JP2003091801A - 磁気記録装置及び磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録装置及び磁気記録媒体Info
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Abstract
ギーの磁気記録媒体への記録を可能にする。 【解決手段】 高磁気異方性エネルギーを持つ記録層と
光誘起強磁性を示す材料からなる機能層を積層させ、光
を照射したときに機能層の磁化と交換結合することによ
り記録層の保磁力が減少し、記録できるようにする。
Description
磁気記録媒体に関する。
って、情報の記憶機能及び再生機能を担う磁気記憶装置
(HDD)は、さらなる高速化及び高密度化が要求され
続けている。しかしながら高密度化には物理的な限界が
あると言われており、この要求を満たし続けていけるか
どうか問題視されている。
気記録媒体は、微細な磁性粒子の集合体からなる磁性体
層を記録層として具備している。この磁気記録媒体に高
密度記録を行うためには磁性体層に記録される磁区をで
きるだけ微小化する必要がある。
ためには磁区の境界が滑らかであることが必要であり、
そのためには磁性粒子をできるだけ微小化する必要があ
る。また、隣接する磁性粒子同士で磁化反転が連鎖する
と磁区の境界の乱れとなるので、磁性粒子間には交換結
合相互作用が働かないように非磁性体によって磁気的に
分断する必要がある。
録媒体に記録された磁気情報を読み取るために、磁気記
録媒体の磁性体層との間で相互作用を高くする必要があ
る。このためには、磁気記録媒体の磁性体層の膜厚も小
さくする必要がある。
を構成する磁性体の磁化反転のユニット(磁性粒子とほ
ぼ等しい)の体積はどんどん小さくしていかなければな
らない。
と、そのユニットが持つ磁気異方性エネルギー(磁気異
方性エネルギー密度Ku×磁化反転ユニットの体積V)
が熱揺らぎエネルギーよりも小さくなり、もはや磁区を
保持することができなくなってしまう。これが熱揺らぎ
現象であり、この熱揺らぎ現象が主因となる記録密度の
物理限界は、熱揺らぎ限界と呼ばれている。
つの方法として、磁性体層の磁気異方性エネルギーを熱
揺らぎエネルギーよりも大きくすることが考えられる。
しかしながら、磁性体層の磁気異方性エネルギーを大き
くすると、磁性体層に反転磁区を形成する(記録する)
ときの保磁力は、磁気異方性エネルギーにほぼ比例する
ために大きくなりすぎ現状の記録ヘッドが発生しうる磁
界では記録ができなくなってしまうという問題が発生す
る。
方法では、高密度記録を行うために磁化反転ユニットを
微細化するには、熱揺らぎ限界が存在するため限界があ
る。また、熱揺らぎ限界による磁化の反転を防ぐため
に、磁気異方性エネルギーが大きな磁性体を記録層に使
うと今度は保磁力が大きくなりすぎ現状の記録ヘッドで
は記録できなくなるという問題が生じる。
で、磁気異方性エネルギーが大きな磁性体を記録層に用
いても、現状の記録ヘッドを用いて記録できる磁気記録
装置、磁気記録媒体及び磁気記録方法を提供することを
目的とする。
に、本発明は、非磁性基板と、前記非磁性基板上に形成
され、光を照射されると強磁性を発現する磁気異方性エ
ネルギー密度KuFLを有する磁性体からなる機能層
と、前記機能層上に前記機能層と交換結合相互作用を及
ぼすように積層された前記磁気異方性エネルギー密度K
uFLよりも大きい磁気異方性エネルギー密度Ku RL
を有する磁性粒子からなる記録層と、前記機能層に光を
照射して、前記機能層に強磁性を発現させる光照射手段
と、前記記録層に磁界を印加することによって信号磁化
を記録する磁気記録手段とを具備することを特徴とする
磁気記録装置を提供する。
に形成された非磁性体とを具備することが好ましい。
Cr、Mn、Fe、Co及びNiから選ばれる材料を含
む磁性半導体薄膜であることが好ましい。
Pd合金、CoPt合金及びCoPd合金から選ばれる
合金を含むことが好ましい。
性基板上に形成され、電界を印加されると強磁性を発現
する磁気異方性エネルギー密度KuFLを有する磁性体
からなる機能層と、前記機能層上に前記機能層と交換結
合相互作用を及ぼすように積層された前記磁気異方性エ
ネルギー密度KuFLよりも大きい磁気異方性エネルギ
ー密度Ku RLを有する磁性粒子からなる記録層と、前
記機能層に電界を印加して、前記機能層に強磁性を発現
させる電界印加手段と、前記記録層に磁界を印加するこ
とによって信号磁化を記録する磁気記録手段とを具備す
ることを特徴とする磁気記録装置を提供する。
に形成された非磁性体とを具備することが好ましい。
Cr、Mn、Fe、Co及びNiから選ばれる材料を含
む磁性半導体薄膜であることが好ましい。
Pd合金、CoPt合金及びCoPd合金から選ばれる
合金を含むことが好ましい。
性基板上に形成され、光を照射されると強磁性を発現す
る磁気異方性エネルギー密度KuFLを有する磁性体か
らなる機能層と、前記機能層上に前記機能層と交換結合
相互作用を及ぼすように積層された前記磁気異方性エネ
ルギー密度KuFLよりも大きい磁気異方性エネルギー
密度Ku RLを有する磁性粒子からなる記録層とを具備
し、前記機能層は光を照射されることによって強磁性を
発現させることができ、かつ前記記録層は磁界を印加さ
れることによって信号磁化を記録することができること
を特徴とする磁気記録媒体を提供する。
性基板上に形成され、電界を印加されると強磁性を発現
する磁気異方性エネルギー密度KuFLを有する磁性体
からなる機能層と、前記機能層上に前記機能層と交換結
合相互作用を及ぼすように積層された前記磁気異方性エ
ネルギー密度KuFLよりも大きい磁気異方性エネルギ
ー密度Ku RLを有する磁性粒子からなる記録層とを具
備し、前記機能層は電界を印加されることによって強磁
性を発現させることができ、かつ前記記録層は磁界を印
加されることによって信号磁化を記録することができる
ことを特徴とする磁気記録媒体を提供する。
を参照して詳細に説明する。
ュエータを用いた磁気ディスク装置の概略を示したもの
である。
ィスク101は、スピンドル110に装着され、所定の
回転数で回転される。ディスク101上を浮上若しくは
接触した状態で情報の記録再生を行う磁気記録再生素子
及び光照射手段を搭載したヘッドスライダ1が設けられ
ている。このヘッドスライダ1は、薄板状のサスペンシ
ョン50の先端に取り付けられている。
イルを保持するボビン部等を有するアクチュエータアー
ム102の一端に接続されている。一方、アクチュエー
タアーム102の他端には、リニアモータの一種である
ボイスコイルモータ120が設けられている。
ータアーム102のボビン部に巻き上げられた図示しな
い駆動コイルと、このコイルを挟むように対向して配置
された永久磁石及び対向ヨークからなる磁気回路とから
構成されている。
30に設けられた図示しないボールベアリングによって
保持され、ボイスコイルモータ120により回転揺動が
自在にできるようになっている。
及び磁気記録媒体であるディスク101を拡大したとき
の断面図である。
ィスク101は、非磁性基板13と、この上に形成され
た機能層12と、この上に形成された記録層11と、こ
の上に形成された保護層14とを具備している。
の基板を用いることができる。材料は、金属、ガラス或
いはセラミクスなどの非磁性体を用いることができる。
磁性を発現する光誘起強磁性体を用いる。強磁性を発現
したときの磁気異方性エネルギー密度はKuFLとす
る。強磁性を発現したときの機能層12の磁気異方性は
面内磁気異方性、垂直磁気異方性或いはこれらの混合等
いずれでも良い。
000nm以上は作成に時間がかかり、また膜応力によ
る特性劣化や剥離が発生しやすくなるので好ましくな
い。また、厚さが0.1nm以下になると実質的に薄膜
を構成できないので好ましくない。
量としては10数ミリワット程度或いはそれ以下のレー
ザー光で強磁性を示すものが好ましい。
のとしては、強磁性半導体がある。例えばIn、Ga、
Zn、Cd、Si或いはGeを含む半導体で、具体的に
は、InAs、GaAs、ZnO、ZnSe或いはZn
Te等にTi、V、Cr、Mn、Fe、Co或いはNi
等の遷移金属を含んだ強磁性半導体等が挙げられる。
作用を及ぼすように積層されている。また、記録層11
は、機能層12の磁気異方性エネルギー密度KuFLよ
りも大きい磁気異方性エネルギー密度KuRLを有する
磁性粒子と、この磁性粒子間に形成された非磁性体とを
具備する。
しては、飽和磁化Isが大きく、かつ磁気異方性が大き
いものが適している。この観点から磁気粒子の磁性金属
材料としては例えばCo、Pt、Sm、Fe、Ni、C
r、Mn、Bi及びAlならびにこれらの金属の合金か
らなる群より選択される少なくとも一種を用いることが
好ましい。
いCo基合金、特にCoPt、SmCo、CoCrをベ
ースとしたものやFePt、CoPt等の規則合金がよ
り好ましい。具体的にはCoCr、CoPt、CoCr
Ta、CoCrPt、CoCrTaPt、Fe60Pt
60、Fe60Pd60、Co3Pt1等が挙げられ
る。
て、これらの他にも、TbFe、TbFeCo、TbC
o、GdTbFeCo、GdDyFeCo、NdFeC
o、NdTbFeCo等の希土類と遷移金属の合金が挙
げられる。また、磁性層と貴金属層の多層膜(Co/P
t、Co/Pd等)が挙げられる。また、PtMnSb
等の半金属が挙げられる。また、Coフェライト、Ba
フェライト等の磁性酸化物などから幅広く選択すること
ができる。
性を制御する目的で、上記の磁性体にさらにFe、Ni
から選ばれる少なくとも1つ以上の元素と合金化させて
もよい。また、これらの金属または合金に、磁気特性を
向上させるための添加物、例えばCr、Nb、V、T
a、Ti、W、Hf、Cr、In、Si或いはB等の元
素或いはこれらの元素と酸素、窒素、炭素、水素の中か
ら選ばれる少なくとも一つの元素との化合物を加えても
良い。
磁気異方性、面内磁気異方性或いはそれらの混合であっ
ても構わない。
密度記録を実現するためには100nm以下が好まし
く、50nm以下がより好ましく、20nm以下が更に
好ましい。0.5nm以下になると薄膜を構成するのが
困難になるので好ましくない。
体を形成して分断化する方法としては、CrやTaやB
等の非磁性元素或いはSiO2に代表される酸化物、S
i2N3等に代表される窒化物等の非磁性体を添加して
粒間に析出させてもよい。また、半導体で使われるリソ
グラフィー等の技術を利用した人工的な加工によって、
磁性粒子間に非磁性体を形成しても良い。また、自己組
織化するPS−PMMA等のジブロックコポリマーをマ
スクとした自己組織化加工によって磁性粒子間に非磁性
体を形成しても良い。また、粒子線照射等による加工に
よって磁性粒子間に非磁性体を形成しても良い。
相互作用は、スパッタ法等による一般的な媒体製造工程
において、機能層12を成膜し、真空を破らずに引き続
き記録層11を成膜することで実現できる。
的には数nm程度離れていても交換結合相互作用が及ぶ
ので、交換結合が作用するのであれば機能層12と記録
層11の間に非磁性の層や表面改質部分があっても構わ
ない。
磁性膜を入れることによって交換結合力を制御できるの
で、本発明による作用を損なわない限り、機能層12と
記録層11の間に複数の磁性層が存在しても構わない。
本発明の磁気記録媒体の効果を奏することは可能である
が、必要に応じて保護層14を形成してもよい。保護層
14としては、CやSiO2等からなる薄膜を用いるこ
とができる。また、基板13と機能層12との間に下地
層を用いることができる。下地層を用いることによって
機能層12や記録層11の成長膜の制御性を向上させる
ことが可能となる。下地層は、磁性体であっても非磁性
体であってもよい。下地層の厚さは特に限定されない
が、500nmよりも厚いと製造コストが増加するので
好ましくない。
的な記録/再生を行うために、記録層11の磁性体中の
磁区や記録/再生ヘッド1と交換相互作用或いは静磁気
相互作用を介して磁気的に結合されている。例えば記録
層11を垂直磁化膜とする場合、軟磁性膜を下地層と
し、単磁極ヘッドで記録を行うことで、高密度の記録が
できる。
磁性層を記録層の上或いは下に設け、再生時に軟磁性層
を飽和させる強度の磁界を印加することによって、高密
度の記録ができ、また、熱揺らぎ耐性も向上する。
や非磁性部の結晶構造を制御する目的或いは基板13か
らの不純物の混入を防ぐ目的で設置される。例えば、磁
性部の結晶配向の格子間隔に近い格子間隔を持つ下地層
を用いれば磁性部の結晶状態を制御することが可能であ
る。
たアモルファス下地を用いることにより、磁性部或いは
非磁性部の結晶性或いはアモルファス性を制御する場合
もある。
も構わない。その場合には、機能を分担させられるので
効果が増加する。例えば、記録層11の結晶粒を小さく
する目的で粒径の小さなシード層を基板13上に設け、
その上に記録層11の結晶性を制御する下地層を設ける
ことができる。
目的には、格子間隔の小さい或いはは緻密な薄膜を下地
層として用いればよい。
機能を共通に持っていても構わない。即ち、磁性部の結
晶性を制御する磁性下地層等があっても構わない。この
場合には、記録或いは再生特性上の効果と結晶性上の効
果とが相乗されるので各々の場合よりも好ましい。
ング・雰囲気ガス中でのドープ・中性子線照射等によっ
て行う基板の表面改質層であっても構わない。この場
合、薄膜堆積のプロセスを介さなくて済むので、媒体作
成上好ましい。 記録ヘッド1は、その直下に局所的な
磁界を印加するとともに局所的な光照射ができるように
なっている。局所的な磁界を印加することにより微細な
磁化反転部分を記録層11に作成することができる。局
所的な光照射を機能層12にすることにより微細な領域
に強磁性を発現させることができる。
段は、光ディスクに用いられているようなレーザーを用
いることができる。また、電熱線等で加熱されたプロー
ブから発せられる光を近づけたり遠ざけたりするもの等
が考えられる。また、より局所的な照射を行うために
は、レーザー光を、レンズ等を用いて媒体面状で絞りこ
むような方式を用いることができる。また、レーザー光
を微小開口やソリッドイマルジョンレンズを用いて近接
場光とする方法等を用いることができる。
録媒体101の記録層11側にあってもいいし、その反
対面である機能層12側にあっても構わない。
手段は、通常のHDDで用いられているような浮上スラ
イダーの端面に誘導コイルと磁極からなる磁気回路を有
するものを用いることができる。また、永久磁石を設置
してもよいし、磁気記録媒体に磁性体層をさらに追加
し、温度分布或いは光照射による磁化分布で瞬間的・局
所的な磁界を発生させてもよい。また、情報の記録を行
う磁性体層自身から発生する漏洩磁界を利用してもよ
い。
しては、Fe、NiFe、Fe合金等の一般的に通常の
HDD装置に使われている磁性材料が挙げられる。
との距離を可変にする、磁石を微細化する、等の工夫に
よって、磁界印加を高速化、高密度化できるようにな
る。
の読み取りは従来の磁気記録装置と同様の方式を用いる
ことができる。すなわち磁気記録媒体101からの漏洩
磁界を、巨大磁気抵抗効果を用いた磁気再生ヘッド1な
どで検知して行う。すなわち、記録情報の読み取り時に
は、光照射することなしに行えることから、従来どおり
の読み取りシステムとの互換性が確保される。
を、光を照射しながらVSM等によって調べることがで
きる。さらに、記録層11と機能層12を交換結合した
膜は光を照射した膜をVSMで磁気特性を測ることによ
って光を照射しないときのHcより減少することによっ
て調べることができる。
断面構造で、記録層11と機能層12における磁化の反
転の様子を模式的に示したものである。
22によって区画されている。磁気粒子21の中の矢印
は磁化の向きを、矢印の長さは保磁力の大きさを模式的
に表わしている。
とそれを分断する非磁性体からなる構造になっている
が、説明の便宜上そうしてあるだけであって、他の形
態、例えば連続膜や(3次元)グラニュラー構造等の形態
をとっても構わない。ここでは、簡単のため、垂直磁気
記録媒体の場合を例にとって説明するが、ここで行う説
明は面内媒体或いは両者の混合の場合にもそのまま適用
できるものである。
記録層11の全ての磁化が上向きに設定されている。こ
の状態は光照射及び磁界印加前の状態である。機能層1
2には磁化が発現されていなく、記録層11の磁化は全
て上を向いており、その保磁力は大きい。この状態では
記録層11は十分に大きい保磁力を有するために熱揺ら
ぎによる磁化の消失はない。
ド(図2中、符号1)より矢印24で図示された範囲に
光を照射する。光照射によって機能層12に磁化が現
れ、記録層11と交換結合相互作用によってカップリン
グすることにより記録層11の磁気異方性エネルギーが
減少する。
ド(図2中、符号1)より下向きの磁界を印加して、下
向きスピンを持つ記録磁区を形成する。このとき機能層
12と記録層11が交換結合した磁化が下向きの磁界に
より下向きスピンを形成している。
ー密度が記録層11よりも小さい機能層12と交換結合
することにより、記録層11の保磁力は記録ヘッドから
の磁界で記録できる程度まで低下する。その結果従来の
磁界の大きさを持つ記録ヘッドによっても十分に記録層
11の磁化が下向きに反転する。こうして矢印24に示
す領域に磁化転移が形成される。もし機能層12が無け
れば、記録層11の保磁力は記録ヘッドからの磁界より
も大きく記録ヘッドの磁界では記録できないことにな
る。
ピンの記録磁区形成後、光照射を止めることによって機
能層12の磁化は消失し、記録層11及び機能層12は
交換結合相互作用しなくなる。この結果記録層11の保
磁力は記録層11本来の大きな値に戻る。こうして熱揺
らぎ現象を抑えることができる。
(d)の時間変化と、このときの記録層11における保
磁力HcRの変化を模式的に示す。
射終了後での記録層11の保磁力HcRは、記録ヘッド
の磁力密度Hwよりも高い値となっている。しかしなが
ら光照射をしている間は、機能層12に強磁性が発現す
ることによって記録層11の保磁力HcRは記録ヘッド
の磁力密度Hwよりも低い値となる。
ときに光を照射することによって、機能層12に強磁性
を発現させ、機能層12と記録層11との交換結合相互
作用によって記録層11の保磁力を記録ヘッドの磁力密
度よりも小さくすることによって、記録を容易にさせ
る。さらに記録後は光を照射しないようにすることで高
密度磁気記録における課題であった熱揺らぎの問題を解
決するために高保磁力の膜を利用することができる。
ー密度KuFLよりも、記録層11の磁気異方性エネル
ギー密度KuRLを大きくするようにしなければならな
い。機能層12の磁気異方性エネルギー密度KuFLと
記録層11の磁気異方性エネルギー密度KuRLの差は
特に限定されない。両者の差が小さいと、全体の保磁力
Hc低減効果は小さいが、機能層12の厚さを薄くして
も大きなKuV(Vは磁区の堆積)を得ることができ
る。一方、両者の差が大きいと、保磁力Hc低減効果は
大きいが、機能層の厚さを厚くしないと同時反転の条件
を得るのが困難になる。したがって、両者の差は媒体を
用いるシステムに応じて決定される。
FLの値は3以上であることが望ましく、5以上がより
好ましく、10以上がさらに好ましい。
録装置を具体的に作製した例を示す。
に、ZnO下地層(図示せず)を厚さ50nm、Co添
加のZnO機能層12を厚さ25nm、O添加のCoP
tCr記録層11を厚さ20nm、C保護層14を厚さ
3nm順次スパッタ法にて積層し、その後潤滑剤を塗布
した。
いて調べたところCoPtCrからなる柱状の磁性結晶
粒子(直径約7nm)がアモルファスのCo−Oと微量の
Crからなる非磁性部分で分断されている構造となって
いた。
磁化容易軸を有し、VSMで測定した室温の保磁力Hc
は約5kOeであると推定される。キュリー温度の正確
な同定は膜構造の塑性変化のためにできなかったが、2
00℃までの温度依存性から外挿すると、概ね300℃
と推定された。磁性粒径が小さいために熱揺らぎの影響
が大きくなっているものと思われる。
がらVSMの測定を行なうと、保磁力の低下が観測され
た。
膜厚を振って測定した。その結果をまとめたものを図5
に示す。横軸は機能層12であるCo添加ZnOの膜の
厚さ(nm)で縦軸は保磁力である。
ければ厚いほど保磁力が低下していくことが分かる。す
なわち機能層12が厚い方が記録磁界の観点から見ると
好ましいことが分かる。しかしながら機能層12が厚す
ぎると、磁気記録媒体の作製上好ましくない。さらに記
録磁界が約2kOeであることを考慮して、この実験で
は25nmの膜厚を選んだ。
Dの記録/再生評価装置にて評価した。回転数は450
0rpmで、記録ギャップは200nm、GMR素子を
用いた再生ヘッドはギャップが110nmであった。浮
上量と潤滑剤の厚さから磁気スペーシングは30nmと
推定された。局所的な光照射には波長633nmのレー
ザーを用いた。レーザーは基板裏面より外部低浮上レン
ズを介して機能層12/記録層11部分へ照射された。
外部低浮上レンズと基板の両方でSILレンズとなるよ
うに設計を行い、焦点が機能層12/記録層11部分で
結ぶようにした。レーザースポットの直径はFWHMで
約500nmである。精密なピエゾ素子によるヘッドの
駆動で、光の照射位置と記録ヘッドのギャップ位置とを
一致させた。
試みた。再生信号はノイズがほとんどであり、十分な記
録ができていないことがわかった。このことは記録層1
2の保磁力とヘッドの記録能力から勘案して当然の結果
である。次に、レーザーを照射しながら記録を行った。
別の実験とシミュレーションにより、あらかじめ照射パ
ワーと機能層12の磁化の関係をつかんでおき、照射す
るレーザーパワーを変化させて、再生信号のCN比(C
NR)の関係を調べた。
をおこなった結果を模式的に示す。
CNRはほぼ10dBであり、実際のHDDシステムに
用いるにはあまりにも低い値である。しかし、本発明に
よる記録方式の原理を確認するには十分である。記録周
波数をもっと低くする或いは媒体の磁気特性を調整する
ことによってCNRを改善することは十分に可能であ
る。
について述べる。実施形態1とは光の代わりに電界を印
加し、機能層に電界によって強磁性が発現する電界誘起
強磁性体を用いたところが相違する。その他の構成は実
施形態1で説明した図1及び図2と同様であるのでその
詳しい説明は省略する。
録層11の磁化の反転について説明する。
として記録層11の全ての磁化が上向きに設定されてい
る。この状態は電界印加及び磁界印加前の状態である。
機能層12には磁化が発現されていなく、記録層11の
磁化は全て上を向いており、その保磁力は大きい。この
状態では記録層11は十分に大きい保磁力を有するため
に熱揺らぎによる磁化の消失はない。
ド(図2中、符号1)より矢印24で図示された範囲に
電界を印加する。電界印加によって機能層12に磁化が
現れ、記録層11と交換結合相互作用によってカップリ
ングすることにより記録層11の磁気異方性エネルギー
が減少する。
ド(図2中、符号1)より下向きの磁界を印加して、下
向きスピンを持つ記録磁区を形成する。このとき機能層
12と記録層11が交換結合した磁化が下向きの磁界に
より下向きスピンを形成している。
ー密度が記録層11よりも小さい機能層12と交換結合
することにより、記録層11の保磁力は記録ヘッドから
の磁界で記録できる程度まで低下する。その結果従来の
磁界の大きさを持つ記録ヘッドによっても十分に記録層
11の磁化が下向きに反転する。こうして矢印24に示
す領域に磁化転移が形成される。もし機能層12が無け
れば、記録層11の保磁力は記録ヘッドからの磁界より
も大きく記録ヘッドの磁界では記録できないことにな
る。
ピンの記録磁区形成後、電界印加を止めることによって
機能層12の磁化は消失し、記録層11及び機能層12
は交換結合相互作用しなくなる。この結果記録層11の
保磁力は記録層11本来の大きな値に戻る。こうして熱
揺らぎ現象を抑えることができる。
録装置を具体的に作製した例を示す。但しここでは記録
層11を基板側、この上に機能層12を積層下例を示
す。
gO下地層を厚さ50nm、FePtAg記録層を厚さ
25nm、GaAs機能層を厚さ20nm、C保護層を
厚さ3nm順次スパッタ法にて積層し、その後潤滑剤を
塗布した。
いて調べたところFePtからなる柱状の磁性結晶粒子
(直径約7nm)が微量のAgからなる非磁性部分で分断
されている構造となっていた。
磁化容易軸を有し、VSMで測定した室温の保磁力Hc
は約15kOeであると推定される。磁気トルク計を用
いて磁気異方性エネルギー密度を測定したが、その磁気
異方性エネルギー密度Kuは約5×107erg/cc
であった。そのときの熱揺らぎ安定化指数であるKuV
/kbTは約400であり、熱安定性も充分にある。
置にて同様に評価した。室温で、電界を印加しないでM
Hカーブを測定した結果、記録層単独のものとほぼ同様
なカーブが得られた。
けながらMHカーブを測定した。その結果、その保磁力
は約3kOeまで低下し、通常の記録ヘッドの磁界で書
込み可能な媒体が得られた。これは電界を印加したこと
により、保磁力の小さな強磁性体が機能層上に現れ、そ
れと記録層の磁化が交換結合することにより記録層の保
磁力が低下したものである。
を測定したところ、記録層単独のMHカーブと同様のも
のが再度得られた。これにより、電界を印加中のみ記録
層の保磁力が低下し、記録ヘッドで書込みが可能になる
ことが示された。
ギーの大きい材料系を記録層として用いても磁化印加手
段によって記録可能な磁気記録装置、磁気記録媒体及び
磁気記録方法を提供することが可能となる。
の磁化の光照射に対する変化を模式的に示す図であり、
(a)は光照射前、(b)は光照射中、(c)は記録、
(d)は光照射後である。
記録層の保磁力の光照射による変化を模式的に示す図。
記録層の保磁力と機能層膜厚の関係を示す図。
CNRの光照射パワーに対する変化を示す図。
の磁化の光照射に対する変化を模式的に示す図であり、
(a)は電界印加前、(b)は電界印加中、(c)は記
録、(d)は電界印加後である。
Claims (10)
- 【請求項1】非磁性基板と、 前記非磁性基板上に形成され、光を照射されると強磁性
を発現する磁気異方性エネルギー密度KuFLを有する
磁性体からなる機能層と、 前記機能層上に前記機能層と交換結合相互作用を及ぼす
ように積層された前記磁気異方性エネルギー密度K
uFLよりも大きい磁気異方性エネルギー密度Ku RL
を有する磁性粒子からなる記録層と、 前記機能層に光を照射して、前記機能層に強磁性を発現
させる光照射手段と、 前記記録層に磁界を印加することによって信号磁化を記
録する磁気記録手段とを具備することを特徴とする磁気
記録装置。 - 【請求項2】前記記録層が、前記磁性粒子間に形成され
た非磁性体とを具備することを特徴とする請求項1記載
の磁気記録装置。 - 【請求項3】前記機能層が少なくともTi、V、Cr、
Mn、Fe、Co及びNiから選ばれる材料を含む磁性
半導体薄膜であることを特徴とする請求項1記載の磁気
記録装置。 - 【請求項4】前記記録層が、FePt合金、FePd合
金、CoPt合金及びCoPd合金から選ばれる合金を
含むことを特徴とする請求項1記載の磁気記録装置。 - 【請求項5】非磁性基板と、 前記非磁性基板上に形成され、電界を印加されると強磁
性を発現する磁気異方性エネルギー密度KuFLを有す
る磁性体からなる機能層と、 前記機能層上に前記機能層と交換結合相互作用を及ぼす
ように積層された前記磁気異方性エネルギー密度K
uFLよりも大きい磁気異方性エネルギー密度Ku RL
を有する磁性粒子からなる記録層と、 前記機能層に電界を印加して、前記機能層に強磁性を発
現させる電界印加手段と、 前記記録層に磁界を印加することによって信号磁化を記
録する磁気記録手段とを具備することを特徴とする磁気
記録装置。 - 【請求項6】前記記録層が、前記磁性粒子間に形成され
た非磁性体とを具備することを特徴とする請求項5記載
の磁気記録装置。 - 【請求項7】前記機能層が少なくともTi、V、Cr、
Mn、Fe、Co及びNiから選ばれる材料を含む磁性
半導体薄膜であることを特徴とする請求項5記載の磁気
記録装置。 - 【請求項8】前記記録層が、FePt合金、FePd合
金、CoPt合金及びCoPd合金から選ばれる合金を
含むことを特徴とする請求項5記載の磁気記録装置。 - 【請求項9】非磁性基板と、 前記非磁性基板上に形成され、光を照射されると強磁性
を発現する磁気異方性エネルギー密度KuFLを有する
磁性体からなる機能層と、 前記機能層上に前記機能層と交換結合相互作用を及ぼす
ように積層された前記磁気異方性エネルギー密度K
uFLよりも大きい磁気異方性エネルギー密度Ku RL
を有する磁性粒子からなる記録層とを具備し、 前記機能層は光を照射されることによって強磁性を発現
させることができ、かつ前記記録層は磁界を印加される
ことによって信号磁化を記録することができることを特
徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項10】非磁性基板と、 前記非磁性基板上に形成され、電界を印加されると強磁
性を発現する磁気異方性エネルギー密度KuFLを有す
る磁性体からなる機能層と、 前記機能層上に前記機能層と交換結合相互作用を及ぼす
ように積層された前記磁気異方性エネルギー密度K
uFLよりも大きい磁気異方性エネルギー密度Ku RL
を有する磁性粒子からなる記録層とを具備し、 前記機能層は電界を印加されることによって強磁性を発
現させることができ、かつ前記記録層は磁界を印加され
ることによって信号磁化を記録することができることを
特徴とする磁気記録媒体。
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