JP4129430B2 - 多層光学製品のための方法および装置 - Google Patents

Description

（関連出願への相互参照）
本出願は、その全体が本明細書に参考として援用されている、２００１年８月２２日に出願された「光学的に平坦な多層製品」と題する合衆国仮出願第６０／３１４，３２０号の利益を主張する。

（技術分野）
本発明は、光学製品の一般分野に関する。より詳細には、本発明は、改良された光学特性をもつ多層光学製品を形成することに関する。

多くの光学システムは、特別の光学特性、特に、表面平坦度、厚さの均一性、および／または弧形度を有するデバイスを必要とする。製品の表面平坦度は、規定の表面プロフィール（例えば、このプロフィールは、特定の弧形度を有し得る）からの製品の表面の変動を測定することにより決定される。厚さの均一性は、規定の厚さまたはプロフィール（例えば、平行またはＶ字形）からの製品の変動により測定される。これらパラメーターの両方は、代表的には、伝送距離（例えば、波／ｃｍ）あたりの規定のプロフィールからの変動の光学波の単位で測定される。ここで、この波は、規定された波長、例えば、測定のため、または最終的な目的のために用いられている特定の光の波長である。本明細書中で用いられるとき、波／ｃｍの単位は、所望の光学特徴を有することが意図される製品の領域に亘る平均測定を示す。弧形度は、図１に示されるように決定される物理的測定値である。製品の中心から、平面が製品と出会う２つの接触点間に引かれた直線までの距離Ｂを、その直線の距離Ｙの半分で除する。この単位（例えば、Ｂｃｍ／（Ｙ／２）ｃｍ）は、除して単位のない値を与える。光学製品を形成する方法は、「多層光学製品を製作する方法」と題する米国特許第５，９３２，０４５号、および「多層光学製品および多層光学製品を有するシステムの製作方法」と題する米国特許第６，１５６，４１５号で論議されおり、その両方は、参考として援用される。

製品のその製品を通過する光に関する影響に関心がある光学用途には、代表的には、物理的厚さの均一性は依存されない。それに代わり、伝送平坦度が、光学経路長さ（以下に議論される）の予め選択されたプロフィールからの偏差を測定することにより決定され、そして図２は、この測定を、均一厚さを有することが所望される形態（すなわち、平行表面）について示す。伝送平坦度はまた、波／ｃｍで表され、そして当業者に公知であるように、伝送平坦度はまた、Ｊ．Ｗ．Ｇｏｏｄｍａｎ、Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｔｏ Ｆｏｕｒｉｅｒ Ｏｐｔｉｃｓ、ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ、１９６８で論議されるように、ｒｍｓ（根２乗平均）波／ｃｍで、またはストレール（Ｓｔｒｅｈｌ）値で表され得る。図２は、多層製品を通る２つの経路を示し、これら経路は、製品を横に横切って互いから距離ｚに位置する。距離ｚを横切る物理的経路長さの差異は、｜ｌ’−ｌ｜であり、そして正確な厚さ均一性からの変動は、｜ｌ’−ｌ｜／ｚであり、これは、代表的には、マイクロメーター／ｃｍで測定される。この物理的経路長さは、個々の層１０、１２、および１４の屈折率、または用いられている光の波長によって影響されないし、考慮もしない。

光学経路長さ（ＯＰＬ）は、伝送平坦度に関係あるパラメーターであり、そして以下の式により表される：
ここで、

ｎ_ｊは、層ｊの屈折率であり、そして
Ｌ_ｊは、層ｊを通る物理的経路長さである。

物理的経路長さとは対照的に、このＯＰＬは、屈折率に依存する。例えば、図２の製品のような多層製品では、このＯＰＬは、層１０、１２、および１４の屈折率に依存する。詳細には、図２の製品を横切るＯＰＬの差異（ΔＯＰＬ）は以下に等しい：

この等式は、目的が小ＯＰＬ差異である場合、基板が比較的大きな個々の厚さ変動を有するが、全体厚さの変動が比較的小さい場合、基板の屈折率が近接していることが有用であることを示す。図２に反映されるように、伝送平坦度は、平行形態が所望されると仮定すると、それ故、ΔＯＰＬ／ｚである。光学用途には、ＯＰＬにおける選択されたプロフィールからの変動が、横断単位あたりの物理的経路長さにおける変化よりも意味があることは明瞭である。

伝送および表面平坦度値は、波／ｃｍで表され、ここで、得られる値は、規定の波長についてである。本明細書におけるこのような波／ｃｍの使用は、この値が、物理的経路長さとは対照的に光学経路長さについてであることを示す。本出願の目的には、波／ｃｍの値が、少なくとも約０．３〜約０．９マイクロメーターの範囲の波長について有用であるが、本発明の概念は、この範囲を超えて広がる。

光学用途で代表的に用いられる基板には、表面および伝送平坦度に影響する３つの基本的タイプの厚さの変動がある。第１のタイプは、基板の表面上の低から高への直線状の厚さの変化であり、これにより基板は本質的にＶ字型の形態をとる。このような基板の厚さの単位長さあたりの変動は、比較的一定である。第２のタイプの変動は、段階的な、波状の、またはランダムな変動であり、ここで、厚さは、基板の幅を横切って、例えば、低から、高へ、低へ、段階的に高へ変動する。このような基板の単位長さあたりの厚さ変動は、比較的一定であるが、基板は、Ｖ字形の形態をとらない。第３のタイプの変動は、局在化された鋭いくぼみ（ｄｉｖｏｔ）または突出部（ｐｅａｋ）である。このようなくぼみまたは突出部は、代表的には、基板に沿って異なる位置で行われた厚さ測定において急速な変動を引き起こし、従ってｒｍｓ測定をそらし得る。この第３のタイプの変動を有する構造は、代表的には、当該分野で公知のように、スクラッチおよび壕（ｄｉｇ）に関して測定される。明らかに、これらの特徴は、しばしば、低表面平滑度変動、低厚さ均一性変動、および／または低弧形度と組み合わせて構造を形成するための試行のとき、多くの困難性を引き起こす。

正確な用途で用いられる製品は、望ましくは、０．１波／ｃｍまたはそれより良好な表面および伝送平坦度を有する。平行表面が所望される伝送用途のための製品は、望ましくは、１０^−２以下の弧形度（数字が小さいほど弧形度が小さい）を有し、そして平行表面が所望される反射用途のための製品は、望ましくは、１０^−５以下の弧形度を有する。このような特性を有する基板または多層製品を調製または得ることは困難である。例えば、平坦なパネルディスプレイのために意図された高品質ガラス（本明細書ではディスプレイガラスと称される）は、約０．２５〜約４波／ｃｍの範囲の表面および伝送平坦度値を有する。より良好な、そしてより一貫した平坦値を得るために、厚いガラス片を得、そしてこのガラスを所望の平坦度に研磨することが必要である。しかし、このような化学的／機械的研磨は、高価でありそして時間を消費し、そしてなお上記の特性を有する基板および製品を調製するためには不適切であり得る。基板の光学平坦度を改良し、そして光学製品、例えば、特定の弧形度、厚さ均一度、および表面平坦度を有する製品を形成するためのより容易およびより安価な方法が、特に、不適切な表面平坦度、厚さ均一度、または弧形度で先に既に形成された光学製品について所望される。

本発明に従って作製されるセルは、ホログラフィ記憶のために用いられることもまた可能である。ホログラフィデータ記憶システムのためのメモリーセルは、例えば、Ｈ．−Ｙ．Ｌｉら、「三次元ホログラフィディスク」Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．３３、３７６４〜３７７４頁（１９９４）、およびＡ．Ｐｕら、「感光性フィルムにおけるホログラフィデータ記憶のための新たな方法」Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｆｒｏｍ ＩＥＥＥ／ＩＥＯＳ １９９４シンポジウム、４３３〜４３５頁中で論議され、それらの開示は、本明細書によって参考として援用される。セルが、約０．２５波／ｃｍまたはより良好な表面および伝送平坦度、および約１０^−２以下の弧形度を有することが望ましい。基板の間に感光性ポリマーを配置する従来法は、これらの特性を提供しない。従って、これらの特性を有するホログラフィメモリーセルに対する必要性が存在している。さらに、増加した記憶能力をもつホログラフィデータ記憶システムのためのメモリーセルに対する必要性が存在している。

（発明の要旨）
本発明は、多層ホログラフィメモリーセルのための方法および装置により、上記の必要性に対する解決を提供する。

本発明の実施形態では、多層の光学製品を製作する方法が提示され、以下の工程、第１の表面および第２の表面をもつ第１の基板を提供する工程、第１の表面および第２の表面をもつ第２の基板を提供する工程、および第１の表面および第２の表面をもつ第３の基板を提供する工程を包含する。該第１の基板の第１の表面は、第１のホルダーで把握され、ここで、該第１の基板の第１の表面は、該第１のホルダーの内表面に保持される。該第２の基板の第１の表面は、第２のホルダーで把握され、ここで、該第２の基板の第１の表面は、該第２のホルダーの内表面に保持される。該第１のホルダーの内表面および該第２のホルダーの内表面は、整列されて、選択された角度の関係で互いに対向する。第１の接着剤が、該第１の基板の第２の表面および該第２の基板の第２の表面から選択される１つ以上の表面上に配置される。この第１の接着剤は、該第１のホルダーおよび第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、および該第１のホルダーおよび第２のホルダーの該内表面が選択された距離の関係および該選択された角度の関係にある間に少なくとも硬化し、第１の多層製品を形成する。

該第１のホルダーは、該第１の多層製品から除去され、そして該第３の基板の第１の表面は、該除去された第１のホルダーで把握され、それによって該第３の基板の第１の表面が該第１のホルダーの内表面に保持される。第２の接着剤が、該第３の基板の第２の表面および該形成された多層製品の第１の基板の第１の表面から選択される１つ以上の表面上に配置される。次いで、この第２の接着剤が、該第１のホルダーおよび第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、および該第１のホルダーおよび第２のホルダーの該内表面が選択された距離の関係および該選択された角度の関係にある間に少なくとも部分的に硬化し、第２の多層製品を形成する。該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの除去の後、該少なくとも部分的に硬化した第１の接着剤および第２の接着剤は、該第２の多層製品を、該第２の多層製品が該第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状態に維持し、ここで、該第１の接着剤および第２の接着剤が、感光性ポリマーを、該製品がホログラフィデータ記憶システム中にデータを記憶し得るように含み、そしてここで、該第１のホルダーの内表面および第２のホルダーの内表面の少なくとも１つが、約０．３〜約１．６μｍの波長に対し、約０．０５〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有する。

本発明の１つの実施形態は、多層光学製品を提示し、これは、第１の基板、第２の基板、第３の基板を備える。部分的に硬化した接着剤の第１の層が、該第１の基板の第１の表面と該第２の基板との間に配置され、そして部分的に硬化した接着剤の第２の層が、該第１の基板の第２の表面と該第３の基板との間に配置される。該第１の接着剤と第２の接着剤は、感光性ポリマーを、該製品がホログラフィデータ記憶システム中にデータを記憶し得るように含む。該多層光学製品は、約３００ナノメーター〜約１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有し、そして、該第１の基板の第１の表面および該第２の基板の第１の表面によって境が付けられる第１の層、ならびに第１の基板の第１の表面および該第３の基板の第１の層によって境が付けられる第２の層の各々は、約３００ナノメーター〜約１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する。

本発明の１つの実施形態は、多層反射ホログラフィメモリーセルを製作する方法を提供する。第１の実施形態は、第１の基板の第１の表面を第１のホルダーで把握し、それによって、該第１の基板の第１の表面が、該第１のホルダーの内表面に保持される。該第１の基板の第１の表面は、光学的に反射性の材料で被覆される。該第２の基板の第１の表面は、第２のホルダーで把握され、それによって、該第２の基板の第１の表面が、該第２のホルダーの内表面に保持される。該第１のホルダーおよび第２のホルダーの内表面は、整列されて選択された角度の関係で互いに対向する。該第１の基板の第２の表面および該第２の基板の第２の表面から選択される１つ以上の表面上に接着剤が配置される。第１の接着剤は、該第１のホルダーおよび第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、および該第１および第２のホルダーの内表面が、選択された距離の関係および上記選択された角度の関係にある間に部分的に硬化し、第１の多層製品を形成する。該第１の多層製品は、該第１のホルダーから除去される。次いで、該第３の基板の第１の表面が、該除去された第１のホルダーで把握され、それによって、該第３の基板の第１の表面が、該第１のホルダーの内表面に保持される。次いで、第２の接着剤が、該第３の基板の第２の表面および該形成された第１の多層製品の第１の基板の反射性の第１の表面から選択される１つ以上の表面の上に配置される。次いで、第２の接着剤は、該第１のホルダーおよび第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、および該第１および第２のホルダーの内表面が、選択された距離の関係および上記選択された角度の関係にある間に少なくとも部分的に硬化し、第２の多層製品を形成する。該第１および第２のホルダーの除去の後、該少なくとも部分的に硬化した第１および第２の接着剤は、該第２の多層製品を、該第２の多層製品が該第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状態に維持し、ここで、該第１の接着剤および第２の接着剤が、感光性ポリマーを、該製品が反射ホログラフィデータ記憶システム中にデータを記憶し得るように含み、そしてここで、該第１のホルダーの内表面および第２のホルダーの内表面の少なくとも１つが、約０．３〜約１．６μｍの波長に対し、約０．０５〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有する。本発明のさらなる実施形態では、該光学的に反射性の層は、該第１の多層製品が形成された後、該第１の多層製品の第１の基板の外表面上に配置される。

本発明のさらなる実施形態は、多層反射ホログラフィ記憶システムを提示し、これは、光学的に反射性である表面をもつ第１の基板、第２の基板、および第３の基板を備える。部分的に硬化した接着剤の第１の層が、該第１の基板の第１の表面と該第２の基板との間に配置される。部分的に硬化した接着剤の第２の層が、該第１の基板の第２の表面と該第３の基板との間に配置される。該第１の接着剤と第２の接着剤の層は、該製品が反射性ホログラフィデータ記憶システム中にデータを記憶し得るような感光性ポリマーである。該製品は、約３００ナノメーター〜約１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍ）の表面平坦度を有し、そして該第１、第２、および第３の基板上の接着剤により奏される力が、表面平坦度を維持する。該第１の基板の第１の表面および該第２の基板の第１の表面によって境が付けられる多層、ならびに第１の基板の第１の表面および該第３の基板の第１の層によって境が付けられる多層の各々は、約３００ナノメーター〜約１６００ナノメーターの波長で、０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する。

本発明のなお別の実施形態は、以下の詳細な説明から当業者に明らかになり、そこでは、本発明を実施するために企図される最良の様式の例示による本発明の実施形態のみが示され、かつ記載されている。理解され得るように、本発明は、種々の自明な局面で、すべてが本発明の思想および範囲を逸脱することなく改変され得る。従って、図面および詳細な説明は、本来例示的であり、そして制限的でないととみなされるべきである。

本発明のシステムおよび方法の特徴および利点は、以下の記載から明らかである。

（詳細な説明）
本発明は、多層の光学製品および多層の光学製品を製作する方法に関する。１つの実施形態において、この方法は、第１の表面および第２の表面をもつ第１の基板を提供する工程；第１の表面および第２の表面をもつ第２の基板を提供する工程；第１の表面および第２の表面をもつ第３の基板を提供する工程；該第１の基板の第１の表面を第１のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第１の基板の第１の表面が、該第１のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される工程；該第２の基板の第１の表面を第２のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第２の基板の第１の表面が、該第２のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される工程；該第１のホルダーの内表面および該第２のホルダーの内表面を整列し、選択された角度の関係で互いに対向させる工程；該第１の基板の第２の表面および該第２の基板の第２の表面から選択される１つ以上の表面上に第１の接着剤を配置する工程；該第１のホルダーおよび第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、および該第１のホルダーおよび第２のホルダーの該内表面が選択された距離の関係および該選択された角度の関係にある間に該第１の接着剤を少なくとも硬化し、第１の多層製品を形成する工程；該第１のホルダーを該第１の多層製品から除去する工程；該第３の基板の第１の表面を、該除去された第１のホルダーで把握し、それによって該第３の基板の第１の表面が該第１のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される工程；該第３の基板の第２の表面および該形成された多層製品の第１の基板の第１の反射表面から選択される１つ以上の表面上に第２の接着剤を配置する工程；該第１のホルダーおよび第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、および該第１のホルダーおよび第２のホルダーの該内表面が選択された距離の関係および該選択された角度の関係にある間に該第２の接着剤を少なくとも部分的に硬化し、第２の多層製品を形成する工程；を包含し、ここで、該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの除去の後、該少なくとも部分的に硬化した第１の接着剤および第２の接着剤が、該第２の多層製品を、該第２の多層製品が該第１のホルダーおよび第２のホルダーによって保持された状態に維持し、ここで、該第１の接着剤および第２の接着剤が、感光性ポリマーを、該製品が反射ホログラフィデータ記憶システム中にデータを記憶し得るように含み、そしてここで、該第１のホルダーの内表面および第２のホルダーの内表面の少なくとも１つが、約０．１〜約１．６μｍの波長に対し、約０．０５〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有する。

上記表面平坦度、伝送平坦度、および／または弧形度を維持するために、上記ホルダー（単数または複数）の内表面は、連続的な表面部分を備えなければならず、これに対し、上記基板の少なくとも一部分が実質的に一致する。本明細書で用いられるとき、用語ホルダーは、とりわけ、このような連続的表面部分を備える製品を規定することが意図される。この連続的表面部分は、基板の不一致を許容し得る不連続性を有さない（この連続的表面部分は、この不連続性が、このような不一致を許容しない限り、比較的小さな不連続性、例えば、小さな穴を有することは可能である。）。この連続的表面部分は、把握力が付与される領域、例えば、（図３Ａおよび３Ｂにおけるような）真空溝と境を接するか、またはこの把握力は、この連続的表面部分の周りおよび／またはその中の１つ以上の領域、例えば、（図４Ａおよび４Ｂにおけるような）いくつかの真空溝またはいくつかの真空穴で付与されるかことが可能である。上記把握力は、例えば、電磁材料により、全体の連続的表面部分を通じて付与され得ることもまた可能である。上記平坦度および／また弧形度が維持されるのは、この連続的表面部分の上である。

図３Ａおよび３Ｂは、このような連続表面部分を含む、本発明における使用に適切なホルダー６０を示す。（図３Ｂは、図３Ａの線ａ−ａ’に沿った側断面図である。）このホルダー６０は、真空（図示せず）に付着されている単一の真空溝６２を含む。この真空の溝６２は、連続的表面６４と境を接し、真空の付与に際し、これに対して基材が実質的に一致する。このホルダー６０の表面６６は、真空溝６２の外側にあり、そして連続的表面部分の一部分ではない。基板は、真空の付与に際し、この表面６６とは実質的に一致するように押し付けられない。

図４Ａおよび４Ｂは、本発明における使用に適切な別のホルダー７０を示す。（図４Ｂは、図４Ａの線ｂ−ｂ’に沿った側断面図である。）このホルダー７０は、２つの真空の溝−外側真空溝７２および内側真空溝７４を含む。連続的表面７６は、溝７２と溝７４との間にある。表面７８（外側真空溝７２の外側に横たわる）は、連続的表面部分の一部分ではない。また、図４Ａおよび４Ｂに示されるように、ホルダー７０は、表面８０の領域に位置する穴を有することが可能であり、その場合、表面８０は、連続的表面部分の一部分ではない。

ホルダーが基板を把握するために電磁力を用いる場合には、この連続的表面部分は、その全体の上に力を付与することが可能であるか、またはこの連続的部分は、その周縁の周りに特別の、例えば、環または方形の形状にある領域を有することが可能であり、その中に力が付与される。後者の実施形態では、基板の状態は、力が付与される環または方形の上およびその中で維持される。

上記のホルダーの実施形態とは対照的に、真空の環は、本発明に従うホルダーを構成しない。なぜなら、環の真空溝は、連続的表面部分とは境を接することなく−環の中央のギャップが、基板の不一致を可能にする不連続性を提供するからである。

本発明のホルダーの内表面は、光学的に所望の形状および／または表面を有している。有利には、ホルダーの内表面は、約０．０５〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有する。また、有利には、ホルダーの内表面は、特に、伝送用途のために意図される製品については、約１０^−２またはそれより良好な弧形度を有し、その一方、反射用途のために意図される製品には、約１０^−５またはそれより良好な弧形度が有利である。これら実施形態の工程は、上記で提示規律とは別の規律で実施されることが可能である。

有利には、本発明の多層製品は、約０．０５〜約１波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度を有し、これらの数は、少なくとも約０．３〜約１．６μｍの波長に対して有用でありるが、本発明の概念は、この範囲を超え得る。また、有利には、この製品は、約１０^−２またはそれより少ない、そしてより有利には、１０^−５またはそれより少ない弧形度を有する（得に反射用途について）。

ホルダーの内表面間の選択された角度の関係が、平行関係であることが有利であり、２つのホルダーの内表面の連続的表面部分間の距離（必要に応じて内表面の全体）が約１波／ｃｍ以上は変動しないことが重要である。平行基板を有する多層製品は、有利には、約０．０５〜１波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度、０．５またはそれより大きい（より有利には０．９またはそれ以上）ストレール値および約１０^−２またはそれより小さい弧形度を有する。

有利には、接着剤が連続層中に配置される。基板または多層製品の改良された平坦度および／または弧形度は、この接着剤が基板（単数または複数）と接触する領域内で主に達成される。接着剤の領域は、代表的には、ホルダー（単数または複数）の連続的表面部分の領域内にある。接着剤の領域を超えて、特に、連続的表面部分を越えて伸びる基板（単数または複数）の部分は、ホルダー（単数または複数）が除去された後には、それらの初期の状態に戻る傾向がある。基板または製品の平坦度、ストレール値、および弧形度が本明細書で論議されるとき、言及されるこの平坦度、ストレール値、および弧形度は、この領域のものであり、ここで、接着剤は、基板の平坦度および／または弧形度、または多層製品の平坦度および／または弧形度を維持する。

本発明の現在の実施形態は、システム、例えば、光学システムに関し、これは、２つの基板および第３の基板を備え、反射表面およびこれら基板に接着した少なくとも部分的に硬化した接着剤の層をもつ多層製品を含み、ここで、この製品は、約０．０５〜約１波／ｃｍ、好ましくは、０．０５〜約０．５波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度を有し、そしてここで、これら基板上の接着剤により奏される力がこの平坦度を維持する。この製品はまた、約１０^−２またはそれより小さい弧形度（反射用途には有利には約１０^−５またはそれより小さい）を有し、そしてこのような用途では、基板上の接着剤により奏される力が同様に弧形度を維持する。このシステムは、ホログラフィ記憶システム、特に、デジタルホログラフィ記憶システムであることが可能である。ホログラフィ記憶システムのエレメントは、例えば、上記で引用した論文、およびＳ．Ｐａｐｐｕ、「ホログラフィメモリー；重要な総説」Ｉｎｔ．Ｊ．Ｏｐｔｏｅｌｅｃｔ、５、２５１〜２９２頁（１９９０）；Ｌ．Ｈｅｓｓｅｌｉｎｋら、「光屈折媒体でインプリメントされた光学的メモリー」Ｏｐｔ．Ｑｕａｎｔ．Ｅｌｅｃ．２５、§§６１１−６６１（１９９３）；およびＤ．Ｐｓａｌｔｉｓら、「ホログラフィメモリー」Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ａｍｅｒｉｃａｎ、１９９５年１１月中で論議され、これらの開示は本明細書によって参考として援用される。

本発明の実施形態に従って、反射多層ホログラフィメモリーセルが図５ａに示される。この反射多層ホログラフィメモリーセルは、外側基板５０４および５１４、ならびに内側基板５０６を備える。内側基板５０６は、基板の１つの側面上に反射表面５０８を有する。代替の実施形態では、内側基板５０６は反射表面５０８を有さない。この反射多層ホログラフィメモリーセルは、２つの接着剤層を有する。接着剤５１０は、基板５０４と基板５０６との間に位置する。接着剤５１２は、基板５１４と基板５０６との間に位置する。接着剤の層５１０および５１２は、硬化後、ホログラフィデータ記憶システム内にデータを記憶し得る感光性ポリマーである。反射材料層５０８をもつ基板５０６を利用するホログラフィメモリーセルは、接着剤５１０および５１２の層において独立のホログラフィデータ記憶を可能にする。

代替の実施形態では、外側基板５０４および５１４ならびに内側基板５０６は、透明、部分的に透明、部分的に反射性、および反射性の材料の組み合せで被覆され得るか、またはパターン化された様式のこれらの材料で被覆され得る。

図５ａを参照して、接着剤層５１０および５１２におけるホログラムの記録が示される。信号ビーム５１８は、感光性ポリマー接着剤５１０中で参照ビーム５１６と干渉し、ホログラムを形成する。信号ビーム５１８と参照ビーム５１６は、同じ側から接着剤５１０に侵入し、そして基板５０６の反射性材料５０８から反射し、それによって信号および参照ビームが接着剤５１２と相互作用することを防ぐ。ホログラムは、接着剤５１２中で、信号ビーム５２２を参照ビーム５２０でインターセクトすることにより記録され得る。信号ビーム５２２および参照ビーム５２０は、基板５０６の反射性材料５０８から反射し、それによって信号ビーム５２２および参照ビーム５２０が接着剤５１０に侵入することを防ぐ。

図５ｂを参照して、反射多層ホログラフィメモリーセル内に記憶されたホログラムの回収が示される。接着剤５１０中に記録されたホログラフは、ホログラフが記録されたのと同じ側および同じ角度からプローブビーム５２４を接着剤５１０中に投影することにより読み取られる。再構築されたホログラムは、基板５０６の反射層５０８から反射され、再構築ビーム５２６を生じる。同様に、ホログラムは、プローブビーム５２４により接着剤５１２から読まれ、基板５０６の反射性材料５０８から反射する再構築ビーム５２６を生成する。

本発明の方法の実施形態を利用して、基板５０６の反射層５０８は、約０．０５〜約１波／ｃｍ、より有利には約０．０５〜約０．５波／ｃｍの表面平坦度を有する。さらに、内側層はまた、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する。図５ｂを参照して、内側基板５０６の表面５２８および基板５０４の外側表面５３０により境が付けられる１つの多層は、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する。内側基板５０６の表面５２８および外側基板５３２の外側表面５３２により境が付けられる多層は、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する。この表面および伝送平坦度は、プローブおよび再構築ビーム５２４および５２６が媒体に侵入し、そしてホログラムを再構築するとき、曲げられることを防ぎ、検出器アレイ（図示せず）によるより正確な造影の検出および再構築ビーム５２６の検出を可能にする。

多層反射ホログラフィメモリーセルを形成することにおいて、これら基板は有利に用いられ、そして有利には同じ材料である。これら基板は、有利には、ガラス、サファィア、ポリカーボネート、および石英から選択される。ホログラフィ記憶システムで用いられている波長に対して透明であり、そしてメモリーセルのために適切な機械的特性を有する任意のその他の材料もまた基板として用いられ得る。これら基板は、有利には、約０．１から約１ｍｍ厚さである。初期の基板は、代表的には、約０．１〜約１０波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度値、および約０．１またはそれより小さい弧形度を有する。市販のディスプレイガラスは、これらの特性を示し、そして代表的にはくぼみおよび突出部はなく、４０／１００またはそれより良好のスクラッチおよび壕を意味する。あるいは、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィン、またはその他の一般プラスチック材料のような材料から作製される基板もまた用いられ得る。このようなガラスおよびプラスチック基板は、メモリーセルの製作に適切である。２つの接着剤層の間の基板上に形成される反射性材料は波長に依存し得、特定波長のレーザー光を反射し、その一方その他は伝送する。この反射層は、アルミニウム、金、銅、または任意のその他の材料であり得る。この反射材料は、真空蒸発、真空蒸着、物理的蒸気蒸着、またはその他の適切な技法により基板上に蒸着され得る。

上記のように、基板の屈折率に近い屈折率をもつ接着剤を有することが有利である。なぜなら、多層製品を通じてほぼ均一な屈折率は、ＯＰＬにおける変動を低減するからである。デジタルホログラフィ用のホログラフィメモリーセルを製作することにおいて、第１の基板の屈折率が、第２の基板の屈折率に対して２つの小数位置で等価であること、および接着剤の屈折率が、第１および第２の基板の平均屈折率に対して２つの小数位置で等価であることが有利である。

ホログラフィセル中の接着剤はまた、連続層で付与されること、およびこの接着剤は感光性ポリマーであること、すなわち、硬化後ホログラフィデータ記憶システム中でデータを記憶し得ることが有利である。上記で論議されたような感光性ポリマーは、本発明に従って作製されたホログラフィメモリーセルのための有用な接着剤であることが見出された。なぜなら、これらの材料は、接着剤として、および感光性記録媒体として機能するからである。硬化の後、メモリーセル中の接着剤の厚さは、有利には、約０．２〜約２ｍｍである。硬化後のメモリーセルは、有利には、約０．０５〜約１波／ｃｍ、より有利には約０．０５〜約０．２５波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度、ならびに約１０^−２またはそれより小さい弧形度を有する。メモリーセルはまた、約０．９またはそれより大きいストレール値を有する。上記で論議したように、これらの特性は、ホルダーの内表面の連続的表面部分の領域内、そして特に接着剤が基板と接触している場所の多層製品の領域についていう。接着剤接触領域を超えて伸びる基板の領域は、代表的には、これらの特性を示さない。

本発明の方法に従って作製されたメモリーセルの特性を評価するために有用な品質因子、すなわちＱは、所定の領域、例えば、５０ｍｍ直径の円の上で測定したときの、波／ｃｍ ｒｍｓ伝送平坦度で除されたストレール値である。有利には、本発明の方法に従って作製されたメモリーセルは、１より大きい、そしてより有利には４より大きいＱを有する。比較として、ディスプレイガラスは、代表的には、約０．５のＱを有し、窓ガラスのＱは約０．０５である。基板がホルダーの内表面の少なくとも連続的表面部分と実質的に一致するように基板を把握する本発明の工程がないと、接着剤を間に配置した２つの基板からなるセルは、主に、ガラスの初期ストレール、ホルダーのゆがみ、そして接着剤の収縮に起因して、約０．０８のＱを有し得る。

図６ａ〜６ｆに示されるように、反射多層ホログラフィメモリーセルを形成する本発明の実施形態に従って、比較的低い弧形度の内表面を有する２つのホルダー１００、１０２は、選択された角度の関係（この実施形態では平行の関係）にされる。単純さのために、ホルダー１００、１０２の内表面の連続的表面部分は示されていない。例えば、ホルダー１００、１０２は、図３Ａならびに３Ｂまたは図４Ａおよび４Ｂの形態を有することが可能である。この実施形態では、２つのホルダー１００、１０２は、それらが平行の関係に操作され、そして互いに向かって移動することを可能にするように整列される。例えば、ホルダー１０２は、ピッチおよびヨー（ｙａｗ）で（すなわち、そのｘ軸およびｙ軸の周りに）回転するジンバル（ｇｉｍｂａｌ）に取り付けることが可能であり、そしてホルダー１００は、ホルダー１０２の上の装置に、ホルダー１００がピッチ−ヨー（すなわち、ｘ−ｙ）平面に固定されるが、ｚ軸に沿った移動は可能であるように取り付けられる。Ｅ．Ｈｅｃｈｔ、Ｏｐｔｉｃｓ、Ａｄｄｉｓｏｎ−Ｗｅｓｌｅｙ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ、１９８７で論議されているようなＦｉｚｅａｕ干渉計技法、または当該分野で公知の類似の方法を用いることが可能で、ホルダー１００、１０２の内表面の平行度を測定し、そして適切な矯正を可能にする。このような方法はまた、ホルダー間の選択された任意の角度の関係を測定し得る。

一旦、ホルダー１００、１０２が平行の関係に整列されると、基板１０４、１０６がホルダー１００、１０２上に配置され、これは、基板１０４、１０６の外表面を、以下に論議されるいくつかの方法の１つにより保持する。反射多層ホログラフィメモリーセル適用では、基板１０６は、その外表面上に反射性材料１０８の層を有する。（本発明の他の実施形態では、ホルダーの内表面は、プロセスの後のステージ、例えば、基板１０４、１０６がホルダー１００、１０２上に配置された後に平行の関係にされることも可能である。）図６ａは、基板１０４、１０６がホルダー１００、１０２の表面に保持される前のホルダー１００、１０２および基板１０４、１０６を示す。基板１０４は、段階的な、波状の厚さバリエーションで示され、そして基板１００は、くさび形（Ｖ字形）バリエーションで示される。

図６ｂに示されるように、力または引力は、基板１０４、１０６の外表面を、ホルダー１００、１０２の連続的表面部分（図示せず）に実質的に一致させる。基板１０４、１０６の外表面は、真空により、静電引力もしくは電磁引力、または接着剤のような一時的な化学的結合により保持されることが可能である。薄い、可撓性基板の場合のように、一時的結合または静電引力が用いられる特定の場合には、基板１０４、１０６は、ホルダー１００、１０２の表面への応諾を提供する様式でホルダー１００、１０２上に押さえられなければならない。１つのこのような様式は、ローラーの使用である。一旦、基板１０４、１０６の外表面がホルダー１００、１０２の内表面上に保持されると、Ｆｉｚｅａｕまたは類似の方法が、ホルダー１００、１０２の内表面の平行性を確実にし得、基板１０４、１０６が透明材料であれば、この方法の使用を可能にする。例えば、基板１０４、１０６が透明であり、そしてホルダーに接触する側面上に抗反射被覆を有する場合、Ｆｉｚｅａｕ法を首尾良く用いることが可能である。上記のように、ホルダー１００、１０２のこの内表面は、連続的表面部分を含む。

本発明のこの実施形態に従えば、基板１０４、１０６を、ホルダー１００、１０２の平坦表面と応諾して保持し、接着剤１１０を基板１０６の内表面に付与する。接着剤をプロセスのより早いステージで付与することも可能である。ホルダー１００および１０２は、選択された距離の関係に位置決めされる。図６ｃに示されるように、ホルダー１００は、基板１０４の内表面を、接着剤１１０に接触させる。その一方、ホルダー１００、１０２の内表面（そしてそれ故、第１および第２の基板１０４、１０６の外表面）は、平行の関係に保たれる。ホルダー１００、１０２は、基板１０４、１０６間の接着剤１１０の所望の拡散を得るため、および／または接着剤１１０と基板１０４、１０６との間の所望のレベルの接触を得るために十分な力で基板１０４、１０６を一緒に押さえつける。ホルダー１００、１０２が、基板１０４、１０６を把握し、そして基板１０４、１０６を一緒に押さえつけている間であった、かつ接着剤１１０が硬化する前に、Ｆｉｚｅａｕまたは類似の方法を実施して平行性を確認することが有用である。

次いで、接着剤１１０は、ホルダー１１０、１０２が除去されるとき、この接着剤１１０により基板１０４、１０６の内表面上に奏される剛直性または力が実質的な平行な関係（即ち、低弧形度）および基板１０４、１０６の外表面に与えられる表面および平坦度を維持するように、少なくとも部分的に硬化される。上記のように、弧形度および平坦度は、ホルダー１００、１０２の連続的な表面部分内、そして主に接着剤１１０によって接触される領域で維持される。この関係を維持することに関与する力は以下で論議される。

図６ｄに示されるように、次いで、ホルダー１０２は、基板１０６の反射表面１０８から除去される。外表面１０８に付与された表面平坦度は、部分的に硬化した接着剤１１０により維持される。図６ｅに示されるように、次いで、第３の基板１１４がホルダー１０２と基板１０６との間に挿入される。力または引力が、基板１１４の外表面をホルダー１０２の連続的な表面部分（図示せず）と実質的に一致させる。この力または引力は、真空によるか、静電引力もしくは磁力によるかまたは接着剤のような化学的結合により引き起こされ得る。一旦、基板１１４の外表面が、ホルダー１０２の内表面上に保持されると、Ｆｉｚｅａｕまたは類似の方法が、基板１０４、１１４がこの方法の使用を可能にする透明材料である場合に、ホルダー１００、１０２の内表面の平行性を確認するために用いられ得る。ホルダー１０２の平坦表面と応諾して保持される基板１１４を用いる本発明の実施形態に従って、接着剤１１２が、基板１１４の内表面に付与される。ホルダー１０２は、基板１１４の内表面を接着剤１１２と接触させ、その一方、内表面１００および１０２（そしてそれ故、基板１０４および１１４の外表面ならびに基板１０６の表面１０８）は、図６Ｆに示されるように並行の関係に保持される。ホルダー１００および１０２は、基板１１４と基板１０６の外表面１０８を、この基板１１４と基板１０６との間の接着剤１１２の所望の拡散を得るに十分な力で一緒に押し付ける。次いで、接着剤１１２は、図６ｆに示されるように、ホルダー１００および１０２が除去されるとき、接着剤１１２による基板１１４の内表面および基板１０６の表面１０８上に奏される剛直性または力が、実質的に平行な関係、および基板１０４と基板１１４の外表面に付与される表面平坦度を維持するように少なくとも部分的に硬化される。

論議の容易さのために、この実施形態で記載されるホルダー１００、１０２は、別個のホルダーとして記載されている。しかし、これらホルダーが、単一の部分の２つの片であることも可能である。代替の実施形態では、基板１０６は、予め配置された反射性材料の層を有さない。むしろ、反射性材料は、２つの基板製品が形成された後、２つの基板多層製品の基板の１つの外表面上に配置される。次いで、第３の基板および接着剤の第２の層が、上記に記載のプロセスを用いて付加される。

本発明の方法は、クリーンルーム環境で有利に実施される。とりわけ、クリーンルームは、ホルダー、基板、および／または接着剤の間に塵粒子のような汚染物が沈積することを防ぐ。波長で測定される厚さ変動で、単一の塵粒子でさえ（代表的には、１〜１０波長の直径を有する）、全体製品の平坦度に影響する。

接着剤は、任意の適切な方法により基板または複数の基板上に配置され、そして液体または固体形態で用いられる。接着剤は、ホルダーの除去に際し、基板または多層製品がホルダー（単数または複数）により保持された状態に維持されるに十分、基板（単数または複数）に接着するか、および／またはそれに剛直性を提供する。

本発明を任意の特定のモデルまたは理論に限定するものではないが、上記状態の維持に必要な力は、単一基板および２つの基板の両方について、以下の最も簡単なモデルによって表現され得る。Ｌ．Ｄ．Ｌａｎｄａｕら、Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ Ｅｌａｓｔｉｃｉｔｙ、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ、Ｏｘｆｏｒｄ、第３英語版、１９８６、特に４４ページを参照のこと。以下の等式について、基板は円形であり、かつ初期には球の弧形度を有し、そして目的は、ゼロの弧形度を達成することである。図７に反映されるように、単一の基板５０について、応諾を生じる（すなわち、弧形度をゼロに低減する）ために必要な基板を横切る圧力差Ｐは、以下で与えられる。

ここで：
ｈ＝基板厚さ、ｂ＝中心における基板の高さ、ｄ＝基板の直径、Ｐ１＝基板の自由表面上の空気圧、Ｐ２＝基板の真空平坦表面上の空気圧、Ｐ＝Ｐ１−Ｐ２＝基板を横切る圧力。σ＝基板のポアソン比、Ｅ＝基板のヤング弾性率である。

図８の３層の製品では、基板５２、５４（各々は、上記のように初期弧形度高さｂを有する）が、それらの当初の形態に戻ろうとし、そしてそれによって接着剤層５６に対して押すとき、残存弧形度高さｂ’が存在する。このモデルについてさらなるパラメーターは：
ｂ’＝３層製品中の残存弧形度高さ、ｔ＝結合層厚さ（ｔ＞＞ｂ’）、σ‘＝接着剤のポアソン比、Ｅ’＝接着剤層のヤング弾性率である。

この最も簡略にされたモデルについて、セル直径に対する最終セル表面弧形度高さの比は以下で与えられる：

接着剤と基板との間の接着剤強さは、従って、いずれかの基板を（ｂ−ｂ’）に等しい量で配置するために必要な圧力差Ｐを超える必要がある。例えば、ｂ’＜０．１マイクロメーター（約０．２波長）には、ｄは５０ｍｍに等しく、ｔは１ｍｍに等しく、Ｅ／Ｅ’は２に等しく、σは約０．２５に等しく、σ‘は約ゼロに等しく、そしてｈは1ｍｍに等しく、初期基板弧形度（２ｂ／ｄ）の限界は１／４より小さい。

接着剤は、光硬化可能であるか、その他で硬化可能である（例えば、熱または化学的硬化可能）ことが可能である接着剤はまた、必要な接着を達成するために相変化（例えば、液体から固体）を行う物質であることが可能である。本明細書で用いられるとき、用語硬化および硬化可能は、このような任意の方法によりゲル化または固化する材料を包含することが意図される。光硬化可能な接着剤は、可視光、ＵＶ光、およびｘ線を含む、種々の任意の波長に曝されるとき、硬化する材料を含む。電子または粒子ビームにより硬化可能である接着剤を用いることも可能である。有用な接着剤は、感光性である光硬化可能な接着剤（感光性ポリマーと称する）を含み、用語感光性は、光源への曝露（例えば、選択的、局在化曝露）に応答して、その物理的および／または化学的特徴を変える材料を意味する。このような感光性接着剤は、制限されないで、特定の感光性アクリレートおよびビニルモノマーを含む。感光性接着剤は、接着剤および記録媒体の両方として作用するので有用である。エポキシドに基づくような接着剤もまた有用である。有用な光ポリマーの１つの例は、その中にｎ−ビニルカルバゾールが分散されたイソボルニルアクリレート−ポリテトラヒドロフランジウレタンジアクリレートマトリックスである（本明細書ではＮＶＣと称する）。

接着剤は、接着剤プロモーター、光開始剤、または吸収性材料のような添加剤を含むことが可能である。硬化後の接着剤の厚さは、いくつかの因子に依存して変動し、これらは、用いた接着剤、付与の方法、付与された接着剤の量、および基板により接着剤に奏された力を含む。異なる厚さが異なる用途に所望される。必要な効果のレベルは、用いられる特定の接着剤により、ホルダー（単数または複数）により与えられる位置に基板または多層製品を維持するために必要な力により決定される。光硬化可能、熱効果可能、または化学的に硬化可能である材料については、適切な硬化は、数％〜１００％までの範囲であることが可能である。必要な接着を達成するために完全相変化（例えば、液体から固体）を行う物質については、完全な相変化が、この用途の目的には完全硬化であると考えられる。

少なくとも部分的な硬化の後、基板の屈折率に近い屈折率をもつ接着剤を有することが有利である。ほぼ均一な屈折率をもつ多層製品を有することが有利である。なぜなら、上記のＯＰＬの論議で示されたように、製品の特定の複数領域を通じてほぼ均一な屈折率は、これら領域におけるＯＰＬの変化を低減するからである。換言すれば、基板における厚さ変動は、このような変動を満たすか、または補償する接着剤が基板自身の屈折率に近い屈折率を有する場合、ΔＯＰＬに対して大きな影響を有さない。例えば、２つの基板の各々が、５波／ｃｍの厚さ変動を有する場合（すなわち、合計１０波／ｃｍ）、この屈折率は、望ましくは、０．１波／ｃｍの伝送平坦度を維持するために基板の屈折率の平均の１％（０．０１）以内である。２つの基板が用いられる場合、これら基板は、有利には、２つの小数位置で等価である屈折率を有し、そして接着剤の屈折率は、有利には、第１の基板と第２の基板の屈折率の平均に対し、２つの小数位置で等価である。いくつかの用途では、接着剤が高い光学的性質、例えば、均一性、泡がない、および低散乱性であることが有利である。

ホルダーは、上記で論議したように、それらの内表面上に、基板（単数または複数）が実質的に応諾する連続的表面部分を有する。ホルダーは、有利には、真空チャックされ、これは、その中にホルダーの内表面が１つ以上の溝を有し、そこで真空の付与により把握力が溝（単数または複数）を通じて基板に創製される平坦な表面を意味する。あるいは、把握工程は、静電引力または電磁引力の使用によるか、または一時的な化学的結合（例えば、接着剤）により実施される。この把握力または一時的結合力は、基板をホルダーの内表面に対して保持し、特に、上記で論議したように、内表面の連続的表面部分の上で実質的な応諾を達成する。必要な力は、用いられる特定の基板のパラメーター（例えば、組成、厚さ、初期平坦度、可撓性）に依存して変動し得る。２つのホルダーを用いる実施形態では、これらホルダーは、上記の実施形態で与えられた整列のような、選択された角度の関係の達成を可能にする任意の方法で整列される。

２つのホルダー形態では、少なくとも１つのホルダーが、このホルダーを硬化工程の間にほとんど抵抗なくしてそのｚ軸に沿って移動することを可能にする機構に取り付けられることが有利である。（ｘ軸およびｙ軸は、接着剤が配置される平面を規定し、そしてｘ軸は残りの軸である。） 例えば、ホルダーは、ホルダーおよび基板の重量により引き起こされる下方向圧力を同等にするピストン機構に取り付けられ得、それによってホルダーを、ピッチおよびヨーに固定されたまま、ｚ軸に沿ってほとんど浮遊することを可能にする。このような機構を提供することは有利である。なぜなら、いくつかの接着剤は、硬化の間に接触し、そして両方のホルダーが硬化の間に移動不能に固定された場合、このような固定は、接着剤と基板との間の接着およびホルダー間の角度の関係の両方に有害に影響し得るからである。

ホルダーは、平坦な表面を維持し、そして基板に把握力を付与し得るか、または一時的な化学結合を適切に維持し得る任意の材料から作製され得る。上記で論議したような光硬化可能な接着剤の場合には、ホルダーは、有利には、ガラス、または適切な硬化を得るため、およびホルダーの並行度を確認するＦｉｚｅａｕまたは類似の方法の使用を可能にするために十分な光伝送を可能にする別の材料である。硬化のために光を必要としない接着剤の場合には、不透明材料を用いることが可能であるが、このような材料の角度の関係を確認するために、その他の方法を用いなければならない。ホルダーのために選択される材料はまた、利用される把握力または一時的結合のタイプ（例えば、接着力または磁気引力）、および製作される多層製品または基板の意図される使用に依存する。

同一材料または異なる材料である基板は、形成される製品または基板の意図される使用に依存して、セラミックス（ガラスを含む）、金属、またはプラスチックから形成される。また、上記で論議したように、ホルダーに関して、基板は、単一部分の２つの片であることが可能である。これら基板は、有利には、把握力の付与が、基板を損傷することなくホルダー表面との実質的な応諾を達成できないような高いレベルで平坦度変動を有さない。ガラスプレートのような自己支持性基板に加え、基板は、ホルダー上にスプレーされるポリマー材料、Ｍｙｌａｒ Ｒｅｇｉｓｔｅｒｅｄ ＴＭのような薄いポリマーフィルム、またはポリカーボネートのようなポリマーシートであることが可能である。ポリマー材料またはフィルムが、ガラスプレートのような自己支持性材料と組み合せられて単一の基板を形成することもまた可能である。このような２層基板の材料またはフィルムは、感光性材料であり得、そして本発明の方法は、このような基板の光学特性を改良することに有用である。

基板の外表面の平行性および品質を確認するためにＦｉｚｅａｕ法を設計することが重要である。例えば、平面波照射および両側面上で光学的に平坦であるウェッジホルダーを用いることが有利である。さらに、いくつかの理由のため、基板上の抗反射性（ａｎｔｉｆｌｅｃｔｉｖｅ：ＡＲ）被覆が有利である。ＡＲ被覆なしで、基板表面とホルダー表面との間の界面反射がないことは、上記選択された角度の関係を決定するための干渉計方法を利用することを困難にする。さらに、基板とホルダーとの間のｖａｎ ｄｅｒ Ｗａａｌｓ力と残存真空力は、ホルダーからの基板の分離を困難にし、そして抗反射性被覆は、このような力を低減する。また、抗反射性被覆は、光のスループットを増大し、そして多層基板内の内部反射を低減する。有利には、ホルダーと接触する基板の側面のみにＡＲ被覆が与えられる。接着剤が配置される基板の側面上のＡＲ被覆は、乏しい接着を誘導するか、および／または接着剤と基板との間の所望されないさらなる反射を起し得る。しかし、いくつかの形態では、接着剤プロモーターのようなその他の被覆が、接着剤が配置される基板の側面上に配置される。このような被覆は、有利には、５００オングストロームよりは厚くない。

本発明は、ウェッジタイプの厚さ変動を補償することを可能にする。なぜなら、ホルダーの内表面が、基板の外表面に選択された角度の関係を与え、そして基板におけるウェッジタイプ変動は製品の内部に変形され、そこで接着剤が、この角度の関係を維持しながらこの変動を補償するからである。同様に、接着剤は、基板の内表面上の鋭いまたは段階的な波状変動を、このような変動におけるｆｇにより補償する。（ａ）ホルダーと一致する基板の側面上の少なくともいくつかの段階的波状変動が基板の対向する側面に伝送されるような方法が実施され、そして（ｂ）接着剤が、基板の対向する側面上の伝送された変動を充填または重層する場合、基板の接着剤が配置されなかった側面上の段階的な波状変動を補償することが可能である。さらに、このような多層製品中で接着剤が、基板の屈折率に近い硬化後屈折率を有する場合、接着剤を含む領域でほぼ均一の屈折率が達成され、そして製品のこれらの領域を横切る光学経路長さにおける変化は、それ故、低減される。

ホログラフィメモリーセルに加え、本発明の方法は、種々のその他のタイプの製品を形成するため、特に、高品質ミラー、フラット、窓、プリズム、ビームスプリッター、フィルター、およびレンズを含む、光学システムにおける使用のために有用である。

（実験結果）
３’’平方のガラス基板を用いて多層光学製品を作製した。０．００５波／ｃｍの表面平坦度を有する、２つの１０ｃｍ直径、約１．９ｃｍ厚さのガラスフラットを得、そして各々中に、約３．２ｍｍ幅、約１．６ｍｍ深さの円形の真空接近可能な溝を担持し、この溝は、約６．４ｃｍの内径を有していた。ホルダーを、アセトンおよびメタノールを用いるドロップおよびドラッグ法により清澄にした。１つの側面上に抗反射性被覆を有し、７５ｍｍ×７５ｍｍ×約１．１ｍｍの寸法で、そして約１波／ｃｍの表面平坦度および伝送平坦度を有する、ディスプレイガラスの方形ガラス基板を、同様に清澄にした。ホルダーを、装置中に、それらの１つが他方の上に位置するように取り付け、そしてそれらの真空溝を、約０．１大気圧でハウス真空に付着させた。ホルダーを、底部ホルダーがピッチおよびヨーで回転し得るが、ｚ軸に沿って動かないように、その一方、頂部ホルダーは、ピッチおよびヨーで固定されたが、ｚ軸に沿って垂直方向に移動するように整列させた。ホルダーの平行性を測定するために、拡張、コリメートＨｅＮｅレーザービームを、上からわずかに角度をもたせホルダーの中心部分向けた。ホルダーがほぼ接触したとき、ホルダーの２つの内表面からの反射は、これらホルダーの平行性の程度を示した。底部ホルダーを、干渉反射が、雄牛の目パターンを示すまで（これは、０．０５波／ｃｍ以内の平行関係を示した）調整した。

一旦平行性が確立されると、頂部ホルダーを上に移動させ、真空ポンプをスタートし、そして２つの基板を、ホルダーの内表面上に、抗反射性被覆を有する基板の側面がホルダーと接触するように配置した。真空の力（約０．１大気圧）は、基板の、ホルダーの表面（主に真空溝に取り囲まれ、およびそれを含む領域上）との実質的な応諾をもたらした。約０．４ｍＬのホログラフィ記録で用いた光ポリマーを、底部基板の内表面上に、シリンジおよび皮下注射針を用い、この光ポリマーが小さな液体のプールを形成するまで導入した。（６５ｍｍ直径のプールを形成するために必要な接着剤液体の量は、２５０μｍの層厚さあたり約１ｍＬである） 上の基板を下げ、光ポリマーと接触させ、そして基板間の力が、接着剤を、基板の内表面を横切って円形パターンで拡散させた。

平行性は、Ｆｉｚｅａｕ法で確認できた。セルを、均一強度の可視フラッドランプで約９０秒間上から照射し、光ポリマー材料の硬化を確実にした。終了したセルの接着剤が基板に接触した領域（ホルダーの真空溝により規定される連続的表面部分内に存在した）は、０．１６波／ｃｍより良好なｒｍｓ表面および伝送平坦度値、０．９６のストレール値を有していた。これらのパラメーターは、Ｚｙｇｏ．ＲＴＭ．Ｆｉｚｅａｕ干渉計により測定した。

次いで、頂部ホルダー上の真空が解放され、そして第３の基板を、頂部ホルダーの内表面上に、抗反射性被覆を有する第３の基板の側面がホルダーと接触するように配置した。真空の力（約０．１大気圧）は、この基板の、ホルダーの表面（主に、真空溝により取り囲まれ、そしてそれを含む領域上）との実質的応諾をもたらした。約０．４ｍＬのホログラフィ記録で用いた光ポリマーを、最初に製作されたセルの曝された表面上に、シリンジおよび皮下注射針を用い、この光ポリマーが小さな液体のプールを形成するまで導入した。（６５ｍｍ直径のプールを形成するために必要な接着剤液体の量は、２５０μｍの層厚さあたり約１ｍＬである） 上の基板を下げ、光ポリマーと接触させ、そして基板間の力が、接着剤を、基板の内表面を横切って円形パターンで拡散させた。

平行性は、Ｆｉｚｅａｕ法で確認できた。セルを、均一強度の可視フラッドランプで約９０秒間上から照射し、光ポリマー材料の硬化を確実にした。終了したセルの接着剤が基板に接触した領域（ホルダーの真空溝により規定される連続的表面部分内に存在した）は、０．１６波／ｃｍより良好なｒｍｓ表面および伝送平坦度値、０．９６のストレール値を有していた。これらのパラメーターは、Ｚｙｇｏ．ＲＴＭ．Ｆｉｚｅａｕ干渉計により測定した。インターフェログラムを図９に示し、ここで、白い円は、そこを通る表面および伝送平坦度およびストレール値が測定された領域の境界をマークしている。

図１は、製品における弧形度を示す。 図２は、多層製品を通る物理的光学経路長さおよび光学経路長さを示す。 図３Ａは、本発明の１つの実施形態のホルダーの内表面を示す。 図３Ｂは、図３Ａのホルダーの線ａ−ａ’に沿った側断面図を示す。 図４Ａは、本発明の別の実施形態のホルダーの内表面を示す。 図４Ｂは、図４Ａのホルダーの線ｂ−ｂ’に沿った側断面図を示す。 図５ａは、反射多層ホログラフィメモリーセルの実施形態を示す。 図５ｂは、反射多層ホログラフィメモリーセルの実施形態を示す。 図６ａは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。 図６ｂは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。 図６ｃは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。 図６ｄは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。 図６ｅは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。 図６ｆは、本発明の方法のさらなる実施形態における工程を示す。 図７は、本発明に従って作製された製品の光学特徴を維持するために必要な力を示す。 図８は、本発明に従って作製された製品の光学特徴を維持するために必要な力を示す。 図９は、本発明の多層ホログラフィメモリーセルのインターフェログラムを示す。

Claims (48)

1. 反射性の多層光学製品を製造する方法であって、
   第１の表面および第２の表面をもつ第１の基板を提供する工程と、
   第１の表面および第２の表面をもつ第２の基板を提供する工程と、
   第１の表面および第２の表面をもつ第３の基板を提供する工程と、
   該第１の基板の第１の表面を第１のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第１の基板の第１の表面が、該第１のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される、工程と、
   該第２の基板の第１の表面を第２のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第２の基板の第１の表面が、該第２のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される、工程と、
   該第１のホルダーの内表面および該第２のホルダーの内表面を整列し、選択された角度の関係で互いに対向させる工程と、
   該第１の基板の第２の表面および該第２の基板の第２の表面から選択される１つ以上の表面上に第１の接着剤を配置する工程と、
   該第１のホルダーおよび該第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、ならびに該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの内表面が選択された距離の関係および該選択された角度の関係にある間に、該第１の接着剤を少なくとも部分的に硬化させることにより、第１の多層製品を形成する工程と、
   該第１のホルダーを該第１の多層製品から解除する工程と、
   該第１の多層製品の該第１の基板の第１の表面または該第３の基板の第２の表面の上に反射層を形成する工程と、
   該第３の基板の第１の表面を、該解除された第１のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第３の基板の第１の表面が該第１のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される、工程と、
   該第３の基板の第２の表面および該形成された多層製品の該第１の基板の第１の表面から選択される１つ以上の表面上に第２の接着剤を配置する工程と、
   該第１のホルダーおよび該第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、ならびに該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの内表面が選択された距離の関係および選択された角度の関係にある間に、該第２の接着剤を少なくとも部分的に硬化させることにより、第２の多層製品を形成する工程と
   を包含し、
   該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの除去の後、該少なくとも部分的に硬化した第１の接着剤および第２の接着剤が、該第２の多層製品を、該第２の多層製品が該第１のホルダーおよび該第２のホルダーによって保持された状態に維持し、該第１の接着剤および該第２の接着剤が、該製品がホログラフィデータ記憶システムにデータを記憶し得るように感光性ポリマーを含み、該第１のホルダーの内表面および該第２のホルダーの内表面のうちの少なくとも１つが、約０．３〜約１．６μｍの波長に対し、約０．０５〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有する、方法。
2. 前記第２の多層製品が、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有し、前記第１、第２、および第３の基板上に前記接着剤によって奏される力が、該表面平坦度を維持する、請求項１に記載の方法。
3. 前記第１の基板の第１の表面および前記第２の基板の第１の表面によって境が付けられる多層、ならびに前記第１の基板の第１の表面および第３の基板の第１の層によって境が付けられる多層の各々が、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する、請求項１に記載の方法。
4. 前記第１のホルダーおよび前記第２のホルダーが、その中に少なくとも１つの真空溝を有するガラスプレートである、請求項１に記載の方法。
5. 前記第１の多層製品および前記第２の多層製品が、０．９以上のストレール値を有する、請求項１に記載の方法。
6. 前記第１の多層製品および前記第２の多層製品が、約１０^-2以下の弧形度を有する、請求項１に記載の方法。
7. 前記第１、第２、および第３の基板が透明であり、ガラス、サファイア、ポリカーボネート、石英、ポリメチルメタクリレート、アクリル、ポリオレフィンまたはそれらの任意の組合せから選択される、請求項１に記載の方法。
8. 前記硬化させる工程の間に、前記第１のホルダーおよび前記第２のホルダーのうちの少なくとも１つがｚ軸に沿って移動可能である、請求項１に記載の方法。
9. 前記選択された角度の関係が、平行の関係である、請求項１に記載の方法。
10. 前記ホルダーの内表面の前記選択された角度の関係での整列の間に干渉技法が実施される、請求項１に記載の方法。
11. 反射性の多層光学製品であって、
    第１の基板と、
    第２の基板と、
    第３の基板と、
    該第１の基板と該第３の基板との間に配置された反射層と、
    部分的に硬化した接着剤の第１の層であって、該第１の基板の第１の表面と該第２の基板との間に配置された接着剤の第１の層と、
    部分的に硬化した接着剤の第２の層であって、該第１の基板の第２の表面と該第３の基板との間に配置された接着剤の第２の層と
    を備え、
    該第１の接着剤と該第２の接着剤が、該製品がホログラフィデータ記憶システムにデータを記憶し得るように感光性ポリマーを含み、該多層の光学製品が、約３００ナノメーター〜約１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有し、該第１の基板の第１の表面および該第２の基板の第１の表面によって境が付けられる第１の層、ならびに該第１の基板の第１の表面および該第３の基板の第１の層によって境が付けられる第２の層の各々が、約３００ナノメーター〜約１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する、多層光学製品。
12. 前記基板が、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル、ポリオレフィンまたはそれらの任意の組合せから作られている、請求項１１に記載の多層製品。
13. 前記基板が、該基板を通じて接着剤を分配するための少なくとも１つの穴を有する、請求項１１に記載の多層製品。
14. 前記基板の幾何学的形態が、正方形、矩形、環状、または卵形であり得る、請求項１１に記載の多層製品。
15. 前記基板の厚さが、約２５マイクロメーター〜約３ミリメーターである、請求項１１に記載の多層製品。
16. 前記第１または第２または第３の基板の外表面が、表面リリーフパターンを含む、請求項１１に記載の多層製品。
17. 前記第１または第２または第３の基板の１つの表面または両方の表面が、表面リリーフパターンまたは回折格子を含む、請求項１１に記載の多層製品。
18. 前記接着剤が、熱エネルギーまたは照射エネルギーを利用して硬化される、請求項１１に記載の多層製品。
19. 前記製品が、０．９以上のストレール値を有する、請求項１１に記載の多層製品。
20. 多層反射ホログラフィ記憶システムを製造する方法であって、
    第１の表面および第２の表面をもつ第１の基板を提供する工程であって、該第１の表面が光学的に反射性である、工程と、
    第１の表面および第２の表面をもつ第２の基板を提供する工程と、
    第１の表面および第２の表面をもつ第３の基板を提供する工程と、
    該第１の基板の第１の表面を第１のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第１の基板の第１の表面が、該第１のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与より実施される、工程と、
    該第２の基板の第１の表面を第２のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第２の基板の第１の表面が、該第２のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される、工程と、
    該第１のホルダーの内表面および該第２のホルダーの内表面を整列し、選択された角度の関係で互いに対向させる工程と、
    該第１の基板の第２の表面および該第２の基板の第２の表面から選択される１つ以上の表面上に第１の接着剤を配置する工程と、
    該第１のホルダーおよび該第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、ならびに該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの内表面が選択された距離の関係および該選択された角度の関係にある間に、該第１の接着剤を少なくとも部分的に硬化させることにより、第１の多層製品を形成する工程と、
    該第１のホルダーを該第１の多層製品から解除する工程と、
    該第３の基板の第１の表面を、該解除された第１のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第３の基板の第１の表面が該第１のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される、工程と、
    該第３の基板の第２の表面および該形成された多層製品の該第１の基板の反射性の第１の表面から選択される１つ以上の表面上に第２の接着剤を配置する工程と、
    該第１のホルダーおよび該第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、ならびに該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの内表面が選択された距離の関係および選択された角度の関係にある間に、該第２の接着剤を少なくとも部分的に硬化させることにより、第２の多層製品を形成する工程と
    を包含し、
    該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの除去の後、該少なくとも部分的に硬化した第１の接着剤および第２の接着剤が、該第２の多層製品を、該第２の多層製品が該第１のホルダーおよび該第２のホルダーによって保持された状態に維持し、該第１の接着剤および該第２の接着剤が、該製品が反射ホログラフィデータ記憶システムにデータを記憶し得るように感光性ポリマーを含み、該第１のホルダーの内表面および該第２のホルダーの内表面のうちの少なくとも１つが、約０．４〜約０．７μｍの波長に対し、約０．０５〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有する、方法。
21. 前記第２の多層製品が、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有し、前記第１、第２、および第３の基板上に前記接着剤によって奏される力が、該表面平坦度を維持する、請求項２０に記載の方法。
22. 前記第１の基板の第１の表面および前記第２の基板の第１の表面によって境が付けられる多層、ならびに前記第１の基板の第１の表面および第３の基板の第１の層によって境が付けられる多層の各々が、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する、請求項２０に記載の方法。
23. 前記第１のホルダーおよび前記第２のホルダーが、その中に少なくとも１つの真空溝を有するガラスプレートである、請求項２０に記載の方法。
24. 前記第１の多層製品および前記第２の多層製品が、０．９以上のストレール値を有する、請求項２０に記載の方法。
25. 前記第１の多層製品および前記第２の多層製品が、約１０^−２の弧形度を有する、請求項２０に記載の方法。
26. 前記第１、第２、および第３の基板が透明であり、ガラス、サファイア、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィンまたは石英から選択される、請求項２０に記載の方法。
27. 前記硬化させる工程の間に、前記第１のホルダーおよび前記第２のホルダーのうちの少なくとも１つがｚ軸に沿って移動可能である、請求項２０に記載の方法。
28. 前記選択された角度の関係が、平行の関係である、請求項２０に記載の方法。
29. 前記ホルダーの内表面の前記選択された角度の関係での整列の間に干渉技法が実施される、請求項２０に記載の方法。
30. 多層反射ホログラフィ記憶システムを製造する方法であって、
    第１の基板の外表面を第１のホルダーで把握し、それによって、該第１の基板の外表面が、該第１のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与より実施される、工程と、
    第２の基板の外表面を第２のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第２の基板の外表面が、該第２のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される、工程と、
    該第１のホルダーの内表面および該第２のホルダーの内表面を整列し、選択された角度の関係で互いに対向させる工程と、
    該第１の基板の内表面および該第２の基板の内表面から選択される１つ以上の表面上に第１の接着剤を配置する工程と、
    該第１のホルダーおよび該第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、ならびに該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの内表面が選択された距離の関係および該選択された角度の関係にある間に、該第１の接着剤を少なくとも部分的に硬化させることにより、第１の多層製品を形成する工程と、
    該第１のホルダーおよび／または該第２のホルダーを該第１の多層製品から解除する工程と、
    該第１の多層製品の該第１の基板の外表面上に反射性物質を配置またはコーティングする工程と、
    第３の基板の外表面を、該解除された第１のホルダーで把握する工程であって、それによって、該第３の基板の外表面が該第１のホルダーの内表面に保持され、該把握することが真空の付与により実施される、工程と、
    該第３の基板の内表面および該形成された多層製品の第１の基板の反射性の外表面から選択される１つ以上の表面上に第２の接着剤を配置する工程と、
    該第１のホルダーおよび該第２のホルダーがそれらの把握を維持している間、ならびに該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの内表面が選択された距離の関係および選択された角度の関係にある間に、該第２の接着剤を少なくとも部分的に硬化させることにより、第２の多層製品を形成する工程と
    を包含し、
    該第１のホルダーおよび該第２のホルダーの除去の後、該少なくとも部分的に硬化した第１の接着剤および第２の接着剤が、該第２の多層製品を、該第２の多層製品が該第１のホルダーおよび該第２のホルダーによって保持された状態に維持し、該第１の接着剤および該第２の接着剤が、該製品が反射ホログラフィデータ記憶システムにデータを記憶し得るように感光性ポリマーを含み、該第１のホルダーの内表面および該第２のホルダーの内表面のうちの少なくとも１つが、約０．３〜約１．６μｍの波長に対し、約０．０５〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有する、方法。
31. 前記第２の多層製品が、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有し、前記第１、第２、および第３の基板上に前記接着剤によって奏される力が、該表面平坦度を維持する、請求項３０に記載の方法。
32. 前記第１の基板の第１の表面および前記第２の基板の第１の表面によって境が付けられる多層、ならびに前記第１の基板の第１の表面および第３の基板の第１の層によって境が付けられる多層の各々が、約３００ナノメーター〜１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する、請求項３０に記載の方法。
33. 前記第１のホルダーおよび前記第２のホルダーが、その中に少なくとも１つの真空溝を有するガラスプレートである、請求項３０に記載の方法。
34. 前記第１の多層製品および前記第２の多層製品が、０．９以上のストレール値を有する、請求項３０に記載の方法。
35. 前記第１の多層製品および前記第２の多層製品が、約１０^−２以下の弧形度を有する、請求項３０に記載の方法。
36. 前記第１、第２、および第３の基板が透明であり、ガラス、サファイア、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリオレフィンまたは石英から選択される、請求項３０に記載の方法。
37. 前記硬化させる工程の間に、前記第１のホルダーおよび前記第２のホルダーのうちの少なくとも１つがｚ軸に沿って移動可能である、請求項３０に記載の方法。
38. 前記選択された角度の関係が、平行の関係である、請求項３０に記載の方法。
39. 前記ホルダーの内表面の前記選択された角度の関係での整列の間に干渉技法が実施される、請求項３０に記載の方法。
40. 多層反射ホログラフィ製品であって、
    第１の表面および第２の表面をもつ第１の基板であって、該第１の表面が光学的に反射性である、第１の基板と、
    第２の基板と、
    第３の基板と、
    部分的に硬化した接着剤の第１の層であって、該第１の基板の第１の表面と該第２の基板との間に配置された接着剤の第１の層と、
    部分的に硬化した接着剤の第２の層であって、該第１の基板の第２の表面と該第３の基板との間に配置された接着剤の第２の層と
    を含み、
    該第１の接着剤と該第２の接着剤が、該製品が反射ホログラフィデータ記憶システムにデータを記憶し得るように感光性ポリマーを含み、該多層記憶システムが、約３００ナノメーター〜約１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの表面平坦度を有し、該第１の基板の第１の表面および該第２の基板の第１の表面によって境が付けられる層、ならびに該第１の基板の第１の表面および該第３の基板の第１の層によって境が付けられる層の各々が、約３００ナノメーター〜約１６００ナノメーターの波長で、約０．０５波／ｃｍ〜約１波／ｃｍの伝送平坦度を有する、多層反射ホログラフィ製品。
41. 前記基板が、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル、ポリオレフィンまたはそれらの任意の組合せから作られている、請求項４０に記載の多層反射ホログラフィ製品。
42. 前記基板が、該基板を通じて接着剤を分配するための少なくとも１つの穴を有する、請求項４０に記載の多層反射ホログラフィ製品。
43. 前記基板の幾何学的形態が、正方形、矩形、環状、または卵形であり得る、請求項４０に記載の多層反射ホログラフィ製品。
44. 前記基板の厚さが、約２５マイクロメーター〜約３ミリメーターである、請求項４０に記載の多層反射ホログラフィ製品。
45. 前記第１または第２または第３の基板の外表面が、表面リリーフパターンを含む、請求項４０に記載の多層反射ホログラフィ製品。
46. 前記第１または第２または第３の基板の内表面が、表面リリーフパターンまたは回折格子を含む、請求項４０に記載の多層反射ホログラフィ製品。
47. 前記接着剤が、熱エネルギーまたは照射エネルギーを利用して硬化される、請求項４０に記載の多層反射ホログラフィ製品。
48. 前記製品が、０．９以上のストレール値を有する、請求項４０に記載の多層反射ホログラフィ製品。

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