JP3864430B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明はいわゆる「SOI構造」を有する半導体装置に関し、特に高電圧のもとで動作可能なMOS型電界効果トランジスタの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、SOI構造を用いて素子の耐圧を向上させる方法としては、埋め込み酸化膜中に高電圧を分け持たせる方法が知られている。
その1例は、高耐圧半導体素子として特開平2−16751号公報に開示されたものがある。すなわち、図7に示す如くの素子形成用の高抵抗半導体層104の底部に、低濃度の半導体層110が設けられている。このような構造においては、電極111と112の間に印加された逆方向の高電圧は高抵抗シリコン層104の厚み方向と低濃度層110の横方向に分担される。よって、素子の印加電圧の一部が埋め込み酸化膜102に有効に分担されて高電圧が達成され得る構造であることがわかる。
【0003】
また、その他の例としては、表面の高電界を緩和する方法として図8に示すような「Resurf(Redused Surface Field) 構造」が知られている。
そこで上記の従来技術を組み合わせれば図9に示すようなSOI構造の「横型高耐圧MOS」を形成することができる。しかしながら、消費電力を下げるという要求からNchの高耐圧MOSとPchの高耐圧MOSを相補的に組み合わせて用いることが必要とされる。この要求を従来の技術で実現しようとすると現実的にやはりこのような図9に示す構造となってしまう。この場合基板82の電位は通常GRD電位に設定されるが、この時、次の理由から、Pchトランジスタ側でソース近傍に「電界集中」が起こり、充分な耐圧が得られないという問題がある。
【0004】
すなわち、図9に示すNchがONで、PchがOFFの場合を考えると、Pchトランジスタのソースには正の高電圧が印加され、NchトランジスタのソースにはGND電位が印加され、NchトランジスタがONであることからそのドレインとおよびそれに接続したPchトランジスタのドレインにGND電位が印加され、基板にはGND電位が印加されている。その結果,電気力線はソースのPN接合の先端に集中し、さらに電圧を上げていくとここでブレークダウンが発生し耐圧が維持されない。
【0005】
一方、前述の状態とは逆にNchがOFF、PchがONの場合を考えると、NchドレインとPchドレインをつないだ出力には高電圧が現れるので、電気力線の集中が緩和される。
【0006】
この対策としては、次の図10に示すようにPchトランジスタの底部に埋込み拡散層を挿入して電界を支えることが行われるが、同図10からわかるようにこの場合Pchトランジスタ底部の埋込み酸化膜は素子の耐圧を分け待つことには全く寄与しない。その結果、埋込み拡散層によるPN接合のみで耐圧を支えなければならなくなり、高耐圧化にはおのずと限界があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように従来技術によれば、NchおよびPchの両方の高耐圧トランジスタの耐圧を実質的に共に満足させることは依然として極めて難しい問題であり、このような高耐圧性を備えた構造のトランジスタの実現が切望されている。
【0008】
そこで本発明は上記の問題点に鑑み、同一チップ内でNchとPch両方の高耐圧MOSトランジスタを実現でき得るデバイス構造および、その製造方法を提供することを主な目的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
よって本発明は、上記問題を解決し目的を達成するために以下の方法を講ずる。
本発明において、一面が鏡面研磨された第1半導体基板の研磨面の所定領域に凹部を形成するエッチング工程と、凹部表面のみに第1絶縁膜を形成する選択的絶縁膜形成工程と、凹部が形成された前記第1半導体基板の表面に多結晶または非晶質半導体層を形成する工程と、多結晶または非晶質半導体層表面を平坦に研磨する工程と、一面が鏡面研磨された第2半導体基板の鏡面に第2絶縁膜を形成する工程と、その平坦に研磨された面と第2絶縁膜とを密着させ、第1,第2半導体基板を接合する接合工程と、第1半導体基板を接合面から所定の厚さになるように鏡面研磨しデバイス形成用主面を形成する工程とから成る半導体基板の製造方法を提供する。
【0011】
【作用】
したがって本発明装置の製造方法によれるデバイス構造は次の作用を奏する。すなわち、第1の半導体基板の接合面側には凹部が形成され、この凹部には第1の絶縁膜が形成され、一方、第2の半導体基板の接合面には全面に第2の絶縁膜が形成される。そして前記の第1半導体基板は接合面からある所定の厚さになるように鏡面研磨が施されデバイス形成用主面が形成された接合ウエハを用い、その凹部の端部にはこの凹部に形成された第1の酸化膜に到る第1のトレンチが形成され、さらにこの凹部を取り囲み第2の酸化膜に到る第2のトレンチが形成され、これら第1と第2のトレンチの表面には絶縁膜が形成される。
【0012】
よってこれら第1と第2のトレンチで囲まれた領域と前記の凹部の下の多結晶または非晶質半導体とが電気的に導通される。
また、前記第1トレンチと凹部に形成された第1酸化膜で囲まれたSOI領域にはMOS型の高耐圧素子が形成され、前記の高耐圧素子のソース電極と、それら第1と第2のトレンチで囲まれた領域とが配線により相互に接続され電気的に導通、すなわち「同電位」に接続される。
【0013】
よって、Nch( nチャネル) 高耐圧トランジスタにおいては、第1酸化膜の下の多結晶または非晶質半導体層はソース電位と同じGND電位に固定され、一方、Pch( pチャネル) 高耐圧トランジスタにおいては、第1の酸化膜下の多結晶または非晶質半導体層はPch高耐圧トランジスタのソース電位と同じ、即ち同電位の高電圧に固定さる。
その結果、高電界は埋込み酸化膜である第1酸化膜を介してドレインとの間に印加され、埋込み酸化膜によるいわゆる「電界緩和」の作用効果が発揮される。
【0014】
【実施例】
以下に図面を参照して本発明の各実施例をそれぞれ説明する。
(第1実施例)
図1には本発明装置の第1の実施例に係わる要部断面図が例示されている。図示のように、この半導体装置の支持基板となる第2半導体基板2の上に、第2の絶縁膜6と、多結晶または非晶質の半導体層3を介して、第1半導体基板から成るデバイス形成層1が形成されている。
【0015】
ここで本発明装置に係わる構造の第1の特徴は、このデバイス形成層1の底部の多結晶または非晶質半導体層3に接続する所定領域の表面に第1の絶縁膜5が形成された凹部4が形成されていることにある。この第1絶縁膜5は将来的に高耐圧素子底部の分離絶縁膜となる絶縁膜である。この凹部4以外の領域においては、この第1半導体基板1と多結晶または非晶質半導体層3との間に絶縁膜が存在せず、両者( 即ち、半導体基板1と半導体層3と) は電気的に導通した状態にある。
【0016】
また、本発明装置に係わる構造の第2の特徴としては、2種類の側面が絶縁膜10で覆われたトレンチ8,9が形成され、前者( 即ち、トレンチ8) は前記凹部4の外周付近に第1の絶縁膜5に到達しており、後者( 即ち、トレンチ9) は前記凹部4に接することなくそれを取り囲んで第2絶縁膜に到達しており、更に、前記トレンチ8との間に第1半導体基板1と多結晶または非晶質半導体層3とが電気的に導通した領域11が形成されている。このトレンチ8によって囲まれた領域に、例えばL−DMOSのような高耐圧素子101,102が形成され、かつこれらの素子は側面に絶縁膜10が形成されたトレンチ9と第2の絶縁膜6により他の領域から絶縁分離されている。
【0017】
更に、本発明装置に係わる構造の第3の特徴としては、凹部4とトレンチ8を含まず第2絶縁膜6とトレンチ9によって他の領域から絶縁分離され、しかも底部に多結晶または非晶質の半導体層3を有する領域が形成されていることにある。このような領域にはMOS型トランジスタ103やバイポーラトランジスタ等から構成される論理部が形成されている。
【0018】
図1には、高耐圧素子101,102としてそれぞれNch型L−DMOSとPch型L−DMOS、論理部103としてCMOS素子を形成した構造が例示されている。このNch型L−DMOS101の主要構成要素としては、N型ドリフト領域12と、Pウエル19と、P型高濃度拡散層20と、ソース拡散層21と、ドレイン拡散層22と、ソースコンタクト14と、ドレインコンタクト16と、ソース電極配線15と、ドレイン電極17と、ゲート電極18とが主な要素である。
【0019】
上述のこれら構成要素の相互関係において特徴的なことは、ゲート18がドリフト領域表面のLOCOS酸化膜23の上に延在して、いわゆる「フィールドプレート」としてドレイン端部の電界集中を緩和し得る構造である点である。
【0020】
ここで本発明装置に係わる構造の第4の特徴は、前記第1と第2のトレンチ( 8,9) で囲まれ多結晶または非晶質半導体層3と電気的に導通された領域11と、上記の高耐圧L−DMOSのソース電極15とが、N型高濃度拡散層24によりオーミックコンタクトを形成することによって電気的に導通していることである。上述の構造の高耐圧化における効果については後で詳しく述べる。
【0021】
また、Pch型L−DMOS102の主要構成要素とは、上記のNch型L−DMOS101においてNとPとを入れ換えたものである。
また論理部に構成されたCMOS素子103は、通常のNch型MOSトランジスタ103aとPch型MOSトランジスタ103bで構成されるものである。この場合、図1においては、Nch型MOSトランジスタ103aとPch型MOSトランジスタ103bとの間はLOCOSによって相互に分離されているだけであるが、両者( 即ち、トランジスタ103aと103b) の間を前記の側面に絶縁膜を有し第2の絶縁膜6に到るように形成されたトレンチ9によって分離する構造であってもよい。この場合、CMOS特有の問題であるいわゆる「ラッチアップ」を防止することが可能となる。
【0022】
次に、上述のような構造の半導体装置において、如何にしてこの「高耐圧化」が達成され得るのかを従来技術と対比して詳しく説明する。
前述の従来技術を示す図9の如く、Nchの高耐圧MOSとPchの高耐圧MOSを相補的に組み合わせて用いる場合においては、両者の高耐圧化を同時に実現することには限界があった。その理由を再び実例を用いて詳説すると次のことが明かである。つまり、図9に示すように、Nch:ON、Pch:OFFの場合、Pchトランジスタのソースには正の高電圧が印加され、NchトランジスタのソースにはGND電位が印加され、NchトランジスタがONであることからそのドレインおよびそれに接続されたPchトランジスタのドレインに対してGND電位が印加され、さらに基板に対してはGND電位が印加されている。その結果、電気力線はソースのPN接合の先端に集中し、さらにその電圧を上げていくと、ここでいわゆるエッジ等の「ブレークダウン」が発生して耐圧が維持できなくなるという不具合が存在していた。
【0023】
そこで上述のような従来技術に対し、本発明が実施する構造によって次の作用効果が生ずる。すなわち、本発明によれば、高耐圧素子の底部の第1の絶縁膜5の下部の多結晶または非晶質半導体層3がそれと電気的に導通状態にある領域11を通して、ソース電極15によりソース拡散層21,P型高濃度拡散層20およびPウエル19と同電位にある。この状況はPch型高耐圧L−DMOS102においても全く同様である。その結果、ドレインに印加された高電圧はNch型高耐圧L−DMOS101およびPch型高耐圧L−DMOS102ともに、縦方向の高電界が第1の絶縁膜5の下部の多結晶または非晶質半導体層3との間で分配されるために、埋込み絶縁層5によって電界を支えることができ、その結果として、トランジスタ素子としての高耐圧化が実現可能となる。
【0024】
なおこの状況を、前述の従来技術を示す図9の1つの場合(即ち、Nch:ON、Pch:OFFの場合)を例に本発明と比較すると次のように対比できる。
すなわち、今の状況はこの場合、即ち、Nch素子がONで、Pch素子がOFFである場合の想定であるから、Pchトランジスタのソースには正の高電圧が印加され、一方のNchトランジスタのソースにはGND電位が印加されている。このNchトランジスタがONであることから、そのドレインとそれに接続されたPchトランジスタのドレインにはGND電位が印加されることになり、ドレイン−ソース間には高電界が印加される。この様な状態の場合、従来技術においては、基板にGND電位が印加されている故にドレイン−ソース間の高電界は埋込み絶縁膜には支えられずに、ドレイン−ソース間のPN接合にのみ支えられることになる。その結果、本発明が実現するような十分な高耐圧化はできなかった。
【0025】
これに対比して本発明装置が実施する構造によれば、埋込み絶縁膜の下の多結晶または非晶質半導体層3がソースと、いわゆる「同電位」になるので、このドレイン−ソース間の高電圧はドレイン−ソース間のPN接合のみならず埋込み絶縁膜5を挟んでドレイン−基板( 即ち、多結晶または非晶質半導体層3) 間で支持されるのことになるので、前述の従来構造よりも高い耐圧化が容易に実現可能となる。
【0026】
(第2実施例)
次に、図2に本発明の第2の実施例を示す。本実施例に係わる構造においては、多結晶または非晶質半導体層3に第1の半導体基板1と同じ導電型の不純物が高濃度に添加されている。この不純物はトレンチ8および9に挟まれ多結晶または非晶質半導体層3と電気的に導通してなる領域11において、接合時の熱処理およびデバイス形成工程における熱処理によって上方の半導体基板中へ拡散して上方拡散領域16を形成している。
【0027】
さらに本第2実施例では、上記の領域11においてデバイス形成用の主面7から、多結晶または非晶質半導体に添加されているのと同等の導電型のドーパントから成る拡散層17が形成され、且つこの拡散層17が先端において前記の上方拡散領域16に接触している。
【0028】
以上のような構造に形成することによって、前記のトレンチ8および9で挟まれた領域11と多結晶または非晶質半導体層3の電気抵抗成分が低減され、第1絶縁膜の下部をソースと実質的に同電位にすることによって耐圧を向上させる効果がより発揮される。
【0029】
なお本第2実施例においては、上記の領域11においてデバイス形成用の主面から添加された上記の拡散層17は所望により構造的に省略してもよい。
また、前記の多結晶または非晶質半導体層3に第1半導体基板と同等の導電型の不純物が高濃度、例えば、濃度 約5×1017cm-3 (又は、10ppm)に添加することによって、論理部103のSOI領域底部には基板1と同等の導電型の低抵抗層が形成される。形成されたこの低抵抗層は論理部103の領域に例えばCMOS回路を構成した場合に、電圧変動や意図せぬキャリア注入等のノイズをこの低抵抗層で吸収することができるので、CMOS特有の問題点であった「ラッチアップ」を防止することが可能である。
【0030】
また、上記の低抵抗層が例えば縦型のNPNトランジスタのようなバイポーラトランジスタを論理部103の領域に形成した場合は、上述のように形成された低抵抗層は当該トランジスタのコレクタとしての機能も果たすことができる。
【0031】
(第3実施例)
次に、図3( a) 〜( e) は本発明の第3実施例として、本発明装置の第1の製造方法を構造的に示している。
【0032】
まず最初に、第1の半導体基板1の鏡面研磨に例えばシリコン窒化膜からなる耐エッチング性の薄膜層31を例えば「減圧CVD法( 化学気相法) 」等により形成する。続いて、通常のフォト工程により将来は凹部4となる領域のシリコン窒化膜を除去し、その後に残ったシリコン窒化膜をマスクとして例えば「RIE法」等のドライエッチングを施して、第1のシリコン半導体基板1に凹部4を形成する。(参照、図3( a) )。
【0033】
引き続いて、上記の薄膜層31であるシリコン窒化膜をマスクとして選択酸化を行い、凹部4の露出した表面に第1の絶縁膜であるシリコン酸化膜5を形成する。(参照、図3( b) )。
【0034】
次に、前述のシリコン窒化膜31を除去すると、表面に酸化膜5が形成された凹部と表面にシリコンが露出した凹部以外の領域が表出する。この上層に、例えば多結晶シリコンまたは非晶質シリコンから成る薄膜層3を、例えば減圧CVD法等を適用して形成を行い、更にこの薄膜層3の表面を「メカノケミカル研磨法」等により鏡面研磨を施す。(参照、図3( c) )。
【0035】
続いて、少なくとも一方の面に鏡面研磨が施された第2のシリコン半導体基板2の鏡面研磨に、例えばシリコン酸化膜等の第2の絶縁膜6を形成する。(参照、図3( d) )。
【0036】
しかる後に、上記の鏡面研磨された多結晶または非晶質シリコン層3を有する第1シリコン半導体基板と上記の鏡面研磨面にシリコン酸化膜からなる第2の絶縁膜6を有する第2シリコン半導体基板とを、多結晶または非晶質シリコン層3の鏡面と第2の絶縁膜6の表面とを密着させ水素結合等により直接的に接合させる。この後、例えば窒素、アルゴンまたは酸化性雰囲気中で1100℃で約1時間の熱処理を施し、ウエハ対の密着力を水素結合からより強固な共有結合に変える。その後、第1シリコン半導体基板1の接合面とは反対の面から、所定の厚みになるように研削または研磨処理を施してデバイス形成用の主面7を形成する。(参照、図3( e) )
次に、上記のデバイス形成用主面7の表面に、例えば熱酸化やCVD法等によってシリコン酸化膜またはシリコン窒化膜等からなる薄膜層32を形成する。この薄膜層32はシリコンのエッチング処理を行う際にシリコンのエッチャントに対してマスクとなるものである。次に、上記の薄膜層32の所定の場所の薄膜層を通常のフォトリングラフィーとエッチングによって除去し開口部を形成する。この際、開口を設けようとする所定の場所の真下には必ず第1または第2絶縁膜のいずれが一方の絶縁膜が配設されているものとする。
【0037】
次に、前記のパターニングされた薄膜層32をマスクとして、例えば「RIE法」等を用いてシリコンをエッチング処理しシリコン半導体基板1にトレンチ8,9を形成する。この際に、これらトレンチ8および9は深さにおいて相違が有り、同時にエッチングすると、深さの浅いトレンチ8の方が先にシリコン酸化膜からなる絶縁膜5に到達するが、絶縁膜5のエッチングレートが極めて遅い故に、トレンチ9の先端がその第2絶縁膜6に到達するまでの間に、前述のトレンチ8はそれ以上にエッチングされることはない。(参照、図4( a) )。
【0038】
これらトレンチ8,9が形成された後には、いわゆるマスクとして用いた薄膜層32を除去し、次に形成したトレンチの側面と薄膜層32が除去された第1シリコン半導体の主面に絶縁膜10を、例えば「CVD法」や「熱酸化法」などの手段によって形成を行う。その後、例えば多結晶シリコン等のトレンチ埋設部材33を、例えば「減圧CVD法」等の手段を用いて堆積してこれらトレンチ8および9の内部を埋設する。(参照、図4( b) )。
【0039】
次に、第1シリコン半導体の主面に形成された絶縁膜10をストッパとして、「選択研磨法」あるいはRIE法等のドライエッチングによる、いわゆる「エッチバック法」を適用して当該トレンチ内部を残し、それ以外のトレンチ埋設部材33を除去する。(参照、図4( c) )。
【0040】
その後は、表面に露出している第1シリコン半導体の主面上の絶縁膜10を取り除き、更にメカノケミカル研磨等を施すことによってその表面を平坦になるまで研磨処理し、図示のようなデバイス形成用の主面7を形成して接合基板100を得る。(参照、図4( d) )。
【0041】
その後の工程は、上述の手順で形成されたこの接合基板100を用い、通常に行われるデバイス形成工程によって、図1に例示したような高耐圧素子( Nch) 101,( Pch) 102および論理部103を形成することとなる。
【0042】
(第4実施例)
次に示す図5には、本発明の第4実施例としての装置の第2の製造方法が簡単に示されている。
【0043】
すなわち、前述の第1製造方法によれば、図3( e) において鏡面研磨された多結晶または非晶質半導体層3が形成された第1のシリコン半導体基板1と、表面に第2の絶縁膜6が形成された第2の半導体基板2とを密着し接合基板100を作成したが、その代わりにこの実施例の第2製造方法においては、第2半導体基板2に形成された第2絶縁層6の上に図4( a) に示したと同様な多結晶または非晶質半導体層40と形成したその表面を鏡面研磨した後に、図3( e) と同様に、鏡面研磨された多結晶または非晶質半導体層3が形成された第1のシリコン半導体基板と密着させて接合基板を作成する。(但し、その詳細説明図は省略する。)
(第5実施例)
次に、図6には本発明の第5実施例として、本発明装置の第3の製造方法を簡単に例示している。本実施例においては、第2の絶縁膜6は、第2半導体基板上に形成されるのではなく、第1半導体基板上の鏡面研磨された多結晶または非晶質半導体層3の上に、例えば「熱酸化法」または「CVD法」等を適用して形成が行われる。
【0044】
その後は、この絶縁膜6と第2半導体基板の鏡面研磨面とを密着することによって求める接合基板を同様に作成する。(但し、その詳細説明図は省略する。)
(変形実施例)
なお、上述した他にも、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変形実施が可能である。
【0045】
【発明の効果】
以上に述べたように本発明によれば、次のような効果が生み出される。
第1製造方法および第2製造方法によって形成された本発明の半導体装置においては、第1実施例の構造に形成することで、埋込み絶縁膜の下の多結晶または非晶質半導体層がソースと同電位になる。よって、ドレイン−ソース間の高電圧はドレイン−ソース間のPN接合のみならず、埋込み絶縁膜を挟んでドレイン−基板間でも支持される故に、電圧上昇に従いエッジ等のブレークダウンが発生するような前述の従来構造よりも更に高い耐圧性が得られる。
【0046】
また、第2実施例の構造に形成することで、2つのトレンチで挟まれた領域と多結晶または非晶質の半導体層の電気抵抗成分が低減され、第1絶縁膜下部をソースと同電位にすることにより耐圧が効果的に向上される。更に、多結晶または非晶質半導体層に第1半導体基板と同等の導電型の不純物を高濃度に添加することで、論理部のSOI領域底部に基板1と同等の導電型の低抵抗層が形成され、この低抵抗層が論理部の領域にCMOS回路を構成した場合には、電圧変動やキャリア注入等のノイズを効果的に吸収するので、CMOS特有の問題であるラッチアップを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1実施例の半導体装置の構造を示す要部断面図。
【図2】 第2実施例の半導体装置の構造を示す要部断面図。
【図3】 ( a) 〜( e) は第3実施例としての半導体装置の第1製造方法を示す断面図。
【図4】 ( a) 〜( d) は第3実施例としての半導体装置の第1製造方法を示す断面図。
【図5】 第4実施例としての半導体装置の第2製造方法を示す断面図。
【図6】 第5実施例としての半導体装置の第3製造方法を示す断面図。
【図7】 従来の半導体装置の構造を示す要部断面図。
【図8】 従来のResurf構造の半導体装置の断面を示す概念図。
【図9】 従来の半導体装置の構造を示す要部断面図。
【図10】 従来の半導体装置の構造を示す要部断面図。
【符号の説明】
1…第1半導体基板,2…第2半導体基板,3…非晶質半導体,4…凹部,
5…第1絶縁膜,6…第2絶縁膜,7…デバイス形成用主面,8…第1トレンチ,
9…第2トレンチ,10…絶縁膜,11…2つのトレンチで囲まれた領域,
12…SOI領域,14…ソース電極,15…配線,16…上方拡散領域,
17…拡散層,18…ゲート電極,19…Pウエル,20…P型濃度拡散層,
21…ソース拡散層,22…ドレイン拡散層,23…LOCOS酸化膜,
101…Nch型L−DMOS,102…Pch型L−DMOS,
103…CMOS素子,103a…Nch型MOSトランジスタ,103b…Pch型MOSトランジスタ。
Claims (3)
- 少なくとも一方の面が鏡面研磨された第1の半導体基板の鏡面研磨面の所定領域に凹部を形成するエッチング工程と、
前記凹部の表面のみに第1の絶縁膜を形成する選択的絶縁膜形成工程と、
前記凹部が形成された前記第1の半導体基板の表面に多結晶または非晶質半導体層を形成する工程と、
前記多結晶または非晶質半導体層表面を平坦に研磨する工程と、
少なくとも一方の面が鏡面研磨された第2の半導体基板の鏡面に第2の絶縁膜を形成する工程と、
前記多結晶または非晶質半導体層の平坦に研磨された面と前記第2の絶縁膜とを密着させて、前記第1の半導体基板と前記第2の半導体基板とを接合する接合工程と、
前記第1の半導体基板を接合面から所定の厚さになるように鏡面研磨しデバイス形成用主面を形成する工程と、
前記デバイス形成用主面の所定領域に前記デバイス形成用主面から第1の絶縁膜に到達する第1のトレンチ及び、第2の絶縁膜に到達する第2のトレンチを形成する工程と、
前記第1のトレンチ及び前記第2のトレンチの表面に絶縁膜を形成する工程と、
さらに、前記第1のトレンチ及び前記第2のトレンチのそれぞれの内部に多結晶シリコンを埋める工程と、
前記多結晶シリコンを平坦化研磨する工程と、
を具備することを特徴とする半導体基板の製造方法。 - 少なくとも一方の面が鏡面研磨された第1の半導体基板の鏡面研磨面の所定領域に凹部を形成するエッチング工程と、
前記凹部の表面のみに第1の絶縁膜を形成する選択的絶縁膜形成工程と、
前記凹部が形成された前記第1の半導体基板の表面に多結晶または非晶質半導体層を形成する工程と、
前記多結晶または非晶質半導体層の表面を平坦に研磨する工程と、
少なくとも一方の面が鏡面研磨された前記第2の半導体基板の鏡面に第2の絶縁膜を形成する工程と、
前記第2の絶縁膜の表面に多結晶または非晶質半導体層を形成する工程と、
前記多結晶または非晶質半導体層表面を平坦に研磨する工程と、
前記第1および前記第2の半導体基板に形成された多結晶または非晶質半導体層の平坦に研磨された面どうしを互いに密着させ、前記第1の半導体基板と前記第2の半導体基板とを接合する接合工程と、
前記第1の半導体基板を接合面から所定の厚さになるように鏡面研磨しデバイス形成用主面を形成する工程と、
前記デバイス形成用主面の所定領域に前記デバイス形成用主面から第1の絶縁膜に到達する第1のトレンチ及び、第2の絶縁膜に到達する第2のトレンチを形成する工程と、
前記第1のトレンチ及び前記第2のトレンチの表面に絶縁膜を形成する工程と、
さらに、前記第1のトレンチ及び前記第2のトレンチのそれぞれの内部に多結晶シリコンを埋める工程と、
前記多結晶シリコンを平坦化研磨する工程と、
を具備することを特徴とする半導体基板の製造方法。 - 少なくとも一方の面が鏡面研磨された第1の半導体基板の鏡面研磨面の所定の領域に凹部を形成するエッチング工程と、
前記凹部の表面のみに第1の絶縁膜を形成する選択的絶縁膜形成工程と、
前記凹部が形成された前記第1の半導体基板の表面に多結晶または非晶質半導体層を形成する工程と、
前記多結晶または非晶質半導体層の表面を平坦に研磨する工程と、
前記多結晶または非晶質半導体層の平坦に研磨された鏡面に第2の絶縁膜を形成する工程と、
前記第2の絶縁膜の表面と、少なくとも一方の面が鏡面研磨された前記第2の半導体基板の鏡面とを密着させて、前記第1の半導体基板と前記第2の半導体基板とを接合する接合工程と、
前記第1の半導体基板を当該接合面から所定の厚さになるように鏡面研磨しデバイス形成用主面を形成する工程と、
前記デバイス形成用主面の所定領域に前記デバイス形成用主面から第1の絶縁膜に到達する第1のトレンチ及び、第2の絶縁膜に到達する第2のトレンチを形成する工程と、
前記第1のトレンチ及び前記第2のトレンチの表面に絶縁膜を形成する工程と、
さらに、前記第1のトレンチ及び前記第2のトレンチのそれぞれの内部に多結晶シリコンを埋める工程と、
前記多結晶シリコンを平坦化研磨する工程と、
を具備することを特徴とする半導体基板の製造方法。
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