JP3385004B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は情報記録技術に係わ
り、特に微細な磁区構造を有し高い記録分解能を達成す
る新規な情報記録層から構成される高密度磁気記録媒体
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体は、膨大な情報量を
記録する手段として盛んに研究開発が行われており、特
にコンピュータ用ハード・ディスク装置に用いられる磁
気記録媒体は、非常な勢いでその記録面密度の高密度化
が進んでいる。
【0003】現在、磁気記録媒体の技術としてこの記録
媒体においては「長手記録方式」と称する記録膜の面内
方向に磁化ベクトルを向け信号を記録する記録方式が用
いられているが、更なる高密度記録を実現する方法とし
て、記録膜の垂直方向に磁化ベクトルを向け信号を記録
する「垂直記録方式」(S. Iwasaki and Y. Nakamura;IE
EE Trans. Magn., vol. MAG-13, pp. 1272-1277, 1977)
が注目されている。
【0004】一方、磁気記録材料としては、いずれの記
録方式においても記録層としてCo−Cr系合金が主に
用いられている。この際、下地層の種類、結晶配向性あ
るいは格子定数により、この層の直上に設けられたCo
−Cr系合金の結晶配向性を制御することができ、した
がって、磁化ベクトルの方向を決める磁化容易軸の方向
を制御することができる。現在、この様な手法を用い作
製されたCo−Cr系合金薄膜を情報記録層とする、長
手記録媒体または垂直記録媒体の研究開発が盛んに行わ
れている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述したCo−Cr系
合金薄膜を用いる情報記録媒体に対し、特許第3010
156号には、情報の保存安定性に優れる結晶磁気異方
性の大きいL1形規則合金薄膜を用いた垂直磁気記録
媒体の図12(a)の如くの構造とその製造方法が教示
されている。この製造方法による垂直磁気記録媒体は、
Cr、Pt、Pd、Au、Fe、Ni、MgO又はNi
Oの何れから選ばれた元素もしくは化合物を主成分とし
た下地層40を用い、L1形規則合金薄膜を情報記録
層12とした情報記録媒体である(以下、図12(a)
の構造をもつ媒体を「単層膜垂直磁気記録媒体」と記
す)。
【0006】さらに、記録特性の制御の為にFe、Fe
Si合金、パーマロイなどの軟磁性材料から成る層30
(図12(b))を設け、L1形規則合金薄膜を情報
記録層12とした情報記録媒体である(以下、図12
(b)の構造をもつ媒体を「二層膜垂直磁気記録媒体」と
記す)。
【0007】また、特願平11−276414号には、
高い再生出力と高い記録分解能を両立する結晶磁気異方
性の大きいL1形規則合金薄膜を用いた垂直磁気記録
媒体として、図12(c)の如くの構造とその製造方法
が提案されている。
【0008】しかしながら、このようなL1形規則合
金薄膜を用いた垂直磁気記録媒体においては、L1
規則合金薄膜の磁気特性、具体的には、抗磁力、飽和磁
化、また磁区寸法の制御が容易ではない。特に記録媒体
の記録分解能の向上、ならびに信号雑音比を改善する媒
体雑音の低減のためには、L1形規則合金薄膜の微細
構造を制御し、磁区寸法を低減する技術が必要となる。
【0009】一方、K. R. Coffey, M. A. Parker and
J. K. Howard (IEEE Trans. Mag., vol. 31, pp. 2737-
2739 (1995))は、L1形規則合金薄膜にZrOを添
加した混合物の薄膜を作製し、L1形規則合金薄膜の
微細構造を制御する方法を提案している。しかしここで
提案された技術は、L1形規則合金相の結晶配向性を
制御していないため、得られる垂直磁化成分が小さく、
高密度記録に適する垂直記録方式に用いることは困難で
ある。また、大きな結晶磁気異方性を発現するL1
規則合金相の形成のため混合物薄膜の製膜後にアニール
処理を行っているので、複雑な媒体作製工程を必要とす
る方法である。
【0010】これまでに、L1形規則合金から成る混
合物薄膜に用いられた添加物としては、TaN(例え
ば、T. Shimatsu, E. G. Keim, T. Bolhuis, and J. C.
Lodder; J. Magn. Soc. Jpn., S2-21, pp. 313-316 (1
997))、Ag(例えば、S. Stavroyiannis, I. Panagio
topoulous, D. Niarchos, J. A. Christodoulides, Y.Z
hang, and G. C. Hadjipanayis; Appl. Phys. Lett.,
73, pp. 3453-3455 (1998))、C(例えば、M. Yu, Y.
Liu, A. Moser, D. Weller, and D. J. Sellmyer; App
l. Phys. Lett., 75, pp. 3992-3994 (1999))、B(例
えば、N. Li, and B. M. Lairson; IEEE Tran. Magn.
vol. 35, pp. 1077-1081 (1999))、SiO(例え
ば、C. Chen, O. Kitakami, S. Okamoto, Y. Shimada,
K. Shibata,and M. Tanaka; IEEE Trans. Magn., Vol.
35, pp. 3466-3468 (1999))、Al (例えば、
M. Watanabe, T. Masumoto, D. H. Ping, and K. Hon
o; Appl. Phys. Lett., 76, pp. 3971-3973 (2000))
などが報告されている。
【0011】しかしながら、いずれの添加物が加えられ
たL1形規則合金から成る混合物薄膜の場合も、L1
形規則合金相の結晶配向性を制御していないため、得
られる垂直磁化成分が小さく若しくは面内磁化成分が大
きく、これらの混合物薄膜を高密度記録に適する垂直記
録方式に用いることは困難である。
【0012】つまり、L1形規則合金混合物薄膜にお
いて、垂直磁気記録媒体に適する、即ちL1形規則合
金相の結晶配向性を制御しかつL1形規則合金相の形
成に適する添加物の選定指針は、これまでのところ明ら
かにされていない。したがって、垂直磁気記録媒体のた
めの新しいL1形規則合金混合物薄膜の提案が切望さ
れている。
【0013】そこで本発明の目的は、結晶磁気異方性の
大きいL1形規則合金混合物薄膜を用いた垂直磁気記
録媒体であって、情報記録層の磁気特性を制御する、特
に磁区寸法を低減することのできる高密度記録が可能な
磁気記録媒体を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は以上の現状に鑑
みて成されたものであり、上記課題を解決し目的を達成
するため、本発明では次のような手段を講じている。即
ち本発明は新しい混合物薄膜組成を見出し、この知見に
基づき本発明を完成するに至った。即ち、本発明の第一
の発明として、情報記録層の磁気特性を制御、特に磁区
寸法を低減するための新しいL1形規則合金の混合物
薄膜から構成される垂直磁気記録媒体を、特許請求の範
囲に記載の如くの方法で提案するものである。
【0015】[1]情報記録層を有し磁場を用いて情報
の記録再生可能な磁気記録媒体において、A群(:Fe
Pt規則合金、CoPt規則合金又はFePd規則合
金、及びこれらの合金)から選ばれるL1形規則合金
とMgOとの混合物から成ることを特徴とする磁気記録
媒体を提案する。 [2]前記混合物から成る前記情報記録層において、前
記L1形規則合金から成るL1形規則合金相の結晶
格子面のミラー指数(001)が、前記情報記録層の面
と平行になるように形成されていることが特徴の[1]
記載の磁気記録媒体である。
【0016】また、[3]所定の軟磁性材料から成る層
と所定の非磁性材料から成る層と前記情報記録層が順次
形成された層構造を有することを特徴の磁気記録媒体で
ある。さらに、[4]前記非磁性材料はMgOであるこ
とを特徴とする[3]記載の磁気記録媒体である。或い
はまた、[5]前記軟磁性材料が、B群(:Fe、Fe
−Si合金、Ni−Fe合金)から選ばれることが特徴
の[3]記載の磁気記録媒体である。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明は、L1形規則合金薄膜
の磁気特性を制御、特に磁区寸法を低減する、新規なL
形規則合金混合物薄膜から構成される垂直磁気記録
媒体を教示するものである。以下に本発明に係わる好適
な実施形態を挙げ、続いてその複数の実施例に基づき、
図1〜図11を参照しながら具体的に説明する。
【0018】図1(a)〜(d)には本発明の磁気記録
媒体の基本的な層構造を例示する。本発明は、磁場を用
いて情報の記録再生を行う情報記録媒体において、図1
(a)に示す如く、情報記録層10が、下記のA群から
選ばれるL1形規則合金とMgOとの混合物から成る
ことを1つの主な特徴とするものである。但しここでの
A群とは、FePt規則合金、CoPt規則合金又はF
ePd規則合金、及びこれらの合金であるとする。
【0019】すなわち本発明においては、情報の保存安
定性に優れる情報記録媒体を得るために、上記A群から
選ばれる結晶磁気異方性の大きいL1形規則合金情報
記録層を用い、かつその情報記録層の磁気特性制御のた
めにMgOを添加することを1つの特徴とする。
【0020】MgOの添加量には特に制約はなく、例え
ば10体積含有率(%)〜80体積含有率(%)程度の
範囲でMgOを添加することができる。この際、添加量
を多くするにしたがい、L1形規則合金混合物情報記
録層の飽和磁化が小さくなり再生出力が低下する。一
方、磁区寸法は低減し、媒体雑音が改善され、また記録
分解能は向上する。したがって、MgOの添加量は記録
再生システムから適宜設計することができる。以上の点
は、従来技術であるMgOを添加しないL1形規則合
金を用いた磁気記録媒体に対する本発明による効果であ
る。
【0021】さらに、本発明に係わるMgOを添加した
L1形規則合金混合物薄膜10は、他の例えばSiO
を添加した混合物薄膜もしくはAlを添加した
混合物薄膜に比べ低い製膜温度のもとで作製できる利点
を有する。この利点は、従来提案されている添加物に対
する本発明による効果である。一方、当該L1形規則
合金混合物薄膜10の膜厚は記録再生特性の観点から決
めることができ、特に制約はなく、例えば3nm〜10
0nm程度の範囲で設計することができる。
【0022】さらに、本発明は、図1(b)に示す如
く、前記混合物から成る情報記録層におけるL1形規
則合金相の結晶格子面のミラー指数(001)が該情報
記録層の面と平行になるように形成されていることも特
徴としている。
【0023】この際、例えば特許第3010156号に
開示されている如く、結晶格子面のミラー指数(10
0)が他の隣接層および基板と平行になるように制御さ
れたCr、Pt、Pd、Au、Fe、Ni、MgO又は
NiOの何れから選ばれた元素もしくは化合物を主成分
とした下地層40(図12(a)参照)を用い、本発明
のL1形規則合金混合物薄膜10’から成る磁気記録
媒体を作製することができる。
【0024】また、本発明においては、図1(c)に示
す如く、軟磁性材料から形成される層30と非磁性材料
から形成される層20と上記L1形規則合金混合物薄
膜を用いた情報記録層10’が順次形成されていること
も1つの特徴としている。
【0025】本発明における情報記録媒体は軟磁性材料
から成る層30を有していることから、情報記録の際に
用いる磁気ヘッドは、狭い磁界分布から成る垂直磁界を
記録媒体に誘起することができる。したがって、用いる
情報記録層であるL1形規則合金混合物薄膜10’に
おける磁化ベクトルが膜面に対し垂直、即ちL1形規
則合金相の結晶格子面のミラー指数(001)が基板と
平行になるよう制御された場合、急峻な垂直磁界を有効
に利用できることにより高密度記録特性が著しく向上
し、高密度記録媒体として特に好ましい。
【0026】この際、例えば図1(d)に示す如く、結
晶格子面のミラー指数(100)が他の隣接層および基
板と平行になるように制御されたCr、Pt、Pd、A
u、Fe、Ni、MgO又はNiOの何れから選ばれる
元素もしくは化合物を主成分とした下地層40を形成
し、更に本発明における層構造、即ち軟磁性材料から成
る層30と非磁性材料から成る層20とL1形規則合
金混合物情報記録層10’を順次形成することにより、
当該L1形規則合金混合物情報記録層におけるL1
形規則合金相の結晶格子面のミラー指数(001)を他
の隣接層および基板と平行になるように制御することが
できる。
【0027】本発明における情報記録媒体は、非磁性材
料から成る層20を有することにより、高い分解能を実
現できる。この非磁性材料から成る層20は、軟磁性材
料から成る層30とL1形規則合金混合物薄膜層1
0’との間の磁気的な相互作用を調整し、磁気特性の改
善、例えばL1形規則合金混合物情報記録層10’の
抗磁力を大きくする効果を発揮する。更にまた、採用す
る非磁性材料によっては、L1形規則合金混合物薄膜
層10’の結晶性、結晶配向性を制御することができ
る。
【0028】非磁性材料から成る層20は、軟磁性材料
から成る層30及びL1形規則合金混合物薄膜層1
0’の両層と合金化しないことが好ましく、特にMgO
を用いた場合、分解能の向上に著しい効果を示す。さら
にMgOを用いた場合、L1形規則合金混合物薄膜層
10’におけるL1形規則合金相の結晶性および結晶
配向性を向上させることができ、当該情報記録層10’
の膜厚を低減できる。したがって、情報記録の際に用い
る磁気ヘッドの磁界分布を狭めることができ、またその
強度を強めることができることから、記録特性の向上に
対する効果も期待できる。
【0029】非磁性材料から成る層20の膜厚は、ここ
に用いる軟磁性材料から成る層30とL1形規則合金
薄膜層10’の組み合わせにより適宜設計できるが、少
なくとも情報記録の際に用いる磁気ヘッドが発生する記
録磁界を損ねない程度の膜厚、例えば10nm程度以下
の膜厚が好ましい。尚、本発明で言う処の「非磁性材
料」は、室温において、反磁性、パラ磁性、アンチフェ
ロ磁性を示す材料を指すものとする。
【0030】本発明における軟磁性層材料から成る層3
0は、用いるL1形規則合金混合物薄膜10’の飽和
磁化、情報記録の際に用いる磁気ヘッド、或いはまた記
録再生システムにより、合金、酸化物、多層膜、グラニ
ュラー膜から適宜に選ぶことができる。例えば、高い飽
和磁化を有するFeもしくはFe系合金、具体的にはF
e−Si合金(例えば、Si組成が1.5重量%)、N
i―Fe合金(例えば、重量組成比としてNi/Fe=
1)を用いると軟磁性材料は薄膜化でき、また高い透磁
率を有するNi―Fe合金(例えば、重量組成比として
Ni/Fe=4)を用いると高い記録感度が得られる。
このようなことから、Fe、Fe−Si合金、Ni−F
e合金は特に好ましい。
【0031】また、これらの合金と例えば酸化物から成
るグラニュラー膜は電気抵抗率が大きく、高周波記録時
に発生する渦電流損失を低減できることから、高周波記
録用途として用いることができる。一方、アモルファス
合金、例えばCo−Zr−Nb合金を用いた場合は、記
録媒体の表面平滑性を向上させることができ、情報記録
・再生の際に用いる磁気ヘッドへの損傷を低減すること
ができることから、このような材料を用いることも好適
である。
【0032】軟磁性材料から成る層30の膜厚は、用い
る磁気ヘッドの幾何学的な形状から設計することがで
き、具体的には単磁極型の記録ヘッドを用いる場合は5
0nm〜1μm程度までの膜厚で媒体を設計することが
可能であり、リングタイプの記録ヘッドを用いる場合は
5nm〜50nm程度の膜厚で媒体を設計することもで
きる。
【0033】さらに本発明による情報記録媒体は、「ス
パッタ製膜法」を用いて作製することができる。すなわ
ち、軟磁性層30と、非磁性層20と、下記A群から選
ばれるL1形規則合金とMgOの混合物から成る情報
記録層10もしくは10’を順次に形成していくこと
で、磁気記録媒体の層構造として作製する。但し、A群
は、FePt規則合金、CoPt規則合金又はFePd
規則合金、及びこれらの合金とする。
【0034】またその他にも、軟磁性材料から成る層3
0はスパッタ製膜法だけでなく、例えば電気化学的手法
で作製することも可能であり、さらには軟磁性材料で作
製された基板、例えばフェライト基板を用いることでそ
の機能を果たすことも可能である。尚、本発明において
用いることの可能な基板の種類については、特に制約は
ないが、例えば、ガラス基板、Si基板、サファイア基
板、その他セラミックスなどを用いることができる。
【0035】ここで、本発明による磁気記録媒体を評価
するための評価基準としては、次のような評価方法に従
っている。すなわち、 (1) 結晶構造の評価に関しては、Cu−Kα線を用
いたX線回折により行う。この際、結晶配向性の評価
は、評価すべき結晶格子面に対するロッキングカーブを
測定し、その半値幅を指標とする。
【0036】(2) 磁気特性の評価には、極カー効果
を用いヒステリシスループを測定し、垂直抗磁力を求め
る。またループの角形性は、残留磁化状態におけるカー
回転角(θr)の最大印加磁界(13kOe)における
カー回転角(θm)に対する比(θr/θm)とする。 (3) 磁区の大きさの評価に関しては、試料を交流消
磁を行い、磁気力顕微鏡により試料の磁気像を観測し、
そのスペクトル解析から評価する。
【0037】(4) 記録再生特性の評価は、線速度
5.08m/sのもとで行う。記録用磁気ヘッドとして
は主磁極厚が1μm、トラック幅10μmから成る薄膜
単磁極型ヘッドを用い、再生用ヘッドとしてはシールド
ギャップ長0.13μm、トラック幅0.63μmから
成る磁気抵抗ヘッドを用いる。
【0038】続いて、本発明を適用した幾つかの詳しい
実施例を挙げ、それぞれを上記の評価方法にて従来技術
で得られたものと順次比較しながら、本発明がもたらす
作用効果について説明する。
【0039】
【実施例1】図2(a),(b)および図3(a),
(b)には、本発明に係わる実施例1の磁気記録媒体
と、それらの比較例の磁気記録媒体の層構造を例示す
る。
【0040】本発明における実施例1の磁気記録媒体
は、図2(a)に示す層構造を有するものであり、次の
ようにして作製する。すなわち、ハード・ディスク基板
上に、膜厚5nmのMgO層を「RFマグネトロンスパ
ッタ法」により、次に膜厚70nmのCr層を「DCマ
グネトロンスパッタ法」により、次に本発明における軟
磁性層として膜厚200nmのFeSi層を「DCマグ
ネトロンスパッタ法」により、次に本発明における非磁
性層として膜厚1nmのMgO層を「RFマグネトロン
スパッタ法」により、さらに本発明のFePt規則合金
とMgOの混合物(以下、FePt−MgO混合物薄膜
層と記す)から成る膜厚12nmの情報記録層を順次作
製する。この時、FePt−MgO混合物薄膜層は、F
ePt合金(原子組成比としてFe/Pt=1)スパッ
タターゲット上にMgOのチップを並べ、「RFスパッ
タ法」を用いて製膜する。そのスパッタ製膜条件は、基
板温度450℃、スパッタガス圧50Pa、ターゲット
基板間距離は95mmである。尚、他のすべての層のス
パッタ製膜条件は、基板温度50℃、スパッタガス圧
0.2Pa、ターゲット基板間距離は50mmである。
【0041】(作用効果1)図4(a)に、上述した方
法で作製された記録媒体のX線回折パターンを示す。図
示の如く、FePt規則合金相の形成とその結晶配向性
が結晶格子面のミラー指数(001)であることを示す
回折パターンとなっている。このFePt規則合金相の
結晶格子面のミラー指数(001)に対するロッキング
カーブ半値幅は4.8度であり、優れた結晶配向性であ
ることがわかる。
【0042】また図4(b)に、上述の記録媒体のヒス
テリシスループを示す。垂直抗磁力は3.4kOe、角
形性は0.96であり、垂直磁気記録媒体として優れた
磁気特性を示すことがわかる。
【0043】さらに図5(a)には、上述の記録媒体の
磁区構造を磁気力顕微鏡を用いて観測した結果を示す。
この磁気力顕微鏡像のスペクトル解析から求まる磁区寸
法は78nmであり、次に例示する従来技術にもとづく
比較例1の情報記録媒体に比べ、小さな磁区寸法である
ことがわかる。
【0044】一方、図5(b)には、上述の記録媒体の
記録再生特性の評価結果を示す。例示するものは、線記
録密度300kFRPIの信号を記録した際の再生信号
のスペクトル、線記録密度400kFRPIの信号を記
録した際の再生信号のスペクトル、ならびに線記録密度
500kFRPIの信号を記録した際の再生信号のスペ
クトルをそれぞれ合わせてここに図示している。よっ
て、図示の如く、線記録密度500kFRPIの信号が
記録再生できることがわかる。すなわち、本発明の記録
媒体は高い分解能を有していることを示している。
【0045】(比較例1)本発明の情報記録媒体に対す
る1つの比較例として、実施例1記載の磁気記録媒体を
構成する情報記録層11を従来技術のFePt薄膜層1
2とした以外は同じ方法で媒体を作製した(図2(b)
参照)。
【0046】図6にこの媒体の磁区構造を磁気力顕微鏡
を用いて観測した結果を示す。この磁気力顕微鏡像のス
ペクトル解析から求まる磁区寸法は95nmであり、実
施例1の情報記録媒体に比べ、薄膜の微細構造を制御し
ていないことから大きな磁区寸法であることがわかる。
【0047】(比較例2)本発明の情報記録媒体に対す
るもう1つの比較例として、実施例1に記載の磁気記録
媒体を構成する情報記録層11をFePt−SiO
合物薄膜層13とした以外は同じ方法で媒体を作製した
(図3(a)参照)。
【0048】尚、このFePt−SiO混合物薄膜層
はFePt合金(原子組成比としてFe/Pt=1)ス
パッタターゲット上にSiOチップをならべ、「RF
スパッタ法」を用いて製膜した。そのスパッタ製膜条件
は、基板温度450℃、スパッタガス圧50Pa、ター
ゲット基板間距離は95mmである。
【0049】ここで図7には、比較例2における記録媒
体のヒステリシスループを示す。垂直抗磁力は0.8k
Oe、角形性は0.23であり、磁気記録媒体として用
いるには困難な特性であることがわかる。
【0050】(比較例3)本発明の情報記録媒体に対す
る更にもう1つの比較例として、実施例1に記載の磁気
記録媒体を構成する情報記録層11をFePt−Al
混合物薄膜層14とした以外は同じ方法で媒体を作
製した(図3(b)参照)。尚、このFePt−Al
混合物薄膜層はFePt合金(原子組成比としてF
e/Pt=1)スパッタターゲット上にAlチッ
プを並べ、「RFスパッタ法」を用いて製膜した。その
スパッタ製膜条件は、基板温度450℃、スパッタガス
圧50Pa、ターゲット基板間距離は95mmである。
【0051】図8には、比較例3の記録媒体のヒステリ
シスループを示す。これにより、垂直抗磁力は0.1k
Oe、角形性は0.02であり、磁気記録媒体として用
いるには困難な特性であることがわかる。
【0052】
【実施例2】本発明における実施例2の磁気記録媒体で
は、上述の実施例1に記載の磁気記録媒体を構成するこ
の発明による軟磁性層31(図2(a)参照)の膜厚を
500nmとし、さらに本発明の情報記録層11を作製
する際の基板温度を例えば300℃、350℃、400
℃、450℃、500℃と変えて製膜を行う。
【0053】(作用効果2)図9には、この実施例2に
よって作製したそれぞれの媒体のFePt−MgO混合
物薄膜に対する垂直抗磁力の評価を行った結果を示す。
図示の如く、次に例示する比較例4におけるFePt−
SiO混合物薄膜もしくは比較例5におけるFePt
−Al混合物薄膜に対する垂直抗磁力に比べ、よ
り低い基板温度で十分高い垂直抗磁力が得られることが
わかる。すなわち、MgOを添加したL1形規則合金
混合物は、垂直磁気記録媒体に適した、優れた混合物組
成であることを示している。
【0054】(比較例4)比較例2に記載の情報記録媒
体を構成する軟磁性層31の膜厚を500nmとし、さ
らに情報記録層であるFePt−SiO混合物薄膜1
3(図3(a)参照)を作製する際の基板温度を400
℃、450℃、500℃、550℃、600℃と変えて
製膜を行う。
【0055】図10には、この比較例4により作製した
それぞれの記録媒体のFePt−SiO混合物薄膜に
対する垂直抗磁力の評価を行った結果を示す。実施例2
に比べ、磁気記録媒体に適する垂直抗磁力を達成するた
めに高い基板温度が必要となることがわかる。よって、
温度の高さとそれに伴うコストの問題が許せば、このよ
うな混合物薄膜を用いることも可能である。
【0056】(比較例5)上述の比較例3に記載の情報
記録媒体を構成する軟磁性層31の膜厚を500nmと
し、さらに情報記録媒体を構成する情報記録層であるF
ePt−Al 混合物薄膜14(図3(b)参照)
を作製する際の基板温度を例えば350℃、400℃、
450℃、500℃、550℃、600℃と変えて製膜
を行う。
【0057】図11には、上記比較例5により作製した
それぞれの媒体のFePt−Al混合物薄膜に対
する垂直抗磁力の評価を行った結果を示す。実施例2に
比べ、磁気記録媒体に適する垂直抗磁力を達成するため
に高い基板温度が必要となることがわかる。よって、温
度の高さとそれに伴うコストの問題が許せば、このよう
な混合物薄膜を用いることも可能である。
【0058】(変形例)以上、複数の実施形態と具体的
な実施例に従って本発明を説明してきたが、この発明は
これらの例により限定されるものではなく、そのほかに
も本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変形実施が可
能である。
【0059】
【発明の効果】このように、本発明が提案する垂直磁気
記録媒体を用いれば、磁気特性の制御特に磁区寸法を低
減することができ、高い記録分解能を達成することがで
きる。また、本発明のL1形規則合金混合物薄膜から
構成される記録媒体は、従来技術のL1形規則合金混
合物薄膜から構成される記録媒体に比べて低い製膜温度
で優れた磁気特性を発現できる。
【0060】さらに、本発明の垂直磁気記録媒体は結晶
磁気異方性の大きいL1形規則合金薄膜を用いている
ことから、情報の保存安定性に優れた効果を有し、よっ
て、将来求められる更なる高密度情報記録に有望な高密
度情報記録媒体、特に磁気記録における高い記録分解能
を達成する磁気記録媒体を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)〜(d)は、本発明の磁気記録媒体
の基本的な層構造図。
【図2】図2(a)は、実施例1の磁気記録媒体の層構
造図、図2(b)は、実施例1に対する比較例1の磁気
記録媒体の層構造図。
【図3】図3(a)は、実施例1に対する比較例2の磁
気記録媒体の層構造図、図3(b)は、実施例1に対す
る比較例3の磁気記録媒体の層構造図。
【図4】図4(a)は、実施例1の磁気記録媒体におけ
るX線回折パターンを示すグラフ、図4(b)は、実施
例1の磁気記録媒体における磁気特性を示すヒステリシ
スループ。
【図5】 図5(a)、(b)は実施例1の磁気記録媒
体を示し、図5(a)は、実施例1の磁気記録媒体にお
ける磁区像を磁気力顕微鏡によって観察した拡大図、図
5(b)は、実施例1の磁気記録媒体における記録再生
評価の結果を示す再生出力のスペクトル。
【図6】図6は、実施例1に対する比較例1の磁気記録
媒体における磁区像を磁気力顕微鏡によって観察した拡
大図。
【図7】図7は、実施例1に対する比較例2の磁気記録
媒体における磁気特性を示すヒステリシスループ。
【図8】図8は、実施例1に対する比較例3の磁気記録
媒体における磁気特性を示すヒステリシスループ。
【図9】図9は、実施例2で作製した磁気記録媒体にお
ける製膜時の基板温度と垂直抗磁力の関係を示すグラ
フ。
【図10】図10は、実施例2に対する比較例4におけ
る製膜時の基板温度と垂直抗磁力の関係を示すグラフ。
【図11】図11は、実施例2に対する比較例5におけ
る製膜時の基板温度と垂直抗磁力の関係を示すグラフ。
【図12】図12(a)〜(c)は、従来の磁気記録媒
体の基本的な層構造図。
【符号の説明】 10…L1形規則合金とMgOとから成る混合物薄膜
情報記録層、 10’…結晶格子面が配向したL1形規則合金相とM
gOとから成る混合物薄膜情報記録層、 11…FePt規則合金とMgOとから成る混合物薄膜
層、 12〜14…従来技術における情報記録層、 20…非磁性材料から成る層、 21…非磁性層(MgO層)、 30…軟磁性材料から成る層、 31…軟磁性層(FeSi層)、 40…結晶格子面(001)が配向した下地層、 41…Cr層、 51…MgO層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01F 10/30 H01F 10/30 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/66

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 情報記録層を有し、磁場を用いて情報の
    記録再生可能な磁気記録媒体において、 前記情報記録層は、下記A群から選ばれるL1形規則
    合金とMgOとの混合物から成ることを特徴とする磁気
    記録媒体。 A群:FePt規則合金、CoPt規則合金又はFeP
    d規則合金、及びこれらの合金。
  2. 【請求項2】 前記混合物から成る前記情報記録層にお
    いて、 前記L1形規則合金から成るL1形規則合金相の結
    晶格子面のミラー指数(001)が、前記情報記録層の
    面と平行になるように形成されていることを特徴とす
    る、請求項1に記載の磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】 所定の軟磁性材料から成る層と所定の非
    磁性材料から成る層と前記情報記録層が、順次形成され
    た層構造を有することを特徴とする、請求項2に記載の
    磁気記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記非磁性材料は、MgOであることを
    特徴とする、請求項3に記載の磁気記録媒体。
  5. 【請求項5】 前記軟磁性材料は、下記B群から選ばれ
    ることを特徴とする、請求項3に記載の磁気記録媒体。 B群:Fe、Fe−Si合金、Ni−Fe合金。
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