JP3977329B2 - 光ファイバプレフォームの製造のためのゾル−ゲル法 - Google Patents
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Description
GeCl4(気) +O2 (気)→GeO2(固)+2C12(気) (II)
こうして製造される酸化物を、心棒上に粒子形(いわゆる「スート」)で堆積させて、該心棒を抜き去るか、又は選択的に最終的なファイバの一部として後に線引される管状シリカ支持体の内表面上に堆積させてよい。
− ゾルの製造。この工程で、その酸化物が生成されるべきカチオンを含有する前駆物質を液体媒体中に分散又は溶解させる。前駆物質の性質に依存して、該液体媒体は水、アルコール又は水性アルコール混合物であってよい。前駆物質の分散又は溶解は、酸のような化学的な措置又は激しい撹拌又は超音波撹拌のような機械的及び/又は物理的な措置を用いて促進できる。ケイ素の場合に、通常使用される前駆物質は、アルコキシド、例えばSi(OCH3)4(テトラメチルオルトシラン又はTMOS)及びSi(OCH2CH3)4(テトラエチルオルトシラン又はTEOS)又は前記の反応(I)に従って製造される熱分解シリカのナノ粒子であり、この形のシリカの市販されている例はデグッサAG社によって製造されるアエロシルOX50(Aerosil OX 50)である。混合酸化物組成物は前記の工程で1種以上のカチオンの前駆物質を含むゾルを製造することによって得られる。
− 図1は第一の実施態様における本発明の方法の間の温度及び圧力のプロフィールを図示するものである。
この例は従来の技術による石英クラッドの製造を記載している。
外径=79.5mm、
内径=29.0mm、
長さ=440mm
該エアロゲルに次いで一連の熱処理を行い、完全緻密化二酸化ケイ素ガラスに変換する。
i)有機成分を除去するための、試料室を室温で1バール(1×10 5 Pa)の純粋酸素で充填し、8時間にわたり800℃に加熱することによる焼成工程、
ii)ヘリウム中20%HClのガス混合物、総圧1バール(1×10 5 Pa)を使用することによる、800℃で46時間続く金属原子の除去工程;
iii)微量のHCl及び任意の他のガス種を除去するための800℃で10時間行われる1バール(1×10 5 Pa)における純粋なヘリウム中での洗浄工程;
iv)最後に100℃/時間の速度でゲルを800℃から1380℃にまで1バール(1×10 5 Pa)でヘリウム下に加熱することによる緻密化処理。
・外径=42.0mm、
・内径=15.3mm、
・長さ=232mm
を有する。
この例は本発明による石英クラッドの製造を記載している。
試料1及び2の高温挙動を比較する。
Claims (8)
- 光ファイバプレフォーム用のクラッドの製造のために、ゾルを製造して、円筒形ゲルを得るために高速回転下にゾルをゲルにして、ウェットゲルを超臨界乾燥によって多孔質ドライゲルへと乾燥させ、かつ該ドライゲルを熱処理によって緻密化して完全緻密化ガラスにするゾル−ゲル法において、緻密化熱処理が純粋酸素下での焼成処理を含み、かつこの処理の間にゲルを少なくとも1回の減圧段階にさらし、その際、前記の減圧が300ミリバール(0.3×10 5 Pa)に等しいか又はそれ未満であることを特徴とする方法。
- 少なくとも1回の減圧段階における圧力が0.05〜0.1バール(0.05〜0.1×10 5 Pa)である、請求項1記載のゾル−ゲル法。
- 焼成処理を350℃〜900℃の温度で実施する、請求項1記載のゾル−ゲル法。
- ゾルを、1種以上のシリコンアルコキシドか、熱分解シリカの懸濁液か、又は1種以上のシリコンアルコキシドと熱分解シリカとの混合物を使用して製造する、請求項1記載のゾル−ゲル法。
- 光ファイバクラッドを、ゾル容量より大きい内部容量を有する円筒形鋳型中にゾルを注入し、該鋳型を完全なゲル化のために必要な全時間にわたってその軸を中心に高速で回転させることによって得る、請求項1記載のゾル−ゲル法。
- クラッド及び中央ロッドを有する完全な光ファイバプレフォームを、鋳型と同軸で配置されたロッドを有する円筒形鋳型中にゾルを注入し、かつ該ロッドの直径により規定される速度で鋳型を回転させることによる、請求項1記載のゾル−ゲル法。
- ロッドが混合組成物SiO2−GeO2の円筒形の完全緻密化ガラスロッドであり、かつゾルが酸化ケイ素前駆物質だけを含有する、請求項6記載のゾル−ゲル法。
- ウェットゲルを超臨界乾燥する前に、ゲル細孔中の液体をより低い超臨界定数を有する別の液体と少なくとも1回交換する、請求項1記載のゾル−ゲル法。
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