JP3929651B2 - 集積回路キャリヤおよび製造方法および集積回路 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、概して、集積回路および電子装置の製造プロセスに関し、特に集積回路および電子装置を製造するためにキャリヤ・テープを使用するプロセスに関する。
【0002】
【従来の技術、及び、発明が解決しようとする課題】
<関連出願への相互参照>
本出願は、(ルーセント弁理士整理番号M.B.ベイリ2−2の)1988年8月5日付けの仮出願60/095397の優先権を主張する。
【0003】
集積回路および電子装置の製造効率の改善がますます求められている。上記効率を改善する一つ方法は、製造プロセスを自動化するためにキャリヤ・テープを使用する方法である。図4は、チップ・キャリヤ420内に位置する多数の集積回路410を保持しているキャリヤ・テープ400の略図である。キャリヤ・テープ400は、集積回路410を運ぶために使用され、自動化製造装置により、キャリヤから集積回路410を取り出すことができるようにするためのものである。例えば、キャリヤ・テープ400を、キャリヤ・テープから集積回路を取り出し、回路盤に移植する装置に送ることができる。
【0004】
図5は、従来技術によるキャリヤ・テープ400内に、集積回路410を保持するためのチップ・キャリヤ420を、5−5線に沿って切断した断面の略図である。ウェル530は、基部520の周囲に形成される。集積回路は、接着剤により上部表面510に取り付けられているカバー540により、チップ・キャリヤ420内に保持される。例えば、衝撃による力が壁部532に加えられた場合には、チップ・キャリヤ420内に配置された、集積回路410が損傷を受ける恐れがある。上記衝撃により、集積回路410のリード線も損傷を受ける恐れがある。さらに、チップ・キャリヤ420は、チップ・キャリヤ420の底部520上の衝撃により、損傷を受ける恐れがある。そのため、チップ・キャリヤ内に収容されている集積回路への、潜在的な損傷を軽減するチップ・キャリヤの開発が待望されている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、集積回路の製造プロセスを提供する。上記プロセスは、基部、上記基部の周囲に形成された内部ウェル、および上記内部ウェルの周囲に形成された外部ウェルを含むチップ・キャリヤを供給する複数のステップを含む。集積回路は上記基部上に設置される。上記プロセスは、さらに、集積回路の前処理および後処理の複数のステップも含む。
【0006】
本発明は、また、基部、上記基部の周囲に形成された内部ウェル、および上記内部ウェルの周囲に形成された外部ウェルを含むチップ・キャリヤにより集積回路を運搬するプロセスにも関連する。
上記の一般的な説明および以下の詳細な説明は、単に例示としてのものに過ぎず、本発明を制限するものではないことを理解されたい。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明は、添付図面と共に読むとき、以下の詳細な記述から最も良く理解される。半導体産業の常識的な慣行によれば、図面の様々な特徴部分は、一定の比率で描かれるわけではないということが強調される。一方、様々な特徴部分の寸法は、明瞭さのため、任意に拡大され、又は、縮小される。
【0008】
本発明の例示としての実施形態は、内部ウェルおよび外部ウェルを含む、二重ウェル構造を含むチップ・キャリヤである。上記二重ウェル構造は、衝撃による力を吸収する柔軟な構造を形成する。さらに、外部ウェルは、内部ウェルより深くなっているので、底面からの衝撃による損傷を防止することができる。その結果、チップ・キャリヤ内に位置する装置は、損傷から保護される。
【0009】
図面中、同様の要素には同様の参照番号がつけてある。図1は、本発明の例示としての実施形態のチップ・キャリヤ100の略図である。上記チップ・キャリヤ100は、上部表面110および基部115を含む。基部115に隣接して、またその周囲に、内部ウェル120が設置されている。外部ウェル125は、内部ウェル120の周囲に隣接して設置されている。内部ウェル120および外部ウェル125の、壁部130、134および136はS字を形成する。
【0010】
外部ウェル125は、上面110から第一の位置132の方向に延びる第一の壁部130と、第一の位置132から上記上面110により形成された基準面135の方向に延びる第二の壁部134を含む。内部ウェル120は、基準面から遠ざかる方向で、第二の位置138の方向に延びる第三の壁部136、および第二の位置138から遠ざかる方向に延びる第四の壁部140を含む。カバー160は、チップ・キャリヤ100内に集積回路150を保持するために、上面110に固定されている。カバー160は、例えば、接着剤により、上面110に取り付けられている。
【0011】
図2は、2−2線に沿ったチップ・キャリヤ100の平面図である。内部ウェル120の底部および外部ウェル125の底部には、他の部分と区別するために斜線が引いてある。図面の明瞭さのために、チップ・キャリヤ100のカバー160は取り外してある。内部ウェル120および外部ウェル125は、連続していてもよいし、連続していなくてもよい。例えば、四つの側面(例えば、カド・フラット・パック)上に形成されたリード線を持つ集積回路のリード線を保護するために、内部ウェルおよび外部ウェルを連続して形成することもできる。別の方法としては、集積回路が、二つの側面上にリード線を持つタイプのものである場合には、内部ウェルおよび外部ウェルをリード線に隣接しているが、リード線を含まない他の側面に隣接しない状態で形成することができる。
【0012】
外部ウェル125および内部ウェル120は、基部115上に位置する集積回路150を壁部130上へのチップ・キャリヤ100に対する衝撃から保護する。側面から衝撃を受けている間は、壁部130、134および136は、衝撃力を吸収して移動し、リード線の損傷を防止する。すなわち、S字形の壁部が圧縮されて、側部からの衝撃力を吸収する。さらに、外部ウェル125は、y方向に、内部ウェル120より深くなっている。すなわち、外部ウェル125は、内部ウェル120より、上面110からさらに遠くまで延びる。その結果、外部ウェル125は、チップ・キャリヤ100の底部上の衝撃による損傷から集積回路を保護する。例えば、チップ・キャリヤ100に衝撃を与える対象物は、外部ウェル125と接触するが、この外部ウェル125は、衝撃を吸収し、衝撃エネルギーを集積回路150に伝えない。従って、カド・フラット・パッケージ(例えば、MQFP、SQFPおよびTQFPパッケージ)のような、リード線が弱い大型集積回路をテープとリール包装出荷により出荷することができる。
【0013】
例示としての実施形態の場合には、基部115は、上面110から下に向かって、0.059インチ(1.497ミリ)の距離D1だけ延びる。第二の位置138は、上面110から下に向かって0.094インチ(2.366ミリ)の距離D2だけ延びる。第一の位置132は、上面110から下に向かって、0.107インチ(2.716ミリ)の距離D3だけ延びる。内部ウェル120と外部ウェル125との間の位置139は、上面110から0.011インチ(0.279ミリ)の距離D4だけ延びる。距離D4の長さは、必要な柔軟性により、0.005インチ(0.127ミリ)から0.025インチ(0.625ミリ)の間で変化する。チップ・キャリヤは、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、PVC樹脂、またはPET(ポリエチレン)樹脂から作ることができる。キャリヤ・テープは、カーボン・コーティングまたはテープの充填の形のESD保護を必要とする場合がある。テープ・キャリヤ100用の材料が浮き彫りにされたり、引き出されたり、真空形成される材料の厚さまたは幅Wは、通常、0.010インチ(0.254ミリ)から0.015インチ(0.318ミリ)の間である。形成作業後のキャリヤ・テープのある部分の厚さは、0.006インチ(0.152ミリ)まで薄くすることができる。
【0014】
図3は、図1および図2のチップ・キャリヤを使用する、本発明の他の例示としての実施形態である。ステップ400において、集積回路の製造が行われる。(1990年)ラティス・プレス社発行の、スタンリー・ウルフの「VLSI時代のシリコン処理」、1〜3巻が、集積回路のこの製造プロセスを記載している。ステップ405において、例えば、自動化移送装置(図示せず)により、基部115(図1に示す)上に集積回路が置かれる。ステップ410において、集積回路を正しい位置に保持するために、カバーがチップ・キャリヤ100の上部表面110に取り付けられる。ステップ415において、チップ・キャリヤ100が移送される。例えば、チップ・キャリヤ100を、集積回路が製造された同じ施設内に設置されている他の製造工具で使用するために移送することができる。別の方法としては、チップ・キャリヤ100を他の物理的位置に移送することもできる。チップ・キャリヤ100は、自動化装置、航空機、トラックおよび/または他の輸送システム単独、またはそれらを組合せたものにより移送することができる。ステップ420において、さらに処理を行うために、チップ・キャリヤ100から集積回路が取り出される。以降の処理としては、集積回路を完成させるための追加製造プロセスなどがある。別の方法としては、当業者なら周知の方法で、回路盤に搭載するために集積回路が使用される。さらに、他の電子装置を製造する際に集積回路を使用することができる。
【0015】
例示としての実施形態を参照しながら本発明を説明してきたが、本発明はこの実施形態に限定されない。それどころか、添付の特許請求の範囲は、本発明の精神および範囲から逸脱することなしに、当業者が行うことができる本発明の他の変更および修正も含むものと解釈すべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の例示としての実施形態のチップ・キャリヤの略図である。
【図2】図1のチップ・キャリヤの平面図である。
【図3】電子装置の製造のフローチャートである。
【図4】従来技術によるキャリヤ・テープの平面図である。
【図5】図4のキャリヤ・テープの5−5線に沿って切断した断面図である。
Claims (6)
- チップ・キャリアであって、
表面及び周辺部を有する基部(例えば、115)、
前記基部の周辺部に沿って伸びる、周辺部を有する内部ウェル(例えば、120)であって、前記内部ウェル(例えば、120)が第二の基部を有し、前記第二の基部は前記第二の基部と前記表面との間に第二の深さを有し、
前記内部ウェブ(例えば、120)の周辺部の沿って伸びる外部ウェル(例えば、125)であって、前期外部ウェル(例えば、125)が第一の基部を有し、前記第一の基部は前記第一の基部と前記表面との間に第一の深さを有し、
前記第一の深さは、前期第二の深さより大きい
ことを特徴とするチップ・キャリア。 - 請求項1記載のチップ・キャリアにおいて、前記第一の深さ(D3−D1)が約1.219mmであり、前記第二の深さ(D2−D1)が約0.869mmであることを特徴とするチップ・キャリア。
- 請求項1記載のチップ・キャリアにおいて、さらに、前記基部(例えば、115)上に除去可能な状態に位置された集積回路(例えば、150)を含むことを特徴とするチップ・キャリア。
- 請求項1記載のチップ・キャリアにおいて、前記外部ウェル又は内部ウェルの少なくとも一つが前記基部(例えば、115)を取り囲むことを特徴とするチップ・キャリア。
- 請求項1記載のチップ・キャリアにおいて、更に上部表面(例えば、110)を含み、前記外部ウェルが前記内部ウェルよりも前記上部表面から更に離れて延びることを特徴とするチップ・キャリア。
- 請求項5記載のチップ・キャリアにおいて、前記外部ウェルが前記上部表面から約2.716mm延び、前記内部ウェルが前記上部表面から約2.366mm延びることを特徴とするチップ・キャリア。
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