JP3608949B2 - 基板搬送装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置用ガラス基板のようなＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ：フラットパネルディスプレイ）用基板、フォトマスク用ガラス基板および半導体ウエハなどの各種の基板をその主面に沿った搬送方向に搬送するとともに、搬送方向にほぼ平行な軸線まわりに傾けることができる基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置のようなフラットパネルディスプレイの製造工程においては、基板の表面に対して、エッチング液などの処理液を用いた処理を施すための基板処理装置が用いられる。この種の基板処理装置の中には、処理液が基板上で滞留することがないように、基板を搬送方向にほぼ平行な軸線まわりに傾いた姿勢で搬送しながら、基板の表面に処理液を供給するようにしたものがある。
【０００３】
このような基板処理装置には、通常、ほぼ水平な状態で搬送されてくる基板を傾斜させることのできる基板搬送装置が備えられている。この基板搬送装置の構成例は、たとえば特開平９−１５５３０６号公報に記載されている。
【０００４】
上記公開公報に記載された基板搬送装置は、互いに平行な位置関係で搬送方向に沿って並設された複数本の搬送ローラを有している。この複数本の搬送ローラは、ローラ支持枠に一体的に支持されており、ローラ支持枠に取り付けられたモータなどの駆動手段によって回転駆動されるようになっている。また、ローラ支持枠の搬送方向に沿う一方端縁付近には、エアシリンダのロッドが連結されていて、このロッドを伸縮させることにより、複数本の搬送ローラは、その回転軸が水平方向に伸びた水平状態と搬送方向にほぼ平行な軸線まわりに傾斜した傾斜状態との間で変位されるようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のような基板搬送装置を基板に所定の処理液を供給して基板を処理する処理槽と隣接する位置に配置し、この処理槽に例えば傾斜状態の基板を処理槽に設けられた基板搬入口に向けて搬送する場合には、次のような問題が発生する。すなわち、処理槽内の処理液を含む雰囲気（以下、処理液雰囲気と称す）が基板搬入口から基板搬送装置のモータなどの駆動部に流入し、モータなどの駆動部が故障するという問題が発生する。
【０００６】
また、上記の基板搬送装置を上記のような処理槽内に設ける場合がある。例えば、水平状態で基板を搬送させつつ基板を所定の処理液に浸漬させて処理する浸漬槽と、浸漬槽で処理された基板の姿勢を水平状態から傾斜状態に変更した後、傾斜状態で基板を搬送させつつ基板の表面に向けて所定の処理液を供給する処理槽とを有する基板処理装置においては、基板処理装置を小型化するために、上記の基板搬送装置を処理槽内に設けることがある。このように、処理槽内に基板搬送装置が設けられている場合、処理槽内で基板に供給された処理液によって基板搬送装置の駆動部が故障することを防止する必要がある。
【０００７】
本発明の目的は、上述のような点に鑑み、処理液雰囲気や処理液によりモータなどの駆動源が故障することを防止できる基板搬送装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板に液を供給して基板を処理するための処理槽内において、基板をその主面に沿った搬送方向に搬送するとともに、基板の姿勢を所定の第１姿勢から、この第１姿勢に対して上記搬送方向にほぼ平行な回動軸線まわりに傾いた第２姿勢に変更する基板搬送装置であって、上記処理槽内に設けられ、基板を支持しつつその基板の主面に沿った方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段を上記回動軸線まわりに傾けて、上記搬送手段に支持された基板の姿勢を上記第１姿勢から上記第２姿勢に変更する傾斜手段と、上記処理槽内において、上記回動軸線上に配置され、上記回動軸線まわりに回転駆動される駆動軸と、上記処理槽外に固定配置され、上記駆動軸を駆動するための駆動源と、上記処理槽の内外を貫通して設けられ、上記駆動源による駆動力を上記駆動軸に伝達する第１伝達手段と、上記処理槽内に設けられ、上記駆動軸による駆動力を上記搬送手段に伝達する第２伝達手段と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置である。
【０００９】
この請求項１に係る発明によれば、搬送手段により基板をその主面に沿った方向に搬送することができるとともに、傾斜手段により搬送手段を回動軸線まわりに傾けて搬送手段に支持された基板の姿勢を第１姿勢から第２姿勢に変更することができる。
【００１０】
また、駆動源が処理槽の外部に固定配置されているので、処理槽の内部に存在する液雰囲気や液がモータなどの駆動源に達することがなく、駆動部が故障することを防止できる。
【００１１】
さらに、駆動軸が回動軸線上に配置されているので、傾斜手段によって搬送手段が回動軸まわりに傾けられたときに、駆動軸の配置位置が変位することはない。したがって、搬送手段の傾斜状態にかかわらず第１伝達手段を固定配置できるので、第１伝達手段を貫通させるために処理槽の壁面に設ける貫通孔を長穴等にする必要がなく、貫通孔付近のシール性が向上できる。ゆえに、処理槽の内部に存在する液雰囲気や液に起因してモータなどの駆動源が故障することを確実に防止できる。
【００１２】
またさらに、駆動源を固定配置できるので、搬送手段の回動に応じて駆動源が回動する場合に確保される駆動源回動用の空間が不要となり、基板搬送装置のコンパクト化を図ることができる。
【００１３】
請求項２記載の発明は、請求項１に記載の基板搬送装置において、第１伝達手段は、上記駆動源と連結され、上記搬送方向と直交する軸線まわりに上記駆動源により回転駆動される出力軸と、この出力軸に設けられた出力用ギアと、上記駆動軸に設けられ、上記出力用ギヤと噛合する介在ギアとを有することを特徴とする基板搬送装置である。
【００１４】
この請求項２に係る発明によれば、介在ギアが回動軸線上に配置された駆動軸に設けられているので、傾斜手段により搬送手段が傾けられても、介在ギアの位置が変位することがない。したがって、搬送手段の傾斜状態にかかわらず、駆動源により駆動される出力軸に設けられた出力用ギアと介在ギアとの噛合状態を保つことができて、駆動源による駆動力を搬送手段に確実に伝達することができる。
【００１５】
請求項３記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置において、上記第２伝達手段は、上記搬送方向と直交する軸線まわりに回転駆動される入力軸と、この入力軸に設けられた入力用ギアと、上記駆動軸に設けられ、上記入力用ギヤと噛合する介在ギアとを有することを特徴とする基板搬送装置である。
【００１６】
この請求項３に係る発明によれば、介在ギアが回動軸線上に配置された駆動軸に設けられているので、傾斜手段により搬送手段が傾けられても、介在ギアの位置が変位することがない。したがって、搬送手段の傾斜状態にかかわらず、入力用ギアと介在ギアとの噛合状態を保つことができ、駆動源による駆動力を搬送手段に確実に伝達することができる。
【００１７】
請求項４記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の基板搬送装置において、上記傾斜手段は、シリンダを備えており、上記シリンダは、上記処理槽外に配置されていることを特徴とする基板搬送装置である。
【００１８】
この請求項４に係る発明によれば、シリンダが処理槽の外部に設けられているから、シリンダに液が付着するおそれがなく、シリンダが液による悪影響を受けるおそれがない。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００３０】
図１は、この発明に係る基板搬送装置が適用される基板処理装置の構成を簡略化して示す断面図である。この基板処理装置は、たとえば、液晶表示装置用ガラス基板などの基板Ｓを搬送方向ＴＤに向けて次々と搬送しながら、この基板Ｓの表面にエッチング液を供給することによって、基板Ｓの表面にエッチング処理を施すための装置である。
【００３１】
このような機能を実現するために、この基板処理装置は、搬送方向ＴＤに関して上流側から順に、入口コンベア１、エッチング処理槽２、水洗処理槽３および出口コンベア４を、搬送方向ＴＤに沿って結合して構成されている。入口コンベア１、エッチング処理槽２、水洗処理槽３および出口コンベア４は、いずれも、互いにほぼ平行な位置関係で配列された複数本の搬送ローラ１１，２１，３１，４１を備えている。搬送ローラ１１，２１，３１，４１は、それぞれ、搬送方向ＴＤと直交する方向に延びた軸線まわりに回転して、その上に置かれた基板Ｓを搬送方向ＴＤに沿って搬送することができる。
【００３２】
未処理の基板Ｓは、図示しない基板搬入ロボットによって、入口コンべア１の搬送ローラ１１上に水平姿勢で戦置される。この載置された基板Ｓは、搬送ローラ１１によって水平姿勢を保ったままでエッチング処理槽２に向けて搬送され、エッチング処理槽２に設けられた搬送ローラ２１を含む後述の搬送機構（基板搬送装置）に受け渡される。水平姿勢でエッチング処理槽２内に搬送された基板Ｓは、その姿勢を搬送機構により傾斜姿勢に変更された後、エッチング処理槽２内で搬送ローラ２１によって搬送されつつ処理される。そして、エッチング処理槽２内で搬送ローラ２によって傾斜姿勢で支持された基板Ｓは、その傾斜姿勢を保ったまま水洗処理槽３に搬入され、水洗処理槽３に設けられた搬送ローラ３１を含む搬送機構に受け渡される。次に、基板Ｓは水洗処理槽３内で搬送ローラ３１によって搬送されつつ処理された後、搬送機構によりその姿勢を傾斜姿勢から水平姿勢に変更されて、出口コンベア４の搬送ローラ４１上に払い出される。出口コンベア４に払い出された処理済みの基板Ｓは、図示しない基板搬出ロボットによって搬送ローラ４１上から取り除かれる。
【００３３】
入口コンベア１の搬送ローラ１１は、その回転軸が搬送方向ＴＤと直交する水平方向に延びた状態に設けられており、基板搬入ロボットによって載置された基板Ｓを、水平に支持しつつエッチング処理槽２に向けて搬送する。
【００３４】
エッチング処理槽２には、基板Ｓの上面にエッチング液をスプレーするための上部スプレーノズル２２が備えられている。上部スプレーノズル２２には、エッチング液タンク２４に貯留されたエッチング液が、ポンプ２５によって汲み出され、エッチング液供給管２６を介して供給されている。エッチング供給管２６の途中部には、エア弁２７が介装されており、このエア弁２７を開閉することによって、上部スプレーノズル２２からエッチング液を噴出させたり、その噴出を停止させたりすることができる。
【００３５】
スプレーノズル２２から基板Ｓに供給された後のエッチング液は、エッチング処理槽２の底面に接続された回収配管６１を介して、エッチング液タンク２４に回収されるようになっている。
【００３６】
上記の構成により、エッチング処理槽２内に搬入された基板Ｓの上面に向けてエッチング液を供給して、その上面にエッチング液によるエッチング処理を施すことができる。
【００３７】
また、基板Ｓにエッチング液が供給されている間、搬送ローラ２１は、基板Ｓを搬送方向ＴＤに搬送するために正転されたり、基板Ｓを搬送方向とは逆方向に戻すために逆転されたりしている。これにより、基板Ｓは、エッチング処理槽２内で揺動され、スプレーノズル２２から噴出されるエッチング液を基板Ｓの上面全域にほぼ均一に供給でき、また、搬送路長を長くすることなくエッチング工程に必要十分な処理時間を確保できる。
【００３８】
さらに、基板Ｓにエッチング液が供給されている間、複数本の搬送ローラ２１は、後述する基板搬送機構（基板搬送装置）によって搬送方向ＴＤにほぼ平行な軸線まわりに所定の傾斜角度だけ、たとえば５度から１０度の範囲内で傾斜されるようになっている。これにより、搬送ローラＳ上の基板Ｓが上記傾斜角度だけ傾斜された状態となり、基板Ｓの上面に供給されたエッチング液は基板Ｓの傾斜に沿って流れ落ちるから、基板Ｓの上面にエッチング液が滞留する部分が生じず、基板Ｓの表面全域にほぼ均一な処理を施すことができる。
【００３９】
エッチング処理が施された基板Ｓは、エッチング処理槽２の出口付近に設けられた液切りローラ６２を通過することによって、その表面に付着したエッチング液がある程度除去された後、所定の傾斜角度を保ったまま水洗処理槽３に向けて搬出される。
【００４０】
水洗処理槽３内には、搬送ローラ３１の上方および下方に、それぞれ基板Ｓの上面および下面に純水を供給するための純水用スプレーノズル３２，３３が配設されている。純水用スプレーノズル３２には、純水タンク３４に貯留された純水が、ポンプ３５によって汲み出され、純水供給管３６を介して供給されている。純水供給管３６の途中部には、エア弁３７が介装されており、このエア弁３７を開閉することによって、純水用スプレーノズル３２から純水を吐出させたり、その吐出を停止させたりすることができる。また、純水用スプレーノズル３３には、ポンプ３５によって純水タンク３４から汲み出された純水が、ポンプ３５とエア弁３７との間の純水供給管３６に分岐して結合された分岐管３８を介して供給されている。分岐管３８の途中部には、エア弁３９が介装されており、このエア弁３９を開閉することによって、純水用スプレーノズル３３から純水を吐出させたり、その吐出を停止させたりすることができる。
【００４１】
基板に供給された後の純水は、電磁弁６５および回収配管６６を介して純水タンク３４に回収されるか、電磁弁６７および廃液配管６８を介して廃棄される。具体的には、基板Ｓに対する洗浄処理を開始した当初の期間には、電磁弁６５を閉じ、電磁弁６７を開く。これにより、エッチング液等を多く含んだ純水が廃棄される。その後、一定時間経過後に電磁弁６５を開くとともに、電磁弁６７を閉じる。これにより、基板Ｓの洗浄に用いられた後の純水のうち、比較的清浄なものについては、純水タンク３４に回収することができる。
【００４２】
上記の構成により、エッチング液によって処理された基板Ｓの表面に、純水用スプレーノズル３２，３３から純水を供給することができ、その表面に付着しているエッチング液等を洗い流すことができる。
【００４３】
また、エッチング処理槽２と同様に、基板Ｓに純水が供給されている間は、搬送ローラ３１が交互に正転または反転されて、基板Ｓが水洗処理槽３内で揺動される。これにより、純水用スプレーノズル３２，３３から噴出される純水で基板Ｓの表面全域を隈無く洗浄でき、また、水洗処理槽３の搬送路長を長くすることなく基板Ｓの表面からエッチング液を除去するのに必要十分な処理時間を確保できる。
【００４４】
さらに、基板Ｓに純水が供給されている間、後述する搬送機構（基板搬送装置）が有する搬送ローラ３１は、搬送方向ＴＤにほぼ平行な軸線まわりに、エッチング処理槽２での傾斜角度と同じ所定の傾斜角度だけ傾斜されるようになっている。これにより、搬送ローラＳ上の基板Ｓが水平面に対して所定の傾斜角度だけ傾斜された状態となり、基板Ｓの上面に供給された純水は、基板Ｓ上で滞留することなく基板Ｓの傾斜に沿って流れ落ちるから、基板Ｓの表面に付着しているエッチング液を良好に洗い流すことができる。そして、エッチング液が洗い流された基板Ｓは、搬送機構によりその姿勢を傾斜姿勢から水平姿勢に変更された後、出口コンベア４に向けて払い出される。
【００４５】
出口コンベア４の搬送ローラ４１は、その回転軸が搬送方向ＴＤと直交する水平方向に延びており、水洗処理槽３から搬出されてくる基板Ｓを、水平に支持しつつ搬送方向ＴＤに沿って搬送するようになっている。出口コンベア４の入口付近には、基板Ｓの上面および下面に乾燥エアを吹き付けて基板Ｓの表面の水分を除去する一対のエアナイフ装置４２，４３が配置されている。これらの一対のエアナイフ装置４２，４３には、図外のエア供給源から送り出される乾燥エアが、エア供給配管４４およびエア弁４５を介して供給されるようになっている。エアナイフ装置４２，４３を通過することによって水分が除去された基板Ｓは、上記したように、図示しない基板搬出ロボットによって搬送ローラ４１上から取り除かれる。
【００４６】
図２は、本発明の第１の実施形態を示し、エッチング処理槽２に設けられた搬送ローラ２１を含む搬送機構（基板搬送装置）の構成を上方から見たときの断面図であり、図３は、図２の切断面線Ａ−Ａから見た断面図である。エッチング処理槽２に設けられた搬送機構および水洗処理槽３に設けられた搬送機構は、ほぼ同様な構成であるから、以下では、エッチング処理槽２に備えられた搬送機構７を取り上げて説明する。
【００４７】
搬送機構７は、複数本の搬送ローラ２１を一体的に保持するためのローラ支持枠７１を備えている。ローラ支持枠７１は、搬送方向ＴＤに延びた一対の支持板７２，７３を含む。一対の支持板７２，７３は、搬送方向ＴＤと直交する方向に所定間隔を置いて互いに対向した状態に設けられており、この一対の支持板７２，７３間に、複数本の搬送ローラ２１が回転自在に支持されている。また、一対の支持板７２，７３は、複数の連結板７４によって搬送ローラ２１の下方で連結されている。これら複数本の搬送ローラ２１およびローラ支持枠７１などにより、本発明の搬送手段が構成されている。
【００４８】
図２における左側の支持板７２には、搬送方向ＴＤに対向するエッチング処理槽（処理槽）２の側壁２Ａ，２Ｂから互いに近接する水平方向に突設された支持ピン７５，７６が挿通されていて、これにより、ローラ支持枠７１は、支持ピン７５，７６を中心として回動自在に支持されている。また、支持板７２には、搬送方向ＴＤに延びた駆動軸７７が、その軸芯を支持ピン７５，７６の軸芯と一致させるように回転自在に支持されている。
【００４９】
搬送ローラ２１の回転軸（入力軸）Ｇ１は、支持板７２を貫通しており、その先端には、それぞれかさ歯車（入力用ギア）７８が取り付けられている。これに対応して、駆動軸７７には、かさ歯車７８とそれぞれ噛み合うように、複数個のかさ歯車（介在ギア）７９が取り付けられている。また、支持板７２と対向するエッチング処理槽２の左側壁２Ｃの外面には、搬送ローラ２１を回転駆動するための駆動力を発生するモータ（駆動源）８０が取り付けられている。このモータ８０の出力軸Ｇ２は、左側壁２Ｃを貫通してエッチング処理槽２内に突出しており、その先端には、かさ歯車（出力用ギア）８１が取り付けられている。このかさ歯車８１は、駆動軸７７に設けられた複数個のかさ歯車７９のうちの１つと噛合している。なお、モータ８０の出力軸Ｇ２，かさ歯車８１およびかさ歯車７９などから本発明の第１伝達手段が構成され、搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１、かさ歯車７８およびかさ歯車７９などから本発明の第２伝達手段が構成される。
【００５０】
この構成により、モータ８０の駆動力によってかさ歯車８１が回転すると、このかさ歯車８１の回転力が、かさ歯車７９を介して駆動軸７７に与えられて、駆動軸７７を回転させる。そして、駆動軸７７の回転は、かさ歯車７９およびかさ歯車７８によって搬送ローラ２１の回転力に変換され、搬送ローラ２１を回転させる。
【００５１】
図２における右側の支持板７３には、支持ピン７５，７６を回動中心として、駆動軸７７の回転軸線まわりにローラ支持枠７１を傾けるための傾斜機構（傾斜手段）が連結されている。この傾斜機構には、鉛直方向に進退可能なロッド８２Ａを有するシリンダ８２が備えられている。シリンダ８２は、エッチング処理槽２の外部に設けられており、ロッド８２Ａは、その先端がエッチング処理槽２の図２における右側壁２Ｄに取り付けられたカバー８３内で昇降するようになっている。また、シリンダ８２の下端に設けられた軸８２Ｂが基台（図示せず）に回動自在に取り付けられており、シリンダ８２は、ロッド８２Ａの昇降に伴い、軸８２Ｂまわりに若干揺動するように設けられている。
【００５２】
ロッド８２Ａの先端には、取付部材８４が取り付けられている。取付部材８４には、搬送方向ＴＤとほぼ平行な軸８５に揺動自在に支持されたレバー８６の一端が、搬送方向ＴＤとほぼ平行な軸８７まわりに回動自在に連結されている。レバー８６の他端は、右側壁２Ｄに形成された連通口８８を介してエッチング処理槽２内に進入しており、エッチング処理槽２内に設けられた一対の昇降棒８９の上端に取り付けられた搬送方向ＴＤとほぼ平行な軸９０まわりに回動自在に連結されている。また、昇降棒８９の下端は、支持板７３の下端部に取り付けられた搬送方向ＴＤとほぼ平行な軸９１まわりに回動自在に連結されている。
【００５３】
なお、レバー８６および昇降棒８９の長さなどは、シリンダ８２のロッド８２Ａが伸長された状態で、ローラ支持枠７１に保持された搬送ローラ２１の回転軸が水平となるように設定されている。また、ロッド８２Ａには、カバー８３内において、ベローズ９２が外装されており、エッチング処理槽２内のエッチング液やエッチング液成分を含む雰囲気が、ロッド８２Ａとカバー８３との隙間から漏れ出さないようになっている。
【００５４】
上記の構成により、シリンダ８２によってロッド８２Ａを収縮させると、レバー８６が、軸８５を中心として図３における時計回りに傾き、これに伴って昇降棒８９が上昇する。そして、昇降棒８９の上昇によって、ローラ支持枠７１の支持板７３側が持ち上げられ、その結果、ローラ支持枠７１を支持ピン７５，７６を中心として図３における反時計回りに傾けることができる。
【００５５】
このとき、駆動軸７７は、その軸芯を支持ピン７５，７６の軸芯と一致させるように支持されていることにより、ローラ支持枠７１の揺動中心となっている。すなわち、駆動軸７７は、ローラ支持枠７１の回動軸線上に配置されているので、ローラ支持枠７１を支持ピン７５，７６を中心に傾けても、搬送ローラ２１の回転軸に取り付けられたかさ歯車７８と駆動軸７７に取り付けられたかさ歯車７９との噛合は解除されず、モータ８０の駆動力によって搬送ローラ２１を回転させることができる（図４（ａ），（ｂ）参照）。
【００５６】
以上のようにこの実施形態によれば、シリンダ８２によってローラ支持枠７１の一方端縁側を持ち上げて、ローラ支持枠７１を支持ピン７５，７６を中心として傾けることにより、ローラ支持枠７１に一体的に保持された搬送ローラ２１を、支持ピン７５，７６を中心として傾けることができる。また、その状態で搬送ローラ２１を回転させることができる。これにより、搬送ローラ２１によって搬送される基板Ｓを、水平面に沿って搬送したり、水平面に対して傾斜した状態で搬送したりすることができる。
【００５７】
また、ローラ支持枠７１を傾斜させても、モータ８０などの駆動源の位置は変化せず、この駆動源がローラ支持枠７１と一体的に傾斜するといったようなことはない。ゆえに、搬送ローラ２１を傾斜させて、基板Ｓの姿勢を変更するために、エッチング処理槽２が大型化してしまうといったことはない。
【００５８】
さらに、シリンダ８２がエッチング処理槽２の外部に設けられているから、シリンダ８２にエッチング液が付着するおそれがなく、シリンダ８２がエッチング液による悪影響を受けるおそれがない。
【００５９】
上述の第１の実施形態においては、駆動軸７７に設けられた複数のかさ歯車７９の１つに、かさ歯車８１とかさ歯車７８が両方とも噛合する構成であるが、これに代えて、図５に示されるように、駆動軸７７にかさ歯車７８とは噛合しないかさ歯車７９Ａを設けて、このかさ歯車７９Ａにかさ歯車８１を噛合させることによりモータ８０による駆動力を駆動軸７７に伝達してもよい。また、かさ歯車８１とかさ歯車７９Ａとの組み合わせを、ウオームギアと平歯車との組み合わせに代えてもよい。
【００６０】
また、別の変形例として、駆動軸７７を回転させるための構成を、たとえば、図６に示すように、モータの出力軸Ｇ２を駆動軸７７と平行に設け、モータの出力軸と駆動軸７７との間にタイミングベルトＴＢを巻き掛けて、このタイミングベルトＴＢを介してモータの駆動力を駆動軸７７に伝達する構成としてもよい。さらには、モータの出力軸を駆動軸７７と平行に設け、モータの出力軸の回転をギア機構を介して駆動軸７７に伝達する構成を採ることもできる。
【００６１】
図７は、この発明の第２の実施形態に係る搬送機構の構成を上方から見たときの断面図である。この図７では、図２に示す各部と同等の部分については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００６２】
この第２の実施形態に係る搬送機構７Ａでは、複数本の搬送ローラ２１の回転軸に、それぞれ駆動ギア１０１が取り付けられている。互いに隣接する２つの駆動ギア１０１は、支持板７２に回転自在に支持された中間ギア１０２にそれぞれ噛合しており、一方の駆動ギア１０１の回転は、中間ギア１０２を介して他方の駆動ギア１０１に伝達されるようになっている。中間ギア１０２のうちの１つには、その回転軸１０３にフレキシブルカップリング１０４を介してモータ１０５の出力軸Ｇ２が連結されている。
【００６３】
このフレキシブルカップリング１０４は、モータ１０５の出力軸に対して回転軸１０３が傾斜した状態であっても、モータ１０５の出力軸Ｇ２の回転を回転軸１０３に伝達することができるものである（図８（ａ），（ｂ） 参照）。したがって、シリンダ８２によってローラ支持枠７１の一方端縁側を持ち上げて、ローラ支持枠７１を支持ピン７５，７６を中心として傾けても、モータ１０５の駆動力を駆動ギア１０１および中間ギア１０２を介して搬送ローラ２１に伝達することができる。これにより、搬送ローラ２１によって搬送される基板Ｓを、水平面に沿って搬送したり、水平面に対して傾斜した状態で搬送したりすることができ、上述した第１の実施形態と同様な効果を得ることができる。
【００６４】
なお、この実施形態においては、支持ピン７５，７６により規定されるローラ支持枠７１の回動軸線が、フレキシブルカップリング１０４における出力軸Ｇ２と回転軸１０３との連結位置の近傍を通るようにされていることが好ましい。これにより、ローラ支持枠７１が傾斜させられた場合にも、出力軸Ｇ２と回転軸１０３との連結状態を良好に維持できる。
【００６５】
図９は、この発明の第３の実施形態にかかる搬送機構の構成を上方から見たときの断面図であり、図１０は、図９に示す切断面線Ｂ−Ｂから見た断面図である。図９および図１０において、図２および図３に示す各部と同等の部分には、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００６６】
この第３の実施形態に係る搬送機構７Ｂは、搬送ローラ２１の回転軸が水平に延びた状態で駆動軸７７に駆動力を与えるための第１モータ１１１と、搬送ローラ２１の回転軸が水平面に対して所定角度だけ傾斜した状態で駆動軸７７に駆動力を与えるための第２モータ１１２とを備えている。
【００６７】
第１モータ１１１および第２モータ１１２は、いずれもエッチング処理槽２の左側壁２Ｃの外面に取り付けられている。第１モータ１１１の出力軸１１３および第２モータ１１２の出力軸１１４は、左側壁２Ｃを貫通してエッチング処理槽２内に突出しており、その先端には、それぞれウオームギア１１５およびウオームギア１１６が取り付けられている。これに対応して、駆動軸７７には、搬送ローラ２１の回転軸が水平に延びた状態で、ウオームギア１１５と噛合する位置に平歯車１１７が取り付けられている（図１１(a) 参照）。また、搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１が水平面に対して所定角度だけ傾斜した状態で、ウオームギア１１６と噛合する位置に平歯車１１８が取り付けられている（図１１(b) 参照）。
【００６８】
また、エッチング処理槽２の隔壁２Ａ，２Ｂには、搬送方向ＴＤに沿って延びた支持軸１１９が架け渡されており、ローラ支持枠７１は、その支持軸１１９に回動自在に取り付けられている。
【００６９】
この構成により、シリンダ８２のロッド８２Ａが伸長されて、搬送ローラ２１の回転軸が水平に延びた状態になっている時には、ウオームギア１１５と平歯車１１７とが噛み合って、第１モータ１１１の駆動力が駆動軸７７に伝達される。そして、第１モータ１１１の駆動力による駆動軸７７の回転が、かさ歯車７９およびかさ歯車７８によって搬送ローラ２１の回転力に変換されて、搬送ローラ２１を回転させる。これにより、搬送ローラ２１上の基板Ｓを、水平な状態で搬送方向ＴＤに沿って搬送することができる。
【００７０】
また、搬送ローラ２１の回転軸が傾斜した状態になっている時には、ウオームギア１１６と平歯車１１８とが噛み合って、第２モータ１１２の駆動力が駆動軸７７に伝達され、駆動軸７７を回転させる。そして、この駆動軸７７の回転が、かさ歯車７９およびかさ歯車７８を介して搬送ローラ２１に伝達されて、搬送ローラ２１を回転させる。これにより、搬送ローラ２１上の基板Ｓを、水平面に対して傾斜させた状態で搬送方向ＴＤに沿って搬送することができる。
【００７１】
さらに、上述した第１および第２の実施形態に係る構成と同様に、ローラ支持枠７１を傾斜させても、第１モータ１１１および第２モータ１１２など駆動源は傾斜しないから、この第３の実施形態の構成を採用しても、エッチング処理槽２が大型化することはない。
【００７２】
上述の第３の実施形態では、駆動軸７７に平歯車１１７と平歯車１１８とがそれぞれ設けられているが、ウオームギア１１５およびウオームギア１１６が同一の鉛直面上に位置するように、第１モータ１１１および第２モータ１１２を配置して、ウオームギア１１５およびウオームギア１１６に噛合する平歯車を１つにしてもよい。
【００７３】
また、上述の第３の実施形態では、駆動軸７７が複数本の搬送ローラ２１とー体にシリンダ８２などによって傾斜させられる構成であるがこの構成に代えて、図１２に示される構成を採用しても良い。すなわち、図１２に示されるように、搬送方向ＴＤと平行な軸線まわりに回転駆動される２本の駆動軸７７Ａおよび駆動軸７７Ｂをそれぞれ設ける。この２本の駆動軸７７Ａおよび駆動軸７７Ｂには、かさ歯車７９Ｃおよびかさ歯車７９Ｄがそれぞれ設けられ、搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１の先端にはかさ歯車７８Ｂが設けられている。そして、搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１が水平状態にあるときには、かさ歯車７８Ｂがかさ歯車７９Ｃと噛合し、回転軸Ｇ１が傾斜状態にあるときは、かさ歯車７８Ｂがかさ歯車７９Ｄと噛合するように構成されている。駆動軸７７Ａおよび駆動軸７７Ｂを回転駆動する機構は、駆動源としてモータを用いその駆動力をギア等を介してそれぞれの駆動軸に伝達する機構等を採用すればよい。
【００７４】
以上では、この発明の３つの実施形態について説明したが、この発明は、上述の３つの実施形態以外の形態でも実施することができる。たとえば、図１３に示すように、シリンダ８２をエッチング処理槽２の上方に設け、シリンダ８２のロッド８２Ａを、エッチング処理槽２の天面を貫通させてローラ支持枠７１の支持板７３に回動自在に連結してもよい。また、シリンダ８２をエッチング処理槽２の下方に設け、シリンダ８２のロッド８２Ａを、エッチング処理槽２の底板２Ｆを貫通させてローラ支持枠７１に回動自在に連結してもよい。これらの構成が採用された場合、ローラ支持枠７１を傾斜させるための構成を簡素化することができる。
【００７５】
さらに、シリンダ８２をエッチング処理槽２の上方に設け、シリンダ８２のロッド８２Ａをワイヤを介してローラ支持枠７１に連結し、ロッド８２Ａを収縮させてワイヤを引き上げることにより、ローラ支持枠７１を傾斜させてもよい。また、ワイヤをモータで巻き取ることにより、ローラ支持枠７１を傾斜させる構成であってもよい。
【００７６】
また、ローラ支持枠７１を傾斜させるための駆動源としてシリンダを用いる必要はなく、モータなど他の種類の駆動源が用いられてもよい。たとえば、図１４に示すように、ねじ軸１２１に螺合するボールナット１２２をレバー８６に連結し、モータ１２３の駆動力でねじ軸１２１を回動させて、ボールナット１２２を上下動させることにより、ローラ支持枠７１を揺動させるボールねじ機構が採用されてもよい。なお、図１３および図１４においては、搬送ローラ２１を回転させるための構成の図示は省略されている。
【００７７】
さらに、レバー８６の揺動軸８５にモータの出力軸を直結して、モータで直接にレバー８６を揺動させることにより、ローラ支持枠７１を揺動させる構成を採用することもできる。
【００７８】
レバー８６に連結されたラックと、このラックに噛合するピニオンとを有するラックアンドピニオン機構を用い、当該ピニオンに正逆回転可能なモータからの回転力を与えるようにしてもよい。
【００７９】
また、図２に示される第１の実施の形態および図９に示される第３の実施形態において、複数本の搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１にそれぞれ設けられたかさ歯車７８が駆動軸７７に設けられた複数のかさ歯車７９とそれぞれ噛合するように構成されているが、この構成の変形例として図１５に示される構成を採用してもよい。すなわち図１５に示されるように、搬送ローラの回転軸Ｇ１とは別に、搬送方向ＴＤと直交する軸線まわりに回転駆動される入力軸Ｇ１Ａを設けて、この入力軸Ｇ１Ａの先端にかさ歯車７８Ａを取り付ける。このかさ歯車７８Ａは、駆動軸７７に設けられたかさ歯車７９Ｂに噛合されて、駆動軸の駆動力は入力軸Ｇ１Ａに伝達される。入力軸Ｇ１Ａに伝達された駆動力は、複数のギア２０１を介して複数本の搬送ローラ２１に伝達され、搬送ローラ２１を回転駆動させる。入力軸ＧｌＡに入力された駆動力を上述のように複数のギアの組み合わせで伝達するのに代えて、プーリとベルトとの組み合わせにより伝達させてもよい。また、入力軸ＧｌＡを複数本の搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１のーつで代用し、この回転軸Ｇ１にかさ歯車７８Ａを設けるとともに、この回転軸Ｇ１と他の回転軸Ｇ１とを複数のギア等で連動連結して、全ての回転軸Ｇ１に駆動力を伝達してもよい。
【００８０】
さらに、上述の実施形態では、基板に供給すべきエッチング液を吐出するスプレーノズル２２がローラ支持枠７１とは別に設けられているが、ローラ支持枠７１にスプレーノズル２２を取り付けておけば、ローラ支持枠７１の傾斜角度にかかわらず、基板に対して良好にエッチング液を供給することができる。同様に、水洗処理槽３において、ローラ支持枠７１に純水用スプレーノズル３２，３３を取り付けておけば、ローラ支持枠７１の傾斜角度にかかわらず、基板に対して良好に純水を供給することができる。
【００８１】
また、上述の各実施形態では複数本の搬送ローラなどにより本発明の搬送手段が構成されるが、複数本の搬送ローラをベルトコンベア等に代えてもよい。要は基板を支持しつつその表面に沿った方向に搬送できる搬送手段であればよい。
【００８２】
また、上述の実施形態においては、液晶表示装置用ガラス基板を搬送するための装置を例にとったが、この発明は、半導体ウエハ、プラズマディプレイパネル用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板などの他の種類の基板を搬送するための装置にも適用することができる。
【００８３】
その他、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範囲内で、種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る基板搬送装置が適用される基板処理装置の構成を簡略化して示す断面図である。
【図２】この発明の第１の実施形態に係る搬送機構の構成を示す上方から見た断面図である。
【図３】図２の切断面線Ａ−Ａから見た断面図である。
【図４】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面図である。
【図５】上記第１の実施形態の変形例について説明するための断面図である。
【図６】上記第１の実施形態の他の変形例について説明するための断面図である。
【図７】この発明の第２の実施形態に係る搬送機構の構成を示す上方から見た断面図である。
【図８】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面図である。
【図９】この発明の第３の実施形態に係る搬送機構の構成を示す上方から見た断面図である。
【図１０】図５の切断面線Ｂ−Ｂから見た断面図である。
【図１１】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面図である。
【図１２】上記第３の実施形態の変形例について説明するための断面図である。
【図１３】搬送ローラを傾斜させるための他の構成例を簡略化して示す断面図である。
【図１４】搬送ローラを傾斜させるための他の構成例を簡略化して示す断面図である。
【図１５】搬送ローラを駆動するための他の構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
Ｓ 基板
２ エッチング処理槽（処理槽）
２１，３１ 搬送ローラ（搬送手段）
７，７Ａ，７Ｂ 搬送機構（基板搬送装置）
７８ かさ歯車（入力用ギア）
７９ かさ歯車（介在ギア）
８０ モータ（駆動源）
８１ かさ歯車
８２ シリンダ（傾斜手段）
８４ 取付部材（傾斜手段）
８６ レバー（傾斜手段）
８９ 昇降棒（傾斜手段）
Ｇ１ 入力軸
Ｇ２ 出力軸
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置用ガラス基板のようなＦＰＤ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ：フラットパネルディスプレイ）用基板、フォトマスク用ガラス基板および半導体ウエハなどの各種の基板をその主面に沿った搬送方向に搬送するとともに、搬送方向にほぼ平行な軸線まわりに傾けることができる基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置のようなフラットパネルディスプレイの製造工程においては、基板の表面に対して、エッチング液などの処理液を用いた処理を施すための基板処理装置が用いられる。この種の基板処理装置の中には、処理液が基板上で滞留することがないように、基板を搬送方向にほぼ平行な軸線まわりに傾いた姿勢で搬送しながら、基板の表面に処理液を供給するようにしたものがある。
【０００３】
このような基板処理装置には、通常、ほぼ水平な状態で搬送されてくる基板を傾斜させることのできる基板搬送装置が備えられている。この基板搬送装置の構成例は、たとえば特開平９−１５５３０６号公報に記載されている。
【０００４】
上記公開公報に記載された基板搬送装置は、互いに平行な位置関係で搬送方向に沿って並設された複数本の搬送ローラを有している。この複数本の搬送ローラは、ローラ支持枠に一体的に支持されており、ローラ支持枠に取り付けられたモータなどの駆動手段によって回転駆動されるようになっている。また、ローラ支持枠の搬送方向に沿う一方端縁付近には、エアシリンダのロッドが連結されていて、このロッドを伸縮させることにより、複数本の搬送ローラは、その回転軸が水平方向に伸びた水平状態と搬送方向にほぼ平行な軸線まわりに傾斜した傾斜状態との間で変位されるようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述のような基板搬送装置を基板に所定の処理液を供給して基板を処理する処理槽と隣接する位置に配置し、この処理槽に例えば傾斜状態の基板を処理槽に設けられた基板搬入口に向けて搬送する場合には、次のような問題が発生する。すなわち、処理槽内の処理液を含む雰囲気（以下、処理液雰囲気と称す）が基板搬入口から基板搬送装置のモータなどの駆動部に流入し、モータなどの駆動部が故障するという問題が発生する。
【０００６】
また、上記の基板搬送装置を上記のような処理槽内に設ける場合がある。例えば、水平状態で基板を搬送させつつ基板を所定の処理液に浸漬させて処理する浸漬槽と、浸漬槽で処理された基板の姿勢を水平状態から傾斜状態に変更した後、傾斜状態で基板を搬送させつつ基板の表面に向けて所定の処理液を供給する処理槽とを有する基板処理装置においては、基板処理装置を小型化するために、上記の基板搬送装置を処理槽内に設けることがある。このように、処理槽内に基板搬送装置が設けられている場合、処理槽内で基板に供給された処理液によって基板搬送装置の駆動部が故障することを防止する必要がある。
【０００７】
本発明の目的は、上述のような点に鑑み、処理液雰囲気や処理液によりモータなどの駆動源が故障することを防止できる基板搬送装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板に液を供給して基板を処理するための処理槽内において、基板をその主面に沿った搬送方向に搬送するとともに、基板の姿勢を所定の第１姿勢から、この第１姿勢に対して上記搬送方向にほぼ平行な回動軸線まわりに傾いた第２姿勢に変更する基板搬送装置であって、上記処理槽内に設けられ、基板を支持しつつその基板の主面に沿った方向に搬送する搬送手段と、この搬送手段を上記回動軸線まわりに傾けて、上記搬送手段に支持された基板の姿勢を上記第１姿勢から上記第２姿勢に変更する傾斜手段と、上記処理槽内において、上記回動軸線上に配置され、上記回動軸線まわりに回転駆動される駆動軸と、上記処理槽外に固定配置され、上記駆動軸を駆動するための駆動源と、上記処理槽の内外を貫通して設けられ、上記駆動源による駆動力を上記駆動軸に伝達する第１伝達手段と、上記処理槽内に設けられ、上記駆動軸による駆動力を上記搬送手段に伝達する第２伝達手段と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置である。
【０００９】
この請求項１に係る発明によれば、搬送手段により基板をその主面に沿った方向に搬送することができるとともに、傾斜手段により搬送手段を回動軸線まわりに傾けて搬送手段に支持された基板の姿勢を第１姿勢から第２姿勢に変更することができる。
【００１０】
また、駆動源が処理槽の外部に固定配置されているので、処理槽の内部に存在する液雰囲気や液がモータなどの駆動源に達することがなく、駆動部が故障することを防止できる。
【００１１】
さらに、駆動軸が回動軸線上に配置されているので、傾斜手段によって搬送手段が回動軸まわりに傾けられたときに、駆動軸の配置位置が変位することはない。したがって、搬送手段の傾斜状態にかかわらず第１伝達手段を固定配置できるので、第１伝達手段を貫通させるために処理槽の壁面に設ける貫通孔を長穴等にする必要がなく、貫通孔付近のシール性が向上できる。ゆえに、処理槽の内部に存在する液雰囲気や液に起因してモータなどの駆動源が故障することを確実に防止できる。
【００１２】
またさらに、駆動源を固定配置できるので、搬送手段の回動に応じて駆動源が回動する場合に確保される駆動源回動用の空間が不要となり、基板搬送装置のコンパクト化を図ることができる。
【００１３】
請求項２記載の発明は、請求項１に記載の基板搬送装置において、第１伝達手段は、上記駆動源と連結され、上記搬送方向と直交する軸線まわりに上記駆動源により回転駆動される出力軸と、この出力軸に設けられた出力用ギアと、上記駆動軸に設けられ、上記出力用ギヤと噛合する介在ギアとを有することを特徴とする基板搬送装置である。
【００１４】
この請求項２に係る発明によれば、介在ギアが回動軸線上に配置された駆動軸に設けられているので、傾斜手段により搬送手段が傾けられても、介在ギアの位置が変位することがない。したがって、搬送手段の傾斜状態にかかわらず、駆動源により駆動される出力軸に設けられた出力用ギアと介在ギアとの噛合状態を保つことができて、駆動源による駆動力を搬送手段に確実に伝達することができる。
【００１５】
請求項３記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置において、上記第２伝達手段は、上記搬送方向と直交する軸線まわりに回転駆動される入力軸と、この入力軸に設けられた入力用ギアと、上記駆動軸に設けられ、上記入力用ギヤと噛合する介在ギアとを有することを特徴とする基板搬送装置である。
【００１６】
この請求項３に係る発明によれば、介在ギアが回動軸線上に配置された駆動軸に設けられているので、傾斜手段により搬送手段が傾けられても、介在ギアの位置が変位することがない。したがって、搬送手段の傾斜状態にかかわらず、入力用ギアと介在ギアとの噛合状態を保つことができ、駆動源による駆動力を搬送手段に確実に伝達することができる。
【００１７】
請求項４記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の基板搬送装置において、上記傾斜手段は、シリンダを備えており、上記シリンダは、上記処理槽外に配置されていることを特徴とする基板搬送装置である。
【００１８】
この請求項４に係る発明によれば、シリンダが処理槽の外部に設けられているから、シリンダに液が付着するおそれがなく、シリンダが液による悪影響を受けるおそれがない。
【００２９】
【発明の実施の形態】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００３０】
図１は、この発明に係る基板搬送装置が適用される基板処理装置の構成を簡略化して示す断面図である。この基板処理装置は、たとえば、液晶表示装置用ガラス基板などの基板Ｓを搬送方向ＴＤに向けて次々と搬送しながら、この基板Ｓの表面にエッチング液を供給することによって、基板Ｓの表面にエッチング処理を施すための装置である。
【００３１】
このような機能を実現するために、この基板処理装置は、搬送方向ＴＤに関して上流側から順に、入口コンベア１、エッチング処理槽２、水洗処理槽３および出口コンベア４を、搬送方向ＴＤに沿って結合して構成されている。入口コンベア１、エッチング処理槽２、水洗処理槽３および出口コンベア４は、いずれも、互いにほぼ平行な位置関係で配列された複数本の搬送ローラ１１，２１，３１，４１を備えている。搬送ローラ１１，２１，３１，４１は、それぞれ、搬送方向ＴＤと直交する方向に延びた軸線まわりに回転して、その上に置かれた基板Ｓを搬送方向ＴＤに沿って搬送することができる。
【００３２】
未処理の基板Ｓは、図示しない基板搬入ロボットによって、入口コンべア１の搬送ローラ１１上に水平姿勢で戦置される。この載置された基板Ｓは、搬送ローラ１１によって水平姿勢を保ったままでエッチング処理槽２に向けて搬送され、エッチング処理槽２に設けられた搬送ローラ２１を含む後述の搬送機構（基板搬送装置）に受け渡される。水平姿勢でエッチング処理槽２内に搬送された基板Ｓは、その姿勢を搬送機構により傾斜姿勢に変更された後、エッチング処理槽２内で搬送ローラ２１によって搬送されつつ処理される。そして、エッチング処理槽２内で搬送ローラ２によって傾斜姿勢で支持された基板Ｓは、その傾斜姿勢を保ったまま水洗処理槽３に搬入され、水洗処理槽３に設けられた搬送ローラ３１を含む搬送機構に受け渡される。次に、基板Ｓは水洗処理槽３内で搬送ローラ３１によって搬送されつつ処理された後、搬送機構によりその姿勢を傾斜姿勢から水平姿勢に変更されて、出口コンベア４の搬送ローラ４１上に払い出される。出口コンベア４に払い出された処理済みの基板Ｓは、図示しない基板搬出ロボットによって搬送ローラ４１上から取り除かれる。
【００３３】
入口コンベア１の搬送ローラ１１は、その回転軸が搬送方向ＴＤと直交する水平方向に延びた状態に設けられており、基板搬入ロボットによって載置された基板Ｓを、水平に支持しつつエッチング処理槽２に向けて搬送する。
【００３４】
エッチング処理槽２には、基板Ｓの上面にエッチング液をスプレーするための上部スプレーノズル２２が備えられている。上部スプレーノズル２２には、エッチング液タンク２４に貯留されたエッチング液が、ポンプ２５によって汲み出され、エッチング液供給管２６を介して供給されている。エッチング供給管２６の途中部には、エア弁２７が介装されており、このエア弁２７を開閉することによって、上部スプレーノズル２２からエッチング液を噴出させたり、その噴出を停止させたりすることができる。
【００３５】
スプレーノズル２２から基板Ｓに供給された後のエッチング液は、エッチング処理槽２の底面に接続された回収配管６１を介して、エッチング液タンク２４に回収されるようになっている。
【００３６】
上記の構成により、エッチング処理槽２内に搬入された基板Ｓの上面に向けてエッチング液を供給して、その上面にエッチング液によるエッチング処理を施すことができる。
【００３７】
また、基板Ｓにエッチング液が供給されている間、搬送ローラ２１は、基板Ｓを搬送方向ＴＤに搬送するために正転されたり、基板Ｓを搬送方向とは逆方向に戻すために逆転されたりしている。これにより、基板Ｓは、エッチング処理槽２内で揺動され、スプレーノズル２２から噴出されるエッチング液を基板Ｓの上面全域にほぼ均一に供給でき、また、搬送路長を長くすることなくエッチング工程に必要十分な処理時間を確保できる。
【００３８】
さらに、基板Ｓにエッチング液が供給されている間、複数本の搬送ローラ２１は、後述する基板搬送機構（基板搬送装置）によって搬送方向ＴＤにほぼ平行な軸線まわりに所定の傾斜角度だけ、たとえば５度から１０度の範囲内で傾斜されるようになっている。これにより、搬送ローラＳ上の基板Ｓが上記傾斜角度だけ傾斜された状態となり、基板Ｓの上面に供給されたエッチング液は基板Ｓの傾斜に沿って流れ落ちるから、基板Ｓの上面にエッチング液が滞留する部分が生じず、基板Ｓの表面全域にほぼ均一な処理を施すことができる。
【００３９】
エッチング処理が施された基板Ｓは、エッチング処理槽２の出口付近に設けられた液切りローラ６２を通過することによって、その表面に付着したエッチング液がある程度除去された後、所定の傾斜角度を保ったまま水洗処理槽３に向けて搬出される。
【００４０】
水洗処理槽３内には、搬送ローラ３１の上方および下方に、それぞれ基板Ｓの上面および下面に純水を供給するための純水用スプレーノズル３２，３３が配設されている。純水用スプレーノズル３２には、純水タンク３４に貯留された純水が、ポンプ３５によって汲み出され、純水供給管３６を介して供給されている。純水供給管３６の途中部には、エア弁３７が介装されており、このエア弁３７を開閉することによって、純水用スプレーノズル３２から純水を吐出させたり、その吐出を停止させたりすることができる。また、純水用スプレーノズル３３には、ポンプ３５によって純水タンク３４から汲み出された純水が、ポンプ３５とエア弁３７との間の純水供給管３６に分岐して結合された分岐管３８を介して供給されている。分岐管３８の途中部には、エア弁３９が介装されており、このエア弁３９を開閉することによって、純水用スプレーノズル３３から純水を吐出させたり、その吐出を停止させたりすることができる。
【００４１】
基板に供給された後の純水は、電磁弁６５および回収配管６６を介して純水タンク３４に回収されるか、電磁弁６７および廃液配管６８を介して廃棄される。具体的には、基板Ｓに対する洗浄処理を開始した当初の期間には、電磁弁６５を閉じ、電磁弁６７を開く。これにより、エッチング液等を多く含んだ純水が廃棄される。その後、一定時間経過後に電磁弁６５を開くとともに、電磁弁６７を閉じる。これにより、基板Ｓの洗浄に用いられた後の純水のうち、比較的清浄なものについては、純水タンク３４に回収することができる。
【００４２】
上記の構成により、エッチング液によって処理された基板Ｓの表面に、純水用スプレーノズル３２，３３から純水を供給することができ、その表面に付着しているエッチング液等を洗い流すことができる。
【００４３】
また、エッチング処理槽２と同様に、基板Ｓに純水が供給されている間は、搬送ローラ３１が交互に正転または反転されて、基板Ｓが水洗処理槽３内で揺動される。これにより、純水用スプレーノズル３２，３３から噴出される純水で基板Ｓの表面全域を隈無く洗浄でき、また、水洗処理槽３の搬送路長を長くすることなく基板Ｓの表面からエッチング液を除去するのに必要十分な処理時間を確保できる。
【００４４】
さらに、基板Ｓに純水が供給されている間、後述する搬送機構（基板搬送装置）が有する搬送ローラ３１は、搬送方向ＴＤにほぼ平行な軸線まわりに、エッチング処理槽２での傾斜角度と同じ所定の傾斜角度だけ傾斜されるようになっている。これにより、搬送ローラＳ上の基板Ｓが水平面に対して所定の傾斜角度だけ傾斜された状態となり、基板Ｓの上面に供給された純水は、基板Ｓ上で滞留することなく基板Ｓの傾斜に沿って流れ落ちるから、基板Ｓの表面に付着しているエッチング液を良好に洗い流すことができる。そして、エッチング液が洗い流された基板Ｓは、搬送機構によりその姿勢を傾斜姿勢から水平姿勢に変更された後、出口コンベア４に向けて払い出される。
【００４５】
出口コンベア４の搬送ローラ４１は、その回転軸が搬送方向ＴＤと直交する水平方向に延びており、水洗処理槽３から搬出されてくる基板Ｓを、水平に支持しつつ搬送方向ＴＤに沿って搬送するようになっている。出口コンベア４の入口付近には、基板Ｓの上面および下面に乾燥エアを吹き付けて基板Ｓの表面の水分を除去する一対のエアナイフ装置４２，４３が配置されている。これらの一対のエアナイフ装置４２，４３には、図外のエア供給源から送り出される乾燥エアが、エア供給配管４４およびエア弁４５を介して供給されるようになっている。エアナイフ装置４２，４３を通過することによって水分が除去された基板Ｓは、上記したように、図示しない基板搬出ロボットによって搬送ローラ４１上から取り除かれる。
【００４６】
図２は、本発明の第１の実施形態を示し、エッチング処理槽２に設けられた搬送ローラ２１を含む搬送機構（基板搬送装置）の構成を上方から見たときの断面図であり、図３は、図２の切断面線Ａ−Ａから見た断面図である。エッチング処理槽２に設けられた搬送機構および水洗処理槽３に設けられた搬送機構は、ほぼ同様な構成であるから、以下では、エッチング処理槽２に備えられた搬送機構７を取り上げて説明する。
【００４７】
搬送機構７は、複数本の搬送ローラ２１を一体的に保持するためのローラ支持枠７１を備えている。ローラ支持枠７１は、搬送方向ＴＤに延びた一対の支持板７２，７３を含む。一対の支持板７２，７３は、搬送方向ＴＤと直交する方向に所定間隔を置いて互いに対向した状態に設けられており、この一対の支持板７２，７３間に、複数本の搬送ローラ２１が回転自在に支持されている。また、一対の支持板７２，７３は、複数の連結板７４によって搬送ローラ２１の下方で連結されている。これら複数本の搬送ローラ２１およびローラ支持枠７１などにより、本発明の搬送手段が構成されている。
【００４８】
図２における左側の支持板７２には、搬送方向ＴＤに対向するエッチング処理槽（処理槽）２の側壁２Ａ，２Ｂから互いに近接する水平方向に突設された支持ピン７５，７６が挿通されていて、これにより、ローラ支持枠７１は、支持ピン７５，７６を中心として回動自在に支持されている。また、支持板７２には、搬送方向ＴＤに延びた駆動軸７７が、その軸芯を支持ピン７５，７６の軸芯と一致させるように回転自在に支持されている。
【００４９】
搬送ローラ２１の回転軸（入力軸）Ｇ１は、支持板７２を貫通しており、その先端には、それぞれかさ歯車（入力用ギア）７８が取り付けられている。これに対応して、駆動軸７７には、かさ歯車７８とそれぞれ噛み合うように、複数個のかさ歯車（介在ギア）７９が取り付けられている。また、支持板７２と対向するエッチング処理槽２の左側壁２Ｃの外面には、搬送ローラ２１を回転駆動するための駆動力を発生するモータ（駆動源）８０が取り付けられている。このモータ８０の出力軸Ｇ２は、左側壁２Ｃを貫通してエッチング処理槽２内に突出しており、その先端には、かさ歯車（出力用ギア）８１が取り付けられている。このかさ歯車８１は、駆動軸７７に設けられた複数個のかさ歯車７９のうちの１つと噛合している。なお、モータ８０の出力軸Ｇ２，かさ歯車８１およびかさ歯車７９などから本発明の第１伝達手段が構成され、搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１、かさ歯車７８およびかさ歯車７９などから本発明の第２伝達手段が構成される。
【００５０】
この構成により、モータ８０の駆動力によってかさ歯車８１が回転すると、このかさ歯車８１の回転力が、かさ歯車７９を介して駆動軸７７に与えられて、駆動軸７７を回転させる。そして、駆動軸７７の回転は、かさ歯車７９およびかさ歯車７８によって搬送ローラ２１の回転力に変換され、搬送ローラ２１を回転させる。
【００５１】
図２における右側の支持板７３には、支持ピン７５，７６を回動中心として、駆動軸７７の回転軸線まわりにローラ支持枠７１を傾けるための傾斜機構（傾斜手段）が連結されている。この傾斜機構には、鉛直方向に進退可能なロッド８２Ａを有するシリンダ８２が備えられている。シリンダ８２は、エッチング処理槽２の外部に設けられており、ロッド８２Ａは、その先端がエッチング処理槽２の図２における右側壁２Ｄに取り付けられたカバー８３内で昇降するようになっている。また、シリンダ８２の下端に設けられた軸８２Ｂが基台（図示せず）に回動自在に取り付けられており、シリンダ８２は、ロッド８２Ａの昇降に伴い、軸８２Ｂまわりに若干揺動するように設けられている。
【００５２】
ロッド８２Ａの先端には、取付部材８４が取り付けられている。取付部材８４には、搬送方向ＴＤとほぼ平行な軸８５に揺動自在に支持されたレバー８６の一端が、搬送方向ＴＤとほぼ平行な軸８７まわりに回動自在に連結されている。レバー８６の他端は、右側壁２Ｄに形成された連通口８８を介してエッチング処理槽２内に進入しており、エッチング処理槽２内に設けられた一対の昇降棒８９の上端に取り付けられた搬送方向ＴＤとほぼ平行な軸９０まわりに回動自在に連結されている。また、昇降棒８９の下端は、支持板７３の下端部に取り付けられた搬送方向ＴＤとほぼ平行な軸９１まわりに回動自在に連結されている。
【００５３】
なお、レバー８６および昇降棒８９の長さなどは、シリンダ８２のロッド８２Ａが伸長された状態で、ローラ支持枠７１に保持された搬送ローラ２１の回転軸が水平となるように設定されている。また、ロッド８２Ａには、カバー８３内において、ベローズ９２が外装されており、エッチング処理槽２内のエッチング液やエッチング液成分を含む雰囲気が、ロッド８２Ａとカバー８３との隙間から漏れ出さないようになっている。
【００５４】
上記の構成により、シリンダ８２によってロッド８２Ａを収縮させると、レバー８６が、軸８５を中心として図３における時計回りに傾き、これに伴って昇降棒８９が上昇する。そして、昇降棒８９の上昇によって、ローラ支持枠７１の支持板７３側が持ち上げられ、その結果、ローラ支持枠７１を支持ピン７５，７６を中心として図３における反時計回りに傾けることができる。
【００５５】
このとき、駆動軸７７は、その軸芯を支持ピン７５，７６の軸芯と一致させるように支持されていることにより、ローラ支持枠７１の揺動中心となっている。すなわち、駆動軸７７は、ローラ支持枠７１の回動軸線上に配置されているので、ローラ支持枠７１を支持ピン７５，７６を中心に傾けても、搬送ローラ２１の回転軸に取り付けられたかさ歯車７８と駆動軸７７に取り付けられたかさ歯車７９との噛合は解除されず、モータ８０の駆動力によって搬送ローラ２１を回転させることができる（図４（ａ），（ｂ）参照）。
【００５６】
以上のようにこの実施形態によれば、シリンダ８２によってローラ支持枠７１の一方端縁側を持ち上げて、ローラ支持枠７１を支持ピン７５，７６を中心として傾けることにより、ローラ支持枠７１に一体的に保持された搬送ローラ２１を、支持ピン７５，７６を中心として傾けることができる。また、その状態で搬送ローラ２１を回転させることができる。これにより、搬送ローラ２１によって搬送される基板Ｓを、水平面に沿って搬送したり、水平面に対して傾斜した状態で搬送したりすることができる。
【００５７】
また、ローラ支持枠７１を傾斜させても、モータ８０などの駆動源の位置は変化せず、この駆動源がローラ支持枠７１と一体的に傾斜するといったようなことはない。ゆえに、搬送ローラ２１を傾斜させて、基板Ｓの姿勢を変更するために、エッチング処理槽２が大型化してしまうといったことはない。
【００５８】
さらに、シリンダ８２がエッチング処理槽２の外部に設けられているから、シリンダ８２にエッチング液が付着するおそれがなく、シリンダ８２がエッチング液による悪影響を受けるおそれがない。
【００５９】
上述の第１の実施形態においては、駆動軸７７に設けられた複数のかさ歯車７９の１つに、かさ歯車８１とかさ歯車７８が両方とも噛合する構成であるが、これに代えて、図５に示されるように、駆動軸７７にかさ歯車７８とは噛合しないかさ歯車７９Ａを設けて、このかさ歯車７９Ａにかさ歯車８１を噛合させることによりモータ８０による駆動力を駆動軸７７に伝達してもよい。また、かさ歯車８１とかさ歯車７９Ａとの組み合わせを、ウオームギアと平歯車との組み合わせに代えてもよい。
【００６０】
また、別の変形例として、駆動軸７７を回転させるための構成を、たとえば、図６に示すように、モータの出力軸Ｇ２を駆動軸７７と平行に設け、モータの出力軸と駆動軸７７との間にタイミングベルトＴＢを巻き掛けて、このタイミングベルトＴＢを介してモータの駆動力を駆動軸７７に伝達する構成としてもよい。さらには、モータの出力軸を駆動軸７７と平行に設け、モータの出力軸の回転をギア機構を介して駆動軸７７に伝達する構成を採ることもできる。
【００６１】
図７は、この発明の第２の実施形態に係る搬送機構の構成を上方から見たときの断面図である。この図７では、図２に示す各部と同等の部分については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００６２】
この第２の実施形態に係る搬送機構７Ａでは、複数本の搬送ローラ２１の回転軸に、それぞれ駆動ギア１０１が取り付けられている。互いに隣接する２つの駆動ギア１０１は、支持板７２に回転自在に支持された中間ギア１０２にそれぞれ噛合しており、一方の駆動ギア１０１の回転は、中間ギア１０２を介して他方の駆動ギア１０１に伝達されるようになっている。中間ギア１０２のうちの１つには、その回転軸１０３にフレキシブルカップリング１０４を介してモータ１０５の出力軸Ｇ２が連結されている。
【００６３】
このフレキシブルカップリング１０４は、モータ１０５の出力軸に対して回転軸１０３が傾斜した状態であっても、モータ１０５の出力軸Ｇ２の回転を回転軸１０３に伝達することができるものである（図８（ａ），（ｂ） 参照）。したがって、シリンダ８２によってローラ支持枠７１の一方端縁側を持ち上げて、ローラ支持枠７１を支持ピン７５，７６を中心として傾けても、モータ１０５の駆動力を駆動ギア１０１および中間ギア１０２を介して搬送ローラ２１に伝達することができる。これにより、搬送ローラ２１によって搬送される基板Ｓを、水平面に沿って搬送したり、水平面に対して傾斜した状態で搬送したりすることができ、上述した第１の実施形態と同様な効果を得ることができる。
【００６４】
なお、この実施形態においては、支持ピン７５，７６により規定されるローラ支持枠７１の回動軸線が、フレキシブルカップリング１０４における出力軸Ｇ２と回転軸１０３との連結位置の近傍を通るようにされていることが好ましい。これにより、ローラ支持枠７１が傾斜させられた場合にも、出力軸Ｇ２と回転軸１０３との連結状態を良好に維持できる。
【００６５】
図９は、この発明の第３の実施形態にかかる搬送機構の構成を上方から見たときの断面図であり、図１０は、図９に示す切断面線Ｂ−Ｂから見た断面図である。図９および図１０において、図２および図３に示す各部と同等の部分には、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００６６】
この第３の実施形態に係る搬送機構７Ｂは、搬送ローラ２１の回転軸が水平に延びた状態で駆動軸７７に駆動力を与えるための第１モータ１１１と、搬送ローラ２１の回転軸が水平面に対して所定角度だけ傾斜した状態で駆動軸７７に駆動力を与えるための第２モータ１１２とを備えている。
【００６７】
第１モータ１１１および第２モータ１１２は、いずれもエッチング処理槽２の左側壁２Ｃの外面に取り付けられている。第１モータ１１１の出力軸１１３および第２モータ１１２の出力軸１１４は、左側壁２Ｃを貫通してエッチング処理槽２内に突出しており、その先端には、それぞれウオームギア１１５およびウオームギア１１６が取り付けられている。これに対応して、駆動軸７７には、搬送ローラ２１の回転軸が水平に延びた状態で、ウオームギア１１５と噛合する位置に平歯車１１７が取り付けられている（図１１(a) 参照）。また、搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１が水平面に対して所定角度だけ傾斜した状態で、ウオームギア１１６と噛合する位置に平歯車１１８が取り付けられている（図１１(b) 参照）。
【００６８】
また、エッチング処理槽２の隔壁２Ａ，２Ｂには、搬送方向ＴＤに沿って延びた支持軸１１９が架け渡されており、ローラ支持枠７１は、その支持軸１１９に回動自在に取り付けられている。
【００６９】
この構成により、シリンダ８２のロッド８２Ａが伸長されて、搬送ローラ２１の回転軸が水平に延びた状態になっている時には、ウオームギア１１５と平歯車１１７とが噛み合って、第１モータ１１１の駆動力が駆動軸７７に伝達される。そして、第１モータ１１１の駆動力による駆動軸７７の回転が、かさ歯車７９およびかさ歯車７８によって搬送ローラ２１の回転力に変換されて、搬送ローラ２１を回転させる。これにより、搬送ローラ２１上の基板Ｓを、水平な状態で搬送方向ＴＤに沿って搬送することができる。
【００７０】
また、搬送ローラ２１の回転軸が傾斜した状態になっている時には、ウオームギア１１６と平歯車１１８とが噛み合って、第２モータ１１２の駆動力が駆動軸７７に伝達され、駆動軸７７を回転させる。そして、この駆動軸７７の回転が、かさ歯車７９およびかさ歯車７８を介して搬送ローラ２１に伝達されて、搬送ローラ２１を回転させる。これにより、搬送ローラ２１上の基板Ｓを、水平面に対して傾斜させた状態で搬送方向ＴＤに沿って搬送することができる。
【００７１】
さらに、上述した第１および第２の実施形態に係る構成と同様に、ローラ支持枠７１を傾斜させても、第１モータ１１１および第２モータ１１２など駆動源は傾斜しないから、この第３の実施形態の構成を採用しても、エッチング処理槽２が大型化することはない。
【００７２】
上述の第３の実施形態では、駆動軸７７に平歯車１１７と平歯車１１８とがそれぞれ設けられているが、ウオームギア１１５およびウオームギア１１６が同一の鉛直面上に位置するように、第１モータ１１１および第２モータ１１２を配置して、ウオームギア１１５およびウオームギア１１６に噛合する平歯車を１つにしてもよい。
【００７３】
また、上述の第３の実施形態では、駆動軸７７が複数本の搬送ローラ２１とー体にシリンダ８２などによって傾斜させられる構成であるがこの構成に代えて、図１２に示される構成を採用しても良い。すなわち、図１２に示されるように、搬送方向ＴＤと平行な軸線まわりに回転駆動される２本の駆動軸７７Ａおよび駆動軸７７Ｂをそれぞれ設ける。この２本の駆動軸７７Ａおよび駆動軸７７Ｂには、かさ歯車７９Ｃおよびかさ歯車７９Ｄがそれぞれ設けられ、搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１の先端にはかさ歯車７８Ｂが設けられている。そして、搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１が水平状態にあるときには、かさ歯車７８Ｂがかさ歯車７９Ｃと噛合し、回転軸Ｇ１が傾斜状態にあるときは、かさ歯車７８Ｂがかさ歯車７９Ｄと噛合するように構成されている。駆動軸７７Ａおよび駆動軸７７Ｂを回転駆動する機構は、駆動源としてモータを用いその駆動力をギア等を介してそれぞれの駆動軸に伝達する機構等を採用すればよい。
【００７４】
以上では、この発明の３つの実施形態について説明したが、この発明は、上述の３つの実施形態以外の形態でも実施することができる。たとえば、図１３に示すように、シリンダ８２をエッチング処理槽２の上方に設け、シリンダ８２のロッド８２Ａを、エッチング処理槽２の天面を貫通させてローラ支持枠７１の支持板７３に回動自在に連結してもよい。また、シリンダ８２をエッチング処理槽２の下方に設け、シリンダ８２のロッド８２Ａを、エッチング処理槽２の底板２Ｆを貫通させてローラ支持枠７１に回動自在に連結してもよい。これらの構成が採用された場合、ローラ支持枠７１を傾斜させるための構成を簡素化することができる。
【００７５】
さらに、シリンダ８２をエッチング処理槽２の上方に設け、シリンダ８２のロッド８２Ａをワイヤを介してローラ支持枠７１に連結し、ロッド８２Ａを収縮させてワイヤを引き上げることにより、ローラ支持枠７１を傾斜させてもよい。また、ワイヤをモータで巻き取ることにより、ローラ支持枠７１を傾斜させる構成であってもよい。
【００７６】
また、ローラ支持枠７１を傾斜させるための駆動源としてシリンダを用いる必要はなく、モータなど他の種類の駆動源が用いられてもよい。たとえば、図１４に示すように、ねじ軸１２１に螺合するボールナット１２２をレバー８６に連結し、モータ１２３の駆動力でねじ軸１２１を回動させて、ボールナット１２２を上下動させることにより、ローラ支持枠７１を揺動させるボールねじ機構が採用されてもよい。なお、図１３および図１４においては、搬送ローラ２１を回転させるための構成の図示は省略されている。
【００７７】
さらに、レバー８６の揺動軸８５にモータの出力軸を直結して、モータで直接にレバー８６を揺動させることにより、ローラ支持枠７１を揺動させる構成を採用することもできる。
【００７８】
レバー８６に連結されたラックと、このラックに噛合するピニオンとを有するラックアンドピニオン機構を用い、当該ピニオンに正逆回転可能なモータからの回転力を与えるようにしてもよい。
【００７９】
また、図２に示される第１の実施の形態および図９に示される第３の実施形態において、複数本の搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１にそれぞれ設けられたかさ歯車７８が駆動軸７７に設けられた複数のかさ歯車７９とそれぞれ噛合するように構成されているが、この構成の変形例として図１５に示される構成を採用してもよい。すなわち図１５に示されるように、搬送ローラの回転軸Ｇ１とは別に、搬送方向ＴＤと直交する軸線まわりに回転駆動される入力軸Ｇ１Ａを設けて、この入力軸Ｇ１Ａの先端にかさ歯車７８Ａを取り付ける。このかさ歯車７８Ａは、駆動軸７７に設けられたかさ歯車７９Ｂに噛合されて、駆動軸の駆動力は入力軸Ｇ１Ａに伝達される。入力軸Ｇ１Ａに伝達された駆動力は、複数のギア２０１を介して複数本の搬送ローラ２１に伝達され、搬送ローラ２１を回転駆動させる。入力軸ＧｌＡに入力された駆動力を上述のように複数のギアの組み合わせで伝達するのに代えて、プーリとベルトとの組み合わせにより伝達させてもよい。また、入力軸ＧｌＡを複数本の搬送ローラ２１の回転軸Ｇ１のーつで代用し、この回転軸Ｇ１にかさ歯車７８Ａを設けるとともに、この回転軸Ｇ１と他の回転軸Ｇ１とを複数のギア等で連動連結して、全ての回転軸Ｇ１に駆動力を伝達してもよい。
【００８０】
さらに、上述の実施形態では、基板に供給すべきエッチング液を吐出するスプレーノズル２２がローラ支持枠７１とは別に設けられているが、ローラ支持枠７１にスプレーノズル２２を取り付けておけば、ローラ支持枠７１の傾斜角度にかかわらず、基板に対して良好にエッチング液を供給することができる。同様に、水洗処理槽３において、ローラ支持枠７１に純水用スプレーノズル３２，３３を取り付けておけば、ローラ支持枠７１の傾斜角度にかかわらず、基板に対して良好に純水を供給することができる。
【００８１】
また、上述の各実施形態では複数本の搬送ローラなどにより本発明の搬送手段が構成されるが、複数本の搬送ローラをベルトコンベア等に代えてもよい。要は基板を支持しつつその表面に沿った方向に搬送できる搬送手段であればよい。
【００８２】
また、上述の実施形態においては、液晶表示装置用ガラス基板を搬送するための装置を例にとったが、この発明は、半導体ウエハ、プラズマディプレイパネル用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板などの他の種類の基板を搬送するための装置にも適用することができる。
【００８３】
その他、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範囲内で、種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明に係る基板搬送装置が適用される基板処理装置の構成を簡略化して示す断面図である。
【図２】この発明の第１の実施形態に係る搬送機構の構成を示す上方から見た断面図である。
【図３】図２の切断面線Ａ−Ａから見た断面図である。
【図４】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面図である。
【図５】上記第１の実施形態の変形例について説明するための断面図である。
【図６】上記第１の実施形態の他の変形例について説明するための断面図である。
【図７】この発明の第２の実施形態に係る搬送機構の構成を示す上方から見た断面図である。
【図８】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面図である。
【図９】この発明の第３の実施形態に係る搬送機構の構成を示す上方から見た断面図である。
【図１０】図５の切断面線Ｂ−Ｂから見た断面図である。
【図１１】搬送ローラを駆動するための構成を示す断面図である。
【図１２】上記第３の実施形態の変形例について説明するための断面図である。
【図１３】搬送ローラを傾斜させるための他の構成例を簡略化して示す断面図である。
【図１４】搬送ローラを傾斜させるための他の構成例を簡略化して示す断面図である。
【図１５】搬送ローラを駆動するための他の構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
Ｓ 基板
２ エッチング処理槽（処理槽）
２１，３１ 搬送ローラ（搬送手段）
７，７Ａ，７Ｂ 搬送機構（基板搬送装置）
７８ かさ歯車（入力用ギア）
７９ かさ歯車（介在ギア）
８０ モータ（駆動源）
８１ かさ歯車
８２ シリンダ（傾斜手段）
８４ 取付部材（傾斜手段）
８６ レバー（傾斜手段）
８９ 昇降棒（傾斜手段）
Ｇ１ 入力軸
Ｇ２ 出力軸
Claims (4)
- 基板に液を供給して基板を処理するための処理槽内において、基板をその主面に沿った搬送方向に搬送するとともに、基板の姿勢を所定の第１姿勢から、この第１姿勢に対して上記搬送方向にほぼ平行な回動軸線まわりに傾いた第２姿勢に変更する基板搬送装置であって、
上記処理槽内に設けられ、基板を支持しつつその基板の主面に沿った方向に搬送する搬送手段と、
この搬送手段を上記回動軸線まわりに傾けて、上記搬送手段に支持された基板の姿勢を上記第１姿勢から上記第２姿勢に変更する傾斜手段と、
上記処理槽内において、上記回動軸線上に配置され、上記回動軸線まわりに回転駆動される駆動軸と、
上記処理槽外に固定配置され、上記駆動軸を駆動するための駆動源と、
上記処理槽の内外を貫通して設けられ、上記駆動源による駆動力を上記駆動軸に伝達する第１伝達手段と、
上記処理槽内に設けられ、上記駆動軸による駆動力を上記搬送手段に伝達する第２伝達手段と、
を備えたことを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項１に記載の基板搬送装置において、
第１伝達手段は、上記駆動源と連結され、上記搬送方向と直交する軸線まわりに上記駆動源により回転駆動される出力軸と、この出力軸に設けられた出力用ギアと、上記駆動軸に設けられ、上記出力用ギヤと噛合する介在ギアとを有することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項１または請求項２に記載の基板搬送装置において、
上記第２伝達手段は、上記搬送方向と直交する軸線まわりに回転駆動される入力軸と、この入力軸に設けられた入力用ギアと、上記駆動軸に設けられ、上記入力用ギヤと噛合する介在ギアとを有することを特徴とする基板搬送装置。 - 請求項１ないし３のいずれかに記載の基板搬送装置において、
上記傾斜手段は、シリンダを備えており、
上記シリンダは、上記処理槽外に配置されていることを特徴とする基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19610298A JP3608949B2 (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19610298A JP3608949B2 (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | 基板搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000031238A JP2000031238A (ja) | 2000-01-28 |
| JP3608949B2 true JP3608949B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=16352270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19610298A Expired - Fee Related JP3608949B2 (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3608949B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102556663A (zh) * | 2011-12-31 | 2012-07-11 | 汉能科技有限公司 | 一种玻璃运输系统 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4715019B2 (ja) * | 2001-04-23 | 2011-07-06 | ソニー株式会社 | 表示パネル用基板の加熱処理装置 |
| JP4581602B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2010-11-17 | 株式会社島津製作所 | 真空処理装置 |
| JP2006321623A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置 |
| KR100711290B1 (ko) | 2005-09-26 | 2007-04-25 | 세메스 주식회사 | 기판 이송장치 |
| JP2007103651A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Nsk Ltd | 位置決め装置 |
| JP4928782B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-05-09 | 三菱重工業株式会社 | ローラ搬送装置及び電子部品製造装置 |
| JP4652991B2 (ja) * | 2006-02-23 | 2011-03-16 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板の処理装置 |
| KR100793174B1 (ko) | 2007-03-16 | 2008-01-10 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 기구의 경사 변환 장치 |
| DE102007052027B3 (de) | 2007-10-31 | 2009-04-16 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur kontaminationsfreien Behandlung stoßempfindlicher Glasplatten in Reinsträumen |
| DE102007052183A1 (de) | 2007-10-31 | 2009-06-25 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Ausrichten stoßempfindlicher Glasplatten in Reinsträumen |
| KR100870745B1 (ko) * | 2007-11-07 | 2008-11-26 | (주)에스엠텍 | 이송장치 |
| JP5923281B2 (ja) * | 2011-11-18 | 2016-05-24 | 東京応化工業株式会社 | 基板搬送装置及び基板処理装置 |
| CN103569569A (zh) * | 2012-08-02 | 2014-02-12 | 林海山 | 一种输送器 |
| CN110993529B (zh) * | 2019-11-14 | 2022-07-26 | Tcl华星光电技术有限公司 | 湿刻装置及基板湿刻方法 |
| CN114798569B (zh) * | 2022-06-28 | 2022-09-27 | 江苏启威星装备科技有限公司 | 清洁装置 |
-
1998
- 1998-07-10 JP JP19610298A patent/JP3608949B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102556663A (zh) * | 2011-12-31 | 2012-07-11 | 汉能科技有限公司 | 一种玻璃运输系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000031238A (ja) | 2000-01-28 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071022 Year of fee payment: 3 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022 Year of fee payment: 4 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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