JP3981732B2 - 垂直磁気異方性を有するFePt磁性薄膜とその製造方法 - Google Patents
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- 229910005335 FePt Inorganic materials 0.000 title claims description 96
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 88
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 63
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 38
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 27
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 13
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 57
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 21
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 AuPt Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- RZJQYRCNDBMIAG-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Zn].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn] Chemical class [Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Cu].[Zn].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Ag].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn].[Sn] RZJQYRCNDBMIAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000012377 drug delivery Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000013160 medical therapy Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 210000005036 nerve Anatomy 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/123—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys having a L10 crystallographic structure, e.g. [Co,Fe][Pt,Pd] thin films
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/08—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
- H01F10/12—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys
- H01F10/14—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being metals or alloys containing iron or nickel
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/26—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by the substrate or intermediate layers
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- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
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- Y10T428/12771—Transition metal-base component
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- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
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- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12951—Fe-base component
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Description
則構造に変態する(規則化する)ことができない。このため、L10規則構造を得るために
は加熱した基板上に成膜をおこなう、または成膜後の不規則合金薄膜を熱処理するなど、通常500℃を超える高温プロセスが必要となる。しかしながら、現在ハードディスク装置
に使用されている材料はそのような高温に対する耐性を有しておらず、高温プロセスは実用的な観点から大きな障害となっている。
則化が進みにくいことがわかってきた。
M. Watanabe, M.Homma and T. Masumoto, Trans. J. Magn. Magn. Mater. 177, 1231 (1998))。 Y. K. Takahashi, M. Ohnuma, and K. Hono, Jpn. J. Appl. Phys. 40, L367(2001)
FeXPt100-X
(19<X≦45)
で表され、FePt 3 規則合金を含まない垂直磁気異方性を有するL1 0 構造FePt磁性薄膜を提供する。
、MgO(001)、NaCl(001)、またはGaAs(001)であることを特徴とするL1 0 構造FePt磁
性薄膜を、第5には、単結晶基板またはその表面の酸化物下地層に対して、遷移金属および貴金属のうちの1種または2種以上による下地層を介して成膜されていることを特徴とするL1 0 構造FePt磁性薄膜を、第6には、下地層が、Fe、Ag、Ni、CoおよびCrのうちの1
種または2種以上からなるシード層と、Au、Pt、およびCuのうちの1種または2種以上からなるバッファー層とにより構成されていることを特徴とするL1 0 構造FePt磁性薄膜を、
第7には、単結晶基板またはその表面の酸化物下地層がMgO(001)であり、その上にFeシード層を配し、該シード層の上にAu、Pt、およびAuPtのうちのいずれかであるバッファー層を配し、該バッファー層の上に成膜されていることを特徴とする請求項5または6のL1 0 構造FePt磁性薄膜を提供する。
て、温度240℃〜500℃の範囲でスパッタ成膜することを特徴とするL1 0 構造FePt磁性薄膜
の製造方法を、第9には、温度300℃以下でスパッタ成膜することを特徴とするL1 0 構造Fe
Pt磁性薄膜の製造方法を提供する。
配向し、かつ結晶磁気異方性が大きいFePt規則合金薄膜の低温合成を可能としている。
能としている。さらに基板とエピタキシャル成長させることにより、膜面垂直方向に一軸磁気異方性を有するL10構造FePt薄膜を創製することにより成功している。従来の低温製
造法と比して、FePt相の組成を変化させるだけの簡便な手法により、配向制御されたL10
構造FePt規則合金薄膜が低温で作製できることが大きな違いである。また、この簡便な手法により非常に大きな結晶磁気異方性を実現している。
、2nmから100nmの範囲でL10構造の薄膜を成膜することができる。
ることも考慮される。
て考慮される。
記録媒体をレーザー光などで局所的に加熱することにより、キュリー温度付近まで磁性体の温度を上昇させ、部分的に磁化(情報)を消失させる。このときに外部から磁場を印加しておくことにより、冷却後にその磁場の向きに磁化することができる。このような情報記録方式の動向を考慮すると、キュリー温度を制御することは、熱アシスト方式の磁気記録などへの応用に際して重要となる。そこで、この出願の発明のFePt薄膜の特徴が生かされることになる。すなわち、Ptリッチ側組成領域において、バルク値よりも低いキュリー温度Tcを有するFePt規則合金薄膜の低温合成が可能とされることである。また組成を調整することにより、任意にTcを制御することができることである。
到達真空度1X10-9Torr以下のUHV対応マグネトロンスパッタリング装置を用い、MgO(001)単結晶基板上にArガス圧1mTorrでFeシード層を1nm、Ptバッファー層を40nm室温で成膜し、その後基板温度300℃としてArガス圧5mTorrで18nmの膜厚でスパッタ成膜した。図1は、得られたFePt薄膜のX線回折パターンを示したものである。FeXPt100-X相は、X=68(a),62(b),52(c),45(d),38(e),34(f),30(g),19(h)の組成となっている。(00n)の
回折ピークのみを観測できることから、MgO(001)基板上にFePt層がMgO(001)//FePt(001)
の方位関係を持って成長していることがわかる。すべての組成のFePt薄膜においてFePt相の基本反射線である(002)および(004)回折ピークと、バッファー層のPt(002)と(004)回折ピークが観測される。x≦45のFePt薄膜において、FePtの超格子反射線である(001)およ
び(003)回折ピークを観測することができ、L10構造のFePt規則合金が得られていることが確認される。x=38のFePt薄膜において超格子反射線の積分強度が最も大きくなり、規則化が最も進行していることがわかる。化学量論組成であるFe50Pt50薄膜では超格子反射線が観測されず、化学量論組成のFePt薄膜においては300℃という基板温度は規則化をする
には低い温度であることがわかる。しかしながらFePt薄膜の組成をPt-rich側にずらすこ
とで規則化が進行し、300℃の基板温度においてもL10規則構造が得られていることがわかる。低温では、19<x≦45の組成領域でFePtの規則化が進行することが明らかとなった。
実施例1と同様にして、MgO(001)単結晶基板上にFeシード層を1nm、Ptバッファー層を40nm室温で成膜し、その後基板温度300℃としてFePt層を18nmの膜厚で成膜した。図2に
は、試料の膜面内方向および膜面垂直方向に測定した磁化曲線を示したものである。FeXPt100-X相は、x=52(a),45(b),38(c),34(d),30(e),19(f)の組成となっている。x=52のFePt薄膜は膜面内方向が磁化容易軸となっているが、xを減少させるにつれて磁化容易軸が膜面垂直方向に変化していることがわかる。x=38のFePt薄膜の膜面内方向と膜面垂直方向の磁化曲線によって囲まれた領域から算出した結晶磁気異方性定数Kuは、1.8×107erg/ccと非常に大きな値であった。19<X≦45の組成領域において、膜面垂直方向に一軸磁気異方性を有するFePt薄膜が合成可能であることを明らかにした。
図3には、実施例1と同様にして、MgO(001)単結晶基板上にFeシード層を1nm、Ptバッファー層を40nm室温で成膜し、その後基板温度300℃として18nmの膜厚で成膜したFeXPt100-X相のa軸とc軸方向の面間隔、そのc軸とa軸の軸比c/a、規則度S、および結晶
磁気異方性定数Kuの組成依存性を示した。xを38まで増加させることで、c面の面間隔は単調に減少し、その後38≦x≦68の範囲では一定の値を保っている。一方、a面の面間隔は38≦xの範囲で一定値をとっており、x≧38においては減少している。c/aからは結晶格子の歪の程度を評価することができる。c/aの値はx=38において極小値である0.
955を示し、そのときにS、Ku共に極大値をとっていることがわかる。
図4には、実施例1と同様にして、MgO(001)単結晶基板上にFeシード層を1nm、数種の金属・合金のバッファー層を40nm室温で成膜し、その後基板温度300℃として18nmの膜厚
で成膜したFe38Pt62薄膜のX線回折パターンを示した。バッファー層はAu、AuPt、およびPtを選択した。いずれのバッファー層を用いても、他の面からの回折線は見えずFePt相の超格子反射線である(001)および(003)回折ピークを明瞭に観測することができる。このことより、FePtとの格子ミスフィットの小さなバッファー層を選択することで、L10構造を
有するFePt規則合金薄膜の低温合成が可能であることを明らかにした。
図5には、実施例1と同様にして、MgO(001)単結晶基板上にFeシード層を1nm、バッファー層を40nm室温で成膜し、その後基板温度300℃として18nmの膜厚で成膜したFePt薄膜
の磁化曲線を示した。バッファー層はAu、AuPt、およびPtを選択した。FeXPt100-Xの組成はx=38または52とした。いずれのバッファー層を用いた場合において、Fe38Pt62薄膜の磁化容易軸が膜面垂直方向となっており、磁化曲線から算出される結晶磁気異方性定数は、Fe52Pt48薄膜のそれよりも大きな値となっていることがわかる。また、FePtとの格子ミスフィットがPtよりも大きいAuをバッファー層として選択した場合、下地層からの歪の影響により、Ptのバッファー層を用いた場合よりも大きな結晶磁気異方性を有していることがわかる。このことから、バッファー層の選択により異方性を制御することが可能であることがわかる。
図6には、実施例1と同様にして、MgO(001)単結晶基板上にFeシード層を1nm、Ptバッファー層を40nm室温で成膜し、その後基板温度300℃として膜厚tを変化させて成膜したFe38Pt62薄膜のX線回折パターンを示した。FePt層の膜厚tは9nmから54nmと変化させた
。いずれの膜厚においても、FePt相の超格子反射線である(001)および(003)回折ピークが観測されることから、L10構造を有するFePt規則合金薄膜が得られている。また膜厚の増
加によりL10規則構造に起因するピーク強度が増加していることから、より規則度の高いFePt薄膜が得られていると考えられる。
図7には、実施例1と同様にして、MgO(001)単結晶基板上にFeシード層を1nm、Ptバッファー層を40nm室温で成膜し、その後基板温度300℃として膜厚tを変化させて成膜したFe38Pt62薄膜の磁化曲線を示す。FePt層の膜厚tは9nmから54nmと変化させた。いずれのFePt層の膜厚においても、磁化容易軸が膜面垂直方向となっており一軸磁気異方性を持っ
ていることが確認される。また膜厚の増加により困難軸方向(この場合、膜面内方向)の磁化の飽和性が悪くなっていることから結晶磁気異方性が増加していると考えられる。
図8には、実施例1と同様にして、MgO(001)単結晶基板上にFeシード層を1nm、Auバッファー層を40nm室温で成膜し、その後基板温度240℃と300℃として18nmの膜厚で成膜したFe38Pt62薄膜のX線回折パターンを示した。基板温度240℃のFe38Pt62薄膜のX線回折パ
ターンから、FePt相の超格子反射線である(001)および(003)回折ピークを観測することができる。このことから、成膜時の基板温度が240℃以上の条件において規則化が進行する
ことが明らかとなった。
MgO(001)単結晶基板に対し、Arガス圧5mTorr、温度300℃の条件下にUHVマグネト
ロンスパッタリングにより、FePt薄膜を18nm厚みで直接に成膜した。
ことから、試料薄膜が(001)配向していることが確認される。化学量論組成付近のFe52Pt48薄膜では、明瞭なFePt(001)および(003)超格子反射線を観測することができず、規則化
が進行していない。しかしながらPtリッチ側の組成領域であるFe38Pt62薄膜においては、明瞭な超格子反射線を観測することができ、L10規則構造が形成されていることが確認さ
れる。
また、このとき配向制御を行うために、成膜中のArガス圧は3mTorrから40mTorrとすることが好ましいことも確認されている。
実施例1と同様にして、各種の下地層を有するFePt薄膜を作成した。これら薄膜について、格子不整合の影響について検討した。図11はその結果を示したものであって、Ptリッチ側の組成領域であるFe38Pt62薄膜では、格子不整合の大きな下地層を用いることにより、より大きな一軸磁気異方性エネルギーが得られること、一方、化学量論組成付近のFe52Pt48薄膜では、垂直磁気異方性を得るための最適な下地層との格子不整合が存在することがわかる。
MgO(001)基板に,UHV−マグネトロンスパッタにより、Arガス圧5mTorr、温度300
℃の条件下に、Feシード層(1nm)、Ptバッファー層(40nm)およびFePt薄膜(18nm)を成膜した。この際の組成は、次の6種類とし、各々の場合の磁化の温度依存性を評価した。
x=30,34,38,45,52,62
図12は、このPtバッファー層を用いた低温合成FePt薄膜における磁化の温度依存性を示したものである。高い規則度および大きな一軸磁気異方性を有していたFe38Pt62薄膜のTcは320℃である。これは、化学量論組成のバルク試料において報告されているTc=480℃(Phys.Z.,36(1935)544)よりも低い値である。これより、Ptリッチ側の組成領域において、
高規則度・高磁気異方性、およびバルク値よりも低いキュリー温度を有するFePt規則合金薄膜が低温で合成できることがわかる。
則相のTcの中間値をとっており、十分に規則化が進行していないことがわかる。x=38において、規則相の文献値とほぼ一致するTcの値が得られている。
Claims (9)
- 原子組成が、次式
FeXPt100-X(19<X≦45)
で表され、FePt 3 規則合金を含まない垂直磁気異方性を有するL1 0 構造FePt磁性薄膜。 - 100nm未満の膜厚であることを特徴とする請求項1のL1 0 構造FePt磁性薄膜。
- 単結晶基板またはその表面の酸化物下地層の上に成膜されていることを特徴とする請求項1または2のL1 0 構造FePt磁性薄膜。
- 単結晶基板またはその表面の酸化物下地層が、MgO(001)、NaCl(001)、またはGaAs
(001)であることを特徴とする請求項3記載のL1 0 構造FePt磁性薄膜。 - 単結晶基板またはその表面の酸化物下地層に対して、遷移金属および貴金属のうちの1種または2種以上による下地層を介して成膜されていることを特徴とする請求項3または4のL1 0 構造FePt磁性薄膜。
- 下地層が、Fe、Ag、Ni、CoおよびCrのうちの1種または2種以上からなるシード層と、Au、Pt、およびCuのうちの1種または2種以上からなるバッファー層とにより構成されていることを特徴とする請求項5のL1 0 構造FePt磁性薄膜。
- 単結晶基板またはその表面の酸化物下地層がMgO(001)であり、その上にFeシード層を配し、該シード層の上にAu、Pt、およびAuPtのうちのいずれかであるバッファー層を配し、該バッファー層の上に成膜されていることを特徴とする請求項5または6のL1 0 構造FePt磁性薄膜。
- 請求項1ないし7のいずれかのL1 0 構造FePt磁性薄膜の製造方法であって、温度240℃〜500℃の範囲でスパッタ成膜することを特徴とするL1 0 構造FePt磁性薄膜の製造方法。
- 温度300℃以下でスパッタ成膜することを特徴とする請求項8記載のL1 0 構造FePt磁性薄膜の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003313158A JP3981732B2 (ja) | 2003-03-27 | 2003-09-04 | 垂直磁気異方性を有するFePt磁性薄膜とその製造方法 |
US10/550,725 US20060188743A1 (en) | 2003-03-27 | 2004-03-25 | Fept magnetic thin film having perpendicular magnetic anisotropy and method for preparation thereof |
PCT/JP2004/004152 WO2004086427A1 (ja) | 2003-03-27 | 2004-03-25 | 垂直磁気異方性を有するFePt磁性薄膜とその製造方法 |
KR1020057018254A KR100690268B1 (ko) | 2003-03-27 | 2004-03-25 | 수직 자기 이방성을 갖는 FePt 자성 박막과 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003087789 | 2003-03-27 | ||
JP2003313158A JP3981732B2 (ja) | 2003-03-27 | 2003-09-04 | 垂直磁気異方性を有するFePt磁性薄膜とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004311925A JP2004311925A (ja) | 2004-11-04 |
JP3981732B2 true JP3981732B2 (ja) | 2007-09-26 |
Family
ID=33100398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003313158A Expired - Lifetime JP3981732B2 (ja) | 2003-03-27 | 2003-09-04 | 垂直磁気異方性を有するFePt磁性薄膜とその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060188743A1 (ja) |
JP (1) | JP3981732B2 (ja) |
KR (1) | KR100690268B1 (ja) |
WO (1) | WO2004086427A1 (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4585214B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2010-11-24 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録再生装置 |
TWI332201B (en) * | 2006-03-13 | 2010-10-21 | Po Cheng Kuo | Heat assisted recording medium and method for fabricating the same |
EP1887568B1 (en) | 2006-08-02 | 2010-02-17 | Po-Cheng Kuo | Heat assisted magnetic recording medium and method for fabricating the same |
JP4405485B2 (ja) | 2006-08-02 | 2010-01-27 | 株式会社東芝 | 磁性体膜および磁性体膜の製造方法 |
JP4810360B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2011-11-09 | 石福金属興業株式会社 | 磁性薄膜 |
WO2008030199A1 (en) * | 2006-09-08 | 2008-03-13 | Agency For Science, Technology And Research | Chemically ordered perpendicular recording media |
KR101496171B1 (ko) * | 2007-12-14 | 2015-02-27 | 시게이트 테크놀로지 엘엘씨 | 자기박막구조체, 자기기록매체 및 그 제조방법 |
JP5067739B2 (ja) | 2008-07-28 | 2012-11-07 | 国立大学法人東北大学 | 磁性薄膜とその成膜方法並びに磁性薄膜の応用デバイス |
JP5550007B2 (ja) | 2008-12-05 | 2014-07-16 | 国立大学法人東北大学 | 磁性薄膜及びその製造方法、並びにこのような磁性薄膜を用いた各種応用デバイス |
KR100978491B1 (ko) * | 2008-12-11 | 2010-08-30 | 한국과학기술원 | L10 규칙화 구조의 FePt 나노 도트 어레이의 제조방법 |
US9520151B2 (en) | 2009-02-12 | 2016-12-13 | Seagate Technology Llc | Multiple layer FePt structure |
US9401170B1 (en) | 2009-11-24 | 2016-07-26 | WD Media, LLC | Perpendicular magnetic recording medium with epitaxial exchange coupling layer |
US8173282B1 (en) | 2009-12-11 | 2012-05-08 | Wd Media, Inc. | Perpendicular magnetic recording medium with an ordering temperature reducing layer |
US8530065B1 (en) | 2010-08-10 | 2013-09-10 | WD Media, LLC | Composite magnetic recording medium |
US8889275B1 (en) | 2010-08-20 | 2014-11-18 | WD Media, LLC | Single layer small grain size FePT:C film for heat assisted magnetic recording media |
CN102097105B (zh) * | 2010-12-01 | 2012-07-11 | 南京大学 | FePt/CoPt-非磁氧化物磁性复合薄膜的制备方法 |
US8940418B1 (en) | 2010-12-23 | 2015-01-27 | WD Media, LLC | Dynamic spring media with multiple exchange coupled hard-soft magnetic layers |
US8591751B2 (en) | 2011-09-30 | 2013-11-26 | Headway Technologies, Inc. | Very thin high coercivity film and process for making it |
US9269480B1 (en) | 2012-03-30 | 2016-02-23 | WD Media, LLC | Systems and methods for forming magnetic recording media with improved grain columnar growth for energy assisted magnetic recording |
US8787130B1 (en) | 2013-03-15 | 2014-07-22 | WD Media, LLC | Systems and methods for providing heat assisted magnetic recording media configured to couple energy from a near field transducer |
US8947987B1 (en) | 2013-05-03 | 2015-02-03 | WD Media, LLC | Systems and methods for providing capping layers for heat assisted magnetic recording media |
JP2016051497A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | シーゲイト テクノロジー エルエルシー | 熱アシストデータ記録媒体を備える装置およびデータ記録媒体 |
US9685184B1 (en) | 2014-09-25 | 2017-06-20 | WD Media, LLC | NiFeX-based seed layer for magnetic recording media |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5637411A (en) * | 1991-07-29 | 1997-06-10 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magneto-optical recording medium and process for producing the same |
JP3305790B2 (ja) * | 1993-01-27 | 2002-07-24 | 財団法人電気磁気材料研究所 | 薄膜永久磁石の製造方法 |
US6331364B1 (en) * | 1999-07-09 | 2001-12-18 | International Business Machines Corporation | Patterned magnetic recording media containing chemically-ordered FePt of CoPt |
JP3434476B2 (ja) * | 1999-09-29 | 2003-08-11 | 秋田県 | 高密度情報記録媒体及びその媒体の製造方法 |
JP3385004B2 (ja) * | 2000-10-11 | 2003-03-10 | 秋田県 | 磁気記録媒体 |
JP2002208129A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-07-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置 |
JP3730518B2 (ja) * | 2001-01-19 | 2006-01-05 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体 |
-
2003
- 2003-09-04 JP JP2003313158A patent/JP3981732B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-03-25 WO PCT/JP2004/004152 patent/WO2004086427A1/ja active Application Filing
- 2004-03-25 KR KR1020057018254A patent/KR100690268B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-03-25 US US10/550,725 patent/US20060188743A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100690268B1 (ko) | 2007-03-12 |
US20060188743A1 (en) | 2006-08-24 |
WO2004086427A1 (ja) | 2004-10-07 |
KR20060024355A (ko) | 2006-03-16 |
JP2004311925A (ja) | 2004-11-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060516 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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