JP3523769B2 - 半導体装置の製造方法およびリードフレーム - Google Patents

半導体装置の製造方法およびリードフレーム

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JP3523769B2
JP3523769B2 JP6955897A JP6955897A JP3523769B2 JP 3523769 B2 JP3523769 B2 JP 3523769B2 JP 6955897 A JP6955897 A JP 6955897A JP 6955897 A JP6955897 A JP 6955897A JP 3523769 B2 JP3523769 B2 JP 3523769B2
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    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造技術に
関し、特に、樹脂封止の際のフレーム反りを防止する半
導体装置の製造方法およびリードフレームに関する。
【0002】
【従来の技術】以下に説明する技術は、本発明を研究、
完成するに際し、本発明者によって検討されたものであ
り、その概要は次のとおりである。
【0003】表面実装形でかつ樹脂封止形の半導体装置
の一例としてQFP(Quad Flat Package)が知られてい
る。
【0004】ここで、一度に多数のQFPを製造する技
術として、複数のリード部と半導体チップを搭載するタ
ブとを有する単位フレーム部が行列配置されたリードフ
レーム(以降、マトリックスフレームと呼ぶ)を用いる
技術があり、この技術は、例えば、特開平5−2994
57号公報に記載されている。
【0005】なお、QFPにおいては、半導体チップの
電極の配列などにより、マトリックスフレームの単位フ
レーム部における列方向と行方向とでリード本数が異な
る場合、樹脂封止後の樹脂本体部はその表裏面が長方形
に形成される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術において、樹脂本体部の表裏面が長方形に形成され、
かつタブの大きさが半導体チップよりも大きい構造の半
導体装置の場合、樹脂封止による加熱・冷却の際に、封
止用の樹脂とマトリックスフレームとの材料の熱膨張係
数の差から両者の伸縮度に差が生じる。
【0007】さらに、樹脂が冷えて硬化する際には、樹
脂本体部のゲート角部に向かって樹脂が縮んで硬化する
ため、長方形の縦方向の圧縮応力と横方向の圧縮応力と
に差を生じ、これによって、マトリックスフレーム上の
基準孔によって表される単位フレーム部の所定中心線
と、樹脂封止によって形成された樹脂本体部の中心線と
に中心ずれが発生する。
【0008】また、樹脂本体部の縦方向の圧縮応力と横
方向の圧縮応力とに差を生じるため、マトリックスフレ
ームの列間の単位フレーム部に掛かる熱応力が不均一に
なる。
【0009】これにより、マトリックスフレームでフレ
ーム反りが発生し、列間の樹脂本体部において前記中心
ずれの量が大きく異なるという現象が起こる。
【0010】その結果、リード部の切断・成形工程にお
いて使用する切断金型を製造する際に、列間で発生する
前記中心ずれの差を考慮しなければならないという問題
が起こる。
【0011】また、マトリックスフレーム上において、
単位フレーム部の所定中心線と樹脂本体部の中心線との
中心ずれの量が大きいと、切断・成形工程でアウターリ
ードが変形することがあり、半導体装置の品質を低下さ
せるという問題が起こる。
【0012】本発明の目的は、樹脂封止の際のフレーム
反りを防止し、かつ品質を向上させる半導体装置の製造
方法およびリードフレームを提供することにある。
【0013】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0014】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0015】すなわち、本発明の半導体装置の製造方法
は、複数のリード部とタブとを有するとともに行列配置
された単位フレーム部の4つの角部のうち、樹脂封止の
際に樹脂が注入されるゲート角部とこれに並んで前記単
位フレーム部の所定中心線に対して直角を成す方向に配
置された基端側角部とが樹脂硬化時に樹脂本体部の縦方
向の圧縮応力と横方向の圧縮応力との差に耐えることが
できる剛性を有するように枠部によって支持され、かつ
前記ゲート角部および前記基端側角部以外の2つの反基
端側角部が前記基端側角部の剛性より小さい剛性を有す
るように枠部によって支持された前記リードフレームを
準備する工程と、前記タブに半導体チップを搭載する工
程と、前記半導体チップと前記リード部とを電気的に接
続する工程と、前記単位フレーム部の前記ゲート角部か
ら封止用の樹脂を注入して前記半導体チップおよびその
周辺部を樹脂封止することにより樹脂本体部を形成する
工程と、前記リードフレームから前記単位フレーム部を
分離する工程とを有するものである。
【0016】また、本発明のリードフレームは、複数の
リード部と半導体チップを搭載するタブとを有するとと
もに行列配置された単位フレーム部と、前記単位フレー
ム部を連結して支持しかつ前記単位フレーム部の所定中
心線を表す基準孔が形成された枠部とを有し、前記単位
フレーム部の4つの角部のうち、樹脂封止の際に樹脂が
注入されるゲート角部とこれに並んで前記所定中心線に
対して直角を成す方向に配置された基端側角部とが樹脂
硬化時に樹脂本体部の縦方向の圧縮応力と横方向の圧縮
応力との差に耐えることができる剛性を有するように前
記枠部によって支持され、かつ前記ゲート角部および前
記基端側角部以外の2つの反基端側角部が前記基端側角
部の剛性より小さい剛性を有するように前記枠部によっ
て支持されているものである。
【0017】これにより、樹脂の硬化時に、基端側角部
が有する剛性によって、樹脂本体部の縦方向の圧縮応力
と横方向の圧縮応力との差に耐えることが可能になる。
その結果、樹脂本体部が硬化する際に、樹脂本体部が単
位フレーム部の所定中心線に対して傾斜して硬化するこ
とを低減でき、したがって、樹脂本体部の中心線と単位
フレーム部の所定中心線との中心ずれを低減することが
できる。
【0018】さらに、2つの反基端側角部が基端側角部
の剛性より小さい剛性で支持されていることにより、各
々の単位フレーム部自体の剛性を小さくすることができ
るため、単位フレーム部に掛かる熱応力の列間の差を緩
和し、かつ各々に単位フレーム部にほぼ均一に熱応力を
掛けることができる。これにより、マトリックスフレー
ムにおけるフレーム反りの発生を防止できる。
【0019】なお、本発明のリードフレームは、複数の
リード部と半導体チップを搭載するタブとを有するとと
もに行列配置された単位フレーム部と、前記単位フレー
ム部を連結して支持する枠部とを有し、前記単位フレー
ム部の4つの角部のうち、樹脂封止の際に樹脂が注入さ
れるゲート角部とこれに並んで樹脂成形装置のポット側
に配置された基端側角部であるポット側角部とが樹脂硬
化時に樹脂本体部の縦方向の圧縮応力と横方向の圧縮応
力との差に耐えることができる剛性を有するように前記
枠部によって支持され、かつ前記ゲート角部および前記
ポット側角部以外の2つの反基端側角部であるポット遠
方側角部が前記ポット側角部の剛性より小さい剛性を有
するように前記枠部によって支持されているものであ
る。
【0020】また、本発明のリードフレームは、鉄系合
金によって形成されているものである。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
【0022】なお、実施の形態を説明するための全図に
おいて同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、
その繰り返しの説明は省略する。
【0023】図1は本発明によるリードフレーム(マト
リックスフレーム)の構造の実施の形態の一例を示す平
面図、図2は図1のマトリックスフレームにおけるA部
の詳細構造を示す拡大部分平面図、図3は図2のマトリ
ックスフレームにおけるB部の詳細構造を示す拡大部分
平面図、図4は本発明のリードフレームを用いて製造さ
れた半導体装置(QFP) の構造の実施の形態の一例を
示す断面図、図5は本発明の半導体装置の製造方法にお
けるタブへの接合材の塗布方法の実施の形態の一例を示
す側面図、図6は図5の接合材の塗布方法によって接合
材が塗布されたリードフレームを示す拡大部分平面図、
図7は本発明の半導体装置の製造方法における半導体チ
ップの接合方法の実施の形態の一例を示す側面図、図8
は図7の接合方法によって半導体チップが搭載されたマ
トリックスフレームの構造を示す平面図、図9は本発明
の半導体装置の製造方法におけるワイヤボンディング方
法の実施の形態の一例を示す側面図、図10は本発明の
半導体装置の製造方法に用いられる樹脂成形装置の実施
の形態の一例を示す斜視図、図11は図10の樹脂成形
装置の樹脂成形部を一部断面にして示す詳細構成図、図
12は図11の樹脂成形部における下金型の構造を示す
平面図、図13は図12の下金型におけるC部の詳細構
造を示す拡大部分平面図、図14は図12の下金型にマ
トリックスフレームを載置した状態を示す平面図、図1
5は図14のマトリックスフレームにおけるD部の詳細
構造を示す拡大部分平面図、図16は図10の樹脂成形
装置によって樹脂封止が行われたマトリックスフレーム
を示す部分平面図、図17は本発明の半導体装置の製造
方法における樹脂本体部の中心ずれの算出方法の実施の
形態の一例を示す中心ずれ概念図、図18は本発明の実
施の形態のリードフレームおよび他の実施の形態のリー
ドフレームのシミュレーションの結果の一例を示す判定
結果図である。
【0024】まず、図1〜図4を用いて、本実施の形態
のリードフレームの概略構成について説明する。
【0025】前記リードフレームは、半導体チップ1を
搭載するタブ2aを備えるとともに、樹脂封止形の半導
体装置に用いられるものであり、複数のリード部2bと
タブ2aとを有する単位フレーム部2cがマトリックス
状に行列配置されたマトリックスフレーム2である。
【0026】また、このマトリックスフレーム2は、前
記半導体装置の樹脂本体部4(図4参照)の表裏面の形
状すなわち平面形状が長方形を成すものに用いられるも
のであり、したがって、単位フレーム部2cが長方形を
成すものである。
【0027】さらに、本実施の形態における単位フレー
ム部2cが有するタブ2aは、そのチップ搭載面2dの
大きさが半導体チップ1より小さく形成されている(以
降、このタブ構造を小タブ構造と呼ぶ)。
【0028】すなわち、本実施の形態のマトリックスフ
レーム2は、小タブ構造のものである。
【0029】なお、本実施の形態においては、図1に示
すように、マトリックスフレーム2の長手方向(横方
向)を列と呼び、この列の方向と直角を成す方向(縦方
向)を行と呼ぶことにする。
【0030】ただし、列と行の呼び方は、逆であっても
よい。
【0031】また、本実施の形態のマトリックスフレー
ム2は、列方向と行方向とのそれぞれに少なくとも2つ
の長方形の単位フレーム部2cが設けられたものであ
り、本実施の形態で説明する図1に示したマトリックス
フレーム2は、各々の列に5つの単位フレーム部2cが
設けられ、かつ各々の行に2つの単位フレーム部2cが
設けられている。
【0032】つまり、2つの列のそれぞれに5個の単位
フレーム部2cが設けられた5行2列配置であり、5個
の長方形の単位フレーム部2cが列状に連結されるとと
もに、その連結された5個の単位フレーム部2cが2列
に形成されている。
【0033】これによって、本実施の形態の1枚のマト
リックスフレーム2には、10個の単位フレーム部2c
が設けられており、1枚のマトリックスフレーム2か
ら、10個の半導体装置を製造することができる。
【0034】ただし、マトリックスフレーム2に設けら
れる単位フレーム部2cの数は、10個に限定されるも
のではなく、例えば、単位フレーム部2cが8行2列配
置などで1枚のマトリックスフレーム2に16個設けら
れたものであってもよく、その際には、1枚のマトリッ
クスフレーム2から16個の半導体装置を製造できる。
【0035】なお、マトリックスフレーム2が長方形で
なく、例えば、ほぼ正方形に近い形状である場合、すな
わち、単位フレーム部2cが2行2列配置などで4個設
けられたマトリックスフレーム2の場合には、図面上に
おける横方向を列と呼び、この列の方向と直角を成す縦
方向を行と呼ぶ。
【0036】次に、前記マトリックスフレーム2の詳細
構造について説明する。
【0037】図1〜図3に示すように、マトリックスフ
レーム2は、複数のリード部2bと1つのタブ2aとを
有して長方形を成すとともに行列配置された単位フレー
ム部2cと、単位フレーム部2cを連結して支持する枠
部である外枠部2fおよび内枠部2g,2tとからな
り、単位フレーム部2cの4つの角部のうち、樹脂封止
の際に樹脂が注入されるゲート角部2wとこれに並んで
樹脂成形装置10(図10参照)のポット10c(図1
1参照)側に配置された基端側角部であるポット側角部
2xとがほぼ同じ剛性を有するように外枠部2fまたは
内枠部2g,2tによって支持され、かつゲート角部2
wおよびポット側角部2x以外の2つの反基端側角部で
あるポット遠方側角部2yがポット側角部2xの剛性よ
り小さい剛性を有するように外枠部2fまたは内枠部2
g,2tによって支持されている。
【0038】ここで、本実施の形態のマトリックスフレ
ーム2は、単位フレーム部2cが長方形を成すものであ
る。
【0039】これは、図4に示す半導体チップ1に設け
られたボンディングパッド7の配列によって、単位フレ
ーム部2cに設けられたリード部2bの縦方向(行方
向)の本数と横方向(列方向)の本数とが異なるためで
あり、本実施の形態は、図2に示すように、リード部2
bの縦方向の本数が横方向の本数より多く設けられた場
合である。
【0040】したがって、単位フレーム部2cが長方形
となり、その結果、この単位フレーム部2cを有するマ
トリックスフレーム2を用いて製造した半導体装置の樹
脂本体部4(図4参照)の表裏面の形状は長方形を成
す。
【0041】なお、単位フレーム部2cの長方形の形状
は、図2の単位フレーム部2cの長手方向を横に向けた
形状、つまり、リード部2bの横方向の本数が縦方向の
本数より多い場合であってもよい。
【0042】ここで、長方形を成すそれぞれの単位フレ
ーム部2cは、マトリックスフレーム2の最外周部であ
りかつ5個の単位フレーム部2cを連結している外枠部
2f(枠部)と、各単位フレーム部2c間を分離するよ
うに形成されている内枠部2g,2t(枠部)とによっ
て支持され、ゲート角部2wとポット側角部2xとその
他2つのポット遠方側角部2yとの4つの角部を有して
いる。
【0043】なお、ゲート角部2wに並んで設けられた
ポット側角部2xは、ゲート角部2wと並んで設けられ
た2つの角部のうち、単位フレーム部2cの所定中心線
2mと直角を成す方向に配置された角部である。
【0044】ここで、マトリックスフレーム2の4つの
外枠部2fのうちの1つには、単位フレーム部2cの所
定中心線2mを表す基準孔である位置決め孔2kが、単
位フレーム部2cの各行ごとに形成されている。
【0045】つまり、この位置決め孔2kは、各々の単
位フレーム部2cの横方向の中心を求める際の基準とな
るものであり、その結果、図2に示すマトリックスフレ
ーム2において、位置決め孔2k上でマトリックスフレ
ーム2の長手方向に対して直角に架空の中心線である所
定中心線2mを描くことにより、この所定中心線2mが
各々の単位フレーム部2cの横方向の中心を表すことに
なる。
【0046】なお、本実施の形態のマトリックスフレー
ム2では、ポット側角部2xは、ゲート角部2wに並ぶ
とともに、樹脂成形装置10が有するポット10c側に
配置された角部である。
【0047】また、単位フレーム部2cのゲート角部2
wには、この付近の剛性を緩和させるとともに、樹脂封
止後の残留樹脂8(図16参照)を除去する際に用いら
れる円形の剛性緩和孔2rが設けられている。
【0048】さらに、ポット側角部2xには、この付近
の剛性を緩和させるために、ゲート角部2wに形成され
た剛性緩和孔2rとほぼ同じ面積の剛性緩和孔2sが形
成されている。
【0049】また、2つのポット遠方側角部2yには、
この付近の剛性を緩和させるために、剛性緩和孔2sま
たは剛性緩和孔2rより大きな面積のL形の反基端側剛
性緩和孔2zが形成されている。
【0050】なお、反基端側剛性緩和孔2zの面積が、
剛性緩和孔2sおよび剛性緩和孔2rの面積より大きい
ため、2つのポット遠方側角部2yは、ゲート角部2w
あるいはポット側角部2xより小さい剛性を有して支持
されている。
【0051】また、本実施の形態のマトリックスフレー
ム2の単位フレーム部2cにおいては、単位フレーム部
2cの4方向の複数のリード部2bにそれぞれほぼ沿っ
て4つの細長い剛性緩和スリット2vが形成されてい
る。
【0052】さらに、単位フレーム部2cにおいては、
2つのポット遠方側角部2yのそれぞれに配置された2
つの剛性緩和スリット2vのスリット端部間距離17
(図3参照)が、ゲート角部2wおよびポット側角部2
xのそれぞれに配置された2つの剛性緩和スリット2v
のスリット端部間距離18より短く形成されている。
【0053】これによっても、2つのポット遠方側角部
2yのそれぞれの剛性は、ゲート角部2wあるいはポッ
ト側角部2xの剛性よりも小さい状態となっている。
【0054】ここで、単位フレーム部2cおよびその周
辺に設けられた剛性緩和孔2r,2s,および剛性緩和
スリット2vは、樹脂封止の際にマトリックスフレーム
2に掛かった熱応力から発生する歪を緩和するものであ
る。
【0055】また、単位フレーム部2cは、図4に示す
半導体装置であるQFP(Quad Flat Package)を構成す
るために必要なマトリックスフレーム2上の各部材によ
って構成されている。
【0056】すなわち、内枠部2g,2tおよび外枠部
2fによって囲まれてなる単位フレーム部2cの中央部
には、半導体集積回路および電極が主面1aに形成され
た半導体チップ1を搭載するための平面形状が円形のタ
ブ2a(ダイパッドもしくはアイランドともいう)が形
成されており、かつ、このタブ2aは小タブ構造のもの
であり、単位フレーム部2cの内枠部2g,2tおよび
外枠部2fの内側から延在する4本の吊りリード2eに
よって支持されている。
【0057】また、タブ2aの周囲には、マトリックス
フレーム2の内枠部2g,2tおよび外枠部2fから枠
内方に向けて延在された複数のリード部2bが配置され
ている。さらに、リード部2bの中途部において、各々
のリード部2bは樹脂封止時の樹脂の流出を阻止するダ
ムバー2hによって連結され支持されている。同時にダ
ムバー2hは、吊りリード2eの外方端部であり単位フ
レーム部2cの4つの角部に連結されている。
【0058】したがって、単位フレーム部2cにおい
て、ダムバー2hより内方領域が樹脂封止領域となり、
さらに、各リード部2bにおいて、ダムバー2hの内側
からタブ2aに延在しかつ樹脂によって封止される箇所
がインナーリード2iであり、ダムバー2hより外側に
延在し、かつ樹脂によって封止されずに露出する箇所が
アウターリード2jである。
【0059】また、各々の単位フレーム部2cを支持す
る外枠部2fには、モールド工程時または切断・成形工
程時にモールド金型である下金型10b(図11参照)
または切断・成形金型(図示せず)にマトリックスフレ
ーム2を載置する際の案内並びに固定するための位置決
め孔2k,2l,2nが設けられている。
【0060】ここで、モールド工程は、図4に示す半導
体チップ1、タブ2a、インナーリード2iおよび金線
ワイヤ3がエポキシ系の熱硬化性の樹脂などによってモ
ールドして樹脂本体部4を形成する工程であり、切断・
成形工程は、前記モールド工程後、図2に示すマトリッ
クスフレーム2の不要箇所、すなわち樹脂本体部4の外
部に露出したダムバー2h、外枠部2fおよび内枠部2
g,2tを所定の形状に切断および曲げ成形を行う工程
である。
【0061】なお、位置決め孔2k,2lは、前記モー
ルド工程と前記切断・成形工程との両工程で用いられる
孔であり、位置決め孔2nは、前記切断・成形工程のみ
において用いられる孔である。
【0062】したがって、前記モールド工程において
は、位置決め孔2k,2lの2つの孔を使用し、前記切
断・成形工程においては、位置決め孔2k,2l,2n
の3種類の孔(位置決め孔2nは3個)を使用する。
【0063】ここで、位置決め孔2kは、両工程におけ
る基準孔であり、単位フレーム部2cが形成された各行
ごとに樹脂成形装置10(図10参照)のポット10c
近傍の外枠部2fに設けられており、例えば、下金型1
0bの位置決めピン10h(図12参照)に対してマー
ジンが極めて少ないように高精度に設けられている。
【0064】また、位置決め孔2lは、位置決め孔2k
が設けられた外枠部2fと同じ外枠部2fにおいて、単
位フレーム部2cの各列ごとに位置決め孔2kの近傍に
設けられた長孔である。
【0065】すなわち、位置決め孔2lは、位置決め孔
2kとは異なり、前記下金型10bの位置決めピン10
i(図12参照)に対して大きめにマージンを持たせて
設けられたものである。
【0066】なお、モールド工程においては、この2つ
の位置決め孔2k,2lのみによって位置決めを行うた
め、樹脂成形時に、マトリックスフレーム2の各単位フ
レーム部2cに対してゲート角部2w付近から放射状の
熱応力が掛かった際にも、マトリックスフレーム2にお
いてポット10c側の外枠部2fから放射状に離れる方
向では位置決めが行われていないことにより、前記熱応
力を逃がすことが可能になり、前記熱応力によってマト
リックスフレーム2に歪が発生するのを防ぐことができ
る。
【0067】また、本実施の形態のマトリックスフレー
ム2においては、切断・成形工程で位置決めとして用い
る孔が単位フレーム部2cの1行ごとに3種類合計5個
設けられている。
【0068】ここで、本実施の形態のマトリックスフレ
ーム2には、樹脂封止時に付着した残留樹脂8(図16
参照)を除去する際に用いられる樹脂除去用孔2pが、
列方向に並んだ単位フレーム部2cを区切る内枠部2g
にそれぞれ2つずつ設けられている。
【0069】なお、本実施の形態のマトリックスフレー
ム2は、単位フレーム部2cが2列配置のため、樹脂封
止時のポット10c側に近い側の列(1列目)の前記内
枠部2gにのみ2つの樹脂除去用孔2pが設けられてお
り、ポット10cから遠い側の列(2列目)の列方向に
並んだ単位フレーム部2cを区切る内枠部2gには、樹
脂除去用孔2pとほぼ対応した箇所に2つのダミー孔2
qが設けられている。
【0070】この2つのダミー孔2qは、マトリックス
フレーム2に熱応力が掛かった際に、ポット10cから
近い側の列に並んで設けられた単位フレーム部2cと、
遠い側の列に並んで設けられた単位フレーム部2cとに
掛かる前記熱応力の掛り具合を同様にするためのもので
ある。
【0071】なお、樹脂除去用孔2pは、モールド工程
後、マトリックスフレーム2に付着した前記残留樹脂8
を除去する際に用いられるものであり、図示しない樹脂
除去装置を用いて、この樹脂除去装置が備える除去ピン
を樹脂除去用孔2pから突き出すことにより、マトリッ
クスフレーム2から前記残留樹脂8を切断して除去する
ものである。
【0072】さらに、本実施の形態のマトリックスフレ
ーム2においては、列方向に並んで配置された各々の単
位フレーム部2cを区切る内枠部2gに縦に細長い歪緩
和スリット2uが設けられており、行方向に並んだ2つ
の単位フレーム部2cにほぼ沿いかつ近接されて形成さ
れ、行方向(縦方向)の単位フレーム部2cのほぼ2つ
分の長さに相当するものである。
【0073】また、剛性緩和スリット2vは、長方形の
単位フレーム部2cにおいてその4つの外周それぞれに
沿って形成された歪緩和孔である。
【0074】したがって、長方形の各々の単位フレーム
部2cの外周に沿って4本の剛性緩和スリット2vが設
けられている。
【0075】なお、各々の単位フレーム部2cの外周に
剛性緩和スリット2vと歪緩和スリット2uとが設けら
れていることにより、モールド工程などにおいて、マト
リックスフレーム2に熱応力が掛かった際に、この熱応
力を分散させることができ、これにより、マトリックス
フレーム2に歪が発生することを防止できる。
【0076】また、本実施の形態のマトリックスフレー
ム2は、鉄系合金、例えば、鉄−ニッケル合金板によっ
て形成され、エッチングまたは打抜きプレス加工によっ
て一体形成されるものである。
【0077】次に、図1〜図4を用いて、本実施の形態
のマトリックスフレーム2を用いた半導体装置(図4参
照)の構造について説明する。
【0078】ここで、本実施の形態においては、マトリ
ックスフレーム2を用いた樹脂封止形でかつ面実装形の
半導体装置の一例として図4に示すQFP(Quad Flat
Package)の場合を説明する。
【0079】図4に示すQFPは、例えば、マイクロコ
ンピュータとして用いられるものであり、かつ、図2に
示す小タブ構造のマトリックスフレーム2を用いたもの
である。前記QFPの構造は、主面1aに半導体集積回
路が形成された半導体チップ1を搭載するタブ2aと、
マトリックスフレーム2から切断して形成されたインナ
ーリード2iおよびアウターリード2jと、半導体チッ
プ1のボンディングパッド7とインナーリード2iとを
電気的に接続する金線ワイヤ3(金線以外の銅線などで
あってもよい)と、半導体チップ1および金線ワイヤ3
などを樹脂封止して形成された樹脂本体部4とからな
る。
【0080】ここで、QFPにおける樹脂本体部4の厚
さは、2mm以上であり、本実施の形態におけるQFP
の樹脂本体部4は、その表裏面の形状すなわち平面形状
が長方形のものである。このQFPにおいては、半導体
チップ1の主面1aに絶縁膜5が形成されている。
【0081】さらに、このQFPは、タブ下げ構造のも
のであるとともに、半導体チップ1は銀ペーストなどの
接合材9によってタブ2aに固定されている。
【0082】なお、樹脂本体部4の4辺から突出した複
数のアウターリード2jは、ガルウイング状に曲げ成形
されている。
【0083】次に、本実施の形態による半導体装置(Q
FP)の製造方法について説明する。
【0084】なお、前記QFPの製造方法は、図1〜図
3に示す小タブ構造のマトリックスフレーム2を用いた
ものである。
【0085】まず、複数のリード部2bとタブ2aとを
有して長方形を成すとともに行列配置された単位フレー
ム部2cの4つの角部のうち、樹脂封止の際に樹脂が注
入されるゲート角部2wとこれに並んで単位フレーム部
2cの所定中心線2mに対して直角を成す方向に配置さ
れたポット側角部2x(基端側角部)とがほぼ同じ剛性
を有するように外枠部2fおよび内枠部2g,2tによ
って支持され、かつゲート角部2wおよびポット側角部
2x以外の2つのポット遠方側角部2y(反基端側角
部)がポット側角部2xの剛性より小さい剛性を有する
ように外枠部2fおよび内枠部2g,2tによって支持
されたマトリックスフレーム2(リードフレーム)を準
備する。
【0086】すなわち、図1〜図3に示すマトリックス
フレーム2を準備する。
【0087】なお、本実施の形態のマトリックスフレー
ム2の単位フレーム部2cにおけるポット側角部2x
は、ゲート角部2wとこれに並んで樹脂成形装置10の
ポット10c側に配置された角部である。
【0088】さらに、本実施の形態で用いるマトリック
スフレーム2は、それぞれの単位フレーム部2cの4つ
の角部において、ゲート角部2wに形成された剛性緩和
孔2rとほぼ同じ面積の剛性緩和孔2sがポット側角部
2xに形成されるとともに、2つのポット遠方側角部2
yに剛性緩和孔2rまたは剛性緩和孔2sより大きな面
積の反基端側剛性緩和孔2zが形成されている。
【0089】また、本実施の形態では、鉄系合金、例え
ば、鉄−ニッケル合金によって形成されたマトリックス
フレーム2を用いる場合を説明する。
【0090】続いて、マトリックスフレーム2の各単位
フレーム部2cのタブ2aに半導体チップ1を搭載する
ダイボンディング工程(ぺ付け工程ともいう)を行う。
【0091】まず、図5または図7に示すダイボンディ
ング装置11の図示しないローダ部(マトリックスフレ
ーム2供給部)にマトリックスフレーム2を複数枚供給
する。
【0092】その後、マトリックスフレーム2をローデ
ィングユニットなどの搬送装置によって、ダイボンディ
ング装置11のステージ11a上に載置する。
【0093】載置後、図6に示すように、マトリックス
フレーム2のタブ2a上に半導体チップ1を接合するた
めの接合材9を塗布する。図5に示すように、接合材9
の塗布は、その構成が簡易なディスペンサ11bなどの
接着剤塗布治具を用い、これにより、一点滴下方式のノ
ズル21から各タブ2a上に接合材9を滴下する。な
お、接合材9は、例えば、銀含有のエポキシ系接着剤、
つまり銀ペーストである。
【0094】続いて、図7に示すように、接合材9を塗
布したタブ2a上にコレット11cを使って半導体チッ
プ1を搭載し、ダイボンディング工程を完了する。な
お、これらのダイボンディング作業は、単位フレーム部
2cごとに順次実施するものであり、1枚のマトリック
スフレーム2のダイボンディングが終了したものを図8
に示す。
【0095】本実施の形態では、1枚のマトリックスフ
レーム2において10個の単位フレーム部2cが5行2
列で配置されているため、1枚のマトリックスフレーム
2に10個の半導体チップ1をボンディング(搭載)で
きる。
【0096】ここで、本実施の形態のダイボンディング
工程においては、タブ2a上への接合材9の塗布および
半導体チップ1の搭載を簡易なダイボンディング装置1
1によって行うため、ダイボンディング手順を容易に進
めることができるとともに、マトリックスフレーム2を
用いているため、単位時間当たりのボンディング処理で
多数の半導体チップ1を接合することが可能になる。
【0097】これにより、作業時間を短縮することがで
き、その結果、ボンディング処理における作業性を向上
できる。
【0098】その後、図4に示すように、タブ2a上に
搭載された半導体チップ1の電極上に形成されたボンデ
ィングパッド7と、それに対応するインナーリード2i
とを金線ワイヤ3によってボンディングして電気的に接
続するワイヤボンディング工程を行う。
【0099】まず、ダイボンディングによって半導体チ
ップ1が搭載されたマトリックスフレーム2を、図9に
示すように、ワイヤボンディング装置12のヒートステ
ージ12a上に搭載する。
【0100】搭載完了後、先端にキャピラリを有するボ
ンディングヘッド(図示せず)によって、半導体チップ
1のボンディングパッド7とそれに対応するインナーリ
ード2iとを金線ワイヤ3(銅線などでもよい)によっ
て電気的に接続する。
【0101】ここで、金線ワイヤ3に代わるものとし
て、例えば、金属ワイヤの表面に絶縁性樹脂などを被覆
した被覆ワイヤを使用してもよい。
【0102】その後、マトリックスフレーム2の単位フ
レーム部2cに搭載された半導体チップ1と金線ワイヤ
3などの半導体チップ1の周辺部1b(図4参照)と
を、塵埃や湿度などの外的雰囲気や機械的衝撃から保護
するために、樹脂を用いて樹脂封止するモールド工程を
行う。
【0103】なお、モールド工程を説明するに当たり、
まず、このモールド工程で使用する図10に示す樹脂成
形装置10の構成を説明する。
【0104】前記樹脂成形装置10の基本構成は、マト
リックスフレーム2を所定位置に載置するローダ部10
eと、モールド後のマトリックスフレーム2を所定位置
から取り出すアンローダ部10fと、第1のモールド金
型である上金型10aと、第2のモールド金型である下
金型10bと、上金型10aおよび下金型10bが設置
されかつ樹脂封止が行われる樹脂成形部10gとからな
る。
【0105】これにより、ワイヤボンディングが終了し
たマトリックスフレーム2はローダ部10eから樹脂成
形部10gに搬入され、その後、樹脂成形部10gで半
導体チップ1とその周辺部1bとが樹脂封止され、か
つ、樹脂封止が行われたマトリックスフレーム2はアン
ローダ部10fに搬出され、そこに収容される。
【0106】また、樹脂成形部10gの詳細構造を図1
1に、下金型10bの詳細構造を図12に、図12に示
す下金型10bのC部詳細構造を図13にそれぞれ示
す。
【0107】ここで、図13に示す下金型10bは、封
止用の樹脂が投入されるシリンダ状のポット10cと、
各ポット10cに設けられた第1ランナ10jおよび第
2ランナ10kと、それぞれの前記ランナにおける樹脂
の注入口である第1ゲート10lおよび第2ゲート10
mと、それぞれの前記ゲートの先端に配置された第1下
型キャビティ10nおよび第2下型キャビティ10p
と、各ポット10c間をお互いに連結する連通路10q
と、マトリックスフレーム2の位置合わせのための位置
決めピン10h,10iとを有したブランチランナ方式
のものである。
【0108】さらに、図11に示す樹脂成形部10g
は、上金型10aと下金型10bとを図示しないシリン
ダ装置などによって型閉じした状態を示すものである。
【0109】ここで、図11に示すように、下金型10
bの下キャビティ10wに対応する上金型10aのそれ
ぞれの部分には略同形状の上キャビティ10xが形成さ
れている。
【0110】したがって、上金型10aと下金型10b
との合わせ面13の半導体チップ1が位置する箇所に、
上キャビティ10xと下キャビティ10wとによって所
定形状の第1キャビティ10yと第2キャビティ10z
とが複数個形成される。
【0111】また、下金型10bの所定の位置には、封
止用の樹脂が投入されるシリンダ状のポット10cが列
状に形成され、このポット10cに対応する上金型10
aのそれぞれの箇所には、カル10vが設けられてい
る。さらに、列状に配列されたそれぞれのポット10c
内には剛体接続板10tを介してロッド10sに接続さ
れたプランジャ10rが配置されている。
【0112】なお、上金型10aと下金型10bとに
は、モールド後の樹脂本体部4(図16参照)をそれぞ
れのモールド金型から離脱させるエジェクタピン10u
が設けられている。
【0113】また、樹脂成形部10gにおいては、サー
ボモータなどの駆動機構(図示せず)によってロッド1
0sを駆動することにより、剛体接続板10tを介し各
プランジャ10rも連動してポット10c内を上下動す
る。
【0114】さらに、図11または図12に示すよう
に、上金型10aと下金型10bとが密着された状態に
おいて、ポット10cの上方がカル10vによって閉止
されるとともに、カル10vおよび第1,第2ランナ1
0j,10kを介してポット10cが複数の第1キャビ
ティ10yと第2キャビティ10zとに連通され、ポッ
ト10c間は相互に連通路10qにより連通するように
なっている。
【0115】本実施の形態では、図12に示すように、
各々のポット10cには第1ランナ10jと第2ランナ
10kの2本のランナが連結されており、さらに、第1
ランナ10jおよび第2ランナ10kは、ともにその途
中で流路が2股に分岐され、かつ、分岐されたそれぞれ
のランナのポット10cから遠方の先端には第1および
第2ゲート10l,10mを介して第1下型キャビティ
10nおよび第2下型キャビティ10pが連結されてい
る。
【0116】この第1下および第2下型キャビティ10
n,10pは、ポット10cの配列方向に対して垂直方
向に直列に設置され、かつ、ポット10cを中心から一
方側、他方側それぞれ複数個(本実施の形態では10
個)同数配列されている。また、図11と図12に示す
ように、列状に配列されたポット10cに対して内側に
形成される5個のキャビティを第1キャビティ10y、
外側に形成される5個のキャビティを第2キャビティ1
0zとする。前記キャビティの平面形状は4角形の各角
部が面取りされている。
【0117】つまり、前記各角部を面取りすることによ
り、樹脂封止後の樹脂本体部4と各モールド金型との離
型性を向上させることができる。
【0118】また、それぞれの前記キャビティの4つの
角部のうちゲート10dが設けられていない各部分に
は、前記キャビティ内へ封止用の樹脂を充填する時、前
記キャビティからエアーを外側に逃して前記樹脂の充填
を完全にするための空気抜き(図13参照、以降、エア
ベント14という)が形成されている。
【0119】次に、前記樹脂成形装置10を用いたモー
ルド方法を説明する。図14は、マトリックスフレーム
2をセットした状態の下金型10bの平面図である。な
お、便宜上、図14において、半導体チップ1(図4参
照)と金線ワイヤ3は省略した。さらに、図14に示す
マトリックスフレーム2においても、図2に示したマト
リックスフレーム2と同様、図15のマトリックスフレ
ーム2に示すような、剛性緩和孔2r,2s、剛性緩和
スリット2vおよび歪緩和スリット2uが設けられると
ともに、位置決め孔2k,2l,2nが設けられてい
る。
【0120】まず、各ポット10cに、図示しない筒形
かつ固体状の封止用の樹脂(タブレットともいう)を投
入する。続いて、半導体チップ1が搭載されたマトリッ
クスフレーム2をローダ部10eから樹脂成形部10g
に搬送し、所定位置に載置する。
【0121】すなわち、図12および図14に示すよう
に、マトリックスフレーム2を下金型10b上の所定位
置に載置し、半導体チップ1および金線ワイヤ3(図4
参照)が所定の第1下型キャビティ10nまたは第2下
型キャビティ10p内にそれぞれ収容されるように位置
決めする。
【0122】ここで、マトリックスフレーム2の位置決
めは、下金型10bに設けられた位置決めピン10hと
マトリックスフレーム2の位置決め孔2kとの嵌め合わ
せによって行う。
【0123】つまり、下金型10b上において、マトリ
ックスフレーム2のポット10c近傍の外枠部2fと下
金型10bとを位置決めして樹脂封止する。
【0124】なお、マトリックスフレーム2のポット1
0c側近傍の外枠部2fで複数箇所位置決めすることに
より、位置決め精度の向上およびマトリックスフレーム
2の下金型10bに対してのズレを防止できる。
【0125】すなわち、封止用の樹脂の充填時のマトリ
ックスフレーム2に対しての前記樹脂の流れる方向を考
慮し、マトリックスフレーム2の位置決め孔2kおよび
下金型10bの位置決めピン10hをポット10c側に
設けたものである。
【0126】この状態で、下金型10bを上金型10a
に向けて接近移動することにより、図11に示すよう
に、上金型10aと下金型10bとの合わせ面13には
所定の形状の第1キャビティ10yおよび第2キャビテ
ィ10zを複数個(本実施の形態では20個)形成でき
る。
【0127】次に、サーボモータなどの駆動機構(図示
せず)によって、ロッド10sを上昇させる。ロッド1
0sが上昇すると、剛体接続板10tを介して連結され
た各プランジャ10rも連動してポット10c内を上昇
し、ポット10c内の各タブレットを同時に押圧する。
この押圧された前記タブレットは、圧力と図示しないヒ
ータからの熱とによって溶融し、液状の樹脂となる。
【0128】その後、前記液状の樹脂は、各々の第1ラ
ンナ10jおよび第2ランナ10kを移送され、それぞ
れの第1キャビティ10yおよび第2キャビティ10z
に第1ゲート10lおよび第2ゲート10mから充填さ
れる。
【0129】この際、前記樹脂をマトリックスフレーム
2の単位フレーム部2cにおけるゲート角部2wからそ
れぞれの第1キャビティ10yおよび第2キャビティ1
0zに充填する。
【0130】ここで、樹脂成形装置10においては、各
ポット10c間を相互に連通路10qによって連通させ
ることにより、第1キャビティ10yおよび第2キャビ
ティ10zに流入する前記樹脂の流入圧力を均一にする
ことができる。これにより、第1キャビティ10y、お
よびポット10cから遠方の比較的前記樹脂の流入性が
良くない第2キャビティ10zにおいても前記樹脂の充
填を良好に行うことができ、未充填やボイドの発生を低
減できる。
【0131】また、本実施の形態のモールド方法(半導
体装置の製造方法)では、マトリックスフレーム2の単
位フレーム部2cおよびその周囲に剛性緩和孔2r,2
s、剛性緩和スリット2vおよび歪緩和スリット2uが
設けられていることにより、樹脂封止による加熱・冷却
の際にマトリックスフレーム2において発生する歪を緩
和させながら加熱・冷却できる。
【0132】つまり、充填が終了して所定時間経過後、
溶融した液状の樹脂は熱によって硬化し、半導体チップ
1、タブ2a、金線ワイヤ3、インナーリード2iは完
全に封止され、これにより、樹脂本体部4を複数個形成
する。この際、樹脂本体部4は冷却によって収縮する
が、剛性緩和孔2r,2s、剛性緩和スリット2vおよ
び歪緩和スリット2uを有しているため、この収縮を吸
収できる。
【0133】これにより、マトリックスフレーム2上に
おいて、各単位フレーム部2cに表裏面の形状すなわち
平面形状が長方形を成す樹脂本体部4を形成できる。
【0134】なお、マトリックスフレーム2にはモール
ド時の加熱、冷却によって膨張および収縮の応力が掛か
るが、この応力も吸収することができる。
【0135】その結果、マトリックスフレーム2の前記
応力による変形を防止できる。
【0136】また、第1キャビティ10yと第2キャビ
ティ10zは、同時に樹脂の充填が完了するように成形
金型が設計されている。さらに、ポット10c間を連通
路10qによって連通させているため、第1キャビティ
10yと第2キャビティ10zとにおいて、モールド条
件を同じにすることができる。
【0137】これにより、樹脂成形装置10の成形性を
向上できる。
【0138】その後、下金型10bを下降移動させると
ともに、サーボモータなどの駆動機構(図示しない)に
よってエジェクタピン10uを突出させ、これにより、
樹脂本体部4が形成されたマトリックスフレーム2を上
金型10aおよび下金型10bから離型させる。
【0139】この際、上金型10aと下金型10bとの
それぞれに設けられた複数のエジェクタピン10uによ
って、マトリックスフレーム2上の封止が完了した樹脂
本体部4、残留樹脂8および未封止部などを突くことに
よりマトリックスフレーム2を離型性良く取り出すこと
ができる。
【0140】その結果、取り出し時の樹脂本体部4の破
損を防止することができる。
【0141】ここで、樹脂封止を終了して上金型10a
および下金型10bから取り出したマトリックスフレー
ム2を図16に示す。
【0142】なお、上金型10aおよび下金型10bか
ら取り出した図16に示すマトリックスフレーム2に
は、図12に示す下金型10bの第1ランナ10jおよ
び第2ランナ10kによって形成された残留樹脂8が付
着している。ここで、残留樹脂8は、マトリックスフレ
ーム2の一方の面に形成される。
【0143】さらに、図16に示すマトリックスフレー
ム2に付着した残留樹脂8の除去は、図2に示すマトリ
ックスフレーム2の内枠部2gに形成された樹脂除去用
孔2pおよびゲート角部2wに形成された剛性緩和孔2
rを利用して除去する。
【0144】これは、図示しない樹脂除去装置を用い
て、この樹脂除去装置が備える除去ピンを樹脂除去用孔
2pおよび剛性緩和孔2rから突き出すことにより、マ
トリックスフレーム2から残留樹脂8を切断して除去す
るものである。
【0145】ここで、本実施の形態のマトリックスフレ
ーム2を用いて樹脂封止を行い、長方形の樹脂本体部4
を形成したマトリックスフレーム2において、単位フレ
ーム部2cの所定中心線2mと樹脂本体部4の中心線と
の中心ずれの量をシミュレーションして判定した結果を
図18に示す。なお、図17は、前記中心ずれの概念を
図示したものである。
【0146】前記シミュレーションは、マトリックスフ
レーム2の材料の熱膨張係数と封止用の樹脂の熱膨張係
数とを図示しない計算装置に入力し、両者の熱膨張差か
ら生じる応力のマトリックスフレーム2に掛かる大きさ
を算出したものである。
【0147】このシミュレーション結果によれば、本実
施の形態のマトリックスフレーム2は、前記中心ずれの
量が1列目は1.2μm、2列目は−0.4μmであり、1
列目と2列目との前記中心ずれの量を1.6μmと非常に
小さくすることができる。
【0148】その後、図示しない切断・成形金型を用い
てマトリックスフレーム2から樹脂本体部4を有する単
位フレーム部2cを分離させるとともに、アウターリー
ド2jを所定の形状(本実施の形態では、ガルウィング
状)に曲げ加工する。
【0149】これにより、図4に示すように、マトリッ
クスフレーム2(図2参照)を用いたQFPを製造でき
る。
【0150】本実施の形態による半導体装置の製造方法
およびリードフレームによれば、以下のような作用効果
が得られる。
【0151】すなわち、単位フレーム部2cが長方形で
かつ行列配置されたマトリックスフレーム2を用いると
ともに、単位フレーム部2cのゲート角部2wとポット
側角部2xとがほぼ同じ剛性を有するように支持されて
いることにより、樹脂の硬化時に、ポット側角部2xが
有する剛性によって、長方形の樹脂本体部4の縦方向の
圧縮応力と横方向の圧縮応力との差に耐えることが可能
になる。
【0152】これにより、樹脂本体部4が硬化する際
に、樹脂本体部4が単位フレーム部2cの所定中心線2
mに対して傾斜して硬化することを低減でき、その結
果、樹脂本体部4の中心線と単位フレーム部2cの所定
中心線2mとの中心ずれを低減することができる。
【0153】さらに、2つのポット遠方側角部2yがポ
ット側角部2xの剛性より小さい剛性を有するように支
持されていることにより、各々の単位フレーム部2c自
体の剛性を小さくすることができ、その結果、樹脂が硬
化して樹脂本体部4を形成する際に、単位フレーム部2
cに掛かる熱応力を緩和させることができる。
【0154】したがって、単位フレーム部2cに掛かる
熱応力の列間の差を緩和し、かつ各々に単位フレーム部
2cにほぼ均一に熱応力を掛けることができる。
【0155】これにより、マトリックスフレーム2にお
けるフレーム反りの発生を防止できるとともに、各々の
単位フレーム部2cにおいて、樹脂本体部4の中心線と
単位フレーム部2cの所定中心線2mとの中心ずれを低
減することができ、したがって、マトリックスフレーム
2上に形成された樹脂本体部4の中心ずれの列間の差を
少なくすることができる。
【0156】本実施の形態では、1列目と2列目とにお
ける樹脂本体部4の単位フレーム部2cに対する中心ず
れをほぼ無くすことができる。
【0157】その結果、切断・成形工程で使用する切断
金型の設計を容易にすることができ、これにより、QF
P(半導体装置)の製造コストを低減できる。
【0158】また、樹脂本体部4の中心ずれの列間の差
を少なくすることができるため、切断・成形工程におい
て、リード成形した際のアウターリード2jの変形を防
止することができる。
【0159】その結果、QFPの品質を向上させること
ができる。
【0160】さらに、マトリックスフレーム2における
フレーム反りの発生を防止できるとともに、樹脂本体部
4の中心ずれの列間の差を少なくすることができるた
め、鉄系合金によって形成されたマトリックスフレーム
2を用いることができる。
【0161】これにより、マトリックスフレーム2自体
の品質を向上でき、その結果、QFPの品質を向上させ
ることができる。
【0162】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
【0163】例えば、前記実施の形態において説明した
マトリックスフレーム2(図2参照)の他の実施の形態
として、図19に示すように、タブ2aの構造を小タブ
構造ではなく、半導体チップ1(図4参照)の大きさよ
り若干大きくしたタブ構造としてもよい。
【0164】また、図1〜図3に示すマトリックスフレ
ーム2の他の実施の形態として、図20〜図21に示す
マトリックスフレーム2を用いてもよい。
【0165】ここで、図20に示すマトリックスフレー
ム2は、縦に細長い歪緩和スリット2uの2箇所に1列
目および2列目の剛性緩和スリット2vとそれぞれ連結
する小スリット15を設けたものである。
【0166】つまり、一方の小スリット15によって1
列目の剛性緩和スリット2vと歪緩和スリット2uとを
連結し、他方の小スリット15によって2列目の剛性緩
和スリット2vと歪緩和スリット2uとを連結してい
る。
【0167】なお、このマトリックスフレーム2を用い
て樹脂本体部4を形成した場合、図18に示すシミュレ
ーションの判定結果図のように、中心ずれの量が1列目
は1.6μm、2列目は−9.9μmであり、1列目と2列
目との前記中心ずれの量を11.5μmと小さくすること
ができる。
【0168】また、図21に示すマトリックスフレーム
2は、各行の内枠部2tにおいて1列目の剛性緩和スリ
ット2vと2列目の剛性緩和スリット2vとからそれぞ
れ列間の中心に向けて形成された小スリット16を有す
るものである。
【0169】このマトリックスフレーム2を用いて樹脂
本体部4を形成した場合、図18に示すシミュレーショ
ンの判定結果図のように、中心ずれの量が1列目は1.5
μm、2列目は−0.8μmであり、1列目と2列目との
前記中心ずれの量を2.3μmと小さくすることができ
る。
【0170】したがって、図20および図21に示す他
の実施の形態のマトリックスフレーム2によっても前記
実施の形態のマトリックスフレーム2と同様の作用効果
が得られる。
【0171】また、前記実施の形態における半導体装置
の製造方法で説明した樹脂成形装置10の下金型10b
の他の実施の形態として、図22または図23に示す下
金型10bを用いてもよい。
【0172】ここで、図22に示す下金型10bは、図
12に示す下金型10bの第1ランナ10jと第2ラン
ナ10kの形状を曲がった形状に変えたものである。
【0173】これにより、下金型10bの大きさを小さ
くすることができ、その結果、1つの単位フレーム部2
cに掛かる荷重を大きくできるとともに、樹脂成形装置
10(図10参照)の小形化を図ることができる。
【0174】さらに、図23に示す下金型10bは、1
枚のマトリックスフレーム2における単位フレーム部2
cの数を12個とし、1つのポット10cに対して2つ
の第1ランナ10jと2つの第2ランナ10kを連結し
て、第1下型キャビティ10nおよび第2下型キャビテ
ィ10pに樹脂を流すものである。
【0175】すなわち、図12に示した下金型10bよ
りもポット10cの数を減らして下金型10bの構造を
簡略化するとともに、前記同様、下金型10bを小さく
するものである。
【0176】なお、図22および図23に示す下金型1
0bに載置されたマトリックスフレーム2は、図2に示
したマトリックスフレーム2と同様に、剛性緩和孔2
r,2s、剛性緩和スリット2vや種々の位置決め用の
孔が設けられているものである。
【0177】ここで、図22および図23に示す下金型
10bにおいても、図12に示す下金型10bを用いた
場合と同様の作用効果が得られる。
【0178】また、前記実施の形態の半導体装置の製造
方法におけるモールド方法では、図12の下金型10b
に示すようなブランチランナ方式の場合について説明し
たが、前記モールド方法では、スルーゲート方式の下金
型10bを用いてもよい。
【0179】なお、スルーゲート方式の下金型10bの
場合には、下金型10b上に空きスペースを設けること
が可能になるため、剛性緩和孔2r,2s、剛性緩和ス
リット2vや種々の位置決め用の孔を多数設けることが
できるとともに、剛性緩和孔2r,2s、剛性緩和スリ
ット2vや種々の位置決め用の孔の設置数を増加させな
い場合には、下金型10bを小さくすることができる。
【0180】また、前記実施の形態においては、半導体
装置がQFPの場合について説明したが、前記半導体装
置は、例えば、マトリックスフレーム2を用いて樹脂封
止を行うもので、かつ、そのマトリックスフレーム2の
単位フレーム部2c上に形成する樹脂本体部4の平面形
状が長方形のものであれば、QFP以外のQFJ(Quad
Flat J-leaded Package) などであってもよい。
【0181】さらに、前記実施の形態または前記他の実
施の形態においては、半導体装置の構造が図4に示すよ
うにタブ下げ構造のものを説明したが、前記半導体装置
は、タブ下げ構造に限らず、インナーリード2iとタブ
2aとが同じ高さのタブ下げ無し構造のものであっても
よい。
【0182】また、前記実施の形態においては、図5に
示すダイボンディング装置11のディスペンサ11bの
ノズル21が、一点滴下方式のものであったが、前記ノ
ズル21は、多点滴下方式のものであってもよい。
【0183】なお、多点滴下方式のノズル21は、一点
滴下方式のノズル21よりも分散させて接合材9をタブ
2a上に塗布することができ、これにより、半導体チッ
プ1を確実に固定できる。
【0184】ここで、前記実施の形態では、図14に示
すように、マトリックスフレーム2における基準孔であ
る位置決め孔2kがポット10c側の外枠部2fに設け
られている場合を説明したが、前記基準孔となる位置決
め孔2kは、ポット10c側と反対側の外枠部2fに設
けられていてもよい。
【0185】さらに、前記実施の形態では、マトリック
スフレーム2(図2参照)の単位フレーム部2cにおい
て、図面上、左下の角部をゲート角部2wとして説明し
たが、ゲート角部2wの位置は、図24および図25に
示す他の実施の形態のマトリックスフレーム2のよう
に、図面上、右下としてもよい。
【0186】これによっても、前記実施の形態のマトリ
ックスフレーム2と同様の作用効果が得られる。
【0187】また、前記実施の形態および前記他の実施
の形態において説明したマトリックスフレーム2、ダイ
ボンディング装置11、樹脂成形装置10、下金型10
b、および半導体装置(QFPやQFJなど)の種類に
ついては、それぞれの組み合わせを種々変更可能である
ことは言うまでもない。
【0188】
【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0189】(1).単位フレーム部が長方形でかつ行
列配置されたマトリックスフレームを用いるとともに、
単位フレーム部のゲート角部と基端側角部とがほぼ同じ
剛性を有するように支持されていることにより、基端側
角部が有する剛性によって、樹脂の硬化時に、長方形の
樹脂本体部の縦方向の圧縮応力と横方向の圧縮応力との
差に耐えることが可能になる。これにより、樹脂本体部
の中心線と単位フレーム部の所定中心線との中心ずれを
低減することができる。
【0190】(2).2つの反基端側角部が基端側角部
の剛性より小さい剛性を有するように支持されているこ
とにより、各々の単位フレーム部自体の剛性を小さくす
ることができ、その結果、単位フレーム部に掛かる熱応
力の列間の差を緩和しかつ各々に単位フレーム部にほぼ
均一に熱応力を掛けることができる。これにより、マト
リックスフレームにおけるフレーム反りの発生を防止で
きるとともに、マトリックスフレーム上に形成された樹
脂本体部の中心ずれの列間の差を少なくすることができ
る。その結果、切断・成形工程で使用する切断金型の設
計を容易にすることができ、これにより、半導体装置の
製造コストを低減できる。
【0191】(3).樹脂本体部の中心ずれの列間の差
を少なくすることができるため、切断・成形工程におい
て、リード成形した際のアウターリードの変形を防止す
ることができる。その結果、半導体装置の品質を向上さ
せることができる。
【0192】(4).マトリックスフレームにおけるフ
レーム反りの発生を防止できるとともに、樹脂本体部の
中心ずれの列間の差を少なくすることができるため、鉄
系合金によって形成されたマトリックスフレームを用い
ることができる。これにより、マトリックスフレーム自
体の品質を向上でき、その結果、半導体装置の品質を向
上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるリードフレーム(マトリックスフ
レーム)の構造の実施の形態の一例を示す平面図であ
る。
【図2】図1のマトリックスフレームにおけるA部の詳
細構造を示す拡大部分平面図である。
【図3】図2のマトリックスフレームにおけるB部の詳
細構造を示す拡大部分平面図である。
【図4】本発明のリードフレームを用いて製造された半
導体装置(QFP) の構造の実施の形態の一例を示す断
面図である。
【図5】本発明の半導体装置の製造方法におけるタブへ
の接合材の塗布方法の実施の形態の一例を示す側面図で
ある。
【図6】図5の接合材の塗布方法によって接合材が塗布
されたリードフレームを示す拡大部分平面図である。
【図7】本発明の半導体装置の製造方法における半導体
チップの接合方法の実施の形態の一例を示す側面図であ
る。
【図8】図7の接合方法によって半導体チップが搭載さ
れたマトリックスフレームの構造を示す平面図である。
【図9】本発明の半導体装置の製造方法におけるワイヤ
ボンディング方法の実施の形態の一例を示す側面図であ
る。
【図10】本発明の半導体装置の製造方法に用いられる
樹脂成形装置の実施の形態の一例を示す斜視図である。
【図11】図10の樹脂成形装置の樹脂成形部を一部断
面にして示す詳細構成図である。
【図12】図11の樹脂成形部における下金型の構造を
示す平面図である。
【図13】図12の下金型におけるC部の詳細構造を示
す拡大部分平面図である。
【図14】図12の下金型にマトリックスフレームを載
置した状態を示す平面図である。
【図15】図14のマトリックスフレームにおけるD部
の詳細構造を示す拡大部分平面図である。
【図16】図10の樹脂成形装置によって樹脂封止が行
われたマトリックスフレームを示す部分平面図である。
【図17】本発明の半導体装置の製造方法における樹脂
本体部の中心ずれの算出方法の実施の形態の一例を示す
中心ずれ概念図である。
【図18】本発明の実施の形態のリードフレームおよび
他の実施の形態のリードフレームのシミュレーションの
結果の一例を示す判定結果図である。
【図19】本発明の他の実施の形態であるリードフレー
ム(マトリックスフレーム)の構造を示す拡大部分平面
図である。
【図20】本発明の他の実施の形態であるリードフレー
ム(マトリックスフレーム)の構造を示す拡大部分平面
図である。
【図21】本発明の他の実施の形態であるリードフレー
ム(マトリックスフレーム)の構造を示す拡大部分平面
図である。
【図22】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
製造方法に用いられる樹脂成形装置の下金型の構造を示
す平面図である。
【図23】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
製造方法に用いられる樹脂成形装置の下金型の構造を示
す平面図である。
【図24】本発明の他の実施の形態であるリードフレー
ム(マトリックスフレーム)の構造を示す平面図であ
る。
【図25】図24のマトリックスフレームにおけるE部
の詳細構造を示す拡大部分平面図である。
【符号の説明】
1 半導体チップ 1a 主面 1b 周辺部 2 マトリックスフレーム(リードフレーム) 2a タブ 2b リード部 2c 単位フレーム部 2d チップ搭載面 2e 吊りリード 2f 外枠部(枠部) 2g 内枠部(枠部) 2h ダムバー 2i インナーリード 2j アウターリード 2k 位置決め孔(基準孔) 2l,2n 位置決め孔 2m 所定中心線 2p 樹脂除去用孔 2q ダミー孔 2r,2s 剛性緩和孔 2t 内枠部(枠部) 2u 歪緩和スリット 2v 剛性緩和スリット 2w ゲート角部 2x ポット側角部(基端側角部) 2y ポット遠方側角部(反基端側角部) 2z 反基端側剛性緩和孔 3 金線ワイヤ 4 樹脂本体部 5 絶縁膜 7 ボンディングパッド 8 残留樹脂 9 接合材 10 樹脂成形装置 10a 上金型 10b 下金型 10c ポット 10d ゲート 10e ローダ部 10f アンローダ部 10g 樹脂成形部 10h,10i 位置決めピン 10j 第1ランナ 10k 第2ランナ 10l 第1ゲート 10m 第2ゲート 10n 第1下型キャビティ 10p 第2下型キャビティ 10q 連通路 10r プランジャ 10s ロッド 10t 剛体接続板 10u エジェクタピン 10v カル 10w 下キャビティ 10x 上キャビティ 10y 第1キャビティ 10z 第2キャビティ 11 ダイボンディング装置 11a ステージ 11b ディスペンサ 11c コレット 12 ワイヤボンディング装置 12a ヒートステージ 13 合わせ面 14 エアベント 15 小スリット 16 小スリット 17,18 スリット端部間距離 21 ノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 富士夫 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株式会社日立マイコンシステム内 (72)発明者 宮崎 強 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立 東京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 宮木 美典 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株式会社日立製作所 半導体事業部内 (72)発明者 鈴木 博通 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株式会社日立製作所 半導体事業部内 (72)発明者 西村 朝雄 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株式会社日立製作所 半導体事業部内 (72)発明者 斉藤 直人 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社 日立製作所機械研究所内 (72)発明者 佐々木 康二 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社 日立製作所機械研究所内 (72)発明者 野本 薫 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株式会社日立マイコンシステム内 (72)発明者 木村 穣 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立 東京エレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 平岡 明 東京都青梅市藤橋3丁目3番地2 日立 東京エレクトロニクス株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−326561(JP,A) 特開 平7−254624(JP,A) 特開 平9−64265(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/56 H01L 23/50

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップを搭載するタブが設けられ
    たリードフレームを用いる樹脂封止形の半導体装置の製
    造方法であって、 複数のリード部と前記タブとを有するとともに行列配置
    された単位フレーム部の4つの角部のうち、樹脂封止の
    際に樹脂が注入されるゲート角部とこれに並んで前記単
    位フレーム部の所定中心線に対して直角を成す方向に配
    置された基端側角部とが樹脂硬化時に樹脂本体部の縦方
    向の圧縮応力と横方向の圧縮応力との差に耐えることが
    できる剛性を有するように枠部によって支持され、かつ
    前記ゲート角部および前記基端側角部以外の2つの反基
    端側角部が前記基端側角部の剛性より小さい剛性を有す
    るように枠部によって支持された前記リードフレームを
    準備する工程と、 前記タブに前記半導体チップを搭載する工程と、 前記半導体チップと前記リード部とを電気的に接続する
    工程と、 前記単位フレーム部の前記ゲート角部から封止用の樹脂
    を注入して前記半導体チップおよびその周辺部を樹脂封
    止することにより樹脂本体部を形成する工程と、 前記リードフレームから前記単位フレーム部を分離する
    工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  2. 【請求項2】 半導体チップを搭載するタブが設けられ
    たリードフレームを用いる樹脂封止形の半導体装置の製
    造方法であって、 複数のリード部と前記タブとを有するとともに行列配置
    された単位フレーム部の4つの角部のうち、樹脂封止の
    際に樹脂が注入されるゲート角部とこれに並んで樹脂成
    形装置のポット側に配置された基端側角部であるポット
    側角部とが樹脂硬化時に樹脂本体部の縦方向の圧縮応力
    と横方向の圧縮応力との差に耐えることができる剛性を
    有するように枠部によって支持され、かつ前記ゲート角
    部および前記ポット側角部以外の2つの反基端側角部で
    あるポット遠方側角部が前記ポット側角部の剛性より小
    さい剛性を有するように枠部によって支持された前記リ
    ードフレームを準備する工程と、 前記タブに前記半導体チップを搭載する工程と、 前記半導体チップと前記リード部とを電気的に接続する
    工程と、 前記単位フレーム部の前記ゲート角部から封止用の樹脂
    を注入して前記半導体チップおよびその周辺部を樹脂封
    止することにより樹脂本体部を形成する工程と、 前記リードフレームから前記単位フレーム部を分離する
    工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置の製
    造方法であって、前記単位フレーム部の4つの角部にお
    いて、前記ゲート角部に形成された剛性緩和孔と同じ面
    積の剛性緩和孔が前記基端側角部に形成されるととも
    に、2つの前記反基端側角部に前記剛性緩和孔より大き
    な面積の反基端側剛性緩和孔が形成された前記リードフ
    レームを用いることを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  4. 【請求項4】 請求項1,2のいずれか1項に記載
    の半導体装置の製造方法であって、鉄系合金によって形
    成された前記リードフレームを用いることを特徴とする
    半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 樹脂封止形の半導体装置に用いられるリ
    ードフレームであって、 複数のリード部と半導体チップを搭載するタブとを有す
    るとともに、行列配置された単位フレーム部と、 前記単位フレーム部を連結して支持し、かつ前記単位フ
    レーム部の所定中心線を表す基準孔が形成された枠部と
    を有し、 前記単位フレーム部の4つの角部のうち、樹脂封止の際
    に樹脂が注入されるゲート角部とこれに並んで前記所定
    中心線に対して直角を成す方向に配置された基端側角部
    とが樹脂硬化時に樹脂本体部の縦方向の圧縮応力と横方
    向の圧縮応力との差に耐えることができる剛性を有する
    ように前記枠部によって支持され、かつ前記ゲート角部
    および前記基端側角部以外の2つの反基端側角部が前記
    基端側角部の剛性より小さい剛性を有するように前記枠
    部によって支持されていることを特徴とするリードフレ
    ーム。
  6. 【請求項6】 樹脂封止形の半導体装置に用いられるリ
    ードフレームであって、 複数のリード部と半導体チップを搭載するタブとを有す
    るとともに、行列配置された単位フレーム部と、 前記単位フレーム部を連結して支持する枠部とを有し、 前記単位フレーム部の4つの角部のうち、樹脂封止の際
    に樹脂が注入されるゲート角部とこれに並んで樹脂成形
    装置のポット側に配置された基端側角部であるポット側
    角部とが樹脂硬化時に樹脂本体部の縦方向の圧縮応力と
    横方向の圧縮応力との差に耐えることができる剛性を有
    するように前記枠部によって支持され、かつ前記ゲート
    角部および前記ポット側角部以外の2つの反基端側角部
    であるポット遠方側角部が前記ポット側角部の剛性より
    小さい剛性を有するように前記枠部によって支持されて
    いることを特徴とするリードフレーム。
  7. 【請求項7】 請求項5または6記載のリードフレーム
    であって、前記単位フレーム部の4つの角部において、
    前記ゲート角部に形成された剛性緩和孔と同じ面積の剛
    性緩和孔が前記基端側角部に形成されるとともに、2つ
    の前記反基端側角部に前記剛性緩和孔より大きな面積の
    反基端側剛性緩和孔が形成されていることを特徴とする
    リードフレーム。
  8. 【請求項8】 請求項5,6のいずれか1項に記載
    のリードフレームであって、前記単位フレーム部におい
    て4方向の複数の前記リード部にそれぞれ沿って4つの
    細長い剛性緩和スリットが形成され、2つの前記反基端
    側角部のそれぞれに配置された2つの前記剛性緩和スリ
    ットのスリット端部間距離が、前記ゲート角部および前
    記基端側角部のそれぞれに配置された2つの前記剛性緩
    和スリットのスリット端部間距離より短く形成されてい
    ることを特徴とするリードフレーム。
  9. 【請求項9】 請求項5,6,7のいずれか1項に
    記載のリードフレームであって、鉄系合金によって形成
    されていることを特徴とするリードフレーム。
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