JP3889892B2 - 透明導電性フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は透明導電性フィルムの製造方法に関する。詳しくは、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等のディスプレイの表示色を変化させずに電磁波を吸収・反射することの出来る透明導電性フィルムの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、社会が高度に情報化されるようになってきている。これに従い、情報関連機器・関連部品への需要も高まってきた。その中で、ディスプレイ装置は、テレビジョン用、パーソナルコンピュータ用、その他各種の情報提供用に用いられている。その様々な用途に対応するため、ディスプレイ装置には様々な特性が要求されるようになってきている。その中で、特に薄型化・大型化が要求されるようになってきた。大型・薄型のディスプレイとしてプラズマディスプレイが特に注目され、既に一部が市場に出始めている。しかしながら、プラズマディスプレイは、その構造原理上強度の漏洩電磁界が発生する。そのため、漏洩電磁界の人体や周辺機器に与える影響を防ぐ必要がある。また、プラズマディスプレイ装置からはプラズマ中の励起原子から放出される近赤外線光がコードレスフォン、リモコン等に作用して悪影響を引き起こすという問題点も生じている。
【０００３】
そのため、プラズマディスプレイ装置には、漏洩電磁界および近赤外線を防ぐためのフィルターが用いられることが一般的である。電磁界および近赤外線を防ぐためのフィルター（以下、単にフィルターと略する）は、近赤外線および電磁界の遮蔽材料とフィルターとして十分な強度を持たせるために用いる支持板とから主になっている。支持板は主に厚みが２〜５ｍｍのガラス板もしくはプラスチック板であり、近赤外線および電磁界の遮蔽材料としては▲１▼金属メッシュ、合成樹脂に金属をコートしたメッシュ、金属箔をメッシュ状にエッチング処理したものと近赤外線を吸収する色素とを組み合わせたもの、▲２▼酸化インジウム−錫（以下、ＩＴＯという）に代表される透明導電性薄膜と（必要に応じて）近赤外線を吸収する色素とを組み合わせたものからなる。
【０００４】
上記▲１▼の例としては、特開平９−３３０６６７号公報等に見られるが、メッシュ自体は光を透過しないため、光を透過しない部分がメッシュ状に見えたり、モワレの発生、メッシュ形成時の手間がかかる等の問題点を有していた。一方、▲２▼の場合、十分な電磁波シールド特性を有するために必要な表面抵抗値が１０Ω／□以下と低く、また、必要な可視光線透過率が４０％以上と高いため、一般的に透明導電性薄膜として用いられているＩＴＯ、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の酸化物薄膜単体では上記の要求を満たすことが困難である。
【０００５】
本出願人は、特開平１０−７３７１９号公報に関る特許出願において▲２▼の例を提案している。この例は、高屈折率透明薄膜と金属薄膜とからなる透明導電性フィルム、及び透過光の色を調整するための調色フィルムとからなる遮蔽層を有しており、耐環境に優れ、近赤外線遮断性能に優れ、しかもディスプレイ本体の表示色を変化させない優れた光学フィルターである。しかしながら、この例では、透明導電性薄膜層を形成した後、その表面に調色フィルムを貼付する工程が必要であり、必ずしも効率のよい方法とはいえない。また、調色フィルムを貼付する際に、フィルムにしわなどが発生することもあり歩留りが低下するなどの問題点もある。通常、調色フィルムを貼付する際には接着剤層を介して貼付する。そのため、光が透過する層、光が反射する界面がその分だけ増加することとなり、光線透過率の低下、及び光線反射率の増加をきたす原因となる。かかる点においても必ずしも好ましい方法とはいえない。さらに、透明導電性薄膜層の光学的特性を考慮して、調色フィルムの光学的特性（後述する透過光のＬａ^*ｂ^*表色系に係わる特性）を制御する方法を採用している訳ではない。そのため、透明導電性フィルムに調色フィルムを貼り合わせても、その色度が必ずしも所望の範囲に入るとはいえないことがある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記問題に鑑み、優れた電磁波シールド特性と光学特性を併せもつ、電磁波シールドフィルターの資材に適する透明導電性フィルムの効率の良い製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記の課題を解決するため、鋭意検討を重ねた結果、予め、透明プラスチックフィルムの表面に特定の着色プラスチック層を形成してそれらの光学特性を所定の範囲に制御した後、それらのいずれか一方の片表面に高屈折率透明薄膜層および金属薄膜層からなる透明導電性薄膜層を形成することにより、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【０００８】
すなわち、本発明は、透明プラスチックフィルム（Ａ）、着色プラスチック層（Ｂ）及び透明導電性薄膜層（Ｃ）から形成された透明導電性フィルムの製造方法であって、厚み２５〜３００μｍの透明プラスチックフィルム（Ａ）の片表面に、バインダー樹脂１００重量部に対し、色素０．００１〜１０重量部を含む塗工液を塗布、乾燥して厚み０．１〜５０μｍの着色プラスチック層（Ｂ）を形成して、（Ａ）及び（Ｂ）からなる積層体の透過光のａ^*値を０〜４０、ｂ^*値を−４０〜０の範囲に制御し、次いで、（Ａ）及び（Ｂ）のいずれか一方の表面に、厚み５〜２００ｎｍの高屈折率透明薄膜層（Ｃ１）及び厚み４〜５０ｎｍの金属薄膜層（Ｃ２）を交互に少なくとも２回繰り返して、最下層及び最表層を（Ｃ１）で形成するように積層して透明導電性薄膜層（Ｃ）を形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法である。
【０００９】
本発明の特徴は、予め、透明プラスチックフィルムの表面に特定の着色プラスチック層を形成し、それら積層体のＬａ^＊ｂ^＊表色系におけるａ^＊値及びｂ^＊値を特定の範囲に制御し、次いで、それらのいずれか一方の片表面に高屈折率透明薄膜層および金属薄膜層からなる透明導電性薄膜層を形成することにある。かかる構成を採用することにより、透明導電性薄膜層の光学特性に応じて、適宜、透明プラスチックフィルムの調色を行うことができる。例えば、本発明の製造方法で得られる透明導電性フィルムをプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等の電磁波シールド用フィルターとして用いた場合、ディスプレイの表示色を変化することがない。また、透明導電性薄膜層を形成した後、その表面に調色フィルムを貼付するような後工程が不要であり、工程が簡略化できる。さらに、調色フィルムを貼付する際に、フィルムにしわなどが発生して歩留りが低下するなどの問題もない。その上、本発明の製造方法は、透明導電性薄膜層と着色フィルム層との間に接着剤層がないので、積層体の層間における光の反射を抑制でき、光線透過率の高い透明導電性フィルムを製造することができる。
【００１０】
なお、本発明におけるＬａ^*ｂ^*表色系とは、国際照明委員会（ＣＩＥ）において１９７６年に定められた表色の方法を意味し、ＪＩＳ Ｚ−８７２９に規程される方法により測定する。Ｌは、明るさを示す指標であり、大きくなると明るく、小さくなると暗くなる。ａ^*が正になると、赤色になり、負になると緑色になる。また、ｂ^*が正になると黄色になり、負になると青色になる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に関して詳細に説明する。本発明に係わる透明導電性フィルムの製造方法の概要は、先ず、特定の厚みを有する透明プラスチックフィルム（Ａ）の片表面に、バインダー樹脂及び色素の特定量を含む塗工液を塗布、乾燥して厚み０．１〜５０μｍの着色プラスチック層（Ｂ）を形成し、（Ａ）及び（Ｂ）積層体のａ^*値及びｂ^*値を特定の範囲に制御する。次いで、透明プラスチックフィルム（Ａ）及び着色プラスチック層（Ｂ）のいずれか一方の表面に、特定の厚みを有する高屈折率透明薄膜層（Ｃ１）及び金属薄膜層（Ｃ１）を交互に少なくとも２回繰り返して積層して透明導電性薄膜層（Ｃ）を形成する。この際、最下層及び最表層を（Ｃ１）で形成するように積層する。
【００１２】
本発明で用いる透明プラスチックフィルム（Ａ）としては、透明性の高いものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリ弗化ビニル等のホモポリマー、およびこれらの樹脂のモノマーと共重合可能なモノマーとのコポリマー等からなる高分子フィルムなどが挙げられる。ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。透明プラスチックフィルムの全光線透過率は、８０％以上であることが好ましい。８５％以上であることがさらに好ましい。一般的には、表面に反射防止処理を行わなければ、透明プラスチックフィルムの全光線透過率は９３％を超えることはない。厚みは２５〜３００μｍ程度のものが好ましい。
【００１３】
本発明において、着色フィルム層（Ｂ）を形成するために色素または顔料を使用する。色素が好ましい。色素又は顔料としては、溶媒へ溶解可能なものであればいかなるものでも問題なく使用することが可能である。例えば、好ましいものとして有機物系の染料が挙げられる。有機物系の染料としては、スプラミンレッド３Ｂ、アミドナフトールレッド６Ｂ、シリアスレッド４Ｂ、セリトンファストレッドＧＧ、パーマネントレッドＦ５Ｒ等に代表されるアゾ染料、アンスラランレッド３Ｂ、アンスラキノンレッド、アンスラキノンブルーＳＲＸ、セリトンファストバイオレット６Ｂ、セリトンファストピンクＢに代表されるアントラキノン系染料、インダンスレンレッド、インダンスレンバイオレットに代表されるインジゴイド染料、インメジアルバイオレット２Ｂ、インメジアルニューブルー３ＧＬ、ヒドロンブルーＲＣ等に代表される硫化染料、ビクトリアブルーＢ、メタクロムバイオレット２Ｒに代表されるキノンイミン染料、ヘリオーゲンブルーＧに代表されるフタロシアニン系染料等が挙げられる。
【００１４】
これらの内、色素を溶媒に溶解した溶液の透過光のＬａ^*ｂ^*表色系におけるａ^*値が正の値、ｂ^*値が負の値を持つ色素が好ましく挙げられる。それぞれ単独もしくは複数を組み合わせて使用することが出来る。溶媒溶液の透過光のａ^*値が正、ｂ^*値が負である色素を用いることが好ましい。また、前記ａ^*値が正である色素と、ｂ^*値が負である色素を組み合わせて用いてもよい。すなわち、例えば、赤色の色素と青色の色素を組み合わせて使用することもできる。
【００１５】
本発明では、上記色素は、バインダー樹脂と共に使用する。バインダー樹脂は、透明性が高く、塗布膜形成後の安定性の高い樹脂が好ましい。このような特性を持つ樹脂としては、例えば、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、水性ウレタン系の樹脂等が挙げられる。色素の添加割合は、バインダー樹脂１００重量部に対し、０．００１〜１０重量部程度が一般的である。色素を溶媒に溶解し、それにバインダー樹脂を溶解または分散させて、所謂、インキ状にして使用することが好ましい。
【００１６】
溶媒としては、上記色素が溶解するものが用いられれる。バインダー樹脂に対しても相溶性のあるものが好ましい。樹脂に対し貧溶媒であってもよい。比較的低温で蒸発し、乾燥後の樹脂中に残存しにくい溶媒が好ましい。例えば、エチルアルコール、メチルアルコール、イソプロピルアルコール等の脂肪族低級アルコール、アセトン、トルエン等が挙げられる。溶媒への色素及びバインダー樹脂の添加方法としては、溶媒中に色素を投入し、攪拌を続けることにより色素の溶媒溶液を調製する。次いで、得られた溶液にバインダー樹脂を添加して、溶解または分散させる方法が挙げられる。色素及び樹脂の溶解量に関しては、特に制限しないが、最終的に色素及び樹脂の重量比が上記範囲内にあり、且つ、固形分濃度が１０〜９５重量％程度の溶液または分散液であれば良い。以下、これらを塗工液という。
【００１７】
上記塗工液の塗布方法としては、一般的な樹脂の塗布手段を用いることが可能である。例えば、3本リバースコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法などが挙げられる。塗工液の塗布厚みは、乾燥後の厚みが０．１〜５０μｍとなるように塗布すればよい。乾燥条件は用いる溶媒により条件が変わるが、通常、８０〜１２０℃において、５〜６０分間程度である。
【００１８】
透明プラスチックフィルム（Ａ）の片表面に、上記方法により着色プラスチック層（Ｂ）を形成することにより、透明プラスチックフィルムの調色を行うことが可能である。透明プラスチックフィルム（Ａ）と着色プラスチック層（Ｂ）との積層体（以下、調色透明プラスチックフィルムという）の全光線透過率は、５０％以上であることが好ましい。６０％以上であることが更に好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。全光線透過率が上記の範囲よりも低い透明プラスチックフィルムを用いてフィルターを作成し、ディスプレイに取り付けた場合、非常に画面が暗くなり好ましくない。本透明では、調色透明プラスチックフィルムの表面に透明導電性薄膜層を形成する。着色を行なっているということは、積極的に特定の波長の光線を吸収しているということであるため、全光線透過率は、着色を行なわない場合に比べて低くなり、一般的には９０％を超えることはない。上記方法により、調色された調色透明プラスチックフィルムは、緑色ではなく赤色であり、且つ、黄色ではなく青色であることが好ましい。具体的には、透過光のＬａ^*ｂ^*表色系におけるａ^*値が０〜４０であり、且つ、ｂ^*値が−４０〜０となるように調色することが重要である。
【００１９】
本発明において、透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層（Ｃ）は、高屈折率透明薄膜層（Ｃ１）と金属薄膜層（Ｃ２）とからなる。透明導電性薄膜層（Ｃ）は、ａ^*値に関しては、負の値を帯びやすく、つまり緑色を帯びやすい。また、ｂ^*値に関しては、正の値つまり、黄色を帯びやすい。従って、透明導電性フィルムの求められる光学特性を達成するためには、調色透明プラスチックフィルムは、透過光のａ^*値が０〜４０であり、且つ、ｂ^*値が−４０〜０である範囲内に入っている必要がある。かかる範囲を外れると、目的とする透明導電性フィルムの光学特性を得ることが困難である。
【００２０】
本発明では、調色透明プラスチックフィルムの透明導電性薄膜層を形成する面に透明導電性薄膜層との密着性を向上させるために下地層を形成することも可能である。このような下地層を形成するための材料としては、例えば、シリコン系樹脂、水性ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。
【００２１】
次に、この調色透明プラスチックフィルムの表面に透明導電性薄膜層（Ｃ）を形成する。すなわち、上記（Ａ）層または（Ｂ）層のいずれか一方の表面に透明導電性薄膜層を形成する。（Ａ）層の表面が好ましい。透明導電性薄膜層の形成は、高屈折率薄膜層（Ｃ１）と金属薄膜層（Ｃ２）とを繰り返し積層することにより行う。透明導電性薄膜の最下層および最上層は、高屈折率薄膜層（Ｃ１）で構成される。ここで、最下層とは調色透明プラスチックフィルムと接する層であり、最上層とはそれと反対側の層である。一般的に透明導電性薄膜として用いられているＩＴＯ等の金属酸化物やＺｎＯ等の金属酸化物系の透明導電性薄膜層単独では表面抵抗値を下げるために膜厚を厚くしなくてはならず、その結果、全光線透過率が著しく低下し好ましくない。また、金属、特に銀または銀を含む合金の薄膜は、表面抵抗率が低く、薄膜であっても低抵抗薄膜を形成することが可能であり、良好な電磁波シールド層となりうる。しかし、単独では反射率が高いために例え薄膜であっても光線透過率が著しく低下し、好ましくない。また、金属特有の色が透過・反射共につくために好ましくない。高屈折率薄膜層（Ｃ１）と金属薄膜層（Ｃ２）とを積層して用いることにより表面抵抗率が低く、光線透過率の高い透明導電性薄膜層を形成することが可能となる。通常、金属薄膜層（Ｃ２）の表面抵抗率は、高屈折率薄膜層（Ｃ１）の表面抵抗率よりも遥かに低いため、電気はほとんど金属薄膜層（Ｃ２）を流れることになる。従って、本発明において用いる透明導電性薄膜層（Ｃ）の表面抵抗率は用いる金属の固有抵抗率およびその合計膜厚によりほぼ決定される。
【００２２】
また、高屈折率薄膜層（Ｃ１）と金属薄膜層（Ｃ２）とは繰り返し積層を行なうことが好ましい。繰り返し積層を行なうことにより低抵抗の透明導電性薄膜層（つまり、金属層の合計膜厚が厚い）であっても、高い透明性を達成することが可能となる。かかる点を考慮すると、繰り返しの積層回数は２回以上が好ましく、３〜６回が更に好ましい。
【００２３】
本発明で用いる高屈折率薄膜層は（Ｃ１）としては、材質が特に限定されるものではないが、好ましくは可視光線にたいする屈折率が１．６以上、より好ましくは、１．７以上の材料が好ましい。このような薄膜を形成しうる具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、錫、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの酸化物、これら酸化物の混合物、複合酸化物、硫化亜鉛等が挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物は、金属と酸素、あるいは金属と硫黄との組成が化学量論的にずれがあっても光学特性を大きく変えない範囲であれば差し支えなく用いることが出来る。中でも酸化インジウム−錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化錫等は透明性が高く、屈折率が高いことに加えて製膜速度が速く、金属層との密着性も良好であるため、好ましく用いることが出来る。高屈折率薄膜層（Ｃ１）の厚みとしては特に限定されるものではないが、各層あたり５〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍが更に好ましい。また、高屈折率薄膜層（Ｃ１）と金属薄膜層（Ｃ２）とは繰り返して積層するが、各高屈折率薄膜層（Ｃ１）は同じ材料である必要はなく、また、同じ厚みである必要もない。高屈折率透明薄膜層（Ｃ１）の形成方法としては、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、真空蒸着法、湿式塗工法など公知の技術を使用することが可能である。スパッタリング法が好ましい。
【００２４】
また、金属薄膜層（Ｃ２）の材料としては、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、クロム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、錫等が挙げられる。また、これら金属の中から少なくとも一種を含む合金も用いることが出来る。中でも、銀は透明性・導電性・反射特性・多層積層を行なった場合の可視光線透過特性に優れるため好ましく用いることが出来る。しかしながら、銀は化学的・物理的安定性に乏しいため、環境中の汚染物質・熱・光・水分等により劣化しやすい。そのため、銀と、金・白金・パラジウム・インジウム等の環境に対して安定な金属との合金も好ましく用いることが出来る。
【００２５】
各金属薄膜層（Ｃ１）の厚みとしてはそれぞれ導電性の観点から島状構造でないことが好ましく、具体的には４ｎｍ以上が好ましい。また、透明性の観点から５０ｎｍ以下が好ましい。透明導電性薄膜全体の表面抵抗率が０．５〜１０Ω／□となるように金属の種類と膜厚を選択することが好ましい。例えば、金属として銀を選択した場合、銀薄膜層の合計膜厚は、８〜１５０ｎｍが上記の抵抗範囲に対応する。高屈折率透明薄膜層の場合と同じ様に各金属薄膜層は同じ材質からなる必要もなく、同じ厚みである必要もない。金属薄膜層の形成方法は、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、真空蒸着法などが挙げられる。スパッタリング法が好ましい。
【００２６】
更に得られた透明導電性薄膜上に反射防止を目的とした層を形成してもかまわない。反射防止層の形成方法としては低屈折率の樹脂を塗布・乾燥する方法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等公知の乾式の手法で、低屈折率層、もしくは、低屈折率層／高屈折率層の積層体を形成する方法が挙げられる。このようにして得られた透明導電性フィルムは、全光線透過率が５０％以上であることが好ましい。５５％以上であることが更に好ましく、６０％以上であることが最も好ましい。全光線透過率が上記の値以下の場合、フィルターとしてディスプレイに取り付けると画像が暗くなり好ましくない。
【００２７】
一方、本発明により得られる透明導電性フィルムは、調色透明プラスチックフィルム上に透明導電性薄膜層を積層したものであるため、全光線透過率が８０％を超えることは一般的にはない。また、本発明により得られる透明導電性フィルムのＬａ^*ｂ^*表色系における透過光の色調は、ａ^*値が３０〜−３０、ｂ^*値が３０〜−３０であることが好ましい。透過光の色調が上記の範囲内にある場合、透明導電性フィルムの透過色を実質的にグレー（波長依存性が無く、可視光線全般にわたって、均一に光線を透過する。）であると見なすことが出来、例えば、プラズマディスプレイの電磁波シールド用フィルターとして用いた場合、ディスプレイ本体の色調を損なうことがない。一方、上記の範囲外である場合、選択的に吸収・反射される波長の光が現れるため、透明導電性フィルムの透過色をグレーと見なすことができず、ディスプレイ本来の表示色を損なうことになり好ましくない。
【００２８】
また、表面抵抗率は０．５〜１０Ω／□であることが好ましい。１〜５Ω／□であることが更に好ましい。表面抵抗率が上記の範囲内にある場合、良好な電磁波シールド特性・光学特性を得ることが可能となる。表面抵抗率が上記の範囲よりも低い場合、電磁波シールド特性自身は良好であるものの、光学特性が悪化するために好ましくない。また、上記の範囲よりも高い場合、光学特性は良好であるものの、電磁波シールド特性が悪化するため好ましくない。
【００２９】
上記方法で得られる透明導電性フィルムは、例えば、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等の電磁波シールド用フィルターとして好適に使用し得る。その場合、ディスプレイの表示色を変化させずに電磁波を吸収・反射することができる。
【００３０】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。なお、評価項目、評価方法に関しては以下のようにして行なった。
（１）全光線透過率（％）、及び全光線反射率（％）
分光光度計［株式会社日立製作所製 商品名：Ｕ−３５００型］を用いて測定した。
（２） 表面抵抗率（Ω／□）
４探針式表面抵抗率測定基［三菱化学株式会社製：商品名：ロレスタＳＰ］を用いて行なった。
（３）透過光のａ^*値およびｂ^*値
上記（１）の分光光度計を用いて透過光の分光特性を測定し、ＪＩＳ Ｚ−８７２２に規定される方法に従って計算した。
（４）歩留まり（％）
各実施例及び比較例で製造した透明導電性フィルムから、一辺が５０ｃｍの正方形試料を無作為に１００枚切り出した。その表面を目視により観察し、直径０．２ｍｍ以上の点状欠陥が観察された試料を不合格、点状欠陥が観察されない試料を合格として判定した。合格試料の比率を算出した。
【００３１】
実施例１
試薬用トルエン（和光純薬株式会社製）０．００１ｍ³中に赤色染料（三井化学株式会社製、商品名：ＰＳ−ＲＥＤ−Ｇ）２ｇを投入した後に密閉したまま２４時間攪拌し、色素を分散した液を調整した。得られた液に、紫外線硬化型アクリル系樹脂（三菱レイヨン株式会社製、商品名：ダイアビームＵＲ−６５３０）１０ｋｇを添加、混合して、樹脂１００重量部に対し、０．０２重量部の色素を含む塗工液を調整した。片面に易接着層を有する厚み１００μmのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会社製、商品名：Ａ−４１００）の易接着面上に前記塗工液を塗布した。具体的な塗布方法は、前記塗工液を乾燥・硬化後の厚みが３μmとなるように公知のグラビアコート法により塗布し、樹脂中のトルエンを蒸発させるために温風乾燥機を用いて８０℃下で１０分間乾燥した。その後、８０Ｗ／ｃｍランプ１本、ランプ高さ１５ｃｍ、コンベア速度５ｍ／ｍｉｎの条件で硬化させた。得られた調色透明プラスチックフィルムの全光線透過率および透過光のａ^*値、ｂ^*値を測定した。その結果、全光線透過率は８２％、ａ^*値は７．３で、ｂ^*値は−２．０であった。
【００３２】
次いで、得られた調色透明プラスチックフィルムの一方の主面上に、酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜／銀薄膜／酸化インジウム薄膜の積層からなる透明導電性薄膜層を形成し、透明導電性フィルムを得た。なお、それぞれの層の厚みは、３０ｎｍ／１２ｎｍ／７０ｎｍ／１０ｎｍ／７０ｎｍ／１２ｎｍ／３０ｎｍである。得られた透明導電性フィルムの表面抵抗率、全光線透過率、全光線反射率、および透過光のａ^*値、ｂ^*値を測定した。その結果、表面抵抗率は２．０Ω／□、全光線透過率は６３．０％、全光線反射率は４．０％、ａ^*値は３．０で、ｂ^*値は３．０であった。尚、歩留まりは１００％であった。
【００３３】
上記の工程中異物混入などによる外観欠点の発生は認められず、良好な歩留まりを達成した。なお、酸化インジウム薄膜の形成は、ターゲットにインジウムを用い、圧力が０．００１Ｐａになるように排気した後に全圧が０．１８Ｐａになるまでアルゴンガスを導入し、さらに全圧が０．２６Ｐａになるように酸素ガスを導入した。この状態でマグネトロンＤＣスパッタリング法により行なった。また、銀薄膜の形成は、ターゲットに金属銀を用い、圧力が０．００１Ｐａになるように排気した後、全圧が０．２６Ｐａとなるようにアルゴンガスを導入した。この状態でマグネトロンＤＣスパッタリング法により行なった。また、各薄膜層の厚みの調整は製膜時間を変化させることにより行なった。
【００３４】
比較例１
調色透明プラスチックフィルムの代わりに片面に易接着層を有する厚み１００μmのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会社製、商品名：Ａ−４１００）を用いた以外は、実施例１と同様にしてＰＥＴフィルムの片表面に透明導電性薄膜層を形成し、透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムの表面抵抗率、全光線透過率、全光線反射率、および透過光のａ^*値、ｂ^*値を測定した。その結果、表面抵抗率は２．０Ω／□、全光線透過率は７１．０％、全光線反射率は４．2％、ａ^*値は−３５．０、ｂ^*値は１８．０であった。尚、歩留まりは１００％であった。
【００３５】
比較例２
比較例１で得られた透明導電性フィルムと、実施例１で作成した調色透明プラスチックフィルムとを貼り合わせて色度の調整を行った。具体的には、実施例１で作成した調色透明プラスチックフィルムの着色プラスチック層を形成していない面上に、アクリル二液架橋型粘着剤（綜研化学株式会社製、商品名：ＳＫダイン１４７３Ｈ）を乾燥後の膜厚が２５μｍとなるように３本リバースコート法により塗布し、８０℃で２分間送風乾燥機により乾燥させ、粘着剤層を形成した。得られた粘着剤層付き調色透明プラスチックフィルムの粘着剤層と透明導電性フィルムの透明導電性薄膜層を形成していない面とが向かい合うように市販の公知のラミネーターを用いて貼り合わせた。貼り合わせの際、部屋中の塵・埃などが粘着剤層中に混入し、歩留まりを大きく低下させた。また、貼り合わせの際に、皺の発生、気泡の巻きこみ等も起こり、この面でも歩留まりが低下した。尚、歩留まりは７０％であった。
得られた透明導電性フィルムの表面抵抗率、全光線透過率、全光線反射率、および透過光のａ^＊値、ｂ^＊値を測定した。その結果、表面抵抗率は２．０Ω／□、全光線透過率は５８．０％、全光線反射率は５．５％、ａ^＊値は３．５、ｂ ^＊ 値は２．５であった。
【００３６】
＜実施例の考察＞
実施例１で得られた透明導電性フィルムは、優れた表面抵抗率、全光線透過率を有し、透過光が調色されている。そのため、ディスプレイの電磁波シールド用フィルターとして用い得る。比較例１で得られたものは、透過光が調色されておらず、電磁波シールド用フィルターの材料として用いることが出来ない。比較例２の方法によっても透過光の調色は可能であるが、粘着剤層が加わっているために、光の反射する界面数が増え、光線透過率が低下し、反射率が上昇した。また生産性もよくない。
【００３７】
【発明の効果】
本発明により製造される透明導電性フィルムは、優れた電磁波シールド特性と光学特性を併せもつ、電磁波シールドフィルターの資材に適する透明導電性フィルムである。しかも生産性がよい。従って、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等の電磁波シールド用フィルターの資材の製造方法として極めて有用である。本発明により製造される透明導電性フィルムは、電磁波シールド用フィルターとして使用すると、ディスプレイの表示色を変化させずに、電磁波を吸収・反射することができる。

Claims (10)

1. 透明プラスチックフィルム（Ａ）、着色プラスチック層（Ｂ）及び透明導電性薄膜層（Ｃ）から形成された透明導電性フィルムの製造方法であって、厚み２５〜３００μｍの透明プラスチックフィルム（Ａ）の片表面に、バインダー樹脂１００重量部に対し、色素０．００１〜１０重量部を含む塗工液を塗布、乾燥して厚み０．１〜５０μｍの着色プラスチック層（Ｂ）を形成して、（Ａ）及び（Ｂ）からなる積層体の透過光のａ^*値を０〜４０、ｂ^*値を−４０〜０の範囲に制御し、次いで、（Ａ）及び（Ｂ）のいずれか一方の表面に、厚み５〜２００ｎｍの高屈折率透明薄膜層（Ｃ１）及び厚み４〜５０ｎｍの金属薄膜層（Ｃ２）を交互に少なくとも２回繰り返して、最下層及び最表層を（Ｃ１）で形成するように積層して透明導電性薄膜層（Ｃ）を形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。
2. （Ａ）の全光線透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。
3. 色素が、その有機溶媒溶液の透過光のａ^*値が負の値、ｂ^*値が正の値を示す色素であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。
4. 透明導電性薄膜層（Ｃ）の表面抵抗率が０．５〜１０Ω／□、全光線透過率が５０％以上であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。
5. 高屈折率透明薄膜層（Ｃ１）が、可視光線に対する屈折率が１．６以上である金属酸化物または金属硫化物で形成されることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。
6. 高屈折率透明薄膜層（Ｃ１）が、酸化インジウム−錫、酸化インジウム及び酸化錫から選ばれた少なくとも１種の薄膜層であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。
7. 金属薄膜層（Ｃ２）が銀または銀合金の薄膜層であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。
8. （Ｃ１）及び（Ｃ２）の形成方法がスパッタリング法であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。
9. 透明導電性フィルムの透過光のａ^*値が−３０〜３０、ｂ^*値が−３０〜３０、表面抵抗率が０．５〜１０Ω／□であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。
10. 透明導電性フィルムの厚みが２５〜３５０μｍであることを特徴とする請求項１記載の透明導電性フィルムの製造方法。