KR950008579B1

KR950008579B1 - 하이-실리카 유리 제품의 제조방법

Info

Publication number: KR950008579B1
Application number: KR1019880001895A
Authority: KR
Inventors: 엠. 로비노비치 엘리저
Original assignee: 아메리칸 텔레폰 앤드 텔레그라프 캄파니; 엘리 웨이스
Priority date: 1987-02-24
Filing date: 1988-02-24
Publication date: 1995-08-03
Also published as: DE3850895D1; EP0281282A1; CA1318131C; JPS63295455A; DK92588A; DK172918B1; KR880009874A; EP0281282B1; DE3850895T2; DK92588D0

Abstract

내용 없음.

Description

하이-실리카 유리 제품의 제조방법

본 발명은 하이-실리카(high-silica) 유리 및 하이-실리카 유리 제품을 제조하는 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 다공성 하이-실리카 중간체를 형성시키는 방법, 예를 들면, 졸-겔 방법(sol-gel method)에 관한 것이다.

하이-실리카 유리는 상업적으로 광범위하게 적용되어 왔는데, 부분적으로 그 이유는 알칼리-옥사이드 함량이 낮은 경우의 그들의 내화성, 낮은 열팽창률, 높은 열적 내충격성, 우수한 내약품성 및 우수한 유전절연특성 때문이다.

최근에는, 매우 순도가 높은 하이-실리카 유리가 제조되어 왔으며, 이러한 유리는 통신 시스템용의 극저-손실 광섬유(extremely low-loss optical fiber)를 제조하는데 성공적으로 적용되어 왔다.

하이-실리카 유리는 주로 적당한 출발물질을 용융시키거나, 졸-겔법에 의하거나, 적당한 기상 반응의 유리질 생성물을 침착시켜 제조한다. 당해 적용법은 단지 두번째 방법 및 세번째 방법의 하위군(subgroup)[여기서, 하위군은 소위 수직축 침착법(VAD ; Vertical Axial Deposition) 및 외부 기상 산화법(OVPO ; Outside Vapor Phase Oxidation)을 포함한다]과만 관련된다. 당해 적용법에 관련된 유리-형성법은 유리 제조시의 특정 순간에 다공성 중간체가 존재하며, 당해 중간체는 얼마후의 단계에서 가열처리되어 조밀한 유리체를 생성시킨다는 통상적인 특징을 갖는다. 이어서, 유리체를 전형적으로는 소결 온도이상으로 재가열한 다음. 형태-변형 처리, 예를 들면, 섬유 연신을 행할 수 있다. 유리체의 이러한 가열처리를 본원에서는 "재가열"로서 언급할 것이다.

비록 유리 제조에서 융해법이 가장 널리 사용되는 방법이긴 하지만, 실제로는 하이-실리카 유리를 제조하는 졸-겔법이 융해법 보다 상당히 이로울 수 있다[참조:본원에서 참조로 이용된 미합중국 특허 제4,419,115호]. VAD 및 OVPO법은 문헌[참조 : T. lzawa et., 1977 international Conference on integrated Optics and Optical Fiber Communiaction, (Tokyo, Japan), pp.375--378 ; 및 J. S. Flamenbaum 등에게 허여된 미합중국 특허 제3,806,570호에 각각 기재되어 있다.

하이-실리카 유리를 형성시키는 졸-겔법의 몇가지 변형법이 당해 분야에 공지되어 있다. 이들 중에는 금속 알콕사이드의 가수분해 및 중합을 포함하는 방법, 및 졸-형성시에 훈증 실리카와 같은 입자를 사용하는 방법이 있다. 알콕사이드 방법은, 예를 들면, 문헌[참조 : S. Sakka in Treatise on Materials Science and Technology, Vol. 22, M. Tomozawa and R. H. Doremus, editors, Academic Press, 1982, pp.129-167]에 기재되어 있다. 입자방법은, 예를 들면, 미합중국 특허 제4,042,361호 기재되어 있는데, 당해 특허에는 실리게이트의 유동성 졸을 건조시켜 단편화된 고체를 형성시킨 다음, 소성시켜 분쇄하여 주조용 실리카 제품용의 슬립(slip)을 제공한 다음, 액화온도 이상으로 가열하여 융해시킴을 포함하여, 훈증 실린카를 조밀하게 하는 방법이 기재되어 있다.

하이-실리카 유리 제품의 제조방법은 흔히 제조된 유리를 연화온도 이상의 온도로 가열하는 제조단계를 포함한다. 예를 들어, 광섬유는 전형적으로 유리체, 일반적으로 소위 예비성형체로부터 연신(여기서, 연신은 전형적으로 예비성형체 일부를 2200℃정도의 온도로 가열하는 것을 필요로 한다)시켜 제조한다. 선행기술 분야에서는 졸-겔법으로 제조된 유리는 이러한 고온처리도중에 기포형성 또는 재비등, 및 때로는 팽창을 일으키는 것으로 관찰되었다. 또한, 기포 또는 기공 형성은 VAD 및 OVPO법으로 제조된 유리중에서도 야기될 수 있다[참조 : K. lshida et al., Fiber and integrated Optics, Vol. 4, No.2, Crane, Russak Co.(1982), pp.191-202].

기포형성은 전형적으로 영향받은 제품이 폐기되게 하는 매우 바람직하지 못한 현상이다. 예를 들어, 광섬유, 렌즈, 프리즘 또는 기타의 광학소자와 같은 제품중의 기포는 광산란을 야기시키며, 이로인해 이러한 제품이 일반적으로 허용 불가능하게 된다.

본원과 함께 양도된 미합중국 특허 제3,954,431호 및 제4,011,006호에는 보로실리케이트 유리중에 소량의 GeO₂를 포함시키는 것이 기포 형성을 억제하는 것으로 교시되어 있다.

또한, 소결 도중에 또는 He-대기 속에서 소결하는 도중에 강제가열 경로를 거치게 하는 것이 후속의 더욱 높은 온도의 제조단계 도중의 기표 형상을 감소시킬 수 있는 것으로 공지되어 있다.

그러나, 고질의 졸-겔, VAD 및 OVPO 하이-실리카 유리의 경제성 때문에, 기포 형성을 줄이기 위한 널리 적용 가능하고 간단하며 신뢰할 만한 방법을 이용할 수 있다면 매우 유용할 것이다. 본원에는 이러한 방법이 기재되어 있다.

선행 기술에는 하이-실리카 유리속에 혼입되어 유리의 물성을 변화시킬 수 있는 많은 원소 및 화합물들이 공지되어 있다. 예를 들면, 게르마늄은 광섬유용 유리중의 중요한 도판트(dopant)인데, 그 이유는 게르마늄이 현재 흥미있는 파장에서 광학적 흡수를 야기시키지 않고서는 실리카의 굴절률을 증가시키기 때문이다. 또 다른 널리 공지된 도판트는 실리카의 점도를 현저히 감소시키고, 이의 유리전이온도를 현저히 저하시키는 이외에도, 이의 굴절률을 저하시키는 불소이다[참조 : W. Eitel, Silicate Sciences, Vol. Vlll, paragraph 95, page 54, Academic Press, 1976 ; K. Abe, Proceedings of the Second European Conference on Optical Fiber Communications, IEE, 59-61, Paris, France, 1976 ; 및 K. Rau et al, Topical Meeting on Optical Fiber Transmission II, Williamsburg(1977), pp. TUC 4-1 to TUC 4-4].

본 발명자들은 다공성 하이-실리카 중간체로부터 형성된 하이-실리카 유리를 재가열하는 도중의 기포 형성을 감소시키거나 방지하는 방법을 발명하였다. 본 발명의 방법은 다공성 실리카를 포함하는 물체를 형성시킨 다음, 다공성 실리카-함유체의 적어도 일부를 소결온도로 가열함으로써, 하이-실리카 유리를 포함하는 물체를 생성시킴을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 방법은 가열처리하여 제조한 실리카 유리중의 불소 농도가 약 0.01중량% 이상으로 되도록 유리-생성 가열처리의 완결 이전에 실리카-함유체의 적어도 일부속에 불소를 도입시킴을 추가로 포함한다.

불소 농도는 전형적으로 약 5중량% 미만, 바람직하게는 약 0.1 내지 2중량%이다. 불소는 다공성 실리-함유체를 소결시키기 전이나 도중, 예를 들면, 졸-겔법에서는 겔 형성중에 비건조된 겔을 함침시키거나, 건조된 즉, 비소결되거나 부분적으로 소결된 결체를 함침시킴으로써, 또는 소결처리 도중에 도입시키며 ; VAD 또는 OVPO에서는 소결 도중에 도입시킨다. 불소는 원소 형태이거나, 적당한 불소-함유 화합물로부터 유도할 수 있다. 이 화합물은 기체, 액체 또는 고체일 수 있으며, 고체의 경우에는 바람직하게는 물 또는 알콜에 용해된다.

본 발명에 따른 하이-실리카 유리 제품에 있어서, 불소의 유효량이(적어도 재가열 이전에) 재가열될 유리체의 도처의 부분에 존재한다. 예를 들어, 본 발명에 따른 예비성형체(또는 광섬유)에 있어서, 불소의 유효량은 클래딩(cladding) 물질과 코어물질 모두에 존재한다. 이러한 사실이 본 발명의 예비성형체(또는 섬유)를 선행기술과 구별시켜 주는데, 선행기술에서 불소는 통상적으로 클래드 굴절률을 저하시키기 위하여 사용되지만, 전형적으로 섬유 코어속에 혼입시키지는 않는다.

본 발명에 따른 "제품"은 광섬유와 같은 최종 생성물 및 응고된 예비성형체와 같은 중간 유리체를 모두 포함한다.

위에사 언급한 바와 같이, 하이-실리카 유리 즉, SiO₂를 약 50중량% 이상, 전형적으로는 약 80중량% 이상으로 포함하는 유리를 제조하는 졸-겔법은 잠재적으로는 다른 통상적인 제조방법에 비해 장점을 가지고 있다. 예를 들면, 겔체(gel body)의 다공성 특성이 적당한 기체 반응물과 접촉함으로써 정제를 용이하게 하기 때문에(예를 들면, 염소 처리하여 OH^-를 제거한다), 용융법 보다는 졸-겔 공정으로 고순도의 유리체를 제조하기가 보다 용이하다. 역으로, 졸-겔법은 또한(균일하거나 불균일하게) 도우핑(doping)된 유리체를 제조하는데 매우 적합하다. 불균일하게 도우핑된 유리체의 예로는 광섬유 예비성형체가 있다.

전형적으로, 매우 높은 순도 및 불균일한 도우핑은 유리의 용융 제조법에 의해서는 달성될 수 없으므로, 이들 특성을 갖는 유리체는 오늘날에는 전형적으로 적당한 기상 반응시에 형성된 유리상 물질의 침착을 포함하는 공정으로 제조한다. 이들 방법(예 : OVPO, VAD 등)이 현재 고도로 세련되어 있긴 하지만, 이들 방법은 비교적 느리며, 따라서 비용이 많이 든다. 졸-겔 공정은 침착에 의해 제조한 것과 유사한 품질의 유리체를 생성시키는 반면, 실질적으로 단가가 낮다.

선행 졸-겔법의 응고된 유리를 재가열할 때, 즉, 유리를 전형적으로 소결온도 이상의 온도로 가열할 때에 흔히 관찰되는 기포 형성이다. 이러한 재가열은, 예를 들면, 섬유를 예비성형체로부터 연신시키는 동안 일어난다. 비록 선행기술분야에 이러한 기포 형성을 감소시키거나 제거하는 몇몇 기술이 공지되어 있긴 하지만, 본 발명의 목적은 존재하는 졸-겔 기술과 겸용할 수 있을 뿐만 아니라 더욱 간단하고 더욱 경제적인 처리를 유도할 수 있는 이러한 목적을 달성하기 위한 유효수단을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 다른 목적은 VAD범 또는 OVPO법으로 제조된 유리의 재가열시에 발생할 수 있는 기공형성을 감소시키거나 억제하는 것이다. 이들 및 기타의 목적은 유효량의 불소를 유리속에 도입시켜 달성한다. 이러한 처리는 기포 형성을 감소시키거나 제거할 뿐만 아니라 유리 점도를 감소시키며, 따라서 저온에서 가공할 수 있으며, 유리의 소결을 촉진시킨다. 불소는 또한 광섬유 가이드(guide)용의 광학 클래딩 물질 제조시에 유용한 지수-저하용(index-lowering) 유리 도판트이다. 더우기, 불소의 도입은 실리카로부터의 잔류 OH^-그룹의 제거를 도와준다.

본 발명은 다공성 하이-실리카 유리체를 형성시키기 위한 임의의 공지된 방법(예 : 졸-겔법, VAD 또는 OVPO)과 함께 실시할 수 있지만, 본 발명의 범주를 현재 공지된 방법으로 제한하는 것은 아니다. 공지된 졸-겔법은, 예를 들면, 미합중국 특허 제4,419,115호 및 전술한 문헌[참조 : S. Sakka article]에 각각 기재되어 있는 콜로이드성 겔 방법 및 알콕사이드 가수분해법이다.

불소는, 선행기술의 물체속에 기포를 생성시킬 수 있는 재가열 단계 이전의 공정중 편리한 점에서 도입할 수 있다.

전형적으로, 불소의 도입은 유리의 소결의 완결이전, 예를 들면, 겔 제조 도중에(예를 들면, 비건조체의 함침에 의한) 겔체 형성 후(예를 들면, 비소결되거나 부분 소결된 물체의 함침에 의한), 겔체 건조후, 건조된 겔을 소결하는데 필요한 온도 이하의 온도에서 기상 반응물에 노출시킴으로써, 또는 소결 도중에 수행한다.

불소-함유 겔을 제조하는 편리한 방법은 졸 또는 겔속에 액체 또는 가용성 고체(예를 들면, 물 또는 알콜에 용해됨) 불소화합물을 도입시키는 것이다. 이러한 화합물은, 예를 들면, HF, NH₄F 및 불화 탄화수소(예 : 테트라에틸 암모늄 플루오라이드 수화물)이다.

비건조된 겔체 속에 불소를 도입하는 것 즉, 불소함침은 겔체 속에 불소-함유 액체를 침투시켜 달성할 수 있다. 전술한 바닥에서 언급된 화합물 이외에도, 클로로포름 또는 기타의 액체 탄화수소에 가용성인 화합물을 유리하게 사용할 수 있다.

상기한 방법 이외에도, 겔체를 불소 또는 기상 불소-함유 화합물과 접촉시켜 건조시킨 겔체 즉, 비소결되거나 부분적으로 소결된 겔체 속에 불소를 도입시킬 수 있다.또한, 비-겔(non-gel)법(예 : VAD 또는 OVPO)으로 제조한 다공성 유리체를 가열처리하거나 소결하는 도중에 동일한 방법으로 불소를 도입시킬 수도 있다. 전형적인 화합물은 탄화불소[예 : 프레온, CF₄, CF_4-yCl_y(여기서, 0≤y≤3이다) 등], 불화 탄화수소, HF, NH₄F 및 기타의 무기 불화물(예 : SiF₄, GeF₄, BF₃, PF₃, PF₅등)이다. 전형적으로, 대기는 기타의 기체(예 : He와 같은 희석계 또는 염소와 같은 반응물) 이외에도, 하나 이상의 불소 화합물로 이루어진다.

불소 농도는 본 발명에 따라 형성된 유리체를 통하여 균일할 필요는 없다. 단지, 재가열된 유리체의 부분에만 불소가 존재해야 할 필요가 있으며, 또한 불소-함유 부분에서 조차 농도가 균일할 필요는 없지만, 단 재가열의 개시시에는 어느 곳에든지 유효량(약 0.01중량% 이상, 전형적으로는 0.1중량% 이상)의 불소가 존재해야 한다. 전형적으로는, 적어도 약간의 불소가 가열처리, 예를 들면, 소결 또는 재가열 도중에 손실된다. 하이-실리카 유리중 불소 함량의 상한치는 약 5중량%이며, 이는 전형적으로는 SiO₂함량이 높은 유리중의 F₂의 용해도가 제한적이고, SiO₂와 F₂사이의 열역학적으로 지지된 반응에 의해 기상 SiF₄및 O₂가 형성되기 때문이다. 이들 한계치는 재가열 전에 유리 속에 혼입된 불소에 대한 값이다. 불균일한 불소 분포는 불균일한 굴절률 분포를 야기시킬 수 있으며, 예를 들면, 이 방법은 광섬유 제조시에 사용할 수 있다.

본 발명자들은 재가열시에 기포 생성을 억제하기 위한 본 발명의 방법이 다공성 실리카체를 소결전 또는 도중에 염소 또는 염소 화합물과 접촉시키는 경우에 특히 효과적이라는 것을 밝혀냈다. 널리 공지된 바와 같이, Cl₂-함유 대기중에서 다공성 실리카체를 소결시키면 물체로부터의 OH가 제거되며, 이 방법을 VAD, OVPD 또는 졸갤법과 조합하여 널리 수행한다.

그러므로, 소결이 완결되기 전에 염소-함유 화합물과 접촉된 하이-실리카체 상에서 본 발명이 방법을 수행하는 것이 바람직하다. 전형적으로는, 이러한 접촉은 소결전의 가열처리 도중에 또는 소결 도중에 일어난다. 상기한 바와 같이, 불소화합물은 소결 완결전의 임의 가공단계에서 다공성체의 물질 또는 다공성체 속에 도입시킬 수 있다.

상기와 바와 같이, 실리카-함유 유레체를 형성시키는 한가지 기술은 알콕시드 겔 방법을 사용하는 것이다. 이 방법은 규소-함유 알콕사이드[예 : 테트라에틸 오르토실리케이트(TEOS)]를 물-함유 용액과 혼합시키는 반응을 포함한다. 다성분 유리 즉, 실리카 및 하나 이상의 금속의 산화물을 함유하는 유리가 요구되는 경우, 이들 금속의 하나 이상의 알콕사이드 또는 가용성 염을, 예를 들면, TEOS 및 물-함유 용액과 혼합한다. TEOS(실온 및 대기압하에 액체)는 통상 물과 혼화되지 않으므로, TEOS를 수용성 용매(예 : 에탄올)에 용해시킨 다음, 생성되는 TEOS-에탄올 용액을 물-함유 용액에 가하여 혼합을 수행한다. 또다른 대안은 우선 에탄올을 물-함유 용액에 가한 후, 생성된 물-에탄올 용액에 TEOS를 가하는 것이다(기타의 변형법도 또한 유용하다). 그러나, 에탄올과 같은 수용성 용매의 사용이 불편한 경우, 가열 및/또는 초음파를 적용시켜 액체, 규소-함유 화합물(TEOS)과 물을 혼합시킬 수 있다[참조 : M. Tarasevich, Ceramic Bulletin, 63(1984) 500].

상기의 혼합은 규소-함유 알콕사이드의 가수분해 뿐만 아니라 중합/겔화(gelation) 공정을 야기시키는 것으로 사료된다. 변수의 수에 의존하여, 후자의 방법으로 실리카-함유 다공성 겔체(물 또는 에탄올과 같은 액체를 함유하는 기공을 갖는) 또는 용액으로부터 침전되는 실리카-함유 분말을 수득한다. 특히, HCl과 같은 산 또는 NH₄OH와 같은 염기를 가함으로써 용이하게 변화하는 물-함유 용액의 pH는 겔화도 및 겔화 속도 뿐만 아니라 겔화된 생성물의 구조에 상당한 영향을 준다. 예를 들어, 비교적 높은 pH(예 : 약 8 내지 약 11)는 실리카-함유 분말의 침전을 야기시킨다. 때로는, 이러한 높은 pH는 초기에 용액중에 현탁된 실리카-함유 분말을 형성시킨 후, 겔(건조시킨 후 분말 응집체를 제공한다)을 형성시킨다. 한편, 비교적 낮은 pH, 예를 들어, 약 0.5 내지 약 7 범위의 pH는 겔체를 생성시킨다(비록 하기에서 논하는 불화 이온의 도입으로 분말 침전물 또는 분말 응집체가 형성될 수 있다 할지라도).

중합/겔화 또는 분말 침전단계 후, 생성물질의 기공내에 잔류하는 액체(예:물 및 에탄올)의 대부분을 건조시켜 제거한다. 전형적으로, 건조는 물질을 약 20℃ 내지 약 150℃에 약 수시간 내지 약 수개월 동안 노출시켜 수행한다. 건조된 물질, 예를 물질, 예를 들면, 건조된 겔체 또는 건조된 겔 단편을 흔히 헬륨 대기중에서 소결 온도(전형적으로는 약 800 내지 약 1500℃)로 추가로 가열하여 상응하는 조밀한 실리카 -함유 유리체 또는 유리 단편을 형성시킨다.

전술한 유리 제조방법의 주요 단점은(건조전의) 단일체성(monolithic) 겔체가 건조도중에 균열되고, 때로는 파쇄되어 개개 질량이 수 g(예 : 2g) 미만인 다수의 건조된 겔 단편이 수득된다는 사실이다. 균열된 겔체 또는 겔 단편을 소결시키면 단지 실리카를 함유하는 균열된 실리카-함유 유리체 또는 질량이 작은(약 2g 미만)(미균열)유리 단편이 생성된다. 이러한 질량이 수 g(전형적으로는 2 내지 3g)을 초과하는 균열되지 않은 실리카-함유 유리체 제조의 어려움은 당해 유리 제조방법으로 성취할 수 있는 경제 규모를 제한한다.

상기 방법의 또 다른 주요 단점은 건조된 겔 물질이 소결 도중 뿐만 아니라 재가열 도중에(재가열과 관련하여 상기한 바와 같은 동일한 일반적인 형태의) 기포를 형성시킨다는 것이다. 생성되는 기포-함유 유리체 및/또는 단편은 일반적으로 대부분의 적용분야에 바람직하지 않다.

건조 도중 단일체성 겔체의 균열 및 파쇄를 제한하기 위하여 알콕사이드 겔 알콕사이드 겔 방법의 각종 변형방법이 사용되어 왔다. 한 가지 기술로, 본원에서는 건조공정을 실온 및 대기압하에서 수개월에 매우 서서히 행하는 서-건조(slow-drying) 알콕사이드 겔 방법을 기술한다[참조 : M. Yamane et al., Journal of Materials Science, 13(1978) 865]. 또 다른 방법은 오토클레이브중에서 액체가 증발하는데 대한 과임계점(임계점 이상)의 온도 및 압력조건하에 비교적 단시간(예 : 수시간)에 걸쳐 건조를 행하는 오토클레이브 방법이다[참조 : M. Prassas et al., Journal of Materials Science, 19(1984) 1656)]. 상기 두 가지 기술이 잠재적으로 유리하긴 하지만, 전자의 기술은 바람직하지 못한 긴 건조시간 때문에 상업적으로 불리하다. 더우기, 상기 두 기술은 소결 또는 재가열 도중의 기포 형성을 전혀 억제할 수 없다.

알콕사이드-콜로이드 방법으로 불리우는 한 방법은(초기에 형성된) 겔을 건조시키는 도중에 균열을 억제하기 위하여 시도되지는 않았지만, 이 방법으로 질량이 150g 정도로 큰, 본질적으로 균열되지 않은 실리카-함유 유리체를 제조할 수 있다. 이 방법은 문헌 [참조 : D. W. Johnson, Jr., J. B. MacChesney, 및 E. M. Rabinovich의 미합중국 특허 제4,605,428호(1986.8.12)]에 기재되어 있다. 당해 방법에 따라, 비교적 급속히 건조(전형적으로는 150℃에서 1 내지 2일 동안)시킨후에 생성된 균열된 겔 물질 또는 분말을 극성 액체(예 : 물-함유 액체)에 재분산시켜 콜로이드성 현탁액(졸)을 형성시킨 다음, 이것을 금형속에서 주조한 다음 다시 겔화시켜 제2겔체를 형성시킨다[전형적으로는, 혼합기 또는 훈증 실리카 분쇄수단(보올 분쇄기)을 재분산 도중에 사용하여 콜로이드성 현탁액을 제조한다]. 본질적으로, 건조(실온에서 2 내지 3일동안) 도중에 제2겔체(금형으로부터 이형된)의 균열은 전혀 일어나지 않는다. 겔체를 소결시켜 본질적으로 균열도지 않은, 질량 150g 정도의 실리카-함유 유리체를 수득한다.

비록 알콕사이드-콜로이드 방법이 매우 유용한 것으로 입증되긴 하였지만, 표면적이 감소된 초기의 겔 물질, 예를 들면, 기공 표면적이 감소된 겔 또는 과립 표면적이 감소된 분말 침전물을 제공하는 변형법이 연구되어 왔다. 알콕사이드-콜로이드 방법에 사용된 초기 겔 물질의 단위 질량당 BET(The Brunauer-Emmett-Teller) 표면적은(비록 더 낮은 표면적이 또한 가능하지만) 전형적으로 약 200 내지 약 800㎡/g이다. 표면적을 측정하는 BET 방법은 문헌[참조 : S. Lowell, introduction Powder Surface Area(Wiley, New York, 1979), page 20]에 기재되어 있다. 표면적을 감소시키는 논리적인 근본 목적은 표면적이 감소된 물질은(고표면적의 물질을 재분산시키는데 사용되는 양과 비교하여) 감소된 양의 물에 분산될 수 있고, 이로 인해 균열을 일으키지 않으면서 큰 겔체를 용이하게 건조시킬 수 있다는 것으로 생각된다. 이러한 신념은(재분산후에 형성된) 겔중의 충분한 양의 물이 가공 표면에 흡수된 형태로 존재한다는 지식에 근거한다. 그러나, 또한 이들 기공중의 다량의 물은 건조 도중 겔체내에 큰 물 농도 구배를 야기시키고, 이것은 겔체의 차동 수축을 야기시키며, 차례로 겔체의 균열을 야기시키는 것으로 공지되어 있다. 따라서, 최초로 형성된 겔 물질의 표면적을 감소시키는 것이 질량이 약 150g을 훨씬 초과하는 건조되고 실질적으로 균열되지 않은 단일체성 겔체 및 실질적으로 균열되지 않은 실리카-함유 유리체를 생성시키는 것으로 사료된다.

중합/ 겔화 전 또는 도중에 알콕사이드-콜로이드 방법에 초기에 사용된 알콕사이드-수용액 속에 불화 이온(F^-)을 도입시키면, 표면적이 감소된 초기(건조된) 겔 물질이 수득되는 것으로 밝혀졌다. 중요하게는, 이들 물질은, 예를 들면, 150℃에서 건조시킨 다음, 주변공기로 평형화하는 경우, 이들은 불소 이온 부재하에 형성된 겔 물질보다 상당히 적은 양의 물을 흡수하여 보유한다. 이러한 효과중 일부만이 감소된 표면적에 기인한다. 나머지에 대해 고려할 사항은 이러한 물의 많은 감소가 겔 표면의 감소된 친수성에 기인하며, 이 또한 불화 이온의 존재로 인하여 야기된다는 것이다. 또한, 이러한 감소된 물의 흡수능에 기인하여 극성 액체(예 : 물-함유-액체)중에 초기 겔 물질이 재분산된 후 단일체성 겔체가 형성되므로, 후에 형성된 겔중에 액체에 대한 높은 고체비를 허용하는 것으로 생각된다. 결과적으로, 질량이 약 150g 이상, 경우에 따라서는 약 200g 이상인 건조된 실질적으로 균열되지 않은 단일체성 겔체 및 실직적으로 균열되지 않은 실리카-함유 유리체가 오늘날 쉽게 제조된다.

불화 이온을(재분산시켜 제조한 겔의) 건조 도중의 균열을 억제할 뿐만 아니라 유리를 소결하는 동안 및 소결된 유리를 재가열하는 도중의 기포 형성도 억제한다. 중요하게는, 두 가지의 기포 형성 현상이 상이한 기원을 갖는 것으로 생각된다. 즉, 재가열 도중의 기포 형성은 상기한 바와 같이 소결공정 이전 또는 도중에 도입되는 염소의 존재에 기인하는 것으로 생각된다. 반대로, 소결 도중의 기포 형성은 건조된 겔 내부로 부터의 수증기 및 기타의 휘발성 성분의 방출에 기인하는 것으로 생략된다.

또한, 상기의 유리한 결과는 1회 이상의 재분산을 포함하는 임의의 재분산법을 사용함으로써 성취되는 것으로 밝혀졌으며, 단 초기 겔 물질은(가수분해되어 겔 또는 분말 침전물을 형성시킬 수 있는) 액체상태 또는 용액상태의 규소-함유 화합물을 물-함유 용액과 혼합하여 형성시킨다. 예를 들어, 유용한 초기 겔 물질 또는 분말을 알콜을 함유하거나 함유하지 않는 물중에서 사염화규소(실온 및 대기압에서 휘발성인 액체)를 가수분해시켜 제조한다.

또한(재분산단계 없이 직접 단일체성 겔체를 형성시키는) 알콕사이드-겔 방법에 사용된 알콕사이드-수용액중 불화 이온의 존재로 인해 겔체를 균열시키지 않으면서 보다 급속한 건조가 가능한 것으로 밝혀졌다. 또한, 불화 이온은 보다 크고, 실질적으로 균열되지 않은 겔체의 제조를 가능하게 하며, 유리를 소결시키는 도중 및 유리의 후속적인 재가열 도중의 기포 형성을 억제한다.

불화 이온은(사용된 입자 용액에) 가용성인 불소-함유 화합물(예 : HF 또는 NH₄F)를 물-함유 용액, 또는 규소 화합물 또는 액체 혼합물에 가함으로써, 편의상 한 가지 양태로 물-함유 용액, 또는 액체 상태 또는 용액중의 규소 화합물, 또는 수용액-규소 화합물 액체 혼합물중에(중합/겔화 초기 또는 도중에) 도입시킨다. 불화 이온의 유용한 양(모든 규소는 SiO₂로서 존재한다는 가정하에 계산함)은 SiO₂100g당 F(불소) 약 0.5g 내지 SiO₂100g당 F 약 40g의 범위이다(모든 실시목적을 위하여, F 및 F-는 동일 질량을 갖는다). SiO₂100g당 약 0.5g 미만의 양은 기공 표면적을 바람직하지 않게 조금만 감소시키기 때문에 바람직하지 못하다. SiO2 100g당 약 40g 이상의 양도 또한 바람직하지 못한데, 그 이유는 그들이 그들이 비균질 생성물을 형성시키는 바람직하지 못한 급속한 겔화를 야기시키기 때문이다(건조된 겔 또는 분말 및 생성 유리체내에 잔류하는 불화 이온의 양은 최초 혼합물 속에 도입된 양보다 훨씬 작다).

예시하자면, 불소-함유 겔체 또는 분말은 에탄올에 용해된 TEOS를 용해된 HF 및 HCl을 함유하는 수용액과 혼합시켜 쉽게 제조한다. TEOS의 물 농도에 대한 에탄올 물 농도의 비는 용용하게는 약 0.5 내지 약 10이다. 반면에, TEOS의 물 농도에 대한 물(여기서, HF 및 HCl 용액은 물로서 간주한다)의 몰 농도의 비는 유용하게는 약 2 내지 약 200이다. 아직 조사하지는 않았지만, 상기 범위밖의 몰농도도 또한 유용할 수 있다고 생각된다.

적당한 질량의 실질적으로 균열되지 않은 유리체를 제조한 후, 통상적인 기술을 사용하여 유리체를 더 가공하여, 예를 들면, 유리체를 재가열하거나 기계처리하여 목적하는 유리 제품을 형성시킨다.

상기 논의된 바와 같이, 극성(예 : 물)에 불화된 실리카-함유 물질(여기서, 물질은 실리카 및 약 0.5중량％ 이상의 화학적으로 결합된 불소를 함유한다)을 분산시키면, 많은 장점을 가진 겔체가 생성된다. 즉, 화학적으로 결합된 불소는 분산된 물질의 단위질량당 표면적을(불소의 부재하에 야기되는 것 이하로)감소시키며, 분산된 물질의 표면을 덜 친수성인 표면으로 만드는 것으로 생각된다. 이어서, 당해 불화된 물질을 겔화시키면, 질량이 약 150g 이상인 건조되고 실질적으로 균열되지 않은 단일체성 겔체 및 실질적으로 균열되지 않는 실리카-함유 유리체를 형성시킬 수 있다. 그러나, 또한 화학적으로 결합된 불소의 존재는 겔화 속도를 증가시킨다. 즉, 겔화가 보통 졸의 형성후 1분내에, 또는 1분보다 훨씬 이내에 거의 완결되는데, 이것이 때로는 불편하기도 하다.

불화된 물질의 겔화와 비교하여, 불화되지 않고, 따라서 화학적으로 결합된 불소가 거의 함유되지 않은 실리카-함유 물질 즉, 화학적으로 결합된 불소가 약 0.5중량% 미만인 물질의(극성 액체중) 겔화는 비교적 느린 속도로 진행되며, 물질의 단위질량당 표면적이 감소함에 따라 겔화 속도도 감소된다.

예를 들어, 단위질량당 BET 표면적이 200㎡/g인 실리카-함유 물질의 물중 겔화는 전형적으로(물의 양에 의존하여) 약 2내지 24시간을 요하는 반면, 단위질량당 BET 표면적이 약 50㎡/g인 실리카-함유 물질의 겔화는 전형적으로 1주일 이상, 보통은 1주일 훨씬 이상을 요한다. 그러나, 단위질량당 BET 표면적이 비교적 작은 즉, 단위질량당 BET 표면적이 약 100㎡/g 이하, 바람직하게는 약 50㎡/g 이하인 불화되지 않은 실리카-함유 물질의(극성 액체중) 분산 및 겔화는 바람직한데, 그 이유는 비교적 질량이 큰(약 150g 이하의 질량) 건조되고 실질적으로 균열되지 않은 단일체성 겔체 및 실질적으로 균열되지 않은 실리카-함유 유리체의 형성을 가능하게 하기 때문이다[단위질량당 표면적이 비교적 작은 불화되지 않은 실리카-함유 물질은, 예를 들면, 통상적인 알콕사이드 방법 또는 알콕사이드-콜로이드 방법으로 쉽게 제조되며, 또한, 예를 들면, 카보트 코포레이션(Cabot Crporation, Tuscola, lllinois, USA)에서 상품명 카브-O-실(Cab-O-Sil)로서 시판하고 있다].

불화된 물질 및 불화되지 않은 물질의 혼합물을 분산시키는 것, 즉, 극성 액체중에 불화된 물질 및 불화되지 않은 물질(예를 들면, 혼합물 형태의)을 동시에 분산시키거나, 불화된 물질 및 불화되지 않은 물질을 연속적으로 분산시키는 것은 불화된 물질만을 분산시키는 경우보다는 더 길지만, 불화되지 않은 물질만을 분산시키는 경우보다는 더 짧은(생성되는 졸에 대한) 겔화 시간, 예를 들면, 전형적으로는 약 10분 내지 약 2시간 범위의 겔화 시간을 야기시키는 것으로 밝혀졌다. 놀랍게도, 이러한 겔화 시간은 불화되지 않은 물질 단독이 겔화에 수주일 또는 수개월을 요하는 경우에 조차도 달성된다. 또한, 겔화시간의 기간은 불화된 물질의 분획이 증가함에 따라 감소되는 것으로 밝혀졌다.

불화된 물질 및 불화되지 않은 물질의 혼합물을 사용하여 달성한 중간기간의 겔화시간이 유리한데, 그 이유는 당해 겔화시간이 상업적으로 즉, 실리카-함유 유리 제품(예 : 광섬유)의 상업적 제조와 관련하여 편리하기 때문이다. 예를 들어, 이들 중간기간의 겔화시간은, 졸이 겔화되기 전에, 졸의 형성후 상업적으로 편리한 시간이내(예를 들면, 수분 이내)에 졸을 금형속에 용이하게 쏟아 붓기에 충분히 길다. 또한, 당해 겔화시간은 겔화공정이 전형적으로 실리카-함유 유리제품의 제조시에 속도제한 인자가 되지 않도록 하기에 충분히 짧다.

놀랍게도, 중간기간 겔화시간은 불화된 물질을(불화되지 않은) 비표면적이 비교적 작은(상기한 바와 같은) 물질이나(불화되지 않은) 비표면적이 비교적 큰 물질(단위질량당 BET 표면적이 약 100㎡/g 이상인 물질) 뿐만 아니라 비표면적이 상당히 다양한(불화되지 않은)물질과의 혼합물로서 사용하여 달성한다. 그러나, 불화되지 않은 물질의(상기와 바와 같은) 단위질량당 BET 표면적이 비교적 작은 경우, 진행되는 겔화 공정은 질량이 약 150g 이상, 경우에 따라서는 약 200g 이상인 건조된 실질적으로 균열되지 않은 겔체 및 실질적으로 균열되지 않은 실리카-함유 유리체의 용이한 형성을 가능하게 한다.

또한, 유리를 소결시키는 도중 및 소결된 유리의 재가열 도중에 나타나는 기포형성 현상 모두를 모든 경우에 즉, 불화되지 않은 물질의 비표면적에 관계없이 피할 수 있다.

불화되지 않은 물질과 혼합하여 사용하는 불화된 실리카-함유 물질은 상기 같이, 예를 들면, 초기에 액체 상태 또는 용액중의(가수분해에 의해 겔 또는 분말 침전물의 형성할 수 있는) 규소-함유화합물(예 : 규소-함유 알콕사이드 또는 사염화규소)을 물-함유 용액과 반응시킴으로써 형성시킨 용액 속으로 불화 이온(F^-)을 도입시켜 쉽게 제조한다. 불화 이온은 편리하게는 용액에(사용된 특정 용액에) 가용성인 불소-함유 화합물(예 : HF 또는 NH₄F)을 가하여 도입시킨다. 불화 이온의 유용한 양은 SiO₂(모두 규소가 SiO₂상태로 존재한다는 가정에서 계산함) 100g당 F(불소) 약 0.5g 내지 SiO₂100g당 F 약 40g의 범위이다. 양이 SiO₂100g당 F 약 0.5g 미만인 경우, 생성되는 불화된 겔 물질이 겔화 시간을 바람직하지 못하게 약간만 감소시키고 비교적 단단하며, 따라서 분산시키기 어려우므로 바람직하지 않다. 당해 이온의 양이 SiO₂100g당 F 약 40g 이상인 경우에는, 이러한 양을 함유하는 졸로부터 형성된 겔 물질이 건조시에 비교적 다량의 불화 이온(F-)을 손실하기 때문에 불필요하다. 결과적으로, 이들 겔 물질은 전형적으로 건조후에 결코 SiO₂100g당 F 단지 약 40g 이하만을 함유하는 졸로부터 형성된 겔물질 보다 많은 불화 이온을 함유하지 않는다.

불화된 물질 및 불화되지 않은 물질의 총량의 %로서 계산된 불화된 실리카-함유 물질의 양은 약 3중량% 내지 약 60중량%이다. 약 3% 미만의 양은 바람직하지 못한데, 이는 당해 양이 겔화 시간을 바람직하지 못한 정도로 작게 감소시키기 때문이다. 약 60% 이상의 양은 겔화 시간을 바람직하지 못한 정도로 크게 감소시킨다.

하시 실시예에 있어서, 일반적으로 미합중국 특허 제4,419,115호에 기재된 것과 유사한 방법을 사용한다.

(실시예 1)

훈증 실리카(카보트 코포레이션의 등급 M-5)를 물과 혼합(40 : 100중량부)하고, 생성된 졸을 150℃에서 건조시킨 다음, 약 800℃에서 가열처리한다. 가열처리된 SiO₂150g을 물 270g과 다시 혼합한 다음, 블렌딩(blending)하여 최초의 훈증 실리카 입자의 응집체를 함유하는 제2졸을 형성시킨다. 제2졸 약 400g을 SiO₂주면체(cylinder)(약 1/2in 직경, 약 1/2in 길이) 약 600g을 함유하는 보로실리케이트 용기(jar)로 이동시키고, 용기의 내용물에 HF 용액(H₂O중 약 50% HF) 약 1중량%(졸중 SiO₂의 중량을 기준으로)를 가한 후에 분쇄기에서 5시간 동안 롤링시킨다. 이어서, 분쇄된 졸을 11mm ID SiO₂튜브 속에서 주조한 다음, 밤새 겔화시키고, 생성되는 겔 로드를 금형으로부터 떼어내어 건조시키고, He+3% Cl₂중에 1000℃에서 가열처리하여 결합수를 제거한 다음, He중에서 약 1400℃에서 소결시킨다. 당해 공정을 통해 유리체 전체에 분포된 불소 약 0.1중량% 이상의 양을 함유하는 투명한 유리 로드를 제조한다. 이들 로드를 섬유 연신온도(>2,000℃)가열하면 재비등하지 않는다. 동일하게 제조한, 불소를 함유하지 않는 로드는 당해 온도에서 심하게 재비등한다.

별도의 언급이 없는 한, 하기의 실시예에서는 실시예 1에 기재된 것과 거의 같은 방법을 사용한다. 특히, 다공성 물체는 일반적으로 응고전에 Cl₂대기중에서 가열처리한다.

(실시예 2)

실시예 1에서 제조한, 1회 분산되고 가열처리된 SiO₂150g을 H₂O중 H₂BO₃의 4.5중량% 용액 59.2g과 혼합하고, 블렌딩시킨 다음, 분쇄 용기로 옮기고, HF 1.5g을 가하여 19시간 동안 분쇄한 다음, 내경이 약 19mm이고 외경이 약 25mm인 소결된 겔 유리 튜브를 수득하도록 설계된 동심의 실린더형 금형 속에서 주조한다. 겔화시간 후, 유리체를 꺼내어 건조시킨 다음, 소결시킨다. 생성되는 튜브는 섬유연신온도에서 재비등하지 않는다. 또한, HF의 존재는 졸의 겔화를 촉진시킨다.

(실시예 3)

5 1/2시간의 분쇄 후에, HF를 가하는 것 외에는, 실시예 2와 동일하다.

(실시예 4)

불소 2중량% 및 B₂O₃4.8중량%를 한번 분산시켜 건조한 훈증 SiO₂100g, 4.5중량%의 H₃BO₃용액 188.5g 및 HF 4g과 함께 블렌딩 시킴으로써 겔 유리 배치에 가한다.

(실시예 5)

테트라에틸오르토실리게이트(TEOS)를 가수분해시켜 콜로이드성 SiO₂를 제조하고, 여기에 물을 가한 다음(150 : 220g), 18시간 동안 분쇄한다. 생성되는 졸은 점도가 낮다. HF 1.5g을 분쇄 용기에 가한 다음, 1 1/2시간 동안 계속 분쇄한다. 주조용 졸을 밤새 겔화시킬 수 있다. 상기한 바와 거의 같은 방법으로 유리를 겔체로부터 제조한다.

(실시예 6)

(실시예 1에 기재된 바와 같이 제조한) 미리 분산시킨 콜로이드성 실리카 90g을 혼합기속에서 NH₄F 5.4g이 미리 용해되어 있는 증류수 132g과 혼합하여 불소 3중량%를 함유하는 겔을 생성시킨다. 상기한 바와 같이 겔로부터 유리를 제조한다.

(실시예 7)

건조된 다공성 유리체를 상기한 바와 같이 제조한다. 유리체를 연소시키기 전에 NH₄F의 5.7% 수용액에 함침시킨 다음, 재건조시킨다. 당해 공정을 통해, 생성되는 건조된 겔속에 약 3중량%의 불소가 도입된다.

(실시예 8)

공정은 실시예 7과 거의 같지만, 건조된 유리체를 함침시키기 전에, 1,000℃에서 부분적으로 소결시킨다.

(실시예 9)

상기한 바와 같이 다공성 유리체를 제조한 다음, 연소로 속에 불소-함유 대기를 생성시키는 NH₄F 분말수 g의 존재하에 연소로 속에서 연소시킨다.

(실시예 10)

불소-부재 유리체를 실시예 6과 거의 유사하게 제조한 불소-함유 유리체(이것은 모든 유리체에 대해 불소-함유 대기를 제공한다)와 함께 연소시킨다.

(실시예 11)

NH₄F 1.8g을 TEOS 312g(1.5몰)을 가수분해시켜 제조한 물/암모니아 혼합물(pH=11)에 용해시켜 가수분해에 의해 생성된 SiO₂분말에 불소 혼합물 1중량%를 제공한다. 당해 분말을 재분산시킨 다음, 상기한 절차에 의해 이들로부터 소결된 유리체를 제조한다.

실시예 3 내지 11의 유리체는 섬유 연신온도를 가열할 때 실제로 재비등을 전혀 나타내지 않는다.

(실시예 12)

기술된 바와 같은 방법으로 다공성 유리체를 제조한다. 유리체를 수직로 속에서 하강시키고, 당해 노 속에서 가열처리(침지)하고 상승시킨 다음, 다시 소결시키기 위하여 하강시킨다. 본 발명의 유리체에 대한 노중에서의 가열 프로그램 및 대기(즉, 기체 유속)는 표 I에서의 (실험 1)에 주어진 것과 같다. 또한, 표 I의 실험 2는 불소가 전혀 혼입되지 않은 유사하게 제조한 유리체에 대한 데이타이다. (하강) 및 (상승)시간은 각각 유리체를 100℃ 영역으로부터 뜨거운 영역으로 하강시키는데 걸리는 시간 또는 유리체를 뜨거운 영역으로부터 100℃ 영역으로 상승시키는데 걸리는 시간을 칭한다.

표 I

소결되지 않은 유리 속에 불소를 도입하기 위하여 SiF₄를 사용한 실험 1에 있어서, 2200℃로 가열할 때 재비등이 전혀 관찰되지 않는 반면, 실험예 2에 있어서는 이들 조건하에 재비등이 일어난다.

(실시예 13)

SiF₄대신에 프레온 12(Cl₂F₂)를 사용한다는 것 외에는, 거의 실시예 12의 실험 1에서와 같이 유리체를 제조한다. 2,200℃로 가열할 경우에 전혀 재비등이 나타나지 않는다.

(실시예 14)

문헌[참조 : K. lshida et al(상기한 문헌중)]에 기재된 바와 같은 VAD 방법으로 다공성 실리카체를 제조한 다음, He/ SiF4 대기(97.6 : 2.4v/v)중에서 1,500℃에서 2시간 동안 소결시킨다. 생성되는 조밀한 유리체를 2,200℃로 가열한다. 기포 형성이 전혀 관찰되지 않는다.

(실시예 15)

각각 1F 및 7F로 표시되며, 각각 7개의 겔 및 5개의 겔을 함유하는 두 가지 계열의 겔을 제조한다. TEOS를 에탄올에 용해시킨 다음, 생성되는 용액을 교반하면서 HCl 및/또는 HF를 함유하는 물속에 쏟아부어 각각의 겔을 형성시킨다. 겔들의 조성은 표 II에서 명시한 바와 같다(각 계열의 제1원은 HF를 전혀 함유하지 않으며, 따라서 F^-을 전혀 함유하지 않는다). 1F 계열의 겔은 TEOS : 에탄올 : 물을 1 : 4 : 4의 몰비로 함유하는 출발 화합물로부터 제조하며, 표 II의 우측에 있는 숫자는 SiO₂100g당 g 수로 나타낸(F로서 계산된) 출발 불화물의 농도를 나타낸다. 7F 계열의 겔은 TEOS : 에탄올 : 물을 1 : 4 : 50의 몰비로 함유하는 출발혼합물로부터 제조하며, 우측의 숫자는 전술한 의미와 같다. 각 계열의 몰비를 한정함에 있어서, HCl 및 HF는 중량을 기준으로 하여 물로서 계산한다.

물-산 용액 속에 각각의 TEOS-에탄올 용액을 쏟아부은 후, 생성되는 혼합물을 30분 동안 교반하거나, 너무 단단하여 교반할 수 없을 때까지 교반한다. 실온에서 혼합된 각각의 TEOS-에탄올-물-HCl-HF 용액의 겔화는 HF 함량에 의존하여 수초 내지 1개월 이상에 걸쳐 일어난다(HF의 양이 많으면 많을수록 겔화는 점점 더 빨라진다).

모든 겔을 60℃에서 약 24시간 동안 증발 없이 숙성시키고, 150℃에서 2 내지 3일 동안 건조시킨 다음, 수일동안 실내 공기로 평형화시킨다.

이어서, 겔을 300℃에서 건조시킨 다음, 그들의 BET 표면적을 측정한다. BET 표면적은 표 II에 기재되어 있다.

150℃에서 건조시키고 실내 공기로 평형화시킨 각각의 겔을 2 내지 3mm 두께의 평판에 문지르고, 계량한 다음, 각 평판의 IR 흡수 스펙트럼을 측정한다[코넥티커트, 노월크 소재의 퍼킨-엘머 코포레이션에서 시판하는 분광계 모델 제683호를 사용한다]. 각각의 흡수 스펙트럼은 물의 존재로 인하여 5292cm^-1근처에서 흡수띠를 나타낸다. 이들 흡수띠의 강도는 상응하는 불화물 농도가 증가함에 따라 감소한다.

이어서, 겔을 진공중 실온에서 평형화시키고, 계량한 다음, 상기한 바와 같이 IR 스펙트럼을 수득한다. 5292cm^-1에서의 흡수띠의 강도가 매우 감소하는데, 이것은 거의 모든 물이 손실되었음을 가리킨다.

상응하는 IR 스펙트럼의 5292cm^-1에서의 흡수띠의 강도로부터 각각의 실내공기-평형화된 샘플중 물의 정량적인 양을 수득한다. 이것은 농도(중량%), 두께(cm) 및 기본 10에 대한 강도비의 대수에 대한 흡광계수 67의 베에르-랩버트 법칙(Beer-Lambert Law)[참조 : W. G. Driscoll, Editor, Handbook of Optics (McGraw-Hill, New York, 1978), pp.8-12]을 사용하여 달성한다. 이 계수는 진공 평형화된 겔 샘플의 손실 중량과 5292cm^-1에서의 상응하는 흡광도의 감소량과의 상관관계에 의해 측정한다. 정량치는 표 II에 명시하는 바와 같다.

표 II로부터 명백한 바와 같이, 초기 혼합물중의 불화물 농도가 증가하면, BET 표면적이 감소하며, 또한 생성되는 건조된, 실내공기-평형화된 겔중의 물의 양도 감소한다.

표 II

(실시예 16)

실시예 15에 기재된 바와 같이 제조하여 건조시킨, 표 II에서 7F8로 표시된 조성을 갖는 불화된 실리카-함유(건조된) 겔 물질 60g을 1ℓ들이 유리 용기에 침착시킨다. 또한, 단위질량당 BET 표면적이 50㎡/g인 불화되지 않은 실리카-함유(건조된) 겔물질 90g을 용기에 넣는다. 당해 불화되지 않은 물질은 에탄올 용해된 TEOS 1몰에 용해된 NH₃2.3중량%를 함유하는 물 4몰과 반응시켜 제조한다. 이어서, 생성되는(불화되지 않은) 겔을 실시예 15에 기재된 바와 같이 숙성시킨 다음 건조시킨다. 탈이온수 190g을 유리 용기중의 불화된 겔 물질 및 불화되지 않은 겔 물질에 가한다.

불화된 겔 물질 및 불화되지 않은 겔 물질을 보올 분쇄하여 물에 분산시킨다. 즉, 훈증 실리카 분쇄 주면체(직경 12mm, 길이 12 내지 15mm) 630g을 유리 용기내에 넣고, 용기를 막은 다음, 80rpm의 속도로 약 24시간 동안 회전시킨다. 당해 분쇄공정후, 약 10분간에 걸쳐 생성되는 졸을 초기에 35메쉬 스크린을 통하여 비이커 속에 쏟아부어 미분산된 겔 물질을 제거한 다음, 직경이 2.54cm이고 길이가 30㎝인 원추형 유리 금형속에 쏟아 붓는다.

금형 속에 쏟아붓고 약 10분후, 금형내의 졸을 가시적으로 겔화시켜 겔 로드를 형성시키고, 추가로 20분 후에, 이것을 금형으로부터 꺼낸다. 이어서, 이들 겔 로드를 실내-대기 조건하에 2 내지 3일 동안 건조시키고, He 및 3% Cl₂의 대기중에서, 1,000℃에서 가열처리한 다음(실시예 1 및 12에 기재된 바와 같이) He중에서 1,400℃에서 약 1시간 동안 소결시켜 석영 유리 로드를 제조한다.

통상적인 기술을 사용하여 유리 로드의 굴절율을 측정하고, 이것으로부터 이들이 불화 이온(F^-)을 약 1중량% 함유량을 추론한다.

(실시예 17)

실시예 16에 기재된 바와 같이, 불화된 겔 물질(7F8) 15g 및 불화되지 않은 겔 물질 135g을 탈이온수 190g에 분산시켜 졸을 제조한다. 이것을 35메쉬 스크린을 통하여 비이커 속에 쏟아붓고 다시 유리 금형속에 쏟아 부으면, 졸은 약 12시간 후에 겔화된다. 생성된 겔 로드를 또한 실시예 16에 기재된 바와 같이 건조시키고, 가열처리한 다음, 소결시킨다.

Claims

실리카-함유 물질이 하나 이상의 불화된 실리카-함유 물질과 불화되지 않은 실리카-함유 물질을 포함함을 특징으로 하여, 실리카-함유 물질을 극성 액체에 분산시켜 졸(sol)을 형성시키는 단계, 졸을 겔화시켜 겔체(gel body)를 형성시키는 단계, 겔체를 가열처리하여 실리카-함유 유리체(glass body)를 형성시키는 단계, 및 실리카-함유 유리를 포함하는 제품의 제조를 완결시키는 단계를 포함하는, 실리카-함유 유리 제품을 제조하는 방법.
제1항에 있어서, 액체 상태 또는 용액 상태의 하나 이상의 규소-함유 화합물을 물-함유 용액과 반응시키는 단계를 추가로 포함하고, 여기서, 불화 이온이 당해 화합물과 당해 물-함유 용액 사이의 반응 도중에 적어도 일부에 존재하며, 당해 반응단계로 인해 불화된 실리카-함유 물질이 형성되는 방법.
제2항에 있어서, 불화 이온의 양이 SiO₂100g당 F 약 0.5 내지 약 40g의 범위인 방법.
제1항에 있어서, 불화된 실리카-함유 물질과 불화되지 않은 실리카-함유 물질의 총량을 기준으로 하여 불화된 실리카-함유 물질의 양이 약 3 내지 약 60중량%인 방법.
제1항에 있어서, 불화되지 않은 실리카-함유 물질에서 실리카-함유 물질의 단위질량당 BET 표면적이 약 100㎡/g 이하인 방법.