JP3602847B2 - 有機elディスプレイ製造装置及び有機elディスプレイの製造方法 - Google Patents
有機elディスプレイ製造装置及び有機elディスプレイの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3602847B2 JP3602847B2 JP2003506247A JP2003506247A JP3602847B2 JP 3602847 B2 JP3602847 B2 JP 3602847B2 JP 2003506247 A JP2003506247 A JP 2003506247A JP 2003506247 A JP2003506247 A JP 2003506247A JP 3602847 B2 JP3602847 B2 JP 3602847B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- display
- sealing member
- scribe line
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 139
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 12
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 103
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 86
- 239000005394 sealing glass Substances 0.000 description 31
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 10
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 206010027146 Melanoderma Diseases 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/871—Self-supporting sealing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
本発明は、ガラス基板上に形成された有機発光層を封止部材によって封止した構造を有する有機ELディスプレイを製造する有機ELディスプレイ製造装置及び有機ELディスプレイの製造方法に関する。
背景技術
有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイは、現在フラットパネルディスプレイの主流となっている液晶ディスプレイに比較して様々な優位性を有しており、この液晶ディスプレイに置き換えられることが将来的に見込まれる次世代のフラットパネルディスプレイとして注目を集めている。
図6は、一般的な有機ELディスプレイの概略構成を示す斜視図である。
この有機ELディスプレイ1は、透明なガラス基板2を有しており、このガラス基板2上に複数の陽極層3がITO等の透明な導電性材料により、それぞれ所定の間隔を空けたストライプ状に設けられている。各陽極層3の上には、直流電圧を印加することにより正孔を供給する正孔輸送層4、微量の有機色素をドーパントとして含む有機発光層5、直流電圧を印加することにより電子を供給する電子輸送層6が、順次、ガラス基板2上にこの順に積層されている。最上層となる電子輸送層6上には、導電性材料からなる複数の陰極層7が、それぞれ所定の間隔を空けて各陽極層3が延びる方向とは直交する方向に延びるストライプ状に設けられている。
ガラス基板2上の各陽極層3は、それぞれ直流電源8の陽極に接続され、また、最上層の各陰極層7は、それぞれ直流電源8の陰極に接続されている。
上記構成の有機ELディスプレイの各陽極層3と陰極層7との間に直流電源8により直流電圧を印加すると、直流電圧が印加された陽極層3上に積層された正孔輸送層4から正孔が有機発光層5中に注入されるとともに、直流電圧が印加された陰極層7の下層の電子輸送層6から電子が有機発光層5中に注入される。正孔輸送層4からの正孔及び電子輸送層6からの電子がそれぞれ注入された有機発光層5中では、各正孔と電子とが再結合して、この再結合により発生したエネルギーが有機発光層5に含まれる有機色素に吸収されて発光する。有機発光層5にて発生した光は、正孔輸送層4、陽極層3、ガラス基板2を順次透過して、ガラス基板2の裏面(図6において下側)から出射される。
この有機ELディスプレイ1では、ガラス基板2上に形成された複数の陽極層3と最上層に設けられた複数の陰極層7とが、それぞれ直交して交差しており、各交差部分ごとに、直流電圧の印加をTFT等によって調整することにより、各交差部分を表示の1単位とする画像光をガラス基板2の外側に形成することができる。
有機ELディスプレイ1は、正孔輸送層4上に積層される有機発光層5が水分に極めて弱く、大気に触れただけで、ダークスポットと呼ばれる黒点となって画像光の非表示欠陥となって表れるため、真空または不活性ガス条件とされたチャンバー内で各層の成膜工程を行った後、そのまま、大気に触れない状態を維持して、図7に示すように、封止キャップ9を設けて、有機発光層5等を大気と遮断した状態とする。これにより、水分によるダークスポットの発生が防止される。
図8は、有機ELディスプレイを製造するための有機EL製造装置の概略構成を示す構成図である。
この有機EL製造装置10は、ガラス基板2上に有機発光層5等の成膜工程を行う成膜室11と、成膜後のガラス基板2上に封止キャップ9を設ける封止室12とを有し、成膜室11及び封止室12とは、連絡通路13によって連結されている。
成膜室11は、搬送ロボット110aを備えた搬送室110を中央部に有し、この搬送室110から放射状に、ガラス基板2をストックする基板ストック室111、成膜前のガラス基板2に対して洗浄等の前処理を行う前処理室112、陽極層3、正孔輸送層4、有機発光層5、電子輸送層6、陰極層7の各層をガラス基板2に蒸着する複数の蒸着室113〜116が、それぞれ、所定の間隔を空けて配置されている。中央に配置された搬送室110と、基板ストック室111及び前処理室112及び各蒸着室113〜116との間には、それぞれ、ガスの流通状態を開閉できるゲートバルブ111a〜116aが設けられている。また、基板ストック室111と外部側には、ガラス基板2を搬入する際に内部を大気圧の状態にするためのゲートバルブ111b、搬送室110と連絡通路13との間には、成膜後のガラス基板2を封止室12側に搬送する際に各空間のガスを連通状態とするゲートバルブ13aが、それぞれ設けられている。
封止室12は、搬送ロボット120aを備えた搬送室120を中央部に有し、この搬送室120から放射状に、ガラス基板2上に形成された有機発光層5等の各層の状態を検査する検査室121、ガラス基板2上に形成された各層上に封止キャップ9を設ける封止キャップ固定室122、封止キャップ9をストックするキャップストック室123、封止キャップ9が設けられたガラス基板2を外部に搬出する排出室124、予備用に備えられている予備室125及び126が、それぞれ、所定の間隔を空けて配置されている。中央に配置された搬送室120と、検査室121、封止キャップ固定室122、キャップストック室123、予備室125および126、排出室124との間には、それぞれ、ガスの流通状態を開閉できるゲートバルブ121a〜126aが設けられている。また、キャップストック室123には、封止キャップ9をキャップストック室123内にストックするために搬入する際に内部を大気圧に等しくするためのゲートバルブ123bが設けられており、また、排出室124には、封止キャップ9が取り付けられたガラス基板2を外部に搬出する際に内部を大気圧に等しくするためのゲートバルブ124bが設けられている。
また、成膜室11の各室110〜116、連絡通路13、封止室12の各室120〜126には、図示しないガス供給ライン及びガス排出ラインがそれぞれ設けられており、各室の内部をそれぞれ所望のガスが充填された所望の圧力状態に調整できるようになっている。
この有機EL製造装置10によって有機ELディスプレイを製造するには、基板ストック室111にストックされたガラス基板2を搬送室110の搬送ロボット110aにより前処理室112に搬送して、所定の前処理を行った後、各蒸着室113〜116に搬送して、所定のガスが所定圧に充填された条件下において、陽極層3、正孔輸送層4、有機発光層5、電子輸送層6、陰極層7の各層を順次積層する。この間、搬送室110と各室111〜116との間に設けられたそれぞれのゲートバルブ111a〜116aを開閉し、図示しないガス供給ライン及びガス排出ラインから所定のガスの導出入が行われて各室のガス圧が調整されるが、ガラス基板2が大気に接触しないようになっている。
成膜室11にて各層が積層されたガラス基板2は、連絡通路13を通って、気密の状態を維持したまま、封止室12に搬送され、この封止室12の搬送室120に備えられた搬送ロボット120aにより、検査室121に搬送されて所定の検査が行われた後、封止キャップ固定室122に搬送されて、キャップストック室123にストックされた封止キャップ9がガラス基板2上の所定位置に設けられる。
そして、封止キャップ9が設けられて有機発光層5等の各層が封止状態になったガラス基板2は、排出室124から外部に搬出され、有機ELディスプレイが製造される。
有機ELディスプレイに使用される有機発光層5は、微量の水分が含まれていれば、ダークスポット発生の原因となるために、水分を含まないチャンバー中で成膜工程を行った後、大気中に取り出すことなく、そのまま水分を含まない状態とされて、各層上を覆うように封止キャップ9が設けられる。封止キャップ9は、ガラス基板2との接触面にUV硬化性の接着剤が塗布されて、ガラス基板2側からUV光が照射されてガラス基板2上に固定される。
有機ELディスプレイは、上記のように、水分が除去された状態にて作製される必要があり、その作製の量産性を向上させるためには、大面積のガラス基板を用いて、同時に複数の有機ELディスプレイのための成膜工程を行い、各有機ELディスプレイ毎に封止キャップを設け、その後、複数の有機ELディスプレイが形成された大面積のガラス基板を、各有機ELディスプレイが形成された部分毎に、スクライブラインを形成し、このスクライブラインに曲げモーメントを作用させて各有機ELディスプレイに分断することにより、同時に複数の有機ELディスプレイを製造することが必要である。
しかし、この方法では、ガラス基板2において、封止キャップ9が設けられた側と同じ面側にスクライブラインを形成する場合、封止キャップ9があるために、封止キャップ9に近接した位置にスクライブラインを形成することが困難であり、封止キャップ9から所定距離離れた位置にスクライブラインを形成しなければならないという問題がある。
また、ガラス基板2において、封止キャップ9が設けられた側と反対側にスクライブラインを設ける場合には、ガラス基板2から所定高さに突出する封止キャップ9のために、ガラス基板2を安定的に支持することが困難であり、安定してスクライブラインを形成することが容易ではない。また、スクライブラインが形成される反対側の封止キャップ9のガラス基板2との接触面には、硬化した接着剤が形成されており、この接着剤の影響によって、スクライブラインから分断(ブレーク)される方向が必ずしも所望の方向に進行せず、所望の分断面が得られないという問題もある。
さらに、この方法では、ガラス基板2上のそれぞれの有機ELディスプレイの領域となる部分ごとに、封止キャップを精密に設けなければならないため、封止キャップの貼付位置のアライメントに対応することが容易ではないという問題もある。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、有機発光層等の各層が複数設けられたガラス基板において、ガラス基板上に形成された各層の位置のアライメントに対応した封止部材の取付を容易に行い得る有機ELディスプレイ製造装置及び有機ELディスプレイ製造方法を提供することを目的とする。
発明の開示
上記課題を解決するため、本発明の有機ELディスプレイ製造装置は、真空または不活性ガス雰囲気中で、陽極層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、陰極層の各層を脆性基板上に、各有機ELディスプレイとなる部分毎に成膜する成膜手段と、真空または不活性ガス雰囲気中で、前記脆性基板上の各層を前記部分毎に気密状態に封止する封止部材を設ける封止手段とを具備し、前記脆性基板の各有機ELディスプレイとなる部分毎に用いられる所定部分領域に対してスクライブラインが封止前に形成されていると共に、前記封止部材は、前記脆性基板上に形成された各有機ELディスプレイとなる部分毎に積層された各層をそれぞれ収納する凹部が形成されていることを特徴とするものである。
上記本発明の有機ELディスプレイ製造装置において、前記成膜手段により各層が成膜される脆性基板上に、真空または不活性ガス雰囲気中で、前記脆性基板の各有機ELディスプレイとなる部分毎に用いられる所定部分領域に対してスクライブラインを形成するスクライブ手段を具備することが好ましい。
上記本発明の有機ELディスプレイ製造装置において、前記封止部材は、前記スクライブ手段により形成されるスクライブラインの位置に対応して予めスクライブラインが形成されている1枚の平板状に構成されていることが好ましい。
また、本発明の有機ELディスプレイの製造方法は、真空または不活性ガス雰囲気中で、陽極層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層、陰極層の各層を脆性基板上に、各有機ELディスプレイとなる部分毎に成膜する成膜工程と、真空または不活性ガス雰囲気中で、前記脆性基板上の各層を前記部分毎に気密状態に封止する封止部材を取り付ける封止部材取付工程とを具備し、前記脆性基板の各有機ELディスプレイとなる部分毎に用いられる所定部分領域に対してスクライブラインが封止部材取付工程前に形成されており、前記封止部材は、前記脆性基板上に形成された各有機ELディスプレイとなる部分毎に積層された各層をそれぞれ収納する凹部が形成されていることを特徴とするものである。
上記本発明の有機ELディスプレイの製造方法において、前記成膜工程において各層が成膜される脆性基板上に、真空または不活性ガス雰囲気中で、前記脆性基板の各有機ELディスプレイとなる部分毎に用いられる所定部分領域に対してスクライブラインを形成するスクライブ工程を具備することが好ましい。
上記本発明の有機ELディスプレイの製造方法において、前記封止部材は、前記スクライブ工程において形成されるスクライブラインの位置に対応して予めスクライブラインが形成されている1枚の平板状に構成されていることが好ましい。
上記本発明の有機ELディスプレイの製造方法において、前記脆性基板と前記封止部材とを同時に一度の分断操作により分断する工程をさらに具備することが好ましい。
【図面の簡単な説明】
図1は、本発明の有機ELディスプレイ製造装置の概略構成を示す模式的平面図である。
図2は、スクライブ室に備えられるガラスカッターを示す側面図である。
図3(a)〜(e)は、それぞれ、各層が成膜されたガラス基板に封止ガラスを取り付けて、各有機ELディスプレイ毎に分断する工程を工程毎に説明する断面図である。
図4は、本発明の他の有機ELディスプレイ製造装置の概略構成を示す模式的平面図である。
図5は、本発明のさらに他の有機ELディスプレイ製造装置の概略構成を示す模式的平面図である。
図6は、有機ELディスプレイの概略構成を示す斜視図である。
図7は、封止キャップを装着した有機ELディスプレイを示す断面図である。
図8は、従来の有機ELディスプレイ製造装置の概略構成を示す模式的平面図である。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の有機ELディスプレイ製造装置について、図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の有機ELディスプレイ製造装置100の概略構成を示す構成図である。なお、製造される有機ELディスプレイ装置は、図6に示す構造と同様の構造になっている。
この有機ELディスプレイ製造装置100は、ガラス基板(脆性基板)2上に有機発光層5等の各層の成膜工程を行う成膜室11と、成膜後のガラス基板2上に封止ガラスを設ける封止室20とを有し、この成膜室11と封止室20とは、連絡通路13によって連結されている。
成膜室11は、搬送ロボット110aを備えた搬送室110を中央部に有し、この搬送室110から放射状に、ガラス基板2をストックする基板ストック室111、成膜前のガラス基板2に対して洗浄等の前処理を行う前処理室112、陽極層3、正孔輸送層4、有機発光層5、電子輸送層6、陰極層7の各層をガラス基板2に蒸着する複数の蒸着室113〜116が、それぞれ、所定の間隔を空けて配置されている。中央部に配置された搬送室110と、基板ストック室111及び前処理室112及び各蒸着室113〜116との間には、それぞれ、ガスの流通状態を開閉できるゲートバルブ111a〜116aが設けられている。また、基板ストック室111及び前処理室112及び各蒸着室113〜116には、それぞれ図示しないガス供給ライン及びガス排出ラインが設けられており、各室の内部を所望のガスが充填された所望の圧力状態に調整できるようになっている。
封止室20は、搬送ロボット210aを備えた搬送室210を中央部に有し、この搬送室210から放射状に、ガラス基板2上に形成された有機発光層5等の各層の状態を検査する検査室216と、ガラス基板2を各有機ELディスプレイ毎に分断するためのスクライブラインをガラス基板2の表面上に形成するスクライブ室30と、ガラス基板2上に形成された有機発光層5等の各層を覆う封止ガラス300をストックする封止ガラスストック室213と、ガラス基板2上に封止ガラス300を載置する封止ガラス固定室212と、封止ガラス300のガラス基板2との当接面に貼付されたUV硬化性接着剤を硬化させるためにUV光を照射するUV照射室214と、封止ガラス300が貼り付けられたガラス基板2を外部に排出する排出室215とが、それぞれ、所定の間隔を空けて配置されている。
スクライブ室30には、ガラス基板2の所定の位置にスクライブラインを形成するためのカッター21(図2参照)が備えられる。
図2は、スクライブ室30に備えられるカッター21を示している。
このカッター21は、超硬または焼結ダイヤモンド等の高硬度を有する素材により形成された切刃22を有している。この切刃22は、中央部を最大径とする両円錐形状に形成されており、この切刃22の両端部は、下面を開放したホルダ23によって、その円錐形の軸を中心軸として回転できるように回転自在に支持されて取り付けられている。
このカッター21によりガラス基板2上にスクライブラインを形成するには、ホルダ23の下面から突出した切刃22の中央部をガラス基板2上の所望の位置に押し付けて切刃22を回転させながら所定の方向に走行することにより行う。
また、封止ガラスストック室213にストックされた封止ガラス300には、予め、ガラス基板2上に形成される有機発光層5等の各層が成膜された位置に対応して、この各層を覆う凹部が形成されていると共に、各有機ELディスプレイに分断するためのスクライブラインが形成されている。
この有機ELディスプレイ製造装置100によって有機ELディスプレイを製造する場合、まず、成膜室11の基板ストック室111にストックされたガラス基板2を搬送室110の搬送ロボット110aにより前処理室112に搬送して、所定の前処理を行った後、各蒸着室113〜116に搬送して、所定のガスが所定圧に充填された条件の下に各層の成膜を行い、陽極層3、正孔輸送層4、有機発光層5、電子輸送層6、陰極層7の各層を順次、ガラス基板2上に積層して成膜する。この間、搬送室110と各室111〜116との間に設けられたゲートバルブ111a〜116aをそれぞれ開閉し、図示しないガス供給ライン及びガス排出ラインから所定のガスの導出入が行われるが、大気とは連通しないようにされる。
成膜室11にて各層が積層されたガラス基板2は、連絡通路13を通って、気密状態が保たれたまま封止室20に搬送される。
以下、各層が成膜されたガラス基板2に封止ガラス300を取り付ける工程について、図3(a)〜(e)を参照して説明する。
連絡通路13を通って封止室20に搬送されたガラス基板2は、図3(a)に示すように、所定の間隔毎に陽極層3等の各層が積層された状態となっている。搬送室210にガラス基板2が搬送されると、搬送室210の搬送ロボット210aは、このガラス基板2を検査室216に搬送し、所定の検査が行われた後、スクライブ室30に搬入する。
スクライブ室30では、搬入されたガラス基板2を、光学アライメントを行い位置ズレ補正をした上で、予め設定されたスクライブピッチデータに従ってX・Yのクロススクライブを行う。このクロススクライブでは、図2に示す切刃22を回転させながら走行することにより、図3(b)に示すように、ガラス基板2上の有機ELディスプレイとなる部分ごとにスクライブラインSを形成する。
次に、搬送室210の搬送ロボット210aにより、スクライブラインSが形成されたガラス基板2を封止ガラス固定室212に搬入し、封止ガラスストック室213にストックされた封止ガラス300を、ガラス基板2上に形成されたアライメントマークと封止ガラス300上に形成されたアライメントマークとが一致するように位置合わせして載置する。封止キャップ300は、ガラス基板2との接触面にUV硬化性接着剤を介在させて載置される。
次に、搬送室210の搬送ロボット210aにより、封止ガラス300が載置されたガラス基板2をUV照射室214に搬入し、図3(d)に示すように、ガラス基板2の裏面側からUV光を照射して、封止ガラス300のガラス基板2に当接する当接面に塗布されているUV硬化性接着剤を硬化させて、封止ガラス300をガラス基板2に固定する。
次に、搬送室210の搬送ロボット210aにより、封止ガラス300が固定されたガラス基板2を排出室215に搬送し、排出室215の減圧状態をゲートバルブ215bを開放することによって大気圧に等しくして、排出室215の外部に封止ガラス300が取り付けられたガラス基板2を搬出する。
最後に、図3(e)に示すように、ガラス基板2及び封止ガラス300のそれぞれに所定のパターンに形成されたスクライブラインSをブレークして、各有機ELディスプレイ毎に分断する。
以上に説明したように、本発明のELディスプレイ製造装置100によれば、ガラス基板2上に陽極層3等の各層を成膜した後、予め所定の位置にスクライブラインSを形成した封止ガラス300をガラス基板2上に載置して固定する。このように、1枚板のガラス基板2に対して1枚板の封止ガラス300を貼り付けることによりガラス基板2上の有機発光層5等を封止するため、封止ガラス300の張り付けのためのアライメントが容易である。
したがって、それぞれの有機ELディスプレイの層が成膜された位置のそれぞれに対応して封止キャップを取り付ける必要がないため、ガラス基板2に形成された各層が150面〜200面といった多面取りになっている場合に特に有効である。
本実施の形態では、予め、封止ガラス300の所定の位置にスクライブラインが形成されている場合を説明したが、予めスクライブ加工がされていない封止ガラス300をそのままチャンバー内でスクライブ加工されたガラス基板2へ貼り付けた後、チャンバーの外で封止ガラス300にスクライブ加工を施し、各有機ELディスプレイ毎に分断してもよい。
また、図4は、本発明の他の有機ELディスプレイ製造装置100の概略構成を示す構成図である。なお、製造される有機ELディスプレイ装置は、図6に示す構造と同様の構造になっている。
この有機ELディスプレイ製造装置100では、ガラス基板2を各有機ELディスプレイ毎に分断するためのスクライブラインSをガラス基板2の表面上に形成するためのスクライブ室30が、成膜室11及び封止室20の外部に設けられている。また、封止室20には、予備用に備えられている予備室211が設けられている。他の点は、図1に示す有機ELディスプレイ製造装置と同様の構成になっているので、詳しい説明は省略する。
この有機ELディスプレイ製造装置を用いて有機ELディスプレイを製造する場合には、まず、スクライブ室30にて、ガラス基板2上の所望の位置にスクライブラインSを形成した後、スクライブラインSが形成されたガラス基板2を成膜室11の基板ストック室111に搬入する。その後、成膜室11の各室112〜116に搬送室110の搬送ロボット110aにより搬送し、有機ELディスプレイの陽極層3等の各層を成膜する。
そして、各層の成膜がなされたガラス基板2は、連絡通路13を介して封止室20に搬送され、封止室20の搬送室210の搬送ロボット210aによって、封止室20の各室211〜216に搬送されガラス基板2上の各有機ELディスプレイとなる領域に封止ガラス300を装着する工程がなされる。封止ガラス300が装着されたガラス基板2は、排出室215を通って外部に排出される。
また、図5は、本発明のさらに他の有機ELディスプレイ製造装置100の概略構成を示す構成図である。なお、製造される有機ELディスプレイ装置は、図6に示す構造と同様の構造になっている。
この有機ELディスプレイ製造装置100では、ガラス基板2を各有機ELディスプレイ毎に分断するためのスクライブラインSをガラス基板2の表面上に形成するためのスクライブ室30が成膜室11内に設けられている。また、封止室20には、予備として備えられる予備室211が設けられている。
この有機ELディスプレイ製造装置100を用いて有機ELディスプレイを製造する場合、まず、基板ストック室111にストックされたガラス基板2を搬送室110の搬送ロボットl10aによって、ガラス基板2を成膜するための各室112〜116に順次搬送し、有機ELディスプレイの各層を成膜する。その後、搬送ロボット110aによって、有機ELディスプレイの各層が成膜されたガラス基板2をスクライブ室30に搬送し、このスクライブ室30にてガラス基板2の表面上の所望の位置にスクライブラインSを形成する。なお、成膜室11におけるガラス基板2上への成膜工程及びスクライブライン形成工程は、上記のように成膜工程を行ってからスクライブラインSを形成する他、先にガラス基板2上にスクライブラインSを形成してから成膜工程を行うようにしてもよい。
そして、各層の成膜及びスクライブラインの形成が行われたガラス基板2は、連絡通路13を介して封止室20に搬送され、封止室20の搬送室210の搬送ロボット210aによって、封止室20内の各室212〜216に搬送され、ガラス基板2上の各有機ELディスプレイとなる領域に封止ガラス300を装着する工程がなされる。封止ガラス300が装着されたガラス基板2は、排出室215を通って外部に排出される。
以上に説明したように、本発明の有機ELディスプレイ製造装置は、ガラス基板2上に封止ガラス300を装着する前に、ガラス基板2上にスクライブラインSを形成している。この場合、図1及び図5に示すように、ガラス基板2上に有機ELディスプレイとなる各層を形成した後に、真空または不活性ガスの雰囲気中でスクライブラインSを形成する工程を行うようにしてもよく、また、図4に示すように、成膜工程を行う前に、外部にて予めガラス基板2上にスクライブラインSを形成するようにしてもよい。
産業上の利用可能性
本発明の有機ELディスプレイ製造装置及び有機ELディスプレイの製造方法は、ガラス基板上に陽極層等の各層を成膜した後、1枚板のガラス基板に対して1枚板の封止部材を貼り付ける。これによりガラス基板と封止部材とのアライメントが容易になる。
Claims (13)
- 第1スクライブラインが形成された第1面を有する脆性基板と、
前記脆性基板の第1面に設けられた複数の有機発光構造体と、
前記脆性基板の第1面に設けられた封止部材であって、前記複数の有機発光構造体をそれぞれ封止するように複数の凹部が形成された第1面と、前記封止部材の第1面とは反対側の第2面であって、第2スクライブラインが形成された第2面とを有する封止部材と
を含む構造体を提供する提供手段と、
前記封止部材を前記脆性基板の第1面に固定する固定手段と、
前記第1スクライブラインに沿って前記構造体を分断する分断手段と
を備えた有機ELディスプレイ製造装置。 - 前記提供手段は、
前記封止部材の第2面に前記第2スクライブラインを形成するスクライブ手段と、
前記第2スクライブラインが形成された封止部材を前記脆性基板に載置する載置手段と
を備えた、請求項1に記載の有機ELディスプレイ製造装置。 - 前記提供手段は、
前記封止部材を前記脆性基板に載置する載置手段と
前記載置された封止部材の第2面に前記第2スクライブラインを形成するスクライブ手段と
を備えた、請求項1に記載の有機ELディスプレイ製造装置。 - 前記載置手段は、真空または不活性ガス雰囲気中で、前記封止部材を載置する、請求項2または請求項3に記載の有機ELディスプレイ製造装置。
- 前記スクライブ手段は、真空または不活性ガス雰囲気中で、前記第1スクライブラインを形成することを特徴とする請求項2または請求項3に記載の有機ELディスプレイ製造装置。
- 前記封止部材は、1枚の平板である、請求項1に記載の有機ELディスプレイ製造装置。
- 第1スクライブラインが形成された第1面を有する脆性基板と、
前記脆性基板の第1面に設けられた複数の有機発光構造体と、
前記脆性基板の第1面に設けられた封止部材であって、前記複数の有機発光構造体をそれぞれ封止するように複数の凹部が形成された第1面と、前記封止部材の第1面とは反対側の第2面であって、第2スクライブラインが形成された第2面とを有する封止部材と
を含む構造体を提供する提供工程と、
前記封止部材を前記脆性基板の第1面に固定する固定工程と、
前記第1スクライブラインに沿って前記構造体を分断する分断工程と
を包含する有機ELディスプレイ製造方法。 - 前記提供工程は、
前記封止部材の第2面に前記第2スクライブラインを形成するスクライブ工程と、
前記第2スクライブラインが形成された封止部材を前記脆性基板に載置する載置工程と
を包含する、請求項7に記載の有機ELディスプレイ製造方法。 - 前記提供工程は、
前記封止部材を前記脆性基板に載置する載置工程と
前記載置された封止部材の第2面に前記第2スクライブラインを形成するスクライブ工程と
を包含する、請求項7に記載の有機ELディスプレイ製造方法。 - 前記載置工程において、真空または不活性ガス雰囲気中で、前記封止部材を載置する、請求項8または請求項9に記載の有機ELディスプレイ製造方法。
- 前記スクライブ工程において、真空または不活性ガス雰囲気中で、前記第1スクライブラインを形成することを特徴とする請求項8または請求項9に記載の有機ELディスプレイ製造方法。
- 前記封止部材は、1枚の平板である、請求項7に記載の有機ELディスプレイ製造方法。
- 前記脆性基板と前記封止部材とを同時に一度の分断操作により分断する工程をさらに具備することを特徴とする請求項7に記載の有機ELディスプレイ製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001180900 | 2001-06-14 | ||
JP2001180900 | 2001-06-14 | ||
PCT/JP2002/005462 WO2002104079A1 (fr) | 2001-06-14 | 2002-06-03 | Appareil de production permettant un affichage el organique et procede de production de cet affichage el organique |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2002104079A1 JPWO2002104079A1 (ja) | 2004-10-07 |
JP3602847B2 true JP3602847B2 (ja) | 2004-12-15 |
Family
ID=19021246
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003506247A Expired - Fee Related JP3602847B2 (ja) | 2001-06-14 | 2002-06-03 | 有機elディスプレイ製造装置及び有機elディスプレイの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3602847B2 (ja) |
KR (1) | KR100549100B1 (ja) |
CN (1) | CN100350645C (ja) |
TW (1) | TWI272033B (ja) |
WO (1) | WO2002104079A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004355943A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Nippon Seiki Co Ltd | 封止用基板の製造方法及び有機elパネルの製造方法 |
JP4476073B2 (ja) * | 2004-04-08 | 2010-06-09 | 東北パイオニア株式会社 | 有機el素子の製造方法及び製造装置 |
JP4827842B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-11-30 | 株式会社アルバック | 封止装置及び封止方法 |
KR100674679B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2007-01-25 | 주식회사 아바코 | 유기발광소자의 봉지 시스템 |
JP4755002B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2011-08-24 | パイオニア株式会社 | 光デバイス用の封止部材の製造方法、光デバイスの製造方法、光デバイス、および光デバイス用の封止部材 |
JP5282786B2 (ja) * | 2008-11-13 | 2013-09-04 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子 |
KR101642985B1 (ko) * | 2009-06-29 | 2016-07-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광소자의 제조방법 |
JP2011060749A (ja) * | 2009-09-07 | 2011-03-24 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 透明電極用有機電極の形成方法 |
CN101882669A (zh) * | 2010-03-23 | 2010-11-10 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 有机发光显示器后段工艺封装组件及封装方法 |
CN101988190A (zh) * | 2010-05-25 | 2011-03-23 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 镀膜基片前置处理装置及前置处理方法 |
CN103022379A (zh) * | 2011-09-22 | 2013-04-03 | 北儒精密股份有限公司 | 挠性有机发光二极管的封装设备 |
JP5979666B2 (ja) * | 2012-08-21 | 2016-08-24 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 有機el素子の製造装置及び方法、cvd薄膜の製造装置及び方法 |
CN104733646B (zh) * | 2015-02-10 | 2017-05-17 | 四川虹视显示技术有限公司 | 一种oled真空老化系统 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07130472A (ja) * | 1993-11-04 | 1995-05-19 | Nippondenso Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子 |
JP3353699B2 (ja) * | 1998-04-28 | 2002-12-03 | 株式会社豊田中央研究所 | 有機電界発光素子 |
JP2000003782A (ja) * | 1998-06-12 | 2000-01-07 | Casio Comput Co Ltd | 電界発光素子 |
TW504941B (en) * | 1999-07-23 | 2002-10-01 | Semiconductor Energy Lab | Method of fabricating an EL display device, and apparatus for forming a thin film |
JP2001068265A (ja) * | 1999-08-24 | 2001-03-16 | Toyota Motor Corp | 有機el素子及びその製造方法 |
-
2002
- 2002-06-03 KR KR1020037011172A patent/KR100549100B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-06-03 JP JP2003506247A patent/JP3602847B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-03 WO PCT/JP2002/005462 patent/WO2002104079A1/ja active IP Right Grant
- 2002-06-03 CN CNB028118456A patent/CN100350645C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-07 TW TW091112379A patent/TWI272033B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100350645C (zh) | 2007-11-21 |
WO2002104079A1 (fr) | 2002-12-27 |
KR20040012723A (ko) | 2004-02-11 |
TWI272033B (en) | 2007-01-21 |
JPWO2002104079A1 (ja) | 2004-10-07 |
KR100549100B1 (ko) | 2006-02-02 |
CN1516989A (zh) | 2004-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3602846B2 (ja) | 有機elディスプレイ製造装置及び有機elディスプレイの製造方法 | |
JP3602847B2 (ja) | 有機elディスプレイ製造装置及び有機elディスプレイの製造方法 | |
KR100838077B1 (ko) | 평판 표시장치의 제조방법 | |
JP4227134B2 (ja) | 平板表示装置の製造方法、平板表示装置、及び平板表示装置のパネル | |
KR100603345B1 (ko) | 평판 표시장치의 제조방법, 평판 표시장치, 및 평판표시장치의 패널 | |
KR20190071795A (ko) | Oled 기판 및 그 제조 방법 | |
KR100711879B1 (ko) | 평판표시장치 및 그 제조방법 | |
US9034416B2 (en) | Method of fabricating organic electroluminescent display device | |
JP2006244933A (ja) | 自発光パネルおよび自発光パネルの製造方法 | |
KR100959111B1 (ko) | 유기전계발광소자의 제조장치 및 제조방법 | |
KR20090069557A (ko) | 실런트 경화용 자외선 조사 장치 | |
KR20110091197A (ko) | 미세섬모를 가지는 접착시스템을 이용한 구조물의 상향식 가공방법 및 가공장치 | |
KR100711895B1 (ko) | 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 평판표시장치의 제조방법 | |
JP2008223067A (ja) | 成膜用マスク部材、成膜用マスク部材の製造方法、マスク成膜方法、および成膜装置 | |
JP2007109592A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法 | |
JP2002008855A (ja) | 有機elパネル | |
US20220136093A1 (en) | Mask, mask fabrication method, and mask assembly | |
KR100649982B1 (ko) | 보호 캡 합착 공정 라인 및 그를 이용한 보호 캡 합착 방법 | |
KR100784665B1 (ko) | 기판의 분할증착용 마스크 장치 및 이를 이용한패턴형성방법 | |
KR100702506B1 (ko) | 유기 전계 발광 소자 및 그에 사용되는 편광판 제조방법 | |
KR102682786B1 (ko) | 증착 장비의 기판 고정 장치 및 방법 | |
KR100702503B1 (ko) | 유기 전계 발광 소자 및 그에 사용되는 편광판 제조방법 | |
KR101121998B1 (ko) | 평판 표시소자의 제조장치 및 제조방법 | |
US20100055816A1 (en) | Light Emitting Device Manufacturing Apparatus and Method | |
KR100746985B1 (ko) | 유기 전계 발광 소자의 봉지방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040813 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040913 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040924 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071001 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081001 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091001 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101001 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101001 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111001 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111001 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121001 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131001 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |