JP3914142B2 - 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極とを有するMOS型トランジスタをメモリセルとして使用した不揮発性半導体記憶装置としては、NAND型、AND型、NOR型などのセルアレイ構造を有するフラッシュメモリが知られている(例えば、特許文献1参照)。以下、NAND型フラッシュメモリを例に、従来の技術について説明する。
【0003】
図22は、NAND型フラッシュメモリのセルアレイ構造の一部を示す断面図である。
【0004】
シリコン基板11内には、STI(Shallow Trench Isolation)構造の素子分離絶縁層16が形成される。素子分離絶縁層16は、シリコン基板11の上面から突出しており、この突出部は、凸部となっている。素子分離絶縁層16の上面は、平坦である。
【0005】
素子分離絶縁層16の凸部により形成された凹部、即ち、素子分離絶縁層16の間のシリコン基板11上には、トンネル酸化膜12及びフローティングゲート電極(下部)13aが形成される。素子分離絶縁層16の上面とフローティングゲート電極13aの上面は、ほぼ一致している。
【0006】
フローティングゲート電極13a上には、フローティングゲート電極(上部)13bが形成される。フローティングゲート電極13bの端部は、素子分離絶縁層16上に存在する。フローティングゲート電極13a,13bは、全体として、いわゆるガルウイング状を有する。
【0007】
フローティングゲート電極13bの上面及び側面は、絶縁層17により覆われている。絶縁層17は、例えば、ONO構造を有する。絶縁層17上には、コントロールゲート電極18が形成される。コントロールゲート電極18は、それが延びる方向に配置されるメモリセルに共通となっている。
【0008】
このようなセルアレイ構造において、フローティングゲート電極13bの間のスペースは、スリット構造と呼ばれる。スリット構造は、コントロールゲート電極18が延びる方向に隣接するフローティングゲート電極13b同士を、互いに電気的に切断すると共に、フローティングゲート電極13a,13bとコントロールゲート電極18とが対向する面積を増やす役割を有する。
【0009】
つまり、フローティングゲート電極13bの上面及び側面を絶縁層17で覆うことにより、フローティングゲート電極13a,13bとコントロールゲート電極18との間の容量を増やすことができるため、フローティングゲート電極13a,13b内に、長期間、電荷を保持することが可能となる。
【0010】
フローティングゲート電極13a,13bに対する電子の注入は、例えば、コントロールゲート電極18に高い書き込み電位Vpgmを与え、シリコン基板11に接地電位Vgndを与えることにより実行される。この時、FNトンネル現象により、電子は、シリコン基板11からフローティングゲート電極13a,13bに移動する。
【0011】
図23は、コントロールゲート電極とフローティングゲート電極との間のキャパシタ容量をCip、フローティングゲート電極とシリコン基板との間のキャパシタ容量をCtoxとした場合のメモリセルの等価回路を示している。
【0012】
例えば、図22のデバイス構造において、コントロールゲート電極18、絶縁層17及びフローティングゲート電極13a,13bは、キャパシタとみなすことができ、また、フローティングゲート電極13a,13b、トンネル酸化膜12及びシリコン基板11も、キャパシタとみなすことができる。
【0013】
つまり、図23に示すように、メモリセルは、コントロールゲート電極CGとシリコン基板との間に、2つのキャパシタCip,Ctoxが直列接続された構造と等価である。
【0014】
コントロールゲート電極に書き込み電位Vcg(=Vpgm)を与えたときのフローティングゲート電極の電位Vfgは、CipとCtoxとの容量結合により決定され、次の式で表される。
Vfg = Cr × (Vcg−Vt+Vt0)
Cr = Cip/(Cip+Ctox)
但し、Vtは、現在のセルトランジスタの閾値、Vt0は、フローティングゲート電極に電荷が全く入っていない状態における閾値(中性閾値)を表している。
【0015】
Vfgが大きいほど、トンネル酸化膜には高電界がかかり、フローティングゲート電極に対する電荷の注入が起こり易くなる。
【0016】
さらに、上記式によれば、Vcgが一定の場合、Vfgは、容量比Crに比例して、大きくなることが分かる。つまり、容量比Crを大きくすれば、書き込み電位Vcgを小さくしても、電荷の移動に十分な大きさのVfgを得ることができ、結果として、書き込み電位の低減を実現できる。
【0017】
容量比Crを大きくするには、CipをCtoxに対してできるだけ大きくすればよい。
【0018】
キャパシタの容量は、対向電極間の薄膜の誘電率ε及び対向電極の面積Sに比例し、対向電極間の距離dに反比例する。
【0019】
このため、例えば、図22のデバイス構造においては、フローティングゲート電極13a,13bとコントロールゲート電極18との間に配置されるゲート間絶縁層17には、高誘電率であること、薄いこと、さらに、両ゲート電極13a,13bに広い範囲で接することなどが要求される。
【0020】
しかし、トンネル酸化膜12は、高電界に対してトンネル電流が流れやすいことを目的に形成されるため、非常に薄くなるのに対し、ゲート間絶縁層17は、トンネル電流によるリークを防がなければならないため、トンネル酸化膜12に比べ、非常に厚くなる。
【0021】
つまり、容量比Crを大きくするためには、ゲート間絶縁層17の誘電率を大きくし、かつ、ゲート間絶縁層17がフローティングゲート/コントロールゲート電極13a,13b,18に接する面積を大きくして、Cipを大きくする他はない。
【0022】
Cipを大きくするためのゲート間絶縁層17の構造としては、従来より、トンネル酸化膜12を構成する材料(例えば、SiO2 )よりも大きな誘電率を実現するいわゆるONO構造が知られている。ONO構造は、SiNをSiO2 で挟み込んだ構造を有している。
【0023】
フローティングゲート電極13a,13bとコントロールゲート電極18とが対向する部分の面積を増やす構造としては、例えば、フローティングゲート電極13a,13bの上面のみならず、その側面上にも、ゲート間絶縁層17を配置する技術が知られている。
【0024】
しかし、微細加工の進行に伴い、書き込み電位Vcgの低減は、駆動回路の縮小にとって非常に重要な問題となっている。なぜなら、上述したように、書き込み電位Vcgを低減するためには、Cipを増大させなければならない。最も単純にCipを増大する方法は、例えば、フローティングゲート電極13a,13bの厚さを増加し、フローティングゲート電極13a,13bの側壁面積を増やすことにある。
【0025】
ところが、フローティングゲート電極13a,13bの厚さを増加させた場合、スリット構造の深さも増大することになり、スリット加工時に必要となるマスク層の厚さが大きくなる。また、フローティングゲート電極13a,13bの加工時に、素子分離絶縁層(STI)16の間のスペースに、フローティングゲート電極13a,13bの残渣が発生するなどの問題が生じる。
【0026】
また、ONO膜よりも高誘電率を有する材料を使用してCipを増大させるという方法も考えられる。しかし、そのような高誘電率を有する材料は、段差のある下地に対して、被覆性(カバレージ)が悪いものが多い。特に、図22の例では、フローティングゲート電極13bの角(スリット部分)における膜質劣化が重大な問題として発生している。
【0027】
また、高誘電率を有する材料は、セルアレイ構造を実現するための他の材料に対して、選択エッチングのエッチング選択比を十分に大きくできない。これは、ゲート加工などを困難なものにすることを意味している。
【0028】
【特許文献1】
特開平11−163304号公報
【0029】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のセルアレイ構造では、メモリセルの微細化が進行するなかで、加工上の問題などを発生させることなく、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極との間の容量を増大することができない。このため、高集積化と書き込み電位の低減とを同時に実現できない問題があった。
【0030】
本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、その目的は、ゲート間絶縁層の誘電率を高くすること、及び、その厚さを薄くすることにより、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極との間の容量を増大させ、もって、高集積化と書き込み電位の低減とを同時に実現することにある。
【0031】
【課題を解決するための手段】
本発明の例に関わる不揮発性半導体記憶装置は、半導体基板と、前記半導体基板から突出した上面が平坦な凸部を有する第1絶縁層と、前記凸部により形成される凹部内に配置され、上面が前記第1絶縁層の上面に一致するフローティングゲート電極と、前記第1絶縁層の上面上及び前記フローティングゲート電極の上面上に配置される第2絶縁層と、前記第2絶縁層上に配置されるコントロールゲート電極とを備え、前記凹部の前記コントロールゲート電極が延びる方向の側面は、傾斜面を有し、前記凹部の前記コントロールゲート電極が延びる方向の幅は、最上部において最も広く、前記第2絶縁層は、酸化シリコンより高い誘電率を持った材料から構成される。
【0033】
本発明の例に関わる不揮発性半導体記憶装置の製造方法は、半導体基板上に第1導電層を形成する工程と、前記第1導電層上に第1マスク層を形成する工程と、前記第1マスク層をマスクにして、前記第1導電層及び前記半導体基板をエッチングし、トレンチを形成する工程と、前記トレンチを完全に満たす第1絶縁層を形成する工程と、少なくとも前記第1マスク層の上面が露出する程度まで前記第1絶縁層を研磨する工程と、前記第1マスク層を除去して前記第1導電層上に凹部を形成する工程と、前記第1絶縁層の角部の丸め処理を実行して前記凹部の側面を傾斜面とする工程と、前記凹部内に上面が前記第1絶縁層の上面に一致する第2導電層を形成する工程と、前記第1絶縁層の上面上及び前記第2導電層の上面上に第2絶縁層を形成する工程と、前記第2絶縁層上に第3導電層を形成する工程とを備える。
【0034】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の例に関わる不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法について詳細に説明する。
【0035】
1. 第1参考例
A. セルアレイ構造
図1は、第1参考例に関わるNAND型フラッシュメモリのセルアレイ構造の一部を示す断面図である。
【0036】
シリコン基板11内には、STI(Shallow Trench Isolation)構造の素子分離絶縁層16が形成される。素子分離絶縁層16は、シリコン基板11の上面から突出しており、この突出部は、凸部となっている。素子分離絶縁層16の上面は、平坦である。
【0037】
素子分離絶縁層16の凸部により形成された凹部、即ち、素子分離絶縁層16の間のシリコン基板11上には、トンネル酸化膜12及びフローティングゲート電極13が形成される。素子分離絶縁層16の上面とフローティングゲート電極13の上面とは、ほぼ一致している。
【0038】
フローティングゲート電極13の側面は、素子分離絶縁層16により覆われている。ゲート間絶縁層17は、フローティングゲート電極13上及び素子分離絶縁層16上に形成される。ゲート間絶縁層17は、フローティングゲート電極13に対しては、その上面のみに接触している。
【0039】
ゲート間絶縁層17上には、コントロールゲート電極18が形成される。コントロールゲート電極18は、それが延びる方向に配置されるメモリセルに共通となっている。
【0040】
このようなセルアレイ構造によれば、フローティングゲート電極13の側面は、素子分離絶縁層16により覆われ、ゲート間絶縁層17は、フローティングゲート電極13に対しては、その上面のみに接触している。また、素子分離絶縁層16上にフローティングゲート電極13のスリット構造が存在しない。
【0041】
従って、メモリセルの微細化を実現できると共に、加工上の問題、例えば、フローティングゲート電極13の残渣の発生をなくすことができる。
【0042】
また、ゲート間絶縁層17は、フローティングゲート電極13に対しては、その上面のみに接触している。つまり、ゲート間絶縁層17の下地は、平坦であるため、例えば、ペロブスカイト構造のような角部での被覆性に劣る材料を、ゲート間絶縁層17として使用できるようになる。
【0043】
具体的には、ゲート間絶縁層17としては、SiO2 、ONO膜、さらには、これらよりも高い誘電率を有する材料(単層、積層のいずれでもよい)、例えば、Ai2O3、SiO2−Al2O3−SiO2、SiO2−SiN−Al2O3などを使用できる。
【0044】
ゲート間絶縁層17の下地が平坦なため、ゲート間絶縁層17は、均一、かつ、均質に形成できる。また、ゲート間絶縁層17自体も、平坦なため、例えば、ゲートパターンニング時においては、ゲート間絶縁層17を容易にエッチングすることができる。このため、ゲート間絶縁層17は、例えば、Al2O3などといった非常に難エッチング性の材料から構成できる。
【0045】
本例では、フローティングゲート電極13の側面は、キャパシタの電極として利用していないため、フローティングゲート電極13とコントロールゲート電極18とが対向する部分の面積は、従来よりも減少している。
【0046】
しかし、ゲート間絶縁層17の下地が平坦であることから、ゲート間絶縁層17を構成する材料に関して、高誘電率の観点からの材料の選択肢を広げることができる。また、当然に、フローティングゲート電極13の角部での膜質が劣化することもないため、スリット構造を採用するメモリに比べ、ゲート間絶縁層17の薄型化が可能になる。
【0047】
このようなことから、最終的には、フローティングゲート電極13とコントロールゲート電極18との間の容量を増大させ、もって、高集積化と書き込み電位の低減とを同時に実現することができる。
【0048】
B. 製造方法
次に、図1のセルアレイ構造の製造方法について説明する。
図2乃至図7は、図1のセルアレイ構造を実現するための製造方法の各工程を示している。
【0049】
まず、図2に示すように、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により、シリコン基板11上に、トンネル酸化膜12、フローティングゲート電極の元になる導電層13及びマスク層14を、順次、形成する。導電層13は、例えば、不純物を含んだ導電性ポリシリコンから構成され、マスク層14は、例えば、SiO2 から構成される。
【0050】
次に、図3に示すように、PEP(Photo Engraving Process)により、レジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクにして、マスク層14をパターニングする。この後、レジストパターンは、除去される。そして、マスク層14をマスクにして、RIEにより、導電層13、トンネル酸化膜12及びシリコン基板11を、順次、エッチングする。その結果、シリコン基板11内には、トレンチ15が形成される。
【0051】
次に、図4に示すように、CVD法により、トレンチ15を完全に満たし、かつ、導電層13及びマスク層14を完全に覆い尽くす絶縁層16を形成する。本例では、絶縁層16は、例えば、マスク層14と同じ材料、SiO2 から構成される。
【0052】
次に、図5に示すように、CMP(chemical Mechanical Polishing)法により、マスク層14及び絶縁層16を研磨し、STI構造の素子分離絶縁層16を形成する。ここで、マスク層14は、CMPにより完全に除去し、絶縁層16は、その上面が導電層13の上面にほぼ一致する程度まで、研磨する。
【0053】
次に、図6に示すように、CVD法により、導電層13上及び素子分離絶縁層16上に、ゲート間絶縁層17及びコントロールゲート電極の元になる導電層18を、順次、形成する。ゲート間絶縁層17は、高誘電率を有する絶縁層から構成される。導電層18は、例えば、不純物を含んだ導電性ポリシリコンから構成される。
【0054】
最後に、図7に示すように、PEPにより、レジストパターンを形成し、このレジストパターンを用いて、ゲート加工を行う。即ち、レジストパターンをマスクにして、RIEにより、導電層18をエッチングして、コントロールゲート電極を形成する。続けて、ゲート間絶縁層17、導電層13及びトンネル酸化膜12をエッチングして、フローティングゲート電極を形成する。
【0055】
以上の工程により、図1のセルアレイ構造が完成する。
【0056】
C. まとめ
このようなセルアレイ構造及びその製造方法によれば、フローティングゲート電極の側面は、素子分離絶縁層により覆われ、ゲート間絶縁層は、フローティングゲート電極に対しては、その上面のみに接触している。また、素子分離絶縁層上にフローティングゲート電極のスリット構造が存在しない。
【0057】
従って、ゲート間絶縁層を高誘電率の材料から構成でき、かつ、ゲート間絶縁層を薄膜化できるため、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極との間の容量を増大させ、高集積化と書き込み電位の低減とを同時に実現することができる。
【0058】
2. 第2参考例
A. セルアレイ構造
図8は、第2参考例に関わるNAND型フラッシュメモリのセルアレイ構造の一部を示す断面図である。
【0059】
シリコン基板11内には、STI構造の素子分離絶縁層16が形成される。素子分離絶縁層16は、シリコン基板11の上面から突出しており、この突出部は、凸部となっている。素子分離絶縁層16の上面は、平坦である。
【0060】
素子分離絶縁層16の凸部により形成された凹部、即ち、素子分離絶縁層16の間のシリコン基板11上には、トンネル酸化膜12及びフローティングゲート電極13A,13Bが形成される。素子分離絶縁層16の上面とフローティングゲート電極13A,13Bの上面とは、ほぼ一致している。
【0061】
本例では、素子分離絶縁層16の凸部により形成された凹部の幅は、一定ではなく、その凹部の最上部において最も広くなっている。結果として、フローティングゲート電極13A,13Bとコントロールゲート電極18とが対向する部分の面積は、フローティングゲート電極13A,13Bとシリコン基板11とが対向する部分の面積よりも大きくなる。
【0062】
フローティングゲート電極13A,13Bの側面は、素子分離絶縁層16により覆われている。ゲート間絶縁層17は、フローティングゲート電極13A,13B上及び素子分離絶縁層16上に形成される。ゲート間絶縁層17は、フローティングゲート電極13A,13Bに対しては、その上面のみに接触している。
【0063】
本例では、フローティングゲート電極13A,13Bは、2つの層を積み重ねた形となっているが、3つ以上の層を積み重ねてもよい。
【0064】
ゲート間絶縁層17上には、コントロールゲート電極18が形成される。コントロールゲート電極18は、それが延びる方向に配置されるメモリセルに共通となっている。
【0065】
このようなセルアレイ構造によれば、フローティングゲート電極13A,13Bは、積層構造を有している。また、フローティングゲート電極13A,13Bが形成される凹部は、最上部が最も広い。
【0066】
さらに、フローティングゲート電極13A,13Bの側面は、素子分離絶縁層16により覆われ、ゲート間絶縁層17は、フローティングゲート電極13A,13Bに対しては、その上面のみに接触している。また、素子分離絶縁層16上にフローティングゲート電極13A,13Bのスリット構造が存在しない。
【0067】
従って、第1例と同様に、フローティングゲート電極13A,13Bとコントロールゲート電極18との間の容量を増大させ、高集積化と書き込み電位の低減とを同時に実現することができる。
【0068】
また、第2例では、フローティングゲート電極13A,13Bが積層構造を有し、フローティングゲート電極13A,13Bが形成される凹部は、最上部が最も広くなっているため、加工上の問題、特に、フローティングゲート電極13Bの被覆性及び残渣の問題を解消できる。
【0069】
また、ゲート間絶縁層17は、フローティングゲート電極13に対しては、その上面のみに接触している。つまり、ゲート間絶縁層17の下地は、平坦であるため、第1例と同様に、例えば、ペロブスカイト構造のような角部での被覆性に劣る材料を、ゲート間絶縁層17として使用できるようになる。
【0070】
ゲート間絶縁層17の下地が平坦なため、ゲート間絶縁層17は、均一、かつ、均質に形成できる。また、ゲート間絶縁層17自体も、平坦なため、例えば、ゲートパターンニング時においては、ゲート間絶縁層17を容易にエッチングすることができる。このため、ゲート間絶縁層17については、第1例と同様に、非常に難エッチング性の材料から構成できる。
【0071】
本例においても、フローティングゲート電極13A,13Bの側面は、キャパシタの電極として利用していないため、フローティングゲート電極13A,13Bとコントロールゲート電極18とが対向する部分の面積は、従来よりも減少している。
【0072】
しかし、ゲート間絶縁層17の下地が平坦であることから、ゲート間絶縁層17を構成する材料に関して、高誘電率の観点からの材料の選択肢を広げることができる。また、当然に、フローティングゲート電極13A,13Bの角部での膜質が劣化することもないため、スリット構造を採用するメモリに比べ、ゲート間絶縁層17の薄型化が可能になる。
【0073】
また、フローティングゲート電極13A,13Bが形成される凹部は、最上部が最も広いため、フローティングゲート電極13A,13Bとコントロールゲート電極18とが対向する面積を増やすことができる。
【0074】
このようなことから、最終的には、フローティングゲート電極13A,13Bとコントロールゲート電極18との間の容量を増大させ、もって、高集積化と書き込み電位の低減とを同時に実現することができる。
【0075】
B. 製造方法
次に、図8のセルアレイ構造の製造方法について説明する。
図9乃至図15は、図8のセルアレイ構造を実現するための製造方法の各工程を示している。
【0076】
まず、図9に示すように、CVD法により、シリコン基板11上に、トンネル酸化膜12、フローティングゲート電極の元になる導電層13A及びマスク層14を、順次、形成する。導電層13Aは、例えば、不純物を含んだ導電性ポリシリコンから構成され、マスク層14は、例えば、SiNから構成される。
【0077】
次に、図10に示すように、PEPにより、レジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクにして、マスク層14をパターニングする。この後、レジストパターンは、除去される。そして、マスク層14をマスクにして、RIEにより、導電層13A、トンネル酸化膜12及びシリコン基板11を、順次、エッチングする。その結果、シリコン基板11内には、トレンチ15が形成される。
【0078】
次に、図11に示すように、CVD法により、トレンチ15を完全に満たし、かつ、導電層13A及びマスク層14を完全に覆い尽くす絶縁層16を形成する。本例では、絶縁層16は、例えば、マスク層14と異なる材料、SiO2 から構成される。
【0079】
次に、図12に示すように、CMP法により、絶縁層16を研磨し、STI構造の素子分離絶縁層16を形成する。ここで、マスク層14は、CMPにおけるストッパとして機能する。絶縁層16は、少なくともマスク層14の上面が露出する程度まで、研磨する。実際は、図示するように、絶縁層16の上面がマスク層14の上面よりも少し低い位置になった時点で、絶縁層16の研磨を止めるようにする。
【0080】
この後、マスク材14を除去する。マスク材14を除去すると、導電層13A上には、凹部が形成される。
【0081】
次に、図13に示すように、導電層13A上の凹部の幅を広げる処理を実行する。例えば、ウェットエッチングなどの等方エッチングにより、絶縁層16をエッチングし、導電層13A上の凹部の幅を広げる。その結果、凹部の幅は、導電層13Aの幅よりも広くなる。
【0082】
次に、図14に示すように、CVD法により、凹部を完全に満たし、かつ、素子分離絶縁層16を完全に覆い尽くす導電層13Bを形成する。本例では、導電層13Bは、例えば、導電層13Aと同じ材料、不純物を含んだ導電性ポリシリコンから構成される。そして、CMP法により、導電層13Bを研磨し、導電層13Bを凹部内のみに残す。ここで、導電層13Bは、その上面が素子分離絶縁層16の上面とほぼ一致する程度になるまで、研磨される。素子分離絶縁層16は、CMPにおけるストッパとして機能する。
【0083】
なお、この研磨で、仮に、導電層13Bを削り過ぎても、既に、導電層13Aを形成しているため、フローティングゲート電極としては、最低、導電層13Aの厚さ分は、保証される。
【0084】
この後、CVD法により、導電層13A,13B上及び素子分離絶縁層16上に、ゲート間絶縁層17及びコントロールゲート電極の元になる導電層18を、順次、形成する。ゲート間絶縁層17は、高誘電率を有する絶縁層から構成される。導電層18は、例えば、不純物を含んだ導電性ポリシリコンから構成される。
【0085】
最後に、図15に示すように、PEPにより、レジストパターンを形成し、このレジストパターンを用いて、ゲート加工を行う。即ち、レジストパターンをマスクにして、RIEにより、導電層18をエッチングして、コントロールゲート電極を形成する。続けて、ゲート間絶縁層17、導電層13A,13B及びトンネル酸化膜12をエッチングして、フローティングゲート電極を形成する。
【0086】
以上の工程により、図8のセルアレイ構造が完成する。
【0087】
C. まとめ
このようなセルアレイ構造及びその製造方法によれば、第1参考例と同様の効果を得ることができる。即ち、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極との間の容量を増大させ、高集積化と書き込み電位の低減とを同時に実現することができる。さらに、フローティングゲート電極を多層構造とすることで、加工上の問題を解消でき、かつ、フローティングゲート電極の厚さの最低値を保証できる。また、フローティングゲート電極が形成される凹部は、最上部が最も広いため、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極とが対向する面積を増やすことができる。
【0088】
3. 実施例
A. セルアレイ構造
図15は、実施例に関わるNAND型フラッシュメモリのセルアレイ構造の一部を示す断面図である。
【0089】
本例のデバイス構造は、第2参考例のデバイス構造の変形例である。本例のデバイス構造の特徴は、第2参考例と比べると、素子分離絶縁層の凸部により形成される凹部の形が異なっている点にある。その他の点については、第2参考例と全く同じである。
【0090】
即ち、第2参考例では、図8に示すように、素子分離絶縁層16の凸部により形成される凹部の側面の形状は、階段状になっている。これに対し、実施例では、図15に示すように、素子分離絶縁層16の凸部により形成される凹部の側面の一部は、傾斜面となっている。
【0091】
その結果、素子分離絶縁層16の凸部により形成される凹部は、最上部が最も広くなる。フローティングゲート電極13A,13Bとコントロールゲート電極18とが対向する面積が大きくなり、両ゲート電極の間におけるキャパシタ容量を増大できる。
【0092】
本例のデバイス構造においても、第2参考例のデバイス構造と同様の効果を得ることができる。
【0093】
B. 製造方法
次に、図16のセルアレイ構造の製造方法について説明する。
図17乃至図20は、図16のセルアレイ構造を実現するための製造方法の各工程を示している。
【0094】
まず、図17に示すように、CMPにより、STI構造の素子分離絶縁層16を形成する工程までを、上述の第2参考例と同様の方法により実行する(図9乃至図12を参照)。
【0095】
この後、マスク材14を除去する。マスク材14を除去すると、導電層13A上には、凹部が形成される。
【0096】
次に、図18に示すように、導電層13A上の凹部の幅を広げる処理を実行する。例えば、選択エッチングによる絶縁層16の角部の丸め処理(テーパ加工)を実行し、導電層13A上の凹部の幅を広げる。その結果、凹部の側面は、傾斜面となり、凹部の幅は、最上部において最も広くなる。
【0097】
次に、図19に示すように、CVD法により、凹部を完全に満たし、かつ、素子分離絶縁層16を完全に覆い尽くす導電層13Bを形成する。本例では、導電層13Bは、例えば、導電層13Aと同じ材料、不純物を含んだ導電性ポリシリコンから構成される。そして、CMP法により、導電層13Bを研磨し、導電層13Bを凹部内のみに残す。ここで、導電層13Bは、その上面が素子分離絶縁層16の上面とほぼ一致する程度になるまで、研磨される。素子分離絶縁層16は、CMPにおけるストッパとして機能する。
【0098】
この後、CVD法により、導電層13A,13B上及び素子分離絶縁層16上に、ゲート間絶縁層17及びコントロールゲート電極の元になる導電層18を、順次、形成する。ゲート間絶縁層17は、高誘電率を有する絶縁層から構成される。導電層18は、例えば、不純物を含んだ導電性ポリシリコンから構成される。
【0099】
最後に、図20に示すように、PEPにより、レジストパターンを形成し、このレジストパターンを用いて、ゲート加工を行う。即ち、レジストパターンをマスクにして、RIEにより、導電層18をエッチングして、コントロールゲート電極を形成する。続けて、ゲート間絶縁層17、導電層13A,13B及びトンネル酸化膜12をエッチングして、フローティングゲート電極を形成する。
【0100】
以上の工程により、図16のセルアレイ構造が完成する。
【0101】
C. まとめ
このようなセルアレイ構造及びその製造方法によれば、第1参考例及び第2参考例と同様の効果を得ることができる。即ち、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極との間の容量を増大させ、高集積化と書き込み電位の低減とを同時に実現することができる。さらに、フローティングゲート電極を多層構造とすることで、加工上の問題を解消でき、かつ、フローティングゲート電極の厚さの最低値を保証できる。また、フローティングゲート電極が形成される凹部は、最上部が最も広いため、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極とが対向する面積を増やすことができる。
【0102】
4. 適用例
本発明の例に関わる不揮発性半導体記憶装置を使用したアプリケーションの一例を説明する。
【0103】
図21は、メモリカードの一例を示すブロック図である。
【0104】
メモリカード97には、主記憶であるメモリチップ(Flash memory)92と、メモリチップ92を制御するコントローラチップ(controller)91とが含まれている。コントローラチップ91に含まれるいくつかの回路ブロックのうち、特に、主記憶に関係する回路ブロックのみを説明する。
【0105】
主記憶に関係する回路ブロックとしては、例えば、シリアル/パラレル及びパラレル/シリアルインターフェース(Serial/Parallel and Parallel/Serial Interface)93、ページバッファ(Page Buffer)94、メモリインターフェース(Memory Interface)95が含まれる。
【0106】
インターフェース93は、データをメモリチップ92に書き込む際、例えば、シリアルな入力データ(Input data)を、パラレルな内部データに変換する。変換されたパラレルな内部データは、ページバッファ94に入力され、ここに蓄積される。蓄積された内部データは、メモリインターフェース95を介して、メモリチップ92に書き込まれる。
【0107】
また、データを、メモリカード97から読み出す際には、メモリチップル92から読み出したデータを、メモリインターフェース95を介して、ページバッファ94に入力し、ここに蓄積する。蓄積された内部データは、インターフェース93に入力され、ここでパラレルな内部データが、シリアルな出力データ(Output data)に変換されて、メモリカード97の外に出力される。
【0108】
このようなコントローラチップ91.及びメモリチップ92が、カード型外装体(Card type Package)に収容、あるいは搭載、あるいは貼り付けられることで、メモリカードとして機能する。
【0109】
本発明の例に関わる不揮発性半導体記憶装置は、メモリチップ92内のメモリ回路96に使用され、高速な書き込み動作を行いつつ、かつ、高精度な閾値分布幅制御を可能とする。従って、メモリカード97によれば、メモリカード97と、これが接続される電子機器との間でのデータのやりとり、特に、電子機器からのデータ書き込みを高速に行える、という利点を得ることができる。この利点故に、本発明の例に関わる不揮発性半導体記憶装置を使用したメモリカード97は、高速なデータ書き込みを要求される電子機器、例えば、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、パーソナルデジタルアシスタント等の記録メディアとして有用である。
【0110】
5. その他
第1参考例、第2参考例及び実施例によれば、ゲート間絶縁層は、トンネル酸化膜(SiO2)よりも高い誘電率を持った材料から構成できる。例えば、ゲート間絶縁層は、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、酸化シリコン及び窒化シリコンのうちの少なくとも1つを含む層から構成できる。
【0111】
また、第2参考例及び実施例において、導電層13A上に凹部(図13及び図18)を形成した後、導電層13Bを形成することなく、続けて、CMPにより、素子分離絶縁層16を研磨することも可能である。この場合、素子分離絶縁層16の上面と導電層13Aの上面とをほぼ一致させれば、第1参考例のデバイス構造を得ることができる。
【0112】
本発明の例は、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極とを有するMOS型トランジスタをメモリセルとする不揮発性半導体記憶装置、例えば、NAND型、AND型、NOR型などのセルアレイ構造を有するフラッシュメモリに適用できる。
【0113】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明の例によれば、ゲート間絶縁層の誘電率を高くすること、及び、その厚さを薄くすることにより、フローティングゲート電極とコントロールゲート電極との間の容量を増大させ、もって、メモリセルの高集積化と書き込みパルスの低電圧化とを同時に実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1参考例に関わるメモリのセルアレイ構造を示す斜視図。
【図2】図1の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図3】図1の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図4】図1の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図5】図1の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図6】図1の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図7】図1の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図8】 第2参考例に関わるメモリのセルアレイ構造を示す斜視図。
【図9】図8の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図10】図8の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図11】図8の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図12】図8の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図13】図8の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図14】図8の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図15】図8の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図16】 実施例に関わるメモリのセルアレイ構造を示す斜視図。
【図17】図16の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図18】図16の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図19】図16の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図20】図16の構造を実現する製造方法の一工程を示す斜視図。
【図21】本発明の例に関わるメモリの適用例を示す図。
【図22】従来のメモリのセルアレイ構造の例を示す斜視図。
【図23】メモリセルアレイの等価回路を示す図。
【符号の説明】
11 :シリコン基板、
12 :トンネル酸化膜、
13,13A,13B :フローティングゲート電極、
14 :マスク層、
15 :トレンチ、
16 :素子分離絶縁層、
17 :ゲート間絶縁層、
18 :コントロールゲート電極、
19 :凹部。
Claims (14)
- 半導体基板と、前記半導体基板から突出した上面が平坦な凸部を有する第1絶縁層と、前記凸部により形成される凹部内に配置され、上面が前記第1絶縁層の上面に一致するフローティングゲート電極と、前記第1絶縁層の上面上及び前記フローティングゲート電極の上面上に配置される第2絶縁層と、前記第2絶縁層上に配置されるコントロールゲート電極とを具備し、
前記凹部の前記コントロールゲート電極が延びる方向の側面は、傾斜面を有し、前記凹部の前記コントロールゲート電極が延びる方向の幅は、最上部において最も広く、
前記第2絶縁層は、酸化シリコンより高い誘電率を持った材料から構成されることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記フローティングゲート電極と前記コントロールゲート電極とが対向する部分の面積は、前記フローティングゲート電極と前記半導体基板とが対向する部分の面積よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記第1絶縁層は、STI構造を有する素子分離絶縁層であることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記フローティングゲート電極は、積み重ねた複数の層から構成されることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記フローティングゲート電極は、その上面のみにおいて前記第2絶縁層と接触していることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記第2絶縁層は、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、及び、窒化シリコンのうちの少なくとも1つを含んでいることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記フローティングゲート電極及び前記コントロールゲート電極を有するメモリセルは、NAND型、AND型、又は、NOR型セルアレイを構成することを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 半導体基板上に第1導電層を形成する工程と、前記第1導電層上に第1マスク層を形成する工程と、前記第1マスク層をマスクにして、前記第1導電層及び前記半導体基板をエッチングし、トレンチを形成する工程と、前記トレンチを完全に満たす第1絶縁層を形成する工程と、少なくとも前記第1マスク層の上面が露出する程度まで前記第1絶縁層を研磨する工程と、前記第1マスク層を除去して前記第1導電層上に凹部を形成する工程と、前記第1絶縁層の角部の丸め処理を実行して前記凹部の側面を傾斜面とする工程と、前記凹部内に上面が前記第1絶縁層の上面に一致する第2導電層を形成する工程と、前記第1絶縁層の上面上及び前記第2導電層の上面上に第2絶縁層を形成する工程と、前記第2絶縁層上に第3導電層を形成する工程とを具備することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
- 前記第3導電層をエッチングしてコントロールゲート電極を形成した後、続けて、前記第1及び第2導電層をエッチングしてフローティングゲート電極を形成する工程を具備することを特徴とする請求項8に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
- 前記第1マスク層は、前記第1絶縁層の研磨時のストッパとして機能することを特徴とする請求項8に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
- 前記第2導電層は、前記凹部を覆うように形成された後に、前記第2導電層の上面と前記第1絶縁層の上面とが一致するまで研磨されることを特徴とする請求項8に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
- 前記第1絶縁層は、前記第2導電層の研磨時のストッパとして機能することを特徴とする請求項11に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
- 前記第1絶縁層の研磨は、前記第1絶縁層の上面が前記第1導電層の上面よりも上部に存在するように実行されることを特徴とする請求項8に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
- 前記丸め処理は、選択エッチングによる前記第1絶縁層のエッチング処理であることを特徴とする請求項8に記載の不揮発性半導体記憶装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002348933A JP3914142B2 (ja) | 2002-11-29 | 2002-11-29 | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 |
US10/382,772 US6878985B2 (en) | 2002-11-29 | 2003-03-07 | Nonvolatile semiconductor memory device having a memory cell that includes a floating gate electrode and control gate electrode |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002348933A JP3914142B2 (ja) | 2002-11-29 | 2002-11-29 | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004186252A JP2004186252A (ja) | 2004-07-02 |
JP3914142B2 true JP3914142B2 (ja) | 2007-05-16 |
Family
ID=32376130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002348933A Expired - Fee Related JP3914142B2 (ja) | 2002-11-29 | 2002-11-29 | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6878985B2 (ja) |
JP (1) | JP3914142B2 (ja) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6925008B2 (en) * | 2001-09-29 | 2005-08-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile semiconductor memory device with a memory unit including not more than two memory cell transistors |
KR100628419B1 (ko) * | 2003-02-26 | 2006-09-28 | 가부시끼가이샤 도시바 | 개선된 게이트 전극을 포함하는 불휘발성 반도체 기억 장치 |
JP2005116970A (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-28 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
US20050098534A1 (en) * | 2003-11-12 | 2005-05-12 | Molecular Imprints, Inc. | Formation of conductive templates employing indium tin oxide |
JP2005285818A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-13 | Toshiba Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
KR100621628B1 (ko) * | 2004-05-31 | 2006-09-19 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 기억 셀 및 그 형성 방법 |
KR100653690B1 (ko) | 2004-06-25 | 2006-12-04 | 삼성전자주식회사 | 플래시 메모리 소자 및 그의 제조 방법 |
US7785526B2 (en) | 2004-07-20 | 2010-08-31 | Molecular Imprints, Inc. | Imprint alignment method, system, and template |
JP2006073939A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置及び不揮発性半導体記憶装置の製造方法 |
KR100647482B1 (ko) * | 2004-09-16 | 2006-11-23 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
JP4761747B2 (ja) | 2004-09-22 | 2011-08-31 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
TW200633121A (en) * | 2005-03-03 | 2006-09-16 | Powerchip Semiconductor Corp | Method for manufacturing shallow trench isolation structure |
US7528447B2 (en) * | 2005-04-06 | 2009-05-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile semiconductor memory and method for controlling a non-volatile semiconductor memory |
JP4250617B2 (ja) | 2005-06-08 | 2009-04-08 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置とその製造方法 |
JP2007088301A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-04-05 | Toshiba Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP2007096151A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置およびその製造方法 |
JP4476919B2 (ja) | 2005-12-01 | 2010-06-09 | 株式会社東芝 | 不揮発性記憶装置 |
JP4177847B2 (ja) | 2006-01-06 | 2008-11-05 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4762041B2 (ja) | 2006-04-24 | 2011-08-31 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体メモリ |
JP2007317801A (ja) * | 2006-05-24 | 2007-12-06 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法 |
US20080171427A1 (en) * | 2007-01-16 | 2008-07-17 | Atmel Corporation | Eeprom memory cell with controlled geometrical features |
JP2008186838A (ja) * | 2007-01-26 | 2008-08-14 | Toshiba Corp | 半導体装置、その製造方法及び不揮発性半導体記憶装置 |
US8809932B2 (en) * | 2007-03-26 | 2014-08-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor memory device, method of fabricating the same, and devices employing the semiconductor memory device |
KR100814408B1 (ko) * | 2007-04-04 | 2008-03-18 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 소자 및 이의 제조 방법. |
KR100885891B1 (ko) * | 2007-04-30 | 2009-02-26 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 소자 및 이의 제조 방법 |
US8120091B2 (en) * | 2007-05-29 | 2012-02-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Non-volatile memory devices including a floating gate and methods of manufacturing the same |
US7906274B2 (en) * | 2007-11-21 | 2011-03-15 | Molecular Imprints, Inc. | Method of creating a template employing a lift-off process |
JP4461170B2 (ja) | 2007-12-28 | 2010-05-12 | 株式会社東芝 | メモリシステム |
JP4856201B2 (ja) * | 2009-03-09 | 2012-01-18 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
KR102085525B1 (ko) * | 2013-11-27 | 2020-03-09 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11163304A (ja) | 1997-11-28 | 1999-06-18 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 |
JP3540633B2 (ja) | 1998-11-11 | 2004-07-07 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
US6355524B1 (en) * | 2000-08-15 | 2002-03-12 | Mosel Vitelic, Inc. | Nonvolatile memory structures and fabrication methods |
JP4160283B2 (ja) * | 2001-09-04 | 2008-10-01 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
-
2002
- 2002-11-29 JP JP2002348933A patent/JP3914142B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-03-07 US US10/382,772 patent/US6878985B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040104422A1 (en) | 2004-06-03 |
US6878985B2 (en) | 2005-04-12 |
JP2004186252A (ja) | 2004-07-02 |
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TW202224158A (zh) | 半導體裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061031 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070201 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100209 Year of fee payment: 3 |
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