JP3717000B2 - 光重合性感光材料 - Google Patents
光重合性感光材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3717000B2 JP3717000B2 JP09379595A JP9379595A JP3717000B2 JP 3717000 B2 JP3717000 B2 JP 3717000B2 JP 09379595 A JP09379595 A JP 09379595A JP 9379595 A JP9379595 A JP 9379595A JP 3717000 B2 JP3717000 B2 JP 3717000B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photopolymerizable photosensitive
- photosensitive material
- protective layer
- average molecular
- molecular weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、感光性平版印刷版あるいは、フォトレジスト等に用いられる光重合性組成物に関するものである。さらに詳しくは、可視領域の光線に対して非常に高感度であり、かつ現像性、インク着肉性、保護層の耐スクラッチ性、保存安定性、耐刷力に優れる光重合性感光材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、保護層を有する光重合性感光材料は数多く知られており、例えば特開昭49−103702、特開昭52−24703、特開昭60−263141、特開昭61−285444、特開昭62−79440、特開昭62−223747、特開平2−103051号の各公報に記載されている。しかしながら、これら従来の光重合性感光材料の性能は充分とは言えず、特に保護層の耐スクラッチ性、保存安定性などの点で改良が望まれていた。
【0003】
また近年、光重合性感光材料を用いた高感度感材が種々の応用分野において検討されている。これらの内、特に実用化が近いと見られるシステムとしてレーザー直接製版があり、レーザーの発振波長、例えば、アルゴンイオンレーザーの488nmに対応した高感度フォトポリマー系が強く要望されている。このようなレーザー直接製版では、自動搬送機構を有する可視光レーザー露光装置を用いて製版を行うため、搬送系において、保護層の高い耐スクラッチ性が要求されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の光重合性感光材料は、保護層の耐スクラッチ性、現像性、インク着肉性、感度、耐刷力等の性能のバランスの点で不十分であった。即ち、本発明の目的は、可視領域の光線に対して非常に高感度であり、かつ現像性、インク着肉性、保護層の耐スクラッチ性、保存安定性、耐刷力に優れる光重合性感光材料を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記従来技術の問題点を解決すべく鋭意検討した結果、特定の成分からなる保護層を有する光重合性感光材料が所期の目的を達成できることを見いだし、本発明を完成するに到った。即ち、本発明の要旨は、支持体上に、(A)エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する付加重合可能な化合物、(B)活性光線によって活性化される光重合開始剤及び(C)共重合成分として(メタ)アクリル酸を含む高分子結合剤を含有してなる光重合性感光層及び、さらにその上に保護層を有する光重合性感光材料において、該保護層が、少なくとも(ア)重量平均分子量が4,000〜100,000であるポリビニルアルコール及び/又は重量平均分子量が4,000〜100,000であるポリビニルアルコール誘導体と、(イ)重量平均分子量が20,000〜500,000であるポリビニルピロリドン及び/又は共重合成分としてビニルピロリドンを50mol%以上含有し重量平均分子量が10,000〜400,000であるビニルピロリドン系共重合体とを含有し、成分(ア)と成分(イ)の合計に対する成分(ア)の割合が25〜75重量%であることを特徴とする光重合性感光材料に存する。以下、本発明について詳細に説明する。
【0006】
本発明の光重合性感光層における第1の必須成分である、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する付加重合可能な化合物(以下、「エチレン性化合物」と略す)とは、光重合性感光材料が活性光線の照射を受けた場合、第二の必須成分である光重合開始剤の作用により付加重合し、硬化するようなエチレン性不飽和二重結合を有する化合物であって、例えば前記の二重結合を有する単量体、または、側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体である。なお、本発明における単量体の意味するところは、いわゆる高分子物質に相対する概念であって、従って、狭義の単量体以外に二量体、三量体、オリゴマーをも包含するものである。
【0007】
エチレン性不飽和結合を有する単量体としては、例えば不飽和カルボン酸、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;不飽和カルボン酸と多価カルボン酸および前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポロヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステル等が挙げられる。
【0008】
前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルは限定されないが、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等がある。
【0009】
芳香族ポロヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等が挙げられる。
不飽和カルボン酸と多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも単一物ではないが代表的な具体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸およびエチレングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸およびジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸およびペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオールおよびグリセリンの縮合物等がある。
【0010】
その他、本発明に用いられるエチレン性化合物の例としては、トリレンジイソシアネートとヒドロキシエチルアクリレートとの付加反応物の様なウレタンアクリレート類;ジエポキシ化合物とヒドロキシエチルアクリレートとの付加反応物の様なエポキシアクリレート類;エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物などが有用である。
【0011】
前記した主鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は、例えば、不飽和二価カルボン酸とジヒドロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエステル、不飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応により得られるポリアミド等がある。側鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体は、側鎖に不飽和結合をもつ二価カルボン酸、例えばイタコン酸、プロヒリデンコハク酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキシまたはジアミン化合物等との縮合重合体がある。また、側鎖にヒドロキシ基やハロゲン化メチル基の如き反応活性を有する官能基を持つ重合体、例えばポリビニルアルコール、ポリ(2−ヒドキシエチルメタクリレート)、ポリエピクロルヒドリン等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸との高分子反応により得られるポリマーも好適に使用し得る。
以上記載したエチレン性化合物の内、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単量体が特に好適に使用できる。
【0012】
次に、本発明の光重合性感光層の第2の必須成分である光重合開始剤について説明する。光重合開始剤としては、前記エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物の重合を開始させうるものはすべて使用できる。特に可視領域の光線に対して感光性を有するものであれば、いずれも好適に使用でき、増感剤と活性剤の組み合せでも良い。この内、光励起された増感剤と何らかの作用を惹起することにより活性ラジカルを生成する活性剤としては、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、チタノセン系化合物、ハロゲン化炭化水素誘導体、ジアリールヨードニウム塩、有機過酸化物等を挙げることができる。この内、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物あるいは、チタノセン系化合物を用いた場合、光重合性感光層の感度、保存性、塗膜の基板への密着性等が良く好ましい。
【0013】
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物としては、その構造中にヘキサアリールビイミダゾール骨格を有するものであれば種々のものを用いることができるが、例えば、2,2′−ビス(o−クロルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(p−フルオロフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロムフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(p−ヨードフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(p−クロルナフチル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(p−クロルフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロムフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(p−クロル−p−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(o,p−ジクロルフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(o,p−ジブロムフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロムフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(o,p−ジクロルフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,pージクロルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(o,p−ジクロルフェニル)ビイミダゾール等が挙げられる。
【0014】
これらのヘキサアリールビイミダゾール系化合物は、必要に応じ他種のビイミダゾール系化合物と併用して使用することもできる。ビイミダゾール系化合物は、例えばBull.Chem.Soc.Japan,33,565(1960)および J.Org.Chem,36[16]2262(1971)に開示されている方法により容易に合成することができる。
【0015】
チタノセン系化合物としては、種々のものを用いることができるが、具体的には、ビスシクロペンタジエニル基を持つチタン錯体であり、光励起された増感剤と何等かの作用を惹起することにより活性ラジカルを生成する化合物が挙げられ、例えば、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号各公報に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6,−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)−フェニ−1−イル等を挙げることができる。
【0016】
次に、光重合開始剤の内の増感剤について説明する。本発明における増感剤とは、前述の光重合開始剤と共存した場合、可視光線照射により、効果的に活性ラジカルを発生し得る化合物を意味している。
代表的な増感剤の例としては、例えば、米国特許第3,479,185号明細書に開示されている様なロイコクリスタルバイオレットやロイコマラカイトグリーンの様なトリフェニルメタン系ロイコ色素、エリスロシンやエオシンYの様な光還元性染料、米国特許第3,549,367号明細書、米国特許第3,652,275号明細書等に開示されているミヒラーズケトンやアミノスチリルケトンの様なアミノフェニルケトン類、米国特許第3,844,790号明細書に示されるβ−ジケトン類、米国特許第4,162,162号明細書に見られるインダノン類、特開昭52−112681号公報に示されるケトクマリン類、特開昭59−56403号公報で開示されているアミノスチレン誘導体やアミノフェニルブタジエン誘導体、米国特許第4,594,310号明細書に見られるアミノフェニル複素環類、米国特許第4,966,830号明細書に示されるジュロリジン複素環類、特開平5−241338号公報に示されるピロメテン系色素などが挙げられる。
【0017】
次に、本発明の光重合性感光層の第3の必須成分である高分子結合剤(C)について説明する。これは、皮膜形成能や粘度調節能を付与する成分であり、(メタ)アクリル酸を共重合単位として含むものであり、アルカリ水での現像性が良い。特に共重合成分として(メタ)アクリル酸を、2〜30mol%含有する高分子結合剤が好ましく、より好ましくは、5〜20mol%である。(メタ)アクリル酸の含有量が2mol%より小では、アルカリ水での現像性が不十分となることがあり、30mol%より大では、本発明の光重合性感光材料の耐刷力およびインク着肉性が悪くなることがある。
【0018】
また、本発明の光重合性感光層は、水に対する接触角が60°以上であることが好ましい。水に対する接触角が60°より小さいと、本発明の光重合性感光材料のインク着肉性が悪くなる傾向がある。
以上、本発明の光重合性感光層の主要構成成分について詳述してきたが、それらの好適な使用比率は重合可能なエチレン性不飽和化合物100重量部に対して光重合開始剤の内、増感剤が好ましくは0.01〜20重量部、特に好ましくは0.05〜10重量部、活性剤が好ましくは0.1〜80重量部、特に好ましくは0.5〜50重量部、高分子結合剤が、好ましくは10〜400重量部、特に好ましくは20〜200重量部の範囲である。
【0019】
本発明の光重合性感光層は前記の各構成成分の他に、それの使用目的に応じて、更に他の物質を添加混合することができる。例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールなどの熱重合防止剤;有機または無機の染顔料からなる着色剤;ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤、三級アミンやチオールの様な感度特性改善剤、その他色素前駆体などの添加剤も加えることができる。
【0020】
以上述べた各種添加剤の好ましい添加量は、エチレン性化合物100重量部に対して熱重合防止剤2重量部以下、着色剤20重量部以下、可塑剤40重量部以下、色素前駆体30重量部以下の範囲である。
本発明の光重合性感光層は、無溶媒あるいは適当な溶媒で希釈して支持体上に塗布、乾燥して塗設される。塗布方法としては、ディップコート、コーティングロッド、スピナーコート、スプレーコート、ロールコート等の周知の方法により塗布することが可能である。
【0021】
次に、本発明の保護層について説明する。本発明における保護層は、光重合性感光層が、酸素による重合禁止作用を受けるのを防止するために、酸素遮断層として設けるものである。本発明の保護層は、少なくとも(ア)ポリビニルアルコール及び/又はポリビニルアルコール誘導体と、(イ)重量平均分子量が、20,000〜500,000であるポリビニルピロリドン及び/又はビニルピロリドン単位を50mol%以上含有し、重量平均分子量が10,000〜400,000であるビニルピロリドン系共重合体とを含有し、成分(ア)と成分(イ)の合計に対する成分(ア)の割合が25〜75重量%であることが特徴である。
【0022】
成分(ア)のポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをアルカリ、酸、アンモニア水などでケン化することにより得ることができる。本発明におけるポリビニルアルコールの重量平均分子量としては、4,000〜100,000が好ましく、より好ましくは10,000〜50,000である。重量平均分子量が、4,000以下では、膜強度が弱く保護層の耐スクラッチ性が悪くなる傾向があり、100,000以上では、現像性が悪くなる傾向がある。また、ポリビニルアルコールのケン化度としては、75〜99mol%であることが好ましく、より好ましくは85〜95mol%である。ケン化度が75mol%より小あるいは99mol%より大では、水あるいはアルカリ水への溶解性が劣り、現像性が悪くなる傾向がある。また、重量平均分子量、ケン化度が上記範囲内であり、水あるいはこれと水混和性有機溶媒との混合物に可溶なポリビニルアルコールの誘導体も使用することができる。そのような誘導体の例としては、例えばポリビニルアルコールを部分的にアセタール化したもの、4級アンモニウム塩によりカチオン変性した変性ポリビニルアルコール、あるいはスルホン酸ソーダ等によりアニオン変性した変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。また、上記ポリビニルアルコールおよびその誘導体を1種またはそれ以上を組み合わせて用いることもできる。また、保護層中の成分(ア)と成分(イ)の合計に対する成分(ア)の割合は、25〜75重量%である必要があり、好ましくは30〜70重量%、更に好ましくは35〜65重量%である。25重量%より小では感度低下が生じ好ましくなく、75重量%より大では、光重合性感光層との接着性が悪く保護層の耐スクラッチ性が悪くなり、好ましくない。
【0023】
本発明におけるポリビニルピロリドンの重量平均分子量は、20,000〜500,000の範囲であることが必要であり、好ましくは30,000〜250,000である。20,000より小では、膜強度が弱く保護層の耐スクラッチ性が悪くなり好ましくなく、500,000より大では、現像性および保護層の耐スクラッチ性が悪くなり好ましくない。ポリビニルピロリドンは、N−ビニル−2−ピロリドンを通常のラジカル重合法により重合することにより製造することができる。代表的な製造法としては、N−ビニル−2−ピロリドンを水溶液とし、少量のアンモニアの存在下で過酸化水素触媒を用いて重合する方法がある。また本発明においては、共重合成分としてビニルピロリドンを50mol%以上含有するビニルピロリドン共重合体も好適に使用し得る。このビニルピロリドン共重合体は、通常のラジカル重合法により製造することができる。共重合成分としては、種々のものが使用し得るが、特に酢酸ビニルが好ましい。また、このビニルピロリドン共重合体の重量平均分子量は、10,000〜400,000であることが必要であり、好ましくは、30,000〜250,000である。10,000より小では、膜強度が弱く保護層の耐スクラッチ性が悪くなり好ましくなく、400,000より大では、現像性および保護層の耐スクラッチ性が悪くなり好ましくない。また、上記ポリビニルピロリドンおよびビニルピロリドン共重合体は1種またはそれ以上組み合わせて用いることもできる。
【0024】
本発明における保護層の被覆量は、1g/m2 〜10g/m2 であることが好ましい。より好ましくは2g/m2 〜7g/m2 である。1g/m2 以下では光重合性感光材料の感度が低くなり、また、保護層の耐スクラッチ性も悪くなるので好ましくなく、10g/m2 以上では現像性が悪くなり好ましくない。
本発明の保護層は、水またはこれと水混和性有機溶剤との混合溶媒に溶解して、支持体上に塗布、乾燥して塗設される。塗布方法としては、光重合性感光層同様の周知の方法により塗布することが可能である。
【0025】
本発明の保護層は前記の各構成成分の他に、それの使用目的に応じて、更に他の物質を添加混合することができる。例えばポリエチレンオキサイド、セルロース誘導体等の水溶性高分子;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等のノニオン性界面活性剤;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアニオン性界面活性剤;ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド等のカチオン性界面活性剤;その他色素、可塑剤等を目的に応じて添加することができる。以上述べた各種添加剤の好ましい含有量は、保護層中の10重量%以下、より好ましくは5重量%以下である。
【0026】
また、本発明の光重合性感光材料の支持体としては、プラスチック、紙、金属等が挙げられるが、これらの内感光性平版印刷版として使用する場合は、アルミニウム支持体が好適に使用し得る。
このアルミニウム支持体の表面は、保水性を高め、感光層との密着性を向上させる目的で粗面化処理されていることが望ましい。粗面化方法としては、一般に公知のブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等の方法およびこれらの組み合わせが挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチングおよび液体ホーニングが挙げられ、これらのうちで特に、ブラシ研磨法および電解エッチングによる粗面化方法が好ましい。粗面化処理されたアルミニウム支持体は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット処理された後、陽極酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸またはリン酸を含む浴で処理する方法があげられる。また、さらに必要に応じて、ケイ酸アルカリや熱水による処理、その他水溶性高分子や弗化ジルコニウム酸カリウム水溶液への浸漬などによる表面処理を行うこともできる。
【0027】
本発明の光重合性感光材料に適用し得る露光光源としては、特に限定されないが例えば、カーボンアーク、高圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリウムカドミウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、ヘリウムネオンレーザー等が特に好適に使用し得る。レーザー直接製版用光源としては、アルゴンイオンレーザー、YAGレーザーが特に好ましい。又、自動搬送機構を有するレーザー露光装置が好適に使用される。
【0028】
本発明の光重合性感光材料は、かかる光源にて画像露光を行った後、例えば、界面活性剤とアルカリを含有する水溶液を用いて現像すれば支持体上に画像を形成することができる。この水溶液には、さらに有機溶剤、緩衝剤、染料または顔料を含有することができる。適当なアルカリ剤としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第3リン酸ナトリウム、第2リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等の無機アルカリ剤およびトリメチルアミン、ジエチルアミン、モノイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機アミン化合物が挙げられ、これらは単独もしくは組み合わせて使用できる。界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤;アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤;アルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能である。また、有機溶剤としては例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等必要により含有させることができる。
【0029】
【実施例】
以下、本発明を実施例および比較例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限りこれら実施例によって限定されるものでない。
【0030】
実施例1〜8および比較例1〜8
下記光重合性組成物塗布液−1を砂目立て後陽極酸化処理したアルミニウム支持体上にホワラーを用いて乾燥膜厚2g/m2 となるように塗布、乾燥した。さらにこの上に、表−1に示す成分の保護層塗布液をホワラーを用いて乾燥膜厚5g/m2 となるように塗布、乾燥し、感光性平版印刷版を作製した。得られた感光性平版印刷版について、以下の項目について評価した。その結果を表−1及び表−2に示す。
【0031】
【表1】
光重合性感光層塗布液−1
トリメチロールプロパントリアクリレート 50部
高分子結合剤(イソブチルメタクリレート/イソブチルアクリ 50部
レート/メチルメタクリレート/メタクリル酸=40/10/
35/15mol比の共重合体、重量平均分子量:10万)
下記構造式(S−1)の化合物 1.5部
2,2′−ビス(o−クロルフェニル)−4,4′,5,5′ 13部
−テトラ(p−カルボエトキシフェニル)ビイミダゾール
2−メルカプトベンゾチアゾール 10部
ビクトリアピュアブルーBOH(保土ヶ谷工業製) 0.5部
メチルエチルケトン 90部
S−1
【0032】
【化1】
【0033】
〈初期感度〉
感光性平版印刷版を回折分光照射装置(ナルミ社製、RM−23)を用い露光した後、水酸化カリウム20wt%、ケイ酸カリウム75wt%、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム(商品名;ペレックスNBL:花王(株)製)5wt%を含む現像液原液を水で5倍希釈した現像液で現像を行い、得られた硬化画像の高さより、波長488nmの光線による光硬化に要する光エネルギー量を求めた。
【0034】
〈保存安定性〉
感光性平版印刷版を55℃、相対湿度0%に調節した恒温恒湿器内に1週間保存し、初期感度と同様な方法により感度を測定し、感度の保持率を測定した。なお、実施例および比較例において用いられる感度保持率(%)は、次式により算出された値を示している。
【0035】
【数1】
【0036】
また、現像性の劣化度を比較するため、前記現像原液を水で5倍希釈した現像液で現像し、現像インキ(商品名;SPO−1:コニカ(株)製)でインク盛りして、非画線部の汚れ具合を評価した。評価基準は、次の通りである。
5:全く汚れず
4:ほんのわずかな汚れ
3:わずかな汚れ
2:汚れ顕著
1:非画線部全面にインクがのる
【0037】
〈鉛筆引っかき試験〉
鉛筆引っかき試験機(丸菱科学機械製作所(株)製)にて、硬度3Hの鉛筆で300gグラムの荷重をかけて、保護層の上から、感光性平版印刷版を引っかき、その時の保護層のやられ具合を評価した。評価基準は次の通りである。
5:全く保護層表面にやられは見られない
4:保護層表面に跡がつくが剥離はしていない
3:わずか保護層が剥離している
2:保護層が剥離が顕著
1:保護層が完全に剥離
【0038】
〈現像許容性〉
感光性平版印刷版の半分を黒紙にして遮光し,その上50cmから500Wキセノンランプ(ウシオ電機(株)製UXL−500D−O)よりガラスフィルター(東芝ガラス(株)製Y−47とKL−49)を通して得られる480〜490nmの光を1分間照射した後、前記の現像液原液を水で希釈する現像液希釈倍率を変化させ感光性平版印刷版を現像し、現像インキSPO−1(コニカ(株)製)でインク盛りをする。この時にベタ部に完全にインクがのり、かつ非画線部がインクで汚れない現像液の希釈倍率の許容範囲を測定した。
【0039】
【表2】
【0040】
【表3】
【0041】
尚、表−1及び表−2中で保護層成分はそれぞれ以下のものを表す。
【0042】
【表4】
▲1▼ゴーセノールGL−03(日本合成化学工業(株)製):重量平均分子量
17,200
▲2▼ゴーセノールGL−05(日本合成化学工業(株)製):重量平均分子量
29,400
▲3▼ポリビニルピロリドンK30(東京化成工業(株)製):重量平均分子量
40,000
▲4▼ポリビニルピロリドンK60(東京化成工業(株)製):重量平均分子量
220,000
▲5▼ポリビニルピロリドン(70mol%)−ビニルアセテート(30mol%)共重合体:重量平均分子量 50,000
▲6▼ポリビニルピロリドンK15(東京化成工業(株)製):重量平均分子量
10,000
▲7▼ポリビニルピロリドンK90(東京化成工業(株)製):重量平均分子量
630,000
▲8▼カルボキシメチルセルロースCMCダイセル1201(ダイセル化学工業(株)製)
又、表−2中で−※は、現像不可能であったことを示す。
【0043】
実施例9〜12および比較例9〜12
実施例3および比較例1において、保護層の被覆量を表−3のように変化させて、上記と同様な評価を行った。結果を表−3に示す。
【0044】
【表5】
【0045】
実施例13,14および比較例13
光重合性感光層塗布液の高分子結合剤および保護層成分、保護層被覆量を表−4に示したものにして、以下の評価を行った。結果を表−4に示す。
【0046】
〈水に対する触角〉
現像許容性の測定と同様な方法で露光を行い、前記の現像液原液を水で5倍希釈した現像液で現像を行い、得られたベタ部の水に対する接触角を測定する。この値が大きいほど画像部の感脂性が高い、すなわちインク着肉性が優れることを意味する。
【0047】
〈ガム除去性および耐刷力〉
前述の実施例および比較例と同様にして作製された感光性平版印刷版を75mW空冷アルゴンイオンレーザーで100μJ/cm2 の露光量で走査露光し、前記の現像液原液を水で5倍希釈した現像液で現像したのち、ウォッシュガムSQW−3(コニカ(株)製)でガム引きをした。その印刷版を“ハイデルベルグGTO”印刷機にて印刷し、印刷物のインク濃度が一定になるまでの印刷枚数(ガム除去性)、耐刷力、非画線部の汚れを評価した。
【0048】
〈鉛筆引っかき試験〉
前述の実施例および比較例と同様に評価した。
【0049】
【表6】
【0050】
【発明の効果】
表−1〜4の結果から明らかなように、本発明の光重合性感光材料は、感度、現像性、耐オーバーコートスクラッチ性、保存安定性、インク着肉性、耐刷力等の諸性能について均衡しかつ優れている。
Claims (8)
- 支持体上に、(A)エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する付加重合可能な化合物、(B)活性光線によって活性化される光重合開始剤及び(C)共重合成分として(メタ)アクリル酸を含む高分子結合剤を含有してなる光重合性感光層及び、さらにその上に保護層を有する光重合性感光材料において、該保護層が、少なくとも(ア)重量平均分子量が4,000〜100,000であるポリビニルアルコール及び/又は重量平均分子量が4,000〜100,000であるポリビニルアルコール誘導体と、(イ)重量平均分子量が20,000〜500,000であるポリビニルピロリドン及び/又は共重合成分としてビニルピロリドンを50mol%以上含有し重量平均分子量が10,000〜400,000であるビニルピロリドン系共重合体とを含有し、成分(ア)と成分(イ)の合計に対する成分(ア)の割合が25〜75重量%であることを特徴とする光重合性感光材料。
- 光重合性感光層の水に対する接触角が60°以上であることを特徴とする請求項1に記載の光重合性感光材料。
- 高分子結合剤が、共重合成分として(メタ)アクリル酸を2〜30mol%含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の光重合性感光材料。
- 保護層の被覆層が1g/m2〜10g/m2であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光重合性感光材料。
- 保護層の被覆層が2g/m2〜7g/m2であることを特徴とする請求項4に記載の光重合性感光材料。
- 光重合開始剤が、可視領域の光線に吸収をもつ増感剤およびヘキサアリールビイミダゾール系化合物を含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光重合性感光材料。
- 光重合開始剤が、可視領域の光線に吸収をもつ増感剤およびチタノセン系化合物を含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光重合性感光材料。
- 保護層が、少なくともポリビニルアルコール及び/又はポリビニルアルコール誘導体と、重量平均分子量が30,000〜250,000であるポリビニルピロリドンとを含有する請求項1乃至7のいずれかに記載の光重合性感光材料。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09379595A JP3717000B2 (ja) | 1995-04-19 | 1995-04-19 | 光重合性感光材料 |
EP96106125A EP0738929A3 (en) | 1995-04-19 | 1996-04-18 | Light-curing and photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09379595A JP3717000B2 (ja) | 1995-04-19 | 1995-04-19 | 光重合性感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08286379A JPH08286379A (ja) | 1996-11-01 |
JP3717000B2 true JP3717000B2 (ja) | 2005-11-16 |
Family
ID=14092361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP09379595A Expired - Fee Related JP3717000B2 (ja) | 1995-04-19 | 1995-04-19 | 光重合性感光材料 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0738929A3 (ja) |
JP (1) | JP3717000B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6004570A (en) * | 1998-04-17 | 1999-12-21 | Rohm And Haas Company | Dithiocarbamate fungicide compositions with improved properties |
EP0962829B1 (en) * | 1998-06-05 | 2003-04-23 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Protective layer for color proofs |
JP2002139843A (ja) * | 2000-11-06 | 2002-05-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | 光重合性画像形成材料及び画像形成方法 |
JP2003066593A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-03-05 | Konica Corp | 平版印刷版の作製方法 |
JP2003098674A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性平版印刷版 |
EP1668418A1 (en) * | 2003-09-22 | 2006-06-14 | Agfa-Gevaert | Photopolymer printing plate precursor |
CN1981239B (zh) * | 2004-05-06 | 2011-01-26 | 爱克发印艺公司 | 感光聚合物印刷版前体 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3905815A (en) * | 1971-12-17 | 1975-09-16 | Minnesota Mining & Mfg | Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer |
US4072527A (en) * | 1972-09-27 | 1978-02-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Oxygen barrier layers for photopolymerizable elements |
JPS59211045A (ja) * | 1983-05-17 | 1984-11-29 | Toshiba Corp | ポジ型フォトレジストの露光方法 |
JPH0485580A (ja) * | 1990-07-30 | 1992-03-18 | Fujitsu Ltd | ホログラム記録担体及びホログラムの形成方法 |
US5190805A (en) * | 1991-09-20 | 1993-03-02 | Arkwright Incorporated | Annotatable ink jet recording media |
US5418206A (en) * | 1991-10-22 | 1995-05-23 | International Paper Company | High gloss, abrasion resistant, thermosensitive recording element |
-
1995
- 1995-04-19 JP JP09379595A patent/JP3717000B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-04-18 EP EP96106125A patent/EP0738929A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0738929A2 (en) | 1996-10-23 |
EP0738929A3 (en) | 1997-10-01 |
JPH08286379A (ja) | 1996-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2655349B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
US5800965A (en) | Photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate employing it | |
JPS6053300B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP3717000B2 (ja) | 光重合性感光材料 | |
JP2001075279A (ja) | 平版印刷版用原版 | |
JP3279035B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光材料 | |
JP3275439B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JP4065358B2 (ja) | 光重合性組成物、画像形成材料及び感光性平版印刷版 | |
JPH11311862A (ja) | 光重合性感光材料 | |
JP3753292B2 (ja) | 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 | |
JPH0862838A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP2003107718A (ja) | 光重合性画像記録材料 | |
JP3376912B2 (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
JP3746624B2 (ja) | 光重合性組成物、画像形成材料及び感光性平版印刷版 | |
JP2002351071A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH07333847A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP3556736B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH10195118A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP2003233172A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JP2001305741A (ja) | 感光性画像記録材料 | |
JP2000010291A (ja) | 光重合性感光材料 | |
JP2001159819A (ja) | 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 | |
JPH0950125A (ja) | 光重合性組成物及びこれを用いた感光性平版印刷版 | |
JPH07146547A (ja) | 光重合型感光性平版印刷版の製造方法 | |
JPH10237117A (ja) | 光重合性組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040510 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20050823 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050825 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050822 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080909 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080909 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090909 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100909 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100909 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100909 Year of fee payment: 5 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100909 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110909 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120909 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |