JP4037362B2 - タングステン酸塩単結晶の製造方法 - Google Patents
タングステン酸塩単結晶の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4037362B2 JP4037362B2 JP2003514986A JP2003514986A JP4037362B2 JP 4037362 B2 JP4037362 B2 JP 4037362B2 JP 2003514986 A JP2003514986 A JP 2003514986A JP 2003514986 A JP2003514986 A JP 2003514986A JP 4037362 B2 JP4037362 B2 JP 4037362B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- atmosphere
- pbwo
- tungstate
- partial pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 119
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 39
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 38
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 32
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- NKTZYSOLHFIEMF-UHFFFAOYSA-N dioxido(dioxo)tungsten;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][W]([O-])(=O)=O NKTZYSOLHFIEMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- MFEVGQHCNVXMER-UHFFFAOYSA-L 1,3,2$l^{2}-dioxaplumbetan-4-one Chemical compound [Pb+2].[O-]C([O-])=O MFEVGQHCNVXMER-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- 229910000003 Lead carbonate Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 9
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 238000002600 positron emission tomography Methods 0.000 description 7
- 229910004829 CaWO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 229910003016 Lu2SiO5 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N lead dioxide Inorganic materials O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- -1 rare earth ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B9/00—Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B1/00—Single-crystal growth directly from the solid state
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
- C30B29/32—Titanates; Germanates; Molybdates; Tungstates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
本発明は、放射線検出用シンチレータやラマン結晶としてレーザーホストに有用なタングステン酸塩単結晶の製造方法に関するものである。
背景技術
PET(Positron Emission Tomography)に代表される医療用機器は、高性能化が日進月歩である。PETなどに使用されるγ線等の放射線検出用シンチレータには、空間分解能がすぐれた材料、すなわち単位体積当たりの放射線の吸収能力を高める高密度の材料が要求される。一方、測定器の感度の点からは、光量(p.e./MeV)が大きい程有利となる(p.e.はフォトエレクトロン)。
上記の要求を満たす材料として、従来Bi4Ge3O12が使用されている。しかし、近年医療用機器の高性能化に対応するため、
従来の材料よりも(1)高密度で、
(2)蛍光の減衰時間が短い
材料を求めて種々の物質の探索が行われてきた。
表1にPET用シンチレータ材料の特性比較を示すが、これらシンチレータ材料は通常単結晶で使用される。単結晶は、一般的に三酸化タングステン(WO3)および二価金属酸化物、またはWO3、一価金属酸化物および三価金属酸化物を原料として、大気雰囲気下、白金坩堝中で加熱溶融し、回転引上げ法(チョクラルスキー法)で製造される。
現在、Bi4Ge3O12、Gd2SiO5:CeあるいはLu2SiO5:Ce等を使用してPETが製造されているが、Bi4Ge3O12、Gd2SiO5:CeあるいはLu2SiO5:Ceは高い光量を示す反面、密度が未だ十分に高いとはいえず、さらなる高密度に対する要求がある。CdWO4は、光量が大きいにもかかわらず、蛍光の減衰時間が長くX線CTには有用であるが、PET用には適していない。
タングステン酸塩の一つであるPbWO4は高密度で蛍光の減衰時間が短いが、同じ強さの放射線が当たった時の光量は、相対値でBi4Ge3O12に対し1/25、Gd2SiO5:Ceに対し1/50、さらにLu2SiO5:Ceに対し1/188と極めて小さいため、PET用に利用することができなかった。ところが近年、光検出器としてフォトダイオードの性能が飛躍的に向上したことによって小さな光量でも検出が可能になってきており、検出可能な最低限の光量は表1に示す従来のPbWO4の2倍あれば良いとされている。
そこで、PbWO4が高密度で蛍光の減衰時間が短いという利点を生かしつつその光量を増大させるために、種々の試みがなされている。
その方法の一例は、Moの添加である。ところがPbWO4にMoを添加すると、放射線の弱い領域では光量が増加したように見えるが、放射線の強い領域では無添加の結晶と同じ光量であり、しかもMoの添加で蛍光の減衰時間を悪化させる。
また、希土類のTb、Pr、Eu、Smを添加すると光量増加の効果が認められるが、減衰時間の遅い成分が増加し、減衰時間の早い成分の光量は増加しないという欠点がある。
また、PbWO4に添加するCd量を、分子式Pb1−XCdXWO4におけるXの値が0.01以上、0.30以下となるようにすることで、光量を増加させる方法も開発されているが、このPb1−XCdXWO4は単結晶育成時および加工時にクラックが入りやすく歩留りが悪いという欠点がある。
このように、蛍光の減衰時間が短く、かつ大きな光量を示すようなPbWO4単結晶の製造は未だに成功していない。
一方で、PbWO4などのタングステン酸塩単結晶は、ラマン結晶としてNd3+など希土類イオンをドープしてレーザーホストとしての応用が期待されている。半導体レーザーなどでレーザーホストを励起すると、ラマン変換の結果生じるストークス光および半ストークス光を発振する2波長レーザー光が得られる。
2波長レーザー光を蛍光顕微鏡に適応し色素発光の非線形性を利用することで見かけの空間分離性を向上させる試みが行われている。従来、2波長レーザー光を同時に得るためには、異なった波長を有する2台のレーザー装置が必要で、それによって蛍光顕微鏡は装置全体が大きくなり、コストも上昇する原因となっていた。
一台のレーザー装置で2波長レーザー光が得られる波長可変レーザーも実用化されているが、このレーザー装置は波長変換を行う回折格子や屈曲板を機械的に動かすため、装置が複雑で大きくなり、仮に波長可変レーザー装置を使用しても1台の装置で同時に2波長のレーザー発振を得ることはできない。
レーザーホストとして使用可能と予想されているラマン結晶には、PbWO4の他、KGd(WO4)2、CdWO4、CaWO4など多くのタングステン酸塩単結晶がある。
しかし、レーザーホストとして応用するためには熱伝導率の向上が必要である。その理由はレーザー発振する際に結晶内に熱が蓄積すると結晶格子に歪が加わり、その結果発振波長の変化や光損傷のため連続発振ができないからである。さらに当然のことながら熱伝導率が悪いため高出力化が難しい。
発明の開示
上記のごとく、PbWO4単結晶は、放射線検出用シンチレータとして光量の増加が要求されている。光量は、従来のPbWO4単結晶と比較して少なくとも2倍以上必要である。一方、PbWO4などのタングステン酸塩単結晶は、レーザーホストとしては熱伝導率の向上が必要である。
本発明は、上記問題を解決するものであって、蛍光の減衰時間を犠牲にすることなしに光量が改善され、PET等の医療用の放射線検出用シンチレータとして応用可能なタングステン酸塩単結晶を得ることができ、また、熱伝導率を改善して2波長レーザー装置のレーザーホストとして有用なタングステン酸塩単結晶を得ることのできるタングステン酸塩単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
本発明のタングステン酸塩単結晶の製造方法は、三酸化タングステンおよび二価金属酸化物または二価金属炭酸塩、三酸化タングステンおよび一価金属酸化物または一価金属炭酸塩並びに三価金属酸化物、あるいはこれら酸化物もしくは炭酸塩を加熱して得られる分子式XIIWO4あるいはXIXIII(WO4)2(ただしXIは一価金属元素、XIIは二価金属元素、XIIIは三価金属元素)で表されるタングステン酸塩を原料としてタングステン酸塩単結晶を育成し、このタングステン酸塩単結晶を酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において600〜1550℃で加熱することを特徴としている。
例えば、PbWO4単結晶の場合、通常大気中で育成される。分子式から明らかなように酸素(O)が結晶構造を構成する主元素であるため、単結晶中の格子欠陥の発生に対しては雰囲気中のO2濃度が大きな影響を与える。PbOは、単結晶製造時に融液からその一部が蒸発し、固化した結晶中では、減少したPb2+を電荷補償するため、大気中のO2を再び取り込みながらPb4+が発生し、結果的に陽イオンと陰イオンのバランス、すなわちWO4 2−あるいは(WO4 2−+O2−)に対する(Pb2++Pb4+)が電荷的に等価となるようにバランスがとられ、PbWO4単結晶中のO/PbおよびW/Pbの原子比は化学量論比から正にずれが生じ、それによって多数の格子欠陥を含むものと考えられる。
本発明者は、蛍光の減衰時間が短く、かつ大きな光量を発するPbWO4単結晶ならびに熱伝導率の大きなレーザーホストとしての単結晶を求めて鋭意研究した結果、光量が小さく、また熱伝導率が小さい原因は、O/PbおよびW/Pbの化学量論比からのずれによって発生する多数の格子欠陥と捉え、PbWO4単結晶を酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気で加熱処理することを見出した。
PbWO4単結晶を酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において加熱すると、PbWO4単結晶中に含まれる過剰のOおよびWがO2およびWO3として結晶外に放出され、それに伴ってPb4+はPb2+に戻り、格子欠陥の少ない単結晶へ純化するものと考えられる。この処理によって、PbWO4単結晶は黄色透明から無色透明へと変化し、特に325〜600nmの光の透過率が格段に上昇し、400nm以上の光を検出するフォトダイオードにとって光電変換効率の向上に著しい効果をもたらす。また、格子欠陥が減少することにより、フォノンの散乱に起因する熱伝導率の低下が抑制され、レーザーホストとして優れたラマン結晶となる。
酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気は、一般的な概念からすると地上0mの場所では酸素分圧が21207Pa未満に調整された雰囲気であるが、目的とする性能を迅速かつ確実に得ることが可能なO2濃度としては28Pa以下の酸素分圧が最適である。28Paよりも大きい酸素分圧でも当然効果は見込まれるが、酸素分圧が28Paより大きいと結晶内部においてOおよびWの拡散速度が極めて遅く、O2およびWO3が結晶外へ放出されるのに長時間を要するため生産性が低く実用的でない。
酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気は、アルゴン(Ar)、窒素(N2)、ヘリウム(He)または二酸化炭素(CO2)を常圧で系内に導入する他、真空ポンプで系内を減圧することで得られる。CO2は600〜1550℃に加熱されると一部COとO2に分解するが、その時の平衡酸素分圧は0.00059〜416Paであり、28Pa以下の酸素分圧を維持できるのは600〜1200℃の範囲である。
また大排気量の真空ポンプを使用し減圧する場合は圧力調整ガスが必要で、その圧力調整ガスとしてはAr、N2、HeおよびCO2以外に大気を使用しても真空度を130Pa以下に制御することにより28Pa以下の酸素分圧が達成される。
Ar、N2、HeおよびCO2以外のガスとして水素(H2)を使用した場合は、PbWO4が還元され単結晶は崩壊する。
Ar、N2、HeおよびCO2を常圧で系内に導入する場合は、減圧する場合と比較して結晶内部からのOおよびWの拡散速度が遅く、O2およびWO3が結晶外へ放出されるのに長時間を要するだけでなく、雰囲気ガスの使用量も多くなりコスト上昇を引き起こす。したがって雰囲気の酸素分圧を低下させるためには、真空度が130Pa以下の減圧を利用するのが最も効果的である。ただし1×10−2Paよりも減圧にするとPbWO4の蒸発損失が大きくなるため、歩留りを考慮し圧力を設定しなければならない。
加熱温度は、目的とするタングステン酸塩単結晶の融点および沸点を考慮に入れ600〜1550℃の範囲で決定しなければならない。
加熱温度が600℃未満では、結晶内部においてOおよびWの拡散速度が遅く、O2およびWO3が結晶外へ放出されるのに長時間を要する。一方、1550℃より高温では、例えばCdWO4の融点1272℃、Bi4Ge3O12の融点1050℃、PbWO4の融点1123℃、Gd2SiO5:Ceの融点1900℃、Lu2SiO5:Ceの融点2150℃、CaWO4の融点1580℃などからわかるように、ほとんどのタングステン酸塩が融解またはその融点に近づくため融解の危険性が伴う上に蒸発損失量が増加する。
酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において、600〜1550℃で加熱した後に、引き続き、酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において、最低220℃まで冷却すると、冷却過程でPbWO4のPb2+が酸化し、再びPb4+へ変化するのを抑制することができる。たとえば酸素分圧が、約21000Paでは約350℃まで、1013Paでは約300℃まで、130Paであれば約250℃まで、さらに28Paでは約220℃までの冷却過程でPb2+がPb4+へ変化するのを抑制できる。220℃未満ではPb2+の酸化速度が遅いため酸素分圧の影響を受け難く、大気開放することも可能であるが、好ましくは酸素分圧が大気より負に調整された雰囲気で常温まで冷却するのが良い。
この冷却条件は、タングステン酸塩単結晶の違いによって異なるが、前記条件下であればほとんどのタングステン酸塩単結晶に重大な欠陥を生じさせるような悪影響は及ぼさない。なお、冷却速度は、熱歪を除去するのに重要な条件の一つであり、一般的に炉冷程度のゆっくりした冷却速度が好ましいが、各々単結晶の種類に対応して任意に変更しなければならない。
酸素分圧が大気より負に調整された雰囲気で加熱すると単結晶表面はわずかに白濁するが、研磨によって表面を研削すれば無色透明な平滑面が現れる。
従来のPbWO4単結晶は光量が約30p.e./MeVであるのに対し、酸素分圧が大気より負に調整された雰囲気において、600〜1100℃で加熱することで従来の単結晶の2倍以上の60p.e./MeV以上を示し、蛍光の減衰時間が従来の単結晶と変わらないPbWO4単結晶となる。また、PbWO4単結晶の熱伝導率は、1.5〜1.6W/m・Kまで向上し、高性能な2波長レーザー装置の作製が可能となる。
PbWO4単結晶以外の場合、例えばCdWO4単結晶は、PbWO4単結晶と同様にO/CdおよびW/Cdの原子比は化学量論比から正にずれが生じるが、比較的沸点の高い一価金属、二価金属あるいは三価金属酸化物によって生成するKGd(WO4)2のO/(K+Gd)およびW/(K+Gd)は化学量論比から負に、また、CaWO4のO/CaおよびW/Caも化学量論比から負にずれ、それによって多数の格子欠陥が発生しているものと考えられる。
KGd(WO4)2またはCaWO4は、沸点がK2O、Gd2O3あるいはCaOの沸点より低いため、酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において加熱することで過剰成分の除去はできず、組成に関連した格子欠陥の除去は期待できないが、単結晶中に残留している熱応力に関連した格子欠陥は除去される。
発明を実施するための最良の形態
例えば、PbWO4単結晶を製造するためには、WO3およびPbO、またはPbWO4を出発原料とし、大気雰囲気下、白金坩堝中で加熱溶融し、チョクラルスキー法で製造する。大気雰囲気以外にも、Ar、N2、HeまたはCO2雰囲気あるいはこれらと大気の混合ガス雰囲気でもPbWO4単結晶は製造可能であるが、PbWO4単結晶とO2の熱力学的平衡関係、製造設備の簡素化および低コスト化の観点から大気雰囲気が好ましいと考えられる。
良質なPbWO4単結晶を製造するために、出発原料であるWO3およびPbOは、WO2やPbO2など原子価の異なる酸化物を極力低下させたものを使用する必要がある。また、それらを使用して調製したPbWO4を使用する必要がある。不純物の総量はPbWO4 1モルに対して1×10−2モル以下にするのが良く、1×10−4モル以下であれば最適である。出発原料はこれら酸化物が最適であるが、目的とするPbWO4単結晶が製造できれば他の原料の使用も可能である。
製造されたPbWO4単結晶は、淡黄色透明で非常に脆い円柱状インゴットである。このPbWO4単結晶は、28Pa以下の酸素分圧になるようにAr、N2、HeまたはCO2雰囲気下あるいは真空度130Pa以下の減圧状態に制御しながら600〜1100℃で加熱する。
Ar、N2、HeまたはCO2は特に高純度を必要としないが、分析表で示されるO2濃度はなるべく低いものを使用することが好ましい。減圧においては、その真空度を130Pa以下にするのが良く、できるならば5×10−2Pa以下が最適である。Ar、N2、HeまたはCO2雰囲気下で加熱する場合、これらのガス流量は0.5〜5L/minが良いが、単結晶の大きさなどを考慮し、任意に変更する。加熱温度は1100℃を超えると融解の危険性があるので注意が必要である。
PbWO4単結晶は、円柱状インゴットのまま加熱しても良いが、結晶内部において過剰のOおよびWが結晶表面まで拡散する距離を短くし、結晶外へO2およびWO3の形で短時間で放出させるためには、用途に合わせた寸法に切断後、加熱することが好ましい。切断には、切断面の欠けや割れが少ない内周刃スライシングマシンやブレードソーなどを使用すると良い。
PbWO4単結晶は白金ボートに乗せ加熱するが、その加熱時間は雰囲気の種類と結晶の大きさによって異なり、通常12〜96hが適当である。600〜1100℃で加熱後、同じ雰囲気を維持したまま常温まで6〜24hで冷却する。
加熱後のPbWO4単結晶をさらに所定の大きさに切断し、鏡面研磨した後に60Co源のγ線を照射した時の光量は、60p.e./MeV以上、また蛍光の減衰時間は10ナノ秒を維持し、シンチレータとして極めて良好な特性を示す。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定すると1.5〜1.6W/m・Kが得られ、励起光によって発生した熱は速やかに熱移動される。
以下、本発明の実施例について説明する。
〔実施例1〕
純度99.99%のWO3粉末およびPbO粉末を等モル計量し、混合した後、これを直径70mm、高さ70mmの白金坩堝に入れ、大気雰囲気で高周波加熱により混合粉末原料を溶融し、その融液からチョクラルスキー法で直径35mm、長さ65mmのPbWO4単結晶を製造した。
次に、このPbWO4単結晶を白金ボートに乗せ、真空加熱炉を使用し、真空度5×10−2Paにおいて950℃で72h加熱し、同じ雰囲気下で常温まで12hで冷却した。
加熱処理後のPbWO4単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のPbWO4単結晶の約2.3倍の69p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、10ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は1.6W/m・Kであった。
〔実施例2〕
チョクラルスキー法で製造したPbWO4単結晶を白金ボートに乗せ、真空加熱炉を使用し、真空度5×10−2Paにおいて1100℃で48h加熱した。それ以外は実施例1と同様に処理した。
加熱処理後のPbWO4単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のPbWO4単結晶の約2.4倍の72p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、10ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は1.6W/m・Kであった。
〔実施例3〕
チョクラルスキー法で製造したPbWO4単結晶を白金ボートに乗せ、真空加熱炉を使用し、大気を圧力調整ガスとして使用した圧力調整装置で真空度を130Paに制御しながら1000℃で96h加熱した。それ以外は実施例1と同様に処理した。
加熱処理後のPbWO4単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のPbWO4単結晶の約2.0倍の60p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、10ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は1.6W/m・Kであった。
〔実施例4〕
チョクラルスキー法で製造したPbWO4単結晶を白金ボートに乗せ、真空加熱炉を使用し、真空度を5×10−4Paに制御しながら600℃で96h加熱した。それ以外は実施例1と同様に処理した。
加熱処理後のPbWO4単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のPbWO4単結晶の約2.0倍の60p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、10ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は1.5W/m・Kであった。
〔実施例5〕
チョクラルスキー法で製造したPbWO4単結晶を白金ボートに乗せ、雰囲気炉を使用し、O2濃度<1volppm(酸素分圧0.1Pa)のArを1L/min流しながら1100℃で96h加熱した。それ以外は実施例1と同様に処理した。
加熱処理後のPbWO4単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のPbWO4単結晶の約2.0倍の60p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、10ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は1.5W/m・Kであった。
〔実施例6〕
チョクラルスキー法で製造したPbWO4単結晶を白金ボートに乗せ、雰囲気炉を使用し、O2濃度<1volppm(酸素分圧0.1Pa)のN2を1L/min流しながら1100℃で96h加熱した。それ以外は実施例1と同様に処理した。
加熱処理後のPbWO4単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のPbWO4単結晶の約2.0倍の60p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、10ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は1.5W/m・Kであった。
〔実施例7〕
チョクラルスキー法で製造したPbWO4単結晶を白金ボートに乗せ、雰囲気炉を使用し、N2と大気の混合ガスをマスフローコントローラーで酸素濃度276volppm(酸素分圧28Pa)となるように炉内に導入しながら1100℃で96h加熱した。それ以外は実施例1と同様に処理した。
加熱処理後のPbWO4単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のPbWO4単結晶の約2.0倍の60p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、10ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は1.5W/m・Kであった。
〔実施例8〕
純度99.99%のWO3粉末およびCdO粉末を等モル計量し、混合した後、これを直径70mm、高さ70mmの白金坩堝に入れ、大気雰囲気下、高周波加熱により混合粉末原料を溶融し、その融液からチョクラルスキー法で直径35mm、長さ65mmのCdWO4単結晶を製造した。
次に、このCdWO4単結晶を白金ボートに乗せ、真空加熱炉を使用し、真空度0.1Paにおいて1150℃で72h加熱し、同じ雰囲気下で常温まで24hで冷却した。
加熱処理後のCdWO4単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のCdWO4単結晶の約1.5倍の4275p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、5000ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は2.9W/m・Kであった。
〔実施例9〕
純度99.99%のWO3粉末2モルに対してK2CO3およびGd2O3粉末を各1モル計量し、混合した後、これを直径70mm、高さ70mmの白金坩堝に入れ、大気雰囲気下、高周波加熱により混合粉末原料を溶融し、その融液からチョクラルスキー法で直径30mm、長さ35mmのKGd(WO4)2単結晶を製造した。
次に、このKGd(WO4)2単結晶を白金ボートに乗せ、真空加熱炉を使用し、真空度5×10−4Paにおいて1000℃で72h加熱し、同じ雰囲気下で常温まで24hで冷却した。
KGd(WO4)2単結晶は、60Co源のγ線を照射した時の光量が小さくシンチレータ材料としては優れていないため光量の測定は行わなかった。
加熱処理後のKGd(WO4)2単結晶を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は従来1.6W/m・Kであったものが1.7W/m・Kまで増加した。
〔実施例10〕
純度99.99%のWO3粉末およびCaO粉末を等モル計量し、混合した後、これを直径70mm、高さ70mmの白金坩堝に入れ、大気雰囲気下、高周波加熱により混合粉末原料を溶融し、その融液からチョクラルスキー法で直径30mm、長さ40mmのCaWO4単結晶を製造した。
次に、このCaWO4単結晶を白金ボートに乗せ、真空加熱炉を使用し、真空度0.1Paにおいて1550℃で72h加熱し、同じ雰囲気下で常温まで24hで冷却した。
加熱処理後のCaWO4を1cm×1cm×2cmの大きさに切断し、鏡面研磨した後、1cmの厚さの方向から60Co源のγ線を照射した時の光量および蛍光の減衰時間を測定した。光量は従来のCaWO4単結晶の約1.1倍の2000p.e./MeVとなり、蛍光の減衰時間は、5000ナノ秒を維持していた。また、レーザーフラッシュ法で20℃における熱伝導率を測定した。熱伝導率は2.5W/m・Kであった。
産業上の利用の可能性
このように、本発明のタングステン酸塩単結晶の製造方法によれば、X線やγ線等の放射線検出用シンチレータとして有用な密度が高く、光量が改善されたタングステン酸塩単結晶、ならびに熱伝導率が改善されることにより2波長レーザー装置のレーザーホストとして有用なタングステン酸塩単結晶を得ることができる。
Claims (4)
- 三酸化タングステンおよび酸化鉛( II )または炭酸鉛( II )、三酸化タングステンおよび一価金属酸化物または一価金属炭酸塩並びに三価金属酸化物、あるいはこれら酸化物もしくは炭酸塩を加熱して得られるPbWO 4 あるいは分子式XI XIII (WO4 )2 (ただしXI は一価金属元素、X III は三価金属元素)で表されるタングステン酸塩を原料としてタングステン酸鉛単結晶またはタングステン酸塩単結晶を育成し、該タングステン酸鉛単結晶またはタングステン酸塩単結晶を、系内を真空ポンプで130Pa以下に減圧することで酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において600〜1550℃で加熱することを特徴とするタングステン酸塩単結晶の製造方法。
- 三酸化タングステンおよび酸化鉛( II )または炭酸鉛( II )、三酸化タングステンおよび一価金属酸化物または一価金属炭酸塩並びに三価金属酸化物、あるいはこれら酸化物もしくは炭酸塩を加熱して得られるPbWO 4 あるいは分子式X I X III (WO 4 ) 2 (ただしX I は一価金属元素、X III は三価金属元素)で表されるタングステン酸塩を原料としてタングステン酸鉛単結晶またはタングステン酸塩単結晶を育成し、該タングステン酸鉛単結晶またはタングステン酸塩単結晶を、アルゴン、窒素、ヘリウム、または二酸化炭素を常圧で系内に導入することで酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において600〜1550℃で加熱することを特徴とするタングステン酸塩単結晶の製造方法。
- 前記雰囲気の酸素分圧が28Pa以下であることを特徴とする請求の範囲1または2記載のタングステン酸塩単結晶の製造方法。
- タングステン酸鉛単結晶またはタングステン酸塩単結晶を酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において600〜1550℃で加熱した後、引き続き、酸素分圧が大気よりも負に調整された雰囲気において最低220℃まで冷却することを特徴とする請求の範囲1〜3のうちいずれか一項に記載のタングステン酸塩単結晶の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001212336 | 2001-07-12 | ||
JP2001212336 | 2001-07-12 | ||
PCT/JP2002/006607 WO2003008676A1 (fr) | 2001-07-12 | 2002-06-28 | Procede pour preparer un monocristal de tungstate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2003008676A1 JPWO2003008676A1 (ja) | 2004-11-11 |
JP4037362B2 true JP4037362B2 (ja) | 2008-01-23 |
Family
ID=19047514
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003514986A Expired - Fee Related JP4037362B2 (ja) | 2001-07-12 | 2002-06-28 | タングステン酸塩単結晶の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4037362B2 (ja) |
CN (1) | CN1274887C (ja) |
CZ (1) | CZ300221B6 (ja) |
HU (1) | HUP0302668A2 (ja) |
RU (1) | RU2241081C2 (ja) |
WO (1) | WO2003008676A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4639711B2 (ja) * | 2004-09-15 | 2011-02-23 | 日立化成工業株式会社 | 無機シンチレータ及びその製造方法 |
CN100395380C (zh) * | 2006-04-21 | 2008-06-18 | 北京工业大学 | 提高稀土离子掺杂浓度的钨酸钡单晶制备工艺 |
CN100364896C (zh) * | 2006-08-17 | 2008-01-30 | 同济大学 | 一种钨酸汞的制备方法 |
CN100398701C (zh) * | 2006-09-15 | 2008-07-02 | 嘉兴学院 | 晶体生长原料处理方法 |
CN104671285B (zh) * | 2015-01-28 | 2016-08-03 | 洛阳理工学院 | 一种钼酸镉纳米棒的制备方法 |
CN106007713A (zh) * | 2016-07-08 | 2016-10-12 | 天津大学 | 一种高品质因数钨酸钙系微波介质陶瓷 |
CN115537912B (zh) * | 2022-10-24 | 2024-08-13 | 福建福晶科技股份有限公司 | 一种消除晶体体发热的kgw晶体制备方法及得到的晶体 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57100999A (en) * | 1980-12-15 | 1982-06-23 | Hitachi Chem Co Ltd | Heat treatment of single crystal of tungstic acid compound |
JPS60103100A (ja) * | 1983-11-08 | 1985-06-07 | Toshiba Corp | シンチレ−タ単結晶の熱処理方法 |
JPH10291898A (ja) * | 1997-04-22 | 1998-11-04 | Furukawa Co Ltd | タングステン酸鉛単結晶 |
-
2002
- 2002-06-28 HU HU0302668A patent/HUP0302668A2/hu unknown
- 2002-06-28 JP JP2003514986A patent/JP4037362B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-28 WO PCT/JP2002/006607 patent/WO2003008676A1/ja active Application Filing
- 2002-06-28 RU RU2003107559/15A patent/RU2241081C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2002-06-28 CN CNB02802513XA patent/CN1274887C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-28 CZ CZ20030724A patent/CZ300221B6/cs not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1274887C (zh) | 2006-09-13 |
WO2003008676A1 (fr) | 2003-01-30 |
HUP0302668A2 (hu) | 2003-12-29 |
JPWO2003008676A1 (ja) | 2004-11-11 |
CN1464920A (zh) | 2003-12-31 |
RU2241081C2 (ru) | 2004-11-27 |
CZ300221B6 (cs) | 2009-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4393511B2 (ja) | 希土類フッ化物固溶体材料(多結晶及び/又は単結晶)、及びその製造方法並びに放射線検出器及び検査装置 | |
EP2492378B1 (en) | Oxide and magneto-optical device | |
US8278624B2 (en) | Lutetium oxyorthosilicate scintillator having improved scintillation and optical properties and method of making the same | |
JPH0680854B2 (ja) | 固体非半導体レーザの製造方法 | |
EP2133449B1 (en) | Iodide single crystal, method for production the iodide single crystal, and scintillator comprising the iodide single crystal | |
WO1999033758A2 (en) | Rare earth soluble telluride glasses | |
Liu et al. | Influence of Yb concentration on the optical properties of CaF2 transparent ceramics codoped with Er and Yb | |
JP4037362B2 (ja) | タングステン酸塩単結晶の製造方法 | |
Dickens et al. | Increased luminescence and improved decay kinetics in lithium and cerium co-doped yttrium aluminum garnet scintillators grown by the Czochralski method | |
KR20120023090A (ko) | 적층형 ZnO계 단결정 신틸레이터 및 그의 제조방법 | |
Bensalah et al. | Growth and characterization of LiSrGaF6 single crystal | |
JP2003277191A (ja) | Yb混晶酸化物単結晶からなるシンチレータ用発光材料 | |
JP4785198B2 (ja) | フッ化物結晶及び真空紫外発光素子 | |
Barney et al. | The local environment of Dy 3+ in selenium-rich chalcogenide glasses | |
JP5994149B2 (ja) | X線シンチレータ用材料 | |
JP4605588B2 (ja) | 放射線検出用フッ化物単結晶及びその製造方法並びに放射線検出器 | |
EP2679652A1 (en) | Scintillator for neutron detection, and neutron radiation detector | |
Harrison et al. | Aliovalent doping of CeBr3 | |
KR20170129188A (ko) | 불화란탄 단결정 및 광학 부품 | |
Weller et al. | Chemical and optical studies of samarium doped caf2 type single crystals | |
JP4839634B2 (ja) | シンチレータの製造方法及びシンチレータ | |
JP5219949B2 (ja) | 金属フッ化物結晶及び真空紫外発光素子 | |
Vasil’eva et al. | Effect of Pb ions on the optical absorption in Gd 3 Ga 5 O 12 epitaxial films | |
JP2010073936A (ja) | 真空紫外発光素子 | |
JP5713810B2 (ja) | 金属フッ化物結晶、発光素子及びシンチレーター |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070710 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070817 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071009 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071031 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101109 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111109 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111109 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121109 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131109 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |