される露光データ作成処理を実行する。
【００５５】
また、図３中のディスク装置３６には、図１に示す第２〜第７データファイル４２〜４７が格納される。ＣＰＵ３２は、図１に示されるフローチャートのステップＳ１〜Ｓ８に従って露光データ作成処理を実行し、その処理において作成した各データを第２〜第７データファイル４２〜４７に格納する。
【００５６】
即ち、図１に示されるステップＳ１は処理データ入力処理（処理データ入力手段）であって、図３中のＣＰＵ３２は、データフィル４１からパターンデータを基データとして入力する。
【００５７】
次に、図１に示されるステップＳ２において、ＣＰＵ３２は、全てのパターンデータに対して、所定の図形処理、例えば、ＯＲ処理、サイジング処理、リサイズ処理等のように、ＬＳＩの露光データを作成する上で必要となる図形処理を施す。また、ＣＰＵ３２は、５角形以上の多角形のレイアウトデータに対してパターン分割処理を施し、三角形のレイアウトデータと四角形のレイアウトデータに分割する。そして、ＣＰＵ３２は、処理後のレイアウトデータを中間データとしてディスク装置３６上の第２データファイル４２に格納する。中間データの格納を終了すると、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２からステップＳ３に移る。
【００５８】
次に、図１に示されるステップＳ３において、ＣＰＵ３２は、第２データファイル４２から中間データを入力する。中間データの入力を終了すると、ＣＰＵ３２は、ステップＳ３からステップＳ４に移る。
【００５９】
ステップＳ４は繰り返しデータ抽出処理（繰り返しデータ抽出手段）であって、図３中のＣＰＵ３２は、入力した中間データから繰り返し性のあるレイアウトパターンデータを認識及び抽出する。そして、ＣＰＵ３２は、抽出したレイアウトパターンデータを繰り返しブロックデータとして図１中の第４データファイル４４に格納する。
【００６０】
また、ＣＰＵ３２は、入力した中間データから繰り返しブロックデータを除くレイアウトパターンデータを第１パターンデータとして第３データファイル４３に格納する。そして、繰り返しブロックデータ，第１パターンデータの格納を終了すると、ＣＰＵ３２は、図１に示されるステップＳ４からステップＳ５に移る。
【００６１】
ステップＳ５は分割ブロックデータ入力処理であって、図３中のＣＰＵ３２は、図４４のステンシルマスク１２に搭載する分割ブロックパターンの形状データを入力する。形状データの入力を終了すると、ＣＰＵ３２は、ステップＳ５からステップＳ６に移る。
【００６２】
ステップＳ６は、形状補正処理（形状補正手段）であり、先ずＣＰＵ３２は、第３データファイル４３に格納された第１パターンデータを入力する。次に、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状認識を行い、第１パターンデータの形状が表現可能形状か表現不可形状かを判断する。その判断結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、表現不可形状の第１パターンデータを表現可能形状のデータに補正する。
【００６３】
詳しくは、ＣＰＵ３２は、先ず第１パターンデータの形状を表現可能形状への補正が可能かを判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、補正可能な場合に、第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正し、補正後のデータを第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納する。
【００６４】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータと、ステップＳ５にて入力した分割ブロックパターンの形状データとを比較する。その比較結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判断する。
【００６５】
補正可能な場合、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンの形状に補正し、その補正後のデータを分割ブロックパターンデータとして第６データファイル４６に格納する。このように、分割ブロックパターンに補正することにより、分割ブロックを用いた露光が可能となる。これにより、矩形パターンにショット分割する場合に比べて、斜辺を精度良く露光することができるとともに、ショット数が少なくなる。
上記した表現可能形状への補正が可能か否かを判定した判定結果に基づいて、第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正不可能な場合、図３中のＣＰＵ３２は、図１のステップＳ６からステップＳ７に移る。そのステップＳ７はショット分割処理であって、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータを矩形パターンにてショット分割する。ＣＰＵ３２は、ショット分割により生成したデータを第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納する。
【００６６】
全ての第１パターンデータに対して補正処理又はショット分割処理を施すと、図３中のＣＰＵ３２は、図１のステップＳ６，Ｓ７からステップＳ８に移る。
ステップＳ８は露光データ作成処理である。ここで、図３中のＣＰＵ３２は、第４〜第６データファイル４４〜４６から各パターンデータを読み込み、各データを露光データに変換する。そして、ＣＰＵ３２は、その露光データを図１の第７データファイル４７に格納する。その後、ＣＰＵ３２は露光データ作成処理を終了する。
【００６７】
第７データファイル４７に格納された露光データは、露光媒体としてのウェハ２３を露光する場合に利用される。即ち、図２２に示す露光装置において、第７データファイル４７に格納された露光データに基づいて、第１〜第３電磁偏向器１９〜２１及びステージ２２が制御され、ウェハ２３の所定位置に所望の露光パターンが露光される。
【００６８】
表現不可形状を分割ブロックパターンの形状に補正することにより、矩形パターンによるショット分割を行う場合に比べてショット数が少なくなる。これにより、ウェハ１枚当たりの露光時間が短縮される。
【００６９】
次に、図１中のステップＳ６における形状補正処理を、図２に示すフローチャートのステップＳ１１〜Ｓ２０に従って詳述する。
先ず、図２に示されるステップＳ１１〜Ｓ２０は図１中のステップＳ６における形状補正処理のサブステップである。先ず、図３中のＣＰＵ３２は、図２中のステップＳ１１で第３データファイル４３に格納された第１パターンデータを読み込む。そのデータの読み込みを終了すると、ＣＰＵ３２は図２のステップＳ１１からステップＳ１２に移る。
【００７０】
ステップＳ１２は形状認識処理（形状認識手段）であり、図３のＣＰＵ３２は、ステップＳ１１で入力した１つのパターンデータに対する形状認識処理を行う。この形状認識処理において、ＣＰＵ３２は、入力した第１パターンデータの形状が三角形か四角形かを判断する。第１パターンデータの形状によって、補正処理の方法が異なるからである。ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状を認識すると、図２のステップＳ１２からステップＳ１３に移る。
【００７１】
ステップＳ１３は矩形判定処理（矩形判定手段）であり、図３のＣＰＵ３２は、ステップＳ１２において認識した第１パターンデータの形状が矩形か否かを判定する。矩形は表現可能形状である。従って、ＣＰＵ３２は、矩形形状の第１パターンデータに対して形状補正処理を行う必要がない。そのため、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状が矩形の場合、次の第１パターンデータを読み込むためにステップＳ１３からステップＳ２０に移る。そして、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状が矩形ではない場合にその第１パターンデータに対する形状補正処理を行うためにステップＳ１３からステップＳ１４に移る。
【００７２】
ステップＳ１４は変化量計算処理（変化量計算手段）であり、図３のＣＰＵ３２は、表現可能形状への補正が可能か否かを判断するための補正判定値とする変化量を求める。変化量は、第１パターンデータの形状を表現可能形状に変形した場合に、元の第１パターンデータの形状と変形後の形状の差である。パターンデータの形状は、辺の座標値、辺の角度等によりに示される。尚、本実施形態では第１パターンデータの辺の座標値と表現可能形状の辺の座標値の差を変化量とする。
【００７３】
そして、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータに含まれる各辺のうち、その第１パターンデータの形状に応じた辺を特定する。特定する辺は、第１パターンデータの形状が三角形の場合、最も大きな角度の内角を構成する２辺であり、その形状が四角形の場合には相対向する２辺である。ＣＰＵ３２は、特定した辺を水平（Ｘ軸と平行）又は垂直（Ｘ軸に対して垂直であってＹ軸と平行）に変更するときの変化量を求める。
【００７４】
例えば、第１パターンデータの形状が図４（ａ）に実線で示す三角形の場合、第１パターンデータは、辺Ａ，Ｂ，Ｃのデータを含む。辺Ａ，Ｂ，Ｃは、両端の座標値（＝各頂点の座標値）にてそれぞれの位置が指定される。従って、第１パターンデータは、辺Ａ〜Ｃを示す座標値（＝各頂点の座標値）を格納するための領域を含む。
【００７５】
図４（ａ）において、辺Ａ〜Ｃのうち、最も大きな角度の内角を構成する２辺は辺Ａ，Ｂである。そして、図４（ａ）では、辺Ａは水平である。従って、図３のＣＰＵ３２は、形状補正処理において、第１パターンデータの形状を、図４（ａ）に一点差線で示す直角三角形の表現可能形状に補正する。この場合、ＣＰＵ３２は、辺Ｂが辺Ａと直角をなすように、辺Ｂ，Ｃに挟まれた頂点Ｔ１を表現可能形状の頂点Ｔ２まで各辺Ｂ，Ｃを移動させる。
【００７６】
そして、第１パターンデータの頂点Ｔ１の座標値（ｘ１，ｙ１）と、表現可能形状の頂点Ｔ２の座標値（ｘ２，ｙ２）の差ΔＸ（＝ｘ１−ｘ２），Δｙ（＝ｙ１−ｙ２）を辺Ｂにおける変化量とする。そして、この辺Ｂにおける変化量を、変化量ＢΔｘ，ＢΔｙとして表す。尚、辺Ａが水平ではない場合、ＣＰＵ３２は、辺Ｂと同様に辺Ａにおける変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを求める。
【００７７】
また、第１パターンデータの形状が図４（ｂ）に実線で示す四角形の場合、第１パターンデータは辺Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄのデータを含む。図３のＣＰＵ３２は、形状補正処理において、第１パターンデータの形状を、図４（ｂ）に一点鎖線で示す四角形（図４（ｂ）では平行四辺形）の表現可能形状に補正する。この場合、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｂ，Ｃを移動させると共に、辺Ａ，Ｃを平行にする。従って、図４（ｂ）に示す形状の第１パターンデータの場合、辺Ａ，Ｃの右端点の座標値のＹ軸方向の差Δｙが変化量となる。
【００７８】
また、変化量として第１パターンデータの辺の角度と表現可能形状の辺の角度の差（図４（ａ）に示す角度θ）、第１パターンデータの辺と表現可能形状の辺に挟まれた領域の面積（図４（ａ）にハッチングにて示した領域の面積）を用いても良い。
【００７９】
図３中のＣＰＵ３２は、図２のステップＳ１１において読み込んだ第１パターンデータに対する変化量を求めると、図２のステップＳ１４からステップＳ１５に移る。
【００８０】
ステップＳ１５は第１補正判定処理（第１補正判定手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、ステップＳ１４にて求めた第１パターンデータの変化量と予め設定した誤差範囲値により、第１パターンデータの形状が表現可能形状に補正可能か否か判定する。誤差範囲値は、変形後の形状の第１パターンデータに基づいて実際のパターンを形成した場合に、そのパターンがＬＳＩの性能に影響を与えない範囲の値である。
【００８１】
例えば、補正後の第１パターンデータに基づいて形成した実際の配線パターンが設計上の第１パターンデータの形状よりもはるかに大きく隣接するパターン等に近づいた場合、両パターン間の信号が干渉する。また、実際のパターンの幅が第１パターンデータのそれよりも極端に狭くなると、そのパターンを通過する信号が大きく減衰する。これらは、ＬＳＩの性能に影響を与える。
【００８２】
従って、第１パターンデータの変化量が所定の範囲値内にある時、その第１パターンデータに基づいて形成される実際の配線パターン等は、ＬＳＩの性能に影響を与えない。このような範囲を示す値が誤差範囲値である。
【００８３】
図３中のＣＰＵ３２は、第１パターンデータの変化量が誤差範囲値以内である場合、その第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正可能であると判定する。その場合、ＣＰＵ３２は、補正処理を行うために図２のステップＳ１５からステップＳ１６へ移る。
【００８４】
一方、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータの変化量が誤差範囲値を越えている場合、その第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正不可能であると判定する。その場合、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータをショット分割するために図２のステップＳ１５からステップＳ７へ移る。
【００８５】
ステップＳ１６は第１補正処理（第１補正手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターンデータの形状を表現可能形状に補正する。そして、ＣＰＵ３２は、補正後の第１パターンデータを第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納する。
【００８６】
具体的には、ＣＰＵ３２は、第１パターンデータに含まれる各辺の座標値を格納するための領域に、表現可能形状を構成する辺の座標値を格納する。例えば、図４（ａ）に示す形状の場合、第１パターンデータに含まれる辺Ｂ，Ｃの座標値（ｘ１，ｙ１）が格納された領域に座標値（ｘ２，ｙ２）を格納する。そして、この座標値（ｘ２，ｙ２）を含む第１パターンデータを第２パターンデータとして図２の第５データファイル４５に格納する。第２パターンデータの格納を終了すると、図３中のＣＰＵ３２は、ステップＳ１６からステップＳ１７に移る。
【００８７】
ステップＳ１７は相違値計算処理（相違値計算手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状をブロックパターンの形状に補正可能であるか否かを判定するために用いる相違値を計算する。相違値は、第２パターンデータの形状とブロックパターンの形状の差分であり、本実施形態では上記した変化量と同様に、両図形の頂点の座標値の差である。尚、変化量と同様に、相違値に角度、面積が用いられても良い。
【００８８】
この相違値計算処理について詳述すれば、先ず、図３中のＣＰＵ３２は、第５データファイル４５に格納した第２パターンデータを読み込む。そして、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状に類似した形状、又は組み合わせにより第２パターンデータの形状を表現することができる形状のブロックパターンを選択する。
【００８９】
例えば、第２パターンデータの形状が直角三角形の場合、ＣＰＵ３２は、その直角三角形と相似した直角三角形の透過孔を有するブロックパターンを選択する。第２パターンデータの形状が平行四辺形の場合、ＣＰＵ３２はその平行四辺形と相似した平行四辺形の透過孔を有するブロックパターンを選択する。平行四辺形は、直角三角形を組み合わせることにより表現可能である。従って、ＣＰＵ３２は、組み合わせにより平行四辺形を表現することができる直角三角形の透過孔を有するブロックパターンを選択する。
【００９０】
図６は、登録された分割ブロックパターンを示す。各分割ブロックパターンは、それぞれ所定の形状の透過孔（図のハッチング部分）を有している。そして、各ブロックパターンには、それぞれ固有のブロック番号が付けられている。このブロック番号は、図５に示す分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ａに格納される。そして、図４３に示すブロック露光装置は、分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ａに格納されたブロック番号に基づいて図４４に示すステンシルマスク１２に搭載されたブロック領域１５のうち、該当する透過孔１７が形成されたブロック領域１５を選択する。これにより、ブロック番号に対応する形状のパターンが図４３のウェハ２３に露光される。尚、露光データには、図５に示す分割ブロックパターンデータ５２以外に、繰り返しブロックデータ５１、パターンデータ５３が含まれる。
【００９１】
次に、ＣＰＵ３２は、選択したブロックパターンの大きさを、第２パターンデータの大きさと同じにする。具体的には、ＣＰＵ３２は、選択したブロックパターンのデータをＸ，Ｙ方向に拡大又は縮小し、そのＸ，Ｙ方向のサイズを第２パターンデータの形状のＸ，Ｙ方向のサイズと同じにする。そして、ＣＰＵ３２は、拡大又は縮小したブロックパターンの各辺の座標値と、第２パターンデータの各辺の座標値の差を計算する。
【００９２】
ステップＳ１８は第２補正判定処理（第２補正判定手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、第２パターンデータの形状が分割ブロックパターンデータの形状に補正可能か否かを判定する。このとき、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１７において求めた第２パターンデータの相違値と予め設定した誤差範囲値とを比較する。そして、ＣＰＵ３２は、相違値が誤差範囲値内の場合に第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンデータの形状に補正可能であると判定する。その場合、ＣＰＵ３２は、補正処理を行うために図２のステップＳ１８からステップＳ１９へ移る。
【００９３】
一方、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータの相違値が誤差範囲値を越えている場合、その第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンデータの形状に補正不可能であると判定する。そして、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１８からステップＳ２０に移る。
【００９４】
この場合、ＣＰＵ３２は、図１のステップＳ８において第２パターンデータを露光データにデータ変換し、その露光データを第７データファイル４７に格納する。この露光データは形状を示すデータであるため、露光データのデータ量はショット分割した場合のデータ量に比べて少ない。そして、露光データは、入力したデータから所定の矩形パターンに矩形分割した分割データを作成し、その作成した分割データに基づいて露光を行う。
【００９５】
ステップＳ１９は第２補正処理（第２補正手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、ステップＳ１８において補正可能と判断した第２パターンデータの形状を分割ブロックパターンデータの形状に変更する補正処理を行う。そして、補正処理後のデータを分割ブロックパターンデータとして第６データファイル４６に格納する。
【００９６】
このとき、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータのデータ形式を分割ブロックパターンデータのデータ形式に変更し、第６データファイル４６に格納する。
図５は、露光データ作成処理にて扱われる各データのデータ形式を示す。
【００９７】
繰り返しブロックデータ５１は、図４４の「繰り返しブロック」である第２透過孔１６が形成されたブロック領域を用いて繰り返し性のあるパターンを露光するためのデータである。分割ブロックデータ５２は、図４４の分割ブロックである第３透過孔１７が形成されたブロック領域を用いてパターンを露光するためのデータである。第１パターンデータは、繰り返しブロックデータとならない、即ち繰り返しブロックを用いることができない形状のパターンを露光するためのデータである。第２パターンデータは、分割ブロックパターンデータとはならない、即ち、分割ブロックを用いることができない形状のパターンを露光するためのデータである。
【００９８】
繰り返しブロックデータ５１は、ステンシルマスク上に搭載されている繰り返しブロックの番号、ブロックの種類、チップ上の配置位置のデータを格納するための領域５１ａ〜５１ｄを有する。
【００９９】
分割ブロックパターンデータ５２は、ステンシルマスク上に搭載されている分割ブロックの番号とブロックの種類、その分割ブロックで露光されるパターンデータの情報（ブロックの形状、配置位置、大きさ）を格納するための領域５２ａ〜５２ｆを有する。
【０１００】
パターンデータ５３は、第１，第２パターンデータであり、パターンの形状、配置位置、パターンの大きさのデータを格納するための領域５３ａ〜５３ｄを有する。
【０１０１】
図３中のＣＰＵ３２は、パターンデータ５３の領域５３ａ〜５３ｄに格納されたデータを分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ｃ〜５２ｆに格納するとともに、分割ブロックパターンデータ５２に固有の領域５２ａ，５２ｂにそれぞれ対応する情報を格納する。
【０１０２】
即ち、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ａに、図２のステップＳ１７において選択したブロック番号を格納する。ＣＰＵ３２は、領域５２ｂに分割ブロックを示す情報を格納し、領域５２ｃに露光する第１パターンデータの形状を示す情報を格納する。更に、ＣＰＵ３２は、パターンデータ５３の領域５３ｂ〜５３ｄに格納された配置座標（ｘ、ｙ）とパターンの大きさをそれぞれ分割ブロックパターンデータ５２の領域５２ｄ〜５２ｆに格納する。
【０１０３】
上記のステップＳ１４〜Ｓ１９の処理を、図７〜図１０に従って説明する。
先ず、第１パターンの形状が三角形の場合を、図７，図８に従って説明する。図７（ａ）は、図２のステップＳ１１において第３データファイル４３から読み出された三角形の第１パターン６１を示す。先ず、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターン６１に対する変化量を求める。この第１パターン６１の場合、最も大きな角度の内角を構成する辺Ａ，Ｂを特定する。そして、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｂにおける変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙを求める。ここで、第１パターン６１において、辺Ａは水平であるため、ＣＰＵ３２は、辺Ａにおける変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを共に「０」とする。
【０１０４】
次に、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１５において求めた辺Ｂにおける変化量ＢΔｘ，ＢΔｙが誤差範囲値内であるか否かを判定し、その判定結果に基づいて第１パターンデータ６１を図７（ｂ）に一点鎖線で示す表現可能形状の第２パターンデータ６１ａに補正する。
【０１０５】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターン６１ａの形状に類似した形状の透過孔を有する分割ブロックパターンを選択する。この場合、ＣＰＵ３２は、図６に示す番号「２」の分割ブロックパターンＢＰを選択する。この分割ブロックパターンＢＰ（２）を図７（ｂ）に点線で示す。尚、括弧内の数字は、選択した番号「２」を示す。
【０１０６】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターン６１ａの形状を分割ブロックパターンＢＰ（２）の形状に補正可能か否かを判定するために両形状の相違値を求める。図７（ｂ）の場合、ＣＰＵ３２は、透過孔領域６２の大きさを拡大した拡大パターン６３を生成する。この拡大パターン６３の底辺の長さは、辺Ａの長さと一致する。そして、ＣＰＵ３２は、辺Ｂ１とその辺Ｂ１に対応する拡大パターン６３の辺のＹ軸方向の長さの差（＝Δｙ）を相違値として求める。ＣＰＵ３２は、相違値Δｙが誤差範囲値内であるため、図２のステップＳ１８において第２パターンの形状を分割ブロックパターンＢＰ（２）の形状に補正可能であると判定し、ステップＳ１９の第２補正処理を実施する。このようにして、図７（ｃ）に示すように、元の第１パターン６１を分割ブロックパターンＢＰ（２）を用いて露光することとする。
【０１０７】
この第２補正処理において、ＣＰＵ３２は、図８に示すデータ形式にて分割ブロックパターンデータを図２の第６データファイル４６に格納する。即ち、ＣＰＵ３２は、領域６４ａに選択したブロックパターンデータＢＰ（２）の番号「２」を、領域６４ｂにブロックの種類である「分割」を示す情報を、領域６４ｃにパターン形状である「三角形」を示す情報を格納する。更に、ＣＰＵ３２は、領域６４ｄ，６４ｅに第２パターンを配置するＸ座標，Ｙ座標を、領域６４ｆに第２パターンの大きさを示す情報を格納する。
【０１０８】
次に、第１パターンの形状が四角形の場合を、図９，図１０に従って説明する。
図９（ａ）は、図２のステップＳ１１において第３データファイル４３から読み出された四角形の第１パターン７１を示す。先ず、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターン７１に対する変化量を求める。この第１パターン７１の場合、ＣＰＵ３２は、垂直又は水平な辺とその辺に対向する辺を特定する。
【０１０９】
図９（ａ）において、辺Ｄが垂直である。従って、ＣＰＵ３２は、辺Ｂ，Ｄを特定する。ＣＰＵ３２は、辺Ｂを垂直に補正可能であるか否かを判定するために、辺Ｂにおける変化量ＢΔｘを求める。そして、ＣＰＵ３２は、求めた変化量ＢΔｘと誤差範囲値とを比較し、第１パターン７１を表現可能形状に補正可能か否かを判定する。
【０１１０】
次に、ＣＰＵ３２は、第１パターン７１を表現可能形状の内の平行四辺形に補正可能か否かを判定する。ＣＰＵ３２は、辺Ｂを垂直に補正した場合における斜辺の辺Ａ，Ｃの相違値を求める。この場合、ＣＰＵ３２は、図９（ｂ）に示すように、辺Ａ，Ｃの一端を重ね合わせ、他端の座標値の差を相違値Δｙ１を求める。ＣＰＵ３２は、求めた相違値Δｙ１が誤差範囲値以下であれば第１パターン７１の形状を平行四辺形に補正し、相違値Δｙ１が誤差範囲値以上のであれば台形に補正する。
【０１１１】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターン７２の形状に類似した形状の透過孔を有する分割ブロックパターンを選択する。この場合、ＣＰＵ３２は、図６に示す番号「１１」の分割ブロックパターンＢＰを選択する。この分割ブロックパターンＢＰ（１１）を図９（ｃ）に点線で示す。
【０１１２】
次に、ＣＰＵ３２は、第２パターン７２の形状を分割ブロックパターンＢＰ（１１）の形状に補正可能か否かを判定するために両形状の相違値を求める。図９（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、透過孔領域７３の大きさを拡大した拡大パターン７４を生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン７４の左辺の長さを、辺Ｄの長さと一致させる。ＣＰＵ３２は、辺Ａ１（又は辺Ｃ１）におけるＹ軸方向の差（＝Δｙ２）を相違値として求める。ＣＰＵ３２は、相違値Δｙ２が誤差範囲値内であるため、図２のステップＳ１８において第２パターンの形状を分割ブロックパターンＢＰ（１１）の形状に補正可能であると判定し、ステップＳ１９の第２補正処理を実施する。このようにして、図９（ｄ）に示すように、第２パターン７２を分割ブロックパターンＢＰ（１１）を用いて露光することとする。
【０１１３】
この第２補正処理において、ＣＰＵ３２は、図１０に示すデータ形式にて分割ブロックパターンデータを図２の第６データファイル４６に格納する。即ち、ＣＰＵ３２は、領域７５ａに選択した分割ブロックパターンＢＰ（１１）の番号「１１」を、領域７５ｂにブロックの種類である「分割」を示す情報を、領域７５ｃにパターン形状である「平行四辺形」を示す情報を格納する。更に、ＣＰＵ３２は、領域７５ｄ，７５ｅに第２パターンを配置するＸ座標，Ｙ座標を、領域７５ｆにパターンの大きさを示す情報を格納する。
【０１１４】
ステップＳ２０は終了判定処理（終了判定手段）であり、図３中のＣＰＵ３２は、全ての第１パターンデータに対する形状補正処理を終了したか否かを判定する。ＣＰＵ３２は、まだ処理を行っていない第１パターンデータが存在している場合、図２のステップＳ２０からステップＳ１１に移る。そして、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１１において、次の第１パターンデータを第３データファイル４３から読み込む。
【０１１５】
即ち、ＣＰＵ３２は、ステップＳ１１からステップＳ２０のループを繰り返し実行する。そして、ＣＰＵ３２は、全ての第１パターンデータに対して補正処理を実施した場合、形状補正処理を終了する。
【０１１６】
次に、図２中のステップＳ１４〜Ｓ１９の各処理を、第１パターンデータの形状に対応して詳述する。
［第１パターンデータの形状が三角形の場合］
先ず、第１パターンデータの形状が三角形の時の形状補正処理を、図１１のフローチャート及び図１２〜図１６に従って詳述する。
【０１１７】
（１）第１パターンデータの形状が図１２（ａ）に示す形状の場合。
図１１のステップＳ２１〜Ｓ２３は、図２のステップＳ１４のサブステップであり、変化量計算処理である。また、図１１のステップＳ２４，Ｓ２５は、図２のステップ１５のサブステップであり、第１補正判定処理である。更に、図１１のステップＳ２６〜Ｓ２９は、図２のステップＳ１６〜Ｓ１９にそれぞれ対応している。
【０１１８】
先ず、図１１のステップＳ２１において、図３中のＣＰＵ３２は、図１２（ａ）に示す三角形形状の第１パターン８１の内角の内、最も大きい角度を構成している辺Ａと辺Ｂを求める。次に、ステップＳ２２において、ＣＰＵ３２は、辺Ａの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを求める。この時、辺Ａは水平であるため、ＣＰＵ３２は、変化量ＡΔｙを「０」とする。更に、ＣＰＵ３２は、辺Ａの端点を水平方向に移動させないため、変化量ＡΔｘを「０」とする。同様に、ステップＳ２３において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂの変化量ＢΔｘ，ＢΔｙを求める。
【０１１９】
ステップＳ２４において、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｂの変化量ＡΔｙ，ＢΔｘが共に誤差範囲値以下であるため、第１パターン８１が表現可能形状に補正可能であると判断する。そして、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２４からステップＳ２５に移る。そのステップＳ２５において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂを垂直に補正した時に辺Ａと辺Ｂが構成する内角が９０度となるため、ステップＳ２５からステップＳ２６に移る。
【０１２０】
ステップＳ２６において、ＣＰＵ３２は、第１パターン８１の形状から辺Ｂを垂直にした直角三角形の形状に補正変更した第２パターン８１ａ（図１２（ｂ）参照）を生成する。更に、ＣＰＵ３２は、補正変更後の第２パターンの形状を示すデータを第２パターンデータとして図１１の第５データファイル４５に格納する。そして、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２６からステップＳ２７に移る。
【０１２１】
次に、ステップＳ２７において、ＣＰＵ３２は、補正により生成した第２パターン８１ａに類似する分割ブロックパターンを選択する。この場合、ＣＰＵ３２は、図６中のブロック番号２の分割ブロックパターンＢＰを選択する。そして、ＣＰＵ３２は、第２パターン８１ａの形状と選択した分割ブロックパターンＢＰ（２）の形状との比較を行う。
【０１２２】
この時、図１２（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンＢＰ（２）の透過孔の形状を補正後の第２パターン８１ａの大きさまで拡大した拡大パターン８１ｂを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した拡大パターン８１ｂと第２パターン８１ａを重ね合わせて、先端の差分Δｙを求める。この差分Δｙを相違値と呼ぶ。
【０１２３】
ステップＳ２８において、ＣＰＵ３２は、求めた相違値（＝Δｙ）が誤差範囲値以内であるため第２パターン８１ａを分割ブロックパターンＢＰ（２）の形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２８からステップＳ２９へ移る。
【０１２４】
ステップＳ２９において、ＣＰＵ３２は、図１２（ｄ）に示すように、第２パターン８１ａの斜辺の傾きを分割ブロックパターンＢＰ（２）と同じ傾きに補正変更する。そして、ＣＰＵ３２は、補正変更した第２パターン８１ａのための分割ブロックパターンデータ８２（図１３参照）を作成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ８２を図１１の第６データファイル４６に格納する。そして、分割ブロックパターンデータの格納を終了すると、ＣＰＵ３２は、形状補正処理を終了する。
【０１２５】
（２）第１パターンデータの形状が図１４（ａ）に示す形状の場合。
図１１のステップＳ２１において、図３中のＣＰＵ３２は、図１４（ａ）に示す三角形形状の第１パターン８３の内角のうち、最も大きい角度を構成している辺Ａと辺Ｂを求める。次に、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２２において辺Ａの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを求め、ステップＳ２３において辺Ｂの変化量ＢΔｘ，ＢΔｙを求める。
【０１２６】
ステップＳ２４において、ＣＰＵ３２は、辺Ａの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙが共に誤差範囲値より大きいため、第１パターン８３の形状を表現可能形状に補正不可能と判断する。そして、ＣＰＵ３２は、図１１のステップＳ２４からステップＳ７に移る。
【０１２７】
ステップＳ７において、ＣＰＵ３２は、図１４（ｂ）に示すように、第１パターン８３を複数の短冊状の矩形パターン８４にショット分割する。そして、ＣＰＵ３２は、複数の矩形パターン８４のパターンデータを第２パターンデータとして図１１の第５データファイル４５に格納する。そして、第２パターンデータの格納を終了すると、ＣＰＵ３２は、形状補正処理を終了する。
【０１２８】
（３）第１パターンデータの形状が図１５（ａ）に示す形状の場合。
図１１のステップＳ２１において、図３中のＣＰＵ３２は、図１５（ａ）に示す三角形形状の第１パターン８５の内角のうち、最も大きい角度を構成している辺Ａと辺Ｂを求る。次に、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２２において辺Ａの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙを求め、ステップＳ２３において辺Ｂの変化量ＢΔｘ，ＢΔｙを求める。
【０１２９】
ステップＳ２４において、ＣＰＵ３２は、辺Ａの変化量ＡΔｘと辺Ｂの変化量ＢΔｙが共に誤差範囲値以内であるため、第１パターン８５の形状を表現可能形状に補正可能と判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２４からステップＳ２５に移る。そのステップＳ２５において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂを水平な辺Ｂ１に補正したとき、辺Ａと辺Ｂ１が構成する内角は９０度であるため、ステップＳ２５からステップＳ２６に移る。
【０１３０】
ステップＳ２６において、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｂ１を含む直角三角形に形状を変更した第２パターン８５ａ（図１５（ｂ）参照）を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した第２パターン８５ａのパターンデータを第２パターンデータとして図１１の第５データファイル４５に格納する。そして、ＣＰＵ３２は、ステップ２６からステップ２７に移る。
【０１３１】
次に、ステップＳ２７において、ＣＰＵ３２は、第２パターン８５ａに類似したブロック番号８のブロックパターンＢＰ（図６参照）を選択する。そして、ＣＰＵ３２は、図１５（ｃ）に示すように、分割ブロックパターンＢＰ（８）を拡大した拡大パターン８５ｂを生成し、その拡大パターンと第２パターン８５ａを比較して相違値Δｘを求める。
【０１３２】
ステップＳ２８において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２７において求めた相違値Δｘが誤差範囲値以内であるため、第２パターン８５ａを分割ブロックパターンＢＰ（８）の形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ２８からステップＳ２９へ移る。
【０１３３】
ステップＳ２９において、ＣＰＵ３２は、図１５（ｄ）に示すように、第２パターン８５ａの斜辺の傾きを分割ブロックパターンＢＰ（８）と同じ傾きに補正変更する。そして、ＣＰＵ３２は、補正変更した第２パターン８５ｂのための分割ブロックパターンデータ８６（図１６参照）を生成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ８６を図１１の第６データファイル４６に格納する。
【０１３４】
［第１パターンデータの形状が四角形であり、四角形の分割ブロックパターンに補正する場合］
次に、第１パターンデータの形状が四角形の時の形状補正処理を詳述する。
【０１３５】
第１パターンデータの形状が四角形の場合、補正に用いる分割ブロックパターンの形状に対応して処理が異なる。先ず、平行四辺形の分割ブロックパターンを用いる場合を、図１７のフローチャート及び図１８〜図２１に従って説明する。
【０１３６】
図１７のステップＳ３１，Ｓ３２は、図２のステップＳ１４のサブステップであり、変化量計算処理である。また、図１７のステップＳ３３〜Ｓ３９は、図２のステップＳ１５のサブステップであり、第１補正判定処理である。更に、図１７のステップＳ４０，Ｓ４４は、図２のステップＳ１６のサブステップであり、第１補正処理である。また、図１７のステップＳ４１〜Ｓ４３は、図２のステップＳ１７〜Ｓ１９にそれぞれ対応している。
【０１３７】
（１）第１パターンデータの形状が図１８（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図１７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図１８（ａ）に示す四角形形状の第１パターン９１を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙ、ＣΔｘ，ＣΔｙ、ＤΔｘ，ＤΔｙを求める。
【０１３８】
次に、ステップＳ３２において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂ，Ｄを判定の対象とし、各辺Ｂ，Ｄの変化量ＢΔｘ，ＤΔｘが誤差範囲値以下か否かを判定する。
次に、ステップＳ３３において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂの変化量ＢΔｘと辺Ｄの変化量ＤΔｘが共に誤差判定値以下であるため、第１パターン９１を表現可能形状に補正可能であると判定する。更に、ＣＰＵ３２は、補正可能な辺の組み合わせが辺Ｂと辺Ｄであるため、ステップＳ３３からステップＳ３４に移る。
【０１３９】
ステップＳ３４において、ＣＰＵ３２は、辺Ｂを垂直な辺Ｂ１に補正した第２パターン９１ａ（図１８（ｂ）参照）を生成する。次に、ステップＳ３６において、ＣＰＵ３２は、第２パターン９１ａの形状が平行四辺形形状に類似しているか否かを認識するために辺Ａと辺Ｃの傾斜方向が同じであるか否かを判定する。この場合、辺Ａ，Ｃは傾斜方向が同じであるため、ＣＰＵ３２は、図１７のステップＳ３６からステップＳ３８へ移る。
【０１４０】
ステップＳ３８において、ＣＰＵ３２は、斜辺である辺Ａ、辺Ｃを、図１８（ｃ）に示すように、一端（左端）を重ね合わせた時の他端（右端）の座標値の差を相違値Δｙとしてを求める。
【０１４１】
ステップＳ３９において、ＣＰＵ３２は、求めた相違値Δｙが誤差範囲値以内であるため、第２パターン９１ａを平行四辺形に補正可能と判定し、ステップＳ３９からステップＳ４０へ移る。
【０１４２】
ステップＳ４０において、ＣＰＵ３２は、辺Ｃの傾きを辺Ａの傾きに一致させ、第２パターン９１ａの形状を平行四辺形形状に補正変更した第３パターン９１ｂ（図１８（ｄ）参照）を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した第３パターン９１ｂの形状を示すパターンデータを第２パターンデータとして図１７の第５データファイル４５に格納する。
【０１４３】
次に、ステップＳ４１において、ＣＰＵ３２は、補正により生成した第３パターン９１ｂに類似した形状の分割ブロックパターンを選択する。この場合、ＣＰＵ３２は、図６中のブロック番号１２の分割ブロックパターンＢＰを選択する。そして、ＣＰＵ３２は、第３パターン９１ｂの形状と選択した分割ブロックパターンＢＰ（１２）の形状との比較を行う。
【０１４４】
この時、分割ブロックパターンＢＰ（１２）の透過孔形状を第３パターン９１ｂの大きさまで拡大した拡大パターン９１ｃを生成し、その拡大パターン９１ｃと第３パターン９１ｂを重ね合わせ、図１８（ｅ）に示すように先端（右端）の差分である相違値Δｙを求める。
【０１４５】
次に、図１７のステップＳ４２において、ＣＰＵ３２は、求めた相違値Δｙと誤差範囲値を比較する。この場合、相違値Δｙが誤差範囲値以内であるため、ＣＰＵ３２は第３パターン９１ｂの形状を分割ブロックパターンＢＰ（１２）の形状に補正可能と判定し、ステップＳ４２からステップＳ４３へ移る。
【０１４６】
ステップＳ４３において、ＣＰＵ３２は、図１８（ｆ）に示すように、第３パターン９１ｂの斜辺の傾きを分割ブロックパターンＢＰ（１１）と同じに補正変更した補正パターン（この場合は拡大パターン９１ｃと同じ形状であるため同じ符号を付す）９１ｃを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、補正パターン９１ｃのデータを、パターンデータ形式から図１９に示す分割パターンデータ用のデータ形式に変更したデータ９２を生成し、その変更後のデータ９２を分割ブロックパターンデータとして図１７の第６データファイル４６に格納する。
【０１４７】
（２）第１パターンデータの形状が図２０（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図１７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図２０（ａ）に示す四角形形状の第１パターン９３を構成するから４つの辺Ａ〜Ｄの変化量を求める。この第１パターン９３は平行四辺形であるため、ＣＰＵ３２はステップＳ３２，Ｓ３３，Ｓ３４，Ｓ３６の各処理を実行した後、ステップＳ３６からステップＳ３８へ移る。
【０１４８】
ステップＳ３８において、ＣＰＵ３２は、斜辺である辺Ａと辺Ｃを図２０（ｂ）に示すように左端を重ねた時の右端における相違値Δｙを求める。この相違値Δｙは誤差範囲値より大きいため、ＣＰＵ３２は、ステップＳ３９において平行四辺形への補正が不可能と判定し、ステップＳ３９からステップＳ４４へ移る。
【０１４９】
ステップＳ４４において、ＣＰＵ３２は、台形形状のパターンデータとして第１パターン９３のパターンデータを図１７の第５データファイル４５に格納する。
【０１５０】
（３）第１パターンデータの形状が図２１（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図１７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図２１（ａ）に示す四角形形状の第１パターン９４を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量を求める。
【０１５１】
次に、ステップＳ３２において、ＣＰＵ３２は、変化量ＡΔｙ（＝０）のみが誤差範囲値以内であるため、第１パターン９４を表現可能形状に補正不可能と判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ３３からステップＳ７へ移る。
【０１５２】
ステップＳ７において、ＣＰＵ３２は、表現不可形状である第１パターン９４を図２１（ｂ）に示すようにショット分割して複数の矩形パターン９５を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、全ての矩形パターン９５のデータを第２パターンデータとして図１７の第５データファイル４５に格納する。
【０１５３】
［第１パターンデータの形状が四角形であり、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正する場合］
次に、直角三角形の分割ブロックパターンを用いる場合を、図２２のフローチャート及び図２３〜図２６に従って説明する。尚、図２２のフローチャートに示す処理において、図１７のフローチャートと同じ処理については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【０１５４】
図２２のステップＳ３１，Ｓ３２は、図２のステップＳ１４のサブステップであり、変化量計算処理である。また、図２２のステップＳ３３〜Ｓ３９は、図２のステップＳ１５のサブステップであり、第１補正判定処理である。更に、図２２のステップＳ４０，Ｓ４４は、図２のステップＳ１６のサブステップであり、第１補正処理である。また、図２２のステップＳ５１，Ｓ５２は、図２のステップＳ１７のサブステップであり、相違値計算処理である。更にまた、図２２のステップＳ４２，Ｓ５３は、図２のステップＳ１８，Ｓ１９にそれぞれ対応している。
【０１５５】
（１）第１パターンに対する第１補正処理後の形状が図２３（ａ）に示す形状の場合。
図２２のステップＳ３１〜Ｓ３９の各処理は、図１７のそれらの処理と同じであるため説明を省略する。そして、ステップＳ４０において、図３中のＣＰＵ３２は、図２３（ａ）に示すように、第１補正処理を施した平行四辺形形状の第１パターン１０１を生成する。
【０１５６】
次に、図２２のステップＳ５１において、図２３（ａ）に示すように、ＣＰＵ３２は、第１パターン１０１の斜辺である辺Ａを含む第１直角三角形１０１ａを発生させる。ＣＰＵ３２は、この第１直角三角形１０１ａと類似した図６中のブロック番号４の分割ブロックパターンＢＰを選択する。
【０１５７】
図２３（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（４）の透過孔形状の大きさを、第１直角三角形１０１ａの大きさに拡大した拡大パターン１０１ｃを生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１０１ｃと第１直角三角形１０１ａを形状比較し、相違値ＡΔｙを求める。
【０１５８】
次に、ステップＳ５２において、図２３（ａ）に示すように、ＣＰＵ３２は、第１パターン１０１の斜辺である辺Ｃを含む第２直角三角形１０１ｂを発生させる。ＣＰＵ３２は、この第２直角三角形１０１ｂと類似した形状の図６中のブロック番号２の分割ブロックパターンＢＰを選択する。
図２３（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（２）の透過孔形状の大きさを、第２直角三角形１０１ｂの大きさに拡大した拡大パターン１０１ｄを生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１０１ｄと第２直角三角形１０１ｂを形状比較し、相違値ＣΔｙを求める。
【０１５９】
ステップＳ４２において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ５１，５２において求めた相違値ＡΔｙ，ＣΔｙが誤差範囲値以内であるため、第１パターン１０１を分割ブロックパターンの形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ４２からステップＳ５３へ移る。
【０１６０】
ステップＳ５３において、ＣＰＵ３２は、図２３（ｄ）に示すように、第１パターン１０１を分割ブロックパターンＢＰ（４），ＢＰ（２）の透過孔形状と相似の直角三角形形状の分割パターン１０２，１０３にパターン分割する。そして、ＣＰＵ３２は、各分割パターン１０２，１０３のデータ１０２ａ，１０３ａを、パターンデータ形式から図２４に示す分割ブロックパターン形式に変更し、その変更後のデータを分割ブロックパターンデータとして図２２の第６データファイル４６に格納する。
【０１６１】
尚、図２２のステップＳ５３におけるパターン分割処理により、分割の具合によって図２３（ｄ）に示す矩形形状のパターン１０４が生じる場合がある。この場合、ＣＰＵ３２は、生じた矩形形状のパターン１０４のデータ１０４ａを第２パターンデータとして図２２の第５データファイル４５に格納する。
【０１６２】
（２）第１パターンデータの形状が図２５（ａ）に示す形状の場合。
この場合、ＣＰＵ３２は、ステップＳ５１，Ｓ５２において、第１パターン１０５を斜辺である辺Ｂ，Ｄを含む第１，第２直角三角形１０５ａ, １０５ｂを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した第１，第２直角三角形１０５ａ，１０５ｂの類似した図６中のブロック番号５，１の分割ブロックパターンＢＰをそれぞれ選択する。
【０１６３】
そして、ＣＰＵ３２は、図２５（ｃ）、（ｂ）に示すように、それぞれ第１，第２直角三角形１０５ａ，１０５ｂを選択した分割ブロックパターンＢＰ（５）、ＢＰ（１）の透過孔形状を拡大した形状の拡大パターン１０６，１０７と形状比較する。その比較結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、図２３（ｄ）に示すように、第１，第２直角三角形１０５ａ，１０５ｂを補正した補正パターン１０６．１０７を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、補正パターン１０６，１０７の分割ブロックパターンデータ１０６ａ，１０７ａ（図２６参照）を図２２の第６データファイル４６に格納する。また、ＣＰＵ３２は、図２３（ｄ）の補正パターン１０６，１０７に含まれない矩形パターン１０５ｃのパターンデータ１０５ｃａ（図２６参照）を第２パターンデータとして図２２の第５データファイル４５に格納する。
【０１６４】
［第１パターンデータの形状が四角形であり、台形の分割ブロックパターンの形状に補正する場合］
次に、台形の分割ブロックパターンを用いる場合を、図２７のフローチャート及び図２８〜図３１に従って説明する。尚、図２７のフローチャートに示す処理において、図１７，２２のフローチャートと同じ処理については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【０１６５】
図２７のステップＳ３１，Ｓ３２は、図２のステップＳ１４のサブステップであり、変化量計算処理である。また、図２７のステップＳ３３〜Ｓ３７，Ｓ６３は、図２のステップＳ１５のサブステップであり、第１補正判定処理である。更に、図２７のステップＳ６１，Ｓ６４は、図２のステップＳ１６のサブステップであり、第１補正処理である。また、図２７のステップＳ５１，５２は、図２のステップＳ１７のサブステップであり、相違値計算処理である。更にまた、図２７のステップＳ４２，Ｓ６２は、図２のステップＳ１８，Ｓ１９にそれぞれ対応している。
【０１６６】
（１）第１パターンデータの形状が図２８（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図２７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図２８（ａ）に示す四角形形状の第１パターン１１１を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙ、ＣΔｘ，ＣΔｙ、ＤΔｘ，ＤΔｙを求める。
【０１６７】
次に、ステップＳ３２において、ＣＰＵ３２は、辺Ａ，Ｃを判定の対象とし、各辺Ａ，Ｃの変化量ＡΔｙ，ＣΔｙが誤差範囲値以下か否かを判定する。
次に、ステップＳ３３において、ＣＰＵ３２は、辺Ａの変化量ＡΔｙと辺Ｃの変化量ＣΔｙが共に誤差判定値以下であるため、第１パターン１１１を表現可能形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２はステップＳ３３からステップＳ３５に移る。
【０１６８】
ステップＳ３５において、ＣＰＵ３２は、辺Ｃを水平な辺Ｃ１に補正した第２パターン１１１ａ（図２８（ｂ）参照）を生成する。次に、ステップＳ３７において、ＣＰＵ３２は、第２パターン１１１ａの形状が台形形状か否かを認識するために辺Ｂと辺Ｄの傾斜方向が同じであるかを判定する。この場合、辺Ｂ，Ｄは傾斜方向が異なるため、ＣＰＵ３２は、第２パターン１１１ａを台形と判定し、図２７のステップＳ３７からステップＳ６１へ移る。
【０１６９】
ステップＳ６１において、ＣＰＵ３２は、補正変更した台形形状の第２パターン１１１ａを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、生成した第２パターン１１１ａの形状を示すパターンデータを第２パターンデータとして図２７の第５データファイル４５に格納する。
【０１７０】
次に、ステップＳ５１において、図２８（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、第２パターン１１１ａの辺Ｂを含む第１直角三角形１１１ｂを生成する。ＣＰＵ３２は、この第１直角三角形１１１ｂと類似した図６中のブロック番号７の分割ブロックパターンＢＰを選択する。
【０１７１】
図２８（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（７）の透過孔形状の大きさを第１直角三角形１１１ｂの大きさに拡大した拡大パターン１１２を生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１１２と第１直角三角形１１１ｂを形状比較し、相違値ＢΔｙ２を求める。
【０１７２】
次に、ステップＳ５２において、図２８（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、第２パターンデータ１１１ａの辺Ｄを含む第２直角三角形１１１ｃを生成する。ＣＰＵ３２は、この第２直角三角形１１１ｃと類似した図６中のブロック番号３の分割ブロックパターンＢＰを選択する。
【０１７３】
図２８（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（３）の透過孔形状の大きさを第２直角三角形１１１ｃの大きさに拡大した拡大パターン１１３を生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１１３と第２直角三角形１１１ｃを形状比較し、相違値ＤΔｘ２を求める。
【０１７４】
ステップＳ４２において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ５１，５２において求めた相違値ＢΔｙ２，ＤΔｘ２が誤差範囲値以内であるため、第２パターン１１１ａを分割ブロックパターンの形状に補正可能であると判定する。その判定結果に基づいて、ＣＰＵ３２は、ステップＳ４２からステップＳ６２へ移る。
【０１７５】
ステップＳ６２において、ＣＰＵ３２は、図２８（ｄ）に示すように、第２パターン１１１ａを分割ブロックパターンＢＰ（３），ＢＰ（７）の透過孔形状と相似の直角三角形形状の分割パターン１１３，１１２にパターン分割する。そして、ＣＰＵ３２は、各分割パターンのデータを、パターンデータ形式から図２９に示す分割ブロックパターン形式に変更した分割ブロックパターンデータ１１３ａ，１１２ａをそれぞれ生成する。そして、ＣＰＵ３２は、両データ１１３ａ，１１２ａを図２７の第６データファイル４６に格納する。
【０１７６】
尚、図２７のステップＳ６２におけるパターン分割処理により、図２８（ｄ）に示す矩形形状のパターン１１１ｄが残る。ＣＰＵ３２は、矩形パターン１１１ｄのデータ１１１ｄａ（図２９参照）を第２パターンデータとして図２７の第５データファイル４５に格納する。
【０１７７】
（２）第１パターンの形状が図３０（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図２７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図３０（ａ）に示す四角形形状の第１パターン１１４を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙ、ＣΔｘ，ＣΔｙ、ＤΔｘ，ＤΔｙを求める。この第１パターン１１４は、辺Ａ，Ｃが平行である台形形状であるため、ＣＰＵ３２は、ステップＳ３２，Ｓ３３，Ｓ５３，Ｓ３７，Ｓ６１の各処理を実行した後、ステップＳ５１へ移る。
【０１７８】
ステップＳ５１，Ｓ５２において、図３０（ｂ）（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、辺Ｂ，Ｄを含む第１，第２直角三角形１１４ａ，１１４ｂを生成する。しかしながら、第１，第２直角三角形１１４ａ，１１４ｂに類似した分割ブロックパターンは存在しない。そのため、ＣＰＵ３２は、各直角三角形１１４ａ，１１４ｂの各辺における相違値を求めることができない。そのため、ＣＰＵ３２は、ステップＳ４２における判定処理により形状補正処理を終了する。
【０１７９】
この場合、図２７のステップＳ６１において、台形形状の第１パターン１１４のデータ第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納されている。これにより、第１パターン１１４は、露光装置にて第２パターンデータに基づいてショット分割され所望のパターンが露光される。
【０１８０】
（３）第１パターンデータの形状が図３１（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図２７のステップＳ３１において、図３中のＣＰＵ３２は、図３１（ａ）に示す四角形形状の第１パターン１１５を構成する４つの辺Ａ〜Ｄの変化量ＡΔｘ，ＡΔｙ、ＢΔｘ，ＢΔｙ、ＣΔｘ，ＣΔｙ、ＤΔｘ，ＤΔｙを求める。この第１パターン１１５の場合、誤差範囲以内である変化量はＡΔｙだけであるので、ＣＰＵ３２はステップＳ３３において表現可能形状に補正不可能と判定し、ステップＳ３３からステップＳ７へ移る。
【０１８１】
ステップＳ７において、ＣＰＵ３２は、表現不可形状である第１パターン１１５を図３１（ｂ）に示すようにショット分割して複数の矩形パターン１１６を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、全ての矩形パターン１１６のデータを第２パターンデータとして図２７の第５データファイル４５に格納する。
【０１８２】
［ブロック分割による補正処理を行う第１の場合］
次に、分割ブロックパターンを用いてブロック分割により補正処理を行う第１の場合を、図３２のフローチャート及び図３３〜図３６に従って説明する。尚、図２７のフローチャートに示す処理において、図１７，２２のフローチャートと同じ処理については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【０１８３】
図３２のステップＳ７１〜Ｓ７４は、図２のステップＳ１２，Ｓ１４〜Ｓ１６にそれぞれ対応している。また、図３２のステップＳ７５，Ｓ７８は、図２のステップＳ１７のサブステップであり、相違値計算処理である。更に、図３２のステップＳ７６，Ｓ７９は、図２のステップＳ１８のサブステップであり、第２補正判定処理である。また、図３２のステップＳ７７，Ｓ８０，Ｓ８１は、図２のステップＳ１９のサブステップであり、第２補正処理である。
【０１８４】
（１）第１パターンに対する第１補正処理後の形状が図３３（ａ）に示す形状の場合。
先ず、図３２のステップＳ７１において、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターンの形状認識を行い、その結果に基づいて、第１パターンが矩形形状以外の場合にステップＳ７２における変化量計算処理を実行し変化量を求める。
【０１８５】
次に、ステップＳ７３において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７２において求めた変化量に基づいて、第１パターンの形状を表現可能形状に補正可能か否かを判定する。そして、その判定結果に基づいて、補正可能な場合にＣＰＵ３２はステップＳ７５における第１補正処理を実行する。その第１補正処理により補正された第１パターン１２１の図形を図３３（ａ）に示す。
【０１８６】
次に、図３２のステップＳ７５において、図３中のＣＰＵ３２は、第１パターン１２１の形状に類似した図６中のブロック番号１９の分割ブロックパターンＢＰを選択する。そして、図３３（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックパターンＢＰ（１９）の透過孔パターンを拡大した拡大パターン１２２を生成する。ＣＰＵ３２は、拡大パターン１２２と第１パターン１２１を形状比較し、下端の座標値の差を第１相違値Δｘ１として求める。次に、ステップＳ７６において、ＣＰＵ３２は、第１相違値Δｘ１と誤差範囲値を比較する。この時、相違値Δｘ１は誤差範囲値より大きいので、ＣＰＵ３２はステップＳ７６からステップＳ７８に移る。
【０１８７】
ステップＳ７８において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７５における処理とは逆に、第１パターン１２１を分割ブロックＢＰ（１９）のパターンと同じ大きさに縮小した縮小パターン１２２を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、図３３（ｃ）に示すように、縮小パターン１２３と分割ブロックＢＰ（１９）の透過孔パターンを比較し、第２相違値Δｘ２を求める。
【０１８８】
次に、ステップＳ７９において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７８において求めた第２相違値Δｘ２と誤差範囲値を比較する。この場合、相違値Δｘ２は誤差範囲値以内であるため、ＣＰＵ３２はステップＳ７９からステップＳ８０へ移る。
【０１８９】
ステップＳ８０において、ＣＰＵ３２は、図３３（ｄ）に示すように、第１パターン１２１を分割ブロックＢＰ（１９）のパターン１２４のサイズで分割するパターン分割を行う。更に、ＣＰＵ３２は、パターン分割した複数のパターン１２４のための分割ブロックパターン１２４ａ（図３４参照）を生成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ１２４ａを図３２の第６データファイル４６に格納する。
【０１９０】
（２）第１パターンに対する第１補正処理後の形状が図３５（ａ）に示す形状の場合。
先ず、ＣＰＵ３２は、図３２のステップＳ７１〜Ｓ７４の各処理を実行し、図３５（ａ）に示す第１パターン１２５を生成する。
【０１９１】
次に、ステップＳ７５において、ＣＰＵ３２は、第１パターン１２５の形状に類似した図６中のブロック番号１の分割ブロックＢＰを選択する。そして、図３５（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックＢＰ（１）の透過孔パターンを拡大した拡大パターン１２６を生成する。
【０１９２】
ＣＰＵ３２は、拡大パターン１２６と第１パターン１２５を形状比較し、右端の座標値の差を第１相違値Δｙ１として求める。次に、ステップＳ７６において、ＣＰＵ３２は、第１相違値Δｙ１と誤差範囲値を比較する。この時、相違値Δｙ１は誤差範囲値より大きいので、ＣＰＵ３２はステップＳ７６からステップＳ７８に移る。
【０１９３】
ステップＳ７８において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７５における処理とは逆に、第１パターン１２５を分割ブロックＢＰ（１）の透過孔パターンと同じ大きさに縮小した縮小パターン１２７を生成する。そして、ＣＰＵ３２は、図３５（ｃ）に示すように、縮小パターン１２７と分割ブロックＢＰ（１）の透過孔パターンを比較し、第２相違値Δｙ２を求める。
【０１９４】
次に、ステップＳ７９において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ７８において求めた第２相違値Δｙ２と誤差範囲値を比較する。この場合、相違値Δｙ２は誤差範囲値以内であるため、ＣＰＵ３２はステップＳ７９からステップＳ８０へ移る。
【０１９５】
ステップＳ８０において、ＣＰＵ３２は、図３５（ｄ）に示すように、第１パターン１２５を分割ブロックＢＰ（１）のパターン１２８と矩形パターン１２９で分割するパターン分割を行う。更に、ＣＰＵ３２は、パターン分割した複数のパターン１２８のための分割ブロックパターンデータ１２８ａと、矩形パターン１２９のためのパターンデータ１２９ａを生成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ１２８ａを図３２の第６データファイル４６に格納し、パターンデータ１２９ａを第２パターンデータとして第５データファイル４５に格納する。
【０１９６】
［ブロック分割による補正処理を行う第２の場合］
次に、分割ブロックパターンを用いてブロック分割により補正処理を行う第２の場合を、図３７のフローチャート及び図３８〜図４１に従って説明する。尚、図３７のフローチャートに示す処理において、図３２のフローチャートと同じ処理については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【０１９７】
図３７のステップＳ７１〜Ｓ７６は、図２のステップＳ１２，Ｓ１４〜Ｓ１８にそれぞれ対応している。また、図３７のステップＳ７７，Ｓ８０，Ｓ８１は、図２のステップＳ１９のサブステップであり、第２補正処理である。
【０１９８】
（１）第１補正処理後の形状が図３８（ａ）に示す三角形形状の場合。
先ず、ＣＰＵ３２は、図３２のステップＳ７１〜Ｓ７４の各処理を実行し、図３８（ａ）に示す第１パターン１３１を生成する。
【０１９９】
次に、ステップＳ７５において、ＣＰＵ３２は、第１パターン１３１の形状に類似した図６中のブロック番号１０の分割ブロックＢＰを選択する。そして、図３８（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックＢＰ（１０）の透過孔パターンを拡大した拡大パターン１３２を生成する。
【０２００】
ＣＰＵ３２は、拡大パターン１３２と第１パターン１３１を形状比較し、右端の座標値の差を第１相違値Δｘ１として求める。次に、ステップＳ７６において、ＣＰＵ３２は、第１相違値Δｘ１と誤差範囲値を比較する。この時、相違値Δｘ１は誤差範囲値より大きいので、ＣＰＵ３２はステップＳ７６からステップＳ８２に移る。
【０２０１】
ステップＳ８２において、ＣＰＵ３２は、図３８（ｃ）に示すように、第１パターン１３１と分割ブロックＢＰ（１０）の透過孔形状のパターン１３３の相違値Δｘ２が誤差範囲値を越えた位置で第１パターン１３１を分割する。即ち、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンＢＰ（１０）の透過孔形状に基づくパターン１３３の大きさを、そのパターン１３３と第１パターン１３１との相違値が誤差範囲値を越えないように決定する。
【０２０２】
次に、ステップＳ８３において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ８２において分割したパターン１３３のための分割ブロックパターンデータ１３３ａ（図３９参照）を生成する。ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ１３３ａを図３７の第６データファイル４６に格納する。
【０２０３】
尚、図３８（ｃ）に示すように、ＣＰＵ３２は、上記のように第１パターン１３１を分割する際に矩形パターン１３４を用いて分割する。ＣＰＵ３２は、この矩形パターン１３４のパターンデータ１３４ａ（図３９参照）を第２パターンデータとして図３７の第５データファイル４５に格納する。
【０２０４】
（２）第１補正処理後の形状が図４０（ａ）に示す四角形形状の場合。
先ず、ＣＰＵ３２は、図３２のステップＳ７１〜Ｓ７４の各処理を実行し、図４０（ａ）に示す第１パターン１３５を生成する。
【０２０５】
次に、ステップＳ７５において、ＣＰＵ３２は、第１パターン１３５の形状に類似した図６中のブロック番号１４の分割ブロックＢＰを選択する。そして、図４０（ｂ）に示すように、ＣＰＵ３２は、選択した分割ブロックＢＰ（１４）の透過孔パターンを拡大した拡大パターン１３６を生成する。
【０２０６】
ＣＰＵ３２は、拡大パターン１３６と第１パターン１３５を形状比較し、右端の座標値の差を第１相違値Δｙ１として求める。次に、ステップＳ７６において、ＣＰＵ３２は、第１相違値Δｙ１と誤差範囲値を比較する。この時、相違値Δｙ１は誤差範囲値より大きいので、ＣＰＵ３２はステップＳ７６からステップＳ８２に移る。尚、第１パターン１３５を分割ブロックパターンＢＰ（１４）の大きさに縮小した縮小パターン１３７においても、相違値が誤差範囲値以上であるため、図３２に示す補正処理においてはＣＰＵ３２は補正不可能と判定する。
【０２０７】
ステップＳ８２において、ＣＰＵ３２は、図４０（ｃ）に示すように、第１パターン１３５と分割ブロックＢＰ（１４）の透過孔形状のパターン１３８の相違値が誤差範囲値を越えた位置で第１パターン１３５を分割する（図４０（ｄ）参照）。即ち、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンＢＰ（１４）の透過孔形状に基づく縮小パターン１３８の大きさを、その縮小パターン１３８と第１パターン１３５との相違値が誤差範囲値を越えないように決定する。次に、ステップＳ８３において、ＣＰＵ３２は、ステップＳ８２において分割したパターン１３８のための分割ブロックパターン１３８ａを生成する。そして、ＣＰＵ３２は、分割ブロックパターンデータ１３８ａを図３７の第６データファイル４６に格納する。
【０２０８】
以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）設計パターンが表現不可形状である場合に、その表現不可形状を表現可能形状に補正可能か否かを判定する。その判定結果に基づいて、補正可能と判定した場合に表現不可形状を表現可能形状に補正した後、その表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する。その判定結果に基づいて、補正可能と判定した場合に表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正するようにした。これにより、露光データのデータ量が少なくなるため、露光装置におけるショット時間を短くすることができる。
【０２０９】
（２）表現不可形状と表現可能形状とを形状比較して変化量を求め、その変化量と予め設定された誤差範囲値を比較して表現不可形状を表現可能形状に補正可能か否かを判定するようにした。その結果、判定のための時間を短縮することができ、露光データの作成に要する時間を短くすることができる。
【０２１０】
（３）分割ブロックパターンの形状の大きさを表現可能形状の大きさに対応させて相違値を求め、その相違値と予め設定された誤差範囲値を比較して表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした。その結果、判定のための時間を短縮することができ、露光データの作成に要する時間を短くすることができる。
【０２１１】
（４）表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正不可能と判定した場合に、表現可能形状を分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンを作成し、その縮小パターンが分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する。そして、その判定結果に基づいて、補正可能と判定した場合に、表現可能形状を縮小パターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータを作成するようにした。その結果、多くの種類のパターンから分割ブロックパターンデータを生成することができるため、露光データのデータ量が少なくなり、露光装置におけるショット時間を短くすることができる。
【０２１２】
（５）表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正不可能と判定した場合に、表現可能形状と分割ブロックパターンの形状の相違値が誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンを作成し、その縮小パターンにより表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータを作成するようにした。その結果、多くの種類のパターンから分割ブロックパターンデータを生成することができるため、露光データのデータ量が少なくなり、露光装置におけるショット時間を短くすることができる。
【０２１３】
尚、本発明は前記実施形態の他、以下の態様で実施してもよい。
○上記実施の形態では、四角形形状のパターンの一部を分割した直角三角形を生成し、その三角形が補正可能か否かを判定するようにしたが、三角形形状のパターンを複数の直角三角形に分割した後、その複数の直角三角形が補正可能か否か判断するようにしてもよい。例えば、図４２に示す三角形形状のパターン１４１〜１４４は、上記各処理では表現可能形状に補正不可能と判定される。しかしながら、各パターン１４１〜１４４において点線にてそれぞれ直角三角形１４１ａ，１４１ｂ〜１４４ａ，１４４ｂに分割する。これらの直角三角形１４１ａ〜１４４ｂは表現可能形状である。これにより、更に各直角三角形１４１ａ〜１４４ｂが分割ブロックパターンに補正可能であり、露光データのデータ量を少なくすると共に露光時間を短縮することができる。
【０２１４】
また、図１４（ａ）の三角形形状の第１パターン８３は、図の点線から辺Ａを含む三角形形状のパターンと、辺Ｂを含む直角三角形パターンに分割する。これにより、辺Ｂを含むパターンは表現可能形状であるため更に分割ブロックパターンに補正が可能である。これにより、露光データのデータ量を少なくすると共に露光時間を短縮することができる。
【０２１５】
○上記実施形態では、四角形をその２つの斜辺を含む三角形状のパターンに分割した時に、２つのパターンをともの補正可能な場合において分割ブロックパターンの形状に補正するようにしたが、一方のパターンのみに対して補正判定を行うようにしても良い。
【０２１６】
○上記実施の形態では、出力する分割ブロックパターンデータの領域に格納するブロック種類を「分割」としたが、分割ブロックパターン形状と一致している場合には繰り返しブロックパターンデータ形式として出力しても良い。これにより、露光装置におけるショット分割の際にショット分割の判定及び計算が不要となり、露光時間の短縮が図られる。
【０２１７】
○上記実施形態では、表現不可形状に対するショット分割処理を露光データ作成装置にて行うようにしたが、露光装置にて行うようにするべく露光データを作成する処理構成としても良い。逆に、表現可能形状に対するショット分割を露光装置にて行うようにするべく露光データを作成したが、露光データ作成装置３１にて表現可能形状のショット分割を行い、その処理後のデータを露光データに変換して露光装置に供給する構成としてもよい。
【０２１８】
○上記実施形態では、露光媒体としてウェハ２３にＬＳＩのレイアウトパターンを露光する場合について説明したが、露光媒体としてはウェハ以外の物でもよく、例えば、ＬＣＤやＰＤＰ等に用いられる基板にパターンを露光する場合に用いてもよい。
【０２１９】
○上記実施形態のプログラムを記録した記録媒体は、コンピュータソフトウエアを記録できるものならどのようなものでもよい。具体的には、半導体メモリ、フロッピ−デイスク（ＦＤ）、ハードディスク（ＨＤ）、光ディスク（ＣＤ，ＤＶＤ）、光磁気ディスク（ＭＯ，ＭＤ）、相変化ディスク（ＰＤ）、磁気テープ等が含まれる。
【０２２０】
【発明の効果】
以上詳述したように、請求項１〜１０に記載の発明によれば、ショット数を少なくして露光時間の短縮を図ることの可能な露光データ作成方法を提供することができる。
【０２２１】
請求項１１〜１６に記載の発明によれば、ショット数を少なくして露光時間の短縮を図ることの可能な露光データ作成装置を提供することができる。
請求項１７に記載の発明によれば、ショット数を少なくして露光時間の短縮を図ることの可能なプログラムを記録した記録媒体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 露光データ作成処理の概略フローチャート。
【図２】 補正処理の詳細なフローチャート。
【図３】 露光データ作成装置の概略構成図。
【図４】 （ａ）（ｂ）は、誤差範囲値を示す説明図。
【図５】 データ形式を示す説明図。
【図６】 登録されたブロックの形状を示す説明図。
【図７】 （ａ）〜（ｃ）は、三角形に対する補正処理の説明図。
【図８】 図７（ｃ）のパターンデータを示す説明図。
【図９】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図１０】 図９（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図１１】 三角形のパターンに対する補正処理のフローチャート。
【図１２】 （ａ）〜（ｄ）は、三角形に対する補正処理の説明図。
【図１３】 図１２（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図１４】 （ａ），（ｂ）は、三角形に対する補正処理の説明図。
【図１５】 （ａ）〜（ｄ）は、三角形に対する補正処理の説明図。
【図１６】 図１５（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図１７】 四角形のパターンに対する補正処理のフローチャート。
【図１８】 （ａ）〜（ｆ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図１９】 図１８（ｆ）のパターンデータを示す説明図。
【図２０】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２１】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２２】 四角形のパターンに対する補正処理のフローチャート。
【図２３】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２４】 図２４（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図２５】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２６】 図２５（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図２７】 四角形のパターンに対する補正処理のフローチャート。
【図２８】 （ａ）〜（ｄ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図２９】 図２８（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図３０】 （ａ）〜（ｃ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図３１】 （ａ），（ｂ）は、四角形に対する補正処理の説明図。
【図３２】 分割ブロックへの補正処理を示すフローチャート。
【図３３】 （ａ）〜（ｄ）は、分割ブロックへの補正処理の説明図。
【図３４】 図３３（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図３５】 （ａ）〜（ｄ）は、分割ブロックへの補正処理の説明図。
【図３６】 図３５（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図３７】 分割ブロックへの補正処理を示すフローチャート。
【図３８】 （ａ）〜（ｃ）は、分割ブロックへの補正処理の説明図。
【図３９】 図３８（ｃ）のパターンデータを示す説明図。
【図４０】 （ａ）〜（ｄ）は、分割ブロックへの補正処理の説明図。
【図４１】 図４０（ｄ）のパターンデータを示す説明図。
【図４２】三角形のパターンを表現可能形状に分割する説明図。
【図４３】 ブロック露光装置の概略構成図。
【図４４】 ステンシルマスクの平面図。
【図４５】 従来の露光データ作成処理を示す説明図。
【図４６】 表現可能パターンの形状を示す説明図。
【符号の説明】
Ｓ１４ 第１判定ステップとしての変化量計算処理
Ｓ１５ 第１判定ステップとしての第１判定処理
Ｓ１６ 第１補正ステップとしての第１補正処理
Ｓ１７ 第２判定ステップとしての相違値計算処理
Ｓ１８ 第２判定ステップとしての第２判定処理
Ｓ１９ 第２補正ステップとしての第２補正処理
Claims (17)
- 露光媒体に半導体集積回路を作成するための設計パターンを予め形状が設定された分割ブロックパターンを搭載したマスクを用いて露光するブロック露光のための露光データを作成する露光データ作成方法であって、
前記設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み前記露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かを判定する第１判定ステップと、
前記第１判定ステップにおける判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現不可形状を表現可能形状に補正する第１補正ステップと、
前記補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する第２判定ステップと、
前記第２判定ステップにおける判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正する第２補正ステップと、
前記分割ブロックパターンのデータに基づいて露光データを作成する露光データ作成ステップとを含む露光データ作成方法。 - 前記第１判定ステップは、
前記表現不可形状と前記表現可能形状とを形状比較し、前記表現不可形状を前記表現可能形状に変更するのに必要とする変化量を計算するステップと、
前記変化量と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現不可形状を前記表現可能形状に補正可能か否かを判定するステップと
を含む請求項１に記載の露光データ作成方法。 - 前記第２判定ステップは、
前記分割ブロックパターンの形状の大きさを前記表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と前記表現可能形状とを比較し、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の間の相違値を計算するステップと、
前記相違値と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するステップと
を含む請求項１又は２に記載の露光データ作成方法。 - 前記設計パターンの形状は三角形形状であり、
前記第１判定ステップにおいて、前記三角形形状の設計パターンを直角三角形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、
前記第２判定ステップにおいて、前記直角三角形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした
請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法。 - 前記設計パターンの形状は四角形形状であり、
前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、
前記第２判定ステップにおいて、前記平行四辺形の表現可能形状を、平行四辺形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした
請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法。 - 前記設計パターンの形状は四角形形状であり、
前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを平行四辺形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、
前記第２判定ステップにおいて、前記平行四辺形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした
請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法。 - 前記設計パターンの形状は四角形形状であり、
前記第１判定ステップにおいて、前記四角形形状の設計パターンを台形の表現可能形状に補正可能か否かを判定し、
前記第２判定ステップにおいて、前記台形の表現可能形状を、直角三角形の分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定するようにした
請求項１乃至３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法。 - 前記第２補正ステップは、前記表現可能形状を前記第２判定ステップにおいて前記表現可能形状の大きさに前記分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更し、その変更後の形状を前記分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータを作成するようにした請求項１乃至７のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法。
- 前記第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンを作成し、その縮小パターンが前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定し、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータを作成するステップを含む請求項１乃至８のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法。
- 前記第２判定ステップの判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の相違値が前記誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンを作成し、その縮小パターンにより前記表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータを作成するステップを含む請求項１乃至８のうちの何れか１項に記載の露光データ作成方法。
- 露光媒体に半導体集積回路を作成するための設計パターンを予め形状が設定された分割ブロックパターンを搭載したマスクを用いて露光するブロック露光のための露光データを作成する露光データ作成装置であって、
前記設計パターンが水平及び垂直な辺を含まず露光装置にて露光不可能な形状である表現不可形状である場合に、その表現不可形状を水平あるいは垂直な辺を含み前記露光装置にて露光可能な形状である表現可能形状に補正可能か否かを判定する第１判定手段と、
前記第１判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現不可形状を表現可能形状に補正する第１補正手段と、
前記補正された表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する第２判定手段と、
前記第２判定手段における判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に前記表現可能形状を分割ブロックパターンの形状に補正する第２補正手段と、
前記分割ブロックパターンのデータに基づいて露光データを作成する露光データ作成手段とを備えた露光データ作成装置。 - 前記第１判定手段は、
前記表現不可形状と前記表現可能形状とを形状比較し、前記表現不可形状を前記表現可能形状に変更するのに必要とする変化量を計算する手段と、
前記変化量と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現不可形状を前記表現可能形状に補正可能か否かを判定する手段と
を備えた請求項１１に記載の露光データ作成装置。 - 前記第２判定手段は、
前記分割ブロックパターンの形状の大きさを前記表現可能形状の大きさに対応させ、その対応する大きさの形状と前記表現可能形状とを比較し、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の間の相違値を計算する手段と、
前記相違値と予め設定された誤差範囲値を比較し、その比較結果に基づいて前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定する手段と
を備えた請求項１１又は１２に記載の露光データ作成装置。 - 前記第２補正手段は、前記表現可能形状を前記第２判定ステップにおいて前記表現可能形状の大きさに前記分割ブロックパターンの大きさを対応させた形状に変更し、その変更後の形状を前記分割ブロックパターンを用いて露光するための分割パターンデータを作成するようにした請求項１１乃至１３のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置。
- 前記第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状の大きさに縮小した縮小パターンを作成し、その縮小パターンが前記分割ブロックパターンの形状に補正可能か否かを判定し、その判定結果に基づいて、補正可能と判定された場合に、前記表現可能形状を前記分割ブロックパターンの形状で分割した分割ブロックパターンデータを作成する手段を備えた請求項１１乃至１４のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置。
- 前記第２判定手段の判定結果に基づいて、補正不可能と判定された場合に、前記表現可能形状と前記分割ブロックパターンの形状の相違値が前記誤差範囲値以内となる分割用の縮小パターンを作成し、その縮小パターンにより前記表現可能形状を分割した分割ブロックパターンデータを作成する手段を備えた請求項１１乃至１４のうちの何れか１項に記載の露光データ作成装置。
- 請求項１乃至１０のうちのいずれか１項に記載のステップよりなるプログラムを記録した記録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06545498A JP4156700B2 (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体 |
| US09/132,461 US6275604B1 (en) | 1998-03-16 | 1998-08-12 | Method and apparatus for generating semiconductor exposure data |
| DE19841528A DE19841528B4 (de) | 1998-03-16 | 1998-09-10 | Verfahren und Gerät zum Erzeugen von Halbleiterbelichtungsdaten |
| KR1019980038172A KR100311594B1 (ko) | 1998-03-16 | 1998-09-16 | 노광데이터작성방법,노광데이터작성장치및기록매체 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06545498A JP4156700B2 (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258771A JPH11258771A (ja) | 1999-09-24 |
| JP4156700B2 true JP4156700B2 (ja) | 2008-09-24 |
Family
ID=13287614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06545498A Expired - Fee Related JP4156700B2 (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6275604B1 (ja) |
| JP (1) | JP4156700B2 (ja) |
| KR (1) | KR100311594B1 (ja) |
| DE (1) | DE19841528B4 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000112112A (ja) * | 1998-10-05 | 2000-04-21 | Mitsubishi Electric Corp | パターン図形の解像性検証方法および半導体パターン形成方法 |
| KR100303142B1 (ko) * | 1999-10-29 | 2001-11-02 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시패널의 제조방법 |
| JP2001133962A (ja) * | 1999-11-02 | 2001-05-18 | Advantest Corp | 部分一括転写露光用マスクデータの作成方法及びそれによる露光方法 |
| JP4156186B2 (ja) * | 2000-08-29 | 2008-09-24 | 株式会社日立製作所 | 電子ビーム描画装置および描画方法 |
| US6901574B2 (en) * | 2001-02-09 | 2005-05-31 | Lacour Patrick J. | Data management method for mask writing |
| JP4746753B2 (ja) | 2001-03-05 | 2011-08-10 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 荷電粒子線露光用マスクの形成方法および荷電粒子線用マスクを形成するためのパターンデータの処理プログラム |
| JP2003045780A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-14 | Nec Corp | マスク描画データの作成方法 |
| US7000207B2 (en) * | 2003-04-10 | 2006-02-14 | Sioptical, Inc. | Method of using a Manhattan layout to realize non-Manhattan shaped optical structures |
| US7448012B1 (en) | 2004-04-21 | 2008-11-04 | Qi-De Qian | Methods and system for improving integrated circuit layout |
| JP4174504B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2008-11-05 | アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム |
| JP4989158B2 (ja) * | 2005-09-07 | 2012-08-01 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子線描画データの作成方法及び荷電粒子線描画データの変換方法 |
| US8369569B2 (en) * | 2008-03-21 | 2013-02-05 | Synopsys, Inc. | Method and apparatus for detecting non-uniform fracturing of a photomask shape |
| US8984451B2 (en) * | 2013-02-22 | 2015-03-17 | Aselta Nanographics | Free form fracturing method for electronic or optical lithography |
| FR3005170B1 (fr) * | 2013-04-29 | 2017-02-17 | Aselta Nanographics | Procede de lithographie a optimisation combinee de l'energie rayonnee et de la geometrie applicable sur des formes complexes |
| KR20150019695A (ko) * | 2013-08-14 | 2015-02-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 단위 마스크 및 마스크 조립체 |
| DE102013016738B4 (de) * | 2013-10-06 | 2018-04-05 | Vistec Electron Beam Gmbh | Elektronenstrahlschreiber |
| JP6349944B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2018-07-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 |
| US10381196B2 (en) * | 2015-03-23 | 2019-08-13 | Nuflare Technology, Inc. | Charged particle beam writing apparatus and method for calculating irradiation coefficient |
| JP6427452B2 (ja) * | 2015-03-30 | 2018-11-21 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 露光データ生成方法、製造方法、露光データ生成装置、露光データ生成プログラム、および、製造システム |
| CN114981724B (zh) * | 2019-12-13 | 2025-10-03 | Asml荷兰有限公司 | 用于改善掩模图案生成一致性的方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57204125A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Hitachi Ltd | Electron-ray drawing device |
| JPH0793253B2 (ja) * | 1986-10-31 | 1995-10-09 | 株式会社東芝 | 荷電ビ−ム露光装置 |
| US5062054A (en) * | 1988-03-10 | 1991-10-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Layout pattern generation and geometric processing system for LSI circuits |
| US5095447A (en) * | 1988-03-25 | 1992-03-10 | Texas Instruments Incorporated | Color overlay of scanned and reference images for display |
| EP0364929B1 (en) | 1988-10-20 | 1995-09-06 | Fujitsu Limited | Fabrication method of semiconductor devices and transparent mask for charged particle beam |
| EP0367496B1 (en) * | 1988-10-31 | 1994-12-28 | Fujitsu Limited | Charged particle beam lithography system and a method thereof |
| DE69032280T2 (de) * | 1989-12-04 | 1998-08-20 | Fujitsu Ltd | Verfahren zur Wahrnehmung und Justierung der Belichtungsbedingungen in einem Belichtungssystem mittels Ladungsträgern und ein solches System |
| JP2663063B2 (ja) * | 1991-06-12 | 1997-10-15 | 富士通株式会社 | 荷電ビーム露光方法 |
| US5537487A (en) * | 1991-07-29 | 1996-07-16 | Fujitsu Limited | Pattern judging method, mask producing method, and method of dividing block pattern for use in block exposure |
| US5349197A (en) * | 1991-09-30 | 1994-09-20 | Fujitsu Limited | Method for exposing a pattern on an object by a charged particle beam |
| JP3118048B2 (ja) | 1991-12-27 | 2000-12-18 | 富士通株式会社 | ブロック露光用パターン抽出方法 |
| US5424548A (en) * | 1993-09-21 | 1995-06-13 | International Business Machines Corp. | Pattern specific calibration for E-beam lithography |
| JP3334441B2 (ja) * | 1995-08-01 | 2002-10-15 | ソニー株式会社 | フォトマスク描画用パターンデータ補正方法と補正装置 |
| US5801954A (en) * | 1996-04-24 | 1998-09-01 | Micron Technology, Inc. | Process for designing and checking a mask layout |
| DE19818440C2 (de) * | 1998-04-24 | 2002-10-24 | Pdf Solutions Gmbh | Verfahren zur Erzeugung von Daten für die Herstellung einer durch Entwurfsdaten definierten Struktur |
-
1998
- 1998-03-16 JP JP06545498A patent/JP4156700B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-08-12 US US09/132,461 patent/US6275604B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-09-10 DE DE19841528A patent/DE19841528B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-09-16 KR KR1019980038172A patent/KR100311594B1/ko not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19990076502A (ko) | 1999-10-15 |
| DE19841528B4 (de) | 2005-08-04 |
| KR100311594B1 (ko) | 2002-03-25 |
| DE19841528A1 (de) | 1999-10-07 |
| JPH11258771A (ja) | 1999-09-24 |
| US6275604B1 (en) | 2001-08-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4156700B2 (ja) | 露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記録媒体 | |
| JP4488727B2 (ja) | 設計レイアウト作成方法、設計レイアウト作成システム、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法、及び設計レイアウト作成プログラム | |
| US8525135B2 (en) | System and method of electron beam writing | |
| US6088520A (en) | Method of producing highly precise charged beam drawing data divided into plurality of drawing fields | |
| JPH11274036A (ja) | 荷電ビーム描画装置 | |
| JP4357287B2 (ja) | 修正指針の発生方法、パターン作成方法、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及びプログラム | |
| US5995878A (en) | Method and apparatus for generating exposure data of semiconductor integrated circuit | |
| US6717160B2 (en) | Beam direct-writing apparatus, imaging apparatus and method of obtaining preferable path passing through points | |
| JP3461305B2 (ja) | マスク描画データ作成方法、作成装置および記録媒体 | |
| JP3923919B2 (ja) | 露光データ生成方法及び露光データ生成プログラム | |
| US7368737B2 (en) | Electron beam writing method, electron beam writing apparatus and semiconductor device manufacturing method | |
| US6847359B1 (en) | Image processing apparatus and image capturing apparatus, which approximate object shapes using a plurality of polygon patches | |
| JP2012244082A (ja) | 露光データの生成方法 | |
| JP5615531B2 (ja) | 荷電粒子ビーム描画用データの生成方法 | |
| JP3064997B2 (ja) | 図形一括露光データ用検証方法 | |
| JP5314937B2 (ja) | 描画装置及び描画用データの処理方法 | |
| JP3353766B2 (ja) | パターンデータ処理方法及びプログラムを記憶した記憶媒体 | |
| JP4503154B2 (ja) | 描画データ作成方法及び装置 | |
| JP4759842B2 (ja) | 可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール | |
| JP2002025900A (ja) | 露光装置、露光データ作成方法、および、マスク | |
| JP2001159809A (ja) | マスクパターン設計装置、マスクパターン設計方法およびマスクパターン設計プログラムを格納したコンピュータ読取り可能な記録媒体 | |
| US7665056B1 (en) | Method and system for dynamic placement of bond fingers on integrated circuit package | |
| JP2000208409A (ja) | 電子線描画用デ―タの処理方法、電子線露光用マスク及び記録媒体 | |
| JPH11307419A (ja) | 半導体プロセスにおけるシミュレーション方法 | |
| JP3282894B2 (ja) | 露光データ作成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050310 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050830 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071108 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071127 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071127 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080125 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080401 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080528 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080708 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080710 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110718 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110718 Year of fee payment: 3 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110718 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |