JP4050601B2 - 支持構造付き3次元物体の高速試作装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、3次元物体の形成技術およびその形成時に3次元物体を支持する技術に関し、特に高速試作製造(Rapid Prototyping & Manufacturing:RP&M)システムにおいて使用する技術に関し、さらにはサーマルステレオリソグラフィー(Thermal Stereolithography:TSL)システム、溶融積層造形(Fused Deposition Modeling:FDM)システム等の選択積層造形(Selective Deposition Modeling:SDM)システムにおいて使用される支持構造付3次元物体を形成する造形装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、3次元物体の製造システムあるいは高速試作製造(RP&M)システムを自動化あるいは半自動化するために様々な方向からのアプローチがなされている。それらのアプローチはいずれも3次元物体を表す3次元コンピュータデータを使用して、複数の層を形成し、積層することによって3次元物体を造形することを特徴としている。これらの層は、物体断面、構造層、物体層あるいは単に層(もし文脈から所定形状の固化した構造物をさしていることが明らかであれば)とも呼ばれる。各層は、3次元物体の一断面をなしている。通常各層はそれまでに形成積層された層の積層体上に形成、積層される。RP&M技術において、厳格に一層ずつ造形するのではなく、最初の層の一部のみを形成し、最初の層の残りの部分を形成する前に、少なくとも次の一層の少なくとも一部を形成するようにすることも提案されている。
【0003】
そのようなアプローチの1つでは、未硬化の流動性のある材料の、連続した複数の層を作業面に供給し、その後その各層を所望のパターンで所定の刺激に選択的に暴露して硬化させ、その硬化した層をそれまでに形成された積層体に付着させることにより3次元物体を造形する。この方法では、材料は物体層の一部とならない領域および物体層の一部となる領域の両方の作業面に供給される。この方法の典型が、Hullに与えられた米国特許第4、575、330に述べられているステレオリソグラフィー(SL)である。このステレオリソグラフィーの一実施例によると、所定の刺激はUVレーザーからの放射線であり、材料は光重合性ポリマーである。この方法の別の例は、Deckardに与えられた米国特許第4、863、583号に述べられている選択的レーザー焼結(SLS)であり、所定の刺激はCO2レーザーからのIR放射線であり、材料は焼結可能な粉末である。このアプローチは光ベースのステレオリソグラフィーとも言うべきものである。3番目は、Sachs等に与えられた米国特許第5、340、656号および第5、204、055号に述べられている、3次元印刷(3DP)および直接シェル製造キャスティング(DSPC)であり、所定の刺激は化学的結合剤(例えば接着剤)であり、材料は化学的結合剤を選択的に与えられると互いに結合する粒子からなる粉末である。
【0004】
第2のアプローチでは、所望の形状および大きさを有する物体断面をシート状材料から切り出し、積層することにより物体が形成される。実際的には、紙シートが使用され、各シートはそれまでに切り出され、積層されたシートの積層体上に積層してから、カットされるのが普通であるが、カットしておいてから積層することも可能である。このアプローチの典型が、Feyginに与えられた米国特許第4、752、352号に述べられている積層物体製造法(LOM)であり、シートを所望の形状および大きさにカットする手段はCO2レーザーである。Kinzieに与えられた米国特許第5、015、312号もまたLOMを扱っている。
【0005】
第3のアプローチでは、物体層は未硬化の流動性のある材料を物体層の一部となる領域において所望のパターンで作業面上に選択的に供給することにより形成される。その供給中あるいは供給後に、供給された材料を硬化させて、その硬化した層をそれまでに形成された層の積層体上に重ねる。これらのステップを繰り返して物体を一層一層形成する。この物体造形技術は一般的には選択積層造形(SDM)と呼ばれている。このアプローチと第1のアプローチとの主な違いは、材料が物体層の一部になる領域にのみ選択的に供給されることにある。このアプローチの典型は、Crumpに与えられた米国特許第5、121、329号および第5、340、433号で述べられている、溶融積層造形(FDM)であり、材料は、流動状態において、材料の流動可能温度より低い温度にある環境に供給され、その後冷却硬化される。第2の例は、Pennに与えられた米国特許第5、260、009号に記載の技術である。第3の例は、Mastersに与えられた米国特許第4、665、492号、第5、134、569号、第5、216、616号に述べられている、弾道粒子製造法(Ballistic Particle Manufacturing:BPM)であり、粒子が物体断面を形成するように所定の位置に向けて発射される。第4の例は、Almquist等に与えられた米国特許第5、141、680号に記載されている、サーマルステレオリソグラフィー(TSL)である。
【0006】
SDM(他のRP&M技術と同様に)を使用する際、所望の物体を製造するのにどの方法およびどの装置が適切であるかは、多くの要因に依存する。これらの要因は一般には同時に最適化できないので、適切な造形技術、および関連する方法および装置の選択には、個々の要求および状況により、妥協が必要となる。考慮されるべき要因は、1)設備コスト、2)運転コスト、3)製造スピード、4)物体の精度、5)物体の表面仕上げ、6)形成される物体の材料特性、7)物体の予想用途、8)異なる材料特性を得るための二次加工の可能性、9)使用容易性およびオペレーターに関する制約、10)要求されるあるいは所望の操作環境、11)安全性、12)後処理にかかる時間および労力、を含む。
【0007】
3次元物体をより効果的に造形するために上記要因のできるだけ多くを同時に最適化することが長く望まれていた。例えば、上記第3のアプローチ、SDM(例えばサーマルステレオリソグラフィー)、を使用して物体を造形する際には、設備コストを上げずに、造形速度を上げることが長い間の懸案になっている。また、オフィス等で使用することのできる安価なRP&Mシステムも長い間望まれている。
【0008】
他のRP&Mによるアプローチと同様に、SDMにおいては、外側に面した断面領域が精度よく形成され、位置されるように、作業面を正確に形成し、位置させることが一般に必要である。最初の2つのアプローチでは次の材料層を形成し、積層するための作業面が必然的に形成される。しかしながら、第3のアプローチ、SDMでは、作業面が必ずしも形成されないので、先に供給された材料の方を向いた、外側に面する面を含む領域等の、先に供給された材料によって一部しか支持されていない領域を形成する層を正確に形成し、位置させなければならないと言う深刻な問題が生じる。一般的な造形工程では、先に形成された積層体の上に次の層を積層して行くが、物体の下を向いた面を形成するときにこれが特に問題となる。このことについては、第3のアプローチでは、理論的に、作業面上の物体の断面の一部を形成する領域にのみ材料を供給するということを考えれば容易に理解できる。すなわち、次に形成される断面に張り出し面(下を向いた面)がある時に、その面用の作業面を提供したり、その面を支えたりするものがない。光ベースのステレオリソグラフィーにおける下向きの領域、およびそれに連続する上向きの断面領域、に関してはHull等の米国特許No.5,345,391、Snead等の米国特許No.5,321,622詳しく記載されている。これはSDMを含む他のRP&M技術にも応用できるものである。下向きの領域に対しては、それを支持する、先に形成された層(以下、「先行層」という)が存在しない。さらに、第3のアプローチにおいては、元々、物体の一部を形成しない領域には材料を供給しないのであるから、その下向きの領域に対しては、未硬化層すら存在しない。このような状況から発生する問題を「作業面の欠落による問題」と以下称する。
【0009】
この「作業面の欠落による問題」が第1図に示されている。1および2は3次元造形方法および装置によって積層された層を示している。図示のように層2の上に配された層1は2つの下向きの面3、4(ハッチングした面)を備えている。SDMを使用した場合には、その下向きの面3、4の真下の空間5、6には未硬化の材料が供給されない。すなわちSDMによる場合は、この2つの下向きの面3、4用の作業面を提供したり、その面を支えたりするものがない。
【0010】
この問題の解決のためにいくつかの機構が提案されたが、今のところ完全に満足できるものはない。Housholderの米国特許No.4,247,508、Pomerantz等の米国特許No.4,961,154、5,031,120、5,263,130、5,386,500、Helinskiの米国特許No.5,136,615、Almquist等の米国特許No.5,141,680、Pennの米国特許No.5,260,009、Cohen等の米国特許No. 5,287,435、Mitchellの米国特許No.5,362,247、Dunghillsの米国特許No.5,398,193、Prinz等の米国特許No.5,286,573、5,301,415に示唆、ないし開示されている機構では、下向きの面の下の空間を、造形用の材料とは異なる、その造形用の材料から分離しやすい(例えば溶融点が造形用材料より低い)支持材料で埋める。第1図に即していえば、下向きの面3、4を形成する材料が供給される前に、空間5、6が支持材料で埋められる。
【0011】
この2種類の材料(造形用材料、支持材料)を使用する方法は、効率が悪い、熱の放散が必要である、支持材料の取り扱いコストが掛かる等の理由で、高価、大形になるという問題がある。例えば、支持材料用の供給機構が新たに必要となる。あるいは単一の機構によって、2種類の材料を取り扱えるようにする手段が必要となる。
【0012】
Hull等の米国特許No.4,999,143、Mastersの米国特許No.5,216,616、Pomerantzの米国特許No.5,386,500に記載されている方法では、造形用の材料と同じ材料で複数の支持構造が間隔を置いて形成される。この方法は多くの問題を含んでいる。まず、支持構造を物体から容易に分離できるという前提を保ちつつ所望の高さに作るのは不可能である。第2に、外向きの面の造形および支持に有効な作業面を維持しつつ、物体と支持構造を容易に分離できるようにするのは不可能である。第3に、断面に垂直な方向(上下方向)に、物体を積層するのとほぼ同じ速度で支持構造を延ばすことができない。第4に、下向きの面を支持するために、その下方にある上向きの面上に支持構造を設けなければならない場合に、その上向きの面をできるだけ破損せずに、支持構造の分離容易性を維持するのは不可能である。さらに第5に、装置の処理量を大きくしたいという要望がある。
【0013】
すなわち、支持構造の分離容易性を確保するためには、支持構造と物体部の接触面積を小さくする必要がある。これに対して、物体部をZ方向に延ばすのとほぼ同じ速度で支持部をZ方向に延ばすためには、各支持部の断面積をできるだけ大きくして、面積/周囲長比を大きくして、材料供給工程における供給位置精度の悪さを補うとともに、材料が水平方向に拡がるのを抑えることができるように、目標面積を大きくすることによって、材料が水平方向に流れてしまったり、所定の位置に供給されなかったりすることによる、Z方向に積み上げるべき材料の損失をできる限り小さくする必要がある。
【0014】
さらに、下向きの面の破損をできるだけ小さくするためには支持部間の間隔をできるだけ大きくして物体部と支持部との接触面積をできるだけ小さくする必要がある。これに対して、下向きの面の形成に有効な作業面を得るためには支持部間の間隔はできるだけ小さい方がよい。この両者を同時に得ることができないのは明白である。
【0015】
この問題が第2図に示されている。なお、第2図においては第1図と同じ要素には同じ番号を付した。図示のように下向きの面3は柱状の支持部7a、7b、7cを介して支持され、下向きの面4は柱状の支持部8a、8b、8cを介して支持される。柱状の支持部7a、7b、7cは下向きの面の破損をできるだけ小さくするために広い間隔を置いて配されており、さらに各支持部は分離容易性を高めるために下向きの面3との接触面積が比較的小さくなるように構成されている。一方、各支持部7a、7b、7cは断面積が小さいため、物体部の垂直方向への成長に追いついて成長させるのが困難である。さらには、支持部7a、7b、7c間の間隔が広いため支持部7a、7b、7cは下向きの面3を形成し、支持するための有効な作業面を提供することができない。
【0016】
これに対して、柱状の支持部8a、8b、8cの場合は、下向きの面4を形成し、支持するための有効な作業面を提供するためにより狭い間隔で配されている。さらに、各支持部は表面積が大きいので、物体部の垂直方向への成長にほぼ追いついて成長させることができる。しかしながら、この支持部8a、8b、8cの場合には間隔が狭く断面積が大きいため、支持部8a、8b、8cを後に物体部から除去するときに下向きの面に与える破損が大きくなる。
【0017】
【表1】
サーマルステレオリソグラフィーや溶融積層造形技術によると、3次元物体は流動状態になるまで加熱されて供給される材料によって1層1層形成される。材料はディスペンサーから半連続的な流れとして供給してもよいし、滴として供給してもよい。材料を半連続的な流れとして供給する場合には作業面の基準はそれほど厳しくなくともよいと考えられる。サーマルステレオリソグラフィーの初期の例が米国特許No.5,141,680に記載されている。サーマルステレオリソグラフィーは反応性や毒性の材料を使用しないために、オフィス内等で使用するのに適している。さらに、その材料を使用して造形する場合に、放射線(例えば、紫外線、赤外線、可視光線等のレーザー光線)を使用することもないし、材料を燃焼温度まで加熱する(例えば、LOM技術では断面の境界に沿って材料を燃やすことがある)こともないし、反応性材料(例えばモノマーや感光性ポリマー)や毒性化学物質(例えば溶媒)を使用することもないし、騒音を発生したり、操作を間違えると危険のあるような切削工具を使用することもなく、単に材料を流動状態になるまで加熱して、選択的に供給し、冷却することによって造形がなされる。
【0018】
上述の米国特許出願No.08/534,447はSDM/TSL原理に基づいた選択積層造形(SDM)システムにおいて使用する、3次元物体データを支持部データと物体部データに変換するデータ変換技術に関するものである。さらにこの出願は、後述の望ましいSDM/TSLシステムを制御するための、様々なデータ操作、データ制御、システム制御にも関するものである。SDMシステム、および他のRP&Mシステムに使用することのできる他のデータ操作、データ制御技術も開示されている。
【0019】
上述の米国特許出願No.08/535,772はSDM/TSLの望ましい実施の形態で使用される望ましい材料に関するものである。使用可能な他の材料および方法も記載されている。
【0020】
上述の米国特許出願No.08/534,477は望ましいSDM/TSLシステムの詳細に関するものである。また使用可能な他の構成についても言及されている。
【0021】
この出願の被譲渡人、3D Systems Inc.はRP&Mの分野、とりわけ光ベースのステレオリソグラフィー、の多くの米国特許出願や米国特許の所有者である。当社所有の米国特許出願や米国特許は、本発明の教示するところと組み合わせることによってSDM造形技術を改良することのできる開示を含んでいる。以下の米国特許出願および米国特許は全文をここに引用したものとする。
【0022】
【表2】
なお、特許文献1および2には、流動性材料を積層して3次元物体を造形する方法が開示されている。
【0023】
【特許文献1】
特開平3−36019号公報
【0024】
【特許文献2】
欧州特許公開第655317号公報
【0025】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は選択積層造形技術を使用して形成される物体の造形および支持に関する多数の問題を取り扱うため、独立してあるいは組み合わせて使用される多くの技術(方法および装置)を含んでいる。主にSDM技術に関するものであるが、(本開示を読めば当業者には明らかとなるように)以下に記載の技術は、物体精度、表面の仕上げ、造形時間および/または後処理に要する手間および時間を向上するため前述のような他のRP&M技術に対しても色々な方法で適用することができる。さらに、ここに記載の技術は、1種類または2種類以上の造形材料および/または支持体材料を使用する選択積層造形システムに適用することができるが、そこでは一部を選択的に供給し、他を非選択的に供給してもよいし、材料の全体あるいは一部を加熱して積層するようにしてもよいし、そうでなくともよい。
【0026】
またここに記載の技術は、造形材料(例えばペンキ、インク)に溶媒(例えば水、アルコール、アセトン、ペンキシンナー等の所定の造形に適切な溶媒であり、その溶媒を、例えば供給材料を加熱したり、材料を減圧した造形室内に供給したり、あるいは単に溶媒が気化するのに充分な時間を与えたりして、除去することによって供給後あるいは供給中に材料を硬化させることのできるもの)を加えて供給可能なように流動化するようにしたSDMシステムにも応用することができる。さらに、造形材料(例えばペンキ)は、チキソトロピーを示すものでもよく、この場合材料への剪断力を増加させることによって材料の供給を促進させるようにしてもよいし、あるいはそのチキソトロピー特性を単に供給後の材料の形を保持するのに利用してもよい。さらに、造形材料は、自体が反応性のもの(例えば光重合体、熱重合体、1液性あるいは2液性エポキシ材料、前記材料の1つとワックスあるいは熱可塑樹脂材料とを組み合わせたような結合材料)、あるいは他の材料(例えば焼き石膏と水)と組み合わさった際、少なくとも硬化可能なものでもよく、供給後、前記刺激(例えば、熱、EM放射(可視、IR、UV、X線等)、反応化学薬品、2液性エポキシの第2液、組み合わせ材料の他の成分)を適切に与えることによりその造形材料を反応させ、硬化させるようにしてもよい。もちろん、サーマルステレオリソグラフィー材料および材料供給技術は単独で、あるいは上記別の例と組み合わせて使用されてもよい。さらに、ホットメルトインクジェット、バブルジェット(登録商標)等の、単一あるいは複数のインクジェット装置、連続あるいは半連続フローの、単一あるいは複数のオリフィス押し出しノズルあるいはヘッドによって材料を供給する等の種々の材料供給技術を使用することができる。
【0027】
以上のような事情に鑑みて、物体を高精度に製造する方法および装置を提供することが本発明の第一の目的である。
【0028】
本発明の第二の目的は、物体形成中の温度環境を制御することによってより歪みの少ない物体を製造する方法および装置を提供することである。
【0029】
本発明の第三の目的は、材料の供給を制御することによってより歪みの少ない物体を製造する方法および装置を提供することである。
【0030】
本発明の第四の目的は、物体製造速度を速める方法および装置を提供することである。
【0031】
本発明の第五の目的は、物体支持体を任意の高さで形成することのできる支持体構造形成方法および装置を提供することである。
【0032】
本発明の第六の目的は、良好な作業面を提供することのできる支持体構造の形成方法および装置を提供することである。
【0033】
本発明の第七の目的は、物体の下向き面から容易に取り除ける支持体構造を形成する方法および装置を提供することである。
【0034】
本発明の第八の目的は、支持体構造を取り除く際、物体の下向き面の損傷が最小限になるような支持体構造の形成方法および装置を提供することである。
【0035】
本発明の第九の目的は、物体から支持体を取り除く方法および装置を提供することである。
【0036】
本発明の第十の目的は、支持体部を垂直方向に積み上げる速度を物体部を垂直方向に積み上げる速度とほぼ等しくすることのできる支持体構造の形成方法および装置を提供することである。
【0037】
本発明の第十一の目的は、物体の上向き面から容易に取り除ける支持体構造を形成する方法および装置を提供することである。
【0038】
本発明の第十二の目的は、支持体構造を取り除く際、物体の上向き面の損傷が最小限になるような支持体構造の形成方法および装置を提供することである。
【0039】
本発明の第十三の目的は、物体の垂直な面から離れた支持体を製造するための方法および装置を提供することである。
【0040】
本発明の第十四の目的は、他のRP&M技術と組み合わせて、物体形成を改善することのできる支持体構造を提供することである。
【0041】
上記目的は、本発明の異なる特徴によりそれぞれ達成可能であり、本発明の技術を様々に組み合わせることによりさらに他の目的が達成される。
【0042】
【課題を解決するための手段】
本発明は3次元物体を支持構造とともに高速で造形する高速試作装置を提供するもので、
硬化温度を有する流動性材料を、該硬化温度より低い室温である造形環境に、3次元物体の断面を構成する層毎に、所望の速度で垂直方向に積層する態様で制御しつつ供給する材料供給手段、
該材料供給手段により供給される材料の最初の層を支持する作業面を有し、前記造形環境において、断面を構成する層毎に造形される3次元物体と支持構造を支持する台、
前記材料供給手段を前記作業面に対して相対的に複数の方向に移動させる少なくとも1つの移動手段、
前記移動手段と前記材料供給手段に結合され、前記材料を選択的に供給させる制御手段であって、物体データを物体の層の造形のための少なくとも一つの選択された造形スタイルに組み合わせ、物体支持構造データを支持構造の層の造形のための少なくとも一つの選択された支持スタイルに組み合わせる組合せ手段を含み、該組合せ手段が前記材料を前記物体データと前記選択された造形スタイルとの組合せにしたがって少なくとも一つの層の一部に、前記物体データと前記選択された支持スタイルとの組合せにしたがって前記少なくとも一つの層の他の部分に供給し、該層上に前記材料を垂直方向に前記所望の速度で積層するようにした制御手段、および
前記作業面上を移動して、前記各断面を構成する層毎に層の厚さを決定するように、各層に供給された流動材料の表面を平滑にする平滑化部材からなることを特徴とするものである。
【0043】
【発明の効果】
本発明の3次元物体造形装置によれば、各断面を構成する多数の層を作業面上に積層する際、平滑化部材が、作業面上を移動して前記各断面を構成する層毎に層の厚さを正確に決定するように、各層に供給された流動材料の表面を平滑にするため、物体と支持構造とを同時に精度良く造形することができる。
【0044】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的な実施の形態について図面を用いて説明する。
【0045】
既に述べたように、本発明は選択積層造形(SDM)システムにおける使用に適した支持技術および造形技術に関するものである。特に、好ましいSDMシステムはサーマルステレオリソグラフィー(TSL)システムである。好適の実施の形態について、先ず望ましいTSLシステムを説明する。好ましいシステム、データ操作技術、システム制御技術、材料の形成および特性等のより詳細は、前に引用した米国特許出願番号第08/534,813号、第08/534,447号、第08/535,772号、第08/534,477号および本出願と同時出願の3Dの社内番号USA143に記載されている。さらに他の代替可能なシステムが前に引用した多数の出願および特許に記載されている。特に、SDM、TSLあるいは溶融積層造形(FDM)に直接関係するか適用可能であるものとして参照したような出願および特許に記載されている。このように、後述の支持体構造および造形法は、多様なSDM、TSLおよびFDMシステムに適用可能であり、ここで記載されたシステム例に限るものでないと解釈すべきである。さらに、既に述べたように、これらの支持体構造および造形法は、他のRP&M技術においても有用である。
【0046】
SDM/TSLを実行する装置の好適な例を第3図に示す。その装置は、材料供給台18、供給ヘッド9(例えばマルチオリフィスインクジェットヘッド)を備え、供給ヘッド9は材料供給台18、平滑化部材11および造形台15上に位置されている。材料供給台18は平滑化部材11および供給ヘッド9を支持可能な水平な部材である。材料供給台18は、結合部材13を介してX−ステージ12に摺動可能に結合されている。X−ステージ12は、好ましくは、制御コンピュータあるいはマイクロプロセッサ(図示せず)により制御され、材料供給台18をX軸方向すなわち主走査方向に前後動させる。
【0047】
さらに、材料供給台18の両側にファン(図示せず)が配され、所望の造形温度が維持されるよう、供給された材料14および造形台15を冷却する空気を垂直下方向に吹き付ける。ファンおよび/または他の冷却システム用の他の適切な取付構造としては、気化可能な液体(例えば水、アルコール、溶剤)を物体の表面に向けて噴射するミスト装置、平滑化部材11と供給ヘッド9の間に取り付けられるファンを有する強制空冷装置、および材料供給台から離れて取り付けられる、固定あるいは可動ファンを有する強制空冷装置があるが、これらに限定はされない。冷却システムは、前に供給された材料を所望の温度範囲内に維持するように熱を奪う、温度感知装置とコンピュータによって制御される、能動型あるいは受動型技術を含んでもよい。他の冷却方法としては、造形処理中、熱が物体からより容易に放出されるように、特にIR周波数で、放射黒体として機能する物質でその材料を加塩処理する方法があるが、これに限定されるものではない。さらに、他の方法としては、導電性物質を材料に数層ごとに添加する方法、溶剤を材料に添加する方法、冷却路あるいは冷却のための埋め込み体(例えば編成ワイヤ)を組み込んで造形する方法、あるいはガラス板あるいはマイラーシート上に造形する方法等があるが、これらに限定されるものではない。
【0048】
材料を冷却するか、あるいは少なくとも供給された材料を適切な温度に保つ他の例としては、上記のように、造形中の物体の上面に温度調節ガス(例えば空気のような冷却ガス)を吹き付けるとともに、その冷却空気をその表面から除去する方法がある。この場合には吹付け吸引装置を使用して、吹付けダクト(ガス注入ダクト)および吸引ダクト(ガス除去ダクト)を交互に前記表面に対して位置させる必要がある。これらのダクトによって、冷却ガスが過度に暖められて実効冷却率を低下させる前に、冷却ガスを除去することができる。表面に吹き付けられるガスは、冷却状態、室温、あるいは他の適切な温度で導入される。適切に形成すれば、これらの注入ダクトおよび除去ダクトによって、支持体のような壊れやすい構造物に対する乱流あるいは風による歪みを防ぐために設定されている現在の許容値より速い速度で走査することができるようになる。これらのダクトは、造形中の物体と接触する風の実速度が小さくなるように、プリントヘッドの動きとは逆方向に空気を流すように形成されるのが普通である。プリントヘッドの動く方向に応じて、各ダクトの吹き付けと吸引を反転してもよいし、あるいは吹き付け用のダクトと吸引用のダクトをオン、オフさせてもよい。
【0049】
プリントヘッド9は、例えば熱可塑樹脂あるいはワックス等の材料のようなホットメルトインクを噴出するように形成された市販のものであり、プリントヘッドの前後動および加速を必要とする3次元造形システムに使用できるように改造されている。プリントヘッドの改造と同時に、付属の材料タンクを、プリントヘッドの加速によってタンク内に残される材料ができるだけ少なくなるように形成する必要がある。好適な例としては、ニューハンプシャー州ナシュアにあるスペクトラ社販売の、96ジェット商用プリントヘッド、モデルHDS96i、の材料タンクを改造したものがある。このプリントヘッドは、前に引用した米国特許出願第08/534,477号記載のマテリアルパッケージング&ハンドリングサブシステム(図示せず)から流動状態の材料を供給される。望ましい実施の形態では、各オリフィス(すなわちジェット)が材料滴を所望の位置に供給するよう適切に配置されている場合、ヘッド上の96ジェットの全てがコンピュータ制御され、オリフィスプレート10を通じて選択的に材料滴を射出する。実際には、1秒間に約12、000から16、000の命令が、各ジェットの位置と所望の材料供給位置に応じて、各ジェットに対し発射する(材料滴を供給)、しない(材料滴を供給しない)を制御するために送り出される。また、実際には、発射命令は全てのジェットに対して同時に出される。上記の好ましいプリントヘッドはほぼ100のジェットを有するので、上記発射速度であると1秒間に約1.2×106から1.6×106の命令をヘッドに出す必要がある。それゆえ、ヘッドはジェットを選択的に発射させ、同時に溶融材料滴をオリフィスプレート10の1個ないし数個のオリフィスを通って吐出させるようコンピュータ制御される。もちろん、別の好適実施例においては、ジェット数の異なるヘッドを使用してもよいし、別の発射頻度でも差し支えないし、状況が許せばジェットの発射は同時でなくても差し支えない。
【0050】
最も効率よく3次元物体を造形するためには、ジェットが正確に発射することが必要である。全てのジェットを正確に発射させるか、あるいは少なくとも正確に発射するジェットの数をできるだけ多くするため、種々の技術が使用される。そのような例の1つは、各層の形成後ジェットを検査することである。この技術は次のステップを含む。1)層を形成する、2)全てのジェットを発射させて、紙面上にテストパターンのラインを印刷することによりジェットを検査する、3)ジェットが不発かどうかを光学的に検査する(バーコード走査等により)、4)ジェットのつまりを除く、5)直前に供給した層をそっくり全部取り除く(後述する好ましい平滑化部材を用いて機械的に)、6)つまりを除いたジェットを含む全てのジェットで層を再形成する。
【0051】
2つ目の例は次の工程からなる。1)層を形成する、2)不発のジェットを光学的に検出する、3)その不発のジェットによって形成される筈であったラインを再走査する、4)その不発のジェットの使用を、以降の造形工程において中止する、5)不発のジェットの補償をしながら(不発のジェットによって形成されるべきラインを正常なジェットによってカバーするように走査数を増やして)、以降の層を走査する。不発のジェットが直ったかどうかを定期的にチェックし、直っていた場合には復帰させてもよい。また不発のジェットを再生ルーティンにかけて、再生可能かどうかをチェックしてもよい。これは造形中に行うこともできるし、システムの保守の際に行うこともできる。また、ジェットが正しく発射しているかどうかを、発射時の圧電素子の電気的特性をチェックすることによって判断することもできる。
【0052】
3つ目の例は、プリントヘッドの底部から余分の材料をふき取る柔軟な部材を使用する。この例では、全てのジェットを発射させた後オリフィスプレートを加熱したゴム(例えば、VITON)ブレードで拭く。そのブレードはそのブレードとオリフィスプレートが互いに交差するときに互いに接触し、オリフィスプレートから余分な材料を絞り出すような作用が生じ、できれば正常でなかったジェットを復活させるような位置に配されるのが望ましい。さらに、オリフィスプレートとブレードとが接触しているどの時点においてもオリフィスプレートの一部だけがブレードと接触し、ブレードからオリフィスプレートにかかる力ができる限り小さくなるように、オリフィスプレートとブレードとが互いに斜めに配されるのが望ましい。
【0053】
オリフィスプレート10は、材料供給台18の下面から材料滴が発射されるように材料供給台18に取り付けられている。そのオリフィスプレートは第4a、4b図に示されている。望ましい例においては、オリフィスプレート10(オリフィス列)は第4a図に示すように、主走査方向(X方向)にほぼ直角に配され、96個の(N=96)の個別に制御できるオリフィス10(1)、10(2)、10(3)・・・10(96)を備えている。各オリフィスは圧電素子を備えており、その圧電素子は発射パルス信号を受け取ると、圧力波を材料に向けて発射する。この圧力波によって材料滴がオリフィスから発射される。96個のオリフィスは個々のオリフィスに入力される発射パルス信号の入力速度と入力タイミングを制御する制御コンピュータによって制御される。第4a図において、オリフィス間隔dは、望ましい例では、約8/300インチ(約26.67ミル、0.677mm)である。したがって96オリフィスでは、オリフィスプレート10の実効長さDは約(Nx8/300インチ)=(96x8/300インチ)=2.56インチ(65.02mm)である。
【0054】
物体を精度よく造形するためには、プリントヘッドは、個々の材料滴が個々の目標落下位置、すなわち、個々の滴が付着すべき位置、に到達するように発射しなければならない。その目標落下位置は、物体の形状を間隔をおいて並べられた複数の点で表す、データマップないし画素配列によって決定される。個々の材料滴がその目標落下位置に落下するためには、プリントヘッドは目標発射位置あるいは目標発射タイミングで滴を発射しなければならない。その目標発射位置あるいは目標発射タイミングは目標落下位置に対するプリントヘッドの位置、プリントヘッドの速度、発射後の粒子の飛行特性によって定まる。
【0055】
望ましい実施の形態では、プリントヘッド9とオリフィスを目標発射位置に位置させるためにラスタースキャンを使用する。各層のプリント工程は、目標落下位置ないし目標発射位置に対するプリントヘッド9の一連の動きによってなされる。プリントヘッド9が主走査方向へ動くときにプリントがなされるのが普通である。次にプリントヘッド9を副走査方向にわずかに動かし(この間材料滴は発射されない)、次に材料滴を発射しながらプリントヘッド9を主走査方向反対向きに動かす。この主走査と副走査はその層が形成し終わるまで交互に繰り返される。
【0056】
他の望ましい実施の形態においては、主走査中にわずかな副走査が行われる。主走査方向の走査速度と副走査方向の走査速度の間に大きな差があるため、この実施の形態においても、主走査方向にほぼ平行で副走査方向にほぼ直角な走査線に沿って材料滴が供給される。さらに他の望ましい実施の形態では、ベクトルスキャンまたはベクトルスキャンとラスタースキャンの組み合わせが使用される。
【0057】
各材料滴は各ジェットオリフィスから発射された直後は幅に対して長さが大きいことが分かった。材料滴の長さ/幅比はアスペクト比と定義される。さらに材料滴のアスペクト比が、材料滴がジェットオリフィスから遠ざかるにしたがって小さくなる、すなわち球に近づくことが分かった。
【0058】
いくつかの実施の形態では、オリフィスプレート10と作業面の間の間隔は、オリフィスプレート10から発射された材料滴が作業面にぶつかるときには半球形になっているのに充分な大きさであるのが望ましい。一方では、この間隔は、材料滴が作業面にぶつかるまでに飛ぶ距離を決定するものであるが、飛行時間が長ければ長いほど精度の問題が大きくなるため、できるだけ小さい方がよい。実際には、オリフィスから射出される材料滴の少なくとも90%のアスペクト比(材料滴の幅を長さで除した値)が約1.3未満、望ましくは約1.2未満、さらに望ましくは約1.05から1.1となるときに、上記2つの条件が両方とも満足できるものになることが分かった。
【0059】
他の望ましい実施の形態では、プリントヘッド9は主走査方向に直角をなさないように取り付けられる。すなわち、第4b図に示すように、プリントヘッド9は主走査方向(X方向)に角度αをなすように取り付けられる。この場合には、オリフィス間隔はdからd’(=d x sinα)に短縮され、プリントヘッド9の実効長さはD’(=D x sinα)に短縮される。この間隔d’が副走査方向(主走査方向にほぼ直角)の所望のプリント解像度に等しいときの角度αを「サーベル角(saber angle)」と見なす。
【0060】
間隔dまたはd’が所望の副走査方向プリント解像度をもたらさないときは(プリントヘッドの角度がサーベル角でないとき)、所望のプリント解像度をdまたはd’がその所望の解像度の整数倍となるように選択する必要がある。同様に、α≠90°のときには、副走査方向だけでなく主走査方向にもジェット間隔がある。この間隔d”はd”=d x cosαである。これは、主走査方向の所望の解像度がd”の整数分の1であるとき(発射位置が長方形の格子内にあるとして)プリント効率が最適になることを示している。言い換えれば、角度αは、d’およびd”を適切な整数M、Pで除すると所望の副走査方向および主走査方向の解像度が得られるように選択される。上述の望ましいプリントヘッドの向き(α=90°)を使用すると、良好な効率を維持しつつ、主走査方向のプリント解像度を任意のものとすることができる点で有利である。
【0061】
他の望ましい実施の形態においては、複数のプリントヘッドを使用する。この場合に、複数のプリントヘッドを長手方向に(副走査方向に)並べてもよいし、背中合わせに(主走査方向に)並べてもよい。背中合わせの場合には、それぞれのプリントヘッドのオリフィスは同じラインをたどるように主走査方向に整列していてもよいし、互いに副走査方向に位置がずれて異なる主走査ラインに沿って材料を供給するようにしてもよい。特に、背中合わせのプリントヘッドのオリフィスを副走査方向に所望のラスター走査線間隔だけ位置をずらせて走査数を減らすようにするのが望ましい。他の望ましい実施の形態では、データによって規定される供給位置は長方形の格子内の画素によらずに他のパターン(例えば、ジグザグパターン)で配された画素によって位置決めしてもよい。すなわち、層の一部または全体に対して、供給すべき領域の個々の特性に応じた部分的画素オフセットを得るために、供給位置のパターンが層毎に一部または全体的に変わってもよい。
【0062】
現在の望ましいプリント技術では、主走査方向には1インチあたり300、600または1200滴、副走査方向には1インチあたり300滴の供給解像度である。
【0063】
第3〜5図において、平滑化部材11は模様付きの(刻み目つき)の表面を有する加熱回転(例えば、2、000rpm)シリンダー18aを備えている。そのシリンダー18aの機能は先行層の材料の一部を溶融し、移送し、除去してその表面を平らにし、直前に形成された層を所定の厚みにするとともに、直前に形成された層の正味の上面高さを所定の高さにすることである。19はプリントヘッドによって供給直後の材料の層を示す。回転シリンダー18aは材料供給台18にその下面からZ方向に突出して所望の高さで材料層19と接触するように取り付けられている。より重要なのは、プリントヘッドあるいはオリフィスプレートの下面によって掃かれる面の下方に所定の距離だけ突出するように取り付けられることである。オリフィスプレート自身が材料供給台18の下方に突出しているときには、回転シリンダー18aはさらにその下方に突出するように取り付けられる。例えば、回転シリンダー18aはZ方向にオリフィスプレートの下方0.5mmから1.0mm突出する。この回転シリンダー18aの材料供給台18からの突出量はオリフィスプレート10と作業面の間の間隔を決定する一因子である。したがって、ある望ましい実施の形態においては、平滑化部材11のオリフィスプレート10の下方への突出量が、材料滴のアスペクト比に関して前述した条件、材料滴の少なくとも90%のアスペクト比が約1.3未満、望ましくは約1.2未満、さらに望ましくは約1.05から1.1となるという条件、と相反しないようにするのが望ましい。
【0064】
回転シリンダー18aが回転すると、形成直後の層から材料の一部21を押しのけて、その通った後に平らな面20を残す。材料21は回転シリンダー18aの刻み目のある面に付着し、ワイパー22に接触する。図示のように、ワイパー22は回転シリンダー18aの表面から材料21を効果的に掻き落とすように配されている。ワイパー22はVITONで形成するのが望ましいが、回転シリンダー18aの表面から材料を掻き落とすことができるものであれば、テフロン(登録商標)等の他の材料で形成してもよい。ワイパーの材料は液化造形材料にぬれ性がなく、回転シリンダー18aとの接触によって短時間で磨耗しない材料であるのが望ましい。回転シリンダー18aから除去された材料は吸引されて加熱通路を通って廃棄タンク(図示せず)に送られる。廃棄タンクで材料を廃棄してもよいし、リサイクルしてもよい。その廃棄タンクは常に減圧されており、回転シリンダー18aから連続的に材料を除去するようになっている。タンクが満杯になると、数秒間、減圧から加圧に切り替えられて、タンク内の廃棄材料がチェックバルブから大形の廃棄トレイ上に押し出される。タンクが空になると、また減圧され、平滑化部材11からの材料の除去が再開される。実験によれば供給された材料の約10から15%が平滑化部材11によって除去された。回転、溶融、掻き落としの3つの組み合わせによって平滑化するのが最も望ましいが、このうちのいずれか1つで平滑化してもよいし、いずれか2つの組み合わせによって平滑化してもよい。
【0065】
本実施の形態では、回転シリンダー18aはヘッドが各方向に動く際に単一の方向に回転する(例えば、2、000rpmで)。材料供給台18が主走査方向に動く際に材料供給台18が掃く方向(順方向か逆方向)に応じて回転シリンダー18aの回転方向を変えてもよい。回転シリンダー18aの回転軸をプリントヘッドの軸から外してもよい。また2個以上の回転シリンダー18aを使用してもよい。例えば、回転シリンダー18aを2個使用する場合、互いに反対方向に回転させるようにするとともに、両者を上下動可能とし、材料供給台18の掃く方向にかかわらず、常にいずれか一方が平滑化に関わるようにしてもよい。
【0066】
単一のプリントヘッド10と単一の回転シリンダー18aを使用する場合には、材料の供給は各列(プリントヘッドの1掃き)毎になされるが、平滑化は1列置きになされる。すなわち平滑化は一定の方向に行われる。このような条件では、プリントヘッドの掃く方向が回転シリンダーからプリントヘッドを指す矢印と同じ方向のときに平滑化がなされる。すなわち、プリントヘッドと回転シリンダーが主走査方向に層を横切るとき、プリントヘッドの掃く方向が回転シリンダーがプリントヘッドの後からついていくようなものであるときに、平滑化がなされる。
【0067】
他の望ましい実施の形態においては、単一の回転シリンダーと複数のプリントヘッドを使用する。この場合には、少なくとも1個のプリントヘッドを回転シリンダーの各側に配し、両方向に平滑化が行われるようにする。プリントヘッドの動きと回転シリンダーの動きを切り離し、平滑化と材料供給を独立した動きとしてもよい。この場合、プリントヘッドの運動方向と回転シリンダーの運動方向を異ならせてもよい。例えば、前者をX方向とし、後者をY方向としてもよい。また、上記のようにプリントヘッドの動きと回転シリンダーの動きを切り離すことによって、複数の層をまとめて平滑化したり、単一の層の複数のラインをまとめて平滑化したりすることも可能になる。
【0068】
第3図に示すように造形台15が使用される。3次元物体または部品14がその造形台15上で形成される。その造形台15はYステージ16a、16bに摺動自在に取り付けられており、そのYステージはコンピュータの制御下に造形台15をY方向に(副走査方向)前後動させる。その造形台15はZステージ17にも取り付けられており、そのZステージはコンピュータの制御下に造形台15をZ方向に(一般に造形中に徐々に下方に)上下動させる。
【0069】
物体の断面あるいは層を形成するため、Zステージは物体14の、直前に形成された断面がプリントヘッド9のオリフィスプレート10の下方所定の距離に位置するように、造形台15をプリントヘッド9に対して移動させる。プリントヘッド9はYステージ16a、16bと協働してXーY造形領域を1回ないし数回掃く(プリントヘッドはX方向に前後動し、Yステージ16a、16bは造形中の物体をY方向に平行移動させる。)。直前に形成された断面あるいは層とその支持体が次の層とその支持体用の材料を供給するための作業面を形成する。XY方向の平行移動の間に、ジェットオリフィスが先行層に対して、所定の位置でそれぞれ発射し、物体の次の断面の層を形成するためのパターンで材料を供給する。この供給過程の途中で材料の一部が上述のようにして平滑化部材11によって除去される。上述のX、Y、Z方向の移動と材料供給と平滑化を繰り返して、選択的に供給積層された複数の層から物体を造形する。さらに造形台15は、一走査が終わった後に材料供給台18の向きが逆転される間に、Y方向やZ方向に位置調節してもよい。
【0070】
望ましい実施の形態においては、層の形成の際に供給される材料の厚みは所望の厚さに等しいかあるいはそれよりわずかに大きい。上述のように、余分の材料は平滑化部材の動作によって除去される。このような条件では、実際に、積層される層の厚みは各層毎に供給される材料の量によって決定されるのではなく、各層の形成後に造形台15が下降される距離によって決定される。造形速度を上げ、廃棄される材料の量をできるだけ少なくしたいならば、供給工程中に除去される材料の量をできるだけ小さくすればよい。除去される材料の量が少なければ少ないほど、各層が厚ければ厚いほど、物体の造形速度は速くなる。一方、層の厚み、すなわちZ方向の送り量、をあまり大きくし過ぎると、少なくともいくつかの供給位置においては材料の量が不足し始める。この材料の不足は実際の物理的作業面の位置を所望の位置から逸脱させることになり、平坦でない作業面が形成されることもある。またその実際の物理的作業面の位置の所望の位置からの逸脱によって、材料滴の飛行距離が予想より大きくなるために材料滴の落下位置がX、Y方向に狂うこともあり、さらに物体の輪郭が、その位置の狂った作業面で形成された層を始端または終端として上下方向にずれることもあり得る。そのため、実施の形態によっては、上下方向の送り量を最適とするのが望ましい。
【0071】
Z方向の最適な送り量を決定するために、積み上げ診断物体を使用することができる。この技術では、1個ないし数個のテスト物体の層をZ方向の送り量を順次大きくしながら積層するとともに、形成される物体の高さを計測し、どの送り量の時に形成高さ(垂直方向の積み上げ)が所望の値であったか、およびどの送り量の時に高さが所望の値より小さかったかを決定するのが望ましい。この時、ある値(すなわち最大許容値)までの層厚(Z方向送り量)の増大は各層の厚みに層の数を乗じた値に等しい物体高さをもたらすと考えられる。層厚の増大が最大許容値を超えると、得られる物体高さは各層の厚みに層の数を乗じた値より小さくなると考えられる。さもなければ、診断物体の上面の平滑度が失われることもある。これは、ある材料供給位置には充分な量の材料が供給され、ある材料供給位置ではそうでないことを示すものである。診断物体を調べることによって、Z方向の最大許容送り量を実験的に決定することができる。最適なZ方向送り量をこの最大許容送り量としてもよいし、それより多少小さい量としてもよい。造形および支持様式が異なれば垂直方向の堆積速度も異なるので、上記のテストを造形および支持様式毎に実施し、その異なる様式に共通の最適なZ方向送り量を、どの様式の最大許容送り量よりも大きくならないように設定することができる。
【0072】
供給ヘッドがある走査線をたどっているときに、その走査線の一区間においてのみほぼ定速であればよく、他の区間においては減速されても加速されてもよい。ジェットの発射の制御方法によって、加速もしくは減速期間中に過剰積み上げの問題を生じることもあるし、生じないこともある。速度の変化が積み上げ速度の問題を生じさせる場合には、物体および支持体の形成をプリントヘッドが一定速である走査線区間のみに制限してもよい。さもなければ、本出願と同時出願の米国特許出願(3Dの社内番号USA143に対応)に記載されているように、加速あるいは減速区間においても正確な供給ができる発射制御スキームを使用してもよい。
【0073】
前述したように、ある望ましい実施の形態では、プリントヘッド9はラスターパターンで走査する。この例が第6図に示されている。図示のように、ラスターパターンは、Y方向(副走査方向)に間隔を置いてX方向(主走査方向)に走る、一連のラスターライン(走査線)R(1), R(2),・・・R(N)からなっている。ラスターライン間の間隔dは、ある望ましい実施の形態では1/300インチ(約3.3ミル、約83.8μm)である。プリントヘッド9のオリフィスも距離dだけ間隔をおいて並べられており、そのdの値は前述のように約26.67ミル(0.6774μm)であり、また所望の数のラスターラインはオリフィスプレート10の長さ、約2.56インチ(65.02mm)、より長く割り送り方向に延びているため、全てのラスターラインをカバーするためには、プリントヘッド9は、作業面上を複数回往復しなければならない。
【0074】
これは2工程処理で行うのが望ましい。まず最初の工程では、プリントヘッド9の1走査毎にYステージ16a、16bを距離dだけ副走査方向に送りながら、プリントヘッド9に作業面を主走査方向に8回走査させる。次に、第2の工程で、Yステージ16a、16bをオリフィスプレート10の長さ(2.5600インチ)+dr(0.0267インチ)=2.5867インチ(65.70mm)だけ割り送り、最初の工程を繰り返す。これを繰り返して全てのラスターラインをカバーする。
【0075】
最初の1走査では、例えば、プリントヘッド9はラスターラインR(1)、R(9)、R(17)・・・をそれぞれオリフィス10(1)、10(2)、10(3)・・・で走査する。次にYステージ16a、16bが造形台15を距離d(1ラスターライン間隔)だけ副走査方向に動かす。次の1走査では、プリントヘッド9はラスターラインR(2)、R(10)、R(18)・・・をそれぞれオリフィス10(1)、10(2)、10(3)・・・で走査する。これをこの後6回繰り返す。すなわちプリントヘッド9の1走査毎にYステージ16a、16bを距離dだけ副走査方向に送りながら、プリントヘッド9に作業面を主走査方向に8回走査させる。
【0076】
この8回の走査からなる第1の工程の後に、さらに形成すべきラスターラインがあるときには、前記第2の工程を実行する。この第2の工程では、Yステージ16a、16bが造形台15をオリフィスプレート10の全長+dr、2.5867インチ(65.70mm)だけ動かす。この後必要ならば、第1の工程と第2の工程を繰り返す。上記2工程を繰り返して、所望の全てのラスターラインを走査する。
【0077】
この2工程処理の一例が第26図に示されている。この例は、プリントヘッドが8ラスターライン間隔分の間隔を置いて配された2個のジェットを有している例である。第1のジェットが位置201に位置され、第2のジェットが位置301に位置された状態で走査が開始される。まず、ラスターライン211、311がそれぞれ第1、第2のジェットによって矢印の方向に走査される。第1の工程の一部として、ラスターライン211、311の走査の後に、矢印221、321で示すように1ラスターライン間隔だけ造形台が割り送られる。さらに第1の工程の一部として、さらに7回のラスタースキャン(ラスターライン対212、312;213、313;214、314;215、315;216、316;217、317;218、318で示す)をそれぞれ1ラスターライン間隔(矢印222、322;223、323;224、324;225、325;226、326;227、327;228、328で示す)だけずらしながら行う。ラスターライン218、318の走査の直後に、第2の工程を実行し、プリントヘッドをラスターラインの方向と長さ228、229に応じてY方向に送る。この送りの長さはプリントヘッドの幅(この例ではラスターライン8本分の幅)にラスターラインもう1本分の幅を足したものに等しい。この大きな割り送りの後に、形成すべき断面の走査を完成するのに必要なだけ第1、第2の工程を繰り返す。当業者には明らかなように、この2工程処理は上記以外の他の態様でも実行することができる。例えば、第2の工程は、矢印228、328で示すように、Yの正方向に割り送りする替わりに、Yの負方向に矢印330で示すように大きく(プリントヘッド3幅分からラスターライン1本分の幅を差し引いた分)割り送りしてもよい。
【0078】
要するに、この望ましい実施の形態は次の特徴を有するものである。1)副走査方向のジェット間隔は、副走査方向にほぼ直角なプリント方向に延びる供給ラインの所望の間隔(dr)の整数(N)倍である。2)第1の工程はプリント方向の複数回(N)の走査を含む。この場合各走査は供給ライン間の所望の間隔(dr)だけ副走査方向にずらされる。3)第2の工程ではプリントヘッド9を、ジェットが次のN本の供給ラインに沿って材料を供給できるように副走査方向に大きくずらす。この時、前のN本と次のN本の供給ラインの間はラスターライン1本分開ける。この後必要ならばさらに副走査方向に大きくずらす。最も望ましくは、第2の工程での送り量は両端のジェットの間の間隔と所望の供給ライン間隔の和、すなわち、NxJ+dr、Jはプリントヘッド9上のジェット数、である。
【0079】
上述したように、第2の工程での送り量はこれに限られるものではない。例えば第2工程での送りは、プリントヘッド幅にジェット間隔の2倍を加えた値からラスターライン間隔分を引いた分だけの負の方向への(第1工程での副走査と逆の方向への)送りでもよい。また第2工程における送りを上記正方向への送りと負方向への送りを組み合わせたり交互に行ったりしてもよい。いずれにしても第2工程における送りは第1工程における個々の送りよりも大きい。
【0080】
他の単一工程あるいは複数工程の送りパターンを使用することもできる。この時Y方向正および負の両方向の動きを含むものでもよい。これは最初に飛ばされたラスターラインを走査するときに行われるが、これについては「飛越し(interlacing)」と称する技術に関連して詳細に説明する。
【0081】
いくつかの望ましい実施の形態では、インクジェットの発射は制御コンピュータもしくは他のメモリーに記憶されている長方形のビットマップ、すなわち画素配置によって制御される。そのビットマップはメモリーセルの格子からなっており、その格子においては、各メモリーセルが作業面上の1画素に対応し、セルの行は主走査方向(X方向)に延び、列は副走査方向(Y方向)に延びている。行間隔(Y方向の間隔)は列間隔(X方向の間隔)と異なっていてもよく、その場合はX方向とY方向でデータ解像度が異なることを示している。また他の望ましい実施の形態では、同一の層内もしくは層間で画素サイズが不均一であってもよい。すなわち画素の位置によって画素の長さと幅のどちらか一方もしくは両方が異なってもよい。また他の画素配置パターンを使用してもよい。例えば、隣り合う画素列を画素間隔の何分の1か主走査方向にずらして、各列の画素の中心が隣の列の画素の中心からずれるようにしてもよい。このずらす量を画素間隔の1/2にして各列の画素の中心が隣の列の画素と画素の境界に整列するようにしてもよい。また、ずらす量を1/3、1/4等にして、画素パターンが数枚の層毎に一致するようにしてもよい。さらに、画素の配置を形成すべき物体あるいは支持構造の形状に応じて変えてもよい。例えば、支持柱間の間隙をまたぐ支持パターンの一部を形成したり、物体部の下向きの面を形成したりするときには画素の配置を変えるのが望ましい場合がある。このようなもしくはこれ以外の画素配置の変更は画素の形状を変えることによっても実行できるし、またX方向、Y方向のどちらか一方もしくは両方に画素密度を大きくし、画素発射パターンを全ての画素位置に対して発射するのではなく、選択された画素位置においてのみ発射するパターンとすることによっても実行できる。そのパターンはランダムでもよいし、予め定めたものでもよいし、物体部に偏ったものでもよい。
【0082】
主走査方向のデータ解像度は主走査方向ピクセル(MDP)で表される。このMDPは単位長さあたりの画素長さあるいは画素数で表される。ある望ましい実施の形態ではMDP=300ピクセル/インチ(26.67ミル/ピクセル、677.4μ/ピクセル)あるいは1200ピクセル/インチである。もちろん、必要に応じてMDPはいくらでもよい。同様に、副走査方向のデータ解像度は副走査方向ピクセル(SDP)で表される。このSDPは単位長さあたりの画素幅あるいは画素数で表される。ある望ましい実施の形態ではSDP=MDP=300ピクセル/インチ(26.67ミル/ピクセル、677.4μ/ピクセル)である。SDPはラスターライン間隔に等しくとも等しくなくともよいし、MDPは各ラスターライン内の材料滴供給位置間の間隔に等しくとも等しくなくともよい。ラスターライン間隔は、副走査方向材料滴供給位置(SDL)で表され、各ラスターライン内の材料滴供給位置間の間隔は主走査方向材料滴供給位置(MDL)で表される。SDP、MDPと同様に、SDL、MDLも単位長さあたりの材料滴数あるいは材料滴間間隔で表される。
【0083】
SDP=SDLならば、データと材料滴供給位置の間には副走査方向に1対1の対応があり、画素間隔はラスターライン間隔に等しい。MDP=MDLならば、データと材料滴供給位置の間には主走査方向に1対1の対応がある。
【0084】
SDLやMDLがSDPやMDPより大きい場合には、データ数より多くの材料滴を発射する必要があり、そのためには各画素に対して複数の材料滴を発射するように制御する必要がある。このように余分の材料滴を供給するためには隣接する画素の中心の間の中間点に材料滴を落とすか(中間滴下、ID)、あるいは各画素の中心の上に直接落とすか(直接滴下、DD)になる。どちらの場合もこの技術を「オーバープリント」と称し、これによって、材料の積み上げが速くなり、プリントヘッドや物体をゆっくり動かしても同じZ方向の材料の積み上げが得られるため、最大走査速度や加速率を含む機械的設計制約が緩和される。IDオーバープリントと非オーバープリントあるいはDDオーバープリントの違いが第16a図から16d図に示されている。第16a図は、プリントヘッドが64の方向に動いているときの、滴下された1個の材料滴とそれを取り巻く硬化領域62を示している。一方第16b図は、プリントヘッドが64の方向に動いているときの、同じ硬化領域と1個のデータ点に対してIDオーバープリントによって2個滴下された材料滴60、66を示している。2個の材料滴で満たされた供給ゾーンは68で示されている。第16c図は、同様にIDオーバープリントによって4個滴下された材料滴60、70、66、72を示しており、供給ゾーンは76で、走査方向はやはり64で示されている。第16d図は、同様な状態の1列の画素78、80、82、84、86、88を示しており、90はオーバープリント無しの場合の供給ゾーンの長さを示し、92は4滴IDオーバープリントを使用した場合の供給ゾーンの長さを示している。上記のことは、IDオーバープリントによって、それが使用されるどの領域も画素約半個分から1個分にわずかに足りない分の長さだけ長くなるという仮定の上での話である。もちろん、オーバープリントによる材料滴の数を増やせば増やすほど、画素領域の垂直方向の成長が速くなる。
【0085】
SDLやMDLがSDPやMDPより小さい場合には、少なくともプリントヘッドの所定の走査では、材料滴の発射数をデータ数より減らす必要があり、これは上述の画素がずれている場合や、画素サイズが不均一な場合に実行される。
【0086】
N行xM列の格子が第7図に示されている。この格子は行R(1)、R(2)、・・・、R(N)と列C(1)、C(2)、・・・、C(M)を備えており、画素P(1,1)、P(1,2)、・・・、P(M,N)がその格子状に配列されている。
【0087】
ある断面を形成するためにはその断面(支持部も含めて)を表すデータがまずビットマップにロードされる。ここで、いくつかの望ましい実施の形態においてそうであるように、物体部も支持部も同じ材料で形成されると仮定する。ある画素位置に材料を供給すべきときには、その画素位置に対応するメモリーセルにフラグを立てる(例えば2進数字”1”をロードする)。また材料を供給しない画素位置に対応するメモリーセルには反対のフラグを立てる(例えば2進数字”0”をロードする)。複数の材料を使用する場合には、各画素に対応するセルには材料を供給すべきかどうかだけでなく、供給すべき材料の種類をも表すフラグを立てる。データ操作を容易にするために、物体部あるいは支持部を規定する圧縮データに記載されているように、各ラスターラインに沿った供給位置と非供給位置を示すRLEデータ)を所定の領域に使用する充填パターンの記述とブールし(boolean)、ジェット発射用の最終的なビットマップ表現を得るようにしてもよい。ジェットの実際の制御は、発射制御系に効果的にデータを伝達し得るようにスキュー(skew)等の変更を加えたビットマップによってなされる。この点については上記3Dシステム社内番号USA143に対応する米国特許出願により詳細に記載されている。そこで、前述のようにして、格子を形成している各ラスターラインにそれぞれのオリフィスが割り当てられる。そして、ビットマップ内の対応するセルのフラグに応じて、材料滴供給位置ないし画素位置に対応する発射位置において発射するかどうかが各オリフィスに指示される。
【0088】
上述のように、プリントヘッド9は様々な解像度で材料滴を供給することができる。本発明のいくつかの望ましい実施の形態ではSDP=SDL=300ピクセル(滴)/インチである。またいくつかの望ましい実施の形態では、MDLはMDPを固定したまま3つの異なる値をとることができる。1)MDL=300滴/インチ、MDP=300ピクセル/インチ 2)MDL=600滴/インチ、MDP=300ピクセル/インチ 3)MDL=1200滴/インチ、MDP=300ピクセル/インチ。MDL/MDP比が1より大きいときには、画素の中心と中心の間の中間位置において余分の材料滴を供給する(IDオーバープリント)。現在のところ望ましいプリントヘッドと材料では、材料滴1滴の体積は約80から100ピコリットルであり、これはおおよそ径2ミル(50.8μm)の材料滴を形成する。現在のところ望ましいプリントヘッドでは、最大発射頻度は約20Khzである。比較のために、13ips、1200dpiの発射率では、発射頻度が16Khzとなり、これは許容範囲内である。
【0089】
ある望ましい実施の形態では、データ操作、データ転送およびメモリーのロードを容易にするために、造形スタイル(例えば市松模様、格子模様などの物体を構成する断面構造のパターン)は物体データと別個に定義される。この点に関して、上述のように、物体を表すデータが、造形スタイルを画素毎に表す情報とブール演算され(例えば論理積をとり)、各供給位置において供給パターンを画素毎に表す表現が得られる。例えば、完全に中実のパターンを2回の走査で形成すべき時には(例えば2工程パターン)、物体データと、材料滴を供給すべき(光ベースのステレオリソグラフィーにおける選択的硬化に例えて”供給”というよりは”光照射”と言った方が分かり易いかも知れない)画素を表す一方の造形スタイルパターンとでブール演算する(例えば論理積をとる)。ここで得られる変更された画素データは後でジェットの発射制御に使用することができる。次に、物体データともう一方の造形スタイルパターンとでブール演算し(例えば論理積をとり)、ジェットの2回目の発射を制御する変更された画素データを得る。他の望ましい実施の形態では、物体データと支持体データは生成後直ちに関連づけられて造形スタイルデータが形成される。また他の望ましい実施の形態では、造形スタイル情報は画素シフト情報、画素サイズ情報、オーバープリント情報、各画素位置に供給するための優先走査方向、平滑化方向、回転順位等をも含んでいてもよい。ここでいう造形スタイルは次のようなことによって装置の性能を高める。1)造形速度を速くする。2)造形される物体の精度を上げる。3)表面仕上げを向上させる。4)物体内の応力や歪みを減らす。5)これらのいくつかが同時に得られる。
【0090】
選択積層造形装置における大きな問題は、材料供給の信頼性を確保すること、より具体的には供給された断面の層厚を均一にすることである。もう1つの問題は、全ての造形スタイルに対して層厚を一定にすることである。インクジェットを使用する場合は、その信頼性の問題は、特に、ジェットの”失火”の形を取る。複数のジェットを使用する場合には、ジェットの発射方向の不揃い、ジェット間での発射量の不均一、各ジェットの時間による発射量のばらつき(これは比較的程度が低い)に関する問題がある。
【0091】
断面の層圧のばらつきの問題は他の現象からも生じる。例えば、発射された材料滴が作業面に達するまでには飛行時間がある。ジェットから発射されるときには材料滴には下方への初速成分が与えられるが、ジェットが主走査方向に動いているため、材料滴は水平方向の速度成分も有する。材料滴がジェットを離れると、材料滴には重力、粘性抵抗、表面張力等の様々な外力、内力が作用する。このような初期条件および力のために材料滴が発射された位置の下の作業面の部分に直接落下することはほとんど無く、その理論的落下点から離れた位置、通常はプリントヘッドの運動方向に離れた位置に落下する。言い換えれば、発射位置と落下位置は同じXーY座標を持たず、互いにずれる。この水平方向のずれは上述の要因だけでなく、各水平位置(例えば、X方向位置やY方向位置)におけるオリフィスプレート10と作業面の垂直位置(例えばZ方向位置)の間の距離に依存する。上述のように垂直位置の変動は様々な理由で発生する。例えば、同一の断面内の異なる部分の形状の差(材料の展りの多少が層の厚さの大小になる)によっても発生する。またある空間パターンに対する供給の時間的な順番(隣接する画素位置に先に供給された材料がその方向への材料の展りを規制する)によって発生することもある。
【0092】
前述したように、本発明を実施する望ましい装置では供給された各断面の高さを均一にするために平滑化を行うが、その場合、正味の層の厚さは、連続した2つの層の平滑化面のZ方向高さの差に由来する。もし平滑化によって、完全に滑らかで全体的に平らな層を形成することが必要であるならば、平滑化工程と次の平滑化工程の間のZ方向送り量を、層全体の各点における最小積み上げ厚さ以下にしなければならない。もしあるジェットの発射力が弱いと(あるいは発射しないと)最小積み上げ厚さが正味の層厚を所望の厚さよりはるかに小さいものとする(ほとんどゼロもしくはゼロ)ことがあり、これによって造形時間が期待よりはるかに長くなることがある。この問題に対処するためのいくつかの技術を以下説明する。他の望ましい実施の形態においては、平滑化を層1枚毎に行うのではなく、何枚か毎に行う。例えば、平滑化を1枚置き、2枚置きあるいはそれ以上置きに行ってもよい。また、どの層をあるいは層のどの部分を平滑化するかを物体の形状によって定めてもよい。
【0093】
飛行時間補正
前述のように、材料滴が作業面上の所定の位置に確実に落下するのを確保する際の1つの問題として、材料滴が飛行している時間(飛行時間)がある。飛行時間が常に一定であり、ずれの方向と量が常に一定であるなら、発射位置の座標と実際の供給位置の座標がずれるだけであるから、飛行時間の問題は起きない。しかしながら3次元物体を形成するときには、一般にはプリントヘッドが主走査方向正負の両方向に動いている状態で(そして場合によっては主走査方向と副走査方向を入れ替えたいこともある)材料を発射することが望まれる。したがって、走査中にプリントヘッドと作業面の相対移動の方向が変わる(逆になる)から、ずれ方向が変化する(逆になる)ことになる。この問題はプリントヘッドが所望の供給位置の真上に来る前に発射信号を発生させることによって簡単に対処できる。この発射タイミングの補正は「飛行時間補正」として知られている。飛行時間の補正は補正係数を各方向の走査に別々に使用することによって行ってもよいし、単一の補正係数を一方の方向の走査に使用して、補正した方向の走査による供給位置を補正していない方向の走査による供給位置に一致させるようにして行ってもよい。飛行時間の補正は様々な方法で行うことができる。例えば、各ラスターラインの始点において最初の発射位置(X方向位置)を適切に決定し、その最初の発射位置を基準にしてそのラスターラインの全ての画素に対する発射位置を決めてもよい。第27a図〜27e図には発射位置、材料滴位置および飛行時間の関係が示されている。なお各図において同じ要素には同じ番号を付した。第27a図には、発射位置404a、404bの両方が所望の材料滴位置402と一致している場合(飛行時間補正係数が使用されていない場合)が示されている。404aはプリントヘッドが406aで示すようにXの正方向に動いているときの発射位置を示し、404bはプリントヘッドが406bで示すようにXの負方向に動いているときの発射位置を示す。408a,408bは発射位置404a,404bを離れた後、材料滴が通る公称経路である。その公称経路408a、408bは材料滴を実際の材料滴位置410a、410bに導き、そこで材料滴は作業面にぶつかり、つぶれた材料滴412a、412bが形成される。互いに逆方向に走査されているときに発射される2つの材料滴の経路の交差点(すなわち焦点)が414で示されている。層全体に対する交差点によって画成される面を焦点面と称する。416a、416bは発射位置と所望の材料滴位置の間のX方向のずれを表す形で使用される飛行時間補正係数である。材料滴の実際の落下位置と所望の材料滴位置が一致しているかどうかが、その補正係数が適切であるかどうかを決定する。第27a図から明らかなように、材料滴は互いに離れる方向に動き、得られるつぶれた材料滴は作業面上で重ならず、これによって、Z方向の積み上げが小さくなるとともに、材料の供給位置がX、Y方向に不正確になる。第27b図は、小さな飛行時間補正係数416a、416bを使用した場合を示している。この場合には焦点の位置は所望の材料滴位置の上方にあり、つぶれた材料滴412a、412bの位置は第27a図の場合に比べて接近している。もし飛行時間補正係数がより大きければ、つぶれた材料滴412a、412bは重なり、Z方向の積み上げが大きくなる。第27c図は使用された飛行時間補正係数がつぶれた材料滴412a、412bを最も精度よく位置させた場合を示している(つぶれた材料滴412aの厚みが落下距離418に比べて小さく、また入射角が大きすぎないと仮定して)。最も望ましい飛行時間補正係数がZ方向の積み上げが最大になるかどうかを基準にして定められるならば、第27c図の状態が最も望ましい。第27d図は、使用した飛行時間補正係数416a、416bが第27c図で使用したものよりわずかに大きいが、なお材料滴の重なりによってZ方向の積み上げの増加がある場合を示している。この場合も材料滴のX方向の位置精度は許容できるものであり、焦点414の位置は所望の作業面および実際の作業面の幾分下方にある。第27e図に示す場合には、さらに大きな飛行時間補正係数を使用した場合であり、この場合には材料滴のZ方向の重なりが無く、Z方向の積み上げが最小になり、焦点の位置は所望の作業面よりさらに下方になる。
【0094】
飛行時間に対する粘性抵抗と重力の影響を無視すると、飛行時間補正値(時間)は、オリフィスと作業面の間の距離を、材料滴が供給される際の下方への速度(距離/時間)で除したものに等しくなる。しかしながら粘性抵抗は重要な因子であると考えられる。例えば、ある望ましい実施の形態ではプリントヘッドの走査速度は約13インチ/秒、オリフィスプレートと作業面の距離は約0.020インチ、垂直方向の発射初速は200から360インチ/秒台であると考えられる。粘性抵抗等の摩擦抵抗を無視すると、このような初期条件の下では、発射位置と実際の材料滴落下位置の間のずれは約0.8から1.3ミルであると思われる。しかしながら上記のような初期条件の下では、実際には発射位置と実際の材料滴落下位置の間のずれは約2ミルであることが確認されている。
【0095】
適切な補正値は、各方向に走査したときの材料滴の落下位置をX方向に同一とする試みを、補正値を変えながら両材料滴の落下位置が一致するまで行うことによって実験的に容易に決定できる。上述のように、ある望ましい実施の形態では最も適切な飛行時間補正値は両材料滴の落下位置が一致する値である。上記の例でいうと、粘性抵抗を無視した場合には、飛行時間補正係数は約60から100μSになるが、実際には約150から200μSがより適切であることが分かっている。
【0096】
他の望ましい実施の形態においては、最も適切な飛行時間補正係数は最も精度のよい落下位置を得られる値(焦点位置が作業面上にある値)には設定されずに、最も精度のよい落下位置が実際の作業面のやや下方で得られるような値(焦点が作業面の下方になるような値)に設定される。このような実施の形態は”面外しねらい(off surface targeting)”の実施の形態と称する。この意味では、垂直方向の積み上げ速度が最大であり、X方向の落下精度が最もよいであろう時に、的中精度が最高であるということになる。第27d図は、このような面外しねらいの実施の形態の場合のねらいの例について示している。このような面外しねらいの実施の形態は、所望の作業面と実際の作業面を同一高さに保つ成分を使用せずに(例えば、平滑化部材や、表面高さ検出装置と調節装置のような手段を使用せずに)造形する場合に特に有用であると考えられている。
【0097】
この面外しねらいの実施の形態の特徴はZ方向の積み上げが自動的に補正されることである。連続する層の形成時のZ方向の送り量がある一定の範囲内にあって、供給パターンが、材料が上に積み重なるだけでなく水平方向にも展がることができるようなパターンであるならば、ある層においてZ方向の積み上げが多過ぎた場合にはその層の次の1層もしくは数層の積み上げが減り、それによって結局正味の積み上げは焦点位置を実際の作業面のやや下方に維持するようなものとなる。一方、連続する層の形成時のZ方向の送り量がある一定の範囲内にあって、供給パターンが、材料が上に積み重なるだけでなく水平方向にも展がることができるようなパターンであるならば、ある層においてZ方向の積み上げが少なかった場合にはその層の次の1層もしくは数層の積み上げが増え、それによって結局正味の積み上げは焦点位置を実際の作業面のやや下方に維持するようなものとなる。望ましいZ方向の送り量については後に説明する。
【0098】
この自動補正の機能については第27cから27e図を比較すると理解できる。材料の供給を開始する際に(例えば造形台上に)、飛行時間補正係数を、第27d図に示すように、焦点位置が実際の作業面のやや下方になるように(第27c、27e図のようにはならないように)選択する。ここで最初の層を形成するときに、使用されたZ方向送り量に対して積み上げが少なかったとすると、次の供給時の実際の作業面はその時の焦点面に対して相対的に低くなる(但し、Z方向送り量が大過ぎない限り、前者は後者の上方にある)。これは結果として、次の層の形成時の材料滴の重なりを大きくし、第27c図に示すように積み上げ厚みを増大する。もし第2の層の形成後も正味のZ方向の積み上げが低い場合には(2回分のZ方向送り量に対して)、第3の層の供給時の実際の作業面はさらに焦点面に近くなる。これによってZ方向の積み上げが増大し、正味の積み上げ厚みをさらにZ方向の送り量に近づける。一方、もし第2の層の形成後に正味のZ方向の積み上げが2回分のZ方向送り量に対して大過ぎるときには、第3の層の供給時の実際の作業面は焦点面から遠くなり、これによってZ方向の積み上げが減少し、正味の積み上げ厚みをZ方向の送り量に近づける。これが第27e図に示されている。
【0099】
焦点面が適切に実際の作業面の下方にあり、Z方向送り量が積み上げ速度に合わせて適切に選択され、物体部と支持部の形成が非中実方式(直接は材料が供給されない画素位置も存在する方式)で行われる場合には、装置は安定し、支持部と物体部の両方が平滑化部材が無くとも垂直方向に精度よく形成できる。当然、それでも必要ならば平滑化部材を使用してよい。これらの実施の形態を良好に作動させるためには、Z方向送り量を、材料滴の落下位置精度が最高であるとき(例えば、第27c図の状態)の各層における積み上げ量の平均と材料滴の重なりがないとき(例えば第27e図の状態)の各層における積み上げ量の平均の間の値になるように設定するのが望ましい。さらに、層の厚さが材料滴の落下位置精度が最高であるとき(例えば、第27c図の状態)の焦点面と材料滴の重なりがないとき(例えば第27d図の状態)の焦点面の間の距離より相当小さいのが望ましい。
【0100】
上述のようにこれらの望ましい実施の形態の内のあるものでは、材料滴の落下位置精度の高低に基づいて、材料が単に垂直方向に積み上がるだけでなく水平方向に展開する余地を与え、それによってZ方向の積み上げが自動的に補正されるようにする。ある実施の形態では、中実の層と市松模様の層(checkerboard layer)を交互に形成することによって物体を形成する。また他の実施の形態においては、中実の外側面と、物体の内側領域の開口構造(例えば市松模様の層、オフセットした市松模様の層)とを形成することになる。他の適切な造形パターンはテスト物体の造形と解析によって実験的に決定することができる。
【0101】
面外しねらいの実施の形態のあるものでは、最も望ましい初期目標面/焦点面位置は第27c図におけるものと第27e図におけるもののほぼ中間である。このための一つの方法は、仮説的な焦点を無視して、飛行時間を中心にして考えることである。飛行時間補正値は、上述の最適な飛行時間補正値より大きく、落下した材料滴が互いに接するが重なりはしないような飛行時間補正値より小さく設定してよい。飛行時間補正値を上記両端のほぼ平均値となるように設定するのが最も望ましい。
【0102】
面外しねらいの実施の形態のあるものは、物体部や支持部の複数の部分をその層形成後の高さが異なるように同時に形成するのに使用されることがある。この高さを故意に変えて形成する実施の形態では、SMLC技術のように、前述の米国特許出願No.08/428,951や他の前述の米国特許や米国特許出願の一部に記載されているデータ操作技術を使用するのが有利である。
【0103】
飛行時間に関する前述の問題だけでなく、修正した飛行時間補正係数を使用することによって補正できる問題が他にもある。例えば、垂直方向の積み上げを大きくするために、IDオーバープリント技術を使用すると、ある走査線は一方の方向に延長され、他の走査線は逆の方向へ延長されるため、互いに逆方向への走査によって形成される走査線整列しなくなる。この状況が第17a、17b図に示されている。第17a図は方向64、104の2本の走査線上の2点60、100を示している。領域62、102は点60、100に対して供給された材料の展開を示している。第17b図は点60、100に対して4回のオーバープリント(画素1個につき4個の材料滴を発射)をしたときの状況を示している。76、106はその時の材料滴の展開を示すものである。同図から明らかなように、オーバープリントの方向が異なるために、2本の走査線がずれてしまう。このずれは、異なる走査線を整列させることができるように実験的にあるいは可能ならば理論的に決定される追加の飛行時間補正係数を使用することによって補正できる。もちろんこのような補正によって、走査線に沿った物体形状を長くしてよいというものではない。
【0104】
この2つの問題を回避できる他の補正方法では、与えられた画素の走査方向に見て遠い方の側が材料の供給を必要とする画素に接しているかどうかを検知する。すなわち走査方向に見て遠い方の側が材料の供給を必要とする画素に接していない画素についてはオーバープリントを施さない。また他の方法では、前述の米国特許出願No.08/474,730、08/480,670記載されている、光ベースのステレオリソグラフィーにおいて、各走査線が供給から非供給に変化する点においてのみ使用されるライン幅補正と同様な材料滴幅補正によって、走査線の延長を補正する。近似的な補正として、このような”端点”を単純に供給パターンから削除して、その点を直前の画素のIDオーバープリントによってその半分から全部をカバーするようにしてもよい。さらに他の例として、飛行時間補正データをシフトさせて、補助画素供給(subpixeling deposition)を実行してもよい。
【0105】
飛行時間補正係数は、上述の目的とはやや反対の目的のために様々に使用することができる。例えば、改良された造形技術を実行するために、画素と画素の間の位置(補助画素)に材料を供給するのに飛行時間補正係数を使用することができる。この技術は下向きの面の形成、支持体の形成と配置、垂直方向の材料の積み上げの増大、解像度の増大等を図るのに使用される。望ましい実施の形態では、改良された造形は1回または複数回の走査で実行される。
【0106】
材料滴幅補正
材料滴幅補正(供給幅補正)を行って物体データを補正するのが望ましい場合がある。材料滴の幅が少なくともある程度画素の幅ないし長さより大きい時には、補正(内側に丸1画素分あるいは数画素分ずらすことによって)によって精度を高めることができる。この方法は、上記および下記のどの実施の形態とも組み合わせることができる。材料滴幅が画素幅(ないし長さ)の2倍に近づくかあるいは2倍より大きくなるに連れて、1個ないし複数個の画素分のオフセットによって精度がますます上がる。材料滴幅補正は米国特許出願No.08/475,730、08/480,670に開示されている技術等に基づいて行うことができる。あるいは、画素ベースの間引き(erosion)手法を使用してもよい。ある実施の形態では、画素ベースの間引きはビットマップを複数回通過させてある基準を満たす”中実の”画素を”中空な”画素に変換する。
【0107】
ある実施の形態では次の工程を含む。1)ビットマップを最初に通すときには、右側が”中空な”画素に接している”中実の”画素は全て”中空な”画素に変換する。2)2回目に通すときには、左側が”中空な”画素に接している”中実の”画素は全て”中空な”画素に変換する。3)3回目に通すときには、上側が”中空な”画素に接している”中実の”画素は全て”中空な”画素に変換する。4)4回目に通すときには、下側が”中空な”画素に接している”中実の”画素は全て”中空な”画素に変換する。工程(1)から(4)の順番を変えてもよい。画素1個分より大きい間引きが必要なときには、所望の減量が得られるまで工程(1)から(4)を繰り返す。このような実施の形態によれば相応な材料滴幅補正が得られるが、中実の角部(物体の角に限らず、X軸、Y軸のいずれにも平行でない縁も含めて)の画素が、X軸、Y軸のいずれかに平行な境界部分の画素に比べて速く除去されるという欠点がある。
【0108】
その間引き速度の差を解消しようと試みる実施の形態は次のような工程を含むことになると考えられる。1)ビットマップを最初に通すときには、右側が”中空な”画素に接しているとともに他の側が全て中実の画素に接している”中実の”画素は全て”中空な”画素に変換する。2)2回目に通すときには、左側が”中空な”画素に接しているとともに他の側が全て中実の画素に接している”中実の”画素は全て”中空な”画素に変換する。3)3回目に通すときには、少なくとも上側が”中空な”画素に接している”中実の”画素は全て”中空な”画素に変換する。4)4回目に通すときには、少なくとも下側が”中空な”画素に接している”中実の”画素は全て”中空な”画素に変換する。工程(1)から(4)の順番や変換の条件を変えてもよい。画素1個分より大きい間引きが必要なときには、所望の減量が得られるまで工程(1)から(4)を繰り返す。これらの実施の形態によれば角部における過剰な減量を抑えることができる。
【0109】
他の実施の形態では、間引き条件を画素の2つの側が”中空な”画素に接しているか、3つの側が”中空な”画素に接しているか、4つの側が”中空な”画素に接しているかによって設定される。またさらに他の実施の形態では、それまでに何回ビットマップを通したかによって間引き条件を変更する。また他の実施の形態では、元々の断面あるいは部分的に補正されたビットマップとのブール比較と間引きを組み合わせて、材料滴を供給すべき画素の最終的なビットマップ表現を導く。減量を促進するとともに物体の形状の維持を強化しつつ画素を間引きするための他の様々な実施の形態およびアルゴリズムを考えることは、以上の説明に照らして当業者には容易であろう。
【0110】
画素のX方向の寸法とY方向の寸法が大きく異なるときには、材料滴幅補正はX、Y両方向ではなくその内の一方の方向にのみ行えばよい。このような状況では、上述の実施の形態と同様な実施の形態を使用して上述の工程の一部のみを各間引きに対して行えばよい。X、Y両方向あるいはその内の一方の方向に補助画素オフセット量を使用して、供給幅補正を利用することもできると思われる。
【0111】
ランダム化
ランダム化として知られる技術(方法および装置)を造形工程に取り入れることができる。この技術は、上記および下記のどの実施の形態とも組み合わせることができる。この技術では、2つの連続する断面における材料供給方法を変える。これによって、層を横切る方向に材料の積み上げがより均一になり、その結果個々の層の厚みを大きくすることができ、造形時間の短縮につながる。さらにこの技術によって、適切に発射しないジェットの影響を小さくすることができる。供給方法はいくつかの方法で変えることができる。例えば、1)ある層のある部分に材料を供給するジェットを直前の層の同じ部分に材料を供給するジェットと異なるものとする。2)層のある部分に対する供給の時間的あるいは空間的順番を他の部分と異なるものとする。3)これらの組み合わせ、例えば、「主走査の方向と向きのどちらか一方あるいは両方を変える」と「副走査の方向と向きのどちらか一方あるいは両方を変える」の一方または両方。材料の供給を層毎に変えるのは完全にランダムでもよいし、周期的でもよいし、あるいは何らかの規則に従ってもよい。類似の技術が光ベースのステレオリソグラフィーに既に用いられているが、目的が全く異なる。(上述の米国特許出願No.08/473,834の「交互順序付け」参照。)
供給方法を変える具体的な実施の形態について以下説明する。現在のところ望ましいランダム化技術では主走査方向および副走査方向の向きはそのままとし、2つの層の対応する走査線に沿って材料を供給する材料供給手段(例えばジェット)を変える。言い換えれば、第1の層の特定の走査線を走査するのに第1の供給手段を使用し、次の層のその特定の走査線(第1の層の前記特定の走査線の真上の走査線)を走査するのに第2の供給手段を用いる。ある望ましい実施の形態では、層毎のその特定の走査線が、異なるジェットに曝され(材料を供給され)、96個のジェットのそれぞれがその特定の走査線に材料を供給し終わって、96枚の層が形成されると、初めのジェットに戻って、同じことを繰り返す。この実施の形態は”全ヘッドランダム化”の例である。他の実施の形態では”半ヘッドランダム化”が望ましい。この半ヘッドランダム化によって、各断面についての走査数を減らすことができる。現在のところ望ましい96ジェットのヘッドを使用する場合には、各位置には、1番目から48番目のジェットからなるジェット群と、49番目から96番目のジェットからなるジェット群の一方の群のジェットからランダムに材料が供給される。
【0112】
次に第4a図と、第6図を参照して全ヘッドランダム化の実施の形態についてより詳細に説明する。ある層において、オリフィス10(1)が走査線R(1)〜R(8)に沿って材料を供給するのに使用され、オリフィス10(2)が走査線R(9)〜R(16)に沿って材料を供給するのに使用され、オリフィス10(3)が走査線R(17)〜R(25)に沿って材料を供給するのに使用され、オリフィス10(4)が走査線R(26)〜R(33)に沿って材料を供給するのに使用され、以下同様とする。次の層に対しては、各オリフィスが最初の層と同じ走査線に沿っては供給しないように、このオリフィスと走査線の振り分けが変えられる。例えば、次のような振り分けにされる。オリフィス10(1):走査線R(257)〜R(264)、オリフィス10(2):走査線R(265)〜R(272)、オリフィス10(3):走査線R(273)〜R(280)、以下同様。
【0113】
他の実施の形態では、2つの層の形成の間に、造形中の物体とプリントヘッドの少なくとも一方を他方に対してある角度だけ(例えば、30°、60°、90°)回転させて、主走査および副走査の向きを前の層の時の向きと変える。これによって、これから形成すべき層に対してどのジェットから供給される材料も、直前に形成された層の他のジェットから供給された材料上に主に供給されることになる。これが第8図に示されている。第8図において、R1(1)、R1(2)、R1(3)、R1(4)、・・・・、R1(N−3)、R1(N−2)、R1(N−1)、R1(N)は第1の層の走査線を示し、R2(1)、R2(2)、R2(3)、R2(4)、・・・・、R2(N−3)、R2(N−2)、R2(N−1)、R2(N)は第1の層の走査線に対して90°回転した次の層の走査線を示す。この回転量は層毎に変えてもよいし、一定でもよい。またこの回転角度は、この回転を充分な数の層に対して続けた後、元に戻って各ジェットが前と同じ走査線に沿って材料を供給するようになるように選択してもよい。またこの回転角度をどのジェットも前と同じ走査線に沿って材料を供給することがないように選択してもよい。
【0114】
他の実施の形態においては、ある走査線から他の走査線に移行する(副走査方向に)順序を変える。これが第9図に示されている。第9図において、第1の層に対する材料の供給は矢印R3pで示すように、1番上の主走査線R3(1)から始めて、R3(2)、R3(3)、・・・・、R3(N−2)、R3(N−1)と進み一番下の主走査線R3(N)で終わる。次の層に対する材料の供給は1番下の主走査線R4(1)から始めて、R4(2)、R4(3)、・・・・、R4(N−2)、R4(N−1)と進み一番上の主走査線R4(N)で終わる。すなわち矢印R4pで示すように、次の層に対しては、第1の層におけるのと反対方向に走査線が移行する。
【0115】
第10a、10b図に示す他の実施の形態においては、2つの層の対応する走査線上におけるプリントヘッドの移動の向きが互いに逆にされる。第10a図は第1の層におけるプリントヘッドの移動の向きを示しており、走査線R5(1)、R5(3)ではプリントヘッドは左から右に動き、走査線R5(2)では右から左に動く。第10b図は次の層ではプリントヘッドの移動の向きが逆転することを示しており、第10b図の走査線R6(1)、R6(2)、R6(3)は走査線R5(1)、R5(2)、R5(3)とそれぞれ重なる。また走査線R6(1)、R6(3)ではプリントヘッドは右から左に動き、走査線R6(2)では左から右に動く。
【0116】
上述の各技術の組み合わせも含めて、他の多くのランダム化パターンが使用できる。選択されたランダム化技術によっては、主走査数が増えることになり、全積層時間が長くなる。しかしながらこの問題点より、均一に層が形成できるメリットの方がはるかに大きい。さらに、供給温度が高い場合には(材料に流動性を与えるために)、熱を除去することが大きな問題になるが、主走査数が増えることによって、次の層の供給の前に余分に材料を冷やすことができる。
【0117】
滴下位置オフセット
上述のように、オフセットした走査線や走査線に沿った滴下位置のオフセットを使用することによって、改良できる造形技術がある。このオフセット技術は前述のランダム化技術と組み合わせて使用することができるが、2つの層の互いに対応する走査線および滴下位置は互いにずれてもよい。さらにこの技術は上記および下記の他の実施の形態と組み合わせて使用することができる。ある望ましい実施の形態では、走査線および滴下位置のずれ(オフセット)は走査線間隔あるいは滴下位置間隔の1/2までである。この画素のオフセットは、例えば、断面の下向きの面の材料を供給する際に、隣接した支持部材間の間隙をまたぐのを容易にするのに使用される。実際には、その下向きの面は複数回の走査によって硬化させ、連続する走査間において段階的オフセットあるいは交互オフセットを使用して支持部材間の広い間隔をまたぐようにする。これらの実施の形態においては、断面の下向きでない部分は全て1回または複数回の供給とオフセットされたあるいはオフセットされていない画素を使用して形成され、下向きの部分は全て画素領域を部分的に重ね合わせて複数回の供給によって形成される。望ましい実施の形態では、全体的な供給高さは平滑化部材によって適切な高さにトリミングすることによって均一にされる。
【0118】
ある実施の形態では、アーチ状の支持部材、架橋、枝分かれ支持部材(樹枝状支持部材)等の形成の強化のために支持部材の形成中に画素すなわち滴下位置のオフセットが行われる。また、ある実施の形態では、直前の層の縁からある程度だけ突き出した物体断面の形成を強化するために物体の形成中に画素のオフセットが行われる。突出した支持部や物体部は画素のオフセットを使用しないでも形成することができるが、供給時の層の高さより下にある領域に落ち込む材料が少ない場合に、そのような構造を形成するのを容易にするのに画素のオフセットは有効であると考えられる。
【0119】
画素のオフセットは各層に対して行ってもよいし、所定数の層毎に行ってもよい。所定数の層毎に行う場合には、その所定数の層に関しては同じ画素配列で材料の供給が行われる。これによれば、最初のオーバーハング部の上に、次のオー場ハング部を形成しようとする前に、複数の層を積み上げることによって、オーバーハング部をよりよく安定させることができる。
【0120】
例えば、枝分かれ支持部材や外方にテーパした物体構造を形成するときに、画素のオフセットを使用すると、何もない空間上に展がる構造が形成されることになる。この展がりの程度は1層につき1材料滴幅未満に制限される。各層が直ぐその下の層の縁を越えて延びるようにするにしても、複数の層を積み重ねて所定数の層毎にその下の層の縁を越えて延びるようにするにしても、複数の層の平均の延長量に基づいて、延長の角度を決定することができる。最大延長角度は延長部内および延長部近傍の材料の硬化速度に一部依存し、その硬化速度は延長部内および延長部近傍に供給される材料の量に依存する。材料が充分速く硬化し、次の層を支えることができれば層はどのような角度ででも積み重ねることができる。ある実施の形態では30°近い延長角度が得られた。45°近くあるいはそれ以上の延長角度も可能であると考えられている。
【0121】
材料の冷却速度の関係で、3次元物体のオーバーハング部の形成は複数回の走査で行うのが望ましい。望ましい実施の形態では、最初の1回または複数回の走査でまず延長部を形成し、次の1回または複数回の走査で全体が支持されている領域を形成する。これによって、延長部内の材料が、内部領域に供給された材料からの熱の吸収によって遅らされることなく冷却硬化することができる。他の望ましい実施の形態においては、層の内部領域がまず形成され、次に延長部が1回または複数回の走査によって形成される。この実施の形態では、延長部に材料が供給される幾分前に内部領域の材料が冷却する時間が与えられ、それによって延長部内の材料が流動性をあまりに長く保ちすぎるおそれを減らすことができる。所定の造形パラメータセットに対して、使用可能な延長角度はテスト物体の造形、分析によって実験的に決定することができる。
【0122】
画素のオフセットを、予め決められた順序とオフセットパターンで層の所定の部分を複数回の走査するのと組み合わせて、所望の形状の周囲に材料を積み上げるように使用することもできる。例えば、所定の形状の一方の側で1画素分より少ない量だけその側から遠ざかるように画素をオフセットさせてもよいし、また所定の形状の両側で同じ量(1画素分より少ない量)だけ互いに反対方向に画素をオフセットさせてもよい。
【0123】
解像度の高いデータと、そのデータによって本来指示される材料滴密度より低いが、所望の3次元物体等の構造を形成するには充分な材料滴密度をもたらすような造形パターンないしスタイルとを使用して物体を形成するのに、画素オフセットを使用してもよい。
【0124】
走査線飛び越し
飛び越しは物体造形を改良するもう一つの技術である。本明細書で開示する他の実施の形態と同様に、この飛び越しの実施の形態も他の実施の形態と組み合わせて使用することができる。前述したように、もしヘッドがサーベル角で位置されてなければ、ジェット間隔は所望の解像度に等しくなく、したがって主走査線あるいはラスターラインの所望の間隔とも等しくない。したがって、本当に全ての主走査線に沿って材料を供給する必要があれば、走査線の飛び越しを使う必要がある。しかしながら多くの他の理由で(例えば、層の冷却と材料の積み上げを速めるため)飛び越しを使用してもよい。
【0125】
プリントヘッドがサーベル角で配置されているかどうか、望ましいラスター走査技術が使用されるかどうか、ベクトル走査技術が使用されるかどうか、あるいは他の走査技術あるいは組み合わせ技術が使用されるかどうかに関係なく、様々な走査線飛び越しパターンを使用することができる。
【0126】
ある望ましい実施の形態においては、前述のように、ヘッドは主走査線に直角に配され、300走査線/インチの解像度が使用される。この場合のジェット間隔は8/300インチである。ヘッドは8回の主走査を行い、最初の7回の主走査の後にはそれぞれラスターライン間隔(ラスター幅)に等しい幅で副走査が行われ、8回目の主走査の後には実効ヘッド幅にラスター幅を加えた幅で副走査が行われる。この走査パターンが、副走査による副走査方向への送り幅が造形領域の幅に等しくなるかそれより大きくなるまで繰り返される。
【0127】
また他の実施の形態では、主走査のX方向の範囲を、物体、走査すべき所定の物体断面、8回の密接した主走査をするのに必要な物体の各線分の長さ、あるいは操作時間の短縮につながる他のスキームによって要求される作業領域を実効的にカバーするのに充分な範囲に制限する。同様に、副走査方向に沿った位置も、物体、走査すべき断面、走査すべき断面の部分等の幅および位置に制限される。望ましい実施の形態では、ランダム化を使用すると、適切なジェットが適切な主走査線をたどるようにするのに必要な副走査量が増大する場合もある。また他の実施の形態では、主走査が実際の滴下位置を含む部分のみに制限される。
【0128】
飛び越し技術の第1の望ましい変更例では、少なくとも最初の走査の後では隣接しない走査線に沿っては材料が供給されていない状態であり、その間の走査線には2回目以降の走査によって材料が供給される。また他の望ましい実施の形態では、中間のラスターラインへの材料の供給は両側の隣接するラスターラインのいずれにも材料が供給されないうちか、両側の隣接するラスターラインの両方に材料が供給された後になされる。この方式の実施の形態の例が第11a、11b、22a〜22d図に示されている。第11a、11bには、最初の走査において、1本置きのラインがとばされる状況が示されている。第11a図は4本の走査線を示し、最初の走査ではそのうち2本の走査線に沿って材料が供給されることが示されている。第11b図には、2回目の走査で残りの2本の走査線に沿って材料が供給されることが示されている。飛び越しパターンの他の例が第22図〜22d図に示されている。これらの図においては、双頭の矢印300は主走査方向を示し、drはラスターライン間隔を示している。また、分かり易くするために、ラスターラインの始点と終点をライン間でずらせて描いているが、実際には各ラスターラインの始点と終点は整列している。第22a図は主走査方向に走査すべき1連のラスターラインを示している。第22b図には1回目の走査で、1本置きの第1群のラスターライン32に沿って材料を供給し、2回目の走査で第1群のラスターラインの間の第2群のラスターライン34に沿って材料を供給することを示している。第22c図には、1回目、2回目、3回目、4回目の走査によってそれぞれ材料を供給されるべきラスターライン32、34、36、38が示されている。第22d図には、1回目、2回目、3回目、4回目、5回目、6回目の走査によってそれぞれ材料を供給されるべきラスターライン32、34、36、38、40、42が示されている。第22d図の例では、中間のラスターラインへの材料の供給は、両側の隣接するラスターラインのいずれにも材料が供給されないうちか、両側の隣接するラスターラインの両方に材料が供給された後になされるという条件を満たす他のラスターライン走査順序を使用することができる。例えば、32、34、38、36、40、42の順でもよいし、32、36、34、40、38、42の順でもよい。
【0129】
ある望ましい装置において、最小限の走査数でこれらの実施の形態を普遍的な方法で完全に実行するためには、1つのジェット(例えば第1のジェット)で走査されるラインとそのジェットに隣接するジェット(例えば第2のジェット)で走査されるラインの間には奇数本のラスターラインが存在する必要がある。言い換えれば、ジェット間の間隔drの数が偶数であり、2つの隣接するジェットはそれぞれM番目とM+N番目(M、Nは整数で、Nは偶数)のラスターラインを走査するように位置させる必要がある。ジェット間の間隔が適切でない(例えば偶数でない)ときに、適切なラスターライン(1つ置きのジェットに対応するラスターライン)のみを最初の走査で走査し、残りのラスターラインをその後の1回または複数回の走査で走査することは常に可能である。供給の幅がラスターライン間隔よりはるかに広いため、他の望ましい実施の形態では最初の走査で1本置きのラスターラインを走査する飛び越しでなく、供給された材料の線が直接接触しないように最初の走査で供給される走査線を選択し、次に飛ばされたラスターラインをその後の1回あるいは複数回の走査で充填するという形が取られる。
【0130】
この飛び越し技術の第1の変更例は、隣接するジェットが所望の走査線解像度に対して不適当に位置されていたとしても(すなわち、あるジェットによって走査されるラインとその隣のジェットによって走査されるラインの間に偶数本のラスターラインが存在するとしても)、完全またはほぼ完全に実行することができる。これには少なくとも次の3つの方法がある。1)各ジェットによって、そのジェットの最初の位置と隣接するジェットによって走査すべきラインとの間のラスターラインを1本置きに、そのジェットによって走査すべき互いに隣接する少なくとも2本のラスターラインを残して、走査し、残りのラスターラインを2回目以降の走査によって走査する。2)各ジェットによって、そのジェットに隣接するジェットによって走査される1本目のラインに隣接するラインまで、ラスターラインを1本置きに走査し、2回目の走査によって残りのラインを走査する。3)走査の際に1個置きのジェットのみを使用し、使用されるヘッドの内で互いに隣接する2個のジェットの間に常に奇数本のラスターラインが存在するようにする。これらの実施の形態においては、上述の実施の形態同様、中間のラインを走査する2回目の走査の前に、層全体にわたって1本置きにラスターラインを走査するのが望ましいが、隣接する各1対のジェットの一部または全部の走査開始点間の全てのラスターラインを走査しきった後に、残りの部分の1回目の走査を行うようにしてもよい。
【0131】
本明細書の開示に照らして、当業者はこのほかにも多くの飛び越し走査の実施の形態を容易に考えることができるであろう。例えば、より多い走査回数で飛び越しを行ってもよいし、最初の走査で形成されるライン同士がある程度接触するような飛び越しでもよい。また飛び越しを上述のランダム化技術とどのように組み合わせてもよい。さらに、その次の層の走査の際には、走査順序、ラインの組み合せ、ライン自体の走査方向等を変えてもよい。例えば、第1回目の走査で走査されるラインの組、第2回目の走査で走査されるラインの組、等々の走査順序を変えてもよい。また、最初の層の飛び越し走査が終わらないうちに次の1層ないし複数層の形成を始めてもよい。
【0132】
滴下位置飛び越し
走査線飛び越しと同様に、各走査線に沿って滴下位置飛び越しを造形に使用することができる。この場合、各走査線は少なくとも2回走査され、最初の走査では滴下位置の一部に材料滴が滴下され、次の1回または複数回の走査で残りの滴下位置に材料滴が滴下される。例えば、2工程(2回の走査)の例では、1個置きの滴下位置に1回目の走査で滴下し、中間の滴下位置に2回目の走査で滴下する。これが第12a、12b図に示されている。第12a図はそれぞれ9つの滴下位置を有する4本の走査線を示し、1回目の走査によって1つ置きの滴下位置に滴下することを示しており、第12b図は同じ走査線の残りの滴下位置に滴下することを示している。2工程の第2の例においては、1回目の走査で2つ置きの滴下位置に滴下し、各2個の中間の滴下位置には2回目の走査で滴下する。3工程の例では、1回目の走査で最初の滴下位置から始めて4つ置きの滴下位置に滴下し、2回目の走査で3番目の滴下位置から始めて4つ置きの滴下位置に滴下し、3回目の走査で2番目の滴下位置から始めて1つ置きの滴下位置に滴下する。
【0133】
本明細書に開示されている他の全ての実施の形態同様これらの実施の形態も他の実施の形態と組み合わせて使用することができる。
【0134】
これらの飛び越し技術では一連の走査線を線毎に異なるあるいは、ずれた飛び越しパターンを使用して走査し、2次元的な飛び越しパターンが得られるようにしてもよい(画素オフセットを使用してもよい)。例えば、隣り合う走査線での滴下開始点を1画素分だけずらして、各走査線に2工程飛び越しパターンを使用して、1回目の走査による滴下パターンが市松模様状となるようにしてもよい。第13a、13b図にはこの例が示されている。第13a図は1回目の走査による市松模様状の滴下パターンを示し、第13b図は2回目の走査による(1回目のパターンに対して相補的な)市松模様状の滴下パターンを示している。
【0135】
走査線飛び越しと同様に、滴下位置飛び越しにおいても単一のライン上の全ての滴下位置への滴下が終了してから次のラインへの滴下を始めてもよいが、全てのラインに対して一様に1回目の走査による滴下をし、次に2回目の走査による滴下をするという風にするのが望ましい。またあるラインのある部分内の滴下位置に対する全ての走査が終わった後に、他の部分の走査を始めるようにしてもよい。
【0136】
第3の飛び越し技術は形状感応型の飛び越しである。この技術においては、滴下位置への滴下順序が当面の断面の形状あるいはその前後の複数の断面の形状に応じて決定される。この形状感応型の飛び越しは走査線飛び越しおよび滴下位置飛び越しのどちらか一方あるいは両方を使用してよい。例えば、単一の層の形状に応じて滴下順序を決める場合には、その断面の縁領域を決定し、その縁領域の滴下位置に1回目の走査で滴下する。その断面の内部領域の一部の滴下位置にも1回目の走査で滴下してもよいし、また断面の内部領域の全ての滴下位置の滴下は2回目以降の走査で行うようにしてもよい。例えば、内部領域の滴下と縁領域の滴下を市松模様状の飛び越しパターンで1回目の走査で行い、2回目の走査で残りの滴下位置に滴下してもよい。また、前記縁領域を滴下位置2つ分以上の幅として、1回目の走査によってその縁領域の滴下位置に滴下し、2回目以降の走査の前に幅の広い縁領域が断面の周囲に形成されるようにしてもよい。この幅の広い縁領域の滴下は前述の材料滴幅補正において説明した間引きを使用して実行してもよい。この場合各走査線の両端の滴下位置(副走査方向に沿った縁領域)の一方のみに1回目の走査で滴下するようにしてもよい。また縁領域の滴下の前に内部領域全体のあるいは一部の滴下を行うようにしてもよい。縁領域の滴下を先に行うことによって、垂直方向への材料の積み上げが促進されるが、逆に縁領域の滴下を最後に行うと物体の水平方向の精度が高くなると考えられている。さらに、縁領域に近い部分にまず滴下し、さらにその内部の領域に滴下し、最後にその外側の縁領域に滴下するようにしてもよい。
【0137】
複数の層の形状に応じて滴下順序を決める場合には、当面の断面の一部を形成するとともに、直前の断面の縁領域もしくは中実の内部領域をなす滴下位置からまず滴下する。直前の断面の縁領域もしくは中実の内部領域は支持構造の縁領域もしくは中実の内部領域および物体部を含む。この実施の形態では、少なくとも臨界的な(重要な)物体の下向きの領域を形成する滴下位置への滴下は、その下向きの領域が実際に何らかの構造(例えば、真下の支持柱)によって支持されていない限り1回目の走査では行わない。2回目以降の1回または複数回の走査で、支持されていない下向きの部分を形成するように材料の供給がなされる。滴下幅は一般に画素幅より大きいから、同一断面の上で先に滴下された材料に隣接する画素位置に向けて発射された材料滴は、その断面の下の断面に向かって落下せずに隣の先に滴下された材料に当たってそれに付着する傾向がある。望ましい実施の形態では支持構造の間隔は一般に1画素分以下であるから、支持されていない下向きの部分を形成する材料滴は当面の層の先に滴下された材料の間に引っかかり、その下の層には行かない傾向が強い。しかしながら、材料滴の径は一般に滴下後の径(落下してつぶれた材料滴の径)より小さく、また画素幅より小さいこともあるから、隣の画素位置に滴下された材料が落下する材料滴の飛行路内に充分に進出せずその材料滴を止められない場合もある。
【0138】
他の望ましい実施の形態においては、支持されていない下向きの領域、望ましくは隣接する領域を含めて、に材料を供給する場合に滴下位置を主走査方向と副走査方向の少なくとも一方に(望ましくは両方に)画素幅の何分の1か(望ましくは画素幅の約1/2)ずらし、材料滴が正確に本来の位置に滴下されたときと比べて前に供給された材料によって少なくとも部分的に支持されやすくする。部分的にしか支持されない領域への材料滴の滴下は全体が支持される領域への滴下の後の走査で行うのが望ましい。しかしながら、少なくとも部分的にしか支持されない領域における材料滴の垂直方向の位置を適正のものとするのに(当面の層内で先に滴下された材料との付着に頼らずに)先行の断面との重なりのみに依存することも可能である。この実施の形態では、当面の層の少なくとも支持領域(例えば、柱)はずらされない。これによって、層と層との整合が得られる。また広い間隙は、間隙の支持された側からの複数回の走査によって、各走査における滴下位置を直前の走査における滴下位置に対して材料滴が所望の高さを越えて上方に積み重ならないように適度にずらしながら、段階的に内側に向かって層を成長させて閉鎖するのが望ましい。またある望ましい実施の形態においては、下向きの層を形成する材料が正しい高さに位置するように1枚ないし複数の下向きの層のデータをオフセットするのに、前述の米国特許出願No.98/428,951に開示されている多数層同時硬化法が使用される。
【0139】
1/2画素分の水平方向オフセットと1層分の垂直方向オフセットを使用した多段階水平垂直オフセットの例が第23a〜23h図に示されている。第23a図は形成すべき物体120の側面図である。第23b図は通常ならば物体120が層122、124、126、128、130から形成されることを示している。第23c図はこの例では、物体120が層122、124、126、128’、130’から形成されることを示している。層128’は層128とは下向きの部分が無いという点で違っており、その下向きの部分はオフセット供給により次の層の形成の時に形成される。層130’は層130と似ているが層130とは異なる滴下パターンによって形成される。第23d図には層122、124、126、128’に加えて、層130’を形成する際の滴下位置(画素位置)132〜137が示されている。第23e図は第23d図と似ているが、滴下位置132〜137の替わりに滴下位置140〜146が示されている。両図の比較から明らかなように、滴下位置132〜137と140〜146では互いに1/2画素分だけずれている。第23f図は層130’を形成する際の1回目の走査によって形成された滴下パターンを示している。材料滴150、151、152、153はそれぞれ滴下位置141、145、142、144において滴下されたものである。図から明らかなように、材料滴152、153は層128’によって部分的に支持されているのみであり、結果として材料滴152、153は本来層128に属する部分に一部延びている。第23g図は1回目の走査による滴下パターンに加えて、2回目の走査による滴下パターンを示している。領域160、162は1回目の走査で滴下されたものであり、第23f図では領域150、152、151、153で示されていたものである。2回目の走査での滴下は第23d図に示された画素配置によってなされる。材料滴155、156は滴下位置132、137で滴下される。滴下された材料滴155、156は領域160、162上で当初は余分の材料となるが、余分な分は平滑化工程で除去される。材料滴157、158が滴下位置134、135で滴下されるが、滴下位置134、135はその下方が前に供給された材料で完全に仕切られていないから、滴下された材料の一部が本来層128の一部であった部分に流れ込むと考えられる。材料滴152、153、157、158のオフセット滴下によって、層128’では除去されていた層128の下向きの部分が形成される。3回目のすなわち最終の走査では滴下位置143で材料滴164が滴下され層130’が完成される。
【0140】
上記の例の種々の部分を変更することができる。例えば、下の層領域への材料の展がりは(材料滴もしくは滴下位置が部分的にしか支持されていないときに生じると考えられる)上記の層1枚分の厚さで生じるとは限らない。そのような材料の展がりは層1枚分より小さくてもよく、少なくとも層の厚みの整数倍である必要はない。そのような材料の展がりは層の厚みの整数倍(例えば2〜5倍)であることもある。このような場合に、最も精度よく造形するためには、米国特許出願No.08/428,951に記載されているように、最初の物体表現を断面データの生成前または後に、変更した表現に変換し、その変更した表現にしたがって材料を供給して、下向きの領域の底部が正しく位置せしめられるようにするのが望ましい。他の変更例は画素の1/4のオフセット(滴下領域の3/4は支持されない)、画素の3/4のオフセット(滴下領域の1/4は支持されない)等の異なるオフセット量を用いるとともに複数回の走査によって形状に即した滴下を行う。このようにオフセット量を異ならせることによって先行層の領域内に展がる材料の量をより正確に制御することができる。さらに、滴下順序を変えてもよいし、オーバープリントの量を変えてもよいし、個々の材料滴内の材料の量を変えてもよい。また画素オフセットを使用せずに、高密度に画素を配し、滴下パターンを所望の材料滴密度が得られるようなものにしてもよい。
【0141】
さらに他の飛び越し技術においては、1)形状感応性と、2)走査の向きの選択とを組み合わせて使用する。この実施の形態では、当面の層からの断面の形状情報(例えば、断面の縁に関する情報)と直前の層(あれば)からの断面の形状情報(例えば、断面の縁に関する情報)とを使用して、その断面の異なる領域に滴下する際の走査の向きをどうするか決定する。例えば、ある断面の中実の領域の左端部分に滴下する場合に、材料滴がどんな小さな間隙でも少なくとも部分的にでもまたがない方がよい場合にはヘッド(すなわち形成すべきラインに滴下するのに使用されているジェット)が左から右に走査する方が望ましいであろうし、逆にある程度の架橋が起きる方が望ましいときにはヘッドが逆の方向に走査する方が望ましいであろう。同様に、ある断面の中実の領域の右端部分に滴下する場合に、架橋が起きないのが望ましい場合には、ヘッドが右から左に走査する方が望ましいであろうし、逆にある程度の架橋が起きる方が望ましいときにはヘッドが左から右に走査する方が望ましいであろう。このように、縁の領域に滴下する際に走査の向きを制御することによって、材料滴の水平方向の運動量が間隙の架橋に貢献するようにすることもできるし貢献しないようにすることもできる。
【0142】
架橋が起きないようにする方法の一例が第24a〜24d図に示されている。第24a〜24d図は形成中の2本の柱をXZ平面で切った側面図である。Z方向は断面に垂直であり、X方向は主走査方向である。108はこれから形成すべき断面を示し、100、102、104、106は先に形成された断面である。第24a図には、材料の供給が始まる前の断面108が破線で示されている。第24b図は最初の走査において、各柱の左端に材料滴112を滴下するときに走査の向きが左から右であることを示している。第24c図は2回目の走査において、各柱の右端に材料滴114を滴下するときに走査の向きが右から左であることを示している。第24d図は3回目の走査において材料滴116、118、120、122を滴下して断面108を完成させる際には走査の向きは矢印126で示すようにいずれでもよいことを示している。この例では3回の走査が使用されるが、2回の走査で行うこともできる。例えば、材料滴116、118、120、122を、1回目ないし2回目の走査において材料滴112あるいは114を滴下するときに滴下してもよい。
【0143】
プリントヘッド(ジェット)の相対走査方向に対して物体の向きを変えることによって(例えば、垂直軸の周囲に1回または複数回回転させる)、所望の断面形状のどの縁部も狭い間隙を架橋する可能性を強めたり弱めたりするのに都合の良い向きにプリントヘッドを移動させながら形成することができる。
【0144】
前述のように、オリフィスプレート10と作業面の距離が小さ過ぎると、材料滴が作業面に当たるときの形状が細長くなる(アスペクト比が大きくなる)。細長い材料滴で造形するときには、中実部の縁に滴下するための走査の前述の向きは逆の結果をもたらすと考えられる。他の飛び越し技術では、隣接するラスターラインもしくは隣接しないラスターラインを2方向に走査する。
【0145】
上述の各造形技術は中実の物体を形成するのに適用できるし、また他の技術と組み合わせて部分的に中空あるいは半中空の物体を形成するのに適用することができる。物体の元々の設計の際には、物体のある部分は中実で(硬化した材料で占められ)ある部分は中空(空の領域)であると考えられる。実際には、定義上物体が存在するところには必ず材料があると考えられるから、この故意に形成される中空領域は物体の一部とは見なされない。本発明の説明の文脈でいえば、中実でない、中空のあるいは半中空の物体は、中実の物体であるべき物の一部を除去したものとして、本発明の望ましい実施の形態の照らすところにより形成される物体である。この典型例は、元々物体の中実構造であった物のくりぬき、部分くりぬき、あるいはハニーカム化である。これらの元の中実構造は、空間的な向きと関係なく物体壁と称せられることがある。ある望ましい実施の形態の造形スタイルでは、完全に中実の物体が形成されるし、また他の望ましい実施の形態の造形スタイルでは、表面領域では中実であるが内部は完全にまたは一部くりぬかれた物体が形成される。例えば、物体の内部は市松模様状でもよいし、網目状でもよいし、六角形状でもよいし、タイルを貼ったようなものでもよいし、ハニーカム状でもよい(これらの造形スタイルおよびここで有用な他の造形スタイルは光ベースのステレオリソグラフィーでも用いられるものであるが上述の特許および特許出願に開示されている)。また上記非中実の供給パターンは物体の内部支持構造と見なすことができる。同様に本明細書で開示する他の支持構造は物体の内部支持構造としても使用することができる。このような非中実の物体は外形が同じ中実のものに比べて重量が小さく、使用する材料の量が少なくて済み、造形パラメーターの詳細によってはより短時間で形成することができ、また造形中の加熱材料の供給が少ないため、熱の発散が問題になる可能性も少なくて形成することができる。このような物体は、クラックが入る可能性が小さいため、テスト用の鋳型パターンとして有用である。
【0146】
温度制御
さらに他の実施の形態では、造形中の物体は造形に望ましい温度範囲に維持されるか、もしくは少なくとも各部間の温度差(温度勾配)が小さく維持される。物体の造形中に物体の異なる部分が異なる温度であると、その物体が室温に冷却されるときあるいは使用温度に冷却されるときに、各部分によって収縮率が異なることになる。この収縮率の差は物体内に応力を発生させ、変形や破損の原因となる。したがって温度差は物体の変形を許容範囲内に維持できるような範囲内に維持するのが望ましい。物体内の温度差は、20℃以内であるのが望ましく、10℃以内であるのがより望ましく、5℃以内であるのがさらに望ましく、3℃以内であるのが最も望ましい。いずれにしろ、望ましい温度は、材料の熱膨張率と形成された物体を均一温度に冷却(または加熱)するときに生ずる収縮(あるいは膨張)の差を考慮することによって推定できる。もし収縮の差が所望の許容範囲外であるときには、上述の温度範囲を調節する。
【0147】
物体の形成の際には、物体が材料のジェット温度(望ましい実施の形態では約130℃)から材料の硬化温度(約50℃〜80℃、ピークDSCエネルギー移送温度約56℃)に、造形温度(約40℃〜45℃)に、さらには使用温度(例えば室温、度約25℃)に冷却されるときの寸法の変化を考慮して最初の物体データを増減してもよい。この時の増減係数は、使用温度において物体の大きさが所望のものとなるように、熱収縮を補償する分だけ最初の物体設計を大きくするのに使用することができる。さらに、1つまたはそれ以上の、形状依存性の、または少なくとも軸依存性の収縮率を使用して、物体の重要な部分に対して造形中の物体温度の予想される変化を少なくとも一部補償することができると考えられる。
【0148】
前に形成された層の温度と形成中の層の冷却速度が、歪みの少ない、特に湾曲の少ない物体を形成する上で重要なパラメータであることが分かった。現在のところ望ましい材料は硬化温度から室温に冷却すると約15%収縮する。この収縮は湾曲、内部応力の生成および加工後変形(上述の特許および特許出願に光りベースのステレオリソグラフィーの関連で記載されている、そこに記載されている技術の多くが本明細書の教示に照らしてSDM、TSLの実施に有効に使用することができる。)の大きな誘因となる。物体造形温度、特に最後に形成された層の温度、が造形中室温より高い温度に維持されていると湾曲が小さくなることが分かった。造形中の物体全体の温度が室温より高いのが望ましく、特にその温度が上述の収縮差を制限するための厳しい許容範囲内にあるのが望ましい。
【0149】
効果的に物体を形成するためには、造形中の物体温度を材料の融点より低く保たなければならないのは明らかである。さらに造形温度は、造形に伴う一般的な力(例えば、物体にかかる慣性力、物体に接触したり、物体の近くを通ったりする平滑化部材やプリントヘッドによって引き起こされる引きずり力や真空吸引力、物体を冷却するための空気流の圧力、物体自体の重力)が働いても物体が精度良く形成できるように、硬化した材料が充分な剪断強さ、圧縮強さ、さらには引っ張り強さ(特に横向きにしたり逆さにしたりして物体を形成する場合に)を持ち得る温度より低い温度に維持しなければならない。これらの力のうちのあるものは物体の質量に依存し、奥になるほど大きくなる。したがって、上の層から下の層へのわずかな負の温度勾配(最後に形成された層から最初に形成された層に向かって温度が低下する)は必要領域の強度を大きくするとともに、最後に形成された(最新の)1枚ないし複数の層が湾曲等の変形を抑えるのに充分な高温であることを許容する。硬化した材料が要求する最小剪断強さの近似値として、単純な重力の計算値とその物体の1カ所ないし数カ所の慣性力の計算値(物体の質量とその物体にかかるY方向加速度に基づいた)との和を使用することができる。この値と、実験的に定められる材料の剪断強さの温度変化との組み合わせを用いて、物体内の各位置における造形温度の上限値の近似値を推定することができる。もちろん、物体の最新の層に近い部分では、他の要素も考慮に入れるのが望ましいが。動的熱作用が造形中の物体と供給される材料との界面で生じ、物体形状のパラメータ、温度差、冷却方法に依存する再溶融現象や熱容量現象が起きるから、実際の全体的な最高造形温度は上記の推定値より多分低くなると思われる。
【0150】
一方、前述のように、湾曲等の変形は高温で造形することによって大幅に減少させることができ、温度が高ければ高いほど、歪みが小さくなる。この歪みの減少は、高温では材料の流動性が高く、剪断荷重を支える能力が低いために材料の再分配が生じ、歪みの原因となる応力が弱くなるためであると仮定されている。さらに、造形温度がいずれかの固相変化温度(例えば、結晶化温度あるいはガラス転移温度)か、その近くか、望ましくはそれより高いと、応力および歪みが最も速く減少し、場合によっては最も大きく減少すると仮定されている。これらの相変化は一般に、広い温度範囲で起きるから、造形温度がその温度範囲のどの温度であるかや、造形時間に応じて様々なレベルの利益が得られると考えられる。溶融温度や硬化温度および固相転移温度は示差走査熱測定(Differential Scanning Calorimetry: DSC)によって決定することができ、それによって適切な造形温度範囲を決定することができる。また、適切な造形温度範囲は実験的にも決定することができる。室温以上のどんな温度で造形しても何らかの利益が得られることが分かっており、造形温度が溶融温度や硬化温度に近づくにつれて、得られる利益も大きくなる。したがって、造形温度は温度差に沿った、室温と溶融温度あるいは硬化温度の間の距離、あるいは室温と推定最小剪断強さの温度の間の距離の何%かに設定されることになる。あるいは、室温における剪断強さの何%かの剪断強さを材料が持つ温度に造形温度を設定してもよい。例えば、剪断強さが室温における最大剪断強さの75%、50%、25%、10%となるような温度に造形温度を設定してもよい。
【0151】
表面仕上げの向上
物体の表面仕上げを向上させるために有用な実施の形態の造形方法では、望ましいSDM技術によって得られる上向きの面の外観的に優れた面を利用する。この実施の形態では、実効的に上向きの面の数を増やし(例えば、全表面を実効的に上向きとし)、実効的に下向きの面の数を元々の物体設計における下向きの面の数より少なくする。このためには、物体を2個あるいは3個以上の部分に分割し、できるだけ多くの重要な面が上向きの面、垂直の面、あるいは上向きと垂直面の組み合わせとなり、実際には外面とならない面もしくはさほど重要でない面のみが下向きの面となるように各部分の向きを変える。そして各部分をそれぞれ適切な向きに支持して別々に造形する。その後、支持体を外して、接着等によって一体にして所望の物体を完成させる。滑らかな面より粗面が望ましいときには、上述の方法によって、重要な面を下向きの面として形成する。上向きの面に支持体を形成して、その面を荒らすようにしてもよい。
【0152】
このような造形法の一例が第25a〜25e図に示されている。第25a図はSDMを使用して形成すべき物体60の形状(所望の物体設計)を示すものである。もしこの物体をこの設計から直接形成すると、上向きの面(50、52、54)と下向きの面(56、58)の両方を形成することになる。上述のように、下向きの面を形成するためにはまず支持構造を形成し、その支持構造を作業面として、その上に下向きの面を形成する材料を供給しなければならない。物体の形成が終わり、支持構造が取り除かれると、下向きの面は粗い凸凹の面となっている。その下向きの面を滑らかにするためには、ペーパーかけや、ヤスリかけ等の細かな後処理が必要となる。
【0153】
第25b図は上述の技術の最初の工程を示している。この最初の工程においては所望の物体を2個または3個以上の部分に分割する。この時に、その物体の重要な面が全て、垂直な面か上向きの面のいずれかとして(望ましくは上向きの面として、さらに望ましくはその上方に下向きの面のない上向きの面として:上方に下向きの面があるとその上向きの面に支持部材を形成する必要があり、その支持部材によって上向きの面が傷つけられる)形成できるように分割する。支持部材の形成とそれに関する問題の詳細について以下説明する。この例では、面50、52、54、56、58の全てが重要であり上向きの面として形成するものと仮定する。
【0154】
第25b図に示すように物体60を2つの部分62、64に分割する。部分62は元々の外向きの面50、52、54とこの分割によって外向きとなった面72、74を備えている。部分64は元々の外向きの面56、58とこの分割によって外向きとなった面72’、74’を備えている。
【0155】
部分62を第25c図に示すような向きとすれば面52、54、56は全て上向きの面として形成することができる。部分64を第25d図に示すような向き(逆さ)とすれば面56、58はともに上向きの面として形成することができる。各部分62、64を形成した後、支持部材を除去し、面72、72’の組、および74、74’の組を接合するための下工作をする。次に第25e図に示すように部分62、64を結合して物体60を形成する。この物体60における重要な外向きの面(元々の外面50、52、54、56、58)は全て良好な表面仕上げになっている。
【0156】
他の造形スタイル
他の造形スタイルは次の少なくとも1つを含む。1)走査方向により高い解像度で滴下する。2)物体の内部領域を形成するのに比べて、下向きの表面相を形成する際に単位面積当たりの材料滴密度を高くする。3)下向きの層の上の少なくともN(例えば5〜10)枚の層に延びる下向きの表面領域を使用する。4)物体の内部領域を形成するのに比べて、上向きの表面相を形成する際に単位面積当たりの材料滴密度を高くする。5)上向きの層の下の少なくともN(例えば5〜10)枚の層に延びる上向きの表面領域を使用する。6)物体の内部領域を形成するのに比べて、物体の縁の領域(内部に向かって少なくともL(例えば2〜4)滴分の幅だけ延びる)を形成する際に単位面積当たりの材料滴密度を高くする。7)ラスタースキャンによって物体内部を形成し、ベクトル走査によって縁の領域を形成する。
【0157】
支持スタイル
本出願の次の部分は主に支持構造の形成についてである。しかしながら、支持構造も滴下された材料から形成されるものであるから、上述の造形技術は全て支持構造の形成に使用することができるし、支持構造の形成技術は全て物体の形成にも使用することができる。
【0158】
支持構造は次のような時には互いに相反する複数のニーズに応える必要がある。1)望ましくは、物体の層および必要に応じてその上の支持体層を形成する良好な作業面を形成する。2)支持する下向きの面から容易に除去できるのが望ましい。3)上向きの面上に設けられるときにはその上向きの面から容易に除去できるのが望ましい。4)除去したときに下向きの面あるいは上向きの面に与える損傷が小さく、下向きの面や上向きの面の良好な表面仕上げに対する耐性を少なくとも有する。5)垂直方向(例えばZ方向)に許容できる速度で積み上げることができるのが望ましい。6)できるだけ少ない走査回数で形成することができるのが望ましい。7)その形成が信頼できるのが望ましい。これらのニーズを様々に折り合わせた多くの支持スタイル(支持構造の断面パターン)が開発されたり、提案されたりしている。
【0159】
造形速度を上げるためには、垂直方向の積み上げ速度が重要であり、したがって支持構造の積み上げ速度が物体部とほぼ同じであるのが望ましい。特に、支持体部の垂直方向の積み上がりが(例えば1回の走査での)、平滑化部材の使用に設定されている所望の層厚以上であるのが望ましい。支持体部の積み上げが物体部の積み上げに近くなる程、使用可能な層厚が大きくなり、平滑化の際除去される材料の量が減り、したがって造形効率が向上する。与えられた材料と装置については、各支持スタイルおよび造形スタイルにおける材料の垂直への積み上がりは、前述のように層厚(平滑化高さ)を変えながら各供給スタイルないし供給パターンでテスト物体を造形し、そのテスト物体を計測して、積層された層の数と予定の層厚によって決まる予定の厚みよりも材料の積み上げがいつ小さくなったかを決定することによって実験的に決定することができる。この情報に基づいて、所望の造形スタイルと支持スタイルの組み合わせに対して層厚(平滑化高さ)を適切に設定することもできるし、逆に所望の層厚を得られるように造形スタイルと支持スタイルを設定することもできる。
【0160】
ある望ましい支持スタイルでは形成速度が速くなり、支持構造の除去も容易であるが、除去された支持構造の跡の表面が粗く残る。この支持スタイルでは狭い間隙で隔てられた複数の中実の柱が形成される。例えば、X、Y両方向に300画素/インチの割合でデータが供給され、物体部と支持部がX方向(主走査方向)に4回のオーバープリントによって形成される。各層の各支持部(柱)はそれぞれ3画素x3画素で構成され、柱と柱は主走査方向(X方向)に2画素分間隔を置かれ、副走査方向(Y方向)に1画素分間隔をおかれている。この時のデータ配列が第15図に示されている。第15図において、”X”は”滴下”のデータを有する画素を示し、”0”は”不滴下”のデータを有する画素を示す。正方形50は各柱の形状を明確にするためにその柱用の滴下ゾーンをそれぞれ囲むものである。しかしながらX方向のIDオーバープリントのために実際に滴下が行われると2画素分の間隔は相当に(ほとんど1画素分)狭められる。したがって実際に得られる滴下パターンは第18図に示すように、X、Y両方向に1画素分(3.3ミル)間隔をおいた、角の丸まった4画素x3画素(12〜14ミルx9〜10ミル)の長方形に近くなる。
【0161】
実際の造形において、上記構造の支持構造が物体部とほぼ同じ速度で垂直方向に成長し、したがって各層において支持部と物体部の両方を形成するのに各滴下位置に対してプリントヘッドを1回走査すればよいことが確認された。さらに上記の支持構造は物体部から容易に分離することができるが、下向きの面のその支持部の跡が悪い表面仕上げとして残ることも確認された。このように、上記の支持スタイルは造形速度の面では望ましいものではあるが、表面仕上げの面ではまだ相当に改良の余地がある。
【0162】
ある変更例では、断面の支持部を形成するのにプリントヘッドの複数回の走査を使用する。また他の変更例では、物体部と支持体部とで垂直方向の成長速度を同じにするために、定期的に追加の支持部断面を供給する。
【0163】
さらに他の変更例では、支持部の形成が1層ないし数層分物体部より遅れるのを許し、それによって脆い支持部が形成されるときに生じやすい平滑化における問題を解消もしくは抑える。平滑化における問題とは、支持部が物体部と同じ走査で供給された場合に平滑化部材がその支持部を歪めてしまうことがあるという点である。支持部の形成を1層ないし数層分物体部より遅らすことによって、支持部と平滑化部材の過度な接触が回避され、それによって支持部の歪みが抑えられると考えられる。
【0164】
他の寸法や形状の柱等、他の柱状支持構造も可能である。例えば、データフォーマット技術とオーバープリント技術を組み合わせて、ほぼ3画素x3画素(9〜10ミルx9〜10ミル)、2画素x3画素、3画素x2画素(以上においては垂直方向の成長が落ちるかも知れない)、2画素x2画素(6〜7ミルx6〜7ミル)(垂直方向の成長が無いかも知れない)、4画素x4画素(12〜14ミルx12〜14ミル)(除去が困難になり、物体面の損傷が大きくなるかも知れない)、あるいはより大きな柱を形成することもできる。また他の断面形状の柱も使用できる。例えば、より円に近い形状の構造(例えば、8角形や6角形)、十字状構造、他の縦横比の構造、あるいは様々な構造の組み合わせを使用することができる。
【0165】
他の変更例では、支持柱を主走査方向と副走査方向の一方または両方に交互にオフセットさせる。例えば1本置きの柱を副走査方向に柱の間隔の半分だけオフセットさせてもよい。これが第19図に示されている。特に物体の下向きの面に達する前の支持柱間の間隔を小さくするためのアーチ状支持柱、枝分かれ支持柱等を使用する場合には支持柱間の間隔を大きくできる。アーチ状支持柱の、オフセット画素数の異なる(少なくとも滴下位置制御において)2つの例を第21a、21b図に示す。
【0166】
枝分かれ支持
何回か上記したように、ある望ましい実施の形態では”枝分かれ”支持ともいうべき支持構造が使用される。上述のアーチ状支持構造もこの枝分かれ支持の一例である。枝分かれ支持構造とは、ある層の一部が直前の層の硬化した領域から外方に片持ち梁状に延びるように形成した支持構造である。この外方への延長部はどの層においても同一の画素位置から延ばしてもよいし、何枚かの層あるいは全ての層の間において画素幅の何分の1かずつずれた位置から延ばしてもよい。また何枚かの層あるいは全ての層の間において画素パターンを変えてもよい。この枝分かれ支持の実施の形態によっては、支持すべき面における個々の支持体の数が、”幹”になる(下の層においてそこから支持体が枝分かれする)支持体の数より多くなる。
【0167】
上述の様々な実施の形態(これらは本質的に枝分かれ支持構造と見なすことができる)の他に、第28a、28b、29a〜29e、30a〜30m、31a〜31c、32a〜32d図に示すものも望ましい枝分かれ支持構造として使用することができる。第28a図は面500から面502に向かって延ばす支持柱504、506、508の側面図である。これらの支持柱は枝部材510、512、514、516で互いに結合されている。第28b図は面500から立ち上げて面502に向かって延ばす枝分かれ支持構造の一例の側面図である。この支持構造においては2層毎に枝分かれする。この2次元的な図では、フォーク状に二股に枝分かれしているように見える部分もあるし、単に一方の方向に張り出しているだけのように見える部分もある。この第28b図の支持構造を異なる方向から見た図が31a〜31c、32a〜32d図である。
【0168】
他の望ましい枝分かれパターンが第29a〜29e図に示されている。第29a〜29e図は、X方向のみに分かれる枝とY方向のみに分かれる枝を使用して1本の幹から4本の枝を形成した、1本の支持樹の異なる枝分かれ断面の平面図である。第29a図は、複数の支持構造に分岐される単一の支持構造を示している。この支持構造は支持樹の”幹”とも言えるものである。後に明らかとなるように、データ操作を容易にするために、その幹は4つの同一であるが区別でき、しかもどの層に対してもブール演算によって走査パターンを形成することのできる成分からなると見なされる。もちろん、実際には適切な間隔で配された複数の幹が必要になる。
【0169】
第29b図はX方向への第1の分岐を示している。以降の図において、ハッチングされた実線で示す領域は材料を供給すべき領域を示し、破線で示された領域は直前の枝を示すものである。この描き方は枝と枝との重なり具合を明確にするためのものである。この第1の分岐は1枚ないし複数枚の幹層を形成した後になされる。以下に説明する他の枝と同様に、供給された材料を支持された領域から外方へ張り出させることによって分岐がなされる。この張り出し量は形成順序、材料滴幅との比較における画素幅、形成すべき層の上に重ねられる同一の層(形成すべき層の瑕疵を補償する)の数、部分的にのみ支持されることに対する材料の適性、等に応じて、1画素分未満、1画素分、あるいは複数画素分とされる。以下に説明する他の枝のいくつかと同様に、この分岐も2方向への分岐(Xの正方向およびXの負方向)あるいは最初に重ねられた2枚以上の成分の1方向への分岐と見ることができる。以下の説明から明らかなように、第1の分岐は4つの成分のうちの2つが各分岐方向に延びる1方向への分岐と見なすことができる。この4つの成分からの実際の材料滴下は重なった部分への複数の滴下を避けるためにブールの和集合に基づいて行ってもよい。
【0170】
第29c図は2回目の分岐を示す。この2回目の分岐は第29b図の分岐の1層後に行っても複数層後に行ってもよい。この物体成分の分岐は第29b図と同じ方向に行われる。
【0171】
第29d図は第29c図の2本の枝のY方向の分岐を示している。この分枝も概念的には別々の成分のY方向への1方向分岐であると見なすことができる。第29d図に示す分岐は4つの成分の全てが分かれ始める最初の分岐である。
【0172】
第29e図は各成分のY方向へのもう1回の分岐が行われる本例における最後の分岐である。この最後の分岐は物体部の面を支えるのにも使用することができる。その物体面がこの最後の枝の数層上方にあるときには、29e図の構造(柱)を物体面に達するまで延ばせばよい。なお、その物体面が4つの枝に対して同一高さにないときには、個々の柱を必要なだけ延ばせばよい。この支持高さの延長は本明細書の他の望ましい実施の形態の支持柱においても同様であり、架橋層等を使用してもよい。4本分岐の支持構造の異なる構成(例えば、形状、位置、等)が望ましい場合には、図示の例に変更(例えば、分岐順序、分岐方向、延長量、枝間の層の数、等の変更)を加えてよく、そのような変更については本明細書の教示に照らして当業者には容易であろうと考えられる。第29a図に示す幹は先に形成された物体断面状に形成してもよいし、最初の基板上に形成してもよい。また第28a図に示すような他の支持構造上に幹を形成してもよい。さらに、複数の支持樹を形成する場合に、各樹の分岐は同じ層から始めてもよいし、異なる層から始めてもよい、また各枝を同数の層の形成の後に形成してもよいし、異なる数の層の形成の後に形成してもよい。分岐を何処で始めるか、次の分岐をいつ行うかについては形成すべき物体の形状に基づいて選択してよい。最終分岐パターンが、支持すべき面(例えば、物体部の下向きの面)に達する数層前に、最終分岐パターンが得られるようにするのが望ましい。
【0173】
第29a〜29e図に示した実施の形態の分岐手順をまとめると次の表のようになる。
【0174】
【表3】
上述のように上記表中の様々なパラメータを変更することができる。例えば、量Aは分岐の高さによって変えてもよいし、分岐の高さが同じでも成分によって変えてもよい。
【0175】
第30a〜30m図に示す枝分かれ支持構造は第29a〜29e図に示すものと似ているが、第30a図に示す1本の幹から第30m図に示すように16本の枝が分岐される。理解と実施を容易にするために、第30a図に示す幹は16の同一の成分からなると見なすことができる。ここでも、与えられた成分の与えられた分岐においてはオフセットはX方向、Y方向のいずれか一方のみになされる。第29a〜29e図に関して上述したことは第30a〜30m図に示す実施の形態および以下の実施の形態についても適用できるものである。第31a〜31c図に示す実施の形態では第31a図に示す単一の幹が第31c図に示すように4つの成分に分岐される。この実施の形態は第29a〜29c図に示すものと比べて、分岐がX、Y両方向に同時に行われる点が異なっている。図示のように本実施の形態では分岐の程度はX方向とY方向で同じであるが、異なっていてもよい。
【0176】
第32a〜32d図は第31a〜31c図に引き続いて行われ、最終的に16本の枝を形成するものである。またこれらの図は各枝に対して2枚の層が示されている第28b図の構造をより詳細に示すものである。
【0177】
以上の他の分岐パターンも使用することができる。例えば、各幹から分岐された複数の枝支持構造を上記各実施の形態のように長方形状に配列するのでなく、六角形、三角形、半円形等に配列してもよい。得られたパターンがうまく調和しない場合は、複数のパターンを混ぜて、下向きの面を適切に支持できるような最終的な支持構造が得られるように、異なるパターンを交互に使用してもよい。また複数の幹から1つの群の枝支持構造を分岐するようにしてもよい。
【0178】
これらの枝分かれ支持構造の実施の形態によって、物体と接触する最終的な支持構造がより均一な間隔となり、したがって他の望ましい実施の形態と比べて品質の良い下向きの面が得られると思われる。上述のように、このような枝分かれ支持構造は大きな支持構造や複合支持構造の一部をなしても良い。上述の実施の形態の変更については以上の教示に基づいて当業者には明らかであろう。
【0179】
上述の形状および方向感応型の飛び越し技術を使用すれば、許容し得る垂直成長速度を保証しつつ、よりよい作業面を提供することのできる、より径が小さく、且つ/あるいはより密接した支持構造を形成することも可能である。
【0180】
望ましい実施の形態では、滴下された材料滴の径は望ましい画素径(約2.9〜3.4ミル)にほぼ等しい。しかしながら、一般に、支持部材間の画素間隔(例えば、支持柱の間隔)は落下中の材料滴の径(例えば、2ミル)と落下後の材料滴の径の差程重要ではない。支持部材(例えば、支持柱)間の水平方向間隔は支持すべき下向きの面を含む面の直前の層において6材料滴径より小さいのが望ましい。その間隔はより望ましくは落下中の材料滴の径の3倍より小さく、さらに望ましくは落下中の材料滴の径の1〜2倍より小さい。
【0181】
支持柱が垂直方向に成長する際に所望のXY位置からずれるのを抑えるために定期的に架橋要素を用いると有効であることが分かった。一般には支持柱の径が小さいほど頻繁に架橋要素ないし架橋層が必要である。この架橋要素は1層ないし複数層分の高さである。望ましい実施の形態においては、架橋要素が1層(1〜2ミル)であると効果が充分でなく、5層(5〜10ミル)より厚いと支持構造全体が堅くなり過ぎる。3画素x3画素の支持体の場合は架橋要素の厚みは2層(2〜4ミル)から5層(5〜10ミル)であるのが望ましく、3層(3〜6ミル)であるのがより望ましい。さらに、架橋層が75ミルから2インチ毎に設けられるのが望ましく、100から300ミル毎に設けられるのがより望ましく、100から200ミル毎に設けられるのがさらに望ましいことが分かった。他の材料、他の造形パラメータ、他の造形条件の場合には、テスト物体の形成、分析によって有効な架橋層厚および架橋層間隔を決定すればよい。
【0182】
架橋層が定期的に使用される場合には、架橋層が全ての支持柱を結合するようにしてもよいし、1回の架橋では支持柱の一部のみを結合し、他の支持柱をその前後の架橋で結合するようにしてもよい。言い換えれば、架橋要素は中実の面を形成してもよいし、一部の柱のみを結合して部分的に中実(例えば、市松模様)な面を形成してもよい。支持柱のXY位置は架橋層の形成の前後で同じでもよいし、異なってもよい。
【0183】
物体造形速度を大きくするだけでなく、支持体をより除去しやすくするとともに下向きの面の表面仕上げを向上させることのできる他の望ましい支持構造として、市松模様支持構造として知られているものがある。この支持構造の断面形状が第14図に示されている。各ラスターラインに沿って1画素置きに(300画素/インチ)滴下が行われ、隣接するラスターラインでは滴下位置が1画素分ずれている。この支持構造のある望ましい形態では、IDオーバープリントは使用されず、DDオーバープリントあるいは複数回走査が使用されて、層毎の積み上げ量を増加させる。DDオーバープリントあるいは複数回走査を使用しないと、上述の望ましい実施の形態のいくつかにおいては約1.3ミルの層厚が得られるのに対して、このタイプの支持構造の場合には0.4〜0.5ミル以下の層厚しか得られない。このタイプの支持構造において、DDオーバープリントあるいは複数回走査を使用しないでも、IDオーバープリントを使用せずに、材料を単に薄い層(例えば、0.3〜0.5ミル)を形成するように供給することも可能である。余分の材料は平滑化の過程で除去されてしまうだけであるから、オーバープリントを必ずしも使う必要はない。ラスター走査が使用され、さらにオーバープリントを使用してもしなくても層形成速度は同じであるため、この技術による造形スタイルは4回のオーバープリントを使用する同等の造形スタイルに比べて約3から4倍遅くなる。このように造形時間は相当長くなるが、状況によっては、表面仕上げの向上がその造形時間の延長を充分補う。
【0184】
市松模様支持構造を使用する場合には、柱の一体性を確保するために、一定間隔(例えば、Z方向高さ30〜100ミル毎に)で架橋層を使用するのが望ましい。架橋層はその効果を確保するのに充分な数の層(例えば、上述の架橋層とほぼ同じ厚さ)からなる必要がある。滴下/非滴下市松模様は硬化部分が1材料滴幅(滴下幅)であり、硬化部分の中心間距離が1材料滴幅より大きく2材料滴幅より小さい。
【0185】
線支持構造(材料滴幅ベースで)は複数の線状部分からなる。各線状部分は幅がほぼつぶれた材料滴の径1個分であり、線状部分の延長方向の間隔は1材料滴幅より小さく(オーバーラップ)、延長方向に直角な方向の間隔は1材料滴幅より大きい。また線状部分の延長方向に直角な方向の間隔は2材料滴幅より小さいのが望ましい。
【0186】
N画素xN画素の支持柱の場合は、主走査方向にN画素滴下、1または2画素非滴下、副走査方向にN画素滴下、1画素非滴下とするのが望ましい。柱の幅および間隔は画素間隔、材料滴幅、および使用されるオーバープリントに応じて計算することができる。隣接する柱の滴下された材料間の間隔は1〜2材料滴幅より小さいのが望ましい。
【0187】
他の可能性のある支持スタイルとしては中実もしくは一定間隔で切れた線を使用することである。そのような線としては、幅が3画素幅(10ミル)より小さいのが望ましく、1〜2画素幅(3.3〜6.6ミル)以下であるのがさらに望ましく、間隔が1〜2画素幅(3.3〜6.6ミル)以下であるのが望ましい。このような支持部材は主走査方向に延びてもよいし、副走査方向に延びてもよいし、他の方向に延びてもよい。他の形式の支持構造としては物体の縁に沿った曲線状の支持部材を使用してもよい。また同一の断面内の異なる領域で異なる支持パターンを使用してもよい。また物体の縁からN画素(あるいは材料滴幅)分主走査方向にずれていてもよいし、M画素(あるいは材料滴幅)分副走査方向にずれていてもよい。
【0188】
また物体の面や縁領域を形成する材料とは異なる材料で支持部材を形成してもよい。さらに、物体に隣接する1枚ないし複数の層のみに異なる材料を使用してもよい。
【0189】
複合支持構造
選択積層造形に有用な他のタイプの支持構造としては複合支持構造がある。最も簡単な意味では、複合支持構造とは少なくとも2つの異なるタイプの支持構造を含む支持構造である。複合支持構造に使用する支持構造は支持構造の高さに応じて変えるのが望ましく、特にどの点での支持構造も物体の上向きの面や下向きの面からの距離に応じて変えるのが望ましい。例えば、支持構造を設ける点が下向きの面から所定の数(例えば、4〜9)の層だけ下に位置する場合は支持パターンを変える。支持部材の単位面積当たりの材料滴密度、すなわち材料滴密度比(単位面積当たりの滴下位置/非滴下位置の比)を下向きの面が近づくにつれて小さくしてもよい。この場合には、高材料滴密度比の支持構造から低材料滴密度比の支持構造に移行するときに1層ないし複数層の中間層を使用してもよい。
【0190】
さらに、材料滴密度比を上向きの面から離れる(例えば、4層以上離れる)につれて小さくしてもよい。この場合には、低材料滴密度比の支持構造から高材料滴密度比の支持構造に移行するときに1層ないし複数層の中間層を使用してもよい。支持構造を物体からの垂直距離だけでなく水平距離にも応じて変えることも考えられる。例えば、物体と水平方向に接する場合には物体から離れている場合に比べて異なるタイプの支持構造の方が有用な場合がある。第20図は複合支持構造の一例の側面図である。図示のようにこの支持構造は面23から延びて下向きの面24を支持する。面23は造形台でもよいし、造形中の物体の上向きの面でもよい。この支持構造は次の5つの成分からなる。(1)面23と接する細い繊維状の柱25(面23が物体の上向きの面でない場合にはこの成分は無くともよい)、(2)その繊維状の柱25の上に設けられる、よりしっかりした柱26、(3)中間層27(最終架橋層)、(4)その中間層の上に設けられ、下向きの面24と直接接触する細い繊維状の柱28、(5)2本以上の前記柱26を結合する、柱26間の様々な位置に分散された架橋層29。
【0191】
細い柱25、28はともに断面が1画素分(3.3x3.3ミル)であり、第14a図に示すように市松模様を形成している。その結果、1画素間隔で配され、面23、24から容易に分離することのできる一連の細い繊維状の柱が形成される。これらは上述の市松模様の支持構造と同等なものである。1画素滴下、1画素非滴下の滴下パターンに基づいて、この支持構造の材料滴密度比は約1である。支持構造が物体の上向きの面上に設けられないときには柱25は無くともよい。
【0192】
柱25、28は高さが3ミルから15ミルの間である必要があり、約4から6ミルであるのが望ましい。この支持構造は4回のIDオーバープリントによって形成される物体に対して使用するのが望ましく、またこの支持構造をオーバープリント無しに1回の走査で形成すると、物体部よりはるかに積み上げ速度が遅いため、この支持構造の高さはできるだけ低く抑えるべきである。一方、針状の要素は、物体の下向きの面がその上に供給されたとき、溶融してしまう傾向があるので、この支持構造はある程度の高さを有するのが望ましい。
【0193】
柱26は断面が3画素x3画素(9.9ミルx9.9ミル)であり、走査方向に2画素、副走査方向に1画素の間隔で配される。この支持柱は上述の最も望ましい支持構造と同等なものである。上述のように、主走査方向に間隔が大きいのは主にこの支持構造が4回のオーバープリントによって形成されるからである。この柱によって形成される断面パターンは第15、18図に示されるようである。したがって繊維状の柱25、28よりしっかりした一連の柱が形成される。
【0194】
柱26は柱25、28と異なり任意の高さでよい。それは断面が大きいために物体とほぼ同じ速度で(約1.3ミル/層)積み上げることができるからである。上述のように、隣接する柱を一定間隔で結合する橋29を設け、柱がある程度成長した後に起きやすい柱の曲がりを防止するのが望ましい。橋の間隔は前述の範囲であるのが望ましい。
【0195】
中間層27は柱26と28の間の移行部を形成する任意の架橋層である。このような移行層が有効である理由は、柱28の太さが柱26の間隔とほぼ同じかそれより小さいため、移行層がないと柱28が柱26と柱26の間に落ちてしまうおそれがあるからである。1つの望ましい方法として、中間層を全体的には使わずに、柱28を柱26の上に注意深く位置させて、必要なところにのみ中間層27を使用するようにしてもよい。
【0196】
もし使う場合には、この中間層は上述の架橋層とほぼ同じ厚みであるのが望ましい。柱25と26の間に中間層を必要としないのは柱26の断面が柱25の間隔より大きいからである。したがって柱26は中間層無しに柱25の上に直接形成してよい。
【0197】
前述の支持構造の他の組み合せを用いる他の複合支持構造も可能である。これらの複合支持構造および前述の他の支持構造は物体の内部を形成するのにも使用することができる。
【0198】
支持構造の形成方法にはさらに変更例がある。例えば、支持構造を物体部とは異なる材料で形成することもできる。さらに、上述の支持構造の隙間に水等の流体を入れて、支持力を増加させたり、放熱を助けたりしてもよい。この場合には、造形材料より密度の大きい流体を用いるのが有利である。これによって柱の間の隙間に落ちる材料滴に浮力を与えることができる。またその流体の材料は、流体と柱の間にメニスカスが形成されないように、表面エネルギーが造形材料の表面エネルギーと一致するものを選ぶ必要がある。例えば、界面活性剤が使用できる。
【0199】
また、柱の間の隙間から空気を上方に吹き付けてもよい。この方法によれば、放熱効果と浮力効果が得られる。また、支持柱の数を減らし(例えば、支持柱の間隔を0.1〜1インチ以上とし)、その間の隙間に粒子を充填してもよい。さらに、この粒子を、材料滴を作業面に達する前に硬化させることによって(例えば、供給ヘッドと作業面の間の距離を大きくすることによって)、あるいは作業面に達する前に材料滴に昇華性の(固体から直接気化する)材料をコーティングすることによって、造形材料から形成することもできる。
【0200】
支持構造が物体を造形台の表面から50から300ミル離すのが望ましい。造形台上に直接物体を形成してもよい。この場合に、造形台上に、物体を堅い造形台から分離しやすくするとともに、それ自体も物体から分離しやすい柔軟なシートを敷いてもよい。物体を造形台から分離するのに電気ナイフを使用してもよいが、この場合には物体を造形台の表面から150から300ミル上方に支持するのが望ましい。長い歯を有する櫛状の道具が支持構造を造形台から分離するのに有効であることが分かった。この場合、その道具の厚みによって、物体と造形台間の必要な間隔が定まり、一般に50から200ミルである。支持構造は、軽く擦ったり、ブラッシングしたり、歯科用の器具のような小さなプローブを使用したりして物体から除去することができる。
【0201】
また、各実施の形態を自動物体分離機能と冷却台を有する集積的な装置に組み込んでもよい。さらに、造形材料、充填材、あるいは異なるラスターラインや滴下位置に使用する異なる材料として、低融点金属を使用してもよい。
【0202】
さらに、物体部を造形するための材料滴より大きな材料滴を使用して支持構造を形成してもよい。また粉末支持体を使用してもよい。前述のように、この粉末支持体は、材料滴を作業面に達する前に硬化させることによって形成することができる。
【0203】
さらに、主走査の向きを変えたり(例えば、YまたはZ)、副走査の向きを変えたり(例えば、XまたはZ)、積層の向きを変えたり(例えば、XまたはY)して造形してもよい。物体とプリントヘッドの所望の相対移動を得るために他の絶対運動体系を使用してもよい。例えば、プリントヘッドを3方向全てに絶対運動させてもよいし、物体を3方向全てに絶対運動させてもよい。また、プリントヘッドあるいは物体の非デカルト運動を使用してもよいし、ジェットの方向を層によって変えてもよいし、層の部分によって変えてもよい。
【0204】
以上いくつかの実施の形態を見出しを付けて説明したが、これらの実施の形態は見出しの題目のみに関連するものではない。さらに本明細書を読みやすくするために見出しを使用したが、その見出しの題目に関連する全ての開示がその項のみに当てはまるものではない。本明細書に開示した全ての実施の形態は単独でも有用であるし、他の実施の形態と組み合わせても有用である。
【0205】
本発明の種々の実施の形態とその応用について以上説明したが、本発明の思想から外れることなく多くの変更が可能であることは当業者には明らかであろう。このように、本発明は、請求の範囲以外によっては限定されない。
【0206】
表I〜IIIは、好ましい実施例において使用する好ましい材料の詳細である。
【0207】
表Iは成分の配合を示す。
【0208】
【表4】
表2および表3は、いくつかの望ましい実施例で使用される望ましい材料の配合を示すものである。
【0209】
【表5】
【表6】
表4は、好適実施例において使用する好ましい材料の詳細である。
【0210】
【表7】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は物体の下向き面を表す図
【図2】図2は図1の下向き面を支持する支持体構造の2種類を表す図
【図3】図3は好ましい選択積層造形/サーマルステレオリソグラフィーシステムの主な機能部材を表す図
【図4】図4a、図4bはそれぞれ図3のプリントヘッドのオリフィスプレートを走査方向に対して異なる向きから示した図
【図5】図5は図3の平滑化部材の詳細図
【図6】図6はオリフィスプレート上の隣接したノズルと隣接したラスタラインとの間の相対的位置関係を表した図
【図7】図7はシステムのデータ解像度を規定するピクセルのグリッドを表す図
【図8】図8は2つの垂直なラスタラインの向きの例を示す図
【図9】図9は積層が副走査方向に伝搬する2例を示す図
【図10】図10a、図10bは積層が主走査方向に伝搬する2例を示す図
【図11】図11a、図11bは走査線飛び越しの一例の説明図
【図12】図12a、図12bは数本の走査線に沿った滴下位置飛び越しの一例の説明図
【図13】図13a,図13bは数本の走査線に沿った滴下位置飛び越しの他の例の説明図
【図14】図14は1画素市松模様滴下パターンを示す
【図15】図15は望ましい支持構造を形成するための3画素x3画素の支持柱の滴下パターンを示す
【図16】図16a〜図16dはオーバープリントの例を示す
【図17】図17a、図17bはオーバープリントを使用したときに起きる問題を示す
【図18】図18はオーバープリントによって第15図に示す画素に滴下したときに得られる供給領域を示す
【図19】図19は支持柱用の他の画素パターンを示す
【図20】図20は複合支持構造を示す
【図21】図21a、図21bはアーチ型の支持構造を示す
【図22】図22a〜図22dは造形中の材料の飛び越し滴下の実施の形態を示す
【図23】図23a〜図23hは水平方向および垂直方向の画素オフセットの実施の形態を示す
【図24】図24a〜図24dは間隙を隔てた領域間の架橋のリスクを減らした滴下例を示す
【図25】図25a〜図25eは物体を複数の部分に分割し、別々に造形した後一緒にするようにした造形法を示す
【図26】図26は望ましい2工程のラスター走査パターンを示す
【図27】図27a〜図27eは作業面と目標位置の様々な組み合わせを示す
【図28a】図28aは枝分かれ支持構造の一実施の形態の側面図
【図28b】図28bは枝分かれ支持構造の他の実施の形態の側面図
【図29】図29a〜29eは枝分かれ支持構造の一実施の形態の分岐層の平面図
【図30】図30a〜図30mは枝分かれ支持構造の他の実施の形態の分岐層の平面図
【図31】図31a〜図31cは枝分かれ支持構造のさらに他の実施の形態の分岐層の平面図
【図32】図32a〜図32dは枝分かれ支持構造のさらに他の実施の形態の分岐層の平面図
【符号の説明】
9 供給ヘッド
10 オリフィスプレート
11 平滑化部材
12 X−ステージ
13 結合部材
15 造形台
18 材料供給台
18a 回転シリンダー
Claims (15)
- 硬化温度を有する流動性材料を、該硬化温度より低い室温である造形環境に、3次元物体の断面を構成する層毎に、所望の速度で垂直方向に積層する態様で制御しつつ供給する材料供給手段、
該材料供給手段により供給される材料の最初の層を支持する面を有し、前記造形環境において、断面を構成する層毎に造形される3次元物体と支持構造を支持する台、
前記材料供給手段を作業面に対して相対的に複数の方向に移動させる少なくとも1つの移動手段、
前記移動手段と前記材料供給手段に結合され、前記材料を選択的に供給させる制御手段であって、物体データを物体の層の造形のための少なくとも一つの選択された造形スタイルに組み合わせる手段と、前記物体データを支持構造の層の造形のための少なくとも一つの選択された支持スタイルに組み合わせる手段とを含み、前記材料を、前記物体データと前記選択された造形スタイルとの組合せにしたがって少なくとも一つの層の一部に、前記物体データと前記選択された支持スタイルとの組合せにしたがって前記少なくとも一つの層の他の部分に供給し、該層上に前記材料を垂直方向に前記所望の速度で積層するようにした制御手段、および
前記作業面上を移動して、前記各断面を構成する層毎に層の厚さを決定するように、各層に供給された流動材料の表面を平滑にする平滑化部材からなり、
前記材料供給手段が前記流動性材料を選択的に供給するプリントヘッドを備えており、
前記材料供給手段が、材料滴の形で前記材料を供給するものであり、該材料滴の垂直方向への積み上げが自動的に補正されるように、該材料滴の各々が、前記作業面よりも下方に設定された焦点に向けて発射されることを特徴とする、
支持構造付3次元物体を選択積層造形する高速試作装置。 - 前記物体データを選択された造形スタイルに組み合わせる手段が、走査方向へのオーバープリントを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記3次元物体が少なくとも一つの上向き面の表面層と少なくとも一つの内部領域を有することを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記物体データを選択された造形スタイルに組み合わせる手段が、物体の内部に市松模様状の支持構造を形成することを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記物体データを選択された造形スタイルに組み合わせる手段が、2枚の層の間で走査方向と割送り方向を変えることを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記物体データを選択された造形スタイルに組み合わせる手段が、層を形成するのに必要な材料供給領域によって限られる長さと幅のラスタースキャンを使用して3次元物体を形成することを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記物体データを選択された造形スタイルに組み合わせる手段が、物体の異なる部分を別々に形成し、その際、物体の表面の向きを変えることによって、上向きの面として形成し、その別々に形成された異なる部分を結合することを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記物体データを選択された支持スタイルに組み合わせる手段が、支持構造を形成する際に物体部より1層当たりの走査の数を大きくすることを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記物体データを選択された支持スタイルに組み合わせる手段が、各層に互いに相補的な棚状部分を形成することを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記物体データを選択された支持スタイルに組み合わせる手段が、棚状部分を有する柱状の支持構造を形成することを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記3次元物体が上向きの面を有し、前記物体データを選択された支持スタイルに組み合わせる手段が、上向きの面の上方所定の数の層より離れた領域で支持スタイルを変えることをさらに指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記物体データを選択された支持スタイルに組み合わせる手段が、枝分かれ支持構造を形成することを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記材料供給手段が、前記作業面に向けて材料滴の形で前記材料を通過させて供給するオリフィスを有し、前記物体データを選択された造形スタイルに組み合わせる手段が、前記材料供給手段と前記作業面の間の間隔を、材料滴が前記作業面に落ちたときに半球形となるのに充分な大きさとすることを指示する手段を含むものであることを特徴とする請求項1記載の装置。
- 硬化温度を有する、流動性のある硬化可能な材料から3次元物体を選択積層造形する高速試作装置であって、
前記流動性のある硬化可能な材料を、該硬化温度より低い室温である造形環境に、3次元物体の断面を構成する層毎に、所望の速度で垂直方向に積層する態様で制御しつつ供給する材料供給手段、
前記供給される材料の最初の層を支持する面を有し、層毎に造形される物体構造と支持構造からなる3次元物体を支持する台、
前記材料供給手段を作業面に対して相対的に少なくとも2次元の方向に移動させる少なくとも1つの移動手段、
前記移動手段と前記材料供給手段に結合され、複数層の前記材料を選択的に供給させる制御手段であって、物体データを少なくとも一つの選択された造形スタイルに組み合わせる手段と、前記物体データを少なくとも一つの選択された支持スタイルに組み合わせる手段とを含み、前記物体データと選択された前記造形スタイルおよび選択された前記支持スタイルとの組合せに基づいて、物体構造および支持構造を同一の硬化可能な材料から層毎に形成するように前記材料を供給するようにし、前記物体構造と支持構造がいずれも前記材料を垂直方向に略前記所望の速度で積層するようにした制御手段、および、
前記作業面上を移動して、前記各断面を構成する層毎に層の厚さを決定するように、各層に供給された流動材料の表面を平滑にする平滑化部材からなり、
前記材料供給手段が前記流動性材料を選択的に供給するプリントヘッドを備えており、
前記材料供給手段が、材料滴の形で前記材料を供給するものであり、該材料滴の垂直方向への積み上げが自動的に補正されるように、該材料滴の各々が、前記作業面よりも下方に設定された焦点に向けて発射されることを特徴とする、
支持構造付3次元物体を選択積層造形する高速試作装置。 - 前記物体データを前記選択された支持スタイルに組み合わせる手段が、前記支持構造の各層の輪郭を規定する輪郭データを提供するとともに該支持構造の各層の輪郭内の硬化可能な材料のパターンを規定する支持スタイルを提供する手段を含み、前記制御手段が、前記輪郭データと支持構造の支持スタイルにしたがって前記材料が供給されるようにする手段をさらに含んでいることを特徴とする請求項14記載の装置。
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US6476122B1 (en) | 1998-08-20 | 2002-11-05 | Vantico Inc. | Selective deposition modeling material |
EP1124688B1 (en) * | 1998-10-29 | 2004-04-07 | Z Corporation | Three dimensional printing material system and method |
US6622062B1 (en) | 1999-01-19 | 2003-09-16 | 3D Systems, Inc. | Method and apparatus for forming three-dimensional objects using line width compensation with small features retention |
US6261077B1 (en) | 1999-02-08 | 2001-07-17 | 3D Systems, Inc. | Rapid prototyping apparatus with enhanced thermal and/or vibrational stability for production of three dimensional objects |
US6159411A (en) * | 1999-02-08 | 2000-12-12 | 3D Systems, Inc. | Rapid prototyping method and apparatus with simplified build preparation for production of three dimensional objects |
US6399010B1 (en) | 1999-02-08 | 2002-06-04 | 3D Systems, Inc. | Method and apparatus for stereolithographically forming three dimensional objects with reduced distortion |
US6352668B1 (en) * | 1999-02-25 | 2002-03-05 | 3D Systems, Inc. | Method and apparatus for selective deposition modeling |
US6162378A (en) * | 1999-02-25 | 2000-12-19 | 3D Systems, Inc. | Method and apparatus for variably controlling the temperature in a selective deposition modeling environment |
US6259962B1 (en) * | 1999-03-01 | 2001-07-10 | Objet Geometries Ltd. | Apparatus and method for three dimensional model printing |
US6645412B2 (en) * | 1999-04-20 | 2003-11-11 | Stratasys, Inc. | Process of making a three-dimensional object |
US6658314B1 (en) | 1999-10-06 | 2003-12-02 | Objet Geometries Ltd. | System and method for three dimensional model printing |
NL1013282C2 (nl) * | 1999-10-13 | 2001-04-17 | Tno | Werkwijze en inrichting voor het ontwerpen van door middel van driehoeken beschreven geometrische vormen van in een matrijsvormproces te vervaardigen producten. |
US6850334B1 (en) | 2000-01-18 | 2005-02-01 | Objet Geometries Ltd | System and method for three dimensional model printing |
US6558606B1 (en) * | 2000-01-28 | 2003-05-06 | 3D Systems, Inc. | Stereolithographic process of making a three-dimensional object |
US20030207959A1 (en) | 2000-03-13 | 2003-11-06 | Eduardo Napadensky | Compositions and methods for use in three dimensional model printing |
US8481241B2 (en) | 2000-03-13 | 2013-07-09 | Stratasys Ltd. | Compositions and methods for use in three dimensional model printing |
US6569373B2 (en) * | 2000-03-13 | 2003-05-27 | Object Geometries Ltd. | Compositions and methods for use in three dimensional model printing |
US7300619B2 (en) | 2000-03-13 | 2007-11-27 | Objet Geometries Ltd. | Compositions and methods for use in three dimensional model printing |
EP1324842B1 (de) | 2000-09-25 | 2007-12-19 | Voxeljet Technology GmbH | Verfahren zum herstellen eines bauteils in ablagerungstechnik |
US20020171177A1 (en) | 2001-03-21 | 2002-11-21 | Kritchman Elisha M. | System and method for printing and supporting three dimensional objects |
US6813594B2 (en) | 2001-05-03 | 2004-11-02 | 3D Systems, Inc. | Automatic determination and selection of build parameters for solid freeform fabrication techniques based on automatic part feature recognition |
US6863859B2 (en) * | 2001-08-16 | 2005-03-08 | Objet Geometries Ltd. | Reverse thermal gels and the use thereof for rapid prototyping |
US6916441B2 (en) | 2001-10-03 | 2005-07-12 | 3D Systems, Inc. | Post processing three-dimensional objects formed by solid freeform fabrication |
US6752948B2 (en) | 2001-10-03 | 2004-06-22 | 3D Systems, Inc. | Post processing three-dimensional objects formed by selective deposition modeling |
US6841116B2 (en) | 2001-10-03 | 2005-01-11 | 3D Systems, Inc. | Selective deposition modeling with curable phase change materials |
US20030151167A1 (en) | 2002-01-03 | 2003-08-14 | Kritchman Eliahu M. | Device, system and method for accurate printing of three dimensional objects |
US6713125B1 (en) | 2002-03-13 | 2004-03-30 | 3D Systems, Inc. | Infiltration of three-dimensional objects formed by solid freeform fabrication |
US7270528B2 (en) | 2002-05-07 | 2007-09-18 | 3D Systems, Inc. | Flash curing in selective deposition modeling |
US7033160B2 (en) | 2002-05-28 | 2006-04-25 | 3D Systems, Inc. | Convection cooling techniques in selective deposition modeling |
US7008206B2 (en) | 2002-06-24 | 2006-03-07 | 3D Systems, Inc. | Ventilation and cooling in selective deposition modeling |
US6711451B2 (en) | 2002-07-02 | 2004-03-23 | 3D Systems, Inc. | Power management in selective deposition modeling |
GB0224716D0 (en) * | 2002-10-23 | 2002-12-04 | Vantico Ag | Method of manufacturing 3D articles and articles made by such methods |
ATE393009T1 (de) | 2002-11-12 | 2008-05-15 | Objet Geometries Ltd | Verfahren und system zum drucken eines dreidimensionalen gegenstandes |
EP2295227A3 (en) | 2002-12-03 | 2018-04-04 | Stratasys Ltd. | Apparatus and method for printing of three-dimensional objects |
AU2003900180A0 (en) | 2003-01-16 | 2003-01-30 | Silverbrook Research Pty Ltd | Method and apparatus (dam001) |
CN101428474B (zh) | 2003-05-01 | 2013-01-23 | 奥布吉特几何有限公司 | 快速成型装置 |
ES2239531B2 (es) * | 2004-01-29 | 2007-02-16 | Rafael Ibañez Sanchez | Procedimiento para la generacion de volumenes organicos redimensionados. |
DE102004008168B4 (de) | 2004-02-19 | 2015-12-10 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen von Fluiden und Verwendung der Vorrichtung |
US7114943B1 (en) | 2005-05-11 | 2006-10-03 | 3D Systems, Inc. | Post processor for three-dimensional objects |
DE102006038858A1 (de) | 2006-08-20 | 2008-02-21 | Voxeljet Technology Gmbh | Selbstaushärtendes Material und Verfahren zum schichtweisen Aufbau von Modellen |
DE102006057099A1 (de) * | 2006-12-04 | 2008-06-05 | Siemens Audiologische Technik Gmbh | Ohrkanalhologramm für Hörvorrichtungen |
DE102007033434A1 (de) * | 2007-07-18 | 2009-01-22 | Voxeljet Technology Gmbh | Verfahren zum Herstellen dreidimensionaler Bauteile |
US10226919B2 (en) | 2007-07-18 | 2019-03-12 | Voxeljet Ag | Articles and structures prepared by three-dimensional printing method |
EP2481555B1 (en) * | 2007-09-17 | 2021-08-25 | 3D Systems, Inc. | Region-based supports for parts produced by solid freeform fabrication |
GB0719747D0 (en) * | 2007-10-10 | 2007-11-21 | Materialise Nv | Method and apparatus for automatic support generation for an object made by means of a rapid prototype production method |
DE102007049058A1 (de) | 2007-10-11 | 2009-04-16 | Voxeljet Technology Gmbh | Materialsystem und Verfahren zum Verändern von Eigenschaften eines Kunststoffbauteils |
US9572402B2 (en) * | 2007-10-23 | 2017-02-21 | Nike, Inc. | Articles and methods of manufacturing articles |
DE102007050953A1 (de) | 2007-10-23 | 2009-04-30 | Voxeljet Technology Gmbh | Vorrichtung zum schichtweisen Aufbau von Modellen |
JP2009132127A (ja) * | 2007-12-03 | 2009-06-18 | Sony Corp | 光造形装置および光造形方法 |
DE102007062129B3 (de) * | 2007-12-21 | 2009-06-18 | Eos Gmbh Electro Optical Systems | Verfahren zum Herstellen eines dreidimensionalen Objekts |
US8876513B2 (en) | 2008-04-25 | 2014-11-04 | 3D Systems, Inc. | Selective deposition modeling using CW UV LED curing |
DE102008058378A1 (de) | 2008-11-20 | 2010-05-27 | Voxeljet Technology Gmbh | Verfahren zum schichtweisen Aufbau von Kunststoffmodellen |
DE102009030113A1 (de) | 2009-06-22 | 2010-12-23 | Voxeljet Technology Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Zuführen von Fluiden beim schichtweisen Bauen von Modellen |
US8323429B2 (en) | 2009-07-31 | 2012-12-04 | United States Gypsum Company | Method for preparing three-dimensional plaster objects |
IT1397457B1 (it) * | 2010-01-12 | 2013-01-10 | Dws Srl | Piastra di modellazione per una macchina stereolitografica, macchina stereolitografica impiegante tale piastra di modellazione e utensile per la pulizia di tale piastra di modellazione. |
DE102010006939A1 (de) | 2010-02-04 | 2011-08-04 | Voxeljet Technology GmbH, 86167 | Vorrichtung zum Herstellen dreidimensionaler Modelle |
DE102010013733A1 (de) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Voxeljet Technology Gmbh | Vorrichtung zum Herstellen dreidimensionaler Modelle |
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US9156204B2 (en) | 2010-05-17 | 2015-10-13 | Synerdyne Corporation | Hybrid scanner fabricator |
DE102010027071A1 (de) | 2010-07-13 | 2012-01-19 | Voxeljet Technology Gmbh | Vorrichtung zum Herstellen dreidimensionaler Modelle mittels Schichtauftragstechnik |
US8905742B2 (en) | 2010-09-17 | 2014-12-09 | Synerdyne Corporation | Compact rotary platen 3D printer |
US8479795B2 (en) | 2010-09-17 | 2013-07-09 | Synerdyne Corporation | System and method for rapid fabrication of arbitrary three-dimensional objects |
US9522501B2 (en) * | 2010-09-21 | 2016-12-20 | The Boeing Company | Continuous linear production in a selective laser sintering system |
JP2012131094A (ja) * | 2010-12-21 | 2012-07-12 | Sony Corp | 3次元造形装置、3次元造形方法及び造形物 |
DE102010056346A1 (de) | 2010-12-29 | 2012-07-05 | Technische Universität München | Verfahren zum schichtweisen Aufbau von Modellen |
DE102011007957A1 (de) | 2011-01-05 | 2012-07-05 | Voxeljet Technology Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Aufbauen eines Schichtenkörpers mit wenigstens einem das Baufeld begrenzenden und hinsichtlich seiner Lage einstellbaren Körper |
US8758663B2 (en) | 2011-01-26 | 2014-06-24 | Zydex Pty Ltd | Device for making objects by applying material over a surface |
JP5408151B2 (ja) * | 2011-02-16 | 2014-02-05 | ブラザー工業株式会社 | 立体造形装置 |
WO2012143923A2 (en) | 2011-04-17 | 2012-10-26 | Objet Ltd. | System and method for additive manufacturing of an object |
DE102011111498A1 (de) | 2011-08-31 | 2013-02-28 | Voxeljet Technology Gmbh | Vorrichtung zum schichtweisen Aufbau von Modellen |
DE102011082873A1 (de) * | 2011-09-16 | 2013-03-21 | Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft | Vorrichtung und Schichtbauverfahren zum Herstellen von dreidimensionalen Formteilen |
DE102012000650A1 (de) * | 2012-01-16 | 2013-07-18 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum abrastern einer oberfläche eines objekts mit einem teilchenstrahl |
DE102012004213A1 (de) | 2012-03-06 | 2013-09-12 | Voxeljet Technology Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen dreidimensionaler Modelle |
DE102012010272A1 (de) | 2012-05-25 | 2013-11-28 | Voxeljet Technology Gmbh | Verfahren zum Herstellen dreidimensionaler Modelle mit speziellen Bauplattformen und Antriebssystemen |
DE102012012363A1 (de) | 2012-06-22 | 2013-12-24 | Voxeljet Technology Gmbh | Vorrichtung zum Aufbauen eines Schichtenkörpers mit entlang des Austragbehälters bewegbarem Vorrats- oder Befüllbehälter |
DE102012020000A1 (de) | 2012-10-12 | 2014-04-17 | Voxeljet Ag | 3D-Mehrstufenverfahren |
DE102013004940A1 (de) | 2012-10-15 | 2014-04-17 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von dreidimensionalen Modellen mit temperiertem Druckkopf |
DE102012022859A1 (de) | 2012-11-25 | 2014-05-28 | Voxeljet Ag | Aufbau eines 3D-Druckgerätes zur Herstellung von Bauteilen |
EP2737965A1 (en) * | 2012-12-01 | 2014-06-04 | Alstom Technology Ltd | Method for manufacturing a metallic component by additive laser manufacturing |
US8944802B2 (en) | 2013-01-25 | 2015-02-03 | Radiant Fabrication, Inc. | Fixed printhead fused filament fabrication printer and method |
FR3002167B1 (fr) * | 2013-02-15 | 2016-12-23 | Michelin & Cie | Piece obtenue par fusion selective d'une poudre comprenant un element principal et des elements secondaires rigides |
DE102013003303A1 (de) | 2013-02-28 | 2014-08-28 | FluidSolids AG | Verfahren zum Herstellen eines Formteils mit einer wasserlöslichen Gussform sowie Materialsystem zu deren Herstellung |
EP2981402B1 (en) | 2013-04-04 | 2021-06-02 | Global Filtration Systems, A DBA of Gulf Filtration Systems Inc. | Method for forming three-dimensional objects using linear solidification with travel axis correction and power control |
JP6091371B2 (ja) * | 2013-07-29 | 2017-03-08 | ローランドディー.ジー.株式会社 | スライスデータ作成装置、スライスデータ作成方法、プログラムおよびコンピューター読み取り可能な記録媒体 |
US20160221261A1 (en) * | 2013-10-03 | 2016-08-04 | Konica Minolta, Inc. | Three-Dimensional Shaping Device and Three-Dimensional Shaping Method |
DE102013220578A1 (de) * | 2013-10-11 | 2015-04-16 | Arburg Gmbh + Co. Kg | Dreidimensionaler Gegenstand mit selbsttragend hergestellter Wandung |
US20210354365A1 (en) * | 2013-10-17 | 2021-11-18 | Xjet Ltd. | 3d particle printing |
JP6073773B2 (ja) * | 2013-10-30 | 2017-02-01 | ローランドディー.ジー.株式会社 | 三次元造形装置、三次元造形方法、プログラムおよびコンピューター読み取り可能な記録媒体 |
DE102013018182A1 (de) | 2013-10-30 | 2015-04-30 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von dreidimensionalen Modellen mit Bindersystem |
DE102013018031A1 (de) | 2013-12-02 | 2015-06-03 | Voxeljet Ag | Wechselbehälter mit verfahrbarer Seitenwand |
DE102013020491A1 (de) | 2013-12-11 | 2015-06-11 | Voxeljet Ag | 3D-Infiltrationsverfahren |
EP2886307A1 (de) | 2013-12-20 | 2015-06-24 | Voxeljet AG | Vorrichtung, Spezialpapier und Verfahren zum Herstellen von Formteilen |
US8827684B1 (en) | 2013-12-23 | 2014-09-09 | Radiant Fabrication | 3D printer and printhead unit with multiple filaments |
JP6294659B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2018-03-14 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 造形物の製造方法及び制御装置 |
US10029416B2 (en) * | 2014-01-28 | 2018-07-24 | Palo Alto Research Center Incorporated | Polymer spray deposition methods and systems |
CN103862676B (zh) * | 2014-03-07 | 2016-03-02 | 济南大学 | Fdm技术3d打印机 |
KR101442456B1 (ko) | 2014-03-24 | 2014-09-23 | 캐논코리아비즈니스솔루션 주식회사 | 3차원 프린트용 모델의 출력 방위 결정 방법 |
DE102014004692A1 (de) * | 2014-03-31 | 2015-10-15 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung für den 3D-Druck mit klimatisierter Verfahrensführung |
AU2015246650B2 (en) * | 2014-04-15 | 2019-08-29 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Process for producing a preform using cold spray |
WO2015175651A1 (en) * | 2014-05-13 | 2015-11-19 | Massachusetts Institute Of Technology | Systems, devices, and methods for three-dimensional printing |
DE102014007584A1 (de) | 2014-05-26 | 2015-11-26 | Voxeljet Ag | 3D-Umkehrdruckverfahren und Vorrichtung |
CN104001906B (zh) * | 2014-05-26 | 2016-03-30 | 上海大学 | 薄层快速凝固成型装置及方法 |
CA2952633C (en) | 2014-06-20 | 2018-03-06 | Velo3D, Inc. | Apparatuses, systems and methods for three-dimensional printing |
EP3174651B1 (de) | 2014-08-02 | 2020-06-17 | voxeljet AG | Verfahren und gussform, insbesondere zur verwendung in kaltgussverfahren |
JP6474995B2 (ja) * | 2014-11-11 | 2019-02-27 | ローランドディー.ジー.株式会社 | スライスデータ作成装置、スライスデータ作成方法、プログラムおよびコンピューター読み取り可能な記録媒体 |
DE102015006533A1 (de) | 2014-12-22 | 2016-06-23 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von 3D-Formteilen mit Schichtaufbautechnik |
DE102015003372A1 (de) | 2015-03-17 | 2016-09-22 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von 3D-Formteilen mit Doppelrecoater |
US20160311160A1 (en) * | 2015-04-24 | 2016-10-27 | Global Filtration Systems, A Dba Of Gulf Filtration Systems Inc. | Apparatus and method for forming three-dimensional objects using scanning axis compensation and dynamic offset |
KR101682298B1 (ko) | 2015-05-11 | 2016-12-02 | 삼성에스디에스 주식회사 | 3차원 모델의 비트맵 생성 장치 및 방법 |
KR101682807B1 (ko) | 2015-05-15 | 2016-12-05 | 삼성에스디에스 주식회사 | 3차원 모델의 비트맵 생성 장치 및 방법 |
DE102015006363A1 (de) | 2015-05-20 | 2016-12-15 | Voxeljet Ag | Phenolharzverfahren |
WO2016199131A1 (en) | 2015-06-07 | 2016-12-15 | Stratasys Ltd. | Method and apparatus for printing three-dimensional (3d) objects |
US10639846B2 (en) * | 2015-07-13 | 2020-05-05 | Massivit 3D Printing Technologies Ltd. | Method for analyzing gaps and shell weak spots for 3D objects and generating support structures that fill the gaps and shell weak spots |
CN106696464B (zh) * | 2015-07-29 | 2018-09-11 | 三纬国际立体列印科技股份有限公司 | 调整三维打印机喷头使用量的方法及控制装置 |
KR20170014617A (ko) | 2015-07-30 | 2017-02-08 | 삼성에스디에스 주식회사 | 3차원 모델의 비트맵 생성 방법과 이를 수행하기 위한 장치 및 시스템 |
DE102015011503A1 (de) | 2015-09-09 | 2017-03-09 | Voxeljet Ag | Verfahren zum Auftragen von Fluiden |
DE102015011790A1 (de) | 2015-09-16 | 2017-03-16 | Voxeljet Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen dreidimensionaler Formteile |
JP6567948B2 (ja) * | 2015-10-19 | 2019-08-28 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 造形装置及び造形方法 |
CN108367498A (zh) | 2015-11-06 | 2018-08-03 | 维洛3D公司 | Adept三维打印 |
DE102015015353A1 (de) | 2015-12-01 | 2017-06-01 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von dreidimensionalen Bauteilen mittels Überschussmengensensor |
JP6000435B1 (ja) * | 2015-12-10 | 2016-09-28 | 株式会社精美堂 | ハニカム構造体製造方法及びハニカム構造体製造システム |
US10207454B2 (en) | 2015-12-10 | 2019-02-19 | Velo3D, Inc. | Systems for three-dimensional printing |
JP6527816B2 (ja) * | 2015-12-11 | 2019-06-05 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 立体物の製造方法および立体物の製造装置 |
US10799951B2 (en) | 2016-02-11 | 2020-10-13 | General Electric Company | Method and conformal supports for additive manufacturing |
US10434573B2 (en) | 2016-02-18 | 2019-10-08 | Velo3D, Inc. | Accurate three-dimensional printing |
JP2017159475A (ja) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置および三次元造形物 |
JP2017159474A (ja) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | セイコーエプソン株式会社 | 三次元造形物の製造方法、三次元造形物製造装置および三次元造形物 |
US11059225B2 (en) | 2016-05-18 | 2021-07-13 | Xerox Corporation | Method and system for applying a finish to three-dimensional printed objects |
CN106064477B (zh) * | 2016-06-02 | 2017-05-31 | 北京易速普瑞科技有限公司 | 一种可快速更换3d打印喷头 |
CA3029446A1 (en) | 2016-06-28 | 2018-01-04 | Dow Global Technologies Llc | Thermoset additive manufactured articles incorporating a phase change material and method to make them |
EP3492244A1 (en) | 2016-06-29 | 2019-06-05 | VELO3D, Inc. | Three-dimensional printing system and method for three-dimensional printing |
US11691343B2 (en) | 2016-06-29 | 2023-07-04 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing and three-dimensional printers |
DE102016220496A1 (de) | 2016-10-19 | 2018-04-19 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren und Anlage zum additiven Fertigen eines dreidimensionalen Bauteils |
US10661341B2 (en) | 2016-11-07 | 2020-05-26 | Velo3D, Inc. | Gas flow in three-dimensional printing |
DE102016013610A1 (de) | 2016-11-15 | 2018-05-17 | Voxeljet Ag | Intregierte Druckkopfwartungsstation für das pulverbettbasierte 3D-Drucken |
US20180186081A1 (en) | 2017-01-05 | 2018-07-05 | Velo3D, Inc. | Optics in three-dimensional printing |
JP2018114653A (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 三次元造形装置、方法、及び造形中間物、並びに三次元造形物 |
US10442003B2 (en) | 2017-03-02 | 2019-10-15 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing of three-dimensional objects |
CN107471651B (zh) * | 2017-03-03 | 2019-12-13 | 珠海赛纳打印科技股份有限公司 | 支撑结构、支撑结构的打印方法以及打印系统 |
CN110430988B (zh) * | 2017-03-17 | 2021-11-09 | 3D系统公司 | 校准基于喷墨的三维打印系统的方法 |
US20180281283A1 (en) | 2017-03-28 | 2018-10-04 | Velo3D, Inc. | Material manipulation in three-dimensional printing |
CN110430987B (zh) * | 2017-04-21 | 2021-11-16 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 使用高熔融温度聚合物的3d成型物体 |
CN107090661A (zh) * | 2017-05-22 | 2017-08-25 | 海安国洋机械科技有限公司 | 自喷式金属纤维牵切铺毡机 |
DE102017006860A1 (de) | 2017-07-21 | 2019-01-24 | Voxeljet Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von 3D-Formteilen mit Spektrumswandler |
CN109304870B (zh) * | 2017-07-27 | 2020-03-24 | 珠海赛纳打印科技股份有限公司 | 3d打印方法及设备 |
US10272525B1 (en) | 2017-12-27 | 2019-04-30 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing systems and methods of their use |
US10144176B1 (en) | 2018-01-15 | 2018-12-04 | Velo3D, Inc. | Three-dimensional printing systems and methods of their use |
CN112020420A (zh) | 2018-04-10 | 2020-12-01 | 惠普发展公司,有限责任合伙企业 | 对3d打印中的尺寸变化进行补偿 |
WO2020076304A1 (en) | 2018-10-09 | 2020-04-16 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Modifying object geometries based on radiant heating distribution |
CN111055500A (zh) * | 2018-10-17 | 2020-04-24 | 三纬国际立体列印科技股份有限公司 | 立体打印方法以及立体打印装置 |
EP3666500B1 (en) * | 2018-12-13 | 2021-10-27 | Canon Production Printing Holding B.V. | A method of 3d ink jet printing |
DE102019000796A1 (de) | 2019-02-05 | 2020-08-06 | Voxeljet Ag | Wechselbare Prozesseinheit |
JP7227784B2 (ja) * | 2019-02-13 | 2023-02-22 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 立体物造形方法 |
KR20210129133A (ko) * | 2019-02-20 | 2021-10-27 | 럭섹셀 홀딩 비.브이. | 3차원 광학 물품 프린팅 방법 |
WO2020198038A1 (en) | 2019-03-22 | 2020-10-01 | Desktop Metal, Inc. | Z-axis measurement and control in 3d printing of metal |
CN111859488B (zh) * | 2020-07-27 | 2024-03-29 | 深圳市纵维立方科技有限公司 | 支撑结构生成方法、装置、电子设备以及存储介质 |
EP4334118A1 (en) * | 2021-05-04 | 2024-03-13 | Desktop Metal, Inc. | Layer spreading and compaction in binder jet 3d printing |
CN113751726A (zh) * | 2021-06-15 | 2021-12-07 | 山东鑫聚龙动力科技集团有限公司 | 一种发动机窄壁3d打印成型方法 |
CN113681898B (zh) * | 2021-09-17 | 2023-03-21 | 珠海赛纳三维科技有限公司 | 三维物体打印方法、数据处理装置及计算机设备 |
US11890677B2 (en) | 2021-12-23 | 2024-02-06 | Xerox Corporation | Fracturable support structure and method of forming the structure |
US20240009935A1 (en) * | 2022-07-07 | 2024-01-11 | Xerox Corporation | Fracturable support structure and method of forming the structure |
DE102022119792A1 (de) | 2022-08-05 | 2024-02-08 | Arburg Gmbh + Co Kg | Stützgeometrie |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63139729A (ja) * | 1986-12-03 | 1988-06-11 | Fujitsu Ltd | 立体形状形成装置 |
US4785399A (en) * | 1987-03-03 | 1988-11-15 | International Business Machines Corporation | Shaping geometric objects by cumulative translational sweeps |
JPS6461230A (en) * | 1987-09-02 | 1989-03-08 | Kunihiko Moriyama | Manufacturing device of solid statue of photo-setting resin |
US4857904A (en) * | 1987-09-15 | 1989-08-15 | Printware, Inc. | Combination of transition-encoded font information for generation of superimposed font images |
JPH0222035A (ja) * | 1988-03-08 | 1990-01-24 | Osaka Prefecture | 光学的造形法 |
US4999143A (en) * | 1988-04-18 | 1991-03-12 | 3D Systems, Inc. | Methods and apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography |
DE68929309T2 (de) * | 1988-04-18 | 2002-05-02 | 3D Systems Inc | Verringerung des stereolithographischen Verbiegens |
DE68929423T2 (de) * | 1988-04-18 | 2003-08-07 | 3D Systems Inc | Stereolithografische CAD/CAM-Datenkonversion |
JP2580759B2 (ja) * | 1989-02-28 | 1997-02-12 | ブラザー工業株式会社 | データ変換方法 |
JP2715527B2 (ja) * | 1989-03-14 | 1998-02-18 | ソニー株式会社 | 立体形状形成方法 |
JP2738017B2 (ja) * | 1989-05-23 | 1998-04-08 | ブラザー工業株式会社 | 三次元成形装置 |
GB2233928B (en) * | 1989-05-23 | 1992-12-23 | Brother Ind Ltd | Apparatus and method for forming three-dimensional article |
JPH0336019A (ja) * | 1989-07-03 | 1991-02-15 | Brother Ind Ltd | 三次元成形方法およびその装置 |
US5121329A (en) * | 1989-10-30 | 1992-06-09 | Stratasys, Inc. | Apparatus and method for creating three-dimensional objects |
SG47634A1 (en) * | 1989-10-30 | 1998-04-17 | 3D Systems Inc | Improved stereolithographic construction techniques |
US5204055A (en) * | 1989-12-08 | 1993-04-20 | Massachusetts Institute Of Technology | Three-dimensional printing techniques |
EP0515562B1 (en) * | 1990-02-15 | 1999-10-13 | 3D Systems, Inc. | Method of and apparatus for forming a solid three-dimensional article from a liquid medium |
ATE152381T1 (de) * | 1990-07-11 | 1997-05-15 | Incre Inc | Herstellungsverfahren gestaltfreier fester objekte aus der flüssigen phase |
US5198159A (en) * | 1990-10-09 | 1993-03-30 | Matsushita Electric Works, Ltd. | Process of fabricating three-dimensional objects from a light curable resin liquid |
EP0555369B1 (en) * | 1990-10-30 | 2002-08-28 | 3D Systems, Inc. | Layer comparison techniques in stereolithography |
JPH05301293A (ja) * | 1992-04-24 | 1993-11-16 | Fujitsu Ltd | 光造形法における支持構造体作製方法 |
JPH06114948A (ja) * | 1992-10-01 | 1994-04-26 | Shiimetsuto Kk | 未硬化液排出口付光硬化造形物とその造形法 |
JP2558431B2 (ja) * | 1993-01-15 | 1996-11-27 | ストラタシイス,インコーポレイテッド | 3次元構造体を製造するシステムを作動する方法及び3次元構造体製造装置 |
DE69425428T2 (de) * | 1993-02-18 | 2001-03-29 | Massachusetts Inst Technology | System für dreidimensionales drucken mit hoher geschwindigkeit und hoher qualität |
US5398193B1 (en) * | 1993-08-20 | 1997-09-16 | Alfredo O Deangelis | Method of three-dimensional rapid prototyping through controlled layerwise deposition/extraction and apparatus therefor |
CA2170119A1 (en) * | 1993-08-26 | 1995-03-02 | Royden C. Sanders, Jr. | 3-d model maker |
DE69432836T2 (de) * | 1993-11-02 | 2004-05-13 | Hitachi, Ltd. | Verfahren und vorrichtung zur korrektur der exzessiven ausgehärteten dicke von photometrisch geformten gegenständen |
EP0655317A1 (en) * | 1993-11-03 | 1995-05-31 | Stratasys Inc. | Rapid prototyping method for separating a part from a support structure |
JPH07227898A (ja) * | 1994-02-04 | 1995-08-29 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ブリッジング技術を含む部品作成方法 |
BE1008128A3 (nl) * | 1994-03-10 | 1996-01-23 | Materialise Nv | Werkwijze voor het ondersteunen van een voorwerp vervaardigd door stereolithografie of een andere snelle prototypevervaardigingswerkwijze en voor het vervaardigen van de daarbij gebruikte steunkonstruktie. |
JPH081794A (ja) * | 1994-06-22 | 1996-01-09 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 三次元物体の製造方法及び製造装置 |
US5945058A (en) * | 1997-05-13 | 1999-08-31 | 3D Systems, Inc. | Method and apparatus for identifying surface features associated with selected lamina of a three-dimensional object being stereolithographically formed |
US6159411A (en) * | 1999-02-08 | 2000-12-12 | 3D Systems, Inc. | Rapid prototyping method and apparatus with simplified build preparation for production of three dimensional objects |
-
1996
- 1996-09-27 EP EP96937643A patent/EP0852536B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 KR KR10-1998-0702284A patent/KR100450359B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-09-27 EP EP02078595A patent/EP1270184B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 DE DE69634921T patent/DE69634921T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 AU AU75503/96A patent/AU7550396A/en not_active Abandoned
- 1996-09-27 WO PCT/US1996/015639 patent/WO1997011837A1/en active IP Right Grant
- 1996-09-27 KR KR10-1998-0702283A patent/KR100450358B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-09-27 JP JP51367197A patent/JP3545421B2/ja not_active Expired - Lifetime
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- 1996-09-27 AT AT00201128T patent/ATE240829T1/de not_active IP Right Cessation
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- 1996-09-27 AT AT96937643T patent/ATE223300T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-09-27 SG SG9903429A patent/SG87044A1/en unknown
- 1996-09-27 CN CN96198249A patent/CN1202131A/zh active Pending
- 1996-09-27 DE DE69636237T patent/DE69636237T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 BR BR9610750A patent/BR9610750A/pt not_active Application Discontinuation
- 1996-09-27 AT AT02078595T patent/ATE299090T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-09-27 AT AT02078594T patent/ATE328722T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-09-27 BR BR9610663A patent/BR9610663A/pt not_active Application Discontinuation
- 1996-09-27 JP JP9513744A patent/JPH11513328A/ja active Pending
- 1996-09-27 EP EP96936016A patent/EP0852535B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 CA CA002233202A patent/CA2233202A1/en not_active Abandoned
- 1996-09-27 AT AT96936016T patent/ATE228927T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-09-27 SG SG9903128A patent/SG86352A1/en unknown
- 1996-09-27 EP EP02078594A patent/EP1262305B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 WO PCT/US1996/015517 patent/WO1997011835A2/en active IP Right Grant
- 1996-09-27 CA CA002233225A patent/CA2233225A1/en not_active Abandoned
- 1996-09-27 EP EP00201128A patent/EP1013407B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-27 AU AU73766/96A patent/AU7376696A/en not_active Abandoned
- 1996-09-27 DE DE69625220T patent/DE69625220T2/de not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-03-26 MX MX9802391A patent/MX9802391A/es unknown
-
1999
- 1999-01-15 HK HK99100225A patent/HK1015312A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-11-28 JP JP2002345125A patent/JP4050601B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-12-10 JP JP2003411878A patent/JP3955563B2/ja not_active Expired - Lifetime
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