JP3952118B2 - 活性なケイ素を含むケイ素酸化物及びその評価方法 - Google Patents

活性なケイ素を含むケイ素酸化物及びその評価方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セラミックス製造用原料、有機ケイ素化合物製造用原料及びリチウムイオン二次電池負極活物質などとして使用される活性なケイ素を含むケイ素酸化物及びその評価方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
酸化ケイ素は公知の物質であり、化学的に活性であることを活用して工業的に有用なアルキルハロシラン合成(Gary N.Bokerman et al,USP5051247)、更には直接シロキサンの合成の試み(Peter L.Timms and William N.Rowlands,EPA0406000A2)が行われており、低温でマグネシウムと反応させケイ化マグネシウムが得られたとの報告もある(Fuglein,E;Schubert,U,Chem.Mater.1999,11,865−866)。また、リチウムイオン二次電池負極活物質としてSiOXを用いることでリチウムイオンの吸蔵放出が容易となる(特開平9−7638号公報)との報告もあり、近年リチウムイオン二次電池負極活物質としての用途の拡大も期待されている。
【0003】
このため、これらの用途により有効に使用されるケイ素酸化物が望まれる。
【0004】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、上記用途に有用に用いることができる活性なケイ素を含むケイ素酸化物及びその評価方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者らは、上記目的を達成するため、種々の条件で製造した活性なケイ素を含むケイ素酸化物の粉末について評価、検討を行った。その結果、固体NMR(29SiDD/MAS)を用いた測定結果から、ある特定のケミカルシフトでの2つのピークが明瞭に分割して測定され、かつこのピーク面積比が一定範囲となった活性なケイ素を含むケイ素酸化物を上記用途に用いることで、他元素との反応性が高くなり、上記目的を達成できること、またかかる方法によりケイ素酸化物の適否を評価し得るとの知見を得ることができ、本発明を完成するに至った。
【0006】
即ち、本発明は、十分なる緩和時間を設定して測定した固体NMR(29SiDD/MAS)測定において、そのスペクトルが−70ppmを中心としたブロードなピーク(A1)と−110ppmを中心としたブロードなピーク(A2)の2つのピークに分離して測定され、この面積比(A1/A2)の値が0.1≦A1/A2≦1.0の範囲であり、BET比表面積が0.5〜100m2/gの範囲であり、一般式SiOX(但し、Xの範囲が0.9〜1.45)で示されることを特徴とする、活性なケイ素を含むケイ素酸化物を提供する。
【0007】
また、本発明は、ケイ素酸化物に対して十分なる緩和時間を設定して固体NMR(29SiDD/MAS)測定を行い、そのスペクトルにおいて−70ppmを中心としたブロードなピーク(A1)と−110ppmを中心としたブロードなピーク(A2)とを有すると共に、その面積比(A1/A2)の値が0.1≦A1/A2≦1.0の範囲にあり、BET比表面積が0.5〜100m 2 /gの範囲にある一般式SiO X (但し、Xの範囲が0.9〜1.45)で示されるケイ素酸化物を活性なケイ素を含むケイ素酸化物として評価することを特徴とするケイ素酸化物の評価方法を提供する。
【0008】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のケイ素酸化物は、固体NMR(29SiDD/MAS)測定において、−70ppmを中心としたブロードなピーク(A1)と−110ppmを中心としたブロードなピーク(A2)に明瞭に分割して測定され、この面積比A1/A2が0.1≦A1/A2≦1.0の範囲、好ましくは0.15≦A1/A2≦0.9、更に好ましくは0.2≦A1/A2≦0.8の範囲である活性なケイ素を含むケイ素酸化物である。この場合、一般的に当該無機化合物の固体NMR測定において、長時間の緩和時間の設定が必要であるが、本測定においては100秒以上、好ましくは500秒以上の緩和時間での測定が好ましい。なお、緩和時間の上限は特に制限されるものではないが、通常3600秒以下である。このような条件で測定したときの代表的なスペクトル、及び比較として無定形二酸化ケイ素と結晶質金属ケイ素を1/1モルの割合で混合した混合物のスペクトルを図1に示すが、各ピークのケミカルシフト及び酸素分析値より、−110ppmを中心としたブロードなピークは四価のケイ素(SiO2)であり、−70ppmを中心としたブロードなピークは原子状のゼロ価のケイ素であることは明らかである。一方、ゼロ価のケイ素が十分に原子状として分散せず、ブロック状に存在した場合は、−85ppm付近にブロードなピークとして現れ、更にこの結晶化が進むと、−84ppm付近にシャープなスペクトル軸として現れる。また、このようなものは、そのX線回折測定において、結晶性ケイ素の回折線が現れる。
【0009】
なお、−70ppmを中心としたブロードなピーク面積は概ね−50〜−80ppm間の面積であり、−110ppmを中心としたブロードなピーク面積は概ね−90〜−130ppm間の面積である。
【0010】
本発明の活性なケイ素を含むケイ素酸化物は、一般式SiOXで表わされ、Xの範囲は0.〜1.45である。Xの範囲が0.8より小さいと、実質的に金属ケイ素が過剰になり、結晶質及び/又はブロック状になり、活性ケイ素が含まれなくなり、好ましくない。Xの範囲が1.9より大きいと、実質的に二酸化ケイ素となり、活性ケイ素が含まれなくなり、好ましくない。の範囲はに好ましくは0.9〜1.3である。
【0011】
また、本発明の活性なケイ素を含むケイ素酸化物は、セラミック中酸素分析装置(不活性気流下溶融法)による酸素分析値が36.245.2重量%であることが好ましい。
【0012】
更に、本発明の活性なケイ素を含むケイ素酸化物は、X線回折測定において、明瞭な回折線を有しないことが好ましい。X線回折測定において、明瞭な回折線を有すると、ケイ素の活性が著しく損なわれるので好ましくない。
【0013】
本発明の活性なケイ素を含むケイ素酸化物は、BET比表面積が0.5〜00m2/gであることが好ましい。BET比表面積が0.5m2/gより小さいと、見かけの活性が小さくなり、BET比表面積が200m2/gより大きいと、化合物の安定性や作業性が低下するおそれがある。更に好ましくは1.0〜100m2/gである。
【0014】
本発明の活性なケイ素を含むケイ素酸化物の製造方法としては、ケイ素を部分的に酸化する方法、二酸化ケイ素を部分的に還元する方法、ケイ素と二酸化ケイ素を物理的に原子レベルで混合する方法(メカノフュージョン)、ケイ素と二酸化ケイ素を共融・急冷する方法、及び酸化ケイ素ガスを冷却する方法などが挙げられる。好ましい製造方法は気相にて酸化ケイ素を冷却する方法である。
【0015】
ここで、このようにして得られたケイ素酸化物、特にはBET比表面積が0.5〜100m 2 /gの範囲にあり、一般式SiOX(但し、Xは0.〜1.45の正数である)で示されるケイ素酸化物に対して十分なる緩和時間を設定して固体NMR(29SiDD/MAS)測定を行い、そのスペクトルにおいて−70ppmを中心としたブロードなピーク(A1)と−110ppmを中心としたブロードなピーク(A2)とを有すると共に、その面積比(A1/A2)の値が0.1≦A1/A2≦1.0の範囲にあるケイ素酸化物を活性なケイ素を含むケイ素酸化物として評価することが有効である。
【0016】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【0017】
〔実施例1〕
金属ケイ素粉末と無定形二酸化ケイ素粉末を1/1モルの割合で混合した混合物を0.1Torrの減圧雰囲気下、1400℃に加熱保持し、酸化ケイ素蒸気を発生させた後、この酸化ケイ素蒸気を300℃の温度域で冷却析出させてケイ素酸化物を得た。次に、析出させたケイ素酸化物について、固体NMR(29SiDD/MAS)測定、酸素含有量測定、BET測定を行った。固体NMRスペクトルを図2及び図3に示す。得られたスペクトルは、−70ppmのピークと−110ppmのピークに明瞭に分離されたものであり、その時のA1/A2比は0.60であり、酸素含有量は36.2wt%、BET比表面積は35.6m2/gの一般式SiOX(X=1.0)で示され、X線回折によるピークをもたない非晶質粉末であった。なお、緩和時間は3600秒とした。
【0018】
次に、上記ケイ素酸化物粉末10gを窒素中1100℃に加熱、3時間保持して窒化ケイ素粉末を製造した。得られた窒化ケイ素粉末については、窒素含有量37.6wt%の高反応率窒化ケイ素粉末であった。
【0019】
〔実施例2〕
析出温度を400℃とした他は実施例1と同じ条件でケイ素酸化物粉末を製造した。得られたケイ素酸化物の固体NMRスペクトルを図2に併記する。スペクトルは、−70ppmのピークと−110ppmのピークに明瞭に分離されたものであり、その時のA1/A2比は0.18であり、酸素含有量は45.2wt%、BET比表面積は77.3m2/gの一般式SiOX(X=1.45)で示され、X線回折ピークをもたない非晶質粉末であった。一方、実施例1と同条件での窒化反応による生成物は、窒素含有量34.7wt%の高反応率窒化ケイ素粉末であった。
【0020】
〔比較例1〕
金属ケイ素粉末と無定形二酸化ケイ素粉末を1/1モルの割合で混合した混合物を実施例1と同じ窒化条件にて窒化ケイ素を製造した。混合物の固体NMRスペクトルを図2に併記する。スペクトルは、−84ppmに結晶質Siのピークと−110ppmに無定形SiO2のピークが見られた。なお、酸素含有量は36.8wt%、BET比表面積は112m2/gであり、これは一般式SiOX(X=1.02)で示されるものであった。得られた窒化生成物は、窒素含有量が0.3wt%であり、ほとんど窒化していないものであった。
【0021】
〔比較例2〕
析出温度を900℃とした他は実施例と同じ条件でケイ素酸化物粉末を製造した。得られたケイ素酸化物の固体NMRスペクトルを図3に併記する。スペクトルは、−70〜−100ppmに若干のピーク及び−110ppmにピークが見られるものの、明確な分離はされていないものであった。なお、酸素含有量は51.5wt%、BET比表面積は110m2/gであり、これは一般式SiOX(X=1.86)で示されるものであった。一方、実施例1と同条件での窒化反応による生成物は、窒素含有量が5.8wt%であり、明らかに未反応物が多い窒化生成物であった。
【0022】
〔比較例3〕
析出温度を1100℃とした他は実施例と同じ条件でケイ素酸化物粉末を製造した。得られたケイ素酸化物の固体NMRスペクトルを図3に併記する。スペクトルは、−70ppm,−90ppm及び−110ppmの3つに分離されたピークが見られた。なお、酸素含有量は45.3wt%、BET比表面積は12.5m2/gであり、これは一般式SiOX(X=1.45)で示されるものであった。一方、実施例1と同条件での窒化反応による生成物は、窒素含有量が12.3wt%であり、未反応物が多い窒化生成物であった。
【0023】
〔比較例4〕
析出温度を1200℃とした他は実施例と同じ条件でケイ素酸化物粉末を製造した。得られたケイ素酸化物の固体NMRスペクトルを図3に併記する。スペクトルは、−84ppmに結晶質ピーク及び−110ppmに分離されたピークが見られた。なお、酸素含有量は36.0wt%、BET比表面積は2.5m2/gであり、これは一般式SiOX(X=0.99)で示されるものであった。一方、実施例1と同条件での窒化反応による生成物は、窒素含有量が10.6wt%であり、未反応物が多い窒化生成物であった。
【0024】
【発明の効果】
本発明によれば、市場で要求される活性なケイ素を含むケイ素酸化物の物性が判明し、かつその測定方法が確立でき、今後、活性なケイ素を含むケイ素酸化物を製造する上での指針となり得ることができる。加えて、この活性なケイ素を含むケイ素酸化物を他の元素との反応に用いることで効率的かつ容易にケイ素化合物を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るケイ素酸化物及び比較例に係るSiO2/Si混合物の固体NMRスペクトルである。
【図2】実施例1,2、比較例1の固体NMRスペクトルである。
【図3】実施例1、比較例2〜4の固体NMRスペクトルである。

Claims (4)

  1. 十分なる緩和時間を設定して測定した固体NMR(29SiDD/MAS)測定において、そのスペクトルが−70ppmを中心としたブロードなピーク(A1)と−110ppmを中心としたブロードなピーク(A2)の2つのピークに分離して測定され、この面積比(A1/A2)の値が0.1≦A1/A2≦1.0の範囲であり、BET比表面積が0.5〜100m2/gの範囲であり、一般式SiOX(但し、Xの範囲が0.9〜1.45)で示されることを特徴とする、活性なケイ素を含むケイ素酸化物。
  2. 上記一般式SiO X のXの範囲が1.0〜1.45であり、かつセラミック中酸素分析装置(不活性気流下溶融法)による酸素分析値が36.245.2重量%である請求項1記載の活性なケイ素を含むケイ素酸化物。
  3. X線回折測定において、明瞭な回折線を有しない請求項1又は2記載の活性なケイ素を含むケイ素酸化物。
  4. ケイ素酸化物に対して十分なる緩和時間を設定して固体NMR(29SiDD/MAS)測定を行い、そのスペクトルにおいて−70ppmを中心としたブロードなピーク(A1)と−110ppmを中心としたブロードなピーク(A2)とを有すると共に、その面積比(A1/A2)の値が0.1≦A1/A2≦1.0の範囲にあり、BET比表面積が0.5〜100m2/gの範囲にある一般式SiOX(但し、Xの範囲が0.9〜1.45)で示されるケイ素酸化物を活性なケイ素を含むケイ素酸化物として評価することを特徴とするケイ素酸化物の評価方法。
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