JPH0485580A - ホログラム記録担体及びホログラムの形成方法 - Google Patents
ホログラム記録担体及びホログラムの形成方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
体積位相型ホDグラトを作製するたy)のホ1“1グラ
ノ、記録担体に関[25、 軽量・安価な基板を使用でき、耐環境性等にすぐれて゛
いるホログラムを形成”シることのできるホログラム記
録担体を提供することを目的2゜し2、熱可塑性樹脂か
らなる基板と該基板によ−、て支承された水不溶性ポリ
マーを基材樹脂とする光に対して活性な記、録担体膜と
の中間に、前記水不溶性ポリマーに対して良溶媒として
作用する溶剤に対して実質的に膨潤性を有しない材料か
らなる透明な中間層が介在せしめられているよ・うに構
成″4る。
ノ、記録担体に関[25、 軽量・安価な基板を使用でき、耐環境性等にすぐれて゛
いるホログラムを形成”シることのできるホログラム記
録担体を提供することを目的2゜し2、熱可塑性樹脂か
らなる基板と該基板によ−、て支承された水不溶性ポリ
マーを基材樹脂とする光に対して活性な記、録担体膜と
の中間に、前記水不溶性ポリマーに対して良溶媒として
作用する溶剤に対して実質的に膨潤性を有しない材料か
らなる透明な中間層が介在せしめられているよ・うに構
成″4る。
本発明は体積位相型ホログラノ・の製造方法に関し、さ
らに詳しく述べると、体積位相型ホログラムを作’HV
4るた島のホログラム記録担体、==i’;(、、、て
このようなホログラム記録担体を使用1.7、”C゛体
檀位相型ホログラムを形成する方法1.関4る。7本発
明によると、軽量・安価で割れ15、くいプラスチック
基板を使用できるばかりでなく、耐環境性等1.””、
、 ”q−ぐれでいるホログラムを形成できるので、光
学素子としての応用範囲の著し2い拡大をはかる5″、
とができる。
らに詳しく述べると、体積位相型ホログラムを作’HV
4るた島のホログラム記録担体、==i’;(、、、て
このようなホログラム記録担体を使用1.7、”C゛体
檀位相型ホログラムを形成する方法1.関4る。7本発
明によると、軽量・安価で割れ15、くいプラスチック
基板を使用できるばかりでなく、耐環境性等1.””、
、 ”q−ぐれでいるホログラムを形成できるので、光
学素子としての応用範囲の著し2い拡大をはかる5″、
とができる。
ホ11グラフィーは、レーザー光のような]゛渉外の良
い光を物体に照射し、その光の振幅と位相を物体の形状
に応じて変調させ、反射または透過(7、た光の干渉縞
をホログラノ・とじで記録し、また、そのホログラムに
再び光を照射して元の物体の光学像を再生する新しい写
真技術′Cある。さらに最近では、ホログラムは記録写
真としてだけでなく、種々の光学部品の機能を−・枚の
ホログラム膜に集約できることから、高機能、ニー1シ
パクトな光学部品(HOE ; Holographi
e [)ptical E1en+ent)とじての用
途も拡がりつつある33 ホログラムには、媒体の濃淡により光を回折させるもの
(振幅型)と、光の位相変調によって回折させるもの(
位相型)の2タイプがあるが、振幅型は回折効率が最大
でも4%と低いた?l)、立体デイスプレーや1〜10
F〕には専ら位相型が用いられている。位相型ホログラ
ムも太き(分けで2種類あり、フォトレジストのように
表面の凹凸で光を回折させるもの(凹凸型)と、重クロ
ム酸ゼラチンやポリビニルカルバゾール(PVCz>系
材料のように担体材料内部の屈折率分布によ−、で光を
回折させるもの(屈折率分布型)とがある。前者は、凹
凸を転写した金型を用いて大量の複製が可能であるが、
ホログラムが厚い場合や干渉縞が基板に対して傾いてい
る場合には金型の引き抜きが出来ない。このため、量産
性は良いが応用範囲が限定される。一方、屈折率分布型
は、厚いものや縞が基板にほぼ平行な反射型ホログラム
(リップマン型)へも適用可能であり、応用範囲が広い
。屈折率分布型の材料としては従来より漂白銀塩や重ク
ロl、酸ゼラチン材料が知られていたが、最近、ポリビ
ニルカルバゾール(PVCZ)をベースとする、回折効
率が高く耐湿性、耐熱性、耐光性などの耐環境性のよい
屈折率分布型ホログラム材料が開発されつつあるo P
VCzホログラムの製造方法2−[2ては、■PVCz
マ) IJクス中に反応開始剤や増感色素等を含む感光
性の記録担体膜を形成し、■干渉露光により潜像を形成
した後、■PVCzに対し2て膨潤性を有する第一の溶
媒(良溶媒)に浸漬し2引き上げてから、■PVCzに
対しては貧溶媒として作用しか′)膨潤性溶媒とは相溶
性のある第一。の溶媒(収縮液)に浸漬する方法が知ら
れでいる(特開昭53−15153号公報参照)。また
、本発明者らは、より均一なホログラムを得るべく、低
沸点の良溶媒と高沸点の貧溶媒の混合液で膨潤させてか
ら記録担体を弓き上げ、良溶媒を先に気化させて膜中の
溶剤を貧溶媒化するという、上記工程■及び■を同時に
行う−・液現像プロセスを発明しすでに特許出願した(
特願平1−180585号)。いずれにしろ、貧溶媒化
される際、膜が急速に収縮し、露光部(光が強め合、9
、た部分)と未露光部(光が弱め合。穴部分)とで、屈
折率に差を生じ−でホログラムとなるものであり、この
考え力は、水でゼラチンを膨潤さ1」・てからイソプロ
ピルア)pv−ル(rPA)で貧′溶媒化し、て現像す
るという重クロム酸ゼラチンの考、大刀を踏襲し、、た
ものである。
い光を物体に照射し、その光の振幅と位相を物体の形状
に応じて変調させ、反射または透過(7、た光の干渉縞
をホログラノ・とじで記録し、また、そのホログラムに
再び光を照射して元の物体の光学像を再生する新しい写
真技術′Cある。さらに最近では、ホログラムは記録写
真としてだけでなく、種々の光学部品の機能を−・枚の
ホログラム膜に集約できることから、高機能、ニー1シ
パクトな光学部品(HOE ; Holographi
e [)ptical E1en+ent)とじての用
途も拡がりつつある33 ホログラムには、媒体の濃淡により光を回折させるもの
(振幅型)と、光の位相変調によって回折させるもの(
位相型)の2タイプがあるが、振幅型は回折効率が最大
でも4%と低いた?l)、立体デイスプレーや1〜10
F〕には専ら位相型が用いられている。位相型ホログラ
ムも太き(分けで2種類あり、フォトレジストのように
表面の凹凸で光を回折させるもの(凹凸型)と、重クロ
ム酸ゼラチンやポリビニルカルバゾール(PVCz>系
材料のように担体材料内部の屈折率分布によ−、で光を
回折させるもの(屈折率分布型)とがある。前者は、凹
凸を転写した金型を用いて大量の複製が可能であるが、
ホログラムが厚い場合や干渉縞が基板に対して傾いてい
る場合には金型の引き抜きが出来ない。このため、量産
性は良いが応用範囲が限定される。一方、屈折率分布型
は、厚いものや縞が基板にほぼ平行な反射型ホログラム
(リップマン型)へも適用可能であり、応用範囲が広い
。屈折率分布型の材料としては従来より漂白銀塩や重ク
ロl、酸ゼラチン材料が知られていたが、最近、ポリビ
ニルカルバゾール(PVCZ)をベースとする、回折効
率が高く耐湿性、耐熱性、耐光性などの耐環境性のよい
屈折率分布型ホログラム材料が開発されつつあるo P
VCzホログラムの製造方法2−[2ては、■PVCz
マ) IJクス中に反応開始剤や増感色素等を含む感光
性の記録担体膜を形成し、■干渉露光により潜像を形成
した後、■PVCzに対し2て膨潤性を有する第一の溶
媒(良溶媒)に浸漬し2引き上げてから、■PVCzに
対しては貧溶媒として作用しか′)膨潤性溶媒とは相溶
性のある第一。の溶媒(収縮液)に浸漬する方法が知ら
れでいる(特開昭53−15153号公報参照)。また
、本発明者らは、より均一なホログラムを得るべく、低
沸点の良溶媒と高沸点の貧溶媒の混合液で膨潤させてか
ら記録担体を弓き上げ、良溶媒を先に気化させて膜中の
溶剤を貧溶媒化するという、上記工程■及び■を同時に
行う−・液現像プロセスを発明しすでに特許出願した(
特願平1−180585号)。いずれにしろ、貧溶媒化
される際、膜が急速に収縮し、露光部(光が強め合、9
、た部分)と未露光部(光が弱め合。穴部分)とで、屈
折率に差を生じ−でホログラムとなるものであり、この
考え力は、水でゼラチンを膨潤さ1」・てからイソプロ
ピルア)pv−ル(rPA)で貧′溶媒化し、て現像す
るという重クロム酸ゼラチンの考、大刀を踏襲し、、た
ものである。
〔発明が解決ty Jうとする課題J
ポリビニルカルバゾール(PVC2)系材料は、それを
ホログラム記録材料として用いた場合、十記のようにす
ぐれた効果を奏することができる。し7かし、PVCz
ホログラムは、他力において、軽量・安価で割れにく
いプラスチック基板を使用憚るのが1111 L、いと
いう問題がある。これは、PVCzは疎水性であるから
lり1′lム酸ゼラチンホログラムに比較して耐温性に
優れるが、重クロム酸ゼラチンは水で膨潤処理できるの
に対しPVCzでは廟機、溶剤で膨潤処理する必要があ
るためである。一般に、ポリマーに膨潤性を付与するに
は分子量を高♂〕る必要があり、ホログラムに適用可能
な分子量50万以1−σ)P V C,’ zを膨潤処
理するには、疎水性ポリマー1、′61し7て溶解性の
強い溶剤(トルJ゛/・、キシレ・ンなど)を使用−4
る必要がある1、ホ11グラノ・基板は膨潤処理の際j
、□゛光学的な担像を受(仁ζ、はt冗”)ないが、透
明プラスザック板として通常使用3゛\れζ“いるポリ
メチルメタクリレ−) (P !、l M A )やポ
リス−1′12・パ/′などの多くは、膨潤処理のとき
溶解したり溶剤グ、?ツクが生じT透明性が低下4るた
め、1ハlI”、z ;h oグラト用とし2て使用ひ
きない3、高分子101101)Pやポリニスプル、ポ
リカーボネー・−1・等のなか(、二は膨潤処理で光学
的な担像を受けないものもあるが、ホ11グラト1が現
像できなか1.たり、現像で・き−ごもガラス基板1ご
比較I、て回折効率が極端1.低、いとい′)問題があ
る1、 本発明の目的は、しまたが、バ、軒や・素価な基板を使
用で・・き、耐環境性智に4ぐれで、へいる本口グラl
、を形成するご6とのて゛きるホログラム記録材料を提
供づる5二と、及びこのようなホログラ1.記録担体を
使用1.た体積位相型ホr7グラノ、の形成25法を提
供するこきの2−)にある1、 〔課題を解決するた?lxの手段1 本発明者らは、上記した課題を解決すべく鋭意研究の結
果、プラスチック基板と疎水性ポリチーからなるホログ
ラム記録担体膜との間に、ホログラム記録材料の膨潤処
理に使用する溶媒に対し、2”と不溶な材料からなる中
間膜を形成することで、軽量・安価な基板を使用でき、
耐環境性にも優れる屈折率゛分布型ホログラムを提供で
きることを見い出した。
ホログラム記録材料として用いた場合、十記のようにす
ぐれた効果を奏することができる。し7かし、PVCz
ホログラムは、他力において、軽量・安価で割れにく
いプラスチック基板を使用憚るのが1111 L、いと
いう問題がある。これは、PVCzは疎水性であるから
lり1′lム酸ゼラチンホログラムに比較して耐温性に
優れるが、重クロム酸ゼラチンは水で膨潤処理できるの
に対しPVCzでは廟機、溶剤で膨潤処理する必要があ
るためである。一般に、ポリマーに膨潤性を付与するに
は分子量を高♂〕る必要があり、ホログラムに適用可能
な分子量50万以1−σ)P V C,’ zを膨潤処
理するには、疎水性ポリマー1、′61し7て溶解性の
強い溶剤(トルJ゛/・、キシレ・ンなど)を使用−4
る必要がある1、ホ11グラノ・基板は膨潤処理の際j
、□゛光学的な担像を受(仁ζ、はt冗”)ないが、透
明プラスザック板として通常使用3゛\れζ“いるポリ
メチルメタクリレ−) (P !、l M A )やポ
リス−1′12・パ/′などの多くは、膨潤処理のとき
溶解したり溶剤グ、?ツクが生じT透明性が低下4るた
め、1ハlI”、z ;h oグラト用とし2て使用ひ
きない3、高分子101101)Pやポリニスプル、ポ
リカーボネー・−1・等のなか(、二は膨潤処理で光学
的な担像を受けないものもあるが、ホ11グラト1が現
像できなか1.たり、現像で・き−ごもガラス基板1ご
比較I、て回折効率が極端1.低、いとい′)問題があ
る1、 本発明の目的は、しまたが、バ、軒や・素価な基板を使
用で・・き、耐環境性智に4ぐれで、へいる本口グラl
、を形成するご6とのて゛きるホログラム記録材料を提
供づる5二と、及びこのようなホログラ1.記録担体を
使用1.た体積位相型ホr7グラノ、の形成25法を提
供するこきの2−)にある1、 〔課題を解決するた?lxの手段1 本発明者らは、上記した課題を解決すべく鋭意研究の結
果、プラスチック基板と疎水性ポリチーからなるホログ
ラム記録担体膜との間に、ホログラム記録材料の膨潤処
理に使用する溶媒に対し、2”と不溶な材料からなる中
間膜を形成することで、軽量・安価な基板を使用でき、
耐環境性にも優れる屈折率゛分布型ホログラムを提供で
きることを見い出した。
本発明は、七の1つの面において、体積位相型ホログラ
ムを作製するたtのホログラム記録担体であって、熱可
塑性樹脂からなる基板と該基板によって支承された水不
溶性ポリマーを基材樹脂とする光に対して活性な記録担
体膜との中間に、前記水不溶性ポリマーに対して良溶媒
としてイり用する溶剤に対し2て実質的に膨潤性を有し
ない材料からなる透明な中間層が介在せしめられている
ことを特徴とするホログラム記録材料にある。
ムを作製するたtのホログラム記録担体であって、熱可
塑性樹脂からなる基板と該基板によって支承された水不
溶性ポリマーを基材樹脂とする光に対して活性な記録担
体膜との中間に、前記水不溶性ポリマーに対して良溶媒
としてイり用する溶剤に対し2て実質的に膨潤性を有し
ない材料からなる透明な中間層が介在せしめられている
ことを特徴とするホログラム記録材料にある。
本発明によるホログラム記録担体において、基板とし7
て用いられる熱可塑性樹脂は、それがホログラノの形成
に悪影響を及ぼさない限り、・イメージングの分野等で
基板とし2て一般的に゛用い・られt”いるものである
ことができる。適当な熱i、i’]塑性樹脂とし578
、例えば、ポリアクリレ・−暑・(ポリメタクリレート
を含む)、例ズばP M M Aなど、ポリス・fL/
ン、ポリコニステル、ポリカーボネート・、その他をあ
げることができる。基板のりさもff意1.″変史可能
である。
て用いられる熱可塑性樹脂は、それがホログラノの形成
に悪影響を及ぼさない限り、・イメージングの分野等で
基板とし2て一般的に゛用い・られt”いるものである
ことができる。適当な熱i、i’]塑性樹脂とし578
、例えば、ポリアクリレ・−暑・(ポリメタクリレート
を含む)、例ズばP M M Aなど、ポリス・fL/
ン、ポリコニステル、ポリカーボネート・、その他をあ
げることができる。基板のりさもff意1.″変史可能
である。
基板の表面に施されるべき中間層は−7その基板に塗礼
等i:: Jって適用口」能な種々の材料から橋成する
ことができる。適当な中間層材料とt、、、i−(:’
、例えば、酸化珪素(S102)、酸化インジウノ・、
酸化鉛、弗化マグネシウムといった透明な無機物、ポリ
ビニルアノIど〕−・ル(P〜[八〉やポリビニルヒo
r) yン(PVP) 、、カルボキシメチルセルロ
ース((で札)などの水溶性ポリ7−1七の他がある。
等i:: Jって適用口」能な種々の材料から橋成する
ことができる。適当な中間層材料とt、、、i−(:’
、例えば、酸化珪素(S102)、酸化インジウノ・、
酸化鉛、弗化マグネシウムといった透明な無機物、ポリ
ビニルアノIど〕−・ル(P〜[八〉やポリビニルヒo
r) yン(PVP) 、、カルボキシメチルセルロ
ース((で札)などの水溶性ポリ7−1七の他がある。
1
無機材利中間層の形成力法としマは、蒸析Hバ)スパッ
タ法とい、た真空中で行うh法もあるが、コ℃フイダル
シリ力やコロイダルフッ化マグネシウムとい3.た無機
超微粒子の分散液をスピンr −1・やデイツプコート
法で形成する方法は安価で製造性が良いので好適な方法
である3、コロイドを塗布する場合、コロイド粒子を結
着する目的で分散液中にガラスレジン((CH3) 4
−3l (DH)。、n ” 1〜4、の混合物)を混
合すると良い。なお、ガラスレジンはそれ自体でも中間
層となり得る。
タ法とい、た真空中で行うh法もあるが、コ℃フイダル
シリ力やコロイダルフッ化マグネシウムとい3.た無機
超微粒子の分散液をスピンr −1・やデイツプコート
法で形成する方法は安価で製造性が良いので好適な方法
である3、コロイドを塗布する場合、コロイド粒子を結
着する目的で分散液中にガラスレジン((CH3) 4
−3l (DH)。、n ” 1〜4、の混合物)を混
合すると良い。なお、ガラスレジンはそれ自体でも中間
層となり得る。
PCA −!’PVP 、 CFは、それ自体テ塗布可
能な中間層材料になり得るか−・般にこれらの水溶性ポ
リマーは基板やホログラム材料に対する接着性が劣る。
能な中間層材料になり得るか−・般にこれらの水溶性ポ
リマーは基板やホログラム材料に対する接着性が劣る。
これら水溶性ポリマー・に、ラジカル重合可能な、例え
ば多官能アクリレートを分散することで、基板やホログ
ラム層との接着性に優れる中間層を形成できる。なお多
官能アクリレート等は網目状に架橋すると有機溶剤に対
して膨潤しにくくなるので多官能化合物のみの重合物も
中間層として使用できる。
ば多官能アクリレートを分散することで、基板やホログ
ラム層との接着性に優れる中間層を形成できる。なお多
官能アクリレート等は網目状に架橋すると有機溶剤に対
して膨潤しにくくなるので多官能化合物のみの重合物も
中間層として使用できる。
中間層の膜厚は任意に変更可能であり、但し、プラスチ
ック基板への膨潤処理液の浸入に対するバリヤーとして
の効果が得られれば4・分でありかつ光学的特性の低ド
を防止する面からも、ことさら厚くする必要はない。本
発明者らの知見から、中間層の膜厚は約0.1〜10−
であることが好」しい。
ック基板への膨潤処理液の浸入に対するバリヤーとして
の効果が得られれば4・分でありかつ光学的特性の低ド
を防止する面からも、ことさら厚くする必要はない。本
発明者らの知見から、中間層の膜厚は約0.1〜10−
であることが好」しい。
また、基材樹脂として用いられる水不溶性ポリマーは、
この技術分野において−・般的に用いられているもの、
例えば特開昭53−45153号公報に記載される各種
の水不溶性ポリマーのなかから任意に選択し2て使用す
ることができる。このような水不溶性ポリマーとしては
、なかんずく、繰り返し単位としてカルバゾール環を含
むものが、高い回折効率を期待できるので好ましい。こ
のようなポリマーとしては、例えば、ポリビニルカルバ
ゾールの他に、ビニルカルバゾール−スチレン共重合体
、ビニルカルバゾール−塩化ビニリデン共重合体、ビニ
ルカルバゾール−アクリレート共重合体、ビニル力ルバ
ゾールービ;ルビリジン共重合体、ハロゲン置換ポリビ
ニルカルバゾール、ニトロ化ポリビニルカルバゾールな
どをあげるごとができる。
この技術分野において−・般的に用いられているもの、
例えば特開昭53−45153号公報に記載される各種
の水不溶性ポリマーのなかから任意に選択し2て使用す
ることができる。このような水不溶性ポリマーとしては
、なかんずく、繰り返し単位としてカルバゾール環を含
むものが、高い回折効率を期待できるので好ましい。こ
のようなポリマーとしては、例えば、ポリビニルカルバ
ゾールの他に、ビニルカルバゾール−スチレン共重合体
、ビニルカルバゾール−塩化ビニリデン共重合体、ビニ
ルカルバゾール−アクリレート共重合体、ビニル力ルバ
ゾールービ;ルビリジン共重合体、ハロゲン置換ポリビ
ニルカルバゾール、ニトロ化ポリビニルカルバゾールな
どをあげるごとができる。
これらのポリマーの分子量は、少なくとも10万以上、
好ましくは50万以上が必要である。また、これらのポ
リマーに膜質改善のたl)他のボ1.l−J +−を添
加することもできる。これらのポリマーは、もちろん、
単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用しても
よい。
好ましくは50万以上が必要である。また、これらのポ
リマーに膜質改善のたl)他のボ1.l−J +−を添
加することもできる。これらのポリマーは、もちろん、
単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用しても
よい。
また、ポリマーだけでは、一般にレーザー光に対して感
光性を有しないかもし、くは有しているとしても極狛で
小さいた杓、反応開始剤や増感色素などの添加剤が必要
である。反応開始剤としては、ベンゾフェノンやジェト
キシアセトフェノンなどのケトン類;1.1’ ・4,
4′テトラ(t−プチルパーメキシ力ルボ;ル)ベンゾ
フェノン(BTTB)、t−ブチルパーオキシアセテー
ト、ジ−t−ブチルシバ−オキシイソフタレート、2.
2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、2.5−ジ
メチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサノ
、t−ブチルハイドロバーオキづイド、メチルエチルケ
トンパーオキサイドなどの有機過酸化物;アゾキンスチ
レン、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物;
ヨードホルム、四状化炭素、四臭化炭素などの多ハロゲ
ン化合物;アレンtat体、クロロメチルトリアジン、
フェニルクリシンなどが挙げられる。増感色素は、光源
ひあるレーザの発光波長に合わせて適宜選択し、添加さ
れる。適当な光増感色素としては、例えば、今トクマリ
ン系色素、クマリン系色素、チオキシンテン系色素、チ
オピリリウム系色素、クリスタルバイオレットやチオフ
ラビンなどの塩基性染料、チオフバレン系化合物、テト
ラフェニルナフタセンなどの縮合多環芳香族化合物など
が挙げられる。
光性を有しないかもし、くは有しているとしても極狛で
小さいた杓、反応開始剤や増感色素などの添加剤が必要
である。反応開始剤としては、ベンゾフェノンやジェト
キシアセトフェノンなどのケトン類;1.1’ ・4,
4′テトラ(t−プチルパーメキシ力ルボ;ル)ベンゾ
フェノン(BTTB)、t−ブチルパーオキシアセテー
ト、ジ−t−ブチルシバ−オキシイソフタレート、2.
2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、2.5−ジ
メチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサノ
、t−ブチルハイドロバーオキづイド、メチルエチルケ
トンパーオキサイドなどの有機過酸化物;アゾキンスチ
レン、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物;
ヨードホルム、四状化炭素、四臭化炭素などの多ハロゲ
ン化合物;アレンtat体、クロロメチルトリアジン、
フェニルクリシンなどが挙げられる。増感色素は、光源
ひあるレーザの発光波長に合わせて適宜選択し、添加さ
れる。適当な光増感色素としては、例えば、今トクマリ
ン系色素、クマリン系色素、チオキシンテン系色素、チ
オピリリウム系色素、クリスタルバイオレットやチオフ
ラビンなどの塩基性染料、チオフバレン系化合物、テト
ラフェニルナフタセンなどの縮合多環芳香族化合物など
が挙げられる。
また、可視光記録を行う場合、沃素化合物に対してはテ
トラフェニルナフタセンなどの多理芳番族化合物が、有
機過酸化物に対してはチオピリリウム塩が増感色素とし
て好適である。もちろん、これら以外の反応開始剤や増
感色素も適宜使用″4ることができる。反応開始剤と増
感色素の組み合わせは、例えば、「光機能性高分子の合
成と応用(CMC社、R&D Report Nα5
6 p88〜96) Jなどに詳しく記載されており、
これらの組み合わせを適用することができる。
トラフェニルナフタセンなどの多理芳番族化合物が、有
機過酸化物に対してはチオピリリウム塩が増感色素とし
て好適である。もちろん、これら以外の反応開始剤や増
感色素も適宜使用″4ることができる。反応開始剤と増
感色素の組み合わせは、例えば、「光機能性高分子の合
成と応用(CMC社、R&D Report Nα5
6 p88〜96) Jなどに詳しく記載されており、
これらの組み合わせを適用することができる。
上記した記録担体材料は、適宜混合し、溶媒に溶解した
後、デイツプコータ、スピンコータ、口−ルー1−タ゛
、バー・コ〜・−夕などの任意の常用な塗布装置を用い
て中間層よ、に塗布4′る。像2布され六゛豚1は、表
出iが平泗・で均質である必要がある。このJうに1.
”で2、ゲラステック基板と記録担体膜との旧に中間バ
リヤー層を介る−・ゼしめた本発明のホログラム記録お
)体を得る5、とができる。
後、デイツプコータ、スピンコータ、口−ルー1−タ゛
、バー・コ〜・−夕などの任意の常用な塗布装置を用い
て中間層よ、に塗布4′る。像2布され六゛豚1は、表
出iが平泗・で均質である必要がある。このJうに1.
”で2、ゲラステック基板と記録担体膜との旧に中間バ
リヤー層を介る−・ゼしめた本発明のホログラム記録お
)体を得る5、とができる。
本発明は、そのもう1つの而において、体積イ)ン相型
ポl:′lグラノ、を熱可塑性樹脂からなる基板」−1
1、形成する1J当、7□′、 上記ホログラム記録担体、すなわち、熱iHJ塑性樹脂
からなる基板と該基板によっで支承されt:水不溶性ポ
リ“マーを基材樹脂と4る光、に対し、て活性な記録担
体膜との中間に、前記水不溶性ポリマーに対し、て良溶
媒どし2で作用する溶剤に対し5て実質的に膨潤性を有
1.ない材料からなる透明な中間層が介在ぜし?)られ
てなるホログラム記録担体を光の干渉パター・ンオ露出
し7でホI」グラムの潜像を形成(2、イ 11.て゛ 上記の汗うにし5て潜像を示2成された記録担体をその
記録担体の水不溶性ポリマーに対しズ良溶媒と1.、
T’ (’ll用心溶剤を含む膨潤処理液で処理[2で
特鴫イ己潜像を現像する、:、、、 (’−1、を特徴
2する体積位相ハ”1ホ1λグシj・を形成する方法j
、パ沙)る9、 この本発明刃状の実施j、丁当−8,では、J−記のよ
うi:’、’、’、 L、、てホログラム記録拐体を形
成(、た後、ホtlffグラノ・。の潜像を形成−4Z
)だと〕、形成された記録担体の膜4尤の一七渉パター
ンに露出する。露光は、例りば二′光束]−渉露光装置
などを用いで、任意の常用の:j、1法に従って朽うご
とができる。ごの1−渉露光の紀浦、へ11渉パターン
に対応した分子量分布、すなわちポ1−1グラム潜像が
記録担体膜内j、影形成才′jる。( 次に、′、の分子量分布に1.たが−、たホ1λグラノ
、潜像を現像するのであるが、七の前に、ホl1lil
グシノ3、露光の乾板を基材樹脂とし2ての水不溶性ポ
リマー(ご対し、て適度な溶解性を持−7、)溶媒で処
理シ、°ζ−反応開始剤や増感色素等の添加剤を除去す
る(脱色処理)、、この脱色処理」:程で゛脱色液と[
5て使用″4る溶Kcl:1.。7°ては、例えば、ベ
ンゼン、トル3ン、キシレン、りWi’l Dベンゼン
、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、]22〜ジク1
70Jタン、テトラヒドロフラン、アセトン、メグルア
ルーコール、ユチルアルニノール、ブチルアル ルコール、インフL]ヒルアル°ノールナとカh ’)
、単独または混合し2で使用できる。
ポl:′lグラノ、を熱可塑性樹脂からなる基板」−1
1、形成する1J当、7□′、 上記ホログラム記録担体、すなわち、熱iHJ塑性樹脂
からなる基板と該基板によっで支承されt:水不溶性ポ
リ“マーを基材樹脂と4る光、に対し、て活性な記録担
体膜との中間に、前記水不溶性ポリマーに対し、て良溶
媒どし2で作用する溶剤に対し5て実質的に膨潤性を有
1.ない材料からなる透明な中間層が介在ぜし?)られ
てなるホログラム記録担体を光の干渉パター・ンオ露出
し7でホI」グラムの潜像を形成(2、イ 11.て゛ 上記の汗うにし5て潜像を示2成された記録担体をその
記録担体の水不溶性ポリマーに対しズ良溶媒と1.、
T’ (’ll用心溶剤を含む膨潤処理液で処理[2で
特鴫イ己潜像を現像する、:、、、 (’−1、を特徴
2する体積位相ハ”1ホ1λグシj・を形成する方法j
、パ沙)る9、 この本発明刃状の実施j、丁当−8,では、J−記のよ
うi:’、’、’、 L、、てホログラム記録拐体を形
成(、た後、ホtlffグラノ・。の潜像を形成−4Z
)だと〕、形成された記録担体の膜4尤の一七渉パター
ンに露出する。露光は、例りば二′光束]−渉露光装置
などを用いで、任意の常用の:j、1法に従って朽うご
とができる。ごの1−渉露光の紀浦、へ11渉パターン
に対応した分子量分布、すなわちポ1−1グラム潜像が
記録担体膜内j、影形成才′jる。( 次に、′、の分子量分布に1.たが−、たホ1λグラノ
、潜像を現像するのであるが、七の前に、ホl1lil
グシノ3、露光の乾板を基材樹脂とし2ての水不溶性ポ
リマー(ご対し、て適度な溶解性を持−7、)溶媒で処
理シ、°ζ−反応開始剤や増感色素等の添加剤を除去す
る(脱色処理)、、この脱色処理」:程で゛脱色液と[
5て使用″4る溶Kcl:1.。7°ては、例えば、ベ
ンゼン、トル3ン、キシレン、りWi’l Dベンゼン
、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、]22〜ジク1
70Jタン、テトラヒドロフラン、アセトン、メグルア
ルーコール、ユチルアルニノール、ブチルアル ルコール、インフL]ヒルアル°ノールナとカh ’)
、単独または混合し2で使用できる。
現像は、二液現像の場合、2種類の特性の異なる溶剤で
処理しで行う。まず、例えばベンゼン、l・ルユン、キ
シレ・二/、メシチレ・ン゛、クロT.iiベンセ゛ン
、ジクロτ】ベンゼン、クメンなどまたは七の混合物等
の、水不溶性ポリマーを膨潤ゼし2め得る溶解性を持っ
た良溶媒である第1の溶剤ご゛処理1,2膜を膨潤させ
る、、次いで、膨潤後の膜を例,λばべ〉′タン、へ片
ツ・ン、ヘプタン、メクタン、シフD ll”A。
処理しで行う。まず、例えばベンゼン、l・ルユン、キ
シレ・二/、メシチレ・ン゛、クロT.iiベンセ゛ン
、ジクロτ】ベンゼン、クメンなどまたは七の混合物等
の、水不溶性ポリマーを膨潤ゼし2め得る溶解性を持っ
た良溶媒である第1の溶剤ご゛処理1,2膜を膨潤させ
る、、次いで、膨潤後の膜を例,λばべ〉′タン、へ片
ツ・ン、ヘプタン、メクタン、シフD ll”A。
キサン、アセトン、メチルアル」−ル、エザルアル」−
ル、ブチルアル」−ル、フロビルアルニ1−・ル、イソ
ブ工1ピルアルコール、酢酸メチル、!’i酸エチル等
の、水不溶性ボリー〆一の貧溶媒である第2の溶剤で処
理°4ることにより、露光パターンに従った屈払率変化
を発生させる。このような2段・・階現像で位相型のポ
τ,1グラムが形成できる。
ル、ブチルアル」−ル、フロビルアルニ1−・ル、イソ
ブ工1ピルアルコール、酢酸メチル、!’i酸エチル等
の、水不溶性ボリー〆一の貧溶媒である第2の溶剤で処
理°4ることにより、露光パターンに従った屈払率変化
を発生させる。このような2段・・階現像で位相型のポ
τ,1グラムが形成できる。
また、低沸点の良溶媒と高沸点の貧溶媒との混合液を用
いることで一回の処理で現像を完了することもできる(
−液現像)。1なわち、水不溶性ポリマー・に対する良
溶媒と貧溶媒の混合液で露光したポリマーの膜を膨潤さ
せる。膨潤の度合は良溶媒及び貧溶媒の種類や組成比、
溶媒の温度で調整できる。この液で膜の膨潤後、基板を
ゆー.くり引き」、げろ6,良溶媒とじて沸点の低いも
のを用いると、先に良溶媒が気化して貧溶媒が残留し2
、カルバシー・ル環を含む重合体が析畠し2て貧溶媒と
分離する.、!F:の後、貧溶媒が気化した後が空隙と
なってホログラムが形成される。現像液に使用する低沸
点良溶媒とし2ては、例えば、ジクロロメタン、クロロ
ポルム、四塩化炭素、1.2−ジクし’l T’llコ
タン、1.2−・ジク1」戸エチレン、トリクロロゴチ
し・ン、ベン′ゼン、テトラヒドロフラン、テトラヒド
ロフランなどがあり、単独または混合し,″i7使用で
きる。高沸点貧溶媒としては、例えば、ヘプタン、オク
タン、ノナン、デカンなどのバラフィン系炭化水素やゾ
・j−ル)□ル、J−・ル、プI−2ピル、r′ル二1
−ル、イソプY−1ピル〕゛ル:I−ルなとの°〕′ル
1−ル類があり9、これらの溶媒も単独または混合j、
パ゛使用できる。
いることで一回の処理で現像を完了することもできる(
−液現像)。1なわち、水不溶性ポリマー・に対する良
溶媒と貧溶媒の混合液で露光したポリマーの膜を膨潤さ
せる。膨潤の度合は良溶媒及び貧溶媒の種類や組成比、
溶媒の温度で調整できる。この液で膜の膨潤後、基板を
ゆー.くり引き」、げろ6,良溶媒とじて沸点の低いも
のを用いると、先に良溶媒が気化して貧溶媒が残留し2
、カルバシー・ル環を含む重合体が析畠し2て貧溶媒と
分離する.、!F:の後、貧溶媒が気化した後が空隙と
なってホログラムが形成される。現像液に使用する低沸
点良溶媒とし2ては、例えば、ジクロロメタン、クロロ
ポルム、四塩化炭素、1.2−ジクし’l T’llコ
タン、1.2−・ジク1」戸エチレン、トリクロロゴチ
し・ン、ベン′ゼン、テトラヒドロフラン、テトラヒド
ロフランなどがあり、単独または混合し,″i7使用で
きる。高沸点貧溶媒としては、例えば、ヘプタン、オク
タン、ノナン、デカンなどのバラフィン系炭化水素やゾ
・j−ル)□ル、J−・ル、プI−2ピル、r′ル二1
−ル、イソプY−1ピル〕゛ル:I−ルなとの°〕′ル
1−ル類があり9、これらの溶媒も単独または混合j、
パ゛使用できる。
先に述べた脱色処理を現像前に行うのが好′t’;−L
iいが、これを省略j、ハ□゛もホログラノ、は作製ζ
:“きる。
iいが、これを省略j、ハ□゛もホログラノ、は作製ζ
:“きる。
、τ、の場合、光反応聞始剤や増感色素の除去は現像時
に同時に行わtl、るXm、?にな/′10ごこ”コピ
1光反応開始剤や増感色素が脱色処理や現像処理イニ容
v、1、除去されl’、I:ければ透明なホ1−1グフ
ムを拐ることかできない3、 :“作 用〕 従来のポoグラム記録担体゛テ・;そ・の基板(+(、
−(−、、ポリカーボネー トや高分子・量PMMAを
用いた場合、上記したように、膨潤処理で光学的な損傷
を受けないにもかかわらず良好なホ11グラムが得られ
ないが1、その原因は次の、にうに考ジられる:ホDグ
ラノ、記録担体は膨潤状態から一気に貧溶媒化され担体
ポリマーが再沈iI:するが1、゛のとき沈澱粒子・間
に隙間が生じ屈折率が低ド″4る、3隙間の多寡は膨潤
の程度に依存し1、膨潤の程度j、11.露光量に依存
するたy)、干渉露光1:6.上、、”(形成され六潜
像が屈折率分布としハ□現像さt1汐′11、(2かI
、1、貧溶媒化の進行が遅いと−1−分な隙間が形成、
2トれない。
に同時に行わtl、るXm、?にな/′10ごこ”コピ
1光反応開始剤や増感色素が脱色処理や現像処理イニ容
v、1、除去されl’、I:ければ透明なホ1−1グフ
ムを拐ることかできない3、 :“作 用〕 従来のポoグラム記録担体゛テ・;そ・の基板(+(、
−(−、、ポリカーボネー トや高分子・量PMMAを
用いた場合、上記したように、膨潤処理で光学的な損傷
を受けないにもかかわらず良好なホ11グラムが得られ
ないが1、その原因は次の、にうに考ジられる:ホDグ
ラノ、記録担体は膨潤状態から一気に貧溶媒化され担体
ポリマーが再沈iI:するが1、゛のとき沈澱粒子・間
に隙間が生じ屈折率が低ド″4る、3隙間の多寡は膨潤
の程度に依存し1、膨潤の程度j、11.露光量に依存
するたy)、干渉露光1:6.上、、”(形成され六潜
像が屈折率分布としハ□現像さt1汐′11、(2かI
、1、貧溶媒化の進行が遅いと−1−分な隙間が形成、
2トれない。
また、 旦隙肘lが形成され1.・パ後、再度丘溶媒が
進入するコー隙間が潰れ“こj2ま・5.PMMAやポ
リ力・ボネートなぎの熱可塑性ポリマーは膨潤ダ1.理
液j、−よ、て−溶解I、5ないまこ5も膨潤i、、、
、 −C1,、、、t、−うため5.これらを基板と1
.2で用いると基板自体が良溶媒を含んでし。、まう。
進入するコー隙間が潰れ“こj2ま・5.PMMAやポ
リ力・ボネートなぎの熱可塑性ポリマーは膨潤ダ1.理
液j、−よ、て−溶解I、5ないまこ5も膨潤i、、、
、 −C1,、、、t、−うため5.これらを基板と1
.2で用いると基板自体が良溶媒を含んでし。、まう。
このため、担体ポリマーが貧溶媒化される際に基板から
担体ポリマーへR溶媒が滲ろB、1し、ゼ・1体ポリマ
ー・の貧溶媒什を遅らゼたり、−・旦形成された隙間を
潰し、5てし2まう1、ご0)ため、良好なホL1グラ
ムが形成できないものと考えられる。
担体ポリマーへR溶媒が滲ろB、1し、ゼ・1体ポリマ
ー・の貧溶媒什を遅らゼたり、−・旦形成された隙間を
潰し、5てし2まう1、ご0)ため、良好なホL1グラ
ムが形成できないものと考えられる。
本発明は、プラスチック基板とホログラノ、記録担体膜
の間に担体ポリマーを膨潤処理する溶媒によっても実用
4′、膨潤しない梢料からなる中間バリヤー層を形成す
ることにより、プラスチック基板の膨潤を防止し、ホ1
1グラノ・の製造を可能なら[。
の間に担体ポリマーを膨潤処理する溶媒によっても実用
4′、膨潤しない梢料からなる中間バリヤー層を形成す
ることにより、プラスチック基板の膨潤を防止し、ホ1
1グラノ・の製造を可能なら[。
めるものである。
以下、本発明にJるホログラム記録担体膜び体積位相型
ホログラノの形成方法をいくつかの実施例を1照しなが
ら説明する、2 実施例1 市tのビスフェノールA型の熱可塑性ポリカーボネート
基板(80X80mn+、厚さ2 mffI) l:、
ポリビニルアルコール(PVA)の3重量%水溶iをス
ビン−:+ −1=法で塗布し乾燥膜厚が約061μの
F’ V A膜を形成I21、た。また、比較に用いる
ため、PVA膜を形成し、ない基板も用意しまた。次に
、1′!!平均分子量が75力゛のpvt″:z7gと
、同分子13力のビスフェノールΔlボリカーボネー・
ト0,2gを、テトラヒドロフランと七ツクC1ロベン
ゼンの等量混合t92gに溶解し、感光剤としてa−・
ドポルム0.7gとテ)・・ラフェ、;\ルナフクセン
0.14gを加えて塗液とし5、スピンフート法で各々
の基板」二に塗布し5て膜厚6與の感光膜を形成しまた
。この感光板を、同一シイドからくる2光東のAr レ
ーザ光(5]、5r++n)により露光量50mJ/c
イで干渉露光し2.2000本/順の透過型ホ11グラ
ムを露光した。次いで、4シレンとイソブX7パノー・
・ルの混合液で感光剤を除去し1(脱色)、風乾した1
1次に、トルエ〉2(]石中量とキシレン80重!%の
混合液で1分間膨潤処理[また後、ペンタンに浸漬し2
て現像しまた。Jの結果、基板、jに1”VA膜−を形
成(2,たもので゛はl(e −N e L・−・ザ再
生で回拓効率80%の良好なホログラノ・が得られたが
、ポリカーボネート基板に直接感光膜を形成したもので
は20%以下の回折効率しか得られなかった。
ホログラノの形成方法をいくつかの実施例を1照しなが
ら説明する、2 実施例1 市tのビスフェノールA型の熱可塑性ポリカーボネート
基板(80X80mn+、厚さ2 mffI) l:、
ポリビニルアルコール(PVA)の3重量%水溶iをス
ビン−:+ −1=法で塗布し乾燥膜厚が約061μの
F’ V A膜を形成I21、た。また、比較に用いる
ため、PVA膜を形成し、ない基板も用意しまた。次に
、1′!!平均分子量が75力゛のpvt″:z7gと
、同分子13力のビスフェノールΔlボリカーボネー・
ト0,2gを、テトラヒドロフランと七ツクC1ロベン
ゼンの等量混合t92gに溶解し、感光剤としてa−・
ドポルム0.7gとテ)・・ラフェ、;\ルナフクセン
0.14gを加えて塗液とし5、スピンフート法で各々
の基板」二に塗布し5て膜厚6與の感光膜を形成しまた
。この感光板を、同一シイドからくる2光東のAr レ
ーザ光(5]、5r++n)により露光量50mJ/c
イで干渉露光し2.2000本/順の透過型ホ11グラ
ムを露光した。次いで、4シレンとイソブX7パノー・
・ルの混合液で感光剤を除去し1(脱色)、風乾した1
1次に、トルエ〉2(]石中量とキシレン80重!%の
混合液で1分間膨潤処理[また後、ペンタンに浸漬し2
て現像しまた。Jの結果、基板、jに1”VA膜−を形
成(2,たもので゛はl(e −N e L・−・ザ再
生で回拓効率80%の良好なホログラノ・が得られたが
、ポリカーボネート基板に直接感光膜を形成したもので
は20%以下の回折効率しか得られなかった。
実施例2 (第1図参照)
分子!10万のポリビー゛−ルビT3リドン3g、)リ
ス(アクリロイルツキシュチル)イソシアヌレ〜)3g
、およびベンゾフェノン0.06gを、水−エタノール
混合液100 gに溶解し2、ポリスチl/ンの板(実
施例1のポリカーボネート・基板と同サイズ)1の両面
に、デイツプコート法で約INl塗布した後、紫外線を
照射し2で膜を硬化させた。中間層2が形成された。引
き続いて、中間層2を形成した基板と形成していない基
板(対照)のそれぞれに前記実施例1と同じ塗液3を第
1図(A)のようにスピンコードして膜厚10g11の
感光膜4を形成したく第1図(B)を参照)。この感光
板を、第1図(C)のように、両サイドからくる2光東
のAr レーザ光(515nm)により露光量50mJ
/cffIで干渉露光し、反射型ホログラムを露光した
。引き続いて、第1図(D)のように、前記実施例1同
様に脱色液5中に浸漬して脱色した。次いで、第1図(
E)のように、ジクロロメタン68重量%、IPA11
重量%、オクタン21重量%からなる現像液6に30秒
間浸漬した後ゆっくり引上げて現像した。
ス(アクリロイルツキシュチル)イソシアヌレ〜)3g
、およびベンゾフェノン0.06gを、水−エタノール
混合液100 gに溶解し2、ポリスチl/ンの板(実
施例1のポリカーボネート・基板と同サイズ)1の両面
に、デイツプコート法で約INl塗布した後、紫外線を
照射し2で膜を硬化させた。中間層2が形成された。引
き続いて、中間層2を形成した基板と形成していない基
板(対照)のそれぞれに前記実施例1と同じ塗液3を第
1図(A)のようにスピンコードして膜厚10g11の
感光膜4を形成したく第1図(B)を参照)。この感光
板を、第1図(C)のように、両サイドからくる2光東
のAr レーザ光(515nm)により露光量50mJ
/cffIで干渉露光し、反射型ホログラムを露光した
。引き続いて、第1図(D)のように、前記実施例1同
様に脱色液5中に浸漬して脱色した。次いで、第1図(
E)のように、ジクロロメタン68重量%、IPA11
重量%、オクタン21重量%からなる現像液6に30秒
間浸漬した後ゆっくり引上げて現像した。
第1図(F)のように、ホログラム膜7が得られた。こ
こで、中間膜を形成した基板ではピーク波長において回
折効率90%の反射型ホログラムが得られたが、ポリス
チレン基板に直接感光膜を形成したものではホログラム
が作製できなかった。
こで、中間膜を形成した基板ではピーク波長において回
折効率90%の反射型ホログラムが得られたが、ポリス
チレン基板に直接感光膜を形成したものではホログラム
が作製できなかった。
実施例3
メタノ°−ルにC1L5I(叶)3とSi(叶)、を1
;2の比で溶解し、実施例1のポリカーボネート板に浸
漬塗布後100℃で2時間加熱処理して、厚さ0.2脚
の中間層を形成した。この基板上に実施例2と同様に感
光剤の塗布、露光及び現像を施した。この結果、回折効
率90%の反射型ホログラムが得られた。
;2の比で溶解し、実施例1のポリカーボネート板に浸
漬塗布後100℃で2時間加熱処理して、厚さ0.2脚
の中間層を形成した。この基板上に実施例2と同様に感
光剤の塗布、露光及び現像を施した。この結果、回折効
率90%の反射型ホログラムが得られた。
実施例4
コロイド状弗化マグネシウムと多官能シラノールとを含
むメタノール溶液をポリカーボネート板に浸漬塗布後1
00℃で1時間加熱処理して厚さ0.1i!Inの中間
層を形成した。この基板上に実施例1と同様に感光剤の
塗布、露光及び現像を施した。
むメタノール溶液をポリカーボネート板に浸漬塗布後1
00℃で1時間加熱処理して厚さ0.1i!Inの中間
層を形成した。この基板上に実施例1と同様に感光剤の
塗布、露光及び現像を施した。
この結果、回折効率80%の透過型ホログラムが得られ
た。なお、弗化マグネシウムを含む膜は、基板裏面にも
形成され、この層は屈折率が1.41と低いため反射防
止膜としての効果もあった。
た。なお、弗化マグネシウムを含む膜は、基板裏面にも
形成され、この層は屈折率が1.41と低いため反射防
止膜としての効果もあった。
本発明によれば、光学特性や耐環境性に優れるポリビニ
ルカルバゾールに代表されるような水不溶性の体積位相
ホログラムを、軽量・安価で割れにくいプラスチック基
板上に形成できる。
ルカルバゾールに代表されるような水不溶性の体積位相
ホログラムを、軽量・安価で割れにくいプラスチック基
板上に形成できる。
第1図(A)〜(F)は、それぞれ、本発明によるホロ
グラムの形成方法を順を追って示した断面図である。 図中、1は基板、2は中間層、3は塗液、4は感光膜、
5は脱色液、6は現像液、モして7はポログラム膜であ
る。
グラムの形成方法を順を追って示した断面図である。 図中、1は基板、2は中間層、3は塗液、4は感光膜、
5は脱色液、6は現像液、モして7はポログラム膜であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、体積位相型ホログラムを作製するためのホログラム
記録担体であって、熱可塑性樹脂からなる基板と該基板
によって支承された水不溶性ポリマーを基材樹脂とする
光に対して活性な記録担体膜との中間に、前記水不溶性
ポリマーに対して良溶媒として作用する溶剤に対して実
質的に膨潤性を有しない材料からなる透明な中間層が介
在せしめられていることを特徴とするホログラム記録担
体。 2、前記基材樹脂としての水不溶性ポリマーが繰り返し
単位としてカルバゾール環を含むポリマーであることを
特徴とする請求項1に記載のホログラム記録担体。 3、前記基板を構成する熱可塑性樹脂がポリアクリレー
ト、ポリスチレン、ポリエステル又はポリカーボネート
であることを特徴とする請求項1に記載のホログラム記
録担体。 4、前記中間層を構成する材料が次の珪素化合物の硬化
物又は次の珪素化合物とコロイド状金属酸化物の混合物
: (CH_3)_4_−_nSi(OH)_n(式中のn
は1〜4である)であることを特徴とする請求項1に記
載のホログラム記録担体。 5、前記中間層を構成する材料が、水可溶性ポリマーと
多官能化合物の混合物であることを特徴とする請求項1
に記載のホログラム記録担体。 6、体積位相型ホログラムを熱可塑性樹脂からなる基板
上に形成するに当って、 請求項1に記載のホログラム記録担体を光の干渉パター
ンに露出してホログラムの潜像を形成し、そして 上記のようにして潜像を形成された記録担体をその記録
担体の基材樹脂としての水不溶性ポリマーに対して良溶
媒として作用する溶剤を含む膨潤処理液で処理して前記
潜像を現像すること、を特徴とする体積位相型ホログラ
ムを形成する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19899990A JPH0485580A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | ホログラム記録担体及びホログラムの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19899990A JPH0485580A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | ホログラム記録担体及びホログラムの形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0485580A true JPH0485580A (ja) | 1992-03-18 |
Family
ID=16400419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19899990A Pending JPH0485580A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | ホログラム記録担体及びホログラムの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0485580A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0738929A2 (en) * | 1995-04-19 | 1996-10-23 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable sensitive material |
-
1990
- 1990-07-30 JP JP19899990A patent/JPH0485580A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0738929A2 (en) * | 1995-04-19 | 1996-10-23 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable sensitive material |
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