JP3862179B2 - 熱電モジュールの製作と製作用半田合金 - Google Patents

熱電モジュールの製作と製作用半田合金 Download PDF

Info

Publication number
JP3862179B2
JP3862179B2 JP51451897A JP51451897A JP3862179B2 JP 3862179 B2 JP3862179 B2 JP 3862179B2 JP 51451897 A JP51451897 A JP 51451897A JP 51451897 A JP51451897 A JP 51451897A JP 3862179 B2 JP3862179 B2 JP 3862179B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
bismuth
thermoelectric
weight percent
antimony
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP51451897A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002507321A (ja
Inventor
ミカエル・ヤッツ
ジェームス・ハーパー
Original Assignee
メルコー コーポレーション
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by メルコー コーポレーション filed Critical メルコー コーポレーション
Publication of JP2002507321A publication Critical patent/JP2002507321A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3862179B2 publication Critical patent/JP3862179B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/82Connection of interconnections
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/81Structural details of the junction
    • H10N10/817Structural details of the junction the junction being non-separable, e.g. being cemented, sintered or soldered

Landscapes

  • Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)
  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Description

これは、1995年10月3日に提出された特許出願Serial No.08/535,449「熱電モジュールの製作と製作用半田合金」の一部継続出願である。
発明分野
この発明は、改良された熱電デバイスと、このようなデバイスを製作するための、改良された方法に関する。特にこの発明は、熱電モジュールに使用するために、ビスマスとアンチモンの合金を基とした改良型接合半田合金と、熱電モジュールを形成するために銅のような導電体上におけるリン-ニッケル面に半田付けされる熱電素子と、このような熱電モジュールの使用に関する。
背景技術
熱電モジュールは、熱ポンプもしくは発電機のように作動することが可能な、小さな固態デバイスである。発電のために用いられる場合、熱電モジュールは熱電発電機(TEG)と呼ばれる。TEGは温度差が与えられるとゼーベック効果を用いて電圧を発生する。
熱電モジュールが熱ポンプとして使用される場合、モジュールは熱電冷却器(TEC)もしくは熱電加熱器(THE)と呼ばれ、ペルチエ効果を示す。電流が二種類の半導体の接合部を通過すると、結果としてペルチエ効果により温度変化が生じる。一般にこのような半導体は熱電モジュールに組み込まれ、電流が通電されると熱は熱電モジュールの一側部からもう片方の側部へと伝達される。これらの熱電モジュールは、冷却側から送り込まれた熱がもう一方で吸熱源へと消散するという冷却デバイスのように振る舞うことが可能である。熱電モジュールの側部は一般にセラミック素材から成る。
セラミック側部間に位置するのはテルル化ビスマスからなる半導体素子であり、これはビスマス、テルル、セレニウム、そしてアンチモンで構成される。この半導体素子は過剰電子(n型)もしくは不足電子(p型)のどちらかをつくりだすために不純物添加される。このタイプの典型的熱電モジュールはGelb et alによりU.S. Patent 4,855,810において説明されている。この先行技術によると、これらの熱電モジュールはビスマスとスズを含む半田合金を用いて導電体に半田付けされた半導体素子を包含している。このような半田合金の一つについては、HabaによりU.S. Patent 3,079,455において説明されている。Habaはこの中で半田合金はスズ、アンチモン、そしてビスマスで形成されていると説明しており、ビスマスは40重量パーセントから50重量パーセントの量でありアンチモンは1.5重量パーセントから3.5重量パーセントの量であるとされている。
テルル化ビスマス素子を有した構造の熱電モジュールは約-80℃から約250℃までの温度範囲内にさらされて使用される。このようなスズ含有の半田合金を有した熱電モジュールの性能は、広範囲にわたる温度に長時間さらされた結果、悪化する。実際、この熱電モジュールの性能は一年間に15パーセントもしくはそれ以上低下することがわかっている。スズ含有の半田合金を有した熱電モジュールは実質的に80℃より高い温度においては、実際には使用に適するものではないと考えられる。
この実用性に欠ける理由の一つとして、標準のビスマス-スズ半田合金は138℃で溶融するということが挙げられる。80℃より高い温度において、半田合金内のスズは半導体素子内やその結晶格子内に急速に拡散し、そこでドープ剤のように振る舞うかもしくは半導体素子の材料と反応してしまう。また、スズは半田付けされた端部に隣接する材料の表面に薄膜を形成し、半導体素子間を接続される抵抗体のように振る舞い、IR降下および/または短絡を引き起こしてしまう。
Gelb et al.はこのスズの拡散と抵抗体形成の問題を、スズを基とした半田合金から鉛-アンチモンの半田合金に取り替えることで克服を試みた。しかし、高温において、鉛もまた拡散し熱電半導体材料と反応し熱電性能の悪い領域を形成した。
鉛もしくはスズの拡散を防ぐため、工業規格は半導体素子と半田合金間に、半導体素子上に積層されたニッケルのような拡散隔壁を採用するようになってきている。このようなシステムは、例えばFuschettiによりU.S. Patent 5,429,680において示されている。しかし、この技術は非常に複雑かつ高価であり、且つ鉛もしくはスズの拡散を完全に防ぐものではない。さらに、ニッケルで覆われた材料から成る半導体素子は構造的にもろく、長期にわたる電力もしくは温度サイクルを含む用途に耐えられない。
ビスマスとアンチモンから成る半田合金は半導体の「スズめっき」用に紹介されている。例えば、Kolenko, Ye A. ”Thermoelectric Cooling Devices”Foreign Science and Technology Center, U.S. Army Material Command, Department of the Army(AD 691 974), pp 131-138(1967)によると、表15において半導体のスズめっき用の90%のビスマスと10%のアンチモンの半田合金とBiSn接合半田合金について説明されている。また、表15において、半導体のスズめっき用の80%のビスマスと20%のアンチモンの半田合金についても説明されている。しかし、これを接合半田合金としてもしくは導電体へのリン-ニッケル面の接合に用いることの提案はなされていない。
この発明の目的は、熱電素材と反応して拡散源やドープ剤そして反応物質を与えないような半田合金を提供することである。
この発明のもう一つの目的は、275℃までの高温において改善された寿命と低故障率を有する熱電モジュールを提供することである。
この発明のさらなる目的は、半田合金が熱電素子間に抵抗体を形成しないような半田付け構造を有する熱電モジュールを提供することである。
さらに、高価な拡散隔壁の必要性を無くした熱電モジュールを提供することも本発明の目的である。
発明の開示
この発明は、銅、アルミニウム、そして他の良く知られている導電材料から成る導電体(例 母線)を熱電モジュールの熱電素子端部に堆積された導電材料に接合する半田合金を含むものであって、前述半田合金は約50重量パーセントから99重量パーセントのビスマスと約1重量パーセントから50重量パーセントのアンチモンを含み、特に導電体がリン-ニッケル面を有する場合はビスマスとアンチモンをあわせると約100重量パーセントとなる。
本発明は、さらに熱電モジュールの製造方法を提供しそれは以下を包含する。
1) テルル化ビスマス熱電素子の各端部に拡散隔壁を必要としないような導電材料を堆積する。
2) 銅もしくはアルミニウムのような導電体上にリン-ニッケル面を形成する。
3) 前述導電材料を前述リン-ニッケル面に、約50重量パーセントから99重量パーセントのビスマスと約1重量パーセントから50重量パーセントのアンチモンの二つをあわせて約100重量パーセントとなる半田合金で接合する。
上記ステップ1の導電材料は約50重量パーセントから100重量パーセントのビスマスと残りは実質的にアンチモンを含んだ材料である。
熱勾配から発電するために、デバイスにはその熱電素子間に温度勾配が与えられ、導電素子は電気回路を完成すべく接続される。熱勾配を発生するためには、熱電冷却もしくは熱電加熱の必要に応じて、デバイスに電流の流れが付与される。温度勾配はペルチエ効果により熱電素子を流れる電流の方向に沿ってつくりだされ、これにより冷接点が冷却され熱接点が加熱されるよう機能する。
この発明は約275℃までの広い動作温度範囲において使用可能な熱電モジュールを提供する。
【図面の簡単な説明】
添付の図において、
図1は熱電モジュール素子をさらに明確に示すために二つのセラミック材側部のうち一つが除去された熱電モジュールの等角投影図、
図2は図1の線分2−2に沿った熱電モジュールの断面図、
図3は本発明への使用に適したビスマスとアンチモンの二元半田合金系の状態図である。
発明の詳細な説明
本発明において、熱電モジュールは特にテルル化ビスマスという半導体材料で形成される、n型とp型の熱電素子の配列を含むものである。先行技術においても既知なように、熱電素子は第一端部と第二端部を有し、これらは交互に置かれたn型とp型の素子の行や列を成す。
素子の各端部には導電材料の薄いコーティングが堆積され、前述のコーティングにはニッケルのような拡散隔壁は実質的に無い。コーティングに適した材料はビスマス-アンチモン合金もしくは純粋なビスマスである。したがって、導電材料は約50重量パーセントから100重量パーセントのビスマスと残りは実質的にアンチモンとを含んでいる。この半田付け可能な面を提供するコーティングは0.001インチまでの厚さである。
非導電性基板上に形成される導電体は熱電素子を接続するために用いられる。この導電体は少なくとも3.5%のリンを含有するリン-ニッケル面を有する。この面を形成する一つの方法は導電体上にリン-ニッケルの層を設けることである。リン-ニッケル面に含有されるリンの量は通常約3.5%から18%の範囲にわたる。好ましいリンの量は7%から13%で、最も好ましくは8%から12%である。リン-ニッケル層の厚さは通常約20マイクロインチから約400マイクロインチである。導電体は銅であることが好ましい。
リン-ニッケル面は、約50重量パーセントから99重量パーセントのビスマスと約50重量パーセントから1重量パーセントのアンチモンから成る半田合金を用いて、熱電素子上の導電材料の薄いコーティングに半田付けされる。特に、高温用途に対しては、半田合金にはスズ、銅、銀、金、鉛、亜鉛、カドミウム、インジウム、ガリウム、ヨウ素、塩素、ナトリウム、そしてカリウムのようにドープ剤として振る舞う元素は含まれない。本発明の好ましい実施例において、半田合金は約75重量パーセントから96重量パーセントのビスマスと約25重量パーセントから4重量パーセントのアンチモンを含有する。本発明の最も好ましい実施例においては、半田合金は約80重量パーセントから95重量パーセントのビスマスと約20重量パーセントから5重量パーセントのアンチモンを含有する。
図において、改良された熱電モジュール(10)(図1と図2)は、n型(Bi2Te3-Bi2Se3)とp型(Bi2Te3-Sb2Te3)のテルル化ビスマス熱電素子(12、14)の配列を有する。n型とp型の熱電素子はその端部に純粋なビスマスもしくはビスマス-アンチモン合金の薄いコーティング(16、18)を有する。このコーティングは導電体(24、26)上に形成されたリン-ニッケル層(20、22)に半田付けされる。接続部(28、30)はビスマス-アンチモンの半田合金から成る。導電体は酸化アルミニウムもしくは酸化ベリリウムのような非導電性もしくは絶縁セラミック基板(32、34)上に形成される。
この発明は、275℃までの高温にも耐え得る熱電モジュールを提供する点で標準モジュールの改良となる。この改良により、熱電モジュールは、例えばオートクレーブや他の滅菌装置などにおいて200℃という温度においての使用が可能となる。200℃より高温においては、この熱電モジュールはダウンホール油井装置や自動車のエンジンにおいての利用が可能である。
実際の熱勾配もしくは所望の熱勾配に関してデバイスを適切に配置し、かつデバイスを負荷もしくは電源に直列に電気的に接続することにより、エネルギー変換を生じる。熱電素子が全て互いに並列かつ熱勾配の方向に配置された場合、電気は温度勾配が維持される間負荷もしくは回路の電源に供給される。
同様に、デバイスに電流が通電されると、ペルチエ効果により熱勾配が発生する。デバイスの適切な配置と電流の方向により所望の加熱もしくは冷却のどちらかが行える。
以下の例は本発明における好ましい実施例の製造を示している。

熱電モジュールは、銅によるメタライジング加工を施された酸化アルミニウム板を用い、およそ10%(8%から12%)のリンを含有するリン-ニッケル層を設けて製作された。銅メタライジング部は以下に記すようにn型とp型の素子に接続された。
Bi2Te3-Bi2Se3(n型)から成る半導体素子とBi2Te3-Sb2Te3(p型)から成る半導体素子が用意された。半導体素子の端部はおよそ0.001インチの厚さの95%ビスマス:5%アンチモンの合金の薄い層で被覆された。半導体素子上の被覆層はビスマス-アンチモン接合半田合金を用いてリン-ニッケル層に接続された。当業技術上既知である標準の酸系フラックスと標準半田付け技術が用いられた。
以下のビスマス:アンチモンの重量パーセント内容を有する接合半田合金が用いられた。
98.5:1.5
97.5:2.5
94.25:4.75
95:5
90:10
80:20
さらに、接合半田合金を用いる前に、半導体素子上のビスマス-アンチモンコーティングの代わりに純粋なビスマスのコーティングを半導体素子上に形成した。
95:5の接合半田合金を用いたモジュールは満足な性能を持続し熱電特性においても急激な変化は起こすことなく165℃から200℃において7000時間の試験にかけられた。このモジュールは75,000サイクルの瞬時電力反転試験と1000の温度サイクルを、故障することなく切り抜けた。半導体素子上のビスマスもしくはビスマス-アンチモンコーティングに関して開示された他のビスマス対アンチモン比率のものについても、先行技術と比較してより良い結果が得られた。
先行技術製品より優れた結果は、リン含有率が7%から13%の間で得られ、また先行技術より良い結果はリン含有が約3.5%から18%の間で得られた。
一方、ニッケル隔壁とスズ含有半田合金を有する標準モジュールは極めて少ない電力サイクルにさえも合格しなかった。
前述の説明は、本発明の好ましい実施例と例を単に例証したもので、発明の範囲はこれに制限されるものではない。この発明の付加的修正は、優れた当業技術者であれば発明の範囲から逸脱することなく容易に行えるであろう。

Claims (22)

  1. a.テルル化ビスマスからなる半導体材料から成るn型とp型の熱電素子の配列と、
    b.素子の各端部に堆積され、50重量パーセントから100重量パーセントのビスマスと残りは実質的にアンチモンを含む導電材料の薄い被覆と、
    c.少なくとも3.5%のリン含有率のリン-ニッケル面を有する母線と、
    d.50重量パーセントから99重量パーセントのビスマスと50重量パーセントから1重量パーセントのアンチモンからなり、前述の被覆された熱電素子を前述の母線上の前述リン-ニッケルに接合する半田合金とを含むこと
    を特徴とする熱電モジュール。
  2. 半田合金が75重量パーセントから96重量パーセントのビスマスと25重量パーセントから4重量パーセントのアンチモンからなることを特徴とする、請求項1に記載のモジュール。
  3. 半田合金が80重量パーセントから95重量パーセントのビスマスと20重量パーセントから5重量パーセントのアンチモンからなることを特徴とする、請求項2に記載のモジュール。
  4. リン含有率が3.5%から18%であることを特徴とする、請求項1に記載のモジュール。
  5. リン含有率が7重量パーセントから13重量パーセントであることを特徴とする、請求項4に記載のモジュール。
  6. リン含有率が8重量パーセントから12重量パーセントであることを特徴とする、請求項5に記載のモジュール。
  7. 母線が銅により形成されていることを特徴とする、請求項1に記載のモジュール。
  8. 母線のリン-ニッケル面が母線上に形成されたリン-ニッケルの層であることを特徴とする、請求項1に記載のモジュール。
  9. 高温においての使用に耐え得るような、
    a.テルル化ビスマス熱電素子の各端部に50重量パーセントから100重量パーセントのビスマスと残りは実質的にアンチモンからなる導電材料を堆積し、
    b.母線上にリン-ニッケルの面を形成し、
    c.50重量パーセントから99重量パーセントのビスマスと50重量パーセントから1重量パーセントのアンチモンとのあわせて100重量パーセントのビスマスとアンチモンからなる半田合金により前述導電材料を前述リン-ニッケル面に接合するステップを含むことを特徴とする熱電モジュール製造の方法。
  10. 半田合金が75重量パーセントから96重量パーセントのビスマスと25重量パーセントから4重量パーセントのアンチモンからなることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
  11. 半田合金が80重量パーセントから95重量パーセントのビスマスと20重量パーセントから5重量パーセントのアンチモンからなることを特徴とする、請求項10に記載の方法。
  12. リン-ニッケル層が少なくとも3.5重量パーセントのリンを含有することを特徴とする、請求項9に記載の方法。
  13. リン含有率が3.5%から18%であることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
  14. リン含有率が7重量パーセントから13重量パーセントであることを特徴とする、請求項13に記載の方法。
  15. リン含有率が8重量パーセントから12重量パーセントであることを特徴とする、請求項14に記載の方法。
  16. 母線が銅により形成されていることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
  17. リン-ニッケル面が前述母線上に形成された層であることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
  18. 請求項1に記載の熱電デバイスに温度勾配を与え、電気回路を完成すべくそれぞれの導電素子を接続して電気を発生することを特徴とする、発電方法。
  19. (a)熱勾配の方向が熱電素子を流れる電流の所望の方向に並行になるように請求項1に記載のデバイスを配置し、
    (b)前述熱勾配を維持し、
    (c)電気回路を完成することにより電流を発生して、熱勾配から電気を発生することを特徴とする、発電方法。
  20. 請求項1に記載の熱電デバイスに電流の流れを与え、熱電素子中の電流の方向に沿いペルチエ効果により温度勾配を生成することを特徴とする、熱勾配生成方法。
  21. 請求項1に記載の熱電デバイスの冷接点を被冷却物に熱的に接続し、熱接点を吸熱源に熱的に接続し、所望の熱勾配を維持するために温度勾配の方向に並行になるよう直流電流をデバイスの半導体素子に通電することを特徴とする、冷却実行方法。
  22. 請求項1に記載の熱電デバイスの熱接点を被加熱物に接続し、冷接点を吸熱源に接続し、所望の熱勾配を維持するために温度勾配の方向に並行になるよう直流電流をデバイスの半導体素子に通電することを特徴とする、熱電加熱実行方法。
JP51451897A 1995-10-03 1996-09-30 熱電モジュールの製作と製作用半田合金 Expired - Fee Related JP3862179B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US53844995A 1995-10-03 1995-10-03
US538,449 1995-10-03
US08/713,106 US5817188A (en) 1995-10-03 1996-09-16 Fabrication of thermoelectric modules and solder for such fabrication
US08/713,106 1996-09-16
PCT/US1996/016077 WO1997013283A1 (en) 1995-10-03 1996-09-30 Fabrication of thermoelectric modules and solder for such fabrication

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002507321A JP2002507321A (ja) 2002-03-05
JP3862179B2 true JP3862179B2 (ja) 2006-12-27

Family

ID=24146982

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51451897A Expired - Fee Related JP3862179B2 (ja) 1995-10-03 1996-09-30 熱電モジュールの製作と製作用半田合金

Country Status (22)

Country Link
US (1) US5817188A (ja)
EP (1) EP0870337B1 (ja)
JP (1) JP3862179B2 (ja)
KR (1) KR19990066931A (ja)
CN (1) CN1326256C (ja)
AT (1) ATE228270T1 (ja)
AU (1) AU702453B2 (ja)
BR (1) BR9610829A (ja)
CA (1) CA2233979C (ja)
CZ (1) CZ102898A3 (ja)
DE (1) DE69624936T2 (ja)
DK (1) DK0870337T3 (ja)
EA (1) EA000388B1 (ja)
ES (1) ES2183979T3 (ja)
HU (1) HUP9902023A3 (ja)
IL (1) IL123773A (ja)
MX (1) MX9802673A (ja)
NO (1) NO981507D0 (ja)
PT (1) PT870337E (ja)
TR (1) TR199800606T1 (ja)
UA (1) UA51672C2 (ja)
WO (1) WO1997013283A1 (ja)

Families Citing this family (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3459328B2 (ja) * 1996-07-26 2003-10-20 日本政策投資銀行 熱電半導体およびその製造方法
JPH10178216A (ja) * 1996-12-18 1998-06-30 Seru Appl Kk 熱電素子及び熱電冷却装置
JP3144328B2 (ja) * 1996-12-24 2001-03-12 松下電工株式会社 熱電変換素子およびその製造方法
US6034318A (en) * 1997-02-21 2000-03-07 Volvo Aero Corporation Thermoelectric generator unit
JP3982080B2 (ja) * 1997-12-05 2007-09-26 松下電工株式会社 熱電モジュールの製造法と熱電モジュール
IL123238A0 (en) * 1998-02-09 1998-09-24 Israel Thermo Electrical Ltd Thermo-electric generator and module for use therein
US6103967A (en) * 1998-06-29 2000-08-15 Tellurex Corporation Thermoelectric module and method of manufacturing the same
US6222113B1 (en) * 1999-12-09 2001-04-24 International Business Machines Corporation Electrically-isolated ultra-thin substrates for thermoelectric coolers
US20020119079A1 (en) * 1999-12-10 2002-08-29 Norbert Breuer Chemical microreactor and microreactor made by process
US6492585B1 (en) 2000-03-27 2002-12-10 Marlow Industries, Inc. Thermoelectric device assembly and method for fabrication of same
US6271459B1 (en) 2000-04-26 2001-08-07 Wafermasters, Inc. Heat management in wafer processing equipment using thermoelectric device
JP2002134796A (ja) * 2000-10-19 2002-05-10 Nhk Spring Co Ltd Bi−Te系半導体素子およびBi−Te系熱電モジュール
US6555413B1 (en) * 2001-02-23 2003-04-29 Triquint Technology Holding Co. Method for interconnecting semiconductor elements to form a thermoelectric cooler and a thermoelectric cooler formed therefrom
US6484513B1 (en) * 2001-09-05 2002-11-26 Chin-Lung Chou Freezing sucker
US7038234B2 (en) * 2001-12-12 2006-05-02 Hi-Z Technology, Inc. Thermoelectric module with Si/SiGe and B4C/B9C super-lattice legs
JP2003198117A (ja) * 2001-12-28 2003-07-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd はんだ付け方法および接合構造体
WO2003105244A1 (ja) * 2002-01-01 2003-12-18 古河電気工業株式会社 熱電素子モジュール及びその作製方法
US6756536B2 (en) * 2002-03-28 2004-06-29 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. Thermoelectric microactuator
US6679064B2 (en) * 2002-05-13 2004-01-20 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Wafer transfer system with temperature control apparatus
JP4401754B2 (ja) * 2003-11-28 2010-01-20 清仁 石田 熱電変換モジュールの製造方法
WO2005074049A2 (en) * 2004-01-16 2005-08-11 Massachusetts Institute Of Technology Potential amplified nonequilibrium thermal electric device (pantec)
CN100353534C (zh) * 2004-06-16 2007-12-05 华孚科技股份有限公司 热电式散热器的制造方法及所制造的热电式散热器
CN100346490C (zh) * 2004-06-21 2007-10-31 浙江大学 一种薄片型热电转换装置的制备方法
DE102004048220A1 (de) * 2004-09-30 2006-04-06 Basf Ag Kontaktierung thermoelektrischer Materialien durch Ultraschallschweißen
US7527101B2 (en) * 2005-01-27 2009-05-05 Schlumberger Technology Corporation Cooling apparatus and method
US8039726B2 (en) * 2005-05-26 2011-10-18 General Electric Company Thermal transfer and power generation devices and methods of making the same
US20070101737A1 (en) 2005-11-09 2007-05-10 Masao Akei Refrigeration system including thermoelectric heat recovery and actuation
US7310953B2 (en) 2005-11-09 2007-12-25 Emerson Climate Technologies, Inc. Refrigeration system including thermoelectric module
US20070277866A1 (en) * 2006-05-31 2007-12-06 General Electric Company Thermoelectric nanotube arrays
CN101409324B (zh) * 2008-07-24 2013-10-16 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种碲化铋基热电发电器件的制造方法
US20100024436A1 (en) * 2008-08-01 2010-02-04 Baker Hughes Incorporated Downhole tool with thin film thermoelectric cooling
WO2010125411A1 (en) * 2009-04-27 2010-11-04 Szenergia Kft. Procedure for producing a device containing metal and intermetallic semiconductor parts joined together with an electrically conductive and heat conducting connection, especially a rod suitable for use with thermoelectric modules
DE102010035151A1 (de) * 2010-08-23 2012-02-23 Emitec Gesellschaft Für Emissionstechnologie Mbh Halbleiterelement für ein thermoelektrisches Modul und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2013069347A1 (ja) * 2011-11-08 2013-05-16 富士通株式会社 熱電変換素子及びその製造方法
WO2013119284A2 (en) * 2011-11-08 2013-08-15 Ut-Battelle, Llc Manufacture of thermoelectric generator structures by fiber drawing
US8641917B2 (en) * 2011-12-01 2014-02-04 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Ternary thermoelectric material containing nanoparticles and process for producing the same
US20130139866A1 (en) * 2011-12-01 2013-06-06 Marlow Industries, Inc. Ceramic Plate
MD542Z (ro) * 2012-01-13 2013-03-31 ИНСТИТУТ ЭЛЕКТРОННОЙ ИНЖЕНЕРИИ И НАНОТЕХНОЛОГИЙ "D. Ghitu" АНМ Material termoelectric anizotropic pe bază de bismut
CN104703749A (zh) * 2013-01-28 2015-06-10 日本半田株式会社 用于芯片焊接的钎焊合金
US10367131B2 (en) 2013-12-06 2019-07-30 Sridhar Kasichainula Extended area of sputter deposited n-type and p-type thermoelectric legs in a flexible thin-film based thermoelectric device
US20180090660A1 (en) 2013-12-06 2018-03-29 Sridhar Kasichainula Flexible thin-film based thermoelectric device with sputter deposited layer of n-type and p-type thermoelectric legs
US10290794B2 (en) 2016-12-05 2019-05-14 Sridhar Kasichainula Pin coupling based thermoelectric device
US11024789B2 (en) 2013-12-06 2021-06-01 Sridhar Kasichainula Flexible encapsulation of a flexible thin-film based thermoelectric device with sputter deposited layer of N-type and P-type thermoelectric legs
US10566515B2 (en) 2013-12-06 2020-02-18 Sridhar Kasichainula Extended area of sputter deposited N-type and P-type thermoelectric legs in a flexible thin-film based thermoelectric device
US10141492B2 (en) 2015-05-14 2018-11-27 Nimbus Materials Inc. Energy harvesting for wearable technology through a thin flexible thermoelectric device
CA2868197C (en) 2014-01-31 2020-03-10 Berken Energy Llc Methods for thick film thermoelectric device fabrication
US20150240793A1 (en) * 2014-02-21 2015-08-27 The Boeing Company Temperature control system for shape-memory alloy
TWI575786B (zh) * 2014-04-08 2017-03-21 財團法人紡織產業綜合研究所 一種熱電轉換元件
KR20160028697A (ko) 2014-09-04 2016-03-14 한국전기연구원 벌크형 소면적 열전모듈 및 그 제조방법
US11276810B2 (en) 2015-05-14 2022-03-15 Nimbus Materials Inc. Method of producing a flexible thermoelectric device to harvest energy for wearable applications
US11283000B2 (en) 2015-05-14 2022-03-22 Nimbus Materials Inc. Method of producing a flexible thermoelectric device to harvest energy for wearable applications
US9995288B2 (en) 2016-01-28 2018-06-12 The Boeing Company Solid-state motor and associated systems and methods
WO2017216797A1 (en) * 2016-06-14 2017-12-21 Ariel Scientific Innovations Ltd. Thermoelectric generator
US10288048B2 (en) 2016-12-16 2019-05-14 The Boeing Company Deforming shape memory alloy using self-regulating thermal elements
CN109873096A (zh) * 2017-12-01 2019-06-11 中国电力科学研究院有限公司 一种温度可调控的车载动力电池组
CN108281541A (zh) * 2018-02-08 2018-07-13 南方科技大学 可预成型的热电器件及制备方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2685608A (en) * 1951-11-02 1954-08-03 Siemens Ag Thermoelement, particularly for the electrothermic production of cold
US3079455A (en) * 1956-09-14 1963-02-26 Rca Corp Method and materials for obtaining low resistance bonds to bismuth telluride
US3037064A (en) * 1960-12-12 1962-05-29 Rca Corp Method and materials for obtaining low resistance bonds to thermoelectric bodies
US3110100A (en) * 1962-01-11 1963-11-12 Gen Instrument Corp Method of bonding bismuth-containing bodies
DE1295040B (de) * 1964-09-18 1969-05-14 Siemens Ag Thermoelektrische Anordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung
GB1142200A (en) * 1965-11-17 1969-02-05 Ass Elect Ind Improvements relating to vacuum switch contacts
US3859143A (en) * 1970-07-23 1975-01-07 Rca Corp Stable bonded barrier layer-telluride thermoelectric device
US4503131A (en) * 1982-01-18 1985-03-05 Richardson Chemical Company Electrical contact materials
US4489742A (en) * 1983-07-21 1984-12-25 Energy Conversion Devices, Inc. Thermoelectric device and method of making and using same
CN85108316B (zh) * 1985-11-07 1987-09-09 西北大学 半导体致冷器焊料
US4764212A (en) * 1986-02-21 1988-08-16 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Thermoelectric material for low temperature use and method of manufacturing the same
US4855810A (en) * 1987-06-02 1989-08-08 Gelb Allan S Thermoelectric heat pump
US4806309A (en) * 1988-01-05 1989-02-21 Willard Industries, Inc. Tin base lead-free solder composition containing bismuth, silver and antimony
US5429680A (en) * 1993-11-19 1995-07-04 Fuschetti; Dean F. Thermoelectric heat pump

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002507321A (ja) 2002-03-05
HUP9902023A2 (hu) 1999-11-29
NO981507L (no) 1998-04-02
TR199800606T1 (xx) 1998-06-22
HUP9902023A3 (en) 2002-11-28
UA51672C2 (uk) 2002-12-16
MX9802673A (es) 1998-11-30
CA2233979C (en) 2005-09-27
US5817188A (en) 1998-10-06
EP0870337A1 (en) 1998-10-14
WO1997013283A1 (en) 1997-04-10
KR19990066931A (ko) 1999-08-16
CN1326256C (zh) 2007-07-11
DE69624936T2 (de) 2003-03-27
NO981507D0 (no) 1998-04-02
EP0870337B1 (en) 2002-11-20
ES2183979T3 (es) 2003-04-01
DE69624936D1 (de) 2003-01-02
AU7394796A (en) 1997-04-28
DK0870337T3 (da) 2003-03-03
IL123773A (en) 2001-03-19
CN1211342A (zh) 1999-03-17
PT870337E (pt) 2003-03-31
EA199800303A1 (ru) 1998-10-29
ATE228270T1 (de) 2002-12-15
BR9610829A (pt) 1999-12-21
EP0870337A4 (en) 1999-02-17
IL123773A0 (en) 1999-11-30
CA2233979A1 (en) 1997-04-10
CZ102898A3 (cs) 1998-08-12
AU702453B2 (en) 1999-02-18
EA000388B1 (ru) 1999-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3862179B2 (ja) 熱電モジュールの製作と製作用半田合金
US4489742A (en) Thermoelectric device and method of making and using same
US6958443B2 (en) Low power thermoelectric generator
CA2272193C (en) Improved thermoelectric module and method of manufacturing the same
US7932460B2 (en) Thermoelectric heterostructure assemblies element
US6288321B1 (en) Electronic device featuring thermoelectric power generation
US20050076944A1 (en) Silver-containing p-type semiconductor
US20080060693A1 (en) Thermoelectric Material Contact
WO2015030220A1 (ja) 熱電発電モジュール
JP6404983B2 (ja) 熱電発電モジュール
US3037065A (en) Method and materials for thermoelectric bodies
RU2604180C1 (ru) Термоэлектрический преобразователь энергии
WO2021200265A1 (ja) 熱電変換モジュール
JP3007904U (ja) 熱電池
JP4242118B2 (ja) 熱電変換モジュール
KR20230011131A (ko) 열전 모듈 및 이를 포함하는 자동차
KR20230094293A (ko) 유연성 열전모듈
WO2021225563A1 (ru) Модуль термоэлектрической батареи

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060124

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060419

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20060710

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060919

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060922

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091006

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101006

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111006

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121006

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131006

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees