JP3848653B2

JP3848653B2 - 感光性樹脂組成物

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Publication number: JP3848653B2
Application number: JP2003533050A
Authority: JP
Inventors: 修一高橋; 俊二河戸
Original assignee: AZ Electronic Materials Japan Co Ltd
Current assignee: AZ Electronic Materials Japan Co Ltd
Priority date: 2001-09-27
Filing date: 2002-09-24
Publication date: 2006-11-22
Anticipated expiration: 2022-09-24
Also published as: KR20040047735A; EP1434090A1; US20040043322A1; TW574615B; KR100869040B1; CN1554037A; JPWO2003029898A1; CN1237400C; WO2003029898A1

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、さらに詳細には半導体デバイス、フラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）等の製造、特に、半導体デバイス及びＦＰＤなどの平坦化膜または層間絶縁膜の形成に好適な感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物により形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を有する半導体デバイス及びＦＰＤ、およびこの感光性樹脂組成物を用いて耐熱性薄膜を形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩなどの半導体集積回路や、液晶表示装置、プラズマディスプレイなどのＦＰＤ表示面の製造、サーマルヘッドなどの回路基板の製造等を初めとする幅広い分野において、微細素子の形成あるいは微細加工を行うために、従来からフォトリソグラフィー技術が利用されている。フォトリソグラフィー技術においては、レジストパターンを形成するためにポジ型またはネガ型感光性樹脂組成物が用いられる。近年、これら感光性樹脂組成物の新たな用途として、半導体集積回路やＦＰＤなどの平坦化膜または層間絶縁膜の形成技術が注目されている。特にＦＰＤ表示面の高精細化に対する市場の要望は強いものがあり、この高精細化を達成するためには、透明性が高く、絶縁性に優れた微細なパターンを有する平坦化膜あるいは層間絶縁膜などを形成することができるポジ型感光性樹脂組成物が必須であると言われている。このような用途に用いる感光性樹脂組成物には、絶縁性、平坦膜形成性の外にも、高耐熱性が要求される。このような要求を満たすべく従来から種々研究がなされ、例えば特開平７−２４８６２９号公報、特開平８−２６２７０９号公報等多くの技術が提示されている。しかし、これらの文献に記載された組成物は、膜の透明性向上のために感光剤を分解させる全面露光（ブリーチング）工程および加熱処理（ポストベーク）を行う必要がある。またアルカリ可溶性樹脂の主鎖中にエポキシ基などの架橋性基を含むことなどによる経時安定性の問題もあり、微細加工に使用されている一般的なポジ型レジストに比べ、組成物の保存環境に特別な注意が必要であるし、使用される材料も特殊な材料を用いることが要求される。さらに、ＦＰＤ表示面の作製工程におけるフォトリソグラフィーでは、現像液を繰り返し使用するリサイクル現像液が用いられる。このリサイクル現像液中で、ＴＦＴ作製用ポジ型レジストと前記架橋基などを含む感光性樹脂組成物が混合された場合、ポジ型レジストと該組成物中に含まれる架橋基などが反応することで現像液に不溶な析出物が多量に発生するという問題がある。
【０００３】
他方、特開平４−３５２１０１号公報には「マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物」として、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、例えば、ノボラック樹脂あるいはα，β−不飽和カルボン酸の共重合体、例えばアクリル酸、メタクリル酸等と、他のラジカル重合性化合物、例えばメチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート等のメタクリル酸アルキルエステル、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシアルキルエステル類との共重合体、（Ｂ）感放射線性酸生成化合物、例えば２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ジフェノール等の１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等、および（Ｃ）エポキシ基を分子内に少なくとも２個有する化合物を含有する組成物が記載されている。この発明は、感光性樹脂組成物を用いてレジストパターンを形成した後、加熱処理することによってレジストパターンをメルトフローさせ、マイクロレンズを形成するもので、レンズを形成するためのレンズ形成可能温度が１２０〜１７０℃である旨の記載はあるものの、２２０℃以上の高耐熱性の薄膜を形成できることについては記載されていない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のような状況に鑑み、本発明の目的は、アルカリ可溶性樹脂及び感光剤を含有する感光性樹脂組成物において、架橋剤を使用しなくても、高温ベーキング後の膜表面の平坦性の保持が良好であり、高解像度で、良好な光透過率を有する良質な薄膜を形成することができ、絶縁性で且つ経時安定性の良い感光性樹脂組成物を提供すること、また架橋剤を使用した場合においても前記特性を有するとともに経時安定性も架橋剤無添加のものと同様良好な感光性樹脂組成物を提供すること、さらにこれらの感光性樹脂組成物により形成された半導体デバイスあるいはＦＰＤを提供すること、またこれらの感光性樹脂組成物を用いて高耐熱性薄膜を形成する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、鋭意研究、検討を行った結果、アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド基を含む感光剤を含有する感光性樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂として特定の樹脂を用い、さらに特定のフェノール性化合物を含有せしめることにより、上記目的を達成できる、すなわち経時安定性がよく、例えば２２０℃、１時間の高温の加熱処理後においても膜表面の平坦性を保持し、良好な光透過率および絶縁性を示す、半導体集積回路やＦＰＤなどの平坦化膜あるいは層間絶縁膜などの形成材料として適した感光性樹脂組成物を得ることができることを見い出し、本発明を成したものである。
【０００６】
すなわち、本発明は、アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド基を有する感光剤を含有する感光性樹脂組成物において、前記アルカリ可溶性樹脂が、アルキル（メタ）アクリレート由来の構成単位と５〜３０ｍｏｌ％の（メタ）アクリル酸由来の構成単位を含み、ポリスチレン換算平均分子量が２０，０００〜４０，０００のアクリル系樹脂であり、且つ前記感光性樹脂組成物が下記一般式（Ｉ）で表されるフェノール性化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を提供するものである。
【０００７】
【化１】

【０００８】
（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びＲ_７は、各々独立に、Ｈ、Ｃ_１−Ｃ_４のアルキル基または
【０００９】
【化２】

【００１０】
を表し、ｍ及びｎは各々独立に０〜２の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ及びｈは、ａ＋ｂ≦５、ｃ＋ｄ≦５、ｅ＋ｆ≦５、ｇ＋ｈ≦５を満たす０〜５の整数であり、ｉは０〜２の整数である。）
【００１１】
また、本発明は、更にエポキシ基を有する硬化剤を含有することを特徴とする上記感光性樹脂組成物を提供するものである。
【００１２】
さらに、本発明は、上記感光性樹脂組成物により形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を有するＦＰＤあるいは半導体素子を提供するものである。
【００１３】
また、本発明は、上記感光性樹脂組成物を用いてパターニングを行った後、感光性樹脂組成物中にエポキシ基を有する硬化剤が含有されない場合は全面露光を行うことなく、またエポキシ基を有する硬化剤を含有する場合には全面露光を行った後、ポストベークすることにより耐熱性薄膜を形成する方法を提供するものである。
【００１４】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド基を有する感光剤を含有し、アルカリ可溶性樹脂がアクリル系樹脂であり、さらに上記一般式（Ｉ）で示されるフェノール性化合物を含有することが必要である。
【００１５】
本発明の感光性樹脂組成物において用いられるアルカリ可溶性のアクリル系樹脂としては、（ａ）アルカリ可溶性のポリアクリル酸エステル、（ｂ）アルカリ可溶性のポリメタクリル酸エステル、及び（ｃ）少なくとも一種のアクリル酸エステルと少なくとも一種のメタクリル酸エステルとを構成単位として含むアルカリ可溶性のポリ（アクリル酸エステル・メタクリル酸エステル）を挙げることができる。これらのアクリル系樹脂は単独でまたは二種以上併用することができる。また、これらアクリル系樹脂は、樹脂をアルカリ可溶性とするため有機酸単量体を共重合成分として含むものが好ましいが、樹脂にアルカリ可溶性を付与する共重合単位が有機酸単量体に限られるものではない。
【００１６】
これらアルカリ可溶性のポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ（アクリル酸エステル・メタクリル酸エステル）を構成する単量体成分としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、有機酸単量体及びその他の共重合性単量体が挙げられる。これら重合体を構成する単量体成分としては、下記例示のアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、有機酸単量体が好ましいものである。
【００１７】
アクリル酸エステル：
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロルエチルアクリレート、メチル−α−クロルアクリレート、フェニル−α−ブロモアクリレートなど
【００１８】
メタクリル酸エステル：
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、１−フェニルエチルメタクリレート、２−フェニルエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、ジフェニルメチルメタクリレート、ペンタクロルフェニルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど
【００１９】
有機酸単量体：
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸などのジカルボン酸及びこれらジカルボン酸の無水物、２−アクリロイルハイドロジェンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンフタレートなど
【００２０】
なお、その他の共重合性単量体としては、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエステル、スチレン及びスチレン誘導体、アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどが挙げられる。これらその他の共重合体は、必要に応じて用いればよく、その量もアクリル系樹脂が本発明の目的を達成しうる範囲内の量で用いられる。
【００２１】
本発明のアクリル系樹脂は、アルキル（メタ）アクリレート由来の構成単位と５〜３０ｍｏｌ％の（メタ）アクリル酸由来の構成単位を含む共重合体である。また本発明のアクリル系樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量範囲は、２０，０００〜４０，０００、好ましくは２５，０００〜３０，０００である。アクリル系樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が２０，０００未満である場合には、得られた膜の耐熱性が劣る傾向がみられる。また、４０，０００を超える場合には、解像度、感度、被膜形成性などの点に問題が生じることがある。
【００２２】
また、本発明の感光性樹脂組成物において用いられる、キノンジアジド基を有する感光剤は、キノンジアジド基を有する感光剤であれば何れのものでも良いが、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルフォニルクロライドのようなナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドや１，２−ベンゾキノンジアジド−５−スルフォニルクロライド、１，２−ベンゾキノンジアジド−４−スルフォニルクロライドのようなベンゾキノンジアジドスルホン酸ハライドと、この酸ハライドと縮合反応可能な官能基を有する低分子化合物または高分子化合物とを反応させることによって得られるものが好ましい。ここで酸ハライドと縮合可能な官能基としては水酸基、アミノ基等が挙げられ、特に水酸基が好適である。水酸基を含む低分子化合物としては、上記一般式（Ｉ）で示されるフェノール性化合物を挙げることができる。上記一般式（Ｉ）で表される水酸基含有化合物を用いない場合、得られたエステルの感光性樹脂組成物への溶解性に問題が生じることがある。これらキノンジアジド基を有する感光剤は、本発明においては、感光性樹脂組成物中の樹脂成分１００重量部に対し、通常１〜３０重量部の量で用いられる。
【００２３】
また、本発明の感光性樹脂組成物には、さらに上記一般式（Ｉ）で示されるフェノール性化合物が含有される。上記一般式（Ｉ）で表されるフェノール性水酸基を有する低分子化合物は、本発明の感光性樹脂組成物では低分子化合物のため通常露光部の溶解促進剤として溶解速度を調整するために、または感光性樹脂組成物の感度調整のために好適に使用される。これらの溶解速度あるいは感度の調節はフェノール性化合物の添加量を増減させることによりある範囲内で行うことができる。これらフェノール性化合物の添加量は、使用する樹脂の種類や分子量によって適切な量を選択すれば良い。さらに未露光部については、これらのフェノール性化合物を用いることにより、フェノール性化合物が現像時感光剤とアゾカップリング反応を起こし、溶解抑止される樹脂成分中に低分子化合物の溶解抑止成分を含むことになり、露光部と未露光部の溶解速度の差、即ちコントラストを大きくすることができ、解像度を向上させることができる。
【００２４】
上記一般式（Ｉ）で表されるフェノール性水酸基を有する低分子化合物としては、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、ビスフェノールＡ、Ｂ、Ｃ、Ｅ、Ｆ及びＧ、４，４’，４”−メチリジントリスフェノール、２，６−ビス［（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル］−４−メチルフェノール、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、４，４’−［１−［４−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、４，４’，４”−エチリジントリスフェノール、４−［ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル］−２−エトキシフェノール、４，４’−［（２−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２，３−ジメチルフェノール］、４，４’−［（３−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２，６−ジメチルフェノール］、４，４’−［（４−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２，６−ジメチルフェノール］、２，２’−［（２−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［３，５−ジメチルフェノール］、２，２’−［（４−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［３，５−ジメチルフェノール］、４，４’−［（３，４−ジヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［２，３，６−トリメチルフェノール］、４−［ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−６−メチルフェニル）メチル］−１，２−ベンゼンジオール、４，６−ビス［（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル］−１，２，３−ベンゼントリオール、４，４’−［（２−ヒドロキシフェニル）メチレン］ビス［３−メチルフェノール］、４，４’，４”−（３−メチル−１−プロパニル−３−イリジン）トリスフェノール、４，４’，４”，４’’’−（１，４−フェニレンジメチリジン）テトラキスフェノール、２，４，６−トリス「（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル］−１，３−ベンゼンジオール、２，４，６−トリス「（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）メチル］−１，３−ベンゼンジオール、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシ−３，５−ビス［（ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メチル］フェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビス［２，６−ビス（ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メチル］フェノールなどを挙げることができる。また好ましい化合物として、４，４’，４”−メチリジントリスフェノール、２，６−ビス［（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル］−４−メチルフェノール、４，４’−［１−［４−［１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、４，４’−［１−［４−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、４，４’，４”−エチリジントリスフェノールなどを挙げることができる。
【００２５】
これらフェノール性水酸基を有する低分子化合物の中でも、特に下記式（II）または（III）で表される化合物が好ましい。
【００２６】
【化３】

【００２７】
【化４】

【００２８】
これらのフェノール性水酸基を有する低分子化合物は、アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、１〜２０重量部の量で用いられる。
【００２９】
また、本発明の感光性樹脂組成物には、エポキシ基を有する硬化剤を含有させることができる。このエポキシ基を有する硬化剤としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂などの高分子系エポキシ樹脂が挙げられる。また、上記高分子系エポキシ樹脂ばかりでなく、本発明では硬化剤として、低分子系のエポキシ化合物であるビスフェノールＡあるいはビスフェノールＦのジグリシジルエーテル等を使用することもできる。好ましい硬化剤は、３官能性のエポキシ樹脂であり、具体的には三井化学社製のテクモアＶＧ３１０１、ＶＧ３１０１Ｌ等が挙げられる。
【００３０】
本発明のアルカリ可溶性樹脂、感光剤、フェノール性水酸基を有する化合物または樹脂、エポキシ基を有する硬化剤を溶解させる溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、γ−ブチロラクトン等のラクトン類等を挙げることができる。これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００３１】
さらに、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じ接着助剤及び界面活性剤等を配合することができる。接着助剤の例としては、アルキルイミダゾリン、酪酸、アルキル酸、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルメチルエーテル、ｔ−ブチルノボラック、エポキシシラン、エポキシポリマー、シラン等が、界面活性剤の例としては、非イオン系界面活性剤、例えばポリグリコール類とその誘導体、すなわちポリプロピレングリコールまたはポリオキシエチレンラウリルエーテル、フッ素含有界面活性剤、例えばフロラード（商品名、住友３Ｍ社製）、メガファック（商品名、大日本インキ化学工業社製）、スルフロン（商品名、旭ガラス社製）、または有機シロキサン界面活性剤、例えばＫＰ３４１（商品名、信越ケミカル社製）がある。
【００３２】
本発明の感光性樹脂組成物は、上記の如き成分を所定量溶剤に溶解して調整される。このとき、各成分は予めそれぞれ個別に溶剤に溶解し、使用直前に各成分を所定の割合で混合して調製されてもよい。通常感光性樹脂組成物の溶液は、０．２μｍのフィルター等を用いて濾過された後、使用に供される。
【００３３】
本発明の感光性樹脂組成物は、次のような方法によって高絶縁性、高透明性、高耐熱性薄膜とされる。そして、この薄膜は、平坦化膜あるいは層間絶縁膜などとして好適に利用できる。すなわち、まず、本発明の感光性樹脂組成物の溶液を、必要に応じ回路パターンあるいは半導体素子などが形成された基板上に塗布し、プリベークを行って、感光性樹脂組成物の塗膜を形成する。次いで、所定のマスクを介してパターン露光を行った後アルカリ現像液を用いて現像処理し、必要に応じリンス処理を行って、感光性樹脂組成物の薄膜ポジパターンを形成する。このようにして形成された薄膜ポジパターンは、感光性樹脂組成物がエポキシ基を有する硬化剤を含有しない場合、ポストベーク処理され、半導体素子や液晶表示装置、プラズマディスプレイなどのＦＰＤの平坦化膜あるいは層間絶縁膜などとして利用される。また感光性樹脂組成物がエポキシ基を有する硬化剤を含有する場合は、パターンを全面露光した後ポストベークし、これによって、より耐熱温度の高い薄膜を形成することができる。このとき全面露光により感光剤が分解して酸が形成されてエポキシ基を有する硬化剤の硬化が促進され、また加熱によってより硬化が促進され、より高耐熱性の被膜が形成されると考えられる。
【００３４】
上記薄膜の形成において、感光性樹脂組成物溶液の塗布方法としては、スピンコート法、ロールコート法、ランドコート法、スプレー法、流延塗布法、浸漬塗布法など任意の方法を用いることができる。また、露光に用いられる放射線としては、例えばｇ線、ｉ線などの紫外線、ＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザー光などの遠紫外線、Ｘ線、電子線などが挙げられる。更に、現像法としては、パドル現像法、浸漬現像法、揺動浸漬現像法など従来フォトレジストの現像法で用いられている方法に依ればよい。また現像剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウムなどの無機アルカリ、アンモニア、エチルアミン、プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、トリエチルアミンなどの有機アミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アミンなどが挙げられる。平坦化膜、層間絶縁膜などの形成においては、金属イオンを含まない有機アミンが好ましい。
【００３５】
また、全面露光に用いられる放射線は、パターニングに用いられた放射線と同じものでもよいし、異なるものであってもよい。全面露光時の露光量は、例えばｇ・ｈ・ｉ線混合光で６００ｍＪ／ｃｍ^２以上で行なうことができる。またポストベークは、通常１５０〜３００℃程度の温度、より好ましくは２００〜２５０℃の温度で行われる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明の態様がこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３７】
実施例１
＜感光性樹脂組成物の調製＞
重量平均分子量がポリスチレン換算で２５，０００のポリ（メチルメタクリレート−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート−メタクリル酸）［メタクリル酸含有率１５モル％］１００重量部と、上記式（II）で表される化合物と、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドのエステル化物１７重量部、さらに式（II）で表されるフェノール性化合物１０重量部とをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解し、回転塗布の際にレジスト膜上にできる放射線状のしわ、いわゆるストリエーションを防止するため、更にフッ素系界面活性剤、メガファックＲ−０８（大日本インキ化学工業社製）を３００ｐｐｍ添加して攪拌した後、０．２μｍのフィルターで濾過して感光性樹脂組成物を調製した。
【００３８】
＜限界解像度の測定及び薄膜パターンの形成＞
この組成物を４インチシリコンウェハー上に回転塗布し、１００℃、９０秒間ホットプレートにてベーク後、３．０μｍ厚のレジスト膜を得た。このレジスト膜にキャノン社製ｇ＋ｈ＋ｉ線マスクアライナー（ＰＬＡ−５０１Ｆ）にて種々のホール径のコンタクトホールのテストパターンを最適露光量で露光し、０．４重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で２３℃、６０秒間現像することで、コンタクトホールパターンを形成した。そのパターンのホール径を走査型電子顕微鏡で観察して限界解像度を測定した。また、パターンが形成された４インチシリコンウエハーをオーブン中で２２０℃、６０分間加熱することでポストベーク処理を行った。
【００３９】
＜耐熱性の評価＞
２２０℃、６０分間のポストベーク処理の前後で５μｍのコンタクトホールの形状変化を走査型電子顕微鏡にて観察を行い、高温加熱によりパターンのフローが観察されなかったものについては○、観察されたものについては×とした。結果を表１に示す。
【００４０】
＜透過率の評価＞
４インチシリコンウエハーの代わりに石英ガラス基板を用いた以外は上記と同様の操作を行うことで、塗布膜を得た後、２２０℃、６０分間の加熱処理を行なって、薄膜パターンを有するガラス基板を得た。そして紫外−可視光分光光度計ＣＡＲＹ４Ｅ（バリアン社製）を用いて、この薄膜パターンを有するガラス基板の４００ｎｍの透過率を測定し、透過率が８５％以上であれば○、８５％未満であれば×という基準で評価した。結果を表１に示す。
【００４１】
実施例２
前記式（II）で表される化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドのエステル化物の代わりに前記式（III）で表される化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドのエステル化物を使用すること、式（II）で表されるフェノール性化合物１０重量部の代わりに前記式（III）で表されるフェノール性化合物を１０重量部用いること以外は実施例１と同様に行い、表１の結果を得た。
【００４２】
実施例３
＜感光性樹脂組成物の調製＞
重量平均分子量がポリスチレン換算で２５，０００のポリ（メチルメタクリレート−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート−メタクリル酸）［メタクリル酸含有率１５モル％］１００重量部、上記式（II）で表される化合物の１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルフォニルクロライドのエステル化物２６重量部、上記式（II）で表されるフェノール性化合物１０重量部およびビスフェノールＡ型エポキシ樹脂エピコート８２８（油化シェルエポキシ社製）２．５重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解し、回転塗布の際にレジスト膜上にできる放射線状のしわ、いわゆるストリエーションを防止するため、更にフッ素系界面活性剤、メガファックＲ−０８（大日本インキ化学工業社製）を３００ｐｐｍ添加して攪拌した後、０．２μｍのフィルターで濾過して感光性樹脂組成物を調製した。
【００４３】
＜限界解像度の測定及び薄膜パターンの形成＞
この組成物を４インチシリコンウェハー上に回転塗布し、１００℃、９０秒間ホットプレートにてベーク後、３．０μｍ厚のレジスト膜を得た。このレジスト膜にキャノン社製ｇ＋ｈ＋ｉ線マスクアライナー（ＰＬＡ−５０１Ｆ）にて種々のホール径のコンタクトホールのテストパターンを最適露光量で露光し、０．４重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で２３℃、６０秒間現像することで、コンタクトホールパターンを形成した。そのパターンのホール径を走査型電子顕微鏡で観察して限界解像度を測定した。次いで、このパターンが形成された４インチシリコンウエハーを上記アライナーにて全面露光した後、オーブン中で２２０℃、６０分間加熱することでポストベーク処理を行った。
【００４４】
＜耐熱性および透過率の評価＞
実施例１と同様にして耐熱性および透過率の評価を行い、表１の結果を得た。
【００４５】
＜耐溶剤性の評価＞
得られた組成物を４インチシリコンウエハー上に回転塗布し、１００℃、９０秒間ホットプレートにてベーク後、３．０μｍ厚のレジスト膜を得た。その後０．４重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液で２３℃、５０秒間現像処理した。さらにキャノン社製一括露光装置ＰＬＡ−５０１Ｆにて６００ｍＪ／ｃｍ^２で露光後、真空乾燥オーブン中にて２２０℃、１時間加熱を行うことで、耐溶剤性の評価用基板を作製した。この評価用基板をＮ−メチル−２−ピロリドン中に、室温下（２３℃）、５分間浸漬し、浸漬前と浸漬後の膜厚を測定し、その減少量（Å）により耐溶剤性の評価を行った。結果を表１に示す。
【００４６】
実施例４
エピコート８２８を２．５重量部用いることに代えて、テクモアＶＧ３１０１Ｌ（三井化学社製）を４重量部用いること以外は実施例３と同様に行い、表１の結果を得た。
【００４７】
比較例１
フェノール性化合物を添加しないこと以外は実施例１と同様に行い、表１の結果を得た。
【００４８】
比較例２
上記式（II）で表されるフェノール性化合物に代えてフェノールノボラック樹脂（重量平均分子量がポリスチレン換算で１５，０００）を用いること以外は実施例１と同様に行い、表１の結果を得た。
【００４９】
比較例３
上記式（II）で表されるフェノール性化合物を添加しないこと以外は実施例３と同様に行い、表１の結果を得た。なお、表１に示されるように、比較例３の薄膜パターンは残膜率、耐熱性、透過率では良い結果が得られるが、現像後にパターン上に不溶物（現像残渣）が観察され、実用上十分な性能は得られなかった。
【００５０】
【表１】

【００５１】
上記各実施例で得られた耐熱性薄膜の絶縁性は、半導体素子、ＦＰＤの平坦化膜および層間絶縁膜として用いるに充分のものであった。
【００５２】
さらに、上記の各実施例および比較例の感光性樹脂組成物を室温で３ヶ月保管した後、各実施例および比較例と同様の試験を行ったところ、得られた結果は各々の実施例あるいは比較例の結果と同じであった。
【００５３】
以上のことから、本発明の感光性樹脂組成物は、架橋剤を使用しなくても、高温でのポストベーク後において膜表面の平坦性を保持することができる、すなわち高耐熱性であるとともに、高解像度、良好な光透過率、高絶縁性を有する良質な薄膜を形成することができ、さらに経時安定性も良いことが分る。また、実施例３及び４の結果より、エポキシ基を有する硬化剤を用いることによりさらに耐熱性、耐溶剤性が良好になり、特に３官能性のエポキシ樹脂を硬化剤として用いるときに、耐溶剤性がきわめて優れ、しかも経時安定性も良い感光性樹脂組成物を得ることができることが分かる。
【００５４】
［発明の効果］
以上述べたように、本発明の感光性樹脂組成物は、高耐熱性、高絶縁性、高解像度、良好な耐溶剤性、ポストベーク後の良好な透明性を有するとともに、経時安定性も優れており、このためこれら諸特性が要求される半導体デバイスあるいはＦＰＤなどの平坦化膜や層間絶縁膜などの形成材料として特に好適に使用できる。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明の感光性樹脂組成物は、半導体デバイス、フラットパネルディスプレー（ＦＰＤ）等の製造、特に、半導体デバイス及びＦＰＤなどの平坦化膜または層間絶縁膜の形成に好適に用いられる。

Claims

アルカリ可溶性樹脂及びキノンジアジド基を有する感光剤を含有する感光性樹脂組成物において、
前記アルカリ可溶性樹脂が、アルキル（メタ）アクリレート由来の構成単位と５〜３０ｍｏｌ％の（メタ）アクリル酸由来の構成単位を含み、ポリスチレン換算平均分子量が２０，０００〜４０，０００のアクリル系樹脂であり、
且つ下記一般式（Ｉ）で表されるフェノール性化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６及びＲ_７は、各々独立に、Ｈ、Ｃ_１−Ｃ_４のアルキル基または

を表し、ｍ及びｎは各々独立に０〜２の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｇ及びｈは、ａ＋ｂ≦５、ｃ＋ｄ≦５、ｅ＋ｆ≦５、ｇ＋ｈ≦５を満たす０〜５の整数であり、ｉは０〜２の整数である。）
キノンジアジド基を有する感光剤が上記一般式（Ｉ）で表される化合物とナフトキノンジアジド化合物との反応生成物であることを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
一般式（Ｉ）で表されるフェノール性化合物が、下記式（II）で表わされる化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の感光性樹脂組成物。
エポキシ基を有する硬化剤を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
エポキシ基を有する硬化剤が３官能性のエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項４に記載の感光性樹脂組成物。
請求項１〜５のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を有するフラットパネルディスプレイ。
請求項１〜５のいずれかに記載の感光性樹脂組成物により形成された平坦化膜あるいは層間絶縁膜を有する半導体デバイス。
請求項１〜３のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を用いてパターニング後、全面露光を行うことなくポストベークすることを特徴とする耐熱性薄膜の形成方法。
請求項４または５に記載の感光性樹脂組成物を用いてパターニング後、全面露光を行い、次いでポストベークを行うことを特徴とする耐熱性薄膜の形成方法。