JP3522172B2 - 竪射出鋳造法における給湯方法 - Google Patents

竪射出鋳造法における給湯方法

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Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、竪射出鋳造機へ溶
湯を給湯する方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来より、竪射出鋳造法において射出ス
リーブ内にアルミニウム合金などの溶湯を注湯する場
合、ラドルにて射出スリーブ上方より注湯していた（図
５）。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、竪射出
鋳造機ではラドルからプランジャチップまでの溶湯落下
距離Ｌ２が大きく、注湯時、射出スリーブ内で溶湯が泡
立ち、空気の巻き込みおよび酸化物が発生し、それが鋳
造品に入り、ガス巣の発生、酸化物の混入の不具合が発
生していた。 【０００４】そこで、注湯時の射出スリーブ内での溶湯
の泡立ちを抑え、空気の巻き込みおよび酸化物の発生を
防止する必要がある。 【０００５】 【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
ため、本発明では注湯時プランジャチップを上昇させ、
ラドルとプランジャチップの距離を小さくし、注湯と同
時に射出スリーブ内の溶湯表面とラドルとの距離を一定
に保持するように、プランジャチップを下降させる。 【０００６】このため、溶湯落下距離が小さく保たれ、
射出スリーブ内での溶湯の泡立ちがなくなり、空気の巻
き込みおよび酸化物の発生を低減することができる。 【０００７】 【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。 【０００８】図１から図４に、本発明に係るプランジャ
チップの位置および溶湯の状態を時系列的に示す。 【０００９】射出完了後、プランジャチップは下限位置
Ｔ１にある（図１）。 【００１０】注湯前にプランジャチップはＴ２まで上昇
する。これにより、ラドルからの溶湯の落下距離Ｌ１が
小さくなる（図２）。 【００１１】注湯と同時に、溶湯の落下距離Ｌ１を一定
に保持するようにプランジャチップが下降する。（図
３）。 【００１２】溶湯の落下距離Ｌ１を一定に保持したま
ま、注湯を完了する（図４）。溶湯落下距離Ｌ１は、１
００ｍｍ以下が望ましい。 【００１３】係る方法で鋳造した鋳造品の内部品質結果
を従来の場合と比較して示す（図６）。 【００１４】 【発明の効果】以上説明したことからも明らかなよう
に、注湯時の溶湯落下距離を小さく一定に保持すること
により、溶湯の泡立ちがなくなり、空気の巻き込みおよ
び酸化物の発生の防止ができ、良品質の鋳造品をつくる
ことができる。
【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の一実施形態としての竪射出装置の要部
断面および給湯装置で、注湯開始前の状態を示す。 【図２】図１の続きの動作を示し、注湯直前の状態を示
す。 【図３】図２の続きの動作を示し、注湯中の状態を示
す。 【図４】図３の続きの状態を示し、注湯完了の状態を示
す。 【図５】従来の注湯状態を示す。 【図６】本発明と従来法の内部品質結果の例を示す。 【符号の説明】 １ プランジャチップ ２ 射出スリーブ ３ 給湯用ラドル
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−193749（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−33696（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−259655（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−285813（ＪＰ，Ａ) 菅野友信 ほか，ダイカスト技術入 門，日本，日刊工業新聞社／藤吉敏生, 1988年 １月30日，初版，第158頁 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B22D 17/30,37/00 B22D 39/02,11/18

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 ラドルにて溶湯をスリーブ内に給湯する
    ことによる、竪射出鋳造機を用いて鋳造する方法におい
    て、プランジャチップの位置をラドル注湯口近傍に配置
    し、溶湯液面から該ラドル注湯口までの距離が略一定に
    なるように、ラドルより注湯される溶湯量に比例して、
    プランジャチップの位置を下降させることを特徴とする
    竪射出鋳造機への給湯方法。
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Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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菅野友信 ほか，ダイカスト技術入門，日本，日刊工業新聞社／藤吉敏生，１９８８年 １月３０日，初版，第１５８頁

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