JP3904328B2 - 基板のめっき方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板のめっき方法に係り、特に半導体基板に形成された配線用の窪みに銅(Cu)等の金属を充填する等の用途の基板のめっき方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体基板上に配線回路を形成するためには、基板面上にスパッタリング等を用いて導体の成膜を行った後、さらにレジスト等のパターンマスクを用いたケミカルドライエッチングにより膜の不要部分を除去していた。
【0003】
配線回路を形成するための材料としては、アルミニウム(Al)又はアルミニウム合金が用いられていた。しかしながら、半導体の集積度が高くなるにつれて配線が細くなり、電流密度が増加して熱応力や温度上昇を生じる。これはストレスマイグレーションやエレクトロマイグレーションによってAl等が薄膜化するに従いさらに顕著となり、ついには断線或いは短絡等のおそれが生じる。
【0004】
そこで、通電による過度の発熱を避けるため、より導電性の高い銅などの材料を配線形成に採用することが要求されている。しかしながら、銅又はその合金はドライエッチングが難しく、全面を成膜してからパターンを形成する上記の方法の採用は困難である。そこで、予め所定パターンの配線用の溝を形成しておき、その中に銅又はその合金を充填する工程が考えられる。これによれば、膜をエッチングにより除去する工程は不要で、表面段差を取り除くための研磨工程を行えばよい。また、多層回路の上下を連絡するプラグと呼ばれる部分も同時に形成することができる利点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような配線溝或いはプラグの形状は、配線幅が微細化するに伴いかなりの高アスペクト比(深さと幅の比)となり、スパッタリング成膜では均一な金属の充填が困難であった。また、種々の材料の成膜手段として気相成長(CVD)法が用いられるが、銅又はその合金では、適当な気体原料を準備することが困難であり、また、有機原料を採用する場合には、これから堆積膜中へ炭素(C)が混入してマイグレーション性が上がるという問題点があった。
【0006】
そこで、基板をめっき液中に浸漬させて無電解又は電解めっきを行なう方法が提案されている。係るめっきによる成膜では、高アスペクト比の配線溝を均一に金属で充填することが可能となる。
【0007】
ここに、例えば電解銅めっきにあっては、めっき液として、その組成に硫酸銅と硫酸を含むものが一般に使用されている。そして、硫酸銅濃度が低く、硫酸濃度が高いめっき液を使用すると、めっき液の導電率が上がり、分極が大きくなって、均一電着性及び被覆性が向上し、逆に硫酸銅濃度が高く、硫酸濃度が低いめっき液を使用すると、レベリング性が良くなることが知られている。
【0008】
このため、均一電着性及び被覆性に優れた組成のめっき液を使用した銅めっきを行って、アスペクト比の大きい基板の微細窪み内に銅を充填すると、レベリング性に劣り、微細窪みの入口が先に塞がれて、いわゆる空孔(ボイド)が生じやすくなり、逆にレベリング性に優れた組成のめっき液を使用した銅めっきを行うと、均一電着性及び被覆性に劣り、微細窪みの壁面や底部の一部にめっき未着部が生じてしまうといった問題があった。
【0009】
本発明は上記事情に鑑みて為されたもので、微細な配線用の溝等の微細窪みに銅又は銅合金等の電気抵抗の小さい材料を隙間なく均一に、かつ表面を平坦に充填できるようにした基板のめっき方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板のめっき方法は、配線用の微細窪みを有する半導体基板をプリント基板用ハイスロー硫酸銅めっき液中に浸漬させて、第1段めっき処理を行い、前記微細窪みの壁面や底面に初期めっき膜を形成し、該初期めっき膜を形成した前記半導体基板を装飾用硫酸銅めっき液中に浸漬させて第2段めっき処理を行い、前記初期めっき膜の表面に表面を平坦とした表面めっき膜を形成することを特徴とする。
【0011】
これにより、第1段めっき処理で、微細窪みの壁面や底面にめっき未着部のない均一な初期めっき膜を形成し、第2段めっき処理で、この初期めっき膜の表面にボイドフリーで表面を平坦にした表面めっき膜を形成することができる。
【0012】
また、前記第1のめっき液として、プリント基板用ハイスロー硫酸銅めっき液を、第2のめっき液として、装飾用硫酸銅めっき液をそれぞれ使用することを特徴とする。プリント基板用ハイスロー硫酸銅めっき液は、硫酸銅の濃度が低く、硫酸濃度が高い均一付着(電着)性及び被覆性に優れた組成の銅めっき液であり、装飾用硫酸銅めっき液は、硫酸銅の濃度が高く、硫酸濃度が低いレベリング性に優れた組成の銅めっき液である。これにより、微細窪み内に銅を隙間なく均一に充填し、かつ表面を平坦にした銅めっきを施すことができる。
【0013】
更に、前記プリント基板用ハイスロー硫酸銅めっき液として、硫酸銅5〜100g/l、硫酸100〜250g/lの組成のものを、装飾用硫酸銅めっき液として、硫酸銅100〜300g/l、硫酸10〜100g/lの組成のものをそれぞれ使用することを特徴とする。
【0014】
また、基板のめっき装置は、めっき槽と、該めっき槽に均一付着性に優れた組成の第1のめっき液を供給する第1のめっき液供給手段と、該めっき槽にレベリング性に優れた組成の第2のめっき液を供給する第2のめっき液供給手段と、前記第1のめっき液供給手段と第2のめっき液供給手段によるめっき液の供給を切換える切換え手段とを有することを特徴とする。
【0015】
これにより、先ず、めっき槽内に均一付着性に優れた組成の第1のめっき液を供給して基板の第1段めっき処理を行い、しかる後、めっき液の供給を切換え、レベリング性に優れた組成の第2のめっき液を供給して基板の第2段めっき処理を行うことで、第1段めっき処理と第2段めっき処理を同一設備内で連続的に行うことができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
この実施の形態のめっき方法は、半導体基板の表面に銅めっきを施して、銅層からなる配線が形成された半導体装置を得るのに使用されるのであるが、この工程を図1を参照して説明する。
【0017】
即ち、半導体基板Wには、図1(a)に示すように、半導体素子が形成された半導体基材1上の導電層1aの上にSiO2からなる絶縁膜2が堆積され、リソグラフィ・エッチング技術によりコンタクトホール3と配線用の溝4が形成され、その上にTiN等からなるバリア層5が形成されている。
【0018】
そして、図1(b)に示すように、前記半導体基板Wの表面に銅めっきを施すことで、半導体基材1のコンタクトホール3及び溝4内に銅層6を充填させるとともに、絶縁膜2上に銅層6を堆積させる。その後、化学的機械的研磨(CMP)により、絶縁膜2上の銅層6を除去して、コンタクトホール3および配線用の溝4に充填させた銅層6の表面と絶縁膜2の表面とをほぼ同一平面にする。これにより、図1(c)に示すように銅層6からなる配線が形成される。
【0019】
以下、前記図1(a)に示す半導体基板Wに電解銅めっきを施すプロセスを図2を参照して説明する。先ず、半導体基板Wを、例えば硫酸水溶液中に浸漬させて該半導体基板Wを活性化させる前処理を行う。
【0020】
次に、これを水洗いした後、第1のめっき液、例えばプリント基板用ハイスロー硫酸銅めっき液に浸漬させて第1段めっき処理を行い、これによって、図3(a)に示すように、半導体基板Wの微細窪み10の側面及び底面を含む表面に均一な初期めっき膜11を形成する。ここに、プリント基板用ハイスロー硫酸銅めっき液は、硫酸銅の濃度が低く、硫酸濃度が高い均一電着性及び被覆性に優れた組成の銅めっき液であり、例えば、硫酸銅5〜100g/l、硫酸100〜250g/lの組成のものである。
【0021】
このように、硫酸銅濃度が低く、硫酸濃度が高いめっき液では、めっき液の伝導率が上がり、分極が大きくなるため、均一電着性が向上する。これによって、めっきを半導体基板Wの表面に均一に付着させて、微細窪み10の底部や側面にめっきの未着部分が生じてしまうことを防止することができる。
【0022】
そして、これを水洗いした後、第2のめっき液、例えば、装飾用硫酸銅めっき液に浸漬させて第2段めっき処理を行い、これによって、図3(b)及び(c)に示すように、前記初期めっき膜11の表面に平坦な表面めっき膜12を形成する。ここに、装飾用硫酸銅めっき液は、硫酸銅の濃度が高く、硫酸濃度が低いレベリング性に優れた組成の銅めっき液であり、例えば、硫酸銅100〜300g/l、硫酸10〜100g/lの組成のものである。
【0023】
ここに、レベリング性とは、表面平坦度に対する性質を意味し、レベリング性が良いと、図4(a)に示すように、基板Wの表面に凹部14があっても、より平坦な表面のめっき膜15aを得ることができる。これに対して、レベリング性が悪いと、同図(b)に示すように、基板Wの表面の凹部14の形状がそのまま表面に残っためっき膜15bを得ることができる。
【0024】
このように、レベリング性に優れためっき液にあっては、図3(b)に示すように、微細窪み10の入口での膜成長が遅くなり、これによって、ボイドの発生を防止しつつ、微細窪み10内に銅を均一に隙間なく充填し、しかも表面を平坦にすることができる。
【0025】
しかる後、水洗いを行い、乾燥させてめっき処理を終了するのであり、これにより、微細窪み10の壁面や底面にめっき未着部が生じてしまうことがなく、しかもボイドフリーで、かつ表面が平坦なめっき膜13を得ることができる。
【0026】
前記めっき処理に適しためっき装置を図5に示す。
このめっき装置には、めっき槽20と、このめっき槽20の内部に前記第1のめっき液21を供給する第1のめっき液供給手段22aと、前記第2のめっき液23を供給する第2のめっき液供給手段22bが備えられている。
【0027】
前記第1のめっき液供給手段22aには、第1のめっき液21をめっき槽20に送り出すポンプ24aが備えられ、このポンプ24aの上流側に開閉弁25aが配置されているとともに、この開閉弁25aを開閉する切換手段としてのタイマ26aが備えられている。
【0028】
第2のめっき液供給手段22bも同様に、第2のめっき液23をめっき槽20に送り出すポンプ24bが備えられ、このポンプ24bの上流側に開閉弁25bが配置されているとともに、この開閉弁25bを開閉する切換手段としてのタイマ26bが備えられている。
【0029】
更に、前記めっき槽20には、この内部に洗浄水を導入する洗浄水供給管27と、このめっき槽20内の洗浄水を外部に排水する排水管28が接続され、この排水管28には、ポンプ29が接続されている。
【0030】
そして、前述のようにして前処理を施した半導体基板をめっき槽20の内部に入れ、先ず、めっき槽20の内部に洗浄水を導入して水洗いを行った後、タイマ26aを介して第1のめっき液供給手段22aの開閉弁25aを開き、めっき槽20内に第1のめっき液21を供給して第1段めっき処理を行う。そして、一定時間経過後に、前記開閉弁25aを閉じ、めっき槽 20の内部に洗浄水を導入して水洗いを行った後、今度は、タイマ26bを介して第2のめっき液供給手段22bの開閉弁26bを開き、めっき槽20内に第2のめっき液23を供給して第2段めっき処理を行う。これにより、第1段めっき処理と第2段めっき処理を同一設備で連続して行うことができる。
【0031】
なお、この例では、めっき液の供給を切り換える切換手段として、タイマを使用した例を示しているが、タイマ以外の任意の手段を使用してもよいことは勿論である。
【0032】
【実施例】
(実施例1)
半導体基板W上に、幅が1.0μm以下の微細窪み10を作り、これを50℃に維持した100g/lの硫酸水溶液に15秒間浸漬させて前処理を施した後、第1のめっき液による第1段めっき処理を施し、水洗い後に第2のめっき液による第2段めっき処理を施した。そして、水洗いを行って、乾燥させた。
【0033】
ここに、第1のめっき液の組成は、以下の通りである。
CuSO4・5H2O 70g/l
H2SO4 200g/l
NaCl 100mg/l
有機添加物 5ml/l
一方、第2のめっき液の組成は、以下の通りである。
CuSO4・5H2O 200g/l
H2SO4 50g/l
NaCl 100mg/l
有機添加物 5ml/l
【0034】
また、めっき条件は、双方とも同じで、以下の通りである。
浴温 25℃
電流密度 0.5A/dm2
めっき時間 3分
PH<1
これにより、図6(a)に示すように、半導体基板Wの微細窪み10内をめっき未着部を生じることなく、ボイドフリーの銅めっき膜13で埋めることができた。
【0035】
(比較例1)
比較例1として、前記と同様な前処理を施した半導体基板Wに、前記第1のめっき液のみによるめっき処理を施したところ、図6(b)に示すように、微細窪み10内の銅めっき膜13の内部にボイド30が生じていたことが確認された。
【0036】
(比較例2)
比較例2として、前記と同様な前処理を施した半導体ウエハに、前記第2のめっき液のみでめっき処理を施したところ、図6(c)に示すように、微細窪み10の底部の隅部にめっき未着部31が生じたことが確認された。
【0037】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、第1段めっき処理で、微細窪みの壁面や底面にめっき未着部のない均一な初期めっき膜を形成し、第2段めっき処理で、この初期めっき膜の表面にボイドフリーで表面を平坦にした表面めっき膜を形成することで、微細な配線用の溝等の微細窪みに銅又は銅合金等の電気抵抗の小さい材料を隙間なく均一に、かつ表面を平坦に充填することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基板のめっき方法によって製造される半導体素子の製造工程を示す断面図である。
【図2】本発明の実施の形態のめっき方法のプロセスを示す工程図である。
【図3】同じく、図2のプロセスの説明に付する断面図である。
【図4】レベリング性の説明に付する断面図である。
【図5】本発明の実施の形態のめっき装置を示す概略図である。
【図6】本発明の実施例1と比較例1及び2との差異を示す断面図である。
【符号の説明】
10 微細窪み
11 初期めっき膜
12 表面めっき膜
13 めっき膜
20 めっき槽
21 第1のめっき液
22a,22b めっき液供給手段
23 第2のめっき液
25a,25b 開閉弁
26a,26b タイマ(切換手段)
Claims (2)
- 配線用の微細窪みを有する半導体基板を、硫酸銅5〜100 g/l 、硫酸200〜250 g/l の組成のプリント基板用ハイスロー硫酸銅めっき液中に浸漬させて、第1段めっき処理を行い、前記微細窪みの壁面や底面に初期めっき膜を形成し、該初期めっき膜を形成した前記半導体基板を、硫酸銅200〜300 g/l 、硫酸10〜100 g/l の組成の装飾用硫酸銅めっき液中に浸漬させて第2段めっき処理を行い、前記初期めっき膜の表面に表面を平坦とした表面めっき膜を形成することを特徴とする基板のめっき方法。
- 前記微細窪みの壁面や底面にバリア層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の基板のめっき方法。
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