JP4128192B2 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、浮上式の薄膜磁気ヘッドの製造方法に関する。

浮上式の薄膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果素子やインダクティブ素子等を組み込んだスライダと、このスライダを自由端部に接着固定した可撓性の金属薄板からなるフレキシャと、このフレキシャを固定したロードビームとを備え、記録媒体が停止しているときはロードビームの弾性力によりスライダの下面が記録媒体表面に接触し、記録媒体が始動すると、該記録媒体の移動方向に沿ってスライダと記録媒体表面の間に空気流が導かれ、この空気流による浮上力を受けてスライダが記録媒体表面から浮上する。この浮上姿勢を保って薄膜磁気ヘッドは再生記録動作する。

スライダの空気流出端面には、外部磁界の強度に応じて抵抗が変化する磁気抵抗効果素子及び該磁気抵抗効果素子を通電する電極層を備えた再生素子部と、記録媒体との対向面（以下、「媒体対向面」という。）から後退した位置で磁気的に接続され磁気ギャップ層を挟んで積層した下部コア層、上部コア層及びこれら上下のコア層に記録磁界を与えるコイル層を備えた記録素子部とが積層形成されている。この再生素子部及び記録素子部は、一般に、例えばＡｌ₂Ｏ₃等の絶縁材料からなる保護層によって覆われている。薄膜磁気ヘッドは、通電した磁気抵抗効果素子の抵抗変化を検出することで再生動作し、コイル層に給電して下部コア層と上部コア層に誘電磁界を生じさせ、磁気ギャップ層からの洩れ磁界を記録磁界として記録媒体に付与することで記録動作する。

薄膜磁気ヘッドの記録再生動作中は、磁気抵抗効果素子を流れる電流によって再生素子部の温度が上昇するとともに、コイル層を流れる電流により該コイル層が発熱して記録素子部の温度が上昇する。上述したように再生素子部及び記録素子部は絶縁材料からなる保護層で覆われているため、これら素子部の熱は外方へ放出されにくく、素子部は高温となる。この素子部での温度上昇は、再生素子部、記録素子部及び保護層を含む薄膜磁気ヘッド素子構造部全体を熱膨張させ、媒体対向面から突出させてしまう。従来では、薄膜磁気ヘッドの記録媒体への接触を回避するために、薄膜磁気ヘッド素子構造部を斜めに研磨したり、薄膜磁気ヘッド素子構造部の先端に切欠きを設けたり等の様々な対策が採られている。
特開平１０−４９８２２号公報 特開平１１−３２８６４３号公報

しかしながら、近年では、記録媒体の更なる高記録密度化に対応すべく、薄膜磁気ヘッドの浮上量（再生素子部及び記録素子部と記録媒体表面の間隔）を１５ｎｍ以下に設定することが要求されている。このように浮上量が極めて小さくなると、熱膨張により媒体対向面から突出した素子構造部が記録媒体に当接するのを防ぐことが非常に難しく、記録媒体または記録媒体に記録された磁気情報を損傷したり、素子構造部自体を損傷してしまう危険性が一層高まる。また、高記録密度化を図るには磁気抵抗効果素子及びコイル層に与えられる電流の周波数も高くなるため、特に記録素子部の温度が１００℃を超えることが多く、素子構造部全体の突出量は大きい。薄膜磁気ヘッドの素子構造部を研磨したり素子構造部に切欠部を設けたりする従来対策では、目標とする薄膜磁気ヘッドの浮上量が極めて小さいために研磨誤差や切欠の形成誤差が浮上量に対して大きく影響し、個体間のばらつきが大きくなって制御が難しい。スライダの媒体対向面に付与するクラウンを大きくして素子構造部と記録媒体との接触を防止することも考えられるが、クラウンの付与量を増大させるとヘッドの浮上特性が変わってしまうので好ましくない。

本発明は、以上の問題意識に基づき、低浮上量を良好に維持しつつ、記録再生動作時に素子構造部と記録媒体との接触を防止してヘッド信頼性を向上し、高記録密度化に対応可能な薄膜磁気ヘッドの製造方法を得ることを目的としている。

本発明は、スライダの空気流出端面上に形成される薄膜磁気ヘッド素子構造部のみを局部的に記録媒体表面から大きく離間させれば、その浮上量を１５ｎｍ以下に抑えつつ薄膜磁気ヘッド素子構造部と記録媒体との接触を防止できること、そして薄膜磁気ヘッド素子構造部を記録媒体表面から離間させる手段としてはスライダの熱塑性変形を利用でき、スライダ形状を極力変化させないためにはスライダへの熱エネルギー付与位置を空気流出端に可及的に寄せることが最適であることに着目したものである。

すなわち、本発明は、回転する記録媒体の表面に生じる空気流を受けて該記録媒体表面から浮上するスライダの空気流出端面上に、薄膜磁気ヘッド素子構造部を形成するステップと、スライダのクラウン及びクロスクラウンが形成された記録媒体対向面の裏面であって該スライダの空気流出端から６０ないし２００μｍ離間させた位置に、熱源からの熱エネルギーを与えることにより、薄膜磁気ヘッド素子構造部を局部的に該スライダの記録媒体面よりも記録媒体表面から離間させる熱塑性変形部を形成するステップとを有し、スライダの空気流出端近傍に与える熱エネルギー量により、前記薄膜磁気ヘッド素子構造部をスライダの媒体対向面よりも記録媒体表面から離間させる距離間隔を調整すること、熱源は、固体レーザー、ＣＯ₂レーザー、エキシマレーザーまたはファイバーレーザーであること、スライダの空気流出端近傍に与える熱エネルギー量は、レーザー照射位置、レーザーパワー、レーザー照射時間及びレーザー照射回数のいずれかまたは組み合わせにより制御すること、及び、熱塑性変形部は、スライダの空気流出端面と平行な１の線条部で形成することを特徴としている。

上記方法では、スライダの空気流出端近傍に与える熱エネルギー量により、薄膜磁気ヘッド素子構造部をスライダの媒体対向面よりも記録媒体表面から離間させる距離間隔を調整することができる。この距離間隔は、薄膜磁気ヘッド素子構造部が通電により熱膨張したときに、目標となる浮上量（記録媒体表面から薄膜磁気ヘッド素子までの距離）が得られるように設定することが好ましい。熱源としてレーザーを用いる場合、例えばレーザー照射位置、レーザーパワー、レーザー照射時間及びレーザー照射回数などのレーザー照射条件を一定にすることで、複数の薄膜磁気ヘッドにおいて同一の熱塑性変形部を容易に形成することができ、個体毎のばらつきを抑えられる。

本発明によれば、低浮上量を良好に維持しつつ、記録再生動作時に素子構造部と記録媒体との接触を防止してヘッド信頼性を向上し、高記録密度化に対応可能な薄膜磁気ヘッドの製造方法を得ることができる。

図１は、本発明による薄膜磁気ヘッドの全体斜視図である。薄膜磁気ヘッドは、Ａｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣからなる略直方体の浮上式スライダ１と、このスライダ１を自由端部に接着固定した可撓性の金属薄板からなるフレキシャ３０と、このフレキシャ３０を固定したロードビーム４０を備えており、記録媒体が停止しているときはロードビーム４０の弾性力によってスライダ１の下面（媒体対向面）が記録媒体表面に接触した状態となっている。これに対し、記録媒体が始動すると、該記録媒体の移動方向に沿ってスライダ１と記録媒体表面の間に空気流が導かれ、この空気流による浮上力を受けてスライダ１が記録媒体表面から浮上し、この浮上姿勢を保って記録再生動作する。スライダ１の媒体対向面には、湾曲形状（クラウン、クロスクラウン）が付与されている。

本薄膜磁気ヘッドは、図２に示すように、浮上式スライダ１の空気流出端面１ａに薄膜形成した薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈ（再生素子部Ｒ、記録素子部Ｗ及び絶縁保護層２０を含む）を有する記録再生用の薄膜磁気ヘッドである。図３は、薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈの積層構造を素子中央で切断して示す断面図である。図３においてＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向は、トラック幅方向、デプス方向（ハイト方向）及び薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈを構成する各層の積層方向とそれぞれ定義する。

再生素子部Ｒは、アンダーコート２側から順に積層した下部シールド層３、下部ギャップ層４、磁気抵抗効果素子５、上部ギャップ層８及び上部シールド層９を備えている。下部シールド層３及び上部シールド層９はＮｉＦｅ等の軟磁性材料で形成され、下部ギャップ層４及び上部ギャップ層８はＡｌ₂Ｏ₃等の非磁性材料で形成されている。磁気抵抗効果素子５は、スピンバルブ膜に代表される巨大磁気抵抗効果を発揮するＧＭＲ素子や、トンネル磁気抵抗効果を発揮するＴＭＲ素子、異方性磁気抵抗効果を発揮するＡＭＲ素子である。この磁気抵抗効果素子５の図示Ｘ方向の両側には、下部ギャップ層４の上に、ＣｏＰｔ合金等の高磁性材料からなるバイアス層６と、Ａｕ等の良導電材料からなり該磁気抵抗効果素子５に接続する一対の電極層７が形成されている。この一対の電極層７の間隔は再生トラック幅寸法と同等である。一対の電極層７の上には、上述の上部ギャップ層８及び上部シールド層９が位置している。図示されていないが、下部ギャップ層４とバイアス層６との間には、ＣｒやＴａ等の金属膜からなるバイアス下地層が形成されている。再生素子部Ｒを構成する各層（下部シールド層３、下部ギャップ層、磁気抵抗効果素子５、上部ギャップ層８及び上部シールド層９）は、図３に示されるように、それらの先端がスライダ１の媒体対向面１ｂに露出している。再生素子部Ｒは、磁気抵抗効果素子５に一定電流を与え、外部磁界に対する磁気抵抗効果素子５の抵抗変化を電圧変化として読み出すことで、再生動作する。本実施形態の再生素子部Ｒは、一定電流を膜面内方向に流すＣＩＰ（Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｉｎ Ｐｌａｎｅ）構造をなしているが、一定電流を膜垂直方向に流すＣＰＰ（Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒ ｔｏ Ｐｌａｎｅ）構造であってもよい。

再生素子部Ｒの最上層である上部シールド層９の上には、Ａｌ₂Ｏ₃等の絶縁材料からなる分離絶縁層１０が形成されている。記録素子部Ｗは、この分離絶縁層１０を介して再生素子部Ｒの上に積層されている。

記録素子部Ｗは、媒体対向面１ｂに臨ませて分離絶縁層１０側から順に積層した下部コア層１１、メッキ下地層１２及び記録コア部１３と、記録コア部１３の上に積層され媒体対向面には露出しない上部コア層１４と、レジスト等の有機絶縁材料からなるＧｄ決め絶縁層１５と、メッキ下地層１２を挟んで下部コア層１１と上部コア層１４を磁気的に接続する磁気接続部１６と、絶縁層１７内に埋設されたコイル層Ｌとを備えている。下部コア層１１及び上部コア層１４はパーマロイやＣｏ合金、Ｆｅ合金等の磁性膜により形成され、メッキ下地層１２は導電材料により形成されている。

記録コア部１３は、メッキ下地層１２を介して下部コア層１１に磁気的に接続する下部磁極層１３ａ、非磁性金属材料からなるギャップ層１３ｂ及び上部コア層１４と磁気的に接続する上部磁極層１３ｃの三層構造をなしている。下部磁極層１３ａ及び上部磁極層１３ｃは、パーマロイやＣｏ合金、Ｆｅ合金等の磁性材料により形成することができ、下部コア層１１よりも飽和磁束密度の高い磁性材料で形成されていることが好ましい。記録コア部１３のトラック幅方向の両側には、絶縁層１７の一部である絶縁下地層１７ａ及び第１コイル絶縁層１７ｂが形成されている。

記録素子部Ｗの書込みトラック幅Ｗ−Ｔｗは、この記録コア部１３の媒体対向面に露出するトラック幅方向の寸法により規定される。具体的に、記録コア部１３の媒体対向面に露出するトラック幅方向の寸法は、高記録密度化に対応できるよう０．５μｍ以下で形成されていることが好ましく、より好ましくは０．２μｍ以下である。また、下部磁極層１３ａの厚み寸法は例えば０．３μｍ程度、ギャップ層１３ｂの厚み寸法は例えば０．１μｍ程度、上部磁極層１３ｃの厚み寸法は例えば２．４〜２．７μｍ程度である。

Ｇｄ決め絶縁層１５は、媒体対向面からデプス方向に所定長さ後退させた位置に形成され、記録コア部１３のギャップ層１３ｂのデプス方向の寸法を規定している。すなわち、記録素子部Ｗのギャップデプス（Ｇｄ）は、媒体対向面からＧｄ決め絶縁層１５の先端までの距離によって規制されている。磁気接続部１６は、パーマロイやＣｏ合金、Ｆｅ合金等の磁性材料により形成されている。

絶縁層１７は、上部磁極層１３ｃ、Ｇｄ決め絶縁層１５、メッキ下地層１２及び磁気接続部１６の露出面を覆う絶縁下地層１７ａと、この絶縁下地層１７ａの上に形成されて第１コイル層１８及び該第１コイル層１８のピッチ間を覆う第１コイル絶縁層１７ｂと、第１コイル絶縁層１７ｂの上に形成されて第２コイル層１９及び該第２コイル層１９のピッチ間を覆う第２コイル絶縁層１７ｃから構成されている。第２コイル絶縁層１７ｃの上には、上述の上部コア層１４が形成されている。絶縁下地層１７ａ及び第１コイル絶縁層１７ｂは、図３に示されるように媒体対向面に露出している。この絶縁層１７は、Ａｌ₂Ｏ₃やＳｉＯ₂等の無機絶縁材料またはレジスト等の有機絶縁材料により形成されている。

コイル層Ｌは、Ｃｕ等の電気抵抗の低い導電材料から形成されており、巻き中心部１８ａを中心として螺旋状に巻かれた第１コイル層１８と、この第１コイル層１８とは逆向きに巻かれた螺旋状の第２コイル層１９とによる二層構造をなしている。第１コイル層１８及び第２コイル層１９は、コンタクト導体αを介して巻き中心部１８ａ、１９ａで互いに接続されている。図示されていないが、第１コイル層１８の巻き終端部には、該第１コイル層１８に接続する第１コイルリード層が形成されている。コイル層Ｌは、単層構造であっても三層以上の多層構造であってもよい。記録素子部Ｗは、コイル層Ｌを流れる記録電流によって上部コア層１４と下部コア層１１に誘電磁界を生じさせ、記録コア部１３のギャップ層１３ｂから洩れる洩れ磁界を記録磁界として記録媒体に付与することで、記録動作する。本実施形態の記録素子部Ｗは、長手磁気記録媒体用の構造をなしているが、垂直磁気記録媒体用の構造であってもよい。

絶縁保護層２０は、Ａｌ₂Ｏ₃等の絶縁材料からなり、記録素子部Ｗ及び再生素子部Ｒ全体を覆って形成されている。

以上の全体構造を有する薄膜磁気ヘッドは、図２及び図４に示すように、スライダ１の媒体対向面１ｂとは裏面１ｃの空気流出端近傍に、薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈをスライダ１の媒体対向面１ｂよりも記録媒体表面から離間させる熱塑性変形部５０を有している。薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈは熱塑性変形部５０を介して局部的に曲げられており、スライダ１の湾曲形状（クラウン、クロスクラウン）には熱塑性変形部５０の影響が小さい。

熱塑性変形部５０は、スライダ１の裏面１ｃに熱エネルギーを与えることで形成され、本実施形態ではスライダ１の空気流出端面１ａに平行な１本の線条部からなっている。熱源としては、例えば、微細加工が可能で且つワークディスタンスを大きくとれるファイバーレーザーを利用する。スライダ１の裏面１ｃにレーザー光を照射すると、レーザー照射部位は瞬時に溶融した後で再度凝固するが、この再凝固時に生じる収縮応力により、レーザー照射部位の近傍で媒体対向面１ｂが凸状に反り返り、裏面１ｃが凹状に反り返る。このとき、レーザー照射位置をスライダ１の空気流出端（薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈ）の近傍に設定すると、レーザー照射位置から空気流出端面１ａまでの距離が空気流入端面までの距離に比して十分短いので、レーザー照射位置よりも空気流入端側には影響が小さく、レーザー照射位置よりも空気流出端側のみを反り返らせることができる。つまり、空気流出端近傍を除くスライダ１の媒体対向面１ｂ及び裏面１ｃの形状を維持したまま、スライダ１の空気流出端及び薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈのみを記録媒体表面から離間させる方向に曲げることができる。ここで、スライダ１の空気流出端（薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈ）の近傍とは、スライダ１の空気流出端に可及的に寄せた位置、すなわち空気流出端からの距離を数百μｍ以下とする位置を意味している。図４の矢印方向は、レーザー照射部位の再凝固時に発生する収縮応力の方向を示している。

スライダ１の空気流出端側の反り返り形状は、スライダ１の裏面１ｃの空気流出端近傍に与える熱エネルギー量によって変化し、与える熱エネルギー量が大きくなるほど反り返りも大きくなる。上記空気流出端近傍に与える熱エネルギー量は、レーザー照射位置（空気流出端からの距離）、レーザーパワー、レーザー照射時間及びレーザー照射回数からなるレーザー照射条件で制御可能である。薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈをスライダ１の媒体対向面１ｂよりも記録媒体表面から離間させる距離間隔ｄ（図４）は、薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈが素子部への通電により熱膨張したときに、目標となる浮上量（記録媒体表面から再生素子部Ｒ及び記録素子部Ｗまでの距離）が得られるように設定する。

本実施形態の熱塑性変形部５０は、スライダ１の空気流出端から約２００μｍ離した位置に１ｍ／秒の走査速度で出力２３Ｗのレーザー光を該空気流出端と平行に走査させることで形成した、約２０〜３０μｍ幅の線条部からなる。熱塑性変形部５０の深さは約３〜５μｍであり、スライダ１の厚さ０．３〜０．５ｍｍの約１／１０程度である。この熱塑性変形部５０を設けることで、薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈを記録媒体表面から離れる方向にスライダ１の媒体対向面１ｂよりも約５ｎｍ（＝ｄ）反らせることができる。

以上のように熱塑性変形部５０をスライダ１の裏面１ｃの空気流出端近傍に設ければ、スライダ１の形状は極力変化せずに、薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈがスライダ１の媒体対向面１ｂよりも記録媒体表面から離れる方向に曲げられるので、薄膜磁気ヘッドの浮上量を１５ｎｍ以下に設定しても、熱膨張により突出した薄膜磁気ヘッド素子構造部Ｈが記録媒体表面に当たらないように防止することができる。これにより、ヘッド信頼性の向上と高記録密度化の両方を同時に実現できる。また、熱塑性変形部５０はレーザー照射により形成しているので、レーザー照射条件（レーザー照射位置、レーザーパワー、レーザー照射時間及びレーザー照射回数）を一定にすることで同一の熱塑性変形部を容易に形成でき、個体毎のばらつきを抑えることができる。

図５及び図６は、スライダ１の媒体対向面１ｂの形状プロファイルであり、熱塑性変形部５０の形成前と形成後を比較して示している。熱塑性変形部５０は、図２のようにスライダ１の側面１ｄまで達する、空気流出端面１ａに平行な１本の線条部で形成する。図５はレーザー照射条件１（走査位置；空気流出端から約８０μｍ離した位置、レーザーパワー２３Ｗ、走査速度２０００ｍｍ／ｓｅｃ、ワークディスタンス１６３ｍｍ、）で熱塑性変形部５０を形成した第１実施例であり、図６はレーザー照射条件２（走査位置；空気流出端から約６０μｍ離した位置、レーザーパワー２３Ｗ、走査速度１０００ｍｍ／ｓｅｃ、ワークディスタンス１６３ｍｍ）で熱塑性変形部５０を形成した第２実施例である。図５及び図６において、縦軸はスライダ１の媒体対向面位置を示し、横軸は空気流出端面１ａからの位置を示している。

図５及び図６を見ると、レーザー照射により熱塑性変形部５０を形成することで、スライダ１の空気流出端側のみが記録媒体表面から離れる方向に曲がることが明らかである。

また、図５、図６に示す第１、第２実施例において、スライダ１の媒体対向面１ｂのクラウン変化を測定したところ、第１実施例ではレーザー照射前と照射後の両方で４１．０ｎｍと変化がなく、第２実施例ではレーザー照射前４０．５ｎｍ、照射後３９．６ｎｍと僅かな変化にとどまったことが判明した。これにより、熱塑性変形部５０を形成しても、スライダ１のクラウン形状はほとんど変化していないことがわかる。

以上の本実施形態では、スライダ１の側面１ｄまで達する１本の線条部で熱塑性変形部５０を形成しているが、熱塑性変形部は複数の線条部から形成してもよく、線条部はスライダ１の側面１ｄを達していなくてもよい（スライダ１の裏面１ｃの中央部にのみ形成してもよい）。熱塑性変形部５０を形成するための熱源としては、ファイバーレーザーを一例として挙げているが、これに限らず、ＹＡＧなどの固体レーザー、ＣＯ₂やエキシマなどの気体レーザー、あるいはこれら以外の熱源を用いてもよい。

また本実施形態は、再生素子部Ｒと記録素子部Ｗを備えた録再用の薄膜磁気ヘッドの製造方法に本発明を適用した実施形態であるが、本発明は、再生素子部Ｒのみを備える再生専用の薄膜磁気ヘッド及び記録素子部Ｗのみを備える記録専用の薄膜磁気ヘッドの製造方法にも適用可能である。また本発明は、ＦＨＡ（Ｆｌｙｉｎｇ Ｈｅｉｇｈｔ Ａｄｊｕｓｔ）機構を備えた薄膜磁気ヘッドの製造方法にも適用可能である。

本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、ＣＳＳ（コンタクトスタートストップ）式、ランプロード（Ramp Load）式のいずれにも適用することができる。

本発明方法により製造した薄膜磁気ヘッドの全体平面図である。 図１の浮上式スライダ及び薄膜磁気ヘッド素子構造部を拡大して示す斜視図である。 薄膜磁気ヘッド素子構造部の積層構造を素子中央で切断して示す断面図である。 スライダの媒体対向面の裏面のレーザー照射部位が溶融後、再凝固するときに発生する収縮応力によってスライダが反り返る様子を説明する模式図である。 熱塑性変形部の形成前後におけるスライダの媒体対向面の形状変化を比較して示す形状プロファイル（実施例１）である。 熱塑性変形部の形成前後におけるスライダの媒体対向面の形状変化を比較して示す形状プロファイル（実施例２）である。

符号の説明

１ スライダ
１ａ 空気流出端面
１ｂ 媒体対向面
１ｃ 裏面
１ｄ 側面
２０ 絶縁保護層
３０ フレキシャ
４０ ロードビーム
５０ 熱塑性変形部
Ｈ 薄膜磁気ヘッド素子構造部（再生素子部、記録素子部、絶縁保護層）
Ｒ 再生素子部
Ｗ 記録素子部

Claims (3)

1. 回転する記録媒体の表面に生じる空気流を受けて該記録媒体表面から浮上するスライダの空気流出端面上に、薄膜磁気ヘッド素子構造部を形成するステップと、
   前記スライダのクラウン及びクロスクラウンが形成された記録媒体対向面の裏面であって該スライダの空気流出端から６０ないし２００μｍ離間させた位置に、熱源からの熱エネルギーを与えることにより、前記薄膜磁気ヘッド素子構造部を局部的に該スライダの記録媒体面よりも記録媒体表面から離間させる熱塑性変形部を形成するステップとを有し、
   前記スライダの空気流出端近傍に与える熱エネルギー量により、前記薄膜磁気ヘッド素子構造部を前記スライダの媒体対向面よりも記録媒体表面から離間させる距離間隔を調整すること、
   前記熱源は、固体レーザー、ＣＯ₂レーザー、エキシマレーザーまたはファイバーレーザーであること、
   前記スライダの空気流出端近傍に与える熱エネルギー量は、レーザー照射位置、レーザーパワー、レーザー照射時間及びレーザー照射回数のいずれかまたは組み合わせにより制御すること、及び、
   前記熱塑性変形部は、前記スライダの空気流出端面と平行な１の線条部で形成すること、
   を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
2. 請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記熱塑性変形部は、前記スライダの空気流出端から８０μｍ離れた位置に、レーザーパワー２３Ｗ、走査速度２０００ｍｍ／ｓｅｃのレーザー照射条件で熱エネルギーを与えて形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法。
3. 請求項１記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記熱塑性変形部は、前記スライダの空気流出端から６０μｍ離れた位置に、レーザーパワー２３Ｗ、走査速度１０００ｍｍ／ｓｅｃのレーザー照射条件で熱エネルギーを与えて形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法。

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