JP3535687B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームお
よびそれを用いた半導体装置に関し、特に、シンクロナ
スDRAM(Dynamic Random Acce
ss Memory)などの半導体メモリにおける耐ノ
イズ性能の向上に適用して有効な技術に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、多
ピン化、薄型化に対応するパッケージング技術としてL
OC構造の半導体装置からなるメモリが広く知られてい
る。
【0003】このLOC構造のメモリは、半導体チップ
の上方にリードフレームのリードの先端部が位置してお
り、当該半導体チップの中央部付近に設けられた電極部
とリードの先端部とをボンディングワイヤによって電気
的に接続し、熱硬化性樹脂などで半導体チップが位置し
ているキャビティを封止している。
【0004】また、半導体チップの電極部の周辺近傍に
は、電源電圧およびグランド電位を供給する補助リード
である、いわゆる、バスバーがそれぞれ設けられ、バス
バーと所定の電極とをボンディングワイヤにより電気的
に接続することにより、一括して電源電圧およびグラン
ド電位の供給を行っている。
【0005】なお、この種の半導体装置について詳しく
述べている例としては、1993年5月31日、日経P
B社発行、香山晋、成瀬邦彦(監修)、「実践講座 V
LSIパッケージング技術(下)」P179〜P181
があり、この文献には、LOC構造のようなリードフレ
ームを用いて構成されたVSMP(VerticalS
urface Mount Package)の半導体
装置の構造などが記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
なバスバーによる電源電圧、グランド電位への接続技術
では、次のような問題点があることが本発明者により見
い出された。
【0007】すなわち、電源電圧およびグランド電位が
一括してバスバーからボンディングワイヤを介して所定
の電極に電気的に接続されるので、たとえば、センスア
ンプの電源部や出力バッファ系などから発生するノイズ
がバスバー全体に回り込んでしまい、そのノイズにより
メモリが誤動作する恐れが生じてしまう。
【0008】本発明の目的は、ノイズ発生源の回路から
発生されるノイズに起因する電源ノイズを減少し、耐ノ
イズ性能を大幅に向上させることのできるリードフレー
ムおよびそれを用いた半導体装置を提供することにあ
る。
【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0011】すなわち、本発明のリードフレームは、半
導体チップの中央部付近に設けられた電極の内、電源供
給用電極とボンディングされるリードフレームのインナ
リードが、ノイズ発生源の回路と電気的に接続された該
電源供給用電極とボンディングされる第1のインナリー
ドと、ノイズ発生源とならない回路と電気的に接続され
た該電源供給用電極とボンディングされる第2のインナ
リードとに分割されたスプリット形状よりなるものであ
る。
【0012】また、本発明のリードフレームは、前記第
2のインナリードが、電源供給用電極が一括してボンデ
ィングされる補助リードと電気的に接続された構造より
なるものである。
【0013】さらに、本発明のリードフレームは、前記
電源供給用電極が、電源電圧を供給する電源電圧用電極
またはグランド電位を供給するグランド電位用電極の少
なくともいずれか一方よりなるものである。
【0014】また、本発明の半導体装置は、前記リード
フレームを用いて構成されたものである。
【0015】以上のことにより、ノイズ発生源の回路と
電気的に接続された電源供給用電極とボンディングされ
る第1のインナリードと、ノイズ発生源とならない回路
と電気的に接続された電源供給用電極とボンディングさ
れる第2のインナリードとのボンディング距離を長くす
ることができるので、第1のインナリードから伝達する
ノイズをリードフレームのインダクタンス成分により大
幅に減少することができるので、第2のインナリードと
ボンディングされた電源供給用電極のノイズの回り込み
を小さくでき、半導体装置の耐ノイズ性能を大幅に向上
することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
【0017】図1は、本発明の一実施の形態による一部
を破断したシンクロナスDRAMの外観斜示図、図2
は、本発明の一実施の形態によるシンクロナスDRAM
の説明図である。
【0018】本実施の形態において、たとえば、表面実
装形パッケージの1種であるSOJ(Small Ou
tline J−leaded Package)形の
樹脂封止パッケージからなるシンクロナスDRAM半導
体装置であるメモリ(半導体装置)1は、図1に示すよ
うに、半導体チップ2の上方に絶縁テープを介してリー
ドフレーム3が位置するLOC構造となっている。
【0019】また、半導体チップ2の中央部付近には、
電極であるボンディングパッドBPが配置されており、
これらボンディングパッドBPは、リードフレーム3に
形成されたインナリードL1とアウタリードL2とから
構成される外部引出線であるリードLとボンディングワ
イヤ4によってそれぞれ電気的に接続されている。
【0020】さらに、ボンディングパッドBPの周辺近
傍には、電源電圧を供給する棒状のバスバー(補助リー
ド)BB1およびグランド電位を供給する、同じく棒状
のバスバー(補助リード)BB2が設けられており、電
源電圧またはグランド電位が供給されるボンディングパ
ッドBPは、このバスバーBB1,BB2とボンディン
グワイヤ4により電気的に接続されている。
【0021】そして、半導体チップ2、ボンディングワ
イヤ4、インナリードL1が、たとえば、エポキシレジ
ンなどの樹脂体5により封止され、この樹脂体5の対向
する1対の側面から突出しているアウタリードL2はJ
字状に形成されている。
【0022】次に、メモリ1に設けられたリードフレー
ム3のインナリードL1について図2を用いて説明す
る。ここで、図2においては、ボンディングワイヤ4に
よるボンディング位置は、電源電圧Vccとグランド電
位Vssだけを示すものとする。
【0023】まず、メモリ1は、たとえば、64Mビッ
トで、総ピン数は54ピンにより構成され、そのうち、
1,14,27ピンが電源電圧Vcc用のピンとなり、
28,41,54ピンがグランド電位Vss用のピンと
して割り付けられている。
【0024】そして、1,14,27,28,41,5
4ピンは、それぞれ1本のアウタリードL2が樹脂体5
(図1)内で2方向に分割されたスプリット形状となっ
て形成されている。
【0025】また、1,14,27ピンにおけるそれぞ
れの2方向に分かれたインナリードL1の内、2方向に
分割された各々の一方のインナリード(第2のインナリ
ード)Ls1はボンディングパッドBPの一方の周辺近
傍に位置するバスバーBB1と電気的に接続されてい
る。
【0026】さらに、他方の各々のインナリード(第1
のインナリード)Ls2は、たとえば、センスアンプの
電源回路や出力バッファなどの動作時にノイズが発生し
やすい回路に電源電圧Vccを供給するためのボンディ
ングパッド(電源供給用電極、電源電圧用電極)BPn
1の近傍に位置するように形成されている。
【0027】そして、それぞれのボンディングパッドB
Pn1は、最もボンディング距離が短い所に位置する専
用のインナリードLs2とボンディングワイヤ4により
電気的に接続され、電源電圧Vccが供給されることに
なる。
【0028】また、その他のノイズが放出されにくい回
路などに電源電圧Vccを供給するボンディングパッド
(電源供給用電極、電源電圧用電極)BPc1は、各々
のボンディングパッドBPc1の近傍のバスバーBB1
にボンディングワイヤ4により電気的に接続することに
より一括して電源電圧Vccを供給している。
【0029】次に、28,41,54ピンにおいても、
それぞれ1本のアウタリードL2が樹脂体5内で2方向
に分割されたスプリット形状となって形成されている。
【0030】そして、2方向に分かれたインナリードに
おいて、一方のインナリード(第2のインナリード)L
s3はボンディングパッドBPの一方の周辺近傍に位置
するバスバーBB1とそれぞれ電気的に接続されてい
る。
【0031】また、28,41,54ピンにおける他方
のインナリード(第1のインナリード)Ls4は、セン
スアンプの電源回路や出力バッファなどのノイズが放出
されやすい回路にグランド電位Vssが供給される所定
のボンディングパッド(電源供給用電極、グランド電位
用電極)BPn2とボンディングワイヤ4により電気的
に接続が行われる。
【0032】よって、それぞれのボンディングパッドB
Pn2は、最もボンディング距離が短い所に位置する専
用のインナリードLs4とボンディングワイヤ4により
電気的に接続され、グランド電位Vssが供給されるこ
とになる。
【0033】また、その他のノイズが放出されにくい回
路などにグランド電位Vssを供給するボンディングパ
ッド(電源供給用電極、グランド電位用電極)BPc2
は、各々のボンディングパッドBPc2の近傍のバスバ
ーBB2にボンディングワイヤ4により電気的に接続す
ることにより一括して電源電圧Vssを供給している。
【0034】そして、ボンディングパッドBPn1,B
Pn2がボンディングされるインナリードのLs2,L
s4とボンディングパッドBPc1,BPc2がボンデ
ィングされるバスバーBB1,BB2のボンディング位
置の距離を大きくする、すなわち、ボンディングパッド
BPc1,BPc2とボンディングパッドBPn1,B
Pn2との電気的な接続経路を大きくすることにより、
ボンディングパッドBPc1,BPc2とボンディング
パッドBPn1,BPn2のインダクタンスをそれぞれ
大きくできるので、ボンディングパッドBPn1,BP
n2から発生するノイズを減衰し、ボンディングパッド
BPc1,BPc2に入力されるノイズの影響を小さく
させることができる。
【0035】それにより、本実施の形態1では、ノイズ
が発生する各々のボンディングパッドBPn1,BPn
2とボンディグされる専用のインナリードLn2,Ls
4を設け、ノイズが発生しにくいボンディングパッドB
Pc1,BPc2がボンディングされるバスバーBB
1,BB2とのボンディング距離を大きくすることによ
り、ボンディングパッドBPn1,BPn2から発生す
るノイズを減衰するのでボンディングパッドBPc1,
BPn2にまわりこむノイズを減少させることができ、
メモリ1の耐ノイズ性能を向上することができる。
【0036】また、本実施の形態においては、ノイズが
発生する各々のボンディングパッドBPn1,BPn2
とボンディグされる専用のインナリードLn2,Ls4
を設けたが、たとえば、図3に示すように、ノイズが発
生しにくいボンディングパッドBPc1,BPc2を一
括してボンディングし、電源電圧Vccを供給するバス
バーBB1と、専用のインナリードLs2を延長し、ノ
イズが発生する各々のボンディングパッドBPn1,B
Pn2を一括してボンディングし、電源電圧Vccを供
給できるようにバスバー形状に形成したインナリードL
s2を設けた3分割に分割したスプリット構造とするこ
とにより、ノイズが発生する各々のボンディングパッド
BPn1,BPn2とノイズが発生しにくいボンディン
グパッドBPc1,BPc2のボンディング距離を大き
くするようにしてもよい。
【0037】さらに、この場合、グランド電位を供給す
るインナリードも電源電圧Vccを供給するインナリー
ドLs1,Ls2と同様の形状とする。ここで、図3に
おいては、ボンディングワイヤ4によるボンディング位
置は、電源電圧Vccだけを示すものとする。
【0038】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
【0039】たとえば、前記実施の形態によれば、2方
向に分割されたインナリードは、センスアンプの電源回
路や出力バッファなどの動作時にノイズが発生しやすい
回路に電源電圧を供給するためのインナリードと、同じ
くノイズが放出されやすい回路にグランドを供給するイ
ンナリードが設けられたが、たとえば、図4に示すよう
に、電源電圧Vccを供給するインナリードL1だけに
センスアンプの電源回路や出力バッファなどの動作時に
ノイズが発生しやすい回路に電源電圧を供給するための
インナリードLs2を設けるようにしても、良好にノイ
ズが発生しにくいボンディングパッドBPc1,BPc
2にまわりこむノイズを減少させることができ、メモリ
1の耐ノイズ性能を向上することができる。
【0040】ここでも、図4においては、ボンディング
ワイヤ4によるボンディング位置は、電源電圧Vccだ
けを示すものとする。
【0041】また、前記実施の形態においては、シンク
ロナスDRAMのメモリについて記載したが、バスバー
が設けられた半導体装置であれば良好に半導体装置の耐
ノイズ性能を向上することができる。
【0042】
【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0043】(1)本発明によれば、第1のインナリー
ドと第2のインナリードのボンディング距離を長くする
ことにより、第1のインナリードから伝達するノイズを
リードフレームのインダクタンス成分により大幅に減少
することができる。
【0044】(2)また、本発明では、前記(1)によ
り、半導体装置製造における歩留まりを向上でき、半導
体装置の耐ノイズ性能も大幅に向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態による一部を破断したシ
ンクロナスDRAMの外観斜示図である。
【図2】本発明の一実施の形態によるシンクロナスDR
AMの説明図である。
【図3】本発明の他の実施の形態によるシンクロナスD
RAMの説明図である。
【図4】本発明の他の実施の形態によるシンクロナスD
RAMの説明図である。
【符号の説明】
1 メモリ(半導体装置) 2 半導体チップ 3 リードフレーム 4 ボンディングワイヤ 5 樹脂体 BP ボンディングパッド L リード L1 インナリード Ls1 インナリード(第2のインナリード) Ls2 インナリード(第1のインナリード) Ls3 インナリード(第2のインナリード) Ls4 インナリード(第1のインナリード) L2 アウタリード BB1 バスバー(補助リード) BB2 バスバー(補助リード) BPn1 ボンディングパッド(電源供給用電極、電源
電圧用電極) BPn2 ボンディングパッド(電源供給用電極、グラ
ンド電位用電極) BPc1 ボンディングパッド(電源供給用電極、電源
電圧用電極) BPc2 ボンディングパッド(電源供給用電極、グラ
ンド電位用電極) Vcc 電源電圧 Vss グランド電位
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/50

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップの上方にインナリードが位
    置し、前記半導体チップの中央部付近に設けられた複数
    電源供給用電極を有する電極と前記インナリードの先
    端部がボンディングワイヤにより接続され、前記半導体
    チップ、ボンディングワイヤ、インナリードが樹脂体に
    より封止され、前記インナリードに連続するアウタリー
    ドが前記樹脂体の側面から突出するLOC構造の半導体
    装置であって、前記複数の電源供給用電極は、ノイズ発生源の回路と電
    気的に接続された第1の電源供給用電極とノイズ発生源
    とならない回路と電気的に接続された複数の第2の電源
    供給用電極からなり、 前記アウタリードと連続するインナリードは前記第1
    の電源供給用電極とボンディングされる第1のインナリ
    ードと、前記複数の第2の電源供給用電極とボンディン
    グされる第2のインナリードとに分割されたスプリット
    形状よりなり、前記複数の第2の電源供給用電極を共通に接続して前記
    半導体チップの上方に位置する補助リードを有し、 さらに、前記第2のインナリードは、前記補助リードと
    電気的に接続されて、前記補助リードを介して前記複数
    の第2の電源供給用電極とボンディングされた構造より
    なることを特徴とするLOC構造の半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のLOC構造の半導体装置
    において、前記複数の電源供給用電極が、電源電圧を供
    給する電源電圧用電極またはグランド電位を供給するグ
    ランド電位用電極の少なくともいずれか一方であること
    を特徴とするLOC構造の半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載のLOC構造の半
    導体装置において、前記補助リードは、前記インナリー
    ドの先端部と前記複数の電源供給用電極を有する電極と
    の間の前記複数の電源供給用電極を有する電極近傍に設
    けられていることを特徴とするLOC構造の半導体装
    置。
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