JP4125669B2 - 体積型ホログラム製造方法 - Google Patents
体積型ホログラム製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4125669B2 JP4125669B2 JP2003425490A JP2003425490A JP4125669B2 JP 4125669 B2 JP4125669 B2 JP 4125669B2 JP 2003425490 A JP2003425490 A JP 2003425490A JP 2003425490 A JP2003425490 A JP 2003425490A JP 4125669 B2 JP4125669 B2 JP 4125669B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- volume hologram
- hologram recording
- wavelength
- recording
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 134
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 117
- -1 5,6-dimethyl-3-propyl-2 (3H) -benzothiazolidylidene Chemical group 0.000 claims description 64
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 58
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 50
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 50
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 46
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 45
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 30
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 21
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 19
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- FNBXEYQSBDXXNE-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[[4-(dibutylamino)phenyl]methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(N(CCCC)CCCC)=CC=C1C=C(CC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(N(CCCC)CCCC)C=C1 FNBXEYQSBDXXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KKLBPVXKMBLCQX-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[[4-(diethylamino)phenyl]methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=C(CC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 KKLBPVXKMBLCQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000005520 diaryliodonium group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 4
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- HZGMFUKWQVHREH-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethyl-5-[2-(1-methylpyrrolidin-2-ylidene)ethylidene]-2-sulfanylidene-1,3-diazinane-4,6-dione Chemical compound O=C1N(CC)C(=S)N(CC)C(=O)C1=CC=C1N(C)CCC1 HZGMFUKWQVHREH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- PNUJAYNIOMDACX-UHFFFAOYSA-O CC1(C)C2=CC(OC)=CC=C2N(CCCCCCC)\C1=C\C(C/1=O)=C(O)\C\1=C/C1=[N+](CCCCCCC)C2=CC=C(OC)C=C2C1(C)C Chemical compound CC1(C)C2=CC(OC)=CC=C2N(CCCCCCC)\C1=C\C(C/1=O)=C(O)\C\1=C/C1=[N+](CCCCCCC)C2=CC=C(OC)C=C2C1(C)C PNUJAYNIOMDACX-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 77
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 31
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 22
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 10
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IUOALUVIEFDYAP-UHFFFAOYSA-N [4-[9-(2,3-diethoxy-4-prop-2-enoyloxyphenyl)fluoren-9-yl]-2,3-diethoxyphenyl] prop-2-enoate Chemical compound CCOC1=C(OC(=O)C=C)C=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C(=C(OCC)C(OC(=O)C=C)=CC=2)OCC)=C1OCC IUOALUVIEFDYAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 8
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 7
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 238000011160 research Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 4
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical group 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 4h-chromene-2,3-dione Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(=O)CC2=C1 CDSULTPOCMWJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical group CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 3
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 3
- BGTOWKSIORTVQH-HOSYLAQJSA-N cyclopentanone Chemical group O=[13C]1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-HOSYLAQJSA-N 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPXHIYXWGUYGHF-MXWIWYRXSA-N (2e,5e)-2,5-bis[[4-(dimethylamino)phenyl]methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1\C=C(/CC\1)C(=O)C/1=C/C1=CC=C(N(C)C)C=C1 GPXHIYXWGUYGHF-MXWIWYRXSA-N 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYMJAQDIVZHDM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[2-(1-ethylbenzo[e][1,3]benzothiazol-2-ylidene)ethylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC=CC2=C(N(C(=CC=C3CCC(C3=O)=CC=C3N(C4=C5C=CC=CC5=CC=C4S3)CC)S3)CC)C3=CC=C21 ALYMJAQDIVZHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical group C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAMAKTDZWYRRPM-UHFFFAOYSA-N (2,5-dinitrophenyl)methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OCC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1[N+]([O-])=O NAMAKTDZWYRRPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=CC=CC=C1 DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRJCFZUOXQVWGF-ARHRGINZSA-N (2e,6z)-2,6-bis[[4-(dimethylamino)phenyl]methylidene]cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1\C=C(\CCC\1)C(=O)C/1=C/C1=CC=C(N(C)C)C=C1 XRJCFZUOXQVWGF-ARHRGINZSA-N 0.000 description 1
- QJYBLGMKMPXOEI-UHFFFAOYSA-N 1,1'-biphenyl;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 QJYBLGMKMPXOEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGRNEGLBSNLPNP-UHFFFAOYSA-N 1,6-dichloro-3-methylhex-1-ene Chemical compound ClC=CC(C)CCCCl PGRNEGLBSNLPNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 2,2,5,8-tetramethyl-3,4-dihydrochromen-6-ol Chemical compound C1CC(C)(C)OC2=C1C(C)=C(O)C=C2C MEKOFIRRDATTAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHOUKKVJOPQVJM-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO KHOUKKVJOPQVJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTINZFQXZLCHNS-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)butan-1-ol Chemical compound C1OC1COCC(CO)(CC)COCC1CO1 JTINZFQXZLCHNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-triphenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 RNIPJYFZGXJSDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKNDBSKUZOPJKN-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[3-[4-(dimethylamino)phenyl]prop-2-enylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=CC=C(CC1)C(=O)C1=CC=CC1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZKNDBSKUZOPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCGABUFXOGSMMF-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[3-[4-(diethylamino)phenyl]prop-2-enylidene]cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC=C(CCC1)C(=O)C1=CC=CC1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 MCGABUFXOGSMMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIFWPLOFXPGAJJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[[4-(diethylamino)phenyl]methylidene]cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=C(CCC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 LIFWPLOFXPGAJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 2-(1h-imidazol-2-yl)-1h-imidazole Chemical class C1=CNC(C=2NC=CN=2)=N1 AZUHIVLOSAPWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHOFYFPULAFHNV-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(dibutylamino)phenyl]methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C(CCC)N(C1=CC=C(C=C2C(CCC2)=O)C=C1)CCCC HHOFYFPULAFHNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- LXCJXYYYOPFEDH-UHFFFAOYSA-N 3-(2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(C(C=3C(OC4=CC=CC=C4C=3)=O)=O)=CC2=C1 LXCJXYYYOPFEDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTFHNDSRQORPMK-UHFFFAOYSA-N 3-(5,7-dimethoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)-5,7-dimethoxychromen-2-one Chemical compound C1=C(OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=C(OC)C=C(C=C4OC3=O)OC)=CC2=C1OC XTFHNDSRQORPMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXEZLYIDQPBCBB-UHFFFAOYSA-N 4-(3-piperidin-4-ylpropyl)piperidine Chemical compound C1CNCCC1CCCC1CCNCC1 OXEZLYIDQPBCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXRQWUYCKJAFHX-UHFFFAOYSA-M 4-[2-(3,5-dimethyl-1,3-oxazol-3-ium-2-yl)ethenyl]-n,n-dimethylaniline;iodide Chemical compound [I-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=CC1=[N+](C)C=C(C)O1 NXRQWUYCKJAFHX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SANIRTQDABNCHF-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-[7-(diethylamino)-2-oxochromene-3-carbonyl]chromen-2-one Chemical compound C1=C(N(CC)CC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=CC2=C1 SANIRTQDABNCHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUGHGNMOGHFKFF-UHFFFAOYSA-N CC(C=CC=C1C2)=C1C1=C2C=CC(C)=C1OCCOC(C=C)=O Chemical compound CC(C=CC=C1C2)=C1C1=C2C=CC(C)=C1OCCOC(C=C)=O GUGHGNMOGHFKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZDMWHPREUIODO-UHFFFAOYSA-N CCC(C=C(C=C1)C2=CC=CC3=C2CC2=CC=CC=C32)=C1OCCOC(C=C)=O Chemical compound CCC(C=C(C=C1)C2=CC=CC3=C2CC2=CC=CC=C32)=C1OCCOC(C=C)=O SZDMWHPREUIODO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 Chemical compound FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- RNDGIOXTGMTDEL-UHFFFAOYSA-N SC=1NC2=C(N1)C=CC=C2.C2(=CC=CC=C2)C=2NOC(C2)=O Chemical compound SC=1NC2=C(N1)C=CC=C2.C2(=CC=CC=C2)C=2NOC(C2)=O RNDGIOXTGMTDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- TYJKIEGXKNWFJY-UHFFFAOYSA-N [3-(7-acetyloxy-2-oxochromene-3-carbonyl)-2-oxochromen-7-yl] acetate Chemical compound C1=C(OC(C)=O)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)OC(=O)C)=CC2=C1 TYJKIEGXKNWFJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical class C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDMWODJQZUZRGY-UHFFFAOYSA-N [4-[9-(4-prop-2-enoyloxy-2,3-dipropoxyphenyl)fluoren-9-yl]-2,3-dipropoxyphenyl] prop-2-enoate Chemical compound CCCOC1=C(OC(=O)C=C)C=CC(C2(C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)C=2C(=C(OCCC)C(OC(=O)C=C)=CC=2)OCCC)=C1OCCC WDMWODJQZUZRGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTBYNMBEYCCFPS-UHFFFAOYSA-N azane boric acid Chemical class N.N.N.OB(O)O NTBYNMBEYCCFPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- QRMFGEKERJAYSQ-UHFFFAOYSA-N bis(4-chlorophenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[I+]C1=CC=C(Cl)C=C1 QRMFGEKERJAYSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 DNFSNYQTQMVTOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- FLTDLGPEJAJANE-UHFFFAOYSA-N but-3-enyl triethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCCC=C FLTDLGPEJAJANE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIAWWFZNZAIXRF-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 1-benzoylcyclohexa-3,5-diene-1,3-dicarboperoxoate Chemical compound C1C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=CC1(C(=O)OOC(C)(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 BIAWWFZNZAIXRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 4-[3,4-bis(tert-butylperoxycarbonyl)benzoyl]benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound C1=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(=O)OOC(C)(C)C)C(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 KGGOIDKBHYYNIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical class [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIKVCUNQWYTVTO-UHFFFAOYSA-N nicardipine hydrochloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=C(C)NC(C)=C(C(=O)OCCN(C)CC=2C=CC=CC=2)C1C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 AIKVCUNQWYTVTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- BYOIQYHAYWYSCZ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoxysilane Chemical compound [SiH3]OCC=C BYOIQYHAYWYSCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001022 rhodamine dye Substances 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLGKSXCGHMXELQ-ZRDIBKRKSA-N trans-2-styrylquinoline Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=NC=1\C=C\C1=CC=CC=C1 RLGKSXCGHMXELQ-ZRDIBKRKSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N tributoxy(ethenyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)C=C SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQNOJZPNRQOYQR-UHFFFAOYSA-N trimethyl prop-2-enyl silicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OCC=C FQNOJZPNRQOYQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 1
- QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N tris(4-methylphenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[S+](C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 QKFJVDSYTSWPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
- G03F7/012—Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/035—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/037—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/024—Hologram nature or properties
- G03H1/0248—Volume holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2260/00—Recording materials or recording processes
- G03H2260/12—Photopolymer
Description
体積型ホログラムを記録するための感光性組成物としては、古くは銀塩、重クロムゼラチン等の材料系があるが、これらの材料系ではホログラム記録性能は良好であるが、湿式現像を行うため作業が煩雑であること、保存安定性が劣ることなどから、量産には向いていない。
また、ラジカル重合とカチオン重合を併用した材料系が報告されている。例えば特許文献2では、高屈折率ラジカル重合性モノマーとしてジアリールフルオレン骨格を有するモノマー及び該ラジカル重合性モノマーより屈折率が小さいカチオン重合性モノマーを使用した系が開示されている。この系では、干渉露光時にラジカル重合により高屈折率成分が重合し、次いで定着露光でカチオン重合により像を固定する。
体積型ホログラムの記録に使用されるコヒーレンス性が高い光源としては可視レーザー光が用いられる。この可視レーザー光による感光性を向上させるために、一般に体積型ホログラム記録材料には、可視レーザー光の波長に対して増感可能な、いわゆる増感色素が添加される。体積型ホログラムの記録に有用な増感色素としては、例えば、特許文献4、特許文献5、特許文献6等に記載されている色素が挙げられ、また、増感色素と光重合開始剤の組み合わせが、例えば、特許文献7、特許文献8等に記載されている。
化学名:2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン
化学名:2,5−ビス(4−ジブチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン
前記体積型ホログラム記録波長が630nm〜670nmの領域内に設定され、
前記増感色素が前記体積型ホログラム記録波長での吸収を持ち、且つ、前記体積型ホログラム記録波長に対して最大吸収波長が14nm以上乖離し、且つ下記化合物(1)及び下記化合物(2)のいずれかより選択される化合物であることを特徴とする、体積型ホログラム製造方法である。
化学名:1−ヘプチル−2−[3−(1−ヘプチル−5−メトキシ−3,3−ジメチル−1,3−ジヒドロ−インドール−2−イリデンメチル)−2−ヒドロキシ−4−オキソ−2−シクロブテニリデンメチル]−5−メトキシ−3,3−ジメチル−3H−インドリウム インナーソルト
前記体積型ホログラム記録波長が420nm〜488nmの領域内に設定され、
前記増感色素が前記体積型ホログラム記録波長での吸収を持ち、且つ、前記体積型ホログラム記録波長に対して最大吸収波長が14nm以上乖離し、且つ下記化合物(5)及び下記化合物(6)のいずれかより選択される化合物であることを特徴とする、体積型ホログラム製造方法である。
化学名:1−ブチル−5−[2−(6−エトキシ−3−ヘキシル−3H−ベンゾチアゾール−2−イリデン)−エチリデン]−3−(2−メトキシ−エチル)−ピリミジン−2,4,6−トリオン
上記化合物(1)又は(2)を含有する体積型ホログラム記録用感光性組成物を用いる第2の方法は、赤色ホログラムを作製する場合に高い回収効率が得られる。
上記化合物(5)又は(6)を含有する体積型ホログラム記録用感光性組成物を用いる第3の方法は、青色ホログラムを作製する場合に高い回収効率が得られる。
また、光重合性化合物としては、光ラジカル重合性化合物及び光カチオン重合性化合物の中から選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。
また、上記体積型ホログラム記録用感光性組成物には、前記光重合性化合物と屈折率が異なる第二の屈折率変調成分をさらに含有させてもよい。第一の屈折率変調成分としての前記光重合性化合物に、第二の屈折率変調成分を組み合わせると、露光時に体積排除効果により強露光部と弱露光部の屈折率差を増大させることができる。
これに対し本発明においては、可視領域の記録波長を用いて干渉露光を行う時に、個別具体的に設定された記録波長に対して上記一定の関係を満たすようにホログラム記録用組成物の組成を調整することによって、増感色素がもつ増感能力を充分に引き出すことができるので、良好な感度又はホログラム記録性能が得られる。
ただし、好適な増感色素は、これらに限定されるものではない。
ここで、透明とは、ホログラム記録部以外の領域において目視で透明であること、又は、可視領域(波長400〜700nm)の透過率が60%以上であることをいう。
((株)林原生物化学研究所製)
((株)林原生物化学研究所製)
((株)林原生物化学研究所製)
((株)林原生物化学研究所製)
((株)林原生物化学研究所製)
((株)林原生物化学研究所製)
光重合性化合物としては、光照射によって重合又は二量化反応が進行し、且つ、ホログラム記録用組成物中で拡散移動できる化合物であれば使用可能であり、例えば、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合のような重合反応、及び、光二量化を経て進行する重合等の反応形式により反応が進行するものが挙げられる。
これらの光重合性化合物のうち、光ラジカル重合性化合物及び光カチオン重合性化合物は、入手できる化合物が多く、反応の制御も容易なので、好適に用いられる。
金属微粒子としては、体積型ホログラム記録材料層中で拡散移動できる化合物であり、光重合性化合物の屈折率と差があるものであれば、非反応性の金属微粒子であっても良いし、粒子表面に光重合反応性基又はその他の反応性基を導入した重合反応性金属微粒子であってもよい。
有機−無機ハイブリッド樹脂としては、例えば、下記一般式(3)で表される重合性基を有する有機金属化合物とビニルモノマーの共重合体等の有機−無機ハイブリッドポリマーが挙げられる。
RmM(OR’)n 一般式(3)
(上記式中、MはSi、Ti、Zr、Zn、In、Sn、Al、Se等の金属、Rは炭素数1〜10のビニル基又は(メタ)アクリロイル基、R’は、炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは金属Mの価数である。)
M’(OR”)n’ 一般式(4)
(上記式中、M’はTi、Zr、Zn、In、Sn、Al、Se等の金属、R”は炭素数1〜10のアルキル基を表し、n’は金属M’の価数である。)
熱硬化性エポキシ化合物は、架橋結合を形成するオリゴマーなのでバインダーとして機能するが、それに加えて、光カチオン重合反応性をもち組成物中で拡散移動できる分子サイズでもあるので、第二の屈折率変調成分としても機能する。従って、熱硬化性エポキシ化合物は、他のバインダー樹脂に代えて又は他のバインダー樹脂と共にホログラム記録用組成物に配合することができる。
バインダー樹脂としては、上記例示の材料を含む種々のものの中から1種のみ選んで使用しても良いし、2種以上を混合して使用しても良い。
光重合性化合物は、バインダー樹脂100質量部に対して好ましくは10〜1000質量部、さらに好ましくは10〜100質量部の割合で使用される。
光重合開始剤は、バインダー樹脂100質量部に対して好ましくは0.1〜20質量部、さらに好ましくは5〜15質量部の割合で使用される。
熱硬化性エポキシ化合物は、バインダー樹脂100質量部に対して好ましくは10〜300質量部、さらに好ましくは70〜150質量部の割合で使用される。
また、ホログラム記録用組成物には、上記成分の他に、可塑剤、粘着性制御剤(粘着付与剤)、酸化防止剤等の各種添加剤を、目的に応じて適宜配合してもよい。
例えば、必要に応じて、体積型ホログラム記録用感光性媒体のホログラム記録材料層に予め比較的弱い均一な光照射を行うことにより、光重合性化合物をある程度重合させた後、ホログラム原版を向き合わせて密着させ、透明基材フィルム側から可視領域の記録光を用いて干渉露光を行うことにより体積型ホログラムが形成される。
可視領域でのコヒーレンス性の高い記録光の光源としては、可視レーザー光が好適であり、例えば、アルゴンイオンレーザー(458nm、488nm、514.5nm)、クリプトンイオンレーザー(647.1nm)、ヘリウム−ネオンイオンレーザー(633nm)、YAGレーザー(532nm)、Dyeレーザー(553nm)等からのレーザー光が使用される。
この結果、回折効率を大きくすることができ、視覚的に明るい、優れたホログラムが形成される。
1.体積型ホログラムの作製
(実施例1)
(1)体積型ホログラム記録用感光性組成物の調製
下記成分を混合し、体積型ホログラム記録用感光性組成物を得た。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・2−[[3−アリル−5−[2−(5,6−ジメチル−3−プロピル−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン)エチリデン]−4−オキソ−2−チアゾリジニリデン]メチル]−3−エチル−4,5−ジフェニルチアゾリウム メチルサルフェート(上記化合物(1)、(株)林原生物化学研究所製、最大吸収波長(λMAX):602.5nm):1質量部
・1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(ナガセケムテックス製EX−212):70質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
上記体積型ホログラム記録用感光性組成物を厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(以下、PETとする)フィルム(商品名ルミラーT−60、東レ(株)製)上にバーコーターを使用して塗布し、乾燥時膜厚が10μmのホログラム記録用組成物層を形成し、体積型ホログラム記録用感光性媒体を作製した。
体積型ホログラム記録用感光性媒体のホログラム記録用組成物層側をミラーにラミネートし、PETフィルム側から647.1nmクリプトンイオンレーザー光を入射して干渉露光を行い、体積型ホログラムを記録した。
次いで、加熱及び紫外線照射により干渉縞を固定して、体積型ホログラムを得た。
体積型ホログラム記録用感光性組成物の組成を下記の通り変更した以外は、実施例1と同様の条件で体積型ホログラムを作製した。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・1−ヘプチル−2−[3−(1−ヘプチル−5−メトキシ−3,3−ジメチル−1,3−ジヒドロ−インドール−2−イリデンメチル)−2−ヒドロキシ−4−オキソ−2−シクロブテニリデンメチル]−5−メトキシ−3,3−ジメチル−3H−インドリウム インナーソルト
(上記化合物(2)、(株)林原生物化学研究所製、λMAX:662nm):1質量部
・1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(ナガセケムテックス製EX−212):70質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
体積型ホログラム記録用感光性組成物の組成を下記の通り変更し、ホログラム記録の光源を532nmYAGレーザー光に変更した以外は、実施例1と同様の条件で体積型ホログラムを作製した。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン(上記化合物(3)、(株)林原生物化学研究所製、最大吸収波長(λMAX):479.5nm):1質量部
・1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(ナガセケムテックス製EX−212):70質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
体積型ホログラム記録用感光性組成物の組成を下記の通り変更し、ホログラム記録の光源を532nmYAGレーザー光に変更した以外は、実施例1と同様の条件で体積型ホログラムを作製した。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・2,5−ビス(4−ジブチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン(上記化合物(4)、(株)林原生物化学研究所製、最大吸収波長(λMAX):483nm):1質量部
・1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(ナガセケムテックス製EX−212):70質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
体積型ホログラム記録用感光性組成物の組成を下記の通り変更し、ホログラム記録の光源を458nmアルゴンイオンレーザー光に変更した以外は、実施例1と同様の条件で体積型ホログラムを作製した。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・1,3−ジエチル−5−[2−(1−メチル−ピロリジン−2−イリデン)−エチリデン]−2−チオキソ−ジヒドロ−ピリミジン−4,6−ジオン(上記化合物(5)、(株)林原生物化学研究所製、最大吸収波長(λMAX):437.5nm):1質量部
・1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(ナガセケムテックス製EX−212):70質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
体積型ホログラム記録用感光性組成物の組成を下記の通り変更し、ホログラム記録の光源を458nmアルゴンイオンレーザー光に変更した以外は、実施例1と同様の条件で体積型ホログラムを作製した。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・1−ブチル−5−[2−(6−エトキシ−3−ヘキシル−3H−ベンゾチアゾール−2−イリデン)−エチリデン]−3−(2−メトキシ−エチル)−ピリミジン−2,4,6−トリオン(上記化合物(6)、(株)林原生物化学研究所製、最大吸収波長(λMAX):489.5nm):1質量部
・1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(ナガセケムテックス製EX−212):70質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
体積型ホログラム記録用感光性組成物の組成を、下記の通り変更した以外は、実施例1と同様の条件で体積型ホログラムの作製を試みた。しかし、増感色素によって開始剤を記録に充分なだけ活性化することができなかったため、光重合性化合物による干渉縞の記録が行なわれず、ホログラムを作製できなかった。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・ジブチル−{4−[3−(4−ジブチルアミノ−フェニル)−2−ヒドロキシ−4−オキソ−2−シクロブテニリデン]−シクロヘキサ−2,5−ジエニリデン}−アンモニウム インナーソルト(下記化合物(7)、(株)林原生物化学研究所製、最大吸収波長(λMAX):649nm):1質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
体積型ホログラム記録用感光性組成物の組成を下記の通り変更し、ホログラム記録の光源を532nmYAGレーザー光に変更した以外は、実施例1と同様の条件で体積型ホログラムの作製を試みた。しかし、増感色素によって開始剤を記録に充分なだけ活性化することができなかったため、光重合性化合物による干渉縞の記録が行なわれず、ホログラムを作製できなかった。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・2−[2−(4−ジメチルアミノ−フェニル)−ビニル]−3−オクチル−3−ベンゾチアゾリウム ブロミド(下記化合物(8)、林原生物化学研究所製、最大吸収波長(λMAX):528nm):1質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
体積型ホログラム記録用感光性組成物の組成を下記の通り変更し、ホログラム記録の光源を458nmアルゴンイオンレーザー光に変更した以外は、実施例1と同様の条件で体積型ホログラムの作製を試みた。しかし、増感色素によって開始剤を記録に充分なだけ活性化することができなかったため、光重合性化合物による干渉縞の記録が行なわれず、ホログラムを作製できなかった。
<組成>
・ポリ酢酸ビニル(創和化学(株)製、重量平均分子量100,000):100質量部
・9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン(BPEFA大阪ガス(株)製):80質量部
・ジアリールヨードニウム塩(商品名PI2074、ローディア製):5質量部
・2−[2−(4−ジメチルアミノ−フェニル)−ビニル]−3,5−ジメチル−3−オキサゾリウム ヨージド(下記化合物(9)、林原生物化学研究所製、最大吸収波長(λMAX):459nm):1質量部
・トルエン:30質量部
・メチルエチルケトン:30質量部
(1)増感色素の最大吸収波長及び記録波長での組成物の吸収
増感色素の最大吸収波長は、各実施例・比較例で得られた体積型ホログラム記録用感光性組成物を、厚さ50μmのPETフィルム(商品名ルミラーT−60、東レ(株)製)に塗布して乾燥時膜厚が10μmのホログラム記録用組成物層を形成し、分光光度計(商品名UVPC−3100、(株)島津製作所製)を用いて測定した。同時に、ホログラム記録用組成物層が記録波長において吸収を持つことを確認した。
分光光度計(商品名UVPC−3100、(株)島津製作所製)を用いて透過率を測定し、得られた分光透過率曲線におけるピーク透過率をA、ベース透過率をBとして(図1参照)、回折効率 η=|A−B|/Bを計算した。
表1に、各実施例・比較例で作製した体積ホログラムの回折効率を示すと共に、記録波長、増感色素、増感色素の最大吸収波長(λMAX)、記録波長とλMAXの差、組成物の記録波長における吸収の有無を示す。
各実施例において、回折効率が大きい、明るいホログラムが得られた。一方、いずれの比較例においても増感色素によって開始剤を記録に充分なだけ活性化することができなかったため、ホログラムを作製できなかった。
Claims (8)
- 屈折率変調成分としての光重合性化合物、光重合開始剤、及び、前記光重合開始剤の可視領域波長に対する感度を増加させる増感色素を含有する体積型ホログラム記録用感光性組成物からなるホログラム記録部に、可視領域内に設定された所定の体積型ホログラム記録波長を用いて干渉露光を行なって体積型ホログラムを記録する体積型ホログラム製造方法であって、
前記体積型ホログラム記録波長が630nm〜670nmの領域内に設定され、
前記増感色素が前記体積型ホログラム記録波長での吸収を持ち、且つ、前記体積型ホログラム記録波長に対して最大吸収波長が14nm以上乖離し、且つ下記化合物(1)及び下記化合物(2)のいずれかより選択される化合物であることを特徴とする、体積型ホログラム製造方法。
化学名:2−[[3−アリル−5−[2−(5,6−ジメチル−3−プロピル−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン)エチリデン]−4−オキソ−2−チアゾリジニリデン]メチル]−3−エチル−4,5−ジフェニルチアゾリウム メチルサルフェート
化学名:1−ヘプチル−2−[3−(1−ヘプチル−5−メトキシ−3,3−ジメチル−1,3−ジヒドロ−インドール−2−イリデンメチル)−2−ヒドロキシ−4−オキソ−2−シクロブテニリデンメチル]−5−メトキシ−3,3−ジメチル−3H−インドリウム インナーソルト - 屈折率変調成分としての光重合性化合物、光重合開始剤、及び、前記光重合開始剤の可視領域波長に対する感度を増加させる増感色素を含有する体積型ホログラム記録用感光性組成物からなるホログラム記録部に、可視領域内に設定された所定の体積型ホログラム記録波長を用いて干渉露光を行なって体積型ホログラムを記録する体積型ホログラム製造方法であって、
前記体積型ホログラム記録波長が514nm〜560nmの領域内に設定され、
前記増感色素が前記体積型ホログラム記録波長での吸収を持ち、且つ、前記体積型ホログラム記録波長に対して最大吸収波長が14nm以上乖離し、且つ下記化合物(3)及び下記化合物(4)のいずれかより選択される化合物であることを特徴とする、体積型ホログラム製造方法。
化学名:2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン
化学名:2,5−ビス(4−ジブチルアミノベンジリデン)シクロペンタノン - 屈折率変調成分としての光重合性化合物、光重合開始剤、及び、前記光重合開始剤の可視領域波長に対する感度を増加させる増感色素を含有する体積型ホログラム記録用感光性組成物からなるホログラム記録部に、可視領域内に設定された所定の体積型ホログラム記録波長を用いて干渉露光を行なって体積型ホログラムを記録する体積型ホログラム製造方法であって、
前記体積型ホログラム記録波長が420nm〜488nmの領域内に設定され、
前記増感色素が前記体積型ホログラム記録波長での吸収を持ち、且つ、前記体積型ホログラム記録波長に対して最大吸収波長が14nm以上乖離し、且つ下記化合物(5)及び下記化合物(6)のいずれかより選択される化合物であることを特徴とする、体積型ホログラム製造方法。
化学名:1,3−ジエチル−5−[2−(1−メチル−ピロリジン−2−イリデン)−エチリデン]−2−チオキソ−ジヒドロ−ピリミジン−4,6−ジオン
化学名:1−ブチル−5−[2−(6−エトキシ−3−ヘキシル−3H−ベンゾチアゾール−2−イリデン)−エチリデン]−3−(2−メトキシ−エチル)−ピリミジン−2,4,6−トリオン - 更にバインダー樹脂及び/又は熱硬化性化合物を含有することを特徴とする、請求項1乃至4のいずれかに記載の体積型ホログラム記録用感光性組成物。
- 前記光重合性化合物が、光ラジカル重合性化合物及び光カチオン重合性化合物の中から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載の体積型ホログラム記録用感光性組成物。
- 前記光重合性化合物と屈折率が異なる第二の屈折率変調成分をさらに含有することを特徴とする、請求項1乃至6のいずれかに記載の体積型ホログラム記録用感光性組成物。
- 回折効率が80%以上の体積型ホログラムが得られることを特徴とする、請求項1乃至7のいずれかに記載の体積型ホログラム記録用感光性組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003425490A JP4125669B2 (ja) | 2003-12-22 | 2003-12-22 | 体積型ホログラム製造方法 |
GB0614248A GB2426072B (en) | 2003-12-22 | 2004-12-21 | Photosensitive composition for volume hologram recording |
US10/583,880 US20070148556A1 (en) | 2003-12-22 | 2004-12-21 | Photosensitive composition for volume hologram recording |
PCT/JP2004/019122 WO2005062134A1 (ja) | 2003-12-22 | 2004-12-21 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物 |
TW093139997A TWI285790B (en) | 2003-12-22 | 2004-12-22 | Volume hologram recording photosensitive composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003425490A JP4125669B2 (ja) | 2003-12-22 | 2003-12-22 | 体積型ホログラム製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007100374A Division JP4614983B2 (ja) | 2007-04-06 | 2007-04-06 | 体積型ホログラム製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005181872A JP2005181872A (ja) | 2005-07-07 |
JP4125669B2 true JP4125669B2 (ja) | 2008-07-30 |
Family
ID=34708818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003425490A Expired - Fee Related JP4125669B2 (ja) | 2003-12-22 | 2003-12-22 | 体積型ホログラム製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070148556A1 (ja) |
JP (1) | JP4125669B2 (ja) |
GB (1) | GB2426072B (ja) |
TW (1) | TWI285790B (ja) |
WO (1) | WO2005062134A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2459823B (en) | 2007-02-28 | 2010-11-17 | Dainippon Printing Co Ltd | Method of producing volume hologram laminate |
JP5251167B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2013-07-31 | 大日本印刷株式会社 | 体積ホログラム積層体の製造方法 |
JP5322575B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法 |
JP5535664B2 (ja) * | 2010-01-15 | 2014-07-02 | 株式会社Adeka | 色調補正剤、スクアリリウム化合物及び光学フィルター |
JP6192937B2 (ja) * | 2011-02-18 | 2017-09-06 | 株式会社Adeka | 着色感光性組成物 |
JP5919809B2 (ja) * | 2011-12-22 | 2016-05-18 | 大日本印刷株式会社 | 体積型ホログラム記録用感光性組成物および体積型ホログラム積層体の製造方法 |
KR102071023B1 (ko) * | 2017-09-27 | 2020-01-29 | 동우 화인켐 주식회사 | 터치 센서 및 이의 제조방법 |
KR102174723B1 (ko) * | 2018-12-20 | 2020-12-02 | 경북대학교 산학협력단 | 홀로그래픽 기록 방법 및 홀로그래픽 기록 장치 |
CN113444377B (zh) * | 2021-07-26 | 2022-09-30 | 畅的新材料科技(上海)有限公司 | 一种吲哚方酸菁防眩光染料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3652275A (en) * | 1970-07-09 | 1972-03-28 | Du Pont | HEXAARYLBIIMIDAZOLE BIS (p-DIALKYL-AMINOPHENYL-{60 ,{62 -UNSATURATED) KETONE COMPOSITIONS |
US4942102A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic optical elements having a reflection hologram formed in a photopolymer |
US5096790A (en) * | 1988-07-28 | 1992-03-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process of forming hologram and polymeric holographic recording medium with sensitizer |
US4917977A (en) * | 1988-12-23 | 1990-04-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Visible sensitizers for photopolymerizable compositions |
US5147758A (en) * | 1991-02-19 | 1992-09-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Red sensitive photopolymerizable compositions |
JP2873126B2 (ja) * | 1991-04-17 | 1999-03-24 | 日本ペイント株式会社 | 体積ホログラム記録用感光性組成物 |
JP2764769B2 (ja) * | 1991-06-24 | 1998-06-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US5422204A (en) * | 1991-07-19 | 1995-06-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Photo-crosslinkable resin composition and hologram recording medium |
US5335099A (en) * | 1992-12-22 | 1994-08-02 | Hughes Aircraft Company | Veiling glare control holographic windshield |
JPH0784503A (ja) * | 1993-09-17 | 1995-03-31 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法 |
US5892598A (en) * | 1994-07-15 | 1999-04-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Head up display unit, liquid crystal display panel, and method of fabricating the liquid crystal display panel |
JPH08190334A (ja) * | 1995-01-11 | 1996-07-23 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ホログラム用感光性記録材料および透明ホログラム用感光性記録媒体並びにそれを用いた透明ホログラムの製造方法 |
JP3604700B2 (ja) * | 1995-10-06 | 2004-12-22 | ポラロイド コーポレイション | ホログラフィ媒体およびプロセス |
JP3470253B2 (ja) * | 1996-07-24 | 2003-11-25 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及び平版印刷版の作成方法 |
US6140384A (en) * | 1996-10-02 | 2000-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition containing a sensitizing dye with cyano or substituted carbonyl groups |
JPH11161140A (ja) * | 1997-11-26 | 1999-06-18 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラム記録材料 |
JP2000047552A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-18 | Toppan Printing Co Ltd | 体積位相型ホログラム用感光性組成物およびホログラム用記録媒体 |
US6740466B1 (en) * | 1999-11-15 | 2004-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition and recording material using the same |
US6646771B2 (en) * | 2000-12-21 | 2003-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for producing holographic optical element comprising primary and complementary holograms and associated methods for establishing authenticity of element used as security device |
EP1376268A4 (en) * | 2001-02-01 | 2006-08-02 | Nat Inst Of Advanced Ind Scien | COMPOSITION FOR HOLOGRAM MEASUREMENT MATERIAL, HOLOGRAM MEASUREMENT MEDIUM AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURE |
US8119041B2 (en) * | 2001-09-05 | 2012-02-21 | Fujifilm Corporation | Non-resonant two-photon absorption induction method and process for emitting light thereby |
US7491472B2 (en) * | 2002-07-26 | 2009-02-17 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Volume hologram transfer foil |
WO2004070714A1 (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Optware Corporation | 光情報記録媒体 |
US7582390B2 (en) * | 2003-05-23 | 2009-09-01 | Fujifilm Corporation | Two-photon absorbing polymerization method, two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording method |
-
2003
- 2003-12-22 JP JP2003425490A patent/JP4125669B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-12-21 GB GB0614248A patent/GB2426072B/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-21 US US10/583,880 patent/US20070148556A1/en not_active Abandoned
- 2004-12-21 WO PCT/JP2004/019122 patent/WO2005062134A1/ja active Application Filing
- 2004-12-22 TW TW093139997A patent/TWI285790B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB0614248D0 (en) | 2006-08-30 |
GB2426072A (en) | 2006-11-15 |
US20070148556A1 (en) | 2007-06-28 |
TW200532375A (en) | 2005-10-01 |
TWI285790B (en) | 2007-08-21 |
GB2426072B (en) | 2007-11-28 |
JP2005181872A (ja) | 2005-07-07 |
WO2005062134A1 (ja) | 2005-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4344177B2 (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物、体積型ホログラム記録用感光性媒体、及び体積型ホログラム | |
JP4536275B2 (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物及び体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP4633562B2 (ja) | 体積型ホログラム感光性組成物 | |
JP4248020B2 (ja) | ホログラム記録材料 | |
JPH0844277A (ja) | ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法 | |
JP4636469B2 (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物 | |
JP4125669B2 (ja) | 体積型ホログラム製造方法 | |
JP4589008B2 (ja) | 体積型ホログラム感光性組成物 | |
JP4821068B2 (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物及び体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP4614983B2 (ja) | 体積型ホログラム製造方法 | |
JPH0816080A (ja) | ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体 | |
JPH09106242A (ja) | ホログラム記録用感光性樹脂組成物とホログラム記録用媒体およびこのホログラム記録用媒体を用いたホログラムの製造方法 | |
JP3075082B2 (ja) | ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法 | |
JP2004318069A (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物および体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP2007193360A5 (ja) | ||
JP3180566B2 (ja) | ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法 | |
JP4423017B2 (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物および体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP4142396B2 (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物およびそれを用いた体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP3075081B2 (ja) | ホログラム感光性記録材料およびホログラム感光性記録媒体並びにそれを用いたホログラム製造方法 | |
JP2000112322A (ja) | 透明ホログラム記録材料 | |
JP2000310932A (ja) | ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体 | |
JP2004318068A (ja) | 体積型ホログラム記録用感光性組成物および体積型ホログラム記録用感光性媒体 | |
JP2000075774A (ja) | ホログラム記録材料 | |
JPH07104643A (ja) | ホログラム記録材料及びホログラム記録用媒体 | |
JPH07199777A (ja) | ホログラム記録用感光性樹脂組成物及びホログラム記録用媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070406 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080415 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080508 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4125669 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130516 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130516 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140516 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |