JP3510927B2 - 構造化色像を作成するための組成物とその用法 - Google Patents
構造化色像を作成するための組成物とその用法Info
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Description
【０００１】本発明は、構造化色像（structured color
images)を作成するための新規な方法ならびにその使用
に関する。
images)を作成するための新規な方法ならびにその使用
に関する。
【０００２】ポリマーパターンまたは画像層（image la
yers）を作成する方法としては、フォトリソグラフィ
ー、衝撃印刷たとえばスクリーン印刷、グラビア印刷、
フレキソ印刷、オフセット印刷、非衝撃印刷たとえばイ
ンクジェット印刷、熱染料拡散転写、レーザーマーキン
グ、電着などの各種方法が公知である。これらのすべて
の作像および記録方法においては、実際の着色材料は適
当な樹脂、バインダー、ポリマー、添加剤と組み合わせ
た染料および染料を含有している。このような着色剤
は、たとえば特開昭５０−５０７５７号に開示されてい
るように、光メモリーの記録エレメントとして、欧州特
許第Ａ−５３５７８８号明細書に開示されているように
熱記録メモリーの記録エレメントとして、あるいはま
た，J. Photopolym. Sci. Technol. 3(1)9-16(1990) 所
載のH.Aruga の論文、欧州特許第Ａ−３８０２２３号明
細書、Jpn. J. Appl. Phys.,Part 1, 30 3313-17(1991)
所載のK. Mizuno 等の論文、および Solid State Techn
ology, 11(1992)15-18 所載のK. Kobayashiの論文に開
示されているようにＬＣＤ（液晶ディスプレイ＝liquid
crystal display )のカラーフィルター用の着色材料と
して使用されている。また、ポリマーパターン層は、架
橋後、たとえば欧州特許第００８８２８号明細書に記載
されているように、公知の染料を使用する熱染料拡散転
写によって着色することができる。
yers）を作成する方法としては、フォトリソグラフィ
ー、衝撃印刷たとえばスクリーン印刷、グラビア印刷、
フレキソ印刷、オフセット印刷、非衝撃印刷たとえばイ
ンクジェット印刷、熱染料拡散転写、レーザーマーキン
グ、電着などの各種方法が公知である。これらのすべて
の作像および記録方法においては、実際の着色材料は適
当な樹脂、バインダー、ポリマー、添加剤と組み合わせ
た染料および染料を含有している。このような着色剤
は、たとえば特開昭５０−５０７５７号に開示されてい
るように、光メモリーの記録エレメントとして、欧州特
許第Ａ−５３５７８８号明細書に開示されているように
熱記録メモリーの記録エレメントとして、あるいはま
た，J. Photopolym. Sci. Technol. 3(1)9-16(1990) 所
載のH.Aruga の論文、欧州特許第Ａ−３８０２２３号明
細書、Jpn. J. Appl. Phys.,Part 1, 30 3313-17(1991)
所載のK. Mizuno 等の論文、および Solid State Techn
ology, 11(1992)15-18 所載のK. Kobayashiの論文に開
示されているようにＬＣＤ（液晶ディスプレイ＝liquid
crystal display )のカラーフィルター用の着色材料と
して使用されている。また、ポリマーパターン層は、架
橋後、たとえば欧州特許第００８８２８号明細書に記載
されているように、公知の染料を使用する熱染料拡散転
写によって着色することができる。
【０００３】上記の文献によれば、顔料および染料は、
顔料または染料、ポリマーまたはプレポリマー、および
場合によってはその他の添加剤を含有する組成物の形態
で使用され、記録またはカラーパターンの形成を行うた
めの画像形成にかけられる。その処理方法は通常，加熱
または電磁線照射または両者の組み合わせによるプレポ
リマーの重合または構造化可能な（structurable）ポリ
マーの解重合の工程と、それに続く適当な現像剤を使用
する現像を含む。また、別の方法として、顔料または染
料を、たとえば非衝撃印刷によって、選択パターンの形
に、直接付与することもできる。一般に、染料は光、
熱、溶剤および薬品に対する抵抗性が不十分であり、他
方、顔料をこのような用途に使用した場合には、分散と
分散安定性、透明性、吸収スペクトルまたは透過スペク
トルのプロフィール鮮鋭度に関する問題および／または
溶解性または拡散性の欠如の問題が生じる。カラーＬＣ
Ｄのような臨界的系に、染料または顔料を良好に配合す
るための望ましい多くの特性は、高品質用途のために要
求される特性と両立しない。このため、特開昭６０−１
８０８８９号に見られるように不満足な妥協を余儀なく
される。すなわち、この明細書に記載されている場合に
は、光学的反射濃度の低下と色の階調範囲の貧乏さとい
う犠牲を払って安定性を獲得しており、そして全く使用
できない顔料クラスも多い。本発明はこの問題を克服す
るものである。
顔料または染料、ポリマーまたはプレポリマー、および
場合によってはその他の添加剤を含有する組成物の形態
で使用され、記録またはカラーパターンの形成を行うた
めの画像形成にかけられる。その処理方法は通常，加熱
または電磁線照射または両者の組み合わせによるプレポ
リマーの重合または構造化可能な（structurable）ポリ
マーの解重合の工程と、それに続く適当な現像剤を使用
する現像を含む。また、別の方法として、顔料または染
料を、たとえば非衝撃印刷によって、選択パターンの形
に、直接付与することもできる。一般に、染料は光、
熱、溶剤および薬品に対する抵抗性が不十分であり、他
方、顔料をこのような用途に使用した場合には、分散と
分散安定性、透明性、吸収スペクトルまたは透過スペク
トルのプロフィール鮮鋭度に関する問題および／または
溶解性または拡散性の欠如の問題が生じる。カラーＬＣ
Ｄのような臨界的系に、染料または顔料を良好に配合す
るための望ましい多くの特性は、高品質用途のために要
求される特性と両立しない。このため、特開昭６０−１
８０８８９号に見られるように不満足な妥協を余儀なく
される。すなわち、この明細書に記載されている場合に
は、光学的反射濃度の低下と色の階調範囲の貧乏さとい
う犠牲を払って安定性を獲得しており、そして全く使用
できない顔料クラスも多い。本発明はこの問題を克服す
るものである。
【０００４】しかしながら、画像形成技術および記録の
技術の最近の進歩にともない、下記のような特性を有す
るパターンまたは画像形成のための組成物が要求されて
いる：−高い透明性（すなわち、高い光透過性）、特に
ＬＣＤのカラーフィルターのために、 −高いコントラスト比、 −高い色純度と色濃度、 −高いパターン解像度と画像の正確さ、 −着色剤（染料）の混合のないこと、 −着色剤／ポリマー混合物の精製の間にふるいの目詰ま
りがないこと、 −画像表面のなめらかさ、 −ピンホールがなく、画像層が夾雑物で汚染されていな
いこと、 −高い記録精度、 −画像の縁の高い鮮鋭度、 −高い熱安定性、耐薬品性、光安定性、 −超薄膜特性。
技術の最近の進歩にともない、下記のような特性を有す
るパターンまたは画像形成のための組成物が要求されて
いる：−高い透明性（すなわち、高い光透過性）、特に
ＬＣＤのカラーフィルターのために、 −高いコントラスト比、 −高い色純度と色濃度、 −高いパターン解像度と画像の正確さ、 −着色剤（染料）の混合のないこと、 −着色剤／ポリマー混合物の精製の間にふるいの目詰ま
りがないこと、 −画像表面のなめらかさ、 −ピンホールがなく、画像層が夾雑物で汚染されていな
いこと、 −高い記録精度、 −画像の縁の高い鮮鋭度、 −高い熱安定性、耐薬品性、光安定性、 −超薄膜特性。
【０００５】誠に驚くべきことに、特定の可溶性顔料前
駆物質が化学的、熱的、光分解的手段によって、レーザ
ーまたはその他の線照射によって、ナノメータ寸法の不
溶性顔料粒子を現場で生成するような作用を受けるこ
と、ならびに、かかる特定顔料前駆物質を含有する、構
造化色パターンおよび画像の形成のための組成物が前記
した要求条件を満足することが見いだされた。したがっ
て、本発明は、可溶性顔料前駆物質を含有し、該前駆物
質が化学的、熱的、光分解的手段の作用によって、ある
いはレーザーまたはその他の線照射によってナノメータ
寸法の不溶性顔料粒子を生じる、構造化色像形成のため
の新規な組成物、ならびにその組成物を記録および作像
技術に使用する、特にＬＣＤのためのカラーフィルター
の作成のために使用する方法に関する。
駆物質が化学的、熱的、光分解的手段によって、レーザ
ーまたはその他の線照射によって、ナノメータ寸法の不
溶性顔料粒子を現場で生成するような作用を受けるこ
と、ならびに、かかる特定顔料前駆物質を含有する、構
造化色パターンおよび画像の形成のための組成物が前記
した要求条件を満足することが見いだされた。したがっ
て、本発明は、可溶性顔料前駆物質を含有し、該前駆物
質が化学的、熱的、光分解的手段の作用によって、ある
いはレーザーまたはその他の線照射によってナノメータ
寸法の不溶性顔料粒子を生じる、構造化色像形成のため
の新規な組成物、ならびにその組成物を記録および作像
技術に使用する、特にＬＣＤのためのカラーフィルター
の作成のために使用する方法に関する。
【０００６】したがって、本願の１つの特徴は、下記成
分を含有する構造化色像を作成するための新規組成物を
提供することである。 （ａ）化学的方法、熱的方法、光分解的方法または線照
射誘導方法の手段によって、またはそれらの組み合わせ
によって不溶性顔料に変換されうる可溶性顔料前駆物
質、および （ｂ）熱または電磁線照射、たとえば紫外線、可視光
線、電子線、中性子線、レーザーまたはＸ線照射、また
はこれらの組み合わせの作用を加えることによる極性変
化、架橋、重合または解重合によって構造化されうるポ
ジ型レジスト樹脂またはネガ型レジスト樹脂、ポリマー
またはプレポリマー。
分を含有する構造化色像を作成するための新規組成物を
提供することである。 （ａ）化学的方法、熱的方法、光分解的方法または線照
射誘導方法の手段によって、またはそれらの組み合わせ
によって不溶性顔料に変換されうる可溶性顔料前駆物
質、および （ｂ）熱または電磁線照射、たとえば紫外線、可視光
線、電子線、中性子線、レーザーまたはＸ線照射、また
はこれらの組み合わせの作用を加えることによる極性変
化、架橋、重合または解重合によって構造化されうるポ
ジ型レジスト樹脂またはネガ型レジスト樹脂、ポリマー
またはプレポリマー。
【０００７】本発明による可溶性顔料前駆物質（ａ）
は、下記式Ｉによって表される。 Ａ（Ｂ）X （Ｉ） 式中、ｘは１乃至４の数であり、Ａはキナクリドン、ア
ントラキノン、ペリレン、インジゴ、キノフタロン、イ
ソインドリノン、イソインドリン、ジオキサジン、ジケ
トピロロピロールまたはアゾ系列の着色剤の残基であ
り、これら残基はＡの一部であり、そして好ましくはカ
ルボニル基に隣接するか、または共役であるＮ原子を介
してｘ個の基Ｂに結合されている；ＢはＡに結合されて
いる基であり、下記のいずれかの式によって表される
は、下記式Ｉによって表される。 Ａ（Ｂ）X （Ｉ） 式中、ｘは１乃至４の数であり、Ａはキナクリドン、ア
ントラキノン、ペリレン、インジゴ、キノフタロン、イ
ソインドリノン、イソインドリン、ジオキサジン、ジケ
トピロロピロールまたはアゾ系列の着色剤の残基であ
り、これら残基はＡの一部であり、そして好ましくはカ
ルボニル基に隣接するか、または共役であるＮ原子を介
してｘ個の基Ｂに結合されている；ＢはＡに結合されて
いる基であり、下記のいずれかの式によって表される
【化６】
［式II、 IIIおよびIV において、ｍ，ｎおよびｐは互い
に独立的に０または１であり、ＸはＣ1-Ｃ 14 アルキレン
またはＣ2-Ｃ8 アルケニレンであり、Ｙは 基-Ｖ-(ＣＨ
2)q-であり、Ｚは 基-Ｖ-(ＣＨ2)r-であり、ここにおい
てＶはＣ3-Ｃ6 シクロアルキレンであり、ｑは１乃至６
の数であり、ｒは０乃至６の数であり、R1とR2とは互い
に独立的に水素、Ｃ1-Ｃ6 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シ、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2 、置換されていないかまた
はＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシまたはハロゲ
ンによって置換されたフェニルまたはフェノキシであ
り、Ｑは水素、ＣＮ、Ｓi(R1)3、基Ｃ(R5)(R6)(R7)（こ
こにおいて、R5、R6およびR7は互いに独立的に水素また
はハロゲンであり、そしてR5、R6およびR7のうちの少な
くとも１つはハロゲンである）、下記式の基
に独立的に０または１であり、ＸはＣ1-Ｃ 14 アルキレン
またはＣ2-Ｃ8 アルケニレンであり、Ｙは 基-Ｖ-(ＣＨ
2)q-であり、Ｚは 基-Ｖ-(ＣＨ2)r-であり、ここにおい
てＶはＣ3-Ｃ6 シクロアルキレンであり、ｑは１乃至６
の数であり、ｒは０乃至６の数であり、R1とR2とは互い
に独立的に水素、Ｃ1-Ｃ6 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シ、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2 、置換されていないかまた
はＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシまたはハロゲ
ンによって置換されたフェニルまたはフェノキシであ
り、Ｑは水素、ＣＮ、Ｓi(R1)3、基Ｃ(R5)(R6)(R7)（こ
こにおいて、R5、R6およびR7は互いに独立的に水素また
はハロゲンであり、そしてR5、R6およびR7のうちの少な
くとも１つはハロゲンである）、下記式の基
【化７】
（式中、R1およびR2は上記した意味を有する）、基ＳＯ
2 R8またはＳR8（ここにおいて、R8はＣ1-Ｃ4 アルキル
である）、基ＣＨ(R9)2 （ここにおいて、R9は置換され
ていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シまたはハロゲンによって置換されたフェニルであ
る）、または下記式のいずれかの基であり
2 R8またはＳR8（ここにおいて、R8はＣ1-Ｃ4 アルキル
である）、基ＣＨ(R9)2 （ここにおいて、R9は置換され
ていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シまたはハロゲンによって置換されたフェニルであ
る）、または下記式のいずれかの基であり
【化８】
R3とR4とは互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ18アルキルまた
は下記式の基
は下記式の基
【化９】
（式中、Ｘ、Ｙ、R1、R2、ｍ、ｎは上記の意味を有す
る）であるか、またはR3とR4とはそれらが結合している
窒素原子と一緒でピロリジニル基、ピペリジニル基また
はモルホリニル基を形成する］、そしてＡ（Ｂ）X は、
さらに付加的に
る）であるか、またはR3とR4とはそれらが結合している
窒素原子と一緒でピロリジニル基、ピペリジニル基また
はモルホリニル基を形成する］、そしてＡ（Ｂ）X は、
さらに付加的に
【化１０】
または -ＮＨ2 基を含有しうる。すべてのＮ原子が基Ｂ
に結合している必要はなく、多くの場合はそうなってい
ない。他方、１つ以上の基Ｂが１つのＮ原子に結合して
いることができる。
に結合している必要はなく、多くの場合はそうなってい
ない。他方、１つ以上の基Ｂが１つのＮ原子に結合して
いることができる。
【０００８】Ａは公知の窒素含有発色団たとえば下記の
もの、ならびにそれら発色団の公知誘導体の残基であ
る。
もの、ならびにそれら発色団の公知誘導体の残基であ
る。
【化３１】
【化３２】
【化３３】
【化３４】
【化３５】
【０００９】ＸがＣ1-Ｃ 14 アルキレンである場合には、
それは直鎖または分枝アルキレンでありうる。たとえば
以下のものである： メチレン、ジメチレン、トリメチレン、 １−メチル−メチレン、 １、１−ジメチル−メチレン、 １、１−ジメチル−ジメチレン、 １、１−ジメチル−トリメチレン、 １−エチル−ジメチレン、 １−エチル−１−メチル−ジメチレン、 テトラメチレン、 １、１−ジメチル−テトラメチレン、 ２、２−ジメチル−トリメチレン、 ヘキサメチレン、 デカメチレン、 １、１−ジメチル−デカメチレン、 １、１−ジエチル−デカメチレン、 テトラデカメチレン。
それは直鎖または分枝アルキレンでありうる。たとえば
以下のものである： メチレン、ジメチレン、トリメチレン、 １−メチル−メチレン、 １、１−ジメチル−メチレン、 １、１−ジメチル−ジメチレン、 １、１−ジメチル−トリメチレン、 １−エチル−ジメチレン、 １−エチル−１−メチル−ジメチレン、 テトラメチレン、 １、１−ジメチル−テトラメチレン、 ２、２−ジメチル−トリメチレン、 ヘキサメチレン、 デカメチレン、 １、１−ジメチル−デカメチレン、 １、１−ジエチル−デカメチレン、 テトラデカメチレン。
【００１０】ＸがＣ2-Ｃ8 アルケニレンである場合に
は、それは直鎖または分枝アルケニレンでありうる。た
とえば以下のものである：ビニレン、アリレン、メタリ
レン、１−メチル−２−ブテニレン、１、１−ジメチル
−３−ブテニレン、２−ブテニレン、２−ヘキセニレ
ン、３−ヘキセニレンまたは２−オクテニレン。Ｃ3-Ｃ
6 シクロアルキレンは、たとえばシクロプロピレン、シ
クロペンチレン、および特にシクロヘキシレンである。
置換基がハロゲンである場合には、それは例えばヨウ
素、フッ素、特に臭素、または好ましくは塩素である。
は、それは直鎖または分枝アルケニレンでありうる。た
とえば以下のものである：ビニレン、アリレン、メタリ
レン、１−メチル−２−ブテニレン、１、１−ジメチル
−３−ブテニレン、２−ブテニレン、２−ヘキセニレ
ン、３−ヘキセニレンまたは２−オクテニレン。Ｃ3-Ｃ
6 シクロアルキレンは、たとえばシクロプロピレン、シ
クロペンチレン、および特にシクロヘキシレンである。
置換基がハロゲンである場合には、それは例えばヨウ
素、フッ素、特に臭素、または好ましくは塩素である。
【００１１】置換基がＣ1-Ｃ6 アルキルである場合に
は、それは例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、ｎ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、またはヘキシル
であり、置換基がＣ1-Ｃ18アルキルである場合には、例
えばさらに、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシ
ル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサ
デシルまたはオクタデシルである。Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ
の例は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプ
ロポキシまたはブトキシである。
は、それは例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ
プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、ｎ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、またはヘキシル
であり、置換基がＣ1-Ｃ18アルキルである場合には、例
えばさらに、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシ
ル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサ
デシルまたはオクタデシルである。Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ
の例は、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプ
ロポキシまたはブトキシである。
【００１２】式Ｉの化合物の内で特に重要なものは、下
記のものである。ｘが１または２であって、Ｂが下記式
記のものである。ｘが１または２であって、Ｂが下記式
【化３６】
または前記式（IV）のいずれかの基であり、そしてｘが
２の場合には、Ｂはさらに水素でありうるものであっ
て、式IV、ＶおよびVIにおいて、ｍが０または１であ
り、ＸがＣ1-Ｃ4 アルキレンまたはＣ2-Ｃ5 アルケニレ
ンであり、R1とR2とが互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ4 ア
ルキル、メトキシ、塩素またはＮＯ2 であり、Ｑが水
素、ＣＮ、ＣＣl3，基
２の場合には、Ｂはさらに水素でありうるものであっ
て、式IV、ＶおよびVIにおいて、ｍが０または１であ
り、ＸがＣ1-Ｃ4 アルキレンまたはＣ2-Ｃ5 アルケニレ
ンであり、R1とR2とが互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ4 ア
ルキル、メトキシ、塩素またはＮＯ2 であり、Ｑが水
素、ＣＮ、ＣＣl3，基
【化３７】
ＳＯ2 ＣＨ3 またはＳＣＨ3 であり、そして式IV中のR3
とR4とは互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、また
は基
とR4とは互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、また
は基
【化３８】
であるか、またはR3とR4とはそれらが結合している窒素
原子と一緒でピペリジニル基を形成する。そして特に、
ｘが２であって、Ｂが下記式のいずれかの基である式Ｉ
の化合物が重要である。
原子と一緒でピペリジニル基を形成する。そして特に、
ｘが２であって、Ｂが下記式のいずれかの基である式Ｉ
の化合物が重要である。
【化３９】
好ましい式Ｉの化合物のグループを以下に示す。
（ａ１）下記式のいずれかのペリレンカルボン酸イミ
ド：
ド：
【化４０】
（両式中、Ｄは水素、Ｃ1-Ｃ6 アルキル、置換されてい
ないかまたはハロゲンまたはＣ1-Ｃ4 アルキルによって
置換されたフェニル、ベンジルまたはフェネチルである
か、またはＢと同じである）； （ａ２）下記式のキナクリドン：
ないかまたはハロゲンまたはＣ1-Ｃ4 アルキルによって
置換されたフェニル、ベンジルまたはフェネチルである
か、またはＢと同じである）； （ａ２）下記式のキナクリドン：
【化４１】
（式中、R10 とR11 とは互いに独立的に水素、ハロゲ
ン、Ｃ1-Ｃ18アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシまたはフェ
ニルである）； （ａ３）下記式のジオキサジン：
ン、Ｃ1-Ｃ18アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシまたはフェ
ニルである）； （ａ３）下記式のジオキサジン：
【化４２】
（式中、R12 は水素、ハロゲンまたはＣ1-Ｃ18アルキル
である）；
である）；
【００１３】（ａ４）下記式のイソインドリン：
【化４３】
［式中、R13 は下記式の基
【化４４】
R14 は水素、Ｃ1-Ｃ18アルキル、ベンジルまたは下記式
の基
の基
【化４５】
R15 はR13 と同じ意味を有する、（ここで、R16 、R
17 、R18 およびR19 は互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ18
アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、ハロゲンまたはトリフ
ルオロメチルである）］および
17 、R18 およびR19 は互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ18
アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、ハロゲンまたはトリフ
ルオロメチルである）］および
【化４６】
（ａ５）下記式のインジゴ誘導体：
【化４７】
（式中、R20 は水素、ＣＮ、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ
4 アルコキシまたはハロゲンである）； （ａ６）下記式のベンゾイミダゾロン−アゾ化合物：
4 アルコキシまたはハロゲンである）； （ａ６）下記式のベンゾイミダゾロン−アゾ化合物：
【化４８】
（式中、R21 とR22 とは互いに独立的に水素、ハロゲ
ン、Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシであ
る）； （ａ７）下記式のアントラキノイド化合物：
ン、Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシであ
る）； （ａ７）下記式のアントラキノイド化合物：
【化４９】
【００１４】（ａ８）下記式のフタロシアニン化合物：
【化５０】
（式中、Ｘ1 はＮi ，Ｆe 、Ｖ、好ましくはＨ2 、Ｚn
，またはＣu であり、Ｘ2 は -ＣＨ( R2’）- 、好ま
しくは−ＣＨ2 −または -ＳＯ2-であり、R1’はＣ1-Ｃ
4 アルキル、 -Ｎ（Ｅ) R2’、- ＮＨＣＯR3’、- ＣＯ
R3’または
，またはＣu であり、Ｘ2 は -ＣＨ( R2’）- 、好ま
しくは−ＣＨ2 −または -ＳＯ2-であり、R1’はＣ1-Ｃ
4 アルキル、 -Ｎ（Ｅ) R2’、- ＮＨＣＯR3’、- ＣＯ
R3’または
【化５１】
であり、好ましくは水素、−ＮＨＣＯＣＨ3 またはベン
ゾイルであり、R2’は水素またはＣ1-Ｃ4 アルキルであ
り、R3’はＣ1-Ｃ4 アルキルであり、R4’は水素、ハロ
ゲン、Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシであ
り、ｚはゼロまたは１であり、好ましくは１であり、ｙ
は１乃至４の整数である）； （ａ９）下記式のピロロ［３，４−ｃ］ピロール：
ゾイルであり、R2’は水素またはＣ1-Ｃ4 アルキルであ
り、R3’はＣ1-Ｃ4 アルキルであり、R4’は水素、ハロ
ゲン、Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシであ
り、ｚはゼロまたは１であり、好ましくは１であり、ｙ
は１乃至４の整数である）； （ａ９）下記式のピロロ［３，４−ｃ］ピロール：
【化５２】
［式中、Ｇ1 とＧ2 とは互いに独立的に下記式のいずれ
かの基である
かの基である
【化５３】
（式中、R23 とR24 とは互いに独立的に水素、ハロゲ
ン、Ｃ1-Ｃ18アルキル、Ｃ1-Ｃ18アルコキシ、Ｃ1-Ｃ18
アルキルメルカプト、Ｃ1-Ｃ18アルキルアミノ、 -Ｃ
Ｎ、 -ＮＯ2 、フェニル、トリフルオロメチル、Ｃ5-Ｃ
6 シクロアルキル、 -Ｃ＝Ｎ-(Ｃ1-Ｃ18アルキル）、
ン、Ｃ1-Ｃ18アルキル、Ｃ1-Ｃ18アルコキシ、Ｃ1-Ｃ18
アルキルメルカプト、Ｃ1-Ｃ18アルキルアミノ、 -Ｃ
Ｎ、 -ＮＯ2 、フェニル、トリフルオロメチル、Ｃ5-Ｃ
6 シクロアルキル、 -Ｃ＝Ｎ-(Ｃ1-Ｃ18アルキル）、
【化５４】
イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、ピペラジニ
ル、ピロリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベ
ンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、モルホリニル、
ピペラジニルまたはピロリジニルであり、Ｌは -ＣＨ2 -
、 -ＣＨ( ＣＨ3)- ， -Ｃ( ＣＨ3)2-、 -ＣＨ＝Ｎ-
、 -Ｎ＝Ｎ-、 -Ｏ- 、 -Ｓ- ， -ＳＯ- 、 -ＳＯ2-，
または -ＮR29-であり、R25 とR26 とは互いに独立的に
水素、ハロゲン、Ｃ1-Ｃ6 アルキル、Ｃ1-Ｃ18アルコキ
シまたは -ＣＮであり、R27 とR28 とは互いに独立的に
水素、ハロゲンまたはＣ1-Ｃ6 アルキルであり、R29 は
水素またはＣ1-Ｃ6 アルキルである）。なお、上記の各
式におけるＥは水素またはＢである、ただし少なくとも
１つのＥはＢを意味するものとする。そしてＢは前記の
意味を有し、このＢの定義は上記した好ましい化合物に
も該当する。Ｃ1-Ｃ18アルキルメルカプトは、たとえば
メチルメルカプト、エチルメルカプト、プロピルメルカ
プト、ブチルメルカプト、オクチルメルカプト、デシル
メルカプト、ヘキサメチルメルカプトまたはオクタデシ
ルメルカプトであり、そしてＣ1-Ｃ18アルキルアミノ
は、たとえばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ、ヘキシルアミノ、デシルアミノ、ヘキサデシルア
ミノまたはオクタデシルアミノである。Ｃ5-Ｃ6 シクロ
アルキルは、たとえば、シクロペンチルまたはシクロヘ
キシルである。
ル、ピロリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベ
ンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、モルホリニル、
ピペラジニルまたはピロリジニルであり、Ｌは -ＣＨ2 -
、 -ＣＨ( ＣＨ3)- ， -Ｃ( ＣＨ3)2-、 -ＣＨ＝Ｎ-
、 -Ｎ＝Ｎ-、 -Ｏ- 、 -Ｓ- ， -ＳＯ- 、 -ＳＯ2-，
または -ＮR29-であり、R25 とR26 とは互いに独立的に
水素、ハロゲン、Ｃ1-Ｃ6 アルキル、Ｃ1-Ｃ18アルコキ
シまたは -ＣＮであり、R27 とR28 とは互いに独立的に
水素、ハロゲンまたはＣ1-Ｃ6 アルキルであり、R29 は
水素またはＣ1-Ｃ6 アルキルである）。なお、上記の各
式におけるＥは水素またはＢである、ただし少なくとも
１つのＥはＢを意味するものとする。そしてＢは前記の
意味を有し、このＢの定義は上記した好ましい化合物に
も該当する。Ｃ1-Ｃ18アルキルメルカプトは、たとえば
メチルメルカプト、エチルメルカプト、プロピルメルカ
プト、ブチルメルカプト、オクチルメルカプト、デシル
メルカプト、ヘキサメチルメルカプトまたはオクタデシ
ルメルカプトであり、そしてＣ1-Ｃ18アルキルアミノ
は、たとえばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルア
ミノ、ヘキシルアミノ、デシルアミノ、ヘキサデシルア
ミノまたはオクタデシルアミノである。Ｃ5-Ｃ6 シクロ
アルキルは、たとえば、シクロペンチルまたはシクロヘ
キシルである。
【００１５】本発明を実施する場合に、本発明の組成物
の成分（ａ）としては、単一化合物または２つまたはそ
れ以上の化合物の組み合わせが使用できる。好ましいの
は下記式の化合物、またはそれらの混合物である。
の成分（ａ）としては、単一化合物または２つまたはそ
れ以上の化合物の組み合わせが使用できる。好ましいの
は下記式の化合物、またはそれらの混合物である。
【化５５】
式中、Ｅは -Ｃ（＝Ｏ)-Ｏ- Ｃ（ＣＨ3)3 であり、R10
とR11 とは、好ましくは、互いに独立的に水素、ハロゲ
ン、Ｃ1-Ｃ5 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシであ
り、R23 とR24 とは水素、ハロゲン、Ｃ1-Ｃ5 アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、フェニルまたはシアノであ
り、特に好ましくは、R10 、R11 、R23 およびR24 は水
素または塩素である。Ｎ−置換ピロロピロールの製造の
ためには、たとえば米国特許第４５８５８７８号明細書
に、有機溶剤中において、Ｎ−置換ピロロ［３，４−
ｃ］ピロールを、脱離基として対応するＮ−置換分を含
有している化合物と反応させることによって、それらが
得られると記載されている。Ｎ−カルボニル基を含有す
る化合物を記載しているその唯一の実施例（実施例９：
Ｎ−ベンゾイル）においては、１、４−ジケト−３、６
−ジフェニルピロロ−［３，４−ｃ］−ピロールを塩化
ベンゾイルと反応させている。同様の方法によって、対
応する酸塩化物誘導体、たとえばクロロカルボン酸エス
テルと反応させることによって所望のカルバメートを製
造する実験を実施したところ、残念ながら所望のカルバ
メートが非常に低収率で得られるにすぎないことが判明
した。しかしながら、対応するトリハロ酢酸エステル、
または特に対応するジカーボネートを使用することによ
って所望のカルバメートが驚くべきほど好収率で得られ
ることが見いだされた。脂肪族酸塩化物誘導体、たとえ
ばクロロマレイン酸ブチルエステルとの反応を、触媒と
しての塩基の存在下において実施した場合にも、向上の
度合いは低いかもしれないが、同じく収率の向上が達成
された。
とR11 とは、好ましくは、互いに独立的に水素、ハロゲ
ン、Ｃ1-Ｃ5 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシであ
り、R23 とR24 とは水素、ハロゲン、Ｃ1-Ｃ5 アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、フェニルまたはシアノであ
り、特に好ましくは、R10 、R11 、R23 およびR24 は水
素または塩素である。Ｎ−置換ピロロピロールの製造の
ためには、たとえば米国特許第４５８５８７８号明細書
に、有機溶剤中において、Ｎ−置換ピロロ［３，４−
ｃ］ピロールを、脱離基として対応するＮ−置換分を含
有している化合物と反応させることによって、それらが
得られると記載されている。Ｎ−カルボニル基を含有す
る化合物を記載しているその唯一の実施例（実施例９：
Ｎ−ベンゾイル）においては、１、４−ジケト−３、６
−ジフェニルピロロ−［３，４−ｃ］−ピロールを塩化
ベンゾイルと反応させている。同様の方法によって、対
応する酸塩化物誘導体、たとえばクロロカルボン酸エス
テルと反応させることによって所望のカルバメートを製
造する実験を実施したところ、残念ながら所望のカルバ
メートが非常に低収率で得られるにすぎないことが判明
した。しかしながら、対応するトリハロ酢酸エステル、
または特に対応するジカーボネートを使用することによ
って所望のカルバメートが驚くべきほど好収率で得られ
ることが見いだされた。脂肪族酸塩化物誘導体、たとえ
ばクロロマレイン酸ブチルエステルとの反応を、触媒と
しての塩基の存在下において実施した場合にも、向上の
度合いは低いかもしれないが、同じく収率の向上が達成
された。
【００１６】式Ｉの化合物を製造するための適当な方法
は、式 Ａ（Ｈ）X （式中、Ａとｘとは前記の意味を有し、そしてＨはＮに
結合されている）の化合物を、所望のモル比において、
下記式のジカーボネート Ｂ−Ｏ−Ｂ、 または下記式のトリハロ酢酸エステル （Ｒa)3 Ｃ−Ｂ、 または下記式のアジド ＢＮ3 、 または下記式のカーボネート Ｂ−ＯＲb 、 または下記式のアルキリデンイミノオキシギ酸エステル
は、式 Ａ（Ｈ）X （式中、Ａとｘとは前記の意味を有し、そしてＨはＮに
結合されている）の化合物を、所望のモル比において、
下記式のジカーボネート Ｂ−Ｏ−Ｂ、 または下記式のトリハロ酢酸エステル （Ｒa)3 Ｃ−Ｂ、 または下記式のアジド ＢＮ3 、 または下記式のカーボネート Ｂ−ＯＲb 、 または下記式のアルキリデンイミノオキシギ酸エステル
【化５６】
（上記各式において、Ｂは前記の意味を有し、Ｒa は塩
素、フッ素または臭素であり、Ｒb はＣ1-Ｃ4 アルキ
ル、または置換されていないかまたはハロゲン、Ｃ1-Ｃ
4アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシまたは−ＣＮによって
置換されたフェニルであり、Ｒc は−ＣＮまたは−ＣＯ
ＯＲb であり、Ｒd は置換されていないかまたはハロゲ
ン、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシまたは−Ｃ
Ｎによって置換されたフェニルである）と、非プロトン
有機溶剤中において、塩基触媒の存在下で、０乃至４０
０℃、好ましくは２０乃至２００℃、特に好ましくは１
０乃至１００℃、最も好ましくは１４乃至４０℃の温度
において、大気圧下で２乃至８０時間反応させることを
特徴とする。式Ａ（Ｈ）X の化合物を式Ｂ−Ｏ−Ｂのジ
カーボネートと反応させるのが好ましい。式Ａ（Ｈ）X
の化合物、式Ｂ−Ｏ−Ｂのジカーボネート、式（Ｒa)3
Ｃ−Ｂのトリハロ酢酸エステル、式ＢＮ3 のアジド、式
Ｂ−ＯＲb カーボネートおよび式
素、フッ素または臭素であり、Ｒb はＣ1-Ｃ4 アルキ
ル、または置換されていないかまたはハロゲン、Ｃ1-Ｃ
4アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシまたは−ＣＮによって
置換されたフェニルであり、Ｒc は−ＣＮまたは−ＣＯ
ＯＲb であり、Ｒd は置換されていないかまたはハロゲ
ン、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシまたは−Ｃ
Ｎによって置換されたフェニルである）と、非プロトン
有機溶剤中において、塩基触媒の存在下で、０乃至４０
０℃、好ましくは２０乃至２００℃、特に好ましくは１
０乃至１００℃、最も好ましくは１４乃至４０℃の温度
において、大気圧下で２乃至８０時間反応させることを
特徴とする。式Ａ（Ｈ）X の化合物を式Ｂ−Ｏ−Ｂのジ
カーボネートと反応させるのが好ましい。式Ａ（Ｈ）X
の化合物、式Ｂ−Ｏ−Ｂのジカーボネート、式（Ｒa)3
Ｃ−Ｂのトリハロ酢酸エステル、式ＢＮ3 のアジド、式
Ｂ−ＯＲb カーボネートおよび式
【化５７】
のアルキリデンイミノオキシギ酸エステルは公知化合物
である。それらの中に新規化合物があった場合には、そ
れら新規化合物は一般に公知の方法に準じて製造するこ
とができる。上記化合物ＡとＢの反応性誘導体とのモル
比は、導入されるべき基Ｂの数により決定される。Ｂの
反応性誘導体の２乃至１０倍過剰が一般に適当である。
である。それらの中に新規化合物があった場合には、そ
れら新規化合物は一般に公知の方法に準じて製造するこ
とができる。上記化合物ＡとＢの反応性誘導体とのモル
比は、導入されるべき基Ｂの数により決定される。Ｂの
反応性誘導体の２乃至１０倍過剰が一般に適当である。
【００１７】適当な溶剤を例示すれば、テトラヒドロフ
ランおよびジオキサンのごときエーテル類、あるいはエ
チレングリコールメチルエーテル、エチレングリコール
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどの
グリコールエーテル類、さらには双極性非プロトン溶剤
たとえばアセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、
ニトロベンゼン、Ｎ−メチルピロリドン、ハロゲン化脂
肪族または芳香族炭化水素類、たとえばトリクロロエタ
ン、ベンゼン、またはアルキル、アルコキシまたはハロ
ゲンによって置換されたベンゼン、たとえばトルエン、
キシレン、アニソールまたはクロロベンゼン、あるいは
また芳香族性Ｎ−複素環式化合物類、たとえばピリジ
ン、ピコリンまたはキノリンなどである。好ましい溶剤
は、たとえばテトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンである。これらの溶
剤は混合物として使用することもできる。反応化合物１
重量部に対して溶剤５乃至２０重量部を使用するのが適
当である。
ランおよびジオキサンのごときエーテル類、あるいはエ
チレングリコールメチルエーテル、エチレングリコール
エチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどの
グリコールエーテル類、さらには双極性非プロトン溶剤
たとえばアセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、
ニトロベンゼン、Ｎ−メチルピロリドン、ハロゲン化脂
肪族または芳香族炭化水素類、たとえばトリクロロエタ
ン、ベンゼン、またはアルキル、アルコキシまたはハロ
ゲンによって置換されたベンゼン、たとえばトルエン、
キシレン、アニソールまたはクロロベンゼン、あるいは
また芳香族性Ｎ−複素環式化合物類、たとえばピリジ
ン、ピコリンまたはキノリンなどである。好ましい溶剤
は、たとえばテトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンである。これらの溶
剤は混合物として使用することもできる。反応化合物１
重量部に対して溶剤５乃至２０重量部を使用するのが適
当である。
【００１８】触媒として適切な塩基の例は、たとえば次
のものである。アルカリ金属それ自体、たとえばリチウ
ム、ナトリウム、カリウム、およびアルカリ金属の水酸
化物、炭酸塩、またはアルカリ金属アミド、たとえばリ
チウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド、あ
るいはアルカリ金属水素化物、たとえば水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、あるいはまた
アルカリ土類金属またはアルカリ金属のアルコラート、
特に１乃至１０個の炭素原子を有する第一、第二または
第三脂肪族アルコールから誘導されたもの、たとえばリ
チウム、ナトリウムまたはカリウムのメチラート、エチ
ラート、ｎ−プロピラート、イソプロピラート、ｎ−ブ
チラート、ｓｅｃ−ブチラート、ｔｅｒｔ−ブチラー
ト、２−メチル−２−ブチラート、２−メチル−２−ペ
ンチラート、３−メチル−３−ペンチラート、３−エチ
ル−３−ペンチラート、ならびに有機脂肪族、芳香族ま
たは複素環式窒素塩基、特にたとえば、ジアザビシクロ
オクテン、ジアザビシクロウンデセン、４−ジメチルア
ミノピリジンおよびトリアルキルアミン、たとえばトリ
メチルアミンまたはトリエチルアミン。これらの塩基も
混合物として使用することもできる。ジアザビシクロオ
クテン、ジアザビシクロウンデセンおよび特に４−ジメ
チルアミノピリジンのごとき有機窒素塩基が好ましい。
のものである。アルカリ金属それ自体、たとえばリチウ
ム、ナトリウム、カリウム、およびアルカリ金属の水酸
化物、炭酸塩、またはアルカリ金属アミド、たとえばリ
チウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド、あ
るいはアルカリ金属水素化物、たとえば水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、あるいはまた
アルカリ土類金属またはアルカリ金属のアルコラート、
特に１乃至１０個の炭素原子を有する第一、第二または
第三脂肪族アルコールから誘導されたもの、たとえばリ
チウム、ナトリウムまたはカリウムのメチラート、エチ
ラート、ｎ−プロピラート、イソプロピラート、ｎ−ブ
チラート、ｓｅｃ−ブチラート、ｔｅｒｔ−ブチラー
ト、２−メチル−２−ブチラート、２−メチル−２−ペ
ンチラート、３−メチル−３−ペンチラート、３−エチ
ル−３−ペンチラート、ならびに有機脂肪族、芳香族ま
たは複素環式窒素塩基、特にたとえば、ジアザビシクロ
オクテン、ジアザビシクロウンデセン、４−ジメチルア
ミノピリジンおよびトリアルキルアミン、たとえばトリ
メチルアミンまたはトリエチルアミン。これらの塩基も
混合物として使用することもできる。ジアザビシクロオ
クテン、ジアザビシクロウンデセンおよび特に４−ジメ
チルアミノピリジンのごとき有機窒素塩基が好ましい。
【００１９】本発明の組成物の成分（ｂ）として本発明
で使用するのに適当なポジ型またはネガ型レジスト樹
脂、ポリマーまたはプレポリマーは、たとえば以下に記
載するものである。 （ｂ１）ポジ型レジスト、たとえば下記のごときノボラ
ックやジアゾナフトキノンのごときフェノール樹脂をベ
ースとしたジアゾキノンレジスト
で使用するのに適当なポジ型またはネガ型レジスト樹
脂、ポリマーまたはプレポリマーは、たとえば以下に記
載するものである。 （ｂ１）ポジ型レジスト、たとえば下記のごときノボラ
ックやジアゾナフトキノンのごときフェノール樹脂をベ
ースとしたジアゾキノンレジスト
【化５８】
（式中、Ｒは、たとえば水素、Ｃ1-Ｃ8 アルキル、また
は置換されていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ
4 アルコキシ、ハロゲンまたは−ＣＮによって置換され
たフェニル、ＤＱはジアゾナフトキノンを意味する）、
または式
は置換されていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ
4 アルコキシ、ハロゲンまたは−ＣＮによって置換され
たフェニル、ＤＱはジアゾナフトキノンを意味する）、
または式
【化５９】
のポリマー；
（ｂ２）ネガ型レジスト、たとえば二クロム化ゼラチ
ン、スターチ、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニ
ルピロリドン）、ポリ（ビニルブチラール）およびポリ
（アミド酸）（ＰＡＡ）のごとき二クロム化されたポリ
マー；側鎖に架橋性基を有するポリマー、たとえばポリ
（ビニルシンナメート）、ポリ（ビニルシンナミリデン
アセテート）、カルコンまたはフェニレンジアクリレー
トがそれに結合しているポリ（ビニルアルコール）、ｐ
−フェニレンジアクリル酸（ＰＰＤＡ）とグリコールと
のポリエステル、たとえば下記式のもの
ン、スターチ、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（ビニ
ルピロリドン）、ポリ（ビニルブチラール）およびポリ
（アミド酸）（ＰＡＡ）のごとき二クロム化されたポリ
マー；側鎖に架橋性基を有するポリマー、たとえばポリ
（ビニルシンナメート）、ポリ（ビニルシンナミリデン
アセテート）、カルコンまたはフェニレンジアクリレー
トがそれに結合しているポリ（ビニルアルコール）、ｐ
−フェニレンジアクリル酸（ＰＰＤＡ）とグリコールと
のポリエステル、たとえば下記式のもの
【化６０】
およびスチリルピリジンをベースとしたポリエステル、
たとえば下記式のもの
たとえば下記式のもの
【化６１】
（式中、Ｒは
【化６２】
または-(ＣＨ2)8-である）；水処理可能なレジスト、た
とえばスチレン−無水マレイン酸共重合体、フェノール
第四ピリジウム塩、たとえば下記式のもの
とえばスチレン−無水マレイン酸共重合体、フェノール
第四ピリジウム塩、たとえば下記式のもの
【化６３】
（式中、たとえばＲは水素またはＣ1-Ｃ4 アルキルであ
り、Ａr は置換されていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、ハロゲン、−ＣＮまたは−Ｎ
Ｏ2 によって置換されたフェニルまたはナフチルであ
る）および
り、Ａr は置換されていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、ハロゲン、−ＣＮまたは−Ｎ
Ｏ2 によって置換されたフェニルまたはナフチルであ
る）および
【化６４】
重合体スチリルキノリウム塩、たとえば下記式のもの
【化６５】
側鎖としてジメチルマレイイミドを有する下記一般式で
表わされるアクリル共重合体
表わされるアクリル共重合体
【化６６】
（式中、たとえばＲはＣＨ3 であってＲ’はＯＨであ
る、またはＲはＣＨ3 であってＲ’はＣＨ3 である、ま
たはＲはＨであってＲ’はＣ2 Ｈ5 である）；側鎖とし
てフェニルシクロプロパンを有する下記式で表わされる
置換ポリ（ビニルアルコール）
る、またはＲはＣＨ3 であってＲ’はＣＨ3 である、ま
たはＲはＨであってＲ’はＣ2 Ｈ5 である）；側鎖とし
てフェニルシクロプロパンを有する下記式で表わされる
置換ポリ（ビニルアルコール）
【化６７】
アジド基を有するポリマー、たとえば下記式のもの
【化６８】
ポリ（cis-イソプレン）とビス−アジドをベースとする
ビス−アジドレジスト、たとえば２、６−ビス（４−ア
ジドベンザル)-４- メチルシクロヘキサノン（ＡＢ
Ｃ）、４、４’−ジアジドスチルベン、４、４’−ジア
ジドベンゾフェノン、４、４’−ジアジドベンザルアセ
トン；ポリ（アクリルアミド）またはポリ（ビニルピロ
リドン）と水溶性ビス−アジドをベースとした水処理可
能なアジドレジスト、たとえば下記式のもの
ビス−アジドレジスト、たとえば２、６−ビス（４−ア
ジドベンザル)-４- メチルシクロヘキサノン（ＡＢ
Ｃ）、４、４’−ジアジドスチルベン、４、４’−ジア
ジドベンゾフェノン、４、４’−ジアジドベンザルアセ
トン；ポリ（アクリルアミド）またはポリ（ビニルピロ
リドン）と水溶性ビス−アジドをベースとした水処理可
能なアジドレジスト、たとえば下記式のもの
【化６９】
ポリ（ビニルフェノール）とモノアジドとをベースとし
たアジドレジスト、たとえば下記式のもの
たアジドレジスト、たとえば下記式のもの
【化７０】
下記のごとき二官能性アシルシランが付加されたポリ
（ビニルアルコール）およびポリ（ビニルピリジン）
（ビニルアルコール）およびポリ（ビニルピリジン）
【化７１】
ビニルベンゾフェノンと４−ジメチルアミノスチレンと
の光架橋性共重合体；たとえば下記式のくりかえし単位
を有する光反応性ポリイミド
の光架橋性共重合体；たとえば下記式のくりかえし単位
を有する光反応性ポリイミド
【化７２】
（式中、ＲとＲ’とは互いに独立的にメチルまたはエチ
ルである）；およびたとえば下記式のジアゾ樹脂
ルである）；およびたとえば下記式のジアゾ樹脂
【化７３】
【００２０】（ｂ３）アクリレート、メタクリレート、
アクリルアミド、スチレンのごときモノマーを含有する
ホトポリマー；１，６−ヘキサジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、Ｎ、Ｎ’
−メチレンビス（アクリルアミド）、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリア
クリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート
のごとき架橋剤；使用されたモノマーの重合体、ポリエ
ステル、ポリウレタン、ナイロン、ポリカーボネートお
よびセルロース誘導体のごときバインダー；親有機化合
物性（organophilic）シリカやクレイのごとき充填剤；
ベンゾイン誘導体、アントラキノンプラス水素供与体、
ベンゾフェノンとアミンのごとき開始剤；ｐ−メトキシ
フェノール、ハイドロキノン、ナフトールのごとき安定
化剤；特に次のごとき反応性バインダーを含有するも
の：マレイン酸またはフマル酸をグリコールと縮合して
得られる不飽和ポリマー、ビスフェノールＡをベースと
した多官能性アクリレート、たとえば下記式のもの
アクリルアミド、スチレンのごときモノマーを含有する
ホトポリマー；１，６−ヘキサジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、Ｎ、Ｎ’
−メチレンビス（アクリルアミド）、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリア
クリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート
のごとき架橋剤；使用されたモノマーの重合体、ポリエ
ステル、ポリウレタン、ナイロン、ポリカーボネートお
よびセルロース誘導体のごときバインダー；親有機化合
物性（organophilic）シリカやクレイのごとき充填剤；
ベンゾイン誘導体、アントラキノンプラス水素供与体、
ベンゾフェノンとアミンのごとき開始剤；ｐ−メトキシ
フェノール、ハイドロキノン、ナフトールのごとき安定
化剤；特に次のごとき反応性バインダーを含有するも
の：マレイン酸またはフマル酸をグリコールと縮合して
得られる不飽和ポリマー、ビスフェノールＡをベースと
した多官能性アクリレート、たとえば下記式のもの
【化７４】
およびその他の多官能性プレポリマー、たとえば下記式
のもの
のもの
【化７５】
（ｂ４）ポジ型ディープ紫外線（ＤＵＶ）レジスト、た
とえばノボラックおよびジアゾピラゾリジン、ジアゾテ
トミン酸、ジアゾピペリジンジオン、式
とえばノボラックおよびジアゾピラゾリジン、ジアゾテ
トミン酸、ジアゾピペリジンジオン、式
【化７６】
のジアゾ−メルドルム酸（diazo-Meldrum's acid) をベ
ースとした変性ジアゾキノン；ｏ−ニトロベンジルエス
テルをベースとしたレジスト、たとえば下記式のもの
ースとした変性ジアゾキノン；ｏ−ニトロベンジルエス
テルをベースとしたレジスト、たとえば下記式のもの
【化７７】
または下記式のコール酸
【化７８】
（式中、たとえば、R1、R2およびR3は、それぞれＯＨで
あるか；またはR1とR2とはＯＨであり、そしてR3はＨで
あるか、またはR1とR3とはＨであり、そしてR2はＯＨで
あるか、またはR1、R2およびR3はそれぞれＨであるか、
またはR1、R2およびR3はそれぞれＯＣＯＣＦ3 である
か、またはR1、R2およびR3はそれぞれＯＣＯＣ（ＣＨ3)
3 であるか、またはR1、R2およびR3はそれぞれＯＣＯＣ
Ｈ3 である）とノボラックとの混合物、またはメチルメ
タクリレートとメタクリル酸との共重合体；ｏ−ニトロ
ベンジル置換ポリエーテル、たとえば下記式のもの
あるか；またはR1とR2とはＯＨであり、そしてR3はＨで
あるか、またはR1とR3とはＨであり、そしてR2はＯＨで
あるか、またはR1、R2およびR3はそれぞれＨであるか、
またはR1、R2およびR3はそれぞれＯＣＯＣＦ3 である
か、またはR1、R2およびR3はそれぞれＯＣＯＣ（ＣＨ3)
3 であるか、またはR1、R2およびR3はそれぞれＯＣＯＣ
Ｈ3 である）とノボラックとの混合物、またはメチルメ
タクリレートとメタクリル酸との共重合体；ｏ−ニトロ
ベンジル置換ポリエーテル、たとえば下記式のもの
【化７９】
下記式のｍ−ポリ（ニトロアニリド）
【化８０】
ポリ（ｐ−アセトキシスチレン）；ポリ（メチルメタク
リレート）（ＰＭＭＡ）誘導体、たとえば３−オキシミ
ノ−２−ブタノンメタクリレート（ＯＭＭＡ）−ＭＭＡ
共重合体、ＯＭＭＡ−メタクリロニトリル−ＭＭＡター
ポリマー、下記式のＭＭＡ−インデノン共重合体
リレート）（ＰＭＭＡ）誘導体、たとえば３−オキシミ
ノ−２−ブタノンメタクリレート（ＯＭＭＡ）−ＭＭＡ
共重合体、ＯＭＭＡ−メタクリロニトリル−ＭＭＡター
ポリマー、下記式のＭＭＡ−インデノン共重合体
【化８１】
下記式のポリ（メチルイソプロピルケトン）（ＰＭＩＰ
Ｋ）
Ｋ）
【化８２】
その基本骨格にトリフェニルカルボニウムイオンを含有
するポリマー、たとえば下記式のもの
するポリマー、たとえば下記式のもの
【化８３】
ポリ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレ
ン）、好ましくはオニウム塩発生体を含む；カーボネー
トとオニウム塩とを含むノボラック、またはナフタレン
−２−カルボン酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステルを含むノ
ボラック；下記式のいずれかのごときポリカーボネート
ン）、好ましくはオニウム塩発生体を含む；カーボネー
トとオニウム塩とを含むノボラック、またはナフタレン
−２−カルボン酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステルを含むノ
ボラック；下記式のいずれかのごときポリカーボネート
【化８４】
およびフタルアルデヒドとｏ−ニトロベンズアルデヒド
との共重合体；
との共重合体；
【００２１】（ｂ５）下記のものを例とするネガ型ディ
ープ紫外線レジスト。４、４’−ジアジドジフェニルス
ルフィド含有ビスアジド環化ゴム組成物、３、３’−ジ
アジドジフェニルスルホン含有ビスアジド−ポリ（ビニ
ルフェノール）組成物、３、３’−ジアジドジフェニル
スルホン含有ビスアジド−ポリ（メチルメタクリレー
ト）組成物、オニウム塩またはｎ−ヘキシルオキシジア
ゾニウムヘキサフルオロホスフェートを含むエポキシ
ド；
ープ紫外線レジスト。４、４’−ジアジドジフェニルス
ルフィド含有ビスアジド環化ゴム組成物、３、３’−ジ
アジドジフェニルスルホン含有ビスアジド−ポリ（ビニ
ルフェノール）組成物、３、３’−ジアジドジフェニル
スルホン含有ビスアジド−ポリ（メチルメタクリレー
ト）組成物、オニウム塩またはｎ−ヘキシルオキシジア
ゾニウムヘキサフルオロホスフェートを含むエポキシ
ド；
【００２２】（ｂ６）下記のものを例とするポジ型電子
線レジスト。ＰＭＭＡ誘導体、たとえばポリ（ペルフル
オロブチルメタクリレート）、ポリ（ヘキサフルオロメ
タクリレート）および特にポリ（２、２、２−トリフル
オロエチル−α−クロロアクリレート）；ＭＭＡとメタ
クリル酸、アクリロニトリルまたは無水メタクリル酸と
の共重合体；ＭＭＡとメタクリル酸と無水メタクリル酸
とのターポリマー；ポリ（オレフィンスルホン）、たと
えばポリ（ブテンスルホン）；ポリ（オレフィンスルホ
ン）を含むノボラック、たとえばポリ（２−メチルペン
テン−１−スルホン）（ＰＭＰＳ）；ポリ（ｐ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）；ポリ（オル
ト−置換２−フェニルエチルメタクリレート）；下記式
のポリスチレン−テトラチオフルバレン
線レジスト。ＰＭＭＡ誘導体、たとえばポリ（ペルフル
オロブチルメタクリレート）、ポリ（ヘキサフルオロメ
タクリレート）および特にポリ（２、２、２−トリフル
オロエチル−α−クロロアクリレート）；ＭＭＡとメタ
クリル酸、アクリロニトリルまたは無水メタクリル酸と
の共重合体；ＭＭＡとメタクリル酸と無水メタクリル酸
とのターポリマー；ポリ（オレフィンスルホン）、たと
えばポリ（ブテンスルホン）；ポリ（オレフィンスルホ
ン）を含むノボラック、たとえばポリ（２−メチルペン
テン−１−スルホン）（ＰＭＰＳ）；ポリ（ｐ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）；ポリ（オル
ト−置換２−フェニルエチルメタクリレート）；下記式
のポリスチレン−テトラチオフルバレン
【化８５】
（式中、Ｒは、たとえばＣ1-Ｃ10アルキレン、Ｃ1-Ｃ10
アルケニレン、Ｃ5-Ｃ10シクロアルキレン、または置換
されていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アル
コキシ、ハロゲンまたは−ＣＮによって置換されたフェ
ニレンである）； （ｂ７）下記のものを例とするネガ型電子線レジスト。
エポキシ化ポリブタジェン、ポリ（グリシジルメタクリ
レート）（ＰＧＭＡ）、グリシジルメタクリレートとエ
チルアクリレートとの共重合体（ＣＯＰ）；アリルメタ
クリレートとヒドロキシエチルメタクリレートとの共重
合体；プロパギルマタクリレートとヒドロキシエチルメ
タクリレートとの共重合体；ポリスチレンをベースとし
たレジスト、たとえばヨウ化ポリスチレンおよびポリ
（クロロメチルスチレン）；ポリ（ビニルナフタレ
ン）；ポリ（クロロメチルスチレン−コ−２−ビニルナ
フタレン）；メチルヨウ素で四級化されたポリ（ビニル
ピリジン）；ジアゾキノン−ノボラックフォトレジス
ト；ω−トリコサン酸、ω−トリコシン酸、ｏ−オクタ
デシルアクリル酸のLangmuir-Blodgett フィルム； （ｂ８）ポジ型Ｘ線レジスト、たとえばOlin-Hunt resi
st HPR-204( 市販品）； （ｂ９）ネガ型Ｘ線レジスト、たとえばポリ（２、３−
ジクロロ−１−プロピルアクリレート）（ＤＣＰＡ）；
ポリ（クロロ−メチルスチレン）（ＰＣＭＳ）；塩素化
ポリ（メチルスチレン）（ＣＰＭＳ）；アリルメタクリ
レートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートまたはグ
リシジルメタクリレートとの共重合体； （ｂ１０）化学効果性または熱効果性ポリマー、たとえ
ばポリ−ｐ−ヒドロキシスチレンまたはメラミン架橋剤
を含むノボラック、この系は酸性触媒の存在下において
加熱により架橋する；ｐ−ヒドロキシスチレンとｐ−ヒ
ドロキシメチルスチレンのエステル化物との共重合体、
これは酸の存在下において架橋する；アミンの存在下に
おいて架橋するＣＯＰ樹脂；下記式の化合物のごとき潜
在ポリアミン
アルケニレン、Ｃ5-Ｃ10シクロアルキレン、または置換
されていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アル
コキシ、ハロゲンまたは−ＣＮによって置換されたフェ
ニレンである）； （ｂ７）下記のものを例とするネガ型電子線レジスト。
エポキシ化ポリブタジェン、ポリ（グリシジルメタクリ
レート）（ＰＧＭＡ）、グリシジルメタクリレートとエ
チルアクリレートとの共重合体（ＣＯＰ）；アリルメタ
クリレートとヒドロキシエチルメタクリレートとの共重
合体；プロパギルマタクリレートとヒドロキシエチルメ
タクリレートとの共重合体；ポリスチレンをベースとし
たレジスト、たとえばヨウ化ポリスチレンおよびポリ
（クロロメチルスチレン）；ポリ（ビニルナフタレ
ン）；ポリ（クロロメチルスチレン−コ−２−ビニルナ
フタレン）；メチルヨウ素で四級化されたポリ（ビニル
ピリジン）；ジアゾキノン−ノボラックフォトレジス
ト；ω−トリコサン酸、ω−トリコシン酸、ｏ−オクタ
デシルアクリル酸のLangmuir-Blodgett フィルム； （ｂ８）ポジ型Ｘ線レジスト、たとえばOlin-Hunt resi
st HPR-204( 市販品）； （ｂ９）ネガ型Ｘ線レジスト、たとえばポリ（２、３−
ジクロロ−１−プロピルアクリレート）（ＤＣＰＡ）；
ポリ（クロロ−メチルスチレン）（ＰＣＭＳ）；塩素化
ポリ（メチルスチレン）（ＣＰＭＳ）；アリルメタクリ
レートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートまたはグ
リシジルメタクリレートとの共重合体； （ｂ１０）化学効果性または熱効果性ポリマー、たとえ
ばポリ−ｐ−ヒドロキシスチレンまたはメラミン架橋剤
を含むノボラック、この系は酸性触媒の存在下において
加熱により架橋する；ｐ−ヒドロキシスチレンとｐ−ヒ
ドロキシメチルスチレンのエステル化物との共重合体、
これは酸の存在下において架橋する；アミンの存在下に
おいて架橋するＣＯＰ樹脂；下記式の化合物のごとき潜
在ポリアミン
【化８６】
これはビス−エポキシドの存在下において光照射により
架橋する；適当な硬化剤、たとえばポリアミン、ノボラ
ック、ポリアミノアミド、ポリカルボン酸無水物の存在
下において架橋するエポキシ樹脂、たとえばグリシジル
化クレゾールノボラック、ビスフェノールＡグリシジル
エーテル、ヒダントイン−Ｎ、Ｎ’−ビスグリシド、プ
ロピレン−１、３−ビスヒダントイン−２−ヒドロキシ
トリグリシド、ｐ−アミノフェノールトリグリシド、ジ
アミノジフェニルメタンテトラグリシド、ビニルシクロ
ヘキサン二酸化物、３、４−エポキシシクロヘキシルメ
チル−３、４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸エス
テル、およびこれらの混合物；ポリ（ビニル安息香酸）
のエステル、たとえば下記のいずれかの基のくりかえし
を有するポリマー
架橋する；適当な硬化剤、たとえばポリアミン、ノボラ
ック、ポリアミノアミド、ポリカルボン酸無水物の存在
下において架橋するエポキシ樹脂、たとえばグリシジル
化クレゾールノボラック、ビスフェノールＡグリシジル
エーテル、ヒダントイン−Ｎ、Ｎ’−ビスグリシド、プ
ロピレン−１、３−ビスヒダントイン−２−ヒドロキシ
トリグリシド、ｐ−アミノフェノールトリグリシド、ジ
アミノジフェニルメタンテトラグリシド、ビニルシクロ
ヘキサン二酸化物、３、４−エポキシシクロヘキシルメ
チル−３、４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸エス
テル、およびこれらの混合物；ポリ（ビニル安息香酸）
のエステル、たとえば下記のいずれかの基のくりかえし
を有するポリマー
【化８７】
これらは触媒量の酸の存在下において加熱によりポリ
（ビニル安息香酸）に変換する； ブロック化ポリ−ｐ
−ヒドロキシスチレン、たとえば下記のいずれかの基の
くりかえしを有するもの
（ビニル安息香酸）に変換する； ブロック化ポリ−ｐ
−ヒドロキシスチレン、たとえば下記のいずれかの基の
くりかえしを有するもの
【化８８】
これは触媒量の酸の存在下において加熱によりポリ−ｐ
−ヒドロキシスチレンに変換する；ポリアクリレートの
エステルまたはポリメタクリレートのエステル、たとえ
ば下記のいずれかの基のくりかえしを有するもの
−ヒドロキシスチレンに変換する；ポリアクリレートの
エステルまたはポリメタクリレートのエステル、たとえ
ば下記のいずれかの基のくりかえしを有するもの
【化８９】
これらは触媒量の酸の存在下において加熱によりポリア
クリル酸またはポリメタクリル酸に変換する；ポリカー
ボネート、たとえば下記の基のくりかえしを有するもの
クリル酸またはポリメタクリル酸に変換する；ポリカー
ボネート、たとえば下記の基のくりかえしを有するもの
【化９０】
これは加熱により解重合する；メタクリル酸−メチルメ
タクリレート共重合体と塩素化メタクリロイル−メチル
メタクリレート共重合体との混合物、これは加熱により
架橋する；
タクリレート共重合体と塩素化メタクリロイル−メチル
メタクリレート共重合体との混合物、これは加熱により
架橋する；
【００２３】（ｂ１１）ポジ型イオンビームレジスト、
たとえばポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（メチル
ビニルケトン）、ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレー
ト）、ポリ（ブテンスルホン）； （ｂ１２）ネガ型イオンビームレジスト、たとえばポリ
（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルシンナメート）、
ポリ（メチルシロキサン）、ポリ（グリシジルメタクリ
レート−コ−エチルアクリレート）、ポリスチレン、ポ
リ（４−クロロスチレン）、ポリ（４−ブロモスチレ
ン）、ノボラック； （ｂ１３）ケイ素含有ポジ型レジスト、たとえばポリ
（ジメチルシロキサン）、ポリ（フェニルメチルシロキ
サン）、シロキサン置換プロピルメタクリレート、たと
えば下記式のもの
たとえばポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（メチル
ビニルケトン）、ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレー
ト）、ポリ（ブテンスルホン）； （ｂ１２）ネガ型イオンビームレジスト、たとえばポリ
（ビニルアセテート）、ポリ（ビニルシンナメート）、
ポリ（メチルシロキサン）、ポリ（グリシジルメタクリ
レート−コ−エチルアクリレート）、ポリスチレン、ポ
リ（４−クロロスチレン）、ポリ（４−ブロモスチレ
ン）、ノボラック； （ｂ１３）ケイ素含有ポジ型レジスト、たとえばポリ
（ジメチルシロキサン）、ポリ（フェニルメチルシロキ
サン）、シロキサン置換プロピルメタクリレート、たと
えば下記式のもの
【化９１】
（ｂ１４）ケイ素含有ネガ型レジスト、たとえばトリメ
チルシリルメチルスチレンとクロロスチレンとの共重合
体、クロロメチル化ポリ（ジフェニルシロキサン）、臭
素化ポリ（１−トリメチルシリルプロピレン）、ポリ
（トリアリルフェニルシラン）と２、６−ビス（４’−
アジドベンザル）−メチルシクロヘキサノンとの組み合
わせ、ポリ（トリメチルシリルスチレン）と１、２、４
−トリクロロベンゼンおよび３、３’−ジアジドジフェ
ニルスルホンとの組み合わせ。
チルシリルメチルスチレンとクロロスチレンとの共重合
体、クロロメチル化ポリ（ジフェニルシロキサン）、臭
素化ポリ（１−トリメチルシリルプロピレン）、ポリ
（トリアリルフェニルシラン）と２、６−ビス（４’−
アジドベンザル）−メチルシクロヘキサノンとの組み合
わせ、ポリ（トリメチルシリルスチレン）と１、２、４
−トリクロロベンゼンおよび３、３’−ジアジドジフェ
ニルスルホンとの組み合わせ。
【００２４】本発明の組成物の成分（ｂ）として好まし
いものは、（ｂ１）のポジ型レジスト、（ｂ２）のネガ
型レジスト、（ｂ３）のフォトレジスト、（ｂ４）のポ
ジ型ディープ紫外線レジスト、（ｂ５）のネガ型ディー
プ紫外線レジスト、および（ｂ１０）の化学および熱効
果性ポリマーである。
いものは、（ｂ１）のポジ型レジスト、（ｂ２）のネガ
型レジスト、（ｂ３）のフォトレジスト、（ｂ４）のポ
ジ型ディープ紫外線レジスト、（ｂ５）のネガ型ディー
プ紫外線レジスト、および（ｂ１０）の化学および熱効
果性ポリマーである。
【００２５】特に好ましいものを以下に列挙する。ジア
ゾキノンレジスト；二クロム化ポリマー、たとえば二ク
ロム化−ゼラチン、−スターチ、−ポリ（ビニルアルコ
ール）、−ポリ（ビニルピロリドン）、−ポリ（ビニル
ブチラール）、−ポリ（アミド酸）；側鎖に架橋基を有
するポリマー、たとえばポリ（ビニルシンナメート）、
ポリ（ビニルシンナミリデンアセテート）、カルコンま
たはフェニレンジアクリレートが結合されているポリ
（ビニルアルコール）、ｐ−フェニレンジアクリル酸
（ＰＰＤＡ）とグリコールとのポリエステル；ポリ（ci
s-イソプレン）とビス−アジドとをベースとしたビスア
ジドレジスト、たとえば２、６−ビス−（４−アジドベ
ンザル）−４−メチルシクロヘキサノン（ＡＢＣ）、
４、４’−ジアジドスチルベン、４、４’−ジアジドベ
ンゾフェノン、４、４’−ジアジドベンゾラクトン；水
処理可能なアジドレジスト；反応性バインダ−を含有す
るフォトポリマー、この場合そのバインダーは、たとえ
ばマレイン酸またはフマル酸をグリコールと縮合して得
られた不飽和ポリマー、多官能性アクリレートおよび多
官能性プレポリマー；オニウム塩酸発生体を有するポリ
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）；
４，４’−ジアジドジフェニルスルフィドを含有するビ
ス−アジド環化ゴム組成物および３，３’−ジアジドジ
フェニルスルフォンを含有するビス−アジドポリ（ビニ
ルフェノール）組成物；酸触媒とメラミン架橋剤との組
み合せを含有するポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）また
はノボラック、触媒量の酸の存在下において加熱によっ
て脱離される脱離基を有するポリ（ビニル安息香酸）、
ポリ（アクリル酸）およびポリ（メタクリル酸）のエス
テル、およびブロック化ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレ
ン。
ゾキノンレジスト；二クロム化ポリマー、たとえば二ク
ロム化−ゼラチン、−スターチ、−ポリ（ビニルアルコ
ール）、−ポリ（ビニルピロリドン）、−ポリ（ビニル
ブチラール）、−ポリ（アミド酸）；側鎖に架橋基を有
するポリマー、たとえばポリ（ビニルシンナメート）、
ポリ（ビニルシンナミリデンアセテート）、カルコンま
たはフェニレンジアクリレートが結合されているポリ
（ビニルアルコール）、ｐ−フェニレンジアクリル酸
（ＰＰＤＡ）とグリコールとのポリエステル；ポリ（ci
s-イソプレン）とビス−アジドとをベースとしたビスア
ジドレジスト、たとえば２、６−ビス−（４−アジドベ
ンザル）−４−メチルシクロヘキサノン（ＡＢＣ）、
４、４’−ジアジドスチルベン、４、４’−ジアジドベ
ンゾフェノン、４、４’−ジアジドベンゾラクトン；水
処理可能なアジドレジスト；反応性バインダ−を含有す
るフォトポリマー、この場合そのバインダーは、たとえ
ばマレイン酸またはフマル酸をグリコールと縮合して得
られた不飽和ポリマー、多官能性アクリレートおよび多
官能性プレポリマー；オニウム塩酸発生体を有するポリ
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン）；
４，４’−ジアジドジフェニルスルフィドを含有するビ
ス−アジド環化ゴム組成物および３，３’−ジアジドジ
フェニルスルフォンを含有するビス−アジドポリ（ビニ
ルフェノール）組成物；酸触媒とメラミン架橋剤との組
み合せを含有するポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）また
はノボラック、触媒量の酸の存在下において加熱によっ
て脱離される脱離基を有するポリ（ビニル安息香酸）、
ポリ（アクリル酸）およびポリ（メタクリル酸）のエス
テル、およびブロック化ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレ
ン。
【００２６】本発明の組成物の成分（ｂ）として適当な
上記に例示した物質は、当技術分野において公知であ
り、そして、たとえばA.Reiserの”Photoreactive Poly
mers”，John Wiley & Sons, 1989出版、に記載されて
いる。本組成物がさらに触媒を含有していれば、ポリマ
ー構造化および顔料形成が促進される。したがって、本
組成物が上記成分（ｂ）と（ａ）とからポジ型またはネ
ガ型ポリマー構造化および／または顔料形成を形成する
ための触媒（ｃ）を含有するのが好ましい。
上記に例示した物質は、当技術分野において公知であ
り、そして、たとえばA.Reiserの”Photoreactive Poly
mers”，John Wiley & Sons, 1989出版、に記載されて
いる。本組成物がさらに触媒を含有していれば、ポリマ
ー構造化および顔料形成が促進される。したがって、本
組成物が上記成分（ｂ）と（ａ）とからポジ型またはネ
ガ型ポリマー構造化および／または顔料形成を形成する
ための触媒（ｃ）を含有するのが好ましい。
【００２７】触媒（ｃ）は、好ましくは酸、塩基、また
は電磁照射の特定波長、たとえばＩＲ／ＮＩＲ領域の波
長を選択的に吸収する化合物である。潜在酸または塩基
が特に好ましい。このような潜在酸の例は、化学線照射
下において酸を形成しうるもの、たとえばジアゾニウム
塩、スルホニウム塩、スルホキソニウム塩、ヨードニウ
ム塩のごときオニウム塩である。好ましいのは下記式XV
III のスルホニウム塩である。 （Ar1）s（R30）t（R31）uS+X- （XVIII） （式中、たとえばＡr1はフェニル、ナフチルまたはフェ
ニル−ＣＯＣＨ2-であって、これらは置換されていない
かまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、−Ｏ
Ｈおよび／またはニトロによって置換されている，R30
はＣ1-Ｃ6 アルキルまたはＣ3-Ｃ7 シクロアルキルであ
り、R31 はテトラヒドロチエニル、テトラヒドロフリル
またはヘキサヒドロピリルであり、ｓは０，１，２また
は３であり、ｔは０，１または２であり、ｕは０または
１であり、そしてｓ＋ｔ＋ｕは３であり、Ｘ- は塩素陰
イオン、臭素陰イオン、ヨード陰イオン、ＢＦ4 -、ＰＦ
6 -、Ａs Ｆ6 -， Ｓb Ｆ6 -，ＦＳＯ3 、または有機スル
ホン酸またはカルボン酸の陰イオンである）。好ましく
は、フェニル、ナフチルまたはフェニルアシルル基Ａr1
は、単置換、特にＣl ，Ｂr ，メチル、メトキシ、−Ｏ
Ｈまたはニトロによって単置換されている。より好まし
くは、これらの残基は置換されていない。R30 は、好ま
しくはＣ1-Ｃ4 アルキル、特にメチルまたはエチルであ
る。好ましくは、ｓは２または３であり、ｔは１または
０であり、そしてｕは０である。より好ましくは、ｓは
３であり、ｔとｕとは０である。Ａr1が置換されていな
いフェニル、そしてｓが３であるのが最も好ましい。
は電磁照射の特定波長、たとえばＩＲ／ＮＩＲ領域の波
長を選択的に吸収する化合物である。潜在酸または塩基
が特に好ましい。このような潜在酸の例は、化学線照射
下において酸を形成しうるもの、たとえばジアゾニウム
塩、スルホニウム塩、スルホキソニウム塩、ヨードニウ
ム塩のごときオニウム塩である。好ましいのは下記式XV
III のスルホニウム塩である。 （Ar1）s（R30）t（R31）uS+X- （XVIII） （式中、たとえばＡr1はフェニル、ナフチルまたはフェ
ニル−ＣＯＣＨ2-であって、これらは置換されていない
かまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、−Ｏ
Ｈおよび／またはニトロによって置換されている，R30
はＣ1-Ｃ6 アルキルまたはＣ3-Ｃ7 シクロアルキルであ
り、R31 はテトラヒドロチエニル、テトラヒドロフリル
またはヘキサヒドロピリルであり、ｓは０，１，２また
は３であり、ｔは０，１または２であり、ｕは０または
１であり、そしてｓ＋ｔ＋ｕは３であり、Ｘ- は塩素陰
イオン、臭素陰イオン、ヨード陰イオン、ＢＦ4 -、ＰＦ
6 -、Ａs Ｆ6 -， Ｓb Ｆ6 -，ＦＳＯ3 、または有機スル
ホン酸またはカルボン酸の陰イオンである）。好ましく
は、フェニル、ナフチルまたはフェニルアシルル基Ａr1
は、単置換、特にＣl ，Ｂr ，メチル、メトキシ、−Ｏ
Ｈまたはニトロによって単置換されている。より好まし
くは、これらの残基は置換されていない。R30 は、好ま
しくはＣ1-Ｃ4 アルキル、特にメチルまたはエチルであ
る。好ましくは、ｓは２または３であり、ｔは１または
０であり、そしてｕは０である。より好ましくは、ｓは
３であり、ｔとｕとは０である。Ａr1が置換されていな
いフェニル、そしてｓが３であるのが最も好ましい。
【００２８】Ｘ- が有機スルホン酸またはカルボン酸の
陰イオンを意味する場合には、脂肪族、環式脂肪族、炭
素環式芳香族、複素環式芳香族または芳香脂肪族スルホ
ン酸またはカルボン酸の陰イオンが使用できる。これら
の陰イオンは、置換されているまたは置換されていな
い。低求核性のスルホン酸またはカルボン酸、たとえば
部分フッ素化または過フッ素化誘導体、または酸基に隣
接する位置において置換されている誘導体が好ましい。
置換基の例は、塩素またはより好ましくはフッ素のごと
きハロゲン、メチル、エチル、ｎ−プロピルのごときア
ルキル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシのごとき
アルコキシである。脂肪族スルホン酸の例は、メタンス
ルホン酸、エタンスルホン酸、ｎ−プロパンスルホン
酸、ｎ−ブタンスルホン酸およびｎ−ヘキサンスルホン
酸、またはこれらに対応する部分フッ素化、または過フ
ッ素化誘導体である。脂肪族カルボン酸の例は、ギ酸、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバル酸、カプロン酸、２
−エチルヘキシルカルボン酸、および脂肪酸たとえばラ
ウリン酸、ミリスチン酸またはステアリン酸、ならびに
これらの酸の部分フッ素化または過フッ素化誘導体であ
る。環式脂肪族スルホン酸またはカルボン酸の例は、シ
クロヘキサンカルボン酸、カンハアー−１０−スルホン
酸、またはこれらに対応する部分フッ素化または過フッ
素化誘導体である。炭素環式芳香族スルホン酸の例は、
ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、エチルベン
ゼンスルホン酸、イソプロピルベンゼンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン
酸、２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホン
酸、２、４、６−トリメチルベンゼンスルホン酸、ナフ
タレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸またはナフ
タレントリスルホン酸、ならびにこれらのスルホン酸に
対応するアルキル化または部分フッ素化または過フッ素
化誘導体である。複素環式芳香族スルホン酸の例は、ピ
リジンスルホン酸、チオフェンスルホン酸またはピロー
ルスルホン酸、およびこれら化合物に対応する部分フッ
素化または過フッ素化誘導体である。炭素環式芳香族カ
ルボン酸の例は、安息香酸、トルエンカルボン酸、エチ
ルベンゼンカルボン酸、イソプロピルベンゼンカルボン
酸またはジメチルベンゼンカルボン酸、ナフタレンカル
ボン酸またはアントラセンカルボン酸、ならびにこれら
の化合物に対応する部分フッ素化または過フッ素化誘導
体である。複素環式芳香族カルボン酸の例は、ピリジン
カルボン酸、チオフェンカルボン酸またはピロールカル
ボン酸、およびこれらの化合物に対応する部分フッ素化
または過フッ素化誘導体である。芳香脂肪族カルボン酸
の例は、ベンジルカルボン酸、α−メチルベンジルカル
ボン酸およびシンナミン酸、ならびにこれらの化合物に
対応する部分フッ素化または過フッ素化誘導体である。
陰イオンを意味する場合には、脂肪族、環式脂肪族、炭
素環式芳香族、複素環式芳香族または芳香脂肪族スルホ
ン酸またはカルボン酸の陰イオンが使用できる。これら
の陰イオンは、置換されているまたは置換されていな
い。低求核性のスルホン酸またはカルボン酸、たとえば
部分フッ素化または過フッ素化誘導体、または酸基に隣
接する位置において置換されている誘導体が好ましい。
置換基の例は、塩素またはより好ましくはフッ素のごと
きハロゲン、メチル、エチル、ｎ−プロピルのごときア
ルキル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシのごとき
アルコキシである。脂肪族スルホン酸の例は、メタンス
ルホン酸、エタンスルホン酸、ｎ−プロパンスルホン
酸、ｎ−ブタンスルホン酸およびｎ−ヘキサンスルホン
酸、またはこれらに対応する部分フッ素化、または過フ
ッ素化誘導体である。脂肪族カルボン酸の例は、ギ酸、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバル酸、カプロン酸、２
−エチルヘキシルカルボン酸、および脂肪酸たとえばラ
ウリン酸、ミリスチン酸またはステアリン酸、ならびに
これらの酸の部分フッ素化または過フッ素化誘導体であ
る。環式脂肪族スルホン酸またはカルボン酸の例は、シ
クロヘキサンカルボン酸、カンハアー−１０−スルホン
酸、またはこれらに対応する部分フッ素化または過フッ
素化誘導体である。炭素環式芳香族スルホン酸の例は、
ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、エチルベン
ゼンスルホン酸、イソプロピルベンゼンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン
酸、２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホン
酸、２、４、６−トリメチルベンゼンスルホン酸、ナフ
タレンスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸またはナフ
タレントリスルホン酸、ならびにこれらのスルホン酸に
対応するアルキル化または部分フッ素化または過フッ素
化誘導体である。複素環式芳香族スルホン酸の例は、ピ
リジンスルホン酸、チオフェンスルホン酸またはピロー
ルスルホン酸、およびこれら化合物に対応する部分フッ
素化または過フッ素化誘導体である。炭素環式芳香族カ
ルボン酸の例は、安息香酸、トルエンカルボン酸、エチ
ルベンゼンカルボン酸、イソプロピルベンゼンカルボン
酸またはジメチルベンゼンカルボン酸、ナフタレンカル
ボン酸またはアントラセンカルボン酸、ならびにこれら
の化合物に対応する部分フッ素化または過フッ素化誘導
体である。複素環式芳香族カルボン酸の例は、ピリジン
カルボン酸、チオフェンカルボン酸またはピロールカル
ボン酸、およびこれらの化合物に対応する部分フッ素化
または過フッ素化誘導体である。芳香脂肪族カルボン酸
の例は、ベンジルカルボン酸、α−メチルベンジルカル
ボン酸およびシンナミン酸、ならびにこれらの化合物に
対応する部分フッ素化または過フッ素化誘導体である。
【００２９】式XVIII の特に適切なスルホニウム塩の例
を以下に示す。トリフェニルスルホニウムブロマイド、
トリフェニルスルホニウムクロライド、トリフェニルス
ルホニウムヨージド、トリフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセナート、トリフェニルスルホニウ
ムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルエチル
スルホニウムクロライド、フェナシルジメチルスルホニ
ウムクロライド、フェナシルテトラヒドロチオフェニウ
ムクロライド、４−ニトロフェナシルテトラヒドロチオ
フェニウムクロライド、４−ヒドロキシ−２−メチルフ
ェニルヘキサヒドロチオフェニウムクロライド。オニウ
ム化合物として、下記式XIX のヨードニウム塩が使用で
きる。 （Ar2-I+ -Ar3）X1 - （XIX） 式中、たとえばＡr2とＡr3とは互いに独立的に置換され
ていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シ、ハロゲンおよび／またはニトロによって置換された
フェニルまたはナフチルであるか、あるいはＡr2とＡr3
とは両者一緒で式ＸＸ
を以下に示す。トリフェニルスルホニウムブロマイド、
トリフェニルスルホニウムクロライド、トリフェニルス
ルホニウムヨージド、トリフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモナート、トリフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセナート、トリフェニルスルホニウ
ムトリフルオロメタンスルホナート、ジフェニルエチル
スルホニウムクロライド、フェナシルジメチルスルホニ
ウムクロライド、フェナシルテトラヒドロチオフェニウ
ムクロライド、４−ニトロフェナシルテトラヒドロチオ
フェニウムクロライド、４−ヒドロキシ−２−メチルフ
ェニルヘキサヒドロチオフェニウムクロライド。オニウ
ム化合物として、下記式XIX のヨードニウム塩が使用で
きる。 （Ar2-I+ -Ar3）X1 - （XIX） 式中、たとえばＡr2とＡr3とは互いに独立的に置換され
ていないかまたはＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シ、ハロゲンおよび／またはニトロによって置換された
フェニルまたはナフチルであるか、あるいはＡr2とＡr3
とは両者一緒で式ＸＸ
【化９２】
（式中、R32 はＣ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シ、ハロゲンまたはニトロであり、Ｙは直接結合、 -Ｏ
- 、 -ＣＨ2-、または -ＣＯ- である）を形成する、Ｘ
1 -は塩素陰イオン、臭素陰イオンまたはヨード陰イオン
を意味する。式XIX のヨードニウム塩は、たとえば英国
特許第Ａ−１５３９１９２号明細書に記載されている。
シ、ハロゲンまたはニトロであり、Ｙは直接結合、 -Ｏ
- 、 -ＣＨ2-、または -ＣＯ- である）を形成する、Ｘ
1 -は塩素陰イオン、臭素陰イオンまたはヨード陰イオン
を意味する。式XIX のヨードニウム塩は、たとえば英国
特許第Ａ−１５３９１９２号明細書に記載されている。
【００３０】本発明において使用するのに適当な潜在酸
としては、化学線照射下においてスルホン酸を発生する
下記式XXI 乃至XXVIIIの化合物も適切である。
としては、化学線照射下においてスルホン酸を発生する
下記式XXI 乃至XXVIIIの化合物も適切である。
【化９３】
上記各式中、ｖは１または２、好ましくは１であり、R
33 はフェニルまたはナフチルであって、これは置換さ
れていないかまたは１乃至３個の -Ｃl ， -Ｂr, -Ｃ
Ｎ， -ＮＯ2 ，Ｃ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルチオ、フェノキシ、フェニルチ
オ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルアミノ、Ｃ2-Ｃ4 ジアルキルアミ
ノまたはベンゾイルによって置換されており、特に置換
されていないかまたは -Ｃl 、メチルまたはメトキシに
よって単置換されたフェニルである、R34 は水素または
Ｃ1-Ｃ4 アルキルであり、R35 は水素、Ｃ1-Ｃ4 アルキ
ルまたはフェニルであるか、またはR34 とR35 とはそれ
らが結合しているＣ原子と一緒でシクロペンタン環また
はシクロヘキサン環を形成する、R36 は、ｖが１の場合
には、Ｃ1-Ｃ18アルキル、置換されていないかまたはＣ
1-Ｃ4 アルキルによって置換されたフェニルまたはナフ
チル、またはシクロペンチル、シクロヘキシルまたはカ
ンフフェリルであり、そしてｖが２の場合には、Ｃ2-Ｃ
8 アルキレンまたはフェニレンであり、R37 はフェニル
またはナフチルであって、これらは置換されていないか
または１乃至３個の -Ｃl ， -Ｂr , Ｃ1-Ｃ4 アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1-Ｃ4アルキルチオ、フェ
ニル、フェノキシ、フェニルチオ、Ｃ1-Ｃ4 アルキル−
ＣＯＮＨ−、ベンゾイルアミノまたはジメチルアミノに
よって置換されており、特に置換されていないかまたは
-Ｃl 、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、メチルチオまたはフェニ
ルによって単置換されたフェニルであり、R38 は−ＯＨ
またはＣ1-Ｃ4 アルキルであり、R39 はＣ1-Ｃ4 アルキ
ルまたはフェニルであり、R40 は水素、Ｃ1-Ｃ4 アルキ
ル、フリルまたは−ＣＣl3であるか、またはR39 とR40
とはそれらが結合しているＣ原子と一緒でシクロペンタ
ン環またはシクロヘキサン環を形成する、R41 とR42 と
は互いに独立的に置換されていないかまたはハロゲン、
Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシによって置
換されたフェニルであり、R43 は水素またはＣ1-Ｃ4 ア
ルキルであり、R44 は、ｖが１の場合には、Ｃ1-Ｃ6 ア
ルキル、フェニル、ナフチルまたはベンジルであり、そ
してｖが２の場合には、Ｃ1-Ｃ6 アルキレン、フェニレ
ンまたはキシリレンであり、R45 は置換されていないか
またはハロゲン、ニトロ、Ｃ1-Ｃ8 アルキル、Ｃ1-Ｃ4
アルコキシまたはＣ1-Ｃ4 アルキルチオによって置換さ
れたフェニレンまたはナフタレンまたは−ＣＨ＝ＣＨ−
であり、R46 は、ｖが１の場合には、Ｃ1-Ｃ12アルキ
ル、または置換されていないかまたはハロゲン、ニト
ロ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシによっ
て置換されたフェニルであり、そしてｖが２の場合に
は、Ｃ2-Ｃ8 アルキレンまたはフェニレンであり、R47
は置換されていないかまたはハロゲン、ニトロ、- Ｃ
Ｎ、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、メトキシ、エトキシ、ジメチル
アミノまたはベンゾイルによって置換されたフェニルま
たはナフチルであり、R48 は互いに独立的にＣ1-Ｃ4 ア
ルキルである。上記に定義されたアルキル基、アルコキ
シ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキル
アミノ基、アルキルカルバモイル基、アルキレン基は直
鎖または分枝でありうる。ただし、直鎖であるのが好ま
しい。ハロゲンは、特に−Ｃlまたは−Ｂr を意味す
る。
33 はフェニルまたはナフチルであって、これは置換さ
れていないかまたは１乃至３個の -Ｃl ， -Ｂr, -Ｃ
Ｎ， -ＮＯ2 ，Ｃ1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
シ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルチオ、フェノキシ、フェニルチ
オ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルアミノ、Ｃ2-Ｃ4 ジアルキルアミ
ノまたはベンゾイルによって置換されており、特に置換
されていないかまたは -Ｃl 、メチルまたはメトキシに
よって単置換されたフェニルである、R34 は水素または
Ｃ1-Ｃ4 アルキルであり、R35 は水素、Ｃ1-Ｃ4 アルキ
ルまたはフェニルであるか、またはR34 とR35 とはそれ
らが結合しているＣ原子と一緒でシクロペンタン環また
はシクロヘキサン環を形成する、R36 は、ｖが１の場合
には、Ｃ1-Ｃ18アルキル、置換されていないかまたはＣ
1-Ｃ4 アルキルによって置換されたフェニルまたはナフ
チル、またはシクロペンチル、シクロヘキシルまたはカ
ンフフェリルであり、そしてｖが２の場合には、Ｃ2-Ｃ
8 アルキレンまたはフェニレンであり、R37 はフェニル
またはナフチルであって、これらは置換されていないか
または１乃至３個の -Ｃl ， -Ｂr , Ｃ1-Ｃ4 アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1-Ｃ4アルキルチオ、フェ
ニル、フェノキシ、フェニルチオ、Ｃ1-Ｃ4 アルキル−
ＣＯＮＨ−、ベンゾイルアミノまたはジメチルアミノに
よって置換されており、特に置換されていないかまたは
-Ｃl 、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、メチルチオまたはフェニ
ルによって単置換されたフェニルであり、R38 は−ＯＨ
またはＣ1-Ｃ4 アルキルであり、R39 はＣ1-Ｃ4 アルキ
ルまたはフェニルであり、R40 は水素、Ｃ1-Ｃ4 アルキ
ル、フリルまたは−ＣＣl3であるか、またはR39 とR40
とはそれらが結合しているＣ原子と一緒でシクロペンタ
ン環またはシクロヘキサン環を形成する、R41 とR42 と
は互いに独立的に置換されていないかまたはハロゲン、
Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシによって置
換されたフェニルであり、R43 は水素またはＣ1-Ｃ4 ア
ルキルであり、R44 は、ｖが１の場合には、Ｃ1-Ｃ6 ア
ルキル、フェニル、ナフチルまたはベンジルであり、そ
してｖが２の場合には、Ｃ1-Ｃ6 アルキレン、フェニレ
ンまたはキシリレンであり、R45 は置換されていないか
またはハロゲン、ニトロ、Ｃ1-Ｃ8 アルキル、Ｃ1-Ｃ4
アルコキシまたはＣ1-Ｃ4 アルキルチオによって置換さ
れたフェニレンまたはナフタレンまたは−ＣＨ＝ＣＨ−
であり、R46 は、ｖが１の場合には、Ｃ1-Ｃ12アルキ
ル、または置換されていないかまたはハロゲン、ニト
ロ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシによっ
て置換されたフェニルであり、そしてｖが２の場合に
は、Ｃ2-Ｃ8 アルキレンまたはフェニレンであり、R47
は置換されていないかまたはハロゲン、ニトロ、- Ｃ
Ｎ、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、メトキシ、エトキシ、ジメチル
アミノまたはベンゾイルによって置換されたフェニルま
たはナフチルであり、R48 は互いに独立的にＣ1-Ｃ4 ア
ルキルである。上記に定義されたアルキル基、アルコキ
シ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキル
アミノ基、アルキルカルバモイル基、アルキレン基は直
鎖または分枝でありうる。ただし、直鎖であるのが好ま
しい。ハロゲンは、特に−Ｃlまたは−Ｂr を意味す
る。
【００３１】式XXI 乃至XXVIの化合物は、たとえば欧州
特許第Ａ−０１６６６８２号明細書、欧州特許第Ａ−０
０８５０２４号明細書、ならびにそれらの中に引用され
ている文献に記載されている。特に好ましい式XXI 乃至
XXVIの化合物は以下のものである。フェニルアシル−ｐ
−メチルベンゼンスルホナート、ベンゾイン−ｐ−トル
エンスルホナート、３−（ｐ−トルエンスルホニルオキ
シ）−２−ヒドロキシ−２−フェニル−１−フェニル−
１−プロパン−（α−（ｐ−トルエンスルホニルオキ
シ）メチルベンゾイン）、Ｎ−（ｐ−ドデシルベンゼン
スルホニルオキシ）−１、８−ナフタルイミド、Ｎ−
（フェニルスルホニルオキシ）−１、８−ナフタルイミ
ド。
特許第Ａ−０１６６６８２号明細書、欧州特許第Ａ−０
０８５０２４号明細書、ならびにそれらの中に引用され
ている文献に記載されている。特に好ましい式XXI 乃至
XXVIの化合物は以下のものである。フェニルアシル−ｐ
−メチルベンゼンスルホナート、ベンゾイン−ｐ−トル
エンスルホナート、３−（ｐ−トルエンスルホニルオキ
シ）−２−ヒドロキシ−２−フェニル−１−フェニル−
１−プロパン−（α−（ｐ−トルエンスルホニルオキ
シ）メチルベンゾイン）、Ｎ−（ｐ−ドデシルベンゼン
スルホニルオキシ）−１、８−ナフタルイミド、Ｎ−
（フェニルスルホニルオキシ）−１、８−ナフタルイミ
ド。
【００３２】潜在酸として使用するのに適切な化合物を
さらに以下に示す。ｏ−ニトロ安息香酸に変換されるｏ
−ニトロベンズアルデヒド、たとえば１−ニトロベンズ
アルデヒドおよび２、６−ジニトロベンズアルデヒド；
α−ハロゲン化アセトフェノン、たとえばα、α、α−
トリクロロアセトフェノンおよびｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
−α、α、α−トリクロロアセトフェノン；ｏ−ヒドロ
キシアセトフェノンのスルホン酸エステル、たとえば２
−ヒドロキシベンゾフェノンメタンスルホナートおよび
２、４−ヒドロキシベンゾフェノン−ビス−（メタンス
ルホナート）。
さらに以下に示す。ｏ−ニトロ安息香酸に変換されるｏ
−ニトロベンズアルデヒド、たとえば１−ニトロベンズ
アルデヒドおよび２、６−ジニトロベンズアルデヒド；
α−ハロゲン化アセトフェノン、たとえばα、α、α−
トリクロロアセトフェノンおよびｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
−α、α、α−トリクロロアセトフェノン；ｏ−ヒドロ
キシアセトフェノンのスルホン酸エステル、たとえば２
−ヒドロキシベンゾフェノンメタンスルホナートおよび
２、４−ヒドロキシベンゾフェノン−ビス−（メタンス
ルホナート）。
【００３３】さらに、欧州特許第Ａ−０３１８６４９号
明細書に記載されているような、芳香族結合された塩素
または臭素を含有する化合物、たとえば芳香族結合され
た塩素または臭素を少なくとも１つ含有している下記式
XXIXの化合物も潜在酸として適切である。
明細書に記載されているような、芳香族結合された塩素
または臭素を含有する化合物、たとえば芳香族結合され
た塩素または臭素を少なくとも１つ含有している下記式
XXIXの化合物も潜在酸として適切である。
【化９４】
式中、たとえばｐは０または１であり、R49 は−ＣＯＯ
Ｈ、−ＯR52 または−ＳR52 であり、R50 とR51 とは互
いに独立的に水素、−Ｃl ，−Ｂr ，またはアリール、
アルコキシ、アリールオキシ、−ＯＨまたは−Ｆによっ
て置換されていてもよいアルキル、またはアルコキシ、
アリールオキシ、−ＯＨまたはハロゲンによって置換さ
れていてもよいアリールであり、R52 は水素、またはR
50 と同様に置換されていてもよいアルキル，アリール
またはアシルであり、Ａ’は、ｐが０の場合には、水
素、−Ｃl ，−Ｂr ，またはR50 と同様に置換されてい
てもよいアルキルであり、そしてｐが１の場合には、−
ＳＯ2 −、プロピレンまたはペルフルオロアルキレンで
あり、Ｂ’は基
Ｈ、−ＯR52 または−ＳR52 であり、R50 とR51 とは互
いに独立的に水素、−Ｃl ，−Ｂr ，またはアリール、
アルコキシ、アリールオキシ、−ＯＨまたは−Ｆによっ
て置換されていてもよいアルキル、またはアルコキシ、
アリールオキシ、−ＯＨまたはハロゲンによって置換さ
れていてもよいアリールであり、R52 は水素、またはR
50 と同様に置換されていてもよいアルキル，アリール
またはアシルであり、Ａ’は、ｐが０の場合には、水
素、−Ｃl ，−Ｂr ，またはR50 と同様に置換されてい
てもよいアルキルであり、そしてｐが１の場合には、−
ＳＯ2 −、プロピレンまたはペルフルオロアルキレンで
あり、Ｂ’は基
【化９５】
アルキルカルボニル、アルコキシカルボニルまたは置換
されたスルホニルイミドカルボニルである。この種類の
化合物を例示すれば、ヘキサフルオロテトラブロモ−ビ
スフェノールＡ、１、１、１−トリス−（３、５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、Ｎ−（２、
４、６−トリブロモフェニル）−Ｎ’−（ｐ−トルエン
スルホニル）尿素などである。
されたスルホニルイミドカルボニルである。この種類の
化合物を例示すれば、ヘキサフルオロテトラブロモ−ビ
スフェノールＡ、１、１、１−トリス−（３、５−ジブ
ロモ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、Ｎ−（２、
４、６−トリブロモフェニル）−Ｎ’−（ｐ−トルエン
スルホニル）尿素などである。
【００３４】潜在酸の中でも特に好ましい化合物は、式
XVIII の化合物であって、式中のＡr1がフェニルであ
り、ｓが３であり、そしてＸ- がＳb Ｆ6 -，ＰＦ6 -、ま
たは特に脂肪族、部分フッ素化または過フッ素化芳香族
スルホン酸の陰イオンである化合物である。特に好まし
い陰イオンＸ- は、ＣＦ3 ＳＯ3 -，Ｃ2 Ｆ5 ＳＯ3 -，ｎ
−Ｃ3 Ｆ7 ＳＯ3 -，ｎ−Ｃ4 Ｆ9 ＳＯ3 -，ｎ−Ｃ6 Ｆ13
ＳＯ3 -，ｎ−Ｃ8 Ｆ17ＳＯ3 -である。潜在酸として使用
するのに最も好ましいものは、トリフェニルスルホニウ
ムトリフルオロメタンスルホナートである。
XVIII の化合物であって、式中のＡr1がフェニルであ
り、ｓが３であり、そしてＸ- がＳb Ｆ6 -，ＰＦ6 -、ま
たは特に脂肪族、部分フッ素化または過フッ素化芳香族
スルホン酸の陰イオンである化合物である。特に好まし
い陰イオンＸ- は、ＣＦ3 ＳＯ3 -，Ｃ2 Ｆ5 ＳＯ3 -，ｎ
−Ｃ3 Ｆ7 ＳＯ3 -，ｎ−Ｃ4 Ｆ9 ＳＯ3 -，ｎ−Ｃ6 Ｆ13
ＳＯ3 -，ｎ−Ｃ8 Ｆ17ＳＯ3 -である。潜在酸として使用
するのに最も好ましいものは、トリフェニルスルホニウ
ムトリフルオロメタンスルホナートである。
【００３５】本発明で使用される触媒が潜在塩基である
場合には、それは、好ましくは、化学線照射下において
塩基を形成できるものである。このような好ましい潜在
塩基の例は下記式XXX の化合物である。 （Co（NR53R54R55）5Z）2+ （XXX）， 式中、Ｃｏはコバルト(III) イオン、R53 、R54 および
R55 は互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ6 アルキルまたはＣ
3-Ｃ7シクロアルキルであり、Ｚはハロゲンである。好
ましくは、R53 、R54 およびR55 は互いに独立的に直鎖
Ｃ1-Ｃ4 アルキルであり、そしてＺはＣl またはＢr で
ある。
場合には、それは、好ましくは、化学線照射下において
塩基を形成できるものである。このような好ましい潜在
塩基の例は下記式XXX の化合物である。 （Co（NR53R54R55）5Z）2+ （XXX）， 式中、Ｃｏはコバルト(III) イオン、R53 、R54 および
R55 は互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ6 アルキルまたはＣ
3-Ｃ7シクロアルキルであり、Ｚはハロゲンである。好
ましくは、R53 、R54 およびR55 は互いに独立的に直鎖
Ｃ1-Ｃ4 アルキルであり、そしてＺはＣl またはＢr で
ある。
【００３６】好ましい潜在塩基のさらに別の例は下記式
XXXIによって表される。 Ar4R56OCONR57R58 （XXXI）， 式中、Ａr4は置換されていないかまたは１乃至３個の -
Ｃl ， -Ｂr , -ＣＮ、 -ＮＯ3 、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、
Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルチオ、フェノキ
シ、フェニルチオ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルアミノ、Ｃ2-Ｃ4
ジアルキルアミノまたはベンゾイルによって置換された
フェニルまたはナフチルであり、R56 は置換されていな
いかまたはハロゲン、 -ＮＯ2 , -ＣＮ、 -ＯＨ、Ｃ1-
Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシによって置換さ
れたＣ1-Ｃ6 アルキレンであり、R57 とR58 とは互いに
独立的に水素、Ｃ1-Ｃ6 アルキルまたはＣ3-Ｃ7 シクロ
アルキルである。好ましくは、Ａr4は -Ｃl ，メチル、
エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、プロピルオキ
シまたはニトロによって置換されたフェニルであり、R
56 はメチル、エチルまたはプロピルによって置換され
たメチレンであり、そしてR57 とR58 とは互いに独立的
に水素、Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ5-Ｃ6 シクロアルキ
ルである。
XXXIによって表される。 Ar4R56OCONR57R58 （XXXI）， 式中、Ａr4は置換されていないかまたは１乃至３個の -
Ｃl ， -Ｂr , -ＣＮ、 -ＮＯ3 、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、
Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルチオ、フェノキ
シ、フェニルチオ、Ｃ1-Ｃ4 アルキルアミノ、Ｃ2-Ｃ4
ジアルキルアミノまたはベンゾイルによって置換された
フェニルまたはナフチルであり、R56 は置換されていな
いかまたはハロゲン、 -ＮＯ2 , -ＣＮ、 -ＯＨ、Ｃ1-
Ｃ4 アルキルまたはＣ1-Ｃ4 アルコキシによって置換さ
れたＣ1-Ｃ6 アルキレンであり、R57 とR58 とは互いに
独立的に水素、Ｃ1-Ｃ6 アルキルまたはＣ3-Ｃ7 シクロ
アルキルである。好ましくは、Ａr4は -Ｃl ，メチル、
エチル、プロピル、メトキシ、エトキシ、プロピルオキ
シまたはニトロによって置換されたフェニルであり、R
56 はメチル、エチルまたはプロピルによって置換され
たメチレンであり、そしてR57 とR58 とは互いに独立的
に水素、Ｃ1-Ｃ4 アルキルまたはＣ5-Ｃ6 シクロアルキ
ルである。
【００３７】本組成物の好ましい触媒（ｃ）はスルホニ
ウム塩である。特に好ましいものはトリフェニルスルホ
ニウムトリフルオロメタンスルホナートおよび下記式の
化合物である：
ウム塩である。特に好ましいものはトリフェニルスルホ
ニウムトリフルオロメタンスルホナートおよび下記式の
化合物である：
【化９６】
【００３８】本発明による構造化カラー画像形成のため
の組成物は、一般に前記成分（ａ）と（ｂ）および場合
によっては（ｃ）を混合することによって簡単に製造す
ることができる。成分（ａ）は、再生される顔料粒子の
色に応じて選択される。成分（ｂ）のポジ型またはネガ
型レジスト、ポリマーまたはプレポリマーは、次のもの
を考慮して選択されなければならない。すなわち、所望
されるカラー画像の種類、すなわちポジ画像であるかネ
ガ画像であるか、および組成物に加えられる処理の種
類、すなわち加熱、電磁線照射、たとえば紫外線、可視
光線、電子線、中性子線、レーザーまたはＸ線の照射、
またはこれらの組み合わせのいずれであるかによって選
択される。たとえば、可視光線の照射によってポジ画像
を得たい場合には、分類（ｂ１）のポジ型レジストの１
つが選択される。また、Ｘ線照射によってネガ画像を得
たい場合には、分類（ｂ９）のネガ型Ｘ線レジストの１
つが選択される。レーザー照射によってネガ画像を得た
い場合には、分類（ｂ１０）の化学的または熱的効果性
ポリマーのグループに含まれている熱硬化性ポリマーの
１つ、たとえばメタクリ酸−メチルメタクリレート共重
合体と塩化メタクリロイル−メチルメタクリレートとの
混合物が選択される。この最後のケースの場合には、光
エネルギーを有効に熱エネルギーに変換するために、そ
のポリマーに入射レーザー光線の波長に吸収をもつ化合
物を添加するのが好ましい。熱と電磁線照射との組み合
わせによってネガ画像を得たい場合には、分類（ｂ１
０）のメラミン架橋剤を加えたポリ−ｐ−ヒドロキシス
チレンを含有する系が選択される。その他の樹脂、ポリ
マーまたはプレポリマーの選択も同様にしてなされるべ
きである。成分（ｃ）が添加されない場合には、成分
（ａ）と成分（ｂ）とは重量で０．０１：９９．９９乃
至８０：２０の比で混合される。好ましくは、重量比で
１：９９乃乃至７０：３０、より好ましくは５：９５乃
至６０：４０、最も好ましくは重量比で１０：９０乃至
５０：５０である。成分（ｃ）が添加される場合には、
成分（ａ）：（ｂ）：（ｃ）の混合比は重量ベースで
０．０１：９９．９８：０．０１乃至７５：５：２０と
なるように、好ましくは１．００：９８．９０：０．１
０乃至７０：１５：１５、より好ましくは５：９４：１
０乃至６０：３０：１０、最も好ましくは１０：８８：
２乃至５０：４２：８になるように選択される。本組成
物には成分（ｃ）を含有させるのが好ましい。
の組成物は、一般に前記成分（ａ）と（ｂ）および場合
によっては（ｃ）を混合することによって簡単に製造す
ることができる。成分（ａ）は、再生される顔料粒子の
色に応じて選択される。成分（ｂ）のポジ型またはネガ
型レジスト、ポリマーまたはプレポリマーは、次のもの
を考慮して選択されなければならない。すなわち、所望
されるカラー画像の種類、すなわちポジ画像であるかネ
ガ画像であるか、および組成物に加えられる処理の種
類、すなわち加熱、電磁線照射、たとえば紫外線、可視
光線、電子線、中性子線、レーザーまたはＸ線の照射、
またはこれらの組み合わせのいずれであるかによって選
択される。たとえば、可視光線の照射によってポジ画像
を得たい場合には、分類（ｂ１）のポジ型レジストの１
つが選択される。また、Ｘ線照射によってネガ画像を得
たい場合には、分類（ｂ９）のネガ型Ｘ線レジストの１
つが選択される。レーザー照射によってネガ画像を得た
い場合には、分類（ｂ１０）の化学的または熱的効果性
ポリマーのグループに含まれている熱硬化性ポリマーの
１つ、たとえばメタクリ酸−メチルメタクリレート共重
合体と塩化メタクリロイル−メチルメタクリレートとの
混合物が選択される。この最後のケースの場合には、光
エネルギーを有効に熱エネルギーに変換するために、そ
のポリマーに入射レーザー光線の波長に吸収をもつ化合
物を添加するのが好ましい。熱と電磁線照射との組み合
わせによってネガ画像を得たい場合には、分類（ｂ１
０）のメラミン架橋剤を加えたポリ−ｐ−ヒドロキシス
チレンを含有する系が選択される。その他の樹脂、ポリ
マーまたはプレポリマーの選択も同様にしてなされるべ
きである。成分（ｃ）が添加されない場合には、成分
（ａ）と成分（ｂ）とは重量で０．０１：９９．９９乃
至８０：２０の比で混合される。好ましくは、重量比で
１：９９乃乃至７０：３０、より好ましくは５：９５乃
至６０：４０、最も好ましくは重量比で１０：９０乃至
５０：５０である。成分（ｃ）が添加される場合には、
成分（ａ）：（ｂ）：（ｃ）の混合比は重量ベースで
０．０１：９９．９８：０．０１乃至７５：５：２０と
なるように、好ましくは１．００：９８．９０：０．１
０乃至７０：１５：１５、より好ましくは５：９４：１
０乃至６０：３０：１０、最も好ましくは１０：８８：
２乃至５０：４２：８になるように選択される。本組成
物には成分（ｃ）を含有させるのが好ましい。
【００３９】製造された上記組成物は、適当な基質の上
に容易に塗布できるようするために好ましくは溶剤で希
釈される。適当な溶剤を以下に例示する。エーテル類、
たとえばテトラヒドロフランやジオキサン；グリコール
エーテル類、たとえばエチレングリコールメチルエーテ
ル、エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテルおよびジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル；非プロトン溶剤類、たとえばア
セトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ニトロベン
ゼン、Ｎ−メチルピロリドン、ハロゲン化脂肪族または
芳香族炭化水素、たとえばトリクロロメタン、置換され
ていないかまたはアルキル、アルコキシまたはハロゲン
によって置換されたベンゼン、たとえばキシレン、アニ
ソールおよびクロロベンゼン、および芳香族性Ｎ−複素
環式化合物、たとえばピリジン、ピコリンまたはキノリ
ン；アルコール類、たとえばメタノール、エタノールお
よびジアセトンアルコール；カルボン酸エステルおよび
ラクトン類、たとえばプロピレンカーボネート、エチル
アセテート、メチルプロピオナート、エチルベンゾエー
ト、γ−ブチロラクトンおよびγ−ヴァレロラクトン；
スルフォキシド類、たとえばジメチルスルフォキシド；
スルホン類、たとえばジメチルスルホンおよびジエチル
スルホン；ケトン類、たとえばジメチルケトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサンなど；その他、水溶性成
分、たとえばポリ（ビニルアルコール）のためには水を
使用することができる。本発明の組成物は、好ましくは
上記した溶剤の１つまたは混合物を用いて、溶液を基準
にして固形分が１乃至９０重量％、好ましくは５乃至８
０重量％、より好ましくは１０乃至７０重量％、最も好
ましくは２０乃至６０重量％となるように希釈される。
に容易に塗布できるようするために好ましくは溶剤で希
釈される。適当な溶剤を以下に例示する。エーテル類、
たとえばテトラヒドロフランやジオキサン；グリコール
エーテル類、たとえばエチレングリコールメチルエーテ
ル、エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテルおよびジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル；非プロトン溶剤類、たとえばア
セトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ニトロベン
ゼン、Ｎ−メチルピロリドン、ハロゲン化脂肪族または
芳香族炭化水素、たとえばトリクロロメタン、置換され
ていないかまたはアルキル、アルコキシまたはハロゲン
によって置換されたベンゼン、たとえばキシレン、アニ
ソールおよびクロロベンゼン、および芳香族性Ｎ−複素
環式化合物、たとえばピリジン、ピコリンまたはキノリ
ン；アルコール類、たとえばメタノール、エタノールお
よびジアセトンアルコール；カルボン酸エステルおよび
ラクトン類、たとえばプロピレンカーボネート、エチル
アセテート、メチルプロピオナート、エチルベンゾエー
ト、γ−ブチロラクトンおよびγ−ヴァレロラクトン；
スルフォキシド類、たとえばジメチルスルフォキシド；
スルホン類、たとえばジメチルスルホンおよびジエチル
スルホン；ケトン類、たとえばジメチルケトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサンなど；その他、水溶性成
分、たとえばポリ（ビニルアルコール）のためには水を
使用することができる。本発明の組成物は、好ましくは
上記した溶剤の１つまたは混合物を用いて、溶液を基準
にして固形分が１乃至９０重量％、好ましくは５乃至８
０重量％、より好ましくは１０乃至７０重量％、最も好
ましくは２０乃至６０重量％となるように希釈される。
【００４０】本発明の組成物を含有する上記の如くにし
て製造された溶液は、一般に、適切な基質の上に塗布さ
れ、電磁線照射、たとえば可視光線ＵＶ、レーザー光線
またはＸ線の照射または電子照射または中性子照射およ
び／または加熱を受け、そして場合によっては適切な現
像剤を使用して現像処理され、光学記録またはサーマル
記録のためのカラー画像が形成されるか、あるいはＬＣ
Ｄのためのカラーフィルターが製造される。したがっ
て、本願のいま１つの特徴は、パターンまたは画像層が
可溶性前駆物質から局所的に再生された不溶性顔料によ
ってパターンまたは画像層が着色されているカラー・パ
ターンまたは画像の作成方法が提供される。その方法は
下記の工程を包含する： （１）成分（ａ），（ｂ）および場合によっては（ｃ）
を含有する組成物を使用して溶解顔料前駆物質を含有す
るポリマー層を形成し、そして（２）化学的、光分解的
または熱的手段によって、レーザーまたはその他の照射
源によって上記可溶性前駆物質から顔料を局所的に再生
する。 上記方法の工程（１）に記載されている”ポリマー層を
形成”という表現は、基質の全表面をカバーする層の形
成ならびに基質のある領域のみをカバーする層であっ
て、その層が画像的またはパターン的に付与されている
ような層の形成の両方を合わせて意味するものである。
工程（２）の顔料を再生するための１つの有利な方法
は、レーザーマーキングによる方法である。工程（１）
の上記組成物の製造は、前記に説明した方法で実施され
る。
て製造された溶液は、一般に、適切な基質の上に塗布さ
れ、電磁線照射、たとえば可視光線ＵＶ、レーザー光線
またはＸ線の照射または電子照射または中性子照射およ
び／または加熱を受け、そして場合によっては適切な現
像剤を使用して現像処理され、光学記録またはサーマル
記録のためのカラー画像が形成されるか、あるいはＬＣ
Ｄのためのカラーフィルターが製造される。したがっ
て、本願のいま１つの特徴は、パターンまたは画像層が
可溶性前駆物質から局所的に再生された不溶性顔料によ
ってパターンまたは画像層が着色されているカラー・パ
ターンまたは画像の作成方法が提供される。その方法は
下記の工程を包含する： （１）成分（ａ），（ｂ）および場合によっては（ｃ）
を含有する組成物を使用して溶解顔料前駆物質を含有す
るポリマー層を形成し、そして（２）化学的、光分解的
または熱的手段によって、レーザーまたはその他の照射
源によって上記可溶性前駆物質から顔料を局所的に再生
する。 上記方法の工程（１）に記載されている”ポリマー層を
形成”という表現は、基質の全表面をカバーする層の形
成ならびに基質のある領域のみをカバーする層であっ
て、その層が画像的またはパターン的に付与されている
ような層の形成の両方を合わせて意味するものである。
工程（２）の顔料を再生するための１つの有利な方法
は、レーザーマーキングによる方法である。工程（１）
の上記組成物の製造は、前記に説明した方法で実施され
る。
【００４１】ポリマーパターンまたは画像層を形成する
ための方法としては、フォトリソグラフィー、衝撃印刷
たとえばスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印
刷、オフセット印刷、非衝撃印刷たとえばインクジェッ
ト印刷、サーマル染料拡散転写、レーザーマーキング、
電着など各種の方法が公知である。フォトリソグラフィ
ーの場合には、本組成物を、公知の方法、たとえばスピ
ンコーティング、スプレー、浸漬コーティング等の手段
によって、適当な基質の全面にわたって塗布し、そして
次に電磁線照射、たとえばＵＶ、可視光線、電子線、中
性子線またはＸ線の照射および必要な場合には加熱が施
される。施用される電磁照射の種類は、本組成物に含有
されている成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプレポリ
マーの種類によって選択される。成分（ｂ）の樹脂、ポ
リマーまたはプレポリマーがポジ型またはネガ型レジス
トである場合には、ＵＶまたは可視光線が使用される。
また、成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプレポリマー
がポジ型またはネガ型ＵＶレジストである場合には、Ｕ
Ｖが使用される。成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプ
レポリマーがポジ型またはネガ型電子レジストである場
合には、電子ビームまたは中性子ビームが使用される。
成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプレポリマーが光重
合性の系である場合には、ＵＶまたは可視光線が使用さ
れる。上記の照射は、通常使用されているパワーおよび
照射線量で実施され、そして必要な場合には加熱が追加
される。ＵＶまたは可視光線、またはＸ線のごとき電磁
光線の照射または電子ビームまたは中性子ビームのごと
き粒子のビームによる照射は、所望の構造化カラー画像
を得るために適切なマスクまたはパターンを介して実施
される。このようなマスクまたはパターンの詳細は、た
とえばA.Reiserの"Photoreactive Poymers" ，ニューヨ
ークのJohn Wiley & Sons, 1989 年出版、に記載されて
いる。ＵＶまたは可視光源としてレーザーが使用される
場合には、マスクは必要ではない。なぜならば、パター
ン形成はレーザー光走査によって達成されるからである
（直接書込技法）。
ための方法としては、フォトリソグラフィー、衝撃印刷
たとえばスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印
刷、オフセット印刷、非衝撃印刷たとえばインクジェッ
ト印刷、サーマル染料拡散転写、レーザーマーキング、
電着など各種の方法が公知である。フォトリソグラフィ
ーの場合には、本組成物を、公知の方法、たとえばスピ
ンコーティング、スプレー、浸漬コーティング等の手段
によって、適当な基質の全面にわたって塗布し、そして
次に電磁線照射、たとえばＵＶ、可視光線、電子線、中
性子線またはＸ線の照射および必要な場合には加熱が施
される。施用される電磁照射の種類は、本組成物に含有
されている成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプレポリ
マーの種類によって選択される。成分（ｂ）の樹脂、ポ
リマーまたはプレポリマーがポジ型またはネガ型レジス
トである場合には、ＵＶまたは可視光線が使用される。
また、成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプレポリマー
がポジ型またはネガ型ＵＶレジストである場合には、Ｕ
Ｖが使用される。成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプ
レポリマーがポジ型またはネガ型電子レジストである場
合には、電子ビームまたは中性子ビームが使用される。
成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプレポリマーが光重
合性の系である場合には、ＵＶまたは可視光線が使用さ
れる。上記の照射は、通常使用されているパワーおよび
照射線量で実施され、そして必要な場合には加熱が追加
される。ＵＶまたは可視光線、またはＸ線のごとき電磁
光線の照射または電子ビームまたは中性子ビームのごと
き粒子のビームによる照射は、所望の構造化カラー画像
を得るために適切なマスクまたはパターンを介して実施
される。このようなマスクまたはパターンの詳細は、た
とえばA.Reiserの"Photoreactive Poymers" ，ニューヨ
ークのJohn Wiley & Sons, 1989 年出版、に記載されて
いる。ＵＶまたは可視光源としてレーザーが使用される
場合には、マスクは必要ではない。なぜならば、パター
ン形成はレーザー光走査によって達成されるからである
（直接書込技法）。
【００４２】衝撃印刷およびインクジェット印刷におい
ては、上記組成物をスクリーン転写、フレキソ転写、オ
フセット転写、グラビア転写またはインク噴射によって
基質に転写し、続いてＵＶ、可視光線、電子ビーム、中
性子ビームまたはＸ線の照射を実施する。電磁照射の選
択の基準は上記と同じである。これらの方法において
は、マスクやパターンは必要ではない。なぜならば、組
成物は予め定められたパターンに従って基質上に転写さ
れるからである。必要な場合には、電磁照射後に熱が加
えられる。フレキソ印刷、グラビア印刷およびオフセッ
ト印刷の場合には、硬化後に組成物を転写することも可
能である。この方法においては、ブランケット等の上の
組成物が転写前に上記のごとく電磁照射を受け、そして
次に基質へ転写される。この方法においては組成物が硬
化されるので、鮮鋭な画像エッジを有するポリマーパタ
ーンまたは画像層が得られる。硬化された組成物が容易
に転写されうるように基質を接着性ポリマーでコーティ
ングするのが好ましい。電着の場合には、上記組成物
を、基板の表面に形成されたパターンＩＴＯ（インジウ
ム−スズ−酸化物）電極上に、電気泳動またはミセル析
出によって転写し、続いて上記のごとき電磁照射を施
す。電磁照射の選択は、上記と同じように行われる。必
要な場合には、電磁照射後に熱を加える。
ては、上記組成物をスクリーン転写、フレキソ転写、オ
フセット転写、グラビア転写またはインク噴射によって
基質に転写し、続いてＵＶ、可視光線、電子ビーム、中
性子ビームまたはＸ線の照射を実施する。電磁照射の選
択の基準は上記と同じである。これらの方法において
は、マスクやパターンは必要ではない。なぜならば、組
成物は予め定められたパターンに従って基質上に転写さ
れるからである。必要な場合には、電磁照射後に熱が加
えられる。フレキソ印刷、グラビア印刷およびオフセッ
ト印刷の場合には、硬化後に組成物を転写することも可
能である。この方法においては、ブランケット等の上の
組成物が転写前に上記のごとく電磁照射を受け、そして
次に基質へ転写される。この方法においては組成物が硬
化されるので、鮮鋭な画像エッジを有するポリマーパタ
ーンまたは画像層が得られる。硬化された組成物が容易
に転写されうるように基質を接着性ポリマーでコーティ
ングするのが好ましい。電着の場合には、上記組成物
を、基板の表面に形成されたパターンＩＴＯ（インジウ
ム−スズ−酸化物）電極上に、電気泳動またはミセル析
出によって転写し、続いて上記のごとき電磁照射を施
す。電磁照射の選択は、上記と同じように行われる。必
要な場合には、電磁照射後に熱を加える。
【００４３】工程（２）は、上記により形成されたポリ
マーパターンまたは画像層に化学的手段、加熱、または
ＵＶ、可視光線、電子線、中性子線、レーザーまたはＸ
線照射またはこれらの組み合わせのごとき電磁照射を施
すことによって実施される。好ましくは、この工程
（２）においてはレーザー照射が使用され、最も好まし
くはコンピュータ支援レーザーマーキングが使用され
る。この目的のためには、工程（１）において、スピン
コーティング、浸漬コーティングまたはスプレーコーテ
ィング等を使用して基質を上記組成物でコーティング
し、このあとＵＶ、可視光線、電子線、中性子線または
Ｘ線照射のごとき電磁照射を、マスクやパターンを使用
することなしに、施して組成物に含有されている樹脂、
ポリマーまたはプレポリマーを均質に硬化させ、この後
に上記レーザーを使用して工程（２）を実施する。適切
な電磁照射の選択は、上記と同じ方法で行われる。必要
な場合には、電磁照射後に熱を加える。本組成物に含有
されている成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプレポリ
マーが熱硬化性である場合には、基質上のパターン形成
とその前駆物質からの顔料の局所的再生を、たとえばＮ
ＩＲ（近赤外線）レーザーを使用して同時に行うことが
可能である。レーザー量子エネルギーを熱エネルギーに
有効に変換するために、上記組成物に近赤外線吸収剤を
含有させるのが好ましい。現像の工程については言及し
てないが、用途によっては、たとえばＬＣＤのためのカ
ラーフィルターの製造の場合には、現像工程が追加され
うる。この場合には、通常使用されている現像剤と手法
とが適用される。
マーパターンまたは画像層に化学的手段、加熱、または
ＵＶ、可視光線、電子線、中性子線、レーザーまたはＸ
線照射またはこれらの組み合わせのごとき電磁照射を施
すことによって実施される。好ましくは、この工程
（２）においてはレーザー照射が使用され、最も好まし
くはコンピュータ支援レーザーマーキングが使用され
る。この目的のためには、工程（１）において、スピン
コーティング、浸漬コーティングまたはスプレーコーテ
ィング等を使用して基質を上記組成物でコーティング
し、このあとＵＶ、可視光線、電子線、中性子線または
Ｘ線照射のごとき電磁照射を、マスクやパターンを使用
することなしに、施して組成物に含有されている樹脂、
ポリマーまたはプレポリマーを均質に硬化させ、この後
に上記レーザーを使用して工程（２）を実施する。適切
な電磁照射の選択は、上記と同じ方法で行われる。必要
な場合には、電磁照射後に熱を加える。本組成物に含有
されている成分（ｂ）の樹脂、ポリマーまたはプレポリ
マーが熱硬化性である場合には、基質上のパターン形成
とその前駆物質からの顔料の局所的再生を、たとえばＮ
ＩＲ（近赤外線）レーザーを使用して同時に行うことが
可能である。レーザー量子エネルギーを熱エネルギーに
有効に変換するために、上記組成物に近赤外線吸収剤を
含有させるのが好ましい。現像の工程については言及し
てないが、用途によっては、たとえばＬＣＤのためのカ
ラーフィルターの製造の場合には、現像工程が追加され
うる。この場合には、通常使用されている現像剤と手法
とが適用される。
【００４４】工程（２）において電磁線または粒子ビー
ムの照射、あるいは加熱または化学的手段の施用がなさ
れると、その場でナノメータ寸法の顔料粒子が生成さ
れ、これに伴ってドラスチックな色の変化が起こる。し
たがって、０．５μｍの解像度を有する顔料ベース構造
化カラー画像の形成が可能である。上記した方法は広範
な用途を有し、したがって、光学印刷および記録および
サーマル印刷および記録、ならびにＬＣＤ用カラーフィ
ルターまたはその類似物の製造に応用することができ
る。これにより得られる画像およびカラーフィルターは
次のような好ましい特性を有している。すなわち、高い
透明度、高いコントラスト比、高い色純度および濃度、
高いパターン解像度および画像精度、（染料）顔料の混
ざりがないこと、さらには顔料／ポリマー混合物の精製
の間のふるいの詰まりがないこと、画像面の平滑である
こと、高い記録精度、高い画像エッジ鮮鋭度、高い熱安
定性、耐薬品性および光安定性を有している。さらに、
超薄膜フィルムの製造が容易である。さらに加えて、本
発明で使用される顔料前駆物質は一般に蛍光を有してい
るので、記録された情報の読出しは、再生された顔料に
基づいてなされるばかりでなく、顔料前駆物質の蛍光変
化および画像形成層に残留する再生された顔料に基づい
ても行うことができる。このことが本発明に広い用途を
提供している。
ムの照射、あるいは加熱または化学的手段の施用がなさ
れると、その場でナノメータ寸法の顔料粒子が生成さ
れ、これに伴ってドラスチックな色の変化が起こる。し
たがって、０．５μｍの解像度を有する顔料ベース構造
化カラー画像の形成が可能である。上記した方法は広範
な用途を有し、したがって、光学印刷および記録および
サーマル印刷および記録、ならびにＬＣＤ用カラーフィ
ルターまたはその類似物の製造に応用することができ
る。これにより得られる画像およびカラーフィルターは
次のような好ましい特性を有している。すなわち、高い
透明度、高いコントラスト比、高い色純度および濃度、
高いパターン解像度および画像精度、（染料）顔料の混
ざりがないこと、さらには顔料／ポリマー混合物の精製
の間のふるいの詰まりがないこと、画像面の平滑である
こと、高い記録精度、高い画像エッジ鮮鋭度、高い熱安
定性、耐薬品性および光安定性を有している。さらに、
超薄膜フィルムの製造が容易である。さらに加えて、本
発明で使用される顔料前駆物質は一般に蛍光を有してい
るので、記録された情報の読出しは、再生された顔料に
基づいてなされるばかりでなく、顔料前駆物質の蛍光変
化および画像形成層に残留する再生された顔料に基づい
ても行うことができる。このことが本発明に広い用途を
提供している。
【００４５】したがって、本願のさらにいま１つの特徴
は、パターン層に前もって予め配合されている可溶性前
駆物質から局所的に生成された不溶性顔料粒子で透明伝
導性または非伝導性基質をパターン着色する工程を含む
ＬＣＤ用カラーフィルターの製造方法が提供される。本
発明によるＬＣＤ用カラーフィルターの製造方法は下記
工程を包含する： （１）成分（ａ）と（ｂ）、および場合によっては
（ｃ）を含有する組成物を使用して、溶解された顔料前
駆物質を含有するポリマー層を透明基質の上に形成し、
（２）化学的、光分解的または熱的手段、レーザーまた
はその他の照射線源によって、またはこれらの組み合わ
せによって、上記可溶性前駆物質から局所的に顔料を再
生し、そして（３）青、緑、赤の着色パターンが得られ
るように顔料前駆物質を変えながら上記の工程（１）−
（２）を３回くり返す。ＬＣＤのためのカラーフィルタ
ーの製造は構造化カラー画像を作成するプロセスである
から、上記した着色パターンまたは画像を作成するため
の方法を直接適用することができる。ただし、同じ基質
上に青、緑、赤の色パターンを得るためには工程は顔料
前駆物質を変えながら３回くり返される。
は、パターン層に前もって予め配合されている可溶性前
駆物質から局所的に生成された不溶性顔料粒子で透明伝
導性または非伝導性基質をパターン着色する工程を含む
ＬＣＤ用カラーフィルターの製造方法が提供される。本
発明によるＬＣＤ用カラーフィルターの製造方法は下記
工程を包含する： （１）成分（ａ）と（ｂ）、および場合によっては
（ｃ）を含有する組成物を使用して、溶解された顔料前
駆物質を含有するポリマー層を透明基質の上に形成し、
（２）化学的、光分解的または熱的手段、レーザーまた
はその他の照射線源によって、またはこれらの組み合わ
せによって、上記可溶性前駆物質から局所的に顔料を再
生し、そして（３）青、緑、赤の着色パターンが得られ
るように顔料前駆物質を変えながら上記の工程（１）−
（２）を３回くり返す。ＬＣＤのためのカラーフィルタ
ーの製造は構造化カラー画像を作成するプロセスである
から、上記した着色パターンまたは画像を作成するため
の方法を直接適用することができる。ただし、同じ基質
上に青、緑、赤の色パターンを得るためには工程は顔料
前駆物質を変えながら３回くり返される。
【００４６】工程（１）および（２）は、着色パターン
または画像を作成するための方法の工程と同じである。
したがって、本方法を実施するためには、フォトリソグ
ラフィー、衝撃印刷、たとえばスクリーン印刷、フレキ
ソ印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、非衝撃印刷、
たとえばインクジェット印刷、レーザーマーキングおよ
びその他の技術を使用することができる。好ましい実施
態様は、レーザーマーキングによるＬＣＤ用カラーフィ
ルターの製造である。
または画像を作成するための方法の工程と同じである。
したがって、本方法を実施するためには、フォトリソグ
ラフィー、衝撃印刷、たとえばスクリーン印刷、フレキ
ソ印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、非衝撃印刷、
たとえばインクジェット印刷、レーザーマーキングおよ
びその他の技術を使用することができる。好ましい実施
態様は、レーザーマーキングによるＬＣＤ用カラーフィ
ルターの製造である。
【００４７】フォトリソグラフィーは、単層法と複層法
との両者を含む。単層法の場合には、上記の透明基質と
しての塗工されたＩＴＯ（インジウム−スズ−酸化物）
が、青色、緑色または赤色顔料のプレカーサーとレジス
トとを含有する上記の組成物でコーティングされ、その
後に、工程（１）において構造パターンを形成するため
に、適切なマスクまたはパターンを介して電磁照射が行
われる。工程（２）においては顔料前駆物質から顔料が
再生され、そして必要な場合には顔料が再生されていな
い組成物の部分を、適切な現像剤を使用して除去する。
この工程（１）および（２）において、モザイク様また
は縞様の着色パターンが得られる。このプロセスが、青
色、緑色、赤色のカラーフィルターを作成するために顔
料前駆物質を変えて３回くり返される。複層法の場合に
は、透明基質としての塗工されたＩＴＯが青色、緑色ま
たは赤色顔料のプレカーサーと熱硬化性プレポリマーと
を含有する上記の組成物でコーティングされ、これがさ
らに無色のレジストでコーティングされる。その後に、
工程（１）において構造パターンを形成するために、適
切なマスクまたはパターンを介して電磁照射が行われ
る。工程（２）においては顔料前駆物質からの顔料再生
および顔料着色されたプレポリマーの架橋が実施され、
そして適切な現像剤を使用してトップレジスト層が除去
される。この工程（１）および（２）において、モザイ
ク様または縞様の着色パターンが得られる。このプロセ
スが、青色、緑色、赤色のカラーフィルターを作成する
ために顔料前駆物質を変えて３回くり返される。
との両者を含む。単層法の場合には、上記の透明基質と
しての塗工されたＩＴＯ（インジウム−スズ−酸化物）
が、青色、緑色または赤色顔料のプレカーサーとレジス
トとを含有する上記の組成物でコーティングされ、その
後に、工程（１）において構造パターンを形成するため
に、適切なマスクまたはパターンを介して電磁照射が行
われる。工程（２）においては顔料前駆物質から顔料が
再生され、そして必要な場合には顔料が再生されていな
い組成物の部分を、適切な現像剤を使用して除去する。
この工程（１）および（２）において、モザイク様また
は縞様の着色パターンが得られる。このプロセスが、青
色、緑色、赤色のカラーフィルターを作成するために顔
料前駆物質を変えて３回くり返される。複層法の場合に
は、透明基質としての塗工されたＩＴＯが青色、緑色ま
たは赤色顔料のプレカーサーと熱硬化性プレポリマーと
を含有する上記の組成物でコーティングされ、これがさ
らに無色のレジストでコーティングされる。その後に、
工程（１）において構造パターンを形成するために、適
切なマスクまたはパターンを介して電磁照射が行われ
る。工程（２）においては顔料前駆物質からの顔料再生
および顔料着色されたプレポリマーの架橋が実施され、
そして適切な現像剤を使用してトップレジスト層が除去
される。この工程（１）および（２）において、モザイ
ク様または縞様の着色パターンが得られる。このプロセ
スが、青色、緑色、赤色のカラーフィルターを作成する
ために顔料前駆物質を変えて３回くり返される。
【００４８】衝撃印刷法の場合には、上記の組成物が所
望のパターンで透明基質に転写される。これを工程
（１）における電磁照射または加熱にかけて構造化硬化
を行う。なお、グラビア印刷、フレキソ印刷またはオフ
セット印刷において転写前に組成物が硬化される場合に
は、電磁線を照射する必要はない。工程（２）において
は顔料再生が実施され、ここにおいては現像の必要はな
い。なぜならば、ＩＴＯは所望箇所においてのみ組成物
によってコーティングされているからである。このプロ
セスが、青色、緑色、赤色のカラーフィルターを作成す
るために顔料前駆物質を変えて３回くり返される。
望のパターンで透明基質に転写される。これを工程
（１）における電磁照射または加熱にかけて構造化硬化
を行う。なお、グラビア印刷、フレキソ印刷またはオフ
セット印刷において転写前に組成物が硬化される場合に
は、電磁線を照射する必要はない。工程（２）において
は顔料再生が実施され、ここにおいては現像の必要はな
い。なぜならば、ＩＴＯは所望箇所においてのみ組成物
によってコーティングされているからである。このプロ
セスが、青色、緑色、赤色のカラーフィルターを作成す
るために顔料前駆物質を変えて３回くり返される。
【００４９】レーザーマーキング法の場合には、上記の
組成物で透明基質がコーティングされ、そして必要な場
合には工程（１）において電磁照射または加熱される。
工程（２）における顔料再生は、コンピューター支援レ
ーザー装置を使用して実施される。組成物に含有されて
いる樹脂、ポリマーまたはプレポリマーをが熱硬化性樹
脂である場合には、パターン形成と顔料再生とを工程
（１）および（２）において同時的に行うことが可能で
ある。このプロセスが青色、緑色、赤色のカラーフィル
ターを作成するために顔料前駆物質を変えて３回くり返
される。
組成物で透明基質がコーティングされ、そして必要な場
合には工程（１）において電磁照射または加熱される。
工程（２）における顔料再生は、コンピューター支援レ
ーザー装置を使用して実施される。組成物に含有されて
いる樹脂、ポリマーまたはプレポリマーをが熱硬化性樹
脂である場合には、パターン形成と顔料再生とを工程
（１）および（２）において同時的に行うことが可能で
ある。このプロセスが青色、緑色、赤色のカラーフィル
ターを作成するために顔料前駆物質を変えて３回くり返
される。
【００５０】電着法の場合には、上記組成物が透明基質
としてのパターン化されたＩＴＯの表面に、電気泳動、
ミセル析出などによって転写され、続いて工程（１）に
おいて電磁照射または加熱を受ける。工程（２）におい
て顔料再生が実施され、ここにおいては現像の必要はな
い。このプロセスが、青色、緑色、赤色のカラーフィル
ターを作成するために顔料前駆物質を変えて３回くり返
される。
としてのパターン化されたＩＴＯの表面に、電気泳動、
ミセル析出などによって転写され、続いて工程（１）に
おいて電磁照射または加熱を受ける。工程（２）におい
て顔料再生が実施され、ここにおいては現像の必要はな
い。このプロセスが、青色、緑色、赤色のカラーフィル
ターを作成するために顔料前駆物質を変えて３回くり返
される。
【００５１】ある種の用途においては、所望の画像形成
を達成するために、本組成物の上記した成分（ｂ）を使
用することなしでもできる。このようなケースにおいて
は、成分（ｂ’）として、任意種類の公知の高分子有機
バインダー材料を使用することができる。このバインダ
ー材料が本組成物の成分（ａ）、すなわち可溶性顔料前
駆物質を、着色パターンまたは画像が形成されるべき基
質に適切に固定する役割を果たす。したがって、本発明
のさらにいま１つの対象は、下記工程を包含する着色パ
ターンまたは画像の作成方法である： （１）溶解された顔料前駆物質（ａ），高分子有機バイ
ンダー材料（ｂ’）および場合によっては成分（ｃ）を
含有するポリマー層を形成し、そして（２）化学的、光
分解的または熱的手段によって、あるいはレーザーまた
はその他の照射源の照射によって、上記可溶性前駆物質
から局所的に顔料を再生する。
を達成するために、本組成物の上記した成分（ｂ）を使
用することなしでもできる。このようなケースにおいて
は、成分（ｂ’）として、任意種類の公知の高分子有機
バインダー材料を使用することができる。このバインダ
ー材料が本組成物の成分（ａ）、すなわち可溶性顔料前
駆物質を、着色パターンまたは画像が形成されるべき基
質に適切に固定する役割を果たす。したがって、本発明
のさらにいま１つの対象は、下記工程を包含する着色パ
ターンまたは画像の作成方法である： （１）溶解された顔料前駆物質（ａ），高分子有機バイ
ンダー材料（ｂ’）および場合によっては成分（ｃ）を
含有するポリマー層を形成し、そして（２）化学的、光
分解的または熱的手段によって、あるいはレーザーまた
はその他の照射源の照射によって、上記可溶性前駆物質
から局所的に顔料を再生する。
【００５２】適切な高分子有機バインダー材料の例を以
下に示す。ビニル化合物をベースとしたポリマー、たと
えばポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリ−
ｐ−メチルスチレン、ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン、
ポリ−ｐ−ヒドロキシフェニルスチレン、ポリアクリレ
ート、たとえばポリ（メチルアクリレート）、ポリ（ア
クリルアミド）および対応するメタクリル化合物、ポリ
（メチルマレエート）、ポリ（アクリロニトリル）、ポ
リ（メタクリロニトリル）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ
（フッ化ビニル）、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（フ
ッ化ビニリデン）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニル
アルコール）、ポリ（メチルビニルエーテル）およびポ
リ（ブチルビニルエーテル）；ポリエステル類、たとえ
ば特にポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィン類、たとえばポリエチレンおよびポ
リプロピレン、およびポリアルカジエン類、たとえばポ
リブタジェン；２種またはそれ以上の化合物の共重合
体、たとえばＡＢＳまたはポリ（塩化ビニル／酢酸ビニ
ル／ビニルアルコール）；Ｃ1-Ｃ6 アルデヒド、たとえ
ばホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドと、フェノ
ール（場合によっては１個または２個のＣ1-Ｃ9 アルキ
ル基、１個または２個のハロゲン原子、または１つのフ
ェニル核によって置換されていてもよい）たとえばｏ
−，ｍ−またはｐ−クレゾール、キシレノール、ｐ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール，ｏ−，ｍ−またはｐ−ノニ
ルフェノール、ｐ−クロロフェノールまたはｐ−フェニ
ルフェノール、あるいは１つ以上のフェノール基を有す
るもの、たとえばレソルシン、ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）メタンまたは２、２−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンとから誘導されたノボラック；マ
レインイミドおよび／または無水マレイン酸から形成さ
れた重合体、たとえば無水マレイン酸とスチレンとから
つくられた共重合体；ポリ（ビニルピロリドン）；バイ
オポリマーならびにそれらの誘導体、たとえばセルロー
ス、スターチ、キチン、キトサン、ゼラチン、ゼイン、
セルロース誘導体、たとえばエチルセルロース、ニトロ
セルロース、セルロースアセテートおよびセルロースブ
チラート；天然および合成樹脂、たとえばゴム、ワック
ス、カゼイン、ケイ素、シリコーン樹脂、尿素−ホルム
アルデヒドおよびメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ア
ルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリアラミ
ド、ポリイミド、ポリアミド／イミド、ポリスルホン、
ポリエーテル類、たとえばポリフェニレンオキシド、ポ
リブチラール、ポリエーテルスルホン、ポリウレタン、
ポリユリア、ポリアリーレン、ポリアリーレンスルフィ
ド、エポキシ樹脂たとえばポリエポキシド。好ましいバ
インダー材料（ｂ’）は、ビニル化合物をベースとした
ポリマー、ノボラック、バイオポリマー、ポリイミド、
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリブチラールおよ
びこれらの混合物である。
下に示す。ビニル化合物をベースとしたポリマー、たと
えばポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリ−
ｐ−メチルスチレン、ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン、
ポリ−ｐ−ヒドロキシフェニルスチレン、ポリアクリレ
ート、たとえばポリ（メチルアクリレート）、ポリ（ア
クリルアミド）および対応するメタクリル化合物、ポリ
（メチルマレエート）、ポリ（アクリロニトリル）、ポ
リ（メタクリロニトリル）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ
（フッ化ビニル）、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（フ
ッ化ビニリデン）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニル
アルコール）、ポリ（メチルビニルエーテル）およびポ
リ（ブチルビニルエーテル）；ポリエステル類、たとえ
ば特にポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィン類、たとえばポリエチレンおよびポ
リプロピレン、およびポリアルカジエン類、たとえばポ
リブタジェン；２種またはそれ以上の化合物の共重合
体、たとえばＡＢＳまたはポリ（塩化ビニル／酢酸ビニ
ル／ビニルアルコール）；Ｃ1-Ｃ6 アルデヒド、たとえ
ばホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドと、フェノ
ール（場合によっては１個または２個のＣ1-Ｃ9 アルキ
ル基、１個または２個のハロゲン原子、または１つのフ
ェニル核によって置換されていてもよい）たとえばｏ
−，ｍ−またはｐ−クレゾール、キシレノール、ｐ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール，ｏ−，ｍ−またはｐ−ノニ
ルフェノール、ｐ−クロロフェノールまたはｐ−フェニ
ルフェノール、あるいは１つ以上のフェノール基を有す
るもの、たとえばレソルシン、ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）メタンまたは２、２−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンとから誘導されたノボラック；マ
レインイミドおよび／または無水マレイン酸から形成さ
れた重合体、たとえば無水マレイン酸とスチレンとから
つくられた共重合体；ポリ（ビニルピロリドン）；バイ
オポリマーならびにそれらの誘導体、たとえばセルロー
ス、スターチ、キチン、キトサン、ゼラチン、ゼイン、
セルロース誘導体、たとえばエチルセルロース、ニトロ
セルロース、セルロースアセテートおよびセルロースブ
チラート；天然および合成樹脂、たとえばゴム、ワック
ス、カゼイン、ケイ素、シリコーン樹脂、尿素−ホルム
アルデヒドおよびメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ア
ルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリアラミ
ド、ポリイミド、ポリアミド／イミド、ポリスルホン、
ポリエーテル類、たとえばポリフェニレンオキシド、ポ
リブチラール、ポリエーテルスルホン、ポリウレタン、
ポリユリア、ポリアリーレン、ポリアリーレンスルフィ
ド、エポキシ樹脂たとえばポリエポキシド。好ましいバ
インダー材料（ｂ’）は、ビニル化合物をベースとした
ポリマー、ノボラック、バイオポリマー、ポリイミド、
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリブチラールおよ
びこれらの混合物である。
【００５３】溶解された顔料前駆物質成分（ａ），高分
子有機バインダー材料（ｂ’）および場合によっては成
分（ｃ）を含有するポリマー層を形成する工程（１）を
実施するためには、２つの異なる方法がある。１つの方
法は、たとえば所望の全成分を含有している組成物を使
用する方法である。いま１つの方法は、顔料前駆物質
（ａ）を含有しないレシーバー層を作成し、この上に後
から、たとえば顔料前駆物質（ａ）を含有するインクを
インク噴射することによって、あるいは好ましくは顔料
前駆物質（ａ）を含有するドナー物質からのサーマル染
料拡散転写によって顔料前駆物質（ａ）を付与する方法
である。
子有機バインダー材料（ｂ’）および場合によっては成
分（ｃ）を含有するポリマー層を形成する工程（１）を
実施するためには、２つの異なる方法がある。１つの方
法は、たとえば所望の全成分を含有している組成物を使
用する方法である。いま１つの方法は、顔料前駆物質
（ａ）を含有しないレシーバー層を作成し、この上に後
から、たとえば顔料前駆物質（ａ）を含有するインクを
インク噴射することによって、あるいは好ましくは顔料
前駆物質（ａ）を含有するドナー物質からのサーマル染
料拡散転写によって顔料前駆物質（ａ）を付与する方法
である。
【００５４】サーマル染料拡散転写（thermal dye diff
usion transfer) は、媒染剤または化学反応性に依拠す
る技術とは混同されてはならない技術である。まだ科学
者は、サーマル染料拡散転写という技術用語に同意して
いないか、あるいはこの言葉を不適切に使用している
が、銀化合物（場合によっては熱現像をも含む現在の写
真術）あるいは発色剤（たとえばラクトン、これはレシ
ーバー内に反応性パートナー、通常は酸またはフェノー
ルを必要とする）が伴なわれ、媒染剤または化学反応性
に依拠する技術とは異なる技術である。この技術につい
ての記載は、たとえば下記ならびに他の多くの文献に見
られる： Spec. Publ.-R.Soc. Chem. 133/pp. 73-85(1993)、 Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1912 / pp.252-260(1
993)、 日本写真学会誌 55(6) / pp.456-464(1992)、 Journal of Imaging Technology 16(6) / pp.238ff(19
90)。 サーマル染料拡散転写の原理は以下の通りである。すな
わち、染料を含有する薄いドナーシート（通常、厚さ１
乃至１０μｍ）をレシーバー材料と接触させ、次に選択
された目標領域へ所望量の染料が転移するように熱を発
生させる。これは広い領域を単に加熱することによって
実施可能であるが、通常はドナーの裏面を横断移動する
電子的に制御されたサーマルアレイヘッドが使用され
る。別の方法として、スクリーンを介した高濃度光フラ
ッシュ（欧州特許第３９１３０３号明細書、欧州特許第
５２９３６２号明細書）あるいはレーザー源（Proc. SP
IE-Int. Soc. Opt. Eng. 1912 / p.261 ff.[1993])が使
用できる。好ましくは、ドナーに合焦されたレーザービ
ームがエネルギー源として使用される。この場合には、
好ましくはドナー層は光を熱に変換するＩＲ染料を含有
する。レーザーは好ましくはＩＲレーザー（欧州特許第
５２９５６１号明細書の場合）であり、非常に高い解像
度を得ることができる。
usion transfer) は、媒染剤または化学反応性に依拠す
る技術とは混同されてはならない技術である。まだ科学
者は、サーマル染料拡散転写という技術用語に同意して
いないか、あるいはこの言葉を不適切に使用している
が、銀化合物（場合によっては熱現像をも含む現在の写
真術）あるいは発色剤（たとえばラクトン、これはレシ
ーバー内に反応性パートナー、通常は酸またはフェノー
ルを必要とする）が伴なわれ、媒染剤または化学反応性
に依拠する技術とは異なる技術である。この技術につい
ての記載は、たとえば下記ならびに他の多くの文献に見
られる： Spec. Publ.-R.Soc. Chem. 133/pp. 73-85(1993)、 Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1912 / pp.252-260(1
993)、 日本写真学会誌 55(6) / pp.456-464(1992)、 Journal of Imaging Technology 16(6) / pp.238ff(19
90)。 サーマル染料拡散転写の原理は以下の通りである。すな
わち、染料を含有する薄いドナーシート（通常、厚さ１
乃至１０μｍ）をレシーバー材料と接触させ、次に選択
された目標領域へ所望量の染料が転移するように熱を発
生させる。これは広い領域を単に加熱することによって
実施可能であるが、通常はドナーの裏面を横断移動する
電子的に制御されたサーマルアレイヘッドが使用され
る。別の方法として、スクリーンを介した高濃度光フラ
ッシュ（欧州特許第３９１３０３号明細書、欧州特許第
５２９３６２号明細書）あるいはレーザー源（Proc. SP
IE-Int. Soc. Opt. Eng. 1912 / p.261 ff.[1993])が使
用できる。好ましくは、ドナーに合焦されたレーザービ
ームがエネルギー源として使用される。この場合には、
好ましくはドナー層は光を熱に変換するＩＲ染料を含有
する。レーザーは好ましくはＩＲレーザー（欧州特許第
５２９５６１号明細書の場合）であり、非常に高い解像
度を得ることができる。
【００５５】このように、サーマル染料拡散転写は総体
的に電子制御下で行われる完全な乾式プロセスであり、
所望の、たとえば電子写真プリントアウト、カラープル
ーフィングおよび特にＬＣＤ用カラーフィルターのため
に必要とされるような、モザイク様ピクセルパターンの
連続またはフルトーン画像を得ることができる。本発明
の組成物の成分（ａ）である可溶性顔料前駆物質は、２
００℃以下の温度において熱分解することが知られてい
る。たとえばＮ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニルピロロ−
［３，４−ｃ］ピロールは、１５０℃において分解が始
まり（ピークは１７５℃）そして１８０℃においては１
０分以内に完全に１、４−ジケト−３、６−ジフェニル
ピロロ−［３，４−ｃ］ピロールに変換される。サーマ
ル染料拡散転写においては、温度はレシーバーのガラス
転移温度よりかなり上まで上昇する。実際には、プリン
ターは２３０℃以上の温度で作動し、通常サーマルヘッ
ドの表面温度は３５０℃に達する。したがって、印刷時
には顔料前駆物質（ａ）がドナー内で分解するであろう
ことが当然予期され、顔料前駆物質のレシーバーへの移
転が妨害されると予想されるであろう。しかしながら、
誠に驚くべきことながら、この前駆物質がなんらの明ら
かな分解もせずに熱転写されうることが今回発見された
のである。
的に電子制御下で行われる完全な乾式プロセスであり、
所望の、たとえば電子写真プリントアウト、カラープル
ーフィングおよび特にＬＣＤ用カラーフィルターのため
に必要とされるような、モザイク様ピクセルパターンの
連続またはフルトーン画像を得ることができる。本発明
の組成物の成分（ａ）である可溶性顔料前駆物質は、２
００℃以下の温度において熱分解することが知られてい
る。たとえばＮ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニルピロロ−
［３，４−ｃ］ピロールは、１５０℃において分解が始
まり（ピークは１７５℃）そして１８０℃においては１
０分以内に完全に１、４−ジケト−３、６−ジフェニル
ピロロ−［３，４−ｃ］ピロールに変換される。サーマ
ル染料拡散転写においては、温度はレシーバーのガラス
転移温度よりかなり上まで上昇する。実際には、プリン
ターは２３０℃以上の温度で作動し、通常サーマルヘッ
ドの表面温度は３５０℃に達する。したがって、印刷時
には顔料前駆物質（ａ）がドナー内で分解するであろう
ことが当然予期され、顔料前駆物質のレシーバーへの移
転が妨害されると予想されるであろう。しかしながら、
誠に驚くべきことながら、この前駆物質がなんらの明ら
かな分解もせずに熱転写されうることが今回発見された
のである。
【００５６】したがって、本発明のいま１つの対象は、
（１）溶解された顔料前駆物質（ａ），高分子有機バイ
ンダー材料（ｂ’）および場合によっては成分（ｃ）を
含有するポリマー層を形成し、そして（２）化学的、光
分解的または熱的手段によって、あるいはレーザーまた
はその他の照射源の照射によって上記可溶性前駆物質か
ら局所的に顔料を再生する、工程を包含する着色パター
ンまたは画像の作成方法であって、その工程（１）が下
記のいずれかによって行われることを特徴とする方法で
ある： − 成分（ａ）および（ｂ’）高分子有機バインダー材
料、および場合によっては 成分（ｃ）を含有する組
成物を使用して、溶解された顔料前駆物質を含むポリ
マー層を形成する、 −（１ａ）高分子有機バインダー材料（ｂ’）および場
合によっては成分（ｃ）を含有するポリマー層を形成
し、次に（１ｂ）顔料前駆物質（ａ）を含有するインク
を、該ポリマー層の選択された目標領域にインク噴射す
る、または −（１ａ）高分子有機バインダー材料（ｂ’）および場
合によっては成分（ｃ）を含有するポリマー層を形成
し、次に（１ｂ）顔料前駆物質（ａ）と高分子有機バイ
ンダー材料（ｂ’）とを含有するドナー層を該ポリマー
層の上に積層し、（１ｃ）該ドナー層を局所的に加熱し
て、染料を選択された目標領域に転移させて、（１ｄ）
レシーバー層からドナー層を除去する。 着色パターンまたは画像の作成方法において成分（ａ）
を使用するための上記に記載したすべての実施態様は、
また成分（ｂ）の代わりに成分（ｂ’）が使用される対
応する方法にも関係する。また、着色パターンまたは画
像の作成方法において成分（ｂ）を使用するための上記
に記載したすべての実施態様は、工程（１）の組成物が
成分（ａ）および（ｂ’）高分子有機バインダー材料、
および場合によっては（ｃ）を含有する組成物を使用し
て、溶解された顔料前駆物質を含むポリマー層を形成す
ることによって製造される限り、成分（ｂ）の代わりに
成分（ｂ’）が使用される対応する方法にも関係する。
（１）溶解された顔料前駆物質（ａ），高分子有機バイ
ンダー材料（ｂ’）および場合によっては成分（ｃ）を
含有するポリマー層を形成し、そして（２）化学的、光
分解的または熱的手段によって、あるいはレーザーまた
はその他の照射源の照射によって上記可溶性前駆物質か
ら局所的に顔料を再生する、工程を包含する着色パター
ンまたは画像の作成方法であって、その工程（１）が下
記のいずれかによって行われることを特徴とする方法で
ある： − 成分（ａ）および（ｂ’）高分子有機バインダー材
料、および場合によっては 成分（ｃ）を含有する組
成物を使用して、溶解された顔料前駆物質を含むポリ
マー層を形成する、 −（１ａ）高分子有機バインダー材料（ｂ’）および場
合によっては成分（ｃ）を含有するポリマー層を形成
し、次に（１ｂ）顔料前駆物質（ａ）を含有するインク
を、該ポリマー層の選択された目標領域にインク噴射す
る、または −（１ａ）高分子有機バインダー材料（ｂ’）および場
合によっては成分（ｃ）を含有するポリマー層を形成
し、次に（１ｂ）顔料前駆物質（ａ）と高分子有機バイ
ンダー材料（ｂ’）とを含有するドナー層を該ポリマー
層の上に積層し、（１ｃ）該ドナー層を局所的に加熱し
て、染料を選択された目標領域に転移させて、（１ｄ）
レシーバー層からドナー層を除去する。 着色パターンまたは画像の作成方法において成分（ａ）
を使用するための上記に記載したすべての実施態様は、
また成分（ｂ）の代わりに成分（ｂ’）が使用される対
応する方法にも関係する。また、着色パターンまたは画
像の作成方法において成分（ｂ）を使用するための上記
に記載したすべての実施態様は、工程（１）の組成物が
成分（ａ）および（ｂ’）高分子有機バインダー材料、
および場合によっては（ｃ）を含有する組成物を使用し
て、溶解された顔料前駆物質を含むポリマー層を形成す
ることによって製造される限り、成分（ｂ）の代わりに
成分（ｂ’）が使用される対応する方法にも関係する。
【００５７】工程（１）の組成物が、顔料前駆物質
（ａ）を含有するインクをポリマー層の選択された目標
領域にインク噴射することによって製造される場合に
は、そのポリマー層がポリ（ビニルアルコール）であ
り、そしてインクが親水性溶剤中０．５乃至１０％の顔
料前駆物質（ａ）を含有しているのが好ましい。最も好
ましくは、インクはエチレングリコールまたはジエチレ
ングリコールを含む極性溶剤中１乃至５％の顔料前駆物
質（ａ）から実質的に構成される。工程（１）の組成物
が、顔料前駆物質（ａ）を含有するドナー層からポリマ
ー層の上の選択された目標領域にサーマル染料拡散転写
によって製造される場合には、好ましくは、レシーバー
のポリマー層はポリエステル、ポリ（塩化ビニル／酢酸
ビニル）、ポリカーボネートまたはこれらの混合物であ
り、そしてドナー層は別のバインダー中１乃至１０％の
顔料前駆物質（ａ）を含有する。ドナー層のために使用
されるバインダーとレシーバー層のために使用されるバ
インダーとは相違する。最も好ましくは、レシーバーポ
リマー層は１０乃至２０重量％溶液として塗布され、そ
して０．１乃至５重量％の界面活性剤を含有する。そし
てドナーのバインダーは、実質的にポリブチラールまた
はセルロース誘導体からなる。ドナーおよびレシーバー
の好ましい化学組成についての詳細は当業者に公知であ
り、そして多くの特許ならびにその他の文献の対象であ
る（たとえば、欧州特許第５０７７３４号および欧州特
許第５０８９５４号）。ドナーは繰返し再使用すること
ができ、そしてレシーバーは、たとえば色濃度を上げる
ため、変えることができる。通常、ドナーは転写工程後
すぐに剥離される。しかし、場合によっては、ドナーを
部分的または全体的に化学溶解によって除去することも
有用であろう。
（ａ）を含有するインクをポリマー層の選択された目標
領域にインク噴射することによって製造される場合に
は、そのポリマー層がポリ（ビニルアルコール）であ
り、そしてインクが親水性溶剤中０．５乃至１０％の顔
料前駆物質（ａ）を含有しているのが好ましい。最も好
ましくは、インクはエチレングリコールまたはジエチレ
ングリコールを含む極性溶剤中１乃至５％の顔料前駆物
質（ａ）から実質的に構成される。工程（１）の組成物
が、顔料前駆物質（ａ）を含有するドナー層からポリマ
ー層の上の選択された目標領域にサーマル染料拡散転写
によって製造される場合には、好ましくは、レシーバー
のポリマー層はポリエステル、ポリ（塩化ビニル／酢酸
ビニル）、ポリカーボネートまたはこれらの混合物であ
り、そしてドナー層は別のバインダー中１乃至１０％の
顔料前駆物質（ａ）を含有する。ドナー層のために使用
されるバインダーとレシーバー層のために使用されるバ
インダーとは相違する。最も好ましくは、レシーバーポ
リマー層は１０乃至２０重量％溶液として塗布され、そ
して０．１乃至５重量％の界面活性剤を含有する。そし
てドナーのバインダーは、実質的にポリブチラールまた
はセルロース誘導体からなる。ドナーおよびレシーバー
の好ましい化学組成についての詳細は当業者に公知であ
り、そして多くの特許ならびにその他の文献の対象であ
る（たとえば、欧州特許第５０７７３４号および欧州特
許第５０８９５４号）。ドナーは繰返し再使用すること
ができ、そしてレシーバーは、たとえば色濃度を上げる
ため、変えることができる。通常、ドナーは転写工程後
すぐに剥離される。しかし、場合によっては、ドナーを
部分的または全体的に化学溶解によって除去することも
有用であろう。
【００５８】溶解された顔料前駆物質成分（ａ），高分
子有機バインダー材料（ｂ’）、および場合によっては
成分（ｃ）を含有するポリマー層は、構造化後はポジ型
またはネガ型レジスト樹脂、ポリマーまたはプレポリマ
ー（ｂ）と同じ性質を有しており、そして交換して使用
することができる。したがって、本発明は、透明伝導性
または非伝導性基質を、前もってパターン層に配合され
た可溶性前駆物質から局所的に生成された不溶性顔料粒
子を用いて、パターン染色する工程を包含するＬＣＤ用
カラーフィルターの製造方法を提供する。この方法は一
般的に下記工程を包含する： （１）溶解された顔料前駆物質（ａ），高分子有機バイ
ンダー材料（ｂ’）、および場合によっては成分（ｃ）
を含有するポリマー層を形成し、（２）工程（３）にお
いて青色、緑色、赤色の着色パターンが得られるよう
に、顔料前駆物質を変えて上記工程（１）を３回くり返
し、そして（３）化学的、光分解的または熱的手段によ
ってあるいはレーザーまたはその他の照射源の照射によ
って、またはこれらの組み合わせによって上記可溶性前
駆物質から顔料を局所的に再生する。
子有機バインダー材料（ｂ’）、および場合によっては
成分（ｃ）を含有するポリマー層は、構造化後はポジ型
またはネガ型レジスト樹脂、ポリマーまたはプレポリマ
ー（ｂ）と同じ性質を有しており、そして交換して使用
することができる。したがって、本発明は、透明伝導性
または非伝導性基質を、前もってパターン層に配合され
た可溶性前駆物質から局所的に生成された不溶性顔料粒
子を用いて、パターン染色する工程を包含するＬＣＤ用
カラーフィルターの製造方法を提供する。この方法は一
般的に下記工程を包含する： （１）溶解された顔料前駆物質（ａ），高分子有機バイ
ンダー材料（ｂ’）、および場合によっては成分（ｃ）
を含有するポリマー層を形成し、（２）工程（３）にお
いて青色、緑色、赤色の着色パターンが得られるよう
に、顔料前駆物質を変えて上記工程（１）を３回くり返
し、そして（３）化学的、光分解的または熱的手段によ
ってあるいはレーザーまたはその他の照射源の照射によ
って、またはこれらの組み合わせによって上記可溶性前
駆物質から顔料を局所的に再生する。
【００５９】実施例 実施例１Ａ
分子ふるいで乾燥されたテトラヒドロフラン５００ml中
の４−ジメチルアミノピリジンの３．２３ｇと１、４−
ジケト−３、６−ジフェニルピロロ−［３，４−ｃ］ピ
ロールの１４．７５ｇとの混合物に、ジ−ｔｅｒｔ−ジ
ブチル−カーボネートの２７．９４ｇを、１時間間隔で
３回に分けて添加する。得られた赤色懸濁物を、緑色溶
液が得られるまで乾燥雰囲気中において室温で２時間撹
拌する。減圧蒸留で溶剤を除去し、そして黄色残留物を
５％炭酸水素ナトリウム水溶液と水とで洗い、そのあと
真空乾燥する。Ｎ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニルピロロ
−［３，４−ｃ］ピロール（ＤＰＰ−ＢＯＣ）の２４．
５ｇを得る。
の４−ジメチルアミノピリジンの３．２３ｇと１、４−
ジケト−３、６−ジフェニルピロロ−［３，４−ｃ］ピ
ロールの１４．７５ｇとの混合物に、ジ−ｔｅｒｔ−ジ
ブチル−カーボネートの２７．９４ｇを、１時間間隔で
３回に分けて添加する。得られた赤色懸濁物を、緑色溶
液が得られるまで乾燥雰囲気中において室温で２時間撹
拌する。減圧蒸留で溶剤を除去し、そして黄色残留物を
５％炭酸水素ナトリウム水溶液と水とで洗い、そのあと
真空乾燥する。Ｎ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニルピロロ
−［３，４−ｃ］ピロール（ＤＰＰ−ＢＯＣ）の２４．
５ｇを得る。
【化９７】
実施例１Ｂ：カラー画像作成のためのピロロピロール−
ブトキシカルボニル ポリ−ヒドロキシスチレン（ＰＨＭ−Ｃ、丸善）２．０
０ｇ、実施例１ＡからのＮ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニ
ルピロロ−［３，４−ｃ］ピロール（ＤＰＰ−ＢＯＣ）
０．８０ｇ，メラミン架橋剤（Cymel 303)４６６mg、下
記式のｉ−ライン光酸形成剤（i-line photo acid form
er) ４−メトキシ−α−（（（（４−メチルフェニル）
スルホニル）オキシ）イミノ）ベンゼンアセトニトリル
の１０６mgおよびシクロペンタノンの８．００ｇを含有
する組成物（組成物１）を製造した。
ブトキシカルボニル ポリ−ヒドロキシスチレン（ＰＨＭ−Ｃ、丸善）２．０
０ｇ、実施例１ＡからのＮ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニ
ルピロロ−［３，４−ｃ］ピロール（ＤＰＰ−ＢＯＣ）
０．８０ｇ，メラミン架橋剤（Cymel 303)４６６mg、下
記式のｉ−ライン光酸形成剤（i-line photo acid form
er) ４−メトキシ−α−（（（（４−メチルフェニル）
スルホニル）オキシ）イミノ）ベンゼンアセトニトリル
の１０６mgおよびシクロペンタノンの８．００ｇを含有
する組成物（組成物１）を製造した。
【化９８】
比較試料として、ポリ−ｐ−ヒドロキシスチレン（ＰＨ
Ｍ−Ｃ、丸善）２．００ｇ、新規に摩砕分散した１、４
−ジケト−３、６−ジフェニルピロロ−［３，４−ｃ］
ピロール４７２mg，メラミン架橋剤（Cymel 303)４６６
mg、上記のｉ−ライン光酸形成剤１０６mgおよびシクロ
ペンタノンの８．００ｇを含有するいま１つの組成物
（組成物２）を製造した。上記各組成物を、３インチの
シリコンウェハーまたは１インチの水晶ウエハー上に、
４０００rpm の回転速度でスピン−コーティングし、１
００℃のホットプレート上で６０秒間乾燥した。組成物
１から得られたフィルムは透明で、淡黄色に着色してお
り、そして表面は平滑であった。他方、組成物２から得
られたフィルムは濁っており、表面は粗面であった。組
成物１および組成物２から得られた両方のフィルムを、
３６５ｎｍ干渉フィルターとクロム−石英マスクとを介
して水銀蒸気ランプを使用して５０mJ／cm2 のパワーで
光照射した。この後、フィルムを１２０℃のホットプレ
ート上で６０秒間加熱し、そしてＯＰＤ２６２（テトラ
メチル水酸化アンモニウムの２．３８％水溶液）中で２
０秒間現像した。組成物１から得られたフィルムは、続
いて１５０乃至２００℃において１５乃至１２０秒間加
熱した（試料Ａは１７０℃において３０秒間、試料Ｂは
１９５℃において３０秒間、試料Ｃは１５０℃において
１２０秒間）。構造化は、組成物１および２の両方につ
いて可能であった。しかしながら、組成物１から得られ
たフィルムは残りなく構造化可能であり、そして０．５
μｍ程度の解像度が達成可能であった。これに対して、
組成物２から得られたフィルムは残りなく構造化するこ
とは不可能であり、そして解像度は約５０μｍであっ
た。組成物１および２から得られたフィルムの色濃度は
ほぼ同じであった。しかしながら、組成物１から得られ
たフィルムは目視によっても透明であったが、組成物２
から得られたフィルムは濁っていた。さらに、組成物１
から得られたフィルムは走査電子顕微鏡で観察しても顔
料の塊（クラスター）は全く認められなかった。さら
に、フィルムを複数積層することも可能であり、この場
合でも、すでに存在している下側の層と新しい上側の層
との相互作用は全く認められなかった。
Ｍ−Ｃ、丸善）２．００ｇ、新規に摩砕分散した１、４
−ジケト−３、６−ジフェニルピロロ−［３，４−ｃ］
ピロール４７２mg，メラミン架橋剤（Cymel 303)４６６
mg、上記のｉ−ライン光酸形成剤１０６mgおよびシクロ
ペンタノンの８．００ｇを含有するいま１つの組成物
（組成物２）を製造した。上記各組成物を、３インチの
シリコンウェハーまたは１インチの水晶ウエハー上に、
４０００rpm の回転速度でスピン−コーティングし、１
００℃のホットプレート上で６０秒間乾燥した。組成物
１から得られたフィルムは透明で、淡黄色に着色してお
り、そして表面は平滑であった。他方、組成物２から得
られたフィルムは濁っており、表面は粗面であった。組
成物１および組成物２から得られた両方のフィルムを、
３６５ｎｍ干渉フィルターとクロム−石英マスクとを介
して水銀蒸気ランプを使用して５０mJ／cm2 のパワーで
光照射した。この後、フィルムを１２０℃のホットプレ
ート上で６０秒間加熱し、そしてＯＰＤ２６２（テトラ
メチル水酸化アンモニウムの２．３８％水溶液）中で２
０秒間現像した。組成物１から得られたフィルムは、続
いて１５０乃至２００℃において１５乃至１２０秒間加
熱した（試料Ａは１７０℃において３０秒間、試料Ｂは
１９５℃において３０秒間、試料Ｃは１５０℃において
１２０秒間）。構造化は、組成物１および２の両方につ
いて可能であった。しかしながら、組成物１から得られ
たフィルムは残りなく構造化可能であり、そして０．５
μｍ程度の解像度が達成可能であった。これに対して、
組成物２から得られたフィルムは残りなく構造化するこ
とは不可能であり、そして解像度は約５０μｍであっ
た。組成物１および２から得られたフィルムの色濃度は
ほぼ同じであった。しかしながら、組成物１から得られ
たフィルムは目視によっても透明であったが、組成物２
から得られたフィルムは濁っていた。さらに、組成物１
から得られたフィルムは走査電子顕微鏡で観察しても顔
料の塊（クラスター）は全く認められなかった。さら
に、フィルムを複数積層することも可能であり、この場
合でも、すでに存在している下側の層と新しい上側の層
との相互作用は全く認められなかった。
【００６０】実施例２：レーザー直接書込み
上記組成物１を、シリコンディスク上にスピン−コーテ
ィングし、そして乾燥した。これによって厚さが１．４
ミクロンのフィルムを得た。次に、このフィルムを３６
４ｎｍのアルゴンレーザーを使用して線状に照射し（距
離：８５ｍｍ，パワー：０．３０ nＷ，１秒間の照射面
積：０．６ｍｍ2 ）、１２０℃において１分間加熱し、
テトラメチル水酸化アンモニウムの２．３８％水溶液中
で現像し、そして最後に１７０℃において１分間加熱し
た。その上にレーザーで書込みされた箇所に赤色フィル
ムが残留し、他の領域を現像剤によって除去した。解像
度は２０μｍのオーダであった。
ィングし、そして乾燥した。これによって厚さが１．４
ミクロンのフィルムを得た。次に、このフィルムを３６
４ｎｍのアルゴンレーザーを使用して線状に照射し（距
離：８５ｍｍ，パワー：０．３０ nＷ，１秒間の照射面
積：０．６ｍｍ2 ）、１２０℃において１分間加熱し、
テトラメチル水酸化アンモニウムの２．３８％水溶液中
で現像し、そして最後に１７０℃において１分間加熱し
た。その上にレーザーで書込みされた箇所に赤色フィル
ムが残留し、他の領域を現像剤によって除去した。解像
度は２０μｍのオーダであった。
【００６１】実施例３：照射による蛍光パターンの形成
ポリスチレン（Aldrich 、ＭW ＝２８０，０００）２．
００ｇ、実施例１ＡのＮ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニル
ピロロ−［３，４−ｃ］ピロールの５００mgおよびトリ
フェニルスルホニウムトリフレートの１２５mgをシクロ
ペン１０ｇに溶解した溶液を、１インチの水晶ウエハー
上にスピンコーティングした。１００℃において６０秒
間乾燥した後、厚さ１．２μｍの均質フィルムを得た。
このフィルムを、クロム−石英マスクを介して絵を描く
ように照射し（３０mJ/cm2，２５４nm），そのあと１３
０℃において６０秒間加熱した。これにより、加熱前に
照射を受けた領域に蛍光の調子の変化を伴って濃い赤色
が生じた。これによって得られた蛍光パターンは、０．
５μｍ程度の高い解像度を有していた。これに対して、
照射を受けなかった領域には変化が見られなかった。す
なわち、フィルムは淡黄色のままであった。
００ｇ、実施例１ＡのＮ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニル
ピロロ−［３，４−ｃ］ピロールの５００mgおよびトリ
フェニルスルホニウムトリフレートの１２５mgをシクロ
ペン１０ｇに溶解した溶液を、１インチの水晶ウエハー
上にスピンコーティングした。１００℃において６０秒
間乾燥した後、厚さ１．２μｍの均質フィルムを得た。
このフィルムを、クロム−石英マスクを介して絵を描く
ように照射し（３０mJ/cm2，２５４nm），そのあと１３
０℃において６０秒間加熱した。これにより、加熱前に
照射を受けた領域に蛍光の調子の変化を伴って濃い赤色
が生じた。これによって得られた蛍光パターンは、０．
５μｍ程度の高い解像度を有していた。これに対して、
照射を受けなかった領域には変化が見られなかった。す
なわち、フィルムは淡黄色のままであった。
【００６２】実施例４：カラーフィルター用のインジゴ
−ブトキシカルボニル 実施例１Ｂの組成物１と同様な溶液を製造した。ただ
し、Ｎ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−
１、４−ジケト−３、６−ジフェニルピロロ−［３，４
−ｃ］ピロールの代わりに下記に示すブトキシカルボニ
ル変性インジゴを使用した。
−ブトキシカルボニル 実施例１Ｂの組成物１と同様な溶液を製造した。ただ
し、Ｎ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−
１、４−ジケト−３、６−ジフェニルピロロ−［３，４
−ｃ］ピロールの代わりに下記に示すブトキシカルボニ
ル変性インジゴを使用した。
【化９９】
水晶ウエハー上にスピン−コーティングした後、厚さ
１．２μｍのオレンジ色のフィルムを得た。ジケトピロ
ロピロールについて上記した方法に準じて処理を実施し
た。照射されたレジスト領域は青色になり、そして現像
後基質上に残留した。
１．２μｍのオレンジ色のフィルムを得た。ジケトピロ
ロピロールについて上記した方法に準じて処理を実施し
た。照射されたレジスト領域は青色になり、そして現像
後基質上に残留した。
【００６３】実施例５：サーマル記録
ポリスチレンの２．０ｇ，ＢＯＣ−ＤＰＰ２００ｇおよ
びジベンジルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモナートの１００mgをクロロベンゼンの５ｇ中に溶解
した溶液からなる厚さ２００μｍのフィルムを、３ＭＰ
Ｐ２５００オーバーヘッド箔上に流し込んでサーマル記
録箔を製造した。６時間風乾した後、潜在顔料を含有す
るこのポリスチレンフィルムは７０μｍの厚さを有し、
そして粘着性はなかった。次に、書込み速度１００、５
０および２５ｍｍ／秒でアルゴンレーザーを使用して
（１５ｍｍ焦点はずれ、４８８ｎｍシングル、１００ｍ
Ｗ）このサーマル記録箔をレーザー照射した。いずれの
速度の場合にも、鮮明に見えるオレンジ色像がレーザー
書込み後ただちに生じた。このオレンジ色の濃度はレー
ザーの書込み速度により異なり、最も低い速度の場合に
最も濃度が高かった。
びジベンジルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモナートの１００mgをクロロベンゼンの５ｇ中に溶解
した溶液からなる厚さ２００μｍのフィルムを、３ＭＰ
Ｐ２５００オーバーヘッド箔上に流し込んでサーマル記
録箔を製造した。６時間風乾した後、潜在顔料を含有す
るこのポリスチレンフィルムは７０μｍの厚さを有し、
そして粘着性はなかった。次に、書込み速度１００、５
０および２５ｍｍ／秒でアルゴンレーザーを使用して
（１５ｍｍ焦点はずれ、４８８ｎｍシングル、１００ｍ
Ｗ）このサーマル記録箔をレーザー照射した。いずれの
速度の場合にも、鮮明に見えるオレンジ色像がレーザー
書込み後ただちに生じた。このオレンジ色の濃度はレー
ザーの書込み速度により異なり、最も低い速度の場合に
最も濃度が高かった。
【００６４】実施例６：サーマル記録
実施例５と同様にしてサーマル記録箔を製造した。ただ
し、スルホニウム塩を含有していないフィルムを使用し
た。アルゴンレーザーを使用して（合焦、４８８ｎｍシ
ングル、１００ｍＷ、５０ｍｍ／秒）得られた箔をレー
ザー照射した。レーザーで照射されていた領域は、レー
ザー書込み後、即座にオレンジ色に変わった。
し、スルホニウム塩を含有していないフィルムを使用し
た。アルゴンレーザーを使用して（合焦、４８８ｎｍシ
ングル、１００ｍＷ、５０ｍｍ／秒）得られた箔をレー
ザー照射した。レーザーで照射されていた領域は、レー
ザー書込み後、即座にオレンジ色に変わった。
【００６５】実施例７
ノボラック（２５％ｐ−クレゾール、７８％ｍ−クレゾ
ール、Ｍn ＝１７００，ＭW ＝８８９５）１．８ｇ、メ
ラミン架橋剤（Cymel 303)０．２４ｇ、ビスフェノール
−Ａの０．５０ｇ，実施例１の光酸形成剤６５mgおよび
下記に示す潜在顔料ＬＰＲ177 の０．７０ｇをシクロペ
ンタノンの８．４ｇに溶解した溶液からの組成物を製造
した。
ール、Ｍn ＝１７００，ＭW ＝８８９５）１．８ｇ、メ
ラミン架橋剤（Cymel 303)０．２４ｇ、ビスフェノール
−Ａの０．５０ｇ，実施例１の光酸形成剤６５mgおよび
下記に示す潜在顔料ＬＰＲ177 の０．７０ｇをシクロペ
ンタノンの８．４ｇに溶解した溶液からの組成物を製造
した。
【化１００】
この組成物を、７．５ｘ７．５ｃｍのコーニング７０５
９ガラス基板の上にスピンコーティング（２００rpm.）
し、１００℃のホットプレート上で６０秒間乾燥した。
得られたフィルムを実施例１Ｂに記載したように３０ｍ
Ｊ／ｃｍ2 の照射線量で照射した。次に、フィルムをホ
ットプレート上において１２０℃で６０秒間加熱し、続
いて１規定水性ＮａＯＨ現像液中において６０秒間現像
した。マスクのネガ画像を形成する構造が後に残った。
最後に、このマイクロパターンを含むガラス基板を１５
０℃において２時間ベーキングした。高い透明性を有す
る赤色マイクロパターンを得た。
９ガラス基板の上にスピンコーティング（２００rpm.）
し、１００℃のホットプレート上で６０秒間乾燥した。
得られたフィルムを実施例１Ｂに記載したように３０ｍ
Ｊ／ｃｍ2 の照射線量で照射した。次に、フィルムをホ
ットプレート上において１２０℃で６０秒間加熱し、続
いて１規定水性ＮａＯＨ現像液中において６０秒間現像
した。マスクのネガ画像を形成する構造が後に残った。
最後に、このマイクロパターンを含むガラス基板を１５
０℃において２時間ベーキングした。高い透明性を有す
る赤色マイクロパターンを得た。
【００６６】実施例８
メタクリル酸とベンジルメタクリラートとの共重合体
［対応するモノマーのフリーラジカル重合（ＡＩＢＮ、
トルエン、７０℃において２０時間、Ｍｎ＝８５００，
Ｍｗ＝３５０００）によって得られたもの］１．０ｇ，
ジペンタエリスリトール−モノヒドロキシ−ペンタアク
リレート（Sartomer Inc. のＳＲ399 の０．７ｇ，ＬＰ
Ｒ177 の０．２ｇ，Irgacure(Ciba-Geigy Inc.）０．１
ｇを１−メトキシ−２−プロピルアセテートの７mlに溶
解して組成物を製造した。この組成物を、１インチの水
晶ウエハー上にスピンコーティングし、ホットプレート
上において１００℃で６０秒間乾燥した。得られたフィ
ルムを、実施例１に記載のごとく７０mJ/cm2の照射線量
で照射し，そのあとＯＰＤ２６２現像剤中において６０
秒間現像した。これにより、マスクのネガ画像を形成す
るマイクロパターンを得た。次に、この水晶ウエハーを
１５０℃において２時間加熱した。着色されたマイクロ
パターンを得た。
［対応するモノマーのフリーラジカル重合（ＡＩＢＮ、
トルエン、７０℃において２０時間、Ｍｎ＝８５００，
Ｍｗ＝３５０００）によって得られたもの］１．０ｇ，
ジペンタエリスリトール−モノヒドロキシ−ペンタアク
リレート（Sartomer Inc. のＳＲ399 の０．７ｇ，ＬＰ
Ｒ177 の０．２ｇ，Irgacure(Ciba-Geigy Inc.）０．１
ｇを１−メトキシ−２−プロピルアセテートの７mlに溶
解して組成物を製造した。この組成物を、１インチの水
晶ウエハー上にスピンコーティングし、ホットプレート
上において１００℃で６０秒間乾燥した。得られたフィ
ルムを、実施例１に記載のごとく７０mJ/cm2の照射線量
で照射し，そのあとＯＰＤ２６２現像剤中において６０
秒間現像した。これにより、マスクのネガ画像を形成す
るマイクロパターンを得た。次に、この水晶ウエハーを
１５０℃において２時間加熱した。着色されたマイクロ
パターンを得た。
【００６７】実施例９
実施例７と同様にして組成物を製造した。ただし、潜在
顔料ＬＰＲ177 の代わりに下記の潜在顔料ＬＰＶ353 を
使用し、そして材料を１２mlのシクロペンタノンに溶解
した。この組成物を、実施例７に記載したと同様な方法
で画像形成した。バイオレット色のマイクロパターンを
得た。
顔料ＬＰＲ177 の代わりに下記の潜在顔料ＬＰＶ353 を
使用し、そして材料を１２mlのシクロペンタノンに溶解
した。この組成物を、実施例７に記載したと同様な方法
で画像形成した。バイオレット色のマイクロパターンを
得た。
【化１０１】
【００６８】実施例１０Ａ
分子ふるいで乾燥されたＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
の２０ml中のＣ．Ｉ．ピグメントイエローの０．３７ｇ
とジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジカーボネートの１．６４ｇ
との混合物に、４−ジメチルアミノピリジンの０．０７
ｇを添加する。得られたオレンジ色に着色した懸濁物
を、室温において７日間撹拌し、そのあと冷却下におい
てよく撹拌しながら、３０分間かけて６０mlの水の中に
注入する。粗製濾過残留物をメタノールの１０mlで処理
し、そして濾過して不溶物を除去する。この濾液に水５
０mlを添加する。沈殿を集め、室温において真空乾燥す
る。生成物０．５０ｇを得る。この生成物は下記の理想
式（ＬＰＹ１３９）の複数成分の混合物である。
の２０ml中のＣ．Ｉ．ピグメントイエローの０．３７ｇ
とジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジカーボネートの１．６４ｇ
との混合物に、４−ジメチルアミノピリジンの０．０７
ｇを添加する。得られたオレンジ色に着色した懸濁物
を、室温において７日間撹拌し、そのあと冷却下におい
てよく撹拌しながら、３０分間かけて６０mlの水の中に
注入する。粗製濾過残留物をメタノールの１０mlで処理
し、そして濾過して不溶物を除去する。この濾液に水５
０mlを添加する。沈殿を集め、室温において真空乾燥す
る。生成物０．５０ｇを得る。この生成物は下記の理想
式（ＬＰＹ１３９）の複数成分の混合物である。
【化１０２】
熱重量分析によって測定して（１８０℃において突然重
量損失）、ｔｅｒｔ−ブチロキシカルボニル基の数は
４．３であり、所望の部分反応を示した。実施例１０Ｂ 実施例７と同様にして組成物を製造し、そして処理加工
した。ただし、ＬＰＲ177 の代わりに実施例１０Ａの粗
生成物を使用した。１５０℃において２時間の最終ベー
キング工程後、黄色のマイクロパターンを得た。
量損失）、ｔｅｒｔ−ブチロキシカルボニル基の数は
４．３であり、所望の部分反応を示した。実施例１０Ｂ 実施例７と同様にして組成物を製造し、そして処理加工
した。ただし、ＬＰＲ177 の代わりに実施例１０Ａの粗
生成物を使用した。１５０℃において２時間の最終ベー
キング工程後、黄色のマイクロパターンを得た。
【００６９】実施例１１
実施例７と同様にして組成物を製造し、そして処理加工
した。ただし、ＬＰＲ177 の代わりにＬＰＹ139 の１．
１ｇとＬＰＶ353 の１．１ｇとを使用した。１５０℃に
おいて２時間の最終ベーキング工程後、バイオレット色
のマイクロパターンを得た。
した。ただし、ＬＰＲ177 の代わりにＬＰＹ139 の１．
１ｇとＬＰＶ353 の１．１ｇとを使用した。１５０℃に
おいて２時間の最終ベーキング工程後、バイオレット色
のマイクロパターンを得た。
【００７０】実施例１２
ポリスチレン（Aldrich 、18、242-7、 ＭW ＝２８０００
０）１．６ｇ、ＢＯＣ−ＤＰＰの０．４ｇ、トリフェニ
ルスルホニウムトリフレートの０．１ｇ，シクロペンの
８．０ｇからなる組成物を製造した。この組成物を、１
インチの水晶ウエハー上にスピンコーティング（２５０
０rpm.）し，そしてホットプレート上において１００℃
で１分間乾燥した。黄色の均質フィルムを得た。次に、
このウエハーを実施例１と同様にマスクを介して照射
し、そして最後に１３５℃において２分間加熱した。こ
れにより照射を受けたフィルム領域は赤色に変わった
が、未照射領域は黄色のままであった。しかして、フィ
ルム内にはマスクの高度に解像された（サブミクロンの
解像度）カラーパターンが形成された。
０）１．６ｇ、ＢＯＣ−ＤＰＰの０．４ｇ、トリフェニ
ルスルホニウムトリフレートの０．１ｇ，シクロペンの
８．０ｇからなる組成物を製造した。この組成物を、１
インチの水晶ウエハー上にスピンコーティング（２５０
０rpm.）し，そしてホットプレート上において１００℃
で１分間乾燥した。黄色の均質フィルムを得た。次に、
このウエハーを実施例１と同様にマスクを介して照射
し、そして最後に１３５℃において２分間加熱した。こ
れにより照射を受けたフィルム領域は赤色に変わった
が、未照射領域は黄色のままであった。しかして、フィ
ルム内にはマスクの高度に解像された（サブミクロンの
解像度）カラーパターンが形成された。
【００７１】実施例１３
実施例１２と同様にして水晶ディスク上にフィルムを形
成した。これらのフィルムを実施例５と同様にレーザー
照射し（レーザー速度２５０ｍｍ／秒）、次に１３５℃
において１分間加熱した。実施例１２の場合と同様に、
照射を受けたフィルム領域は赤色に変わり、未照射領域
は黄色のままであった。
成した。これらのフィルムを実施例５と同様にレーザー
照射し（レーザー速度２５０ｍｍ／秒）、次に１３５℃
において１分間加熱した。実施例１２の場合と同様に、
照射を受けたフィルム領域は赤色に変わり、未照射領域
は黄色のままであった。
【００７２】実施例１４Ａ：サーマル染料拡散転写
下記の物質を５ml薬びんに入れる：
Vylon 600 （商標）線状高分子ポリエステル（東洋紡） ５００mg
ＫＦ−393（商標） アミノ変性シリコーン（信越化学） ２５mg
Ｘ-22-243 （商標） エポキシ変性シリコーン（信越化学） ２５mg
ｐ−トルエンスルホン酸 酸性触媒 ５５mg
メチルエチルケトン ｐ．ａ． （Merck) １５３１mg
トルエン ｐ．ａ． （Merck) １５３１mg
ポリエチレンの栓でびんを密封し、室温（２０乃至２５
℃）において１４時間機械的に撹拌する。次に、得られ
た溶液を白色ポリエチレンテレフタレートフィルム（商
標）Ｕ−６（帝人）の上に１２ｃｍ／秒の速度で２４μ
ｍドローバーを使用してキャスティングする。この新鮮
なキャスティング物を、２０乃至２５℃において２４時
間乾燥し、次にオーブン中で１５０℃の温度において３
０分間加熱する。最後に、中央部から１１０ｘ１３２ｍ
ｍサイズの矩形片を切り出す。これによりプリント可能
状態のレシーバーシートを得る。Ｎ、Ｎ’−ビス−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル−１、４−ジケト−３、６−
ジフェニルピロロ−［３，４−ｃ］ピロールの１１６mg
とポリ−（ビニルブチラール）の１０５mgとをポリエチ
レン栓で密封した５ml薬びんの中において、トルエンの
１．３５ｇ，メチルエチルケトンの１．３５ｇ，エタノ
ールの１００mg中で、室温（２０乃至２５℃）において
１４時間機械撹拌して溶解する。得られた溶液を、耐熱
透明ポリエチレンテレフタレートの６μｍ厚さのフィル
ムの上に１２ｃｍ／秒の線速度で１２μｍドローバーを
使用して流し込む。この新鮮なキャスティング物を、最
初５０℃で３分間、次に８０℃で５分間乾燥する。この
あと、中央部から１０３ｘ１９０ｍｍサイズの矩形片を
切り出し、そして元の黄色フィル部分の代わりに（商
標）ＳＶ−100 （Kodak)カラープリントカセットにテー
プで装着して、プリント可能状態のドナーリボンを得
る。このあと、上記のレシーバーとドナーとを使用して
（商標）ＳＶ-6550 カラービデオプリンター（Kodak ）
で相対プリント濃度が０（最低濃度）、２６、５１、７
７、１０２、１２８、１５３、１７９、２０４、２３０
および２５５（最高濃度）に対応する均質に着色された
黄色領域を有する複数のプリントが作成された。この目
的のためにデジタル保存された画像を使用した。得られ
た明黄色段階くさびパターンの光学濃度”Ｄ0 ”は、
（商標）ＴＲ924Macbeth 濃度計で複数のステータスＡ
フィルター（青、緑、赤チャンネル）を使用して反射率
を測定することにより決定された。CIELABＡＢ色度座標
は（商標）Elrepho 2000Ｄ65／ 10 °（Datacolor)装置
によって測定した。最高濃度の試料片は、青反射率濃度
が１．０８，緑反射率濃度が０．０２であり、そして色
度座標はＬ* ＝１０１．４０，ａ* ＝−２８．２，ｂ*
＝８７．３であった。実施例１４Ｂ 実施例１４Ａの黄色プリントを１５分間で徐々に１５０
℃まで加熱した。色がオレンジ赤に変化するのが観察さ
れた。最高濃度の試料片は、青反射率濃度が０．５６，
緑反射率濃度が０．８２であり、そして色度座標はＬ*
＝６５．９５，ａ* ＝４７．６，ｂ* ＝９．３であっ
た。実施例１４Ｃ 各試料を、その褪色抵抗性について試験した。すなわ
ち、ｘｘＫＪ／ｃｍ2 の所望照射エネルギーレベルに到
達するまで８０Ｋルックスの光濃度でAtlas Ci35内にお
いて窓ガラスを通して試料を照射した。このあと、光学
濃度ＤXX channelを青、緑および／または赤チャンネル
について測定し、そして露光前の初期濃度Ｄ0 の％で示
される褪色度 -ＤＤXX channel(D。) を決定するために比
［（Ｄo −ＤXX）／（Ｄ0 ｘ０．０１）］を用いた。実
施例１４Ａの未加熱黄色プリント、およびさらに１５０
℃において１５分間加熱された実施例１４Ｂのオレンジ
赤色プリントを６０ＫＪ／ｃｍ2 の照射エネルギーレベ
ルに到達するまで照射した。実施例１４Ａの黄色プリン
トは、ほとんど即座にかつ完全褪色した（ -ＤＤ15
blue(0.5) ＝９６％）。これに対して実施例１４Ｂの橙
赤色プリントは、Ｎ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニル−ピ
ロロ−［３，４−ｃ］ピロールの残分のために、ほとん
ど即座に赤色に変色し、その後は、透明１、４−ジケト
−３、６−ジフェニル−ピロロ−［３，４−ｃ］ピロー
ル顔料型の卓越した耐光堅牢性のため、さらに目立った
変化はなかった（ -ＤＤ60 green(0.5)＝８％）。
℃）において１４時間機械的に撹拌する。次に、得られ
た溶液を白色ポリエチレンテレフタレートフィルム（商
標）Ｕ−６（帝人）の上に１２ｃｍ／秒の速度で２４μ
ｍドローバーを使用してキャスティングする。この新鮮
なキャスティング物を、２０乃至２５℃において２４時
間乾燥し、次にオーブン中で１５０℃の温度において３
０分間加熱する。最後に、中央部から１１０ｘ１３２ｍ
ｍサイズの矩形片を切り出す。これによりプリント可能
状態のレシーバーシートを得る。Ｎ、Ｎ’−ビス−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル−１、４−ジケト−３、６−
ジフェニルピロロ−［３，４−ｃ］ピロールの１１６mg
とポリ−（ビニルブチラール）の１０５mgとをポリエチ
レン栓で密封した５ml薬びんの中において、トルエンの
１．３５ｇ，メチルエチルケトンの１．３５ｇ，エタノ
ールの１００mg中で、室温（２０乃至２５℃）において
１４時間機械撹拌して溶解する。得られた溶液を、耐熱
透明ポリエチレンテレフタレートの６μｍ厚さのフィル
ムの上に１２ｃｍ／秒の線速度で１２μｍドローバーを
使用して流し込む。この新鮮なキャスティング物を、最
初５０℃で３分間、次に８０℃で５分間乾燥する。この
あと、中央部から１０３ｘ１９０ｍｍサイズの矩形片を
切り出し、そして元の黄色フィル部分の代わりに（商
標）ＳＶ−100 （Kodak)カラープリントカセットにテー
プで装着して、プリント可能状態のドナーリボンを得
る。このあと、上記のレシーバーとドナーとを使用して
（商標）ＳＶ-6550 カラービデオプリンター（Kodak ）
で相対プリント濃度が０（最低濃度）、２６、５１、７
７、１０２、１２８、１５３、１７９、２０４、２３０
および２５５（最高濃度）に対応する均質に着色された
黄色領域を有する複数のプリントが作成された。この目
的のためにデジタル保存された画像を使用した。得られ
た明黄色段階くさびパターンの光学濃度”Ｄ0 ”は、
（商標）ＴＲ924Macbeth 濃度計で複数のステータスＡ
フィルター（青、緑、赤チャンネル）を使用して反射率
を測定することにより決定された。CIELABＡＢ色度座標
は（商標）Elrepho 2000Ｄ65／ 10 °（Datacolor)装置
によって測定した。最高濃度の試料片は、青反射率濃度
が１．０８，緑反射率濃度が０．０２であり、そして色
度座標はＬ* ＝１０１．４０，ａ* ＝−２８．２，ｂ*
＝８７．３であった。実施例１４Ｂ 実施例１４Ａの黄色プリントを１５分間で徐々に１５０
℃まで加熱した。色がオレンジ赤に変化するのが観察さ
れた。最高濃度の試料片は、青反射率濃度が０．５６，
緑反射率濃度が０．８２であり、そして色度座標はＬ*
＝６５．９５，ａ* ＝４７．６，ｂ* ＝９．３であっ
た。実施例１４Ｃ 各試料を、その褪色抵抗性について試験した。すなわ
ち、ｘｘＫＪ／ｃｍ2 の所望照射エネルギーレベルに到
達するまで８０Ｋルックスの光濃度でAtlas Ci35内にお
いて窓ガラスを通して試料を照射した。このあと、光学
濃度ＤXX channelを青、緑および／または赤チャンネル
について測定し、そして露光前の初期濃度Ｄ0 の％で示
される褪色度 -ＤＤXX channel(D。) を決定するために比
［（Ｄo −ＤXX）／（Ｄ0 ｘ０．０１）］を用いた。実
施例１４Ａの未加熱黄色プリント、およびさらに１５０
℃において１５分間加熱された実施例１４Ｂのオレンジ
赤色プリントを６０ＫＪ／ｃｍ2 の照射エネルギーレベ
ルに到達するまで照射した。実施例１４Ａの黄色プリン
トは、ほとんど即座にかつ完全褪色した（ -ＤＤ15
blue(0.5) ＝９６％）。これに対して実施例１４Ｂの橙
赤色プリントは、Ｎ、Ｎ’−ビス−ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル−１、４−ジケト−３、６−ジフェニル−ピ
ロロ−［３，４−ｃ］ピロールの残分のために、ほとん
ど即座に赤色に変色し、その後は、透明１、４−ジケト
−３、６−ジフェニル−ピロロ−［３，４−ｃ］ピロー
ル顔料型の卓越した耐光堅牢性のため、さらに目立った
変化はなかった（ -ＤＤ60 green(0.5)＝８％）。
【００７３】実施例１５Ａ
実施例１４Ａに記載したように、ただし（商標）Vylon
600 ポリエステル樹脂の代わりに（商標）UCAR VAGH(Un
ion Carbide)を使用して、バーコーティングを作成し
た。ドライキャスティング物を、オーブン中において１
２０℃で１５分間加熱し、そして前記のように切り出し
てプリント可能状態のレシーバーシートを得た。実施例
１４Ａの場合と同じドナーおよび同じプリント条件を使
用してプリントを作った。明黄色段階くさびパターンを
得た。実施例１５Ｂ 実施例１５Ａの黄色プリントを１２０℃において２５分
間加熱した。実施例１４Ａの場合と同様に橙赤色への変
色が観察された。
600 ポリエステル樹脂の代わりに（商標）UCAR VAGH(Un
ion Carbide)を使用して、バーコーティングを作成し
た。ドライキャスティング物を、オーブン中において１
２０℃で１５分間加熱し、そして前記のように切り出し
てプリント可能状態のレシーバーシートを得た。実施例
１４Ａの場合と同じドナーおよび同じプリント条件を使
用してプリントを作った。明黄色段階くさびパターンを
得た。実施例１５Ｂ 実施例１５Ａの黄色プリントを１２０℃において２５分
間加熱した。実施例１４Ａの場合と同様に橙赤色への変
色が観察された。
【００７４】実施例１６−２０
各試料を直接１５０℃に２５分間加熱した変更点を除
き、実施例１４と同様に操作を実施した。使用組成物お
よび結果を以下に示す。
き、実施例１４と同様に操作を実施した。使用組成物お
よび結果を以下に示す。
【表１】
実施例２１−２３
実施例１５と同様に操作を実施した。使用組成物および
結果を以下に示す。
結果を以下に示す。
【表２】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｇ０３Ｆ 7/038 Ｇ０３Ｆ 7/039
7/039 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｑ
(72)発明者 ジョーン エス．ツァンボウニス
スイス国，ムルテン 3280，エンゲルハ
ルトストラーセ 41
(72)発明者 アブール イクバル
スイス国，アルコンシール 1732，ラ
デイ 202
(72)発明者 ツィミン ハオ
スイス国，マルリィ 1723，ロウテ ド
ゥ セントレ 19
(72)発明者 ヘンリィ ドゥバス
スイス国，バーゼル 4056，ダフィドス
ライン ８
(56)参考文献 特開 平７−188234（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−35056（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−15968（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−213803（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−39901（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−248101（ＪＰ，Ａ)
特表 平７−509323（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03F 7/00 - 7/42
B41M 5/26
Claims (9)
- 【請求項１】 構造化色像を作成するための組成物であ
って、 （ａ）化学的方法、熱的方法、光分解的方法または照射
誘導法によって不溶性顔料に変換されうる可溶性顔料前
駆物質であって、式Ｉ： Ａ（Ｂ）Ｘ （Ｉ） ｛式中、 ｘは１〜５の数であり、 Ａはキナクリドン、アントラキノン、ペリレン、インジ
ゴ、キノフタロン、イソインドリノン、イソインドリ
ン、ジオキサジン、ジケトピロロピロールまたはアゾ系
列の着色剤の残基であって、Ａの一部である窒素原子を
介してｘ個の基Ｂに結合している残基であり、 ＢはＡに結合している基であって、式： 【化１】 ［式IIおよび式IIIにおいて、 ｍおよびｎは互いに独立的に０または１であり、 ＸはＣ1-Ｃ14アルキレンまたはＣ2-Ｃ8アルケニレンで
あり、 Ｚは 基-Ｖ-(ＣＨ2)r-であり、 ＶはＣ3-Ｃ6シクロアルキレンであり、 ｒは０〜６の数であり、 Ｒ1およびＲ2は互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ6アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ4アルコキシ、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、また
は非置換もしくはＣ1-Ｃ4アルキル、Ｃ1-Ｃ4アルコキシ
もしくはハロゲンで置換されたフェニルもしくはフェノ
キシであり、 Ｑは水素、ＣＮ、Ｓi(Ｒ1)３、基Ｃ(Ｒ5)(Ｒ6)(Ｒ7)
（式中、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は互いに独立的に水素また
はハロゲンであり、かつＲ5、Ｒ6およびＲ7のうち少な
くとも１つはハロゲンである）、基 【化２】 （式中、Ｒ1およびＲ2は上記と同様の意味を有する）、
基ＳＯ2Ｒ8もしくはＳＲ8（式中、Ｒ8はＣ1-Ｃ4アルキ
ルである）、基ＣＨ(Ｒ9)2（式中、Ｒ9は非置換もしく
はＣ1-Ｃ4アルキル、Ｃ1-Ｃ4アルコキシもしくはハロゲ
ンで置換されたフェニルである）、または式： 【化３】 のいずれかにより表わされる基である］により表わされ
る基であり、またＡ（Ｂ）Ｘ は、さらに付加的に 【化５】 もしくは -ＮＨ2基を含有しうる｝により表わされる可
溶性顔料前駆物質、および （ｂ）熱または電磁照射線を付与することによる架橋、
重合または解重合によって構造化されうるネガ型レジス
ト樹脂もしくはポジ型レジスト樹脂、ポリマーまたはプ
レポリマーを含有する組成物。 - 【請求項２】 構造化色像を作成するための組成物であ
って、（ａ）化学的方法、熱的方法、光分解的方法また
は照射誘導法によって不溶性顔料に変換されうる可溶性
顔料前駆物質であって、式Ｉ： Ａ（Ｂ）Ｘ （Ｉ） ｛式中、 ｘは１〜５の数であり、 Ａはキナクリドン、アントラキノン、ペリレン、インジ
ゴ、キノフタロン、イソインドリノン、イソインドリ
ン、ジオキサジン、ジケトピロロピロールまたはアゾ系
列の着色剤の残基であって、Ａの一部である窒素原子を
介してｘ個の基Ｂに結合している残基であり、 ＢはＡに結合している基であって、式： 【化６】 ［式IIおよび式IIIにおいて、 ｍおよびｎは互いに独立的に０または１であり、 ＸはＣ1-Ｃ14アルキレンまたはＣ2-Ｃ8アルケニレンで
あり、 Ｚは 基-Ｖ-(ＣＨ2)r-であり、 ＶはＣ3-Ｃ6シクロアルキレンであり、 ｒは０〜６の数であり、 Ｒ1およびＲ2は互いに独立的に水素、Ｃ1-Ｃ6アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ4アルコキシ、ハロゲン、 ＣＮ、ＮＯ2、または非置換もしくはＣ1-Ｃ4アルキル、
Ｃ1-Ｃ4アルコキシもしくはハロゲンで置換されたフェ
ニルもしくはフェノキシであり、 Ｑは水素、ＣＮ、Ｓi(Ｒ1)3、基Ｃ(Ｒ5)(Ｒ6)(Ｒ7)（式
中、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は互いに独立的に水素またはハ
ロゲンであり、かつＲ5、Ｒ6およびＲ7のうち少なくと
も１つはハロゲンである）、基 【化７】 （式中、Ｒ1およびＲ2は上記と同様の意味を有する）、
基ＳＯ2Ｒ8もしくはＳＲ8（式中、Ｒ8はＣ1-Ｃ4アルキ
ルである）、基ＣＨ(Ｒ9)2（式中、Ｒ9は非置換もしく
はＣ1-Ｃ4アルキル、Ｃ1-Ｃ4アルコキシもしくはハロゲ
ンで置換されたフェニルである）、または式： 【化８】 のいずれかにより表わされる基である］により表わされ
る基であり、またＡ（Ｂ）Ｘ は、さらに付加的に 【化１０】 もしくは -ＮＨ2基を含有しうる｝により表わされる可
溶性顔料前駆物質、および （ｂ’）高分子有機バインダー材料を含有する組成物。 - 【請求項３】 式Ｉの化合物が式： 【化１１】 または 【化１２】 （両式中、Ｄは水素、Ｃ1−Ｃ6アルキル、非置換もしく
はハロゲンもしくはＣ1−Ｃ4アルキルで置換されたフェ
ニル、ベンジルもしくはフェネチルであるか、またはＢ
と同じであり、Ｂは請求項１で定義した基である）の化
合物であるか；または式Ｉの化合物が、式： 【化１３】 （式中、Ｒ10およびＲ11は互いに独立的に水素、ハロゲ
ン、Ｃ1−Ｃ18アルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシまたはフ
ェニルであり、Ｅは水素またはＢであるが少なくとも１
つのＥはＢであるものとする）のキナクリドンである
か；または式Ｉの化合物が、式： 【化１４】 （式中、Ｒ12は水素、ハロゲンまたはＣ1−Ｃ18アルキ
ルであり、Ｅは水素またはＢであるが少なくとも１つの
ＥはＢであるものとする）のジオキサジンであるか；ま
たは式Ｉの化合物が式： 【化１５】 ［式中、 Ｒ13は基 【化１６】 であり、 Ｒ14は水素、Ｃ1−Ｃ18アルキル、ベンジルまたは基 【化１７】 であり、 Ｒ15はＲ13と同じ意味を有し、 （上記式中、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19は互いに独立
的に水素、Ｃ1−Ｃ18アルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、
ハロゲンまたはトリフルオロメチルである）、 Ｅは水素またはＢであるが少なくとも１つのＥはＢであ
り、かつ式ＸII中のＥの少なくとも１つはＨである］の
いずれかのイソインドリンであるか；または式Ｉの化合
物が、式： 【化１８】 （式中、Ｒ20 は水素、ＣＮ、Ｃ1-Ｃ4アルキル、Ｃ1-Ｃ
4アルコキシまたはハロゲンであり、Ｅは水素またはＢ
であるが少なくとも１つのＥはＢであるものとする）の
インジゴ誘導体であるか；または式Ｉの化合物が、式： 【化１９】 （式中、Ｒ21およびＲ22は互いに独立的に水素、ハロゲ
ン、Ｃ1-Ｃ4アルキルまたはＣ1-Ｃ4アルコキシであり、
Ｅは水素またはＢであるが少なくとも１つのＥはＢであ
るものとする）のベンゾイミダゾロン−アゾ化合物であ
るか；または式Ｉの化合物が、式： 【化２０】 （式中、Ｅは水素またはＢであるが少なくとも１つのＥ
はＢであるものとする）アントラキノイド化合物である
か；または式Ｉの化合物が、式： 【化２１】 （式中、 Ｘ1はＨ2、Ｚn 、Ｃu 、Ｎi 、Ｆe またはＶであり、 Ｘ2は -ＣＨ( Ｒ2')- または -ＳＯ2-であり、 Ｒ1'は水素、Ｃ1-Ｃ4アルキル、 -Ｎ（Ｅ）Ｒ2'、- Ｎ
ＨＣＯＲ3'、- ＣＯＲ3'または 【化２２】 であり、 Ｒ2'は水素またはＣ1-Ｃ4アルキルであり、 Ｒ3'はＣ1-Ｃ4アルキルであり、 Ｒ4'は水素、ハロゲン、Ｃ1-Ｃ4アルキルまたはＣ1-Ｃ4
アルコキシであり、 ｚは０または１であり、 ｙは１〜４の整数であり、かつＥは水素またはＢである
が少なくとも１つのＥはＢであるものとする）のフタロ
シアニンであるか；または式Ｉの化合物が、式： 【化２３】 ［式中、 Ｇ1およびＧ2は互いに独立的に式： 【化２４】 （式中、 Ｒ23およびＲ24は互いに独立的に水素、ハロゲン、Ｃ1-
Ｃ18アルキル、Ｃ1-Ｃ18アルコキシ、Ｃ1-Ｃ18アルキル
メルカプト、Ｃ1-Ｃ18アルキルアミノ、 -ＣＮ、-Ｎ
Ｏ2、フェニル、トリフルオロメチル、Ｃ5-Ｃ6シクロア
ルキル、-Ｃ＝Ｎ-(Ｃ1-Ｃ18アルキル)、基 【化２５】 イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、ピペラジニ
ル、ピロリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベ
ンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、モルホリニル、
ピペラジニルまたはピロリジニルであり、 Ｌは -ＣＨ2-、 -ＣＨ( ＣＨ3)- 、 -Ｃ( ＣＨ3)2-、
-ＣＨ＝Ｎ- 、 -Ｎ＝Ｎ-、 -Ｏ- 、 -Ｓ- 、 -ＳＯ- 、
-ＳＯ2-、または -ＮＲ29-であり、 Ｒ25およびＲ26は互いに独立的に水素、ハロゲン、Ｃ1-
Ｃ6アルキル、Ｃ1-Ｃ18アルコキシまたは -ＣＮであ
り、 Ｒ27およびＲ28は互いに独立的に水素、ハロゲンまたは
Ｃ1-Ｃ6アルキルであり、 Ｒ29は水素またはＣ1-Ｃ6アルキルである）のいずれか
の基であり、かつＥは水素またはＢであるが少なくとも
１つのＥはＢであるものとする］のピロロ［３，４−
ｃ］ピロールである請求項１または２に記載の組成物。 - 【請求項４】 成分（ｂ）のポジ型レジスト樹脂、ネガ
型レジスト樹脂、ポリマーまたはプレポリマーが、ポジ
ティブレジスト、ネガティブレジスト、フォトポリマ
ー、ポジティブ・ディープＵＶレジスト、ネガティブ・
ディープＵＶレジスト、ポジティブエレクトロンレジス
ト、ネガティブエレクトロンレジスト、ポジティブＸ線
レジスト、ネガティブＸ線レジスト、化学または熱硬化
性ポリマー、ポジティブイオンビームレジスト、ネガテ
ィブイオンビームレジスト、ケイ素含有ポジティブレジ
スト、およびケイ素含有ネガティブレジストからなる群
より選択されたものである請求項１記載の組成物。 - 【請求項５】 着色パターンまたは着色像の作成方法で
あって、 （１）請求項１記載の組成物を使用して、溶解顔料前駆
物質を含有するポリマー層を形成する工程、および （２）化学的、光分解的もしくは熱的手段、またはレー
ザーもしくは他の照射線源によって該可溶性前駆物質か
ら顔料を局所的に再生する工程を包含する作成方法。 - 【請求項６】 工程（１）が、フォトリソグラフィー、
スクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、オフセ
ット印刷、インクジェット印刷、および電着からなる群
より選択された方法によって実施され、かつ／または工
程（２）においてレーザーマーキングによって可溶性前
駆物質から顔料を局所的に再生する請求項５記載の方
法。 - 【請求項７】 着色パターンまたは着色像の作成方法で
あって、 （１）溶解された、請求項２記載の顔料前駆物質成分
（ａ），高分子有機バインダー材料（ｂ’）、および場
合によっては成分（ｃ）としてポジティブまたはネガテ
ィブポリマー構造化触媒および／または顔料形成触媒、
好ましくは酸または塩基触媒、より好ましくは潜在酸ま
たは塩基触媒、最も好ましくはオニウム塩、ジアゾニウ
ム塩、スルホニウム塩、 スルホキソニウム塩またはヨードニウム塩を含有するポ
リマー層を形成する工程、および （２）化学的、光分解的もしくは熱的手段、またはレー
ザーもしくは他の照射線源によって該可溶性前駆物質か
ら顔料を局所的に再生する工程を包含する作成方法。 - 【請求項８】 ＬＣＤ用のカラーフィルターの作成方法
であって、（１）請求項１記載の組成物を使用して、溶
解された顔料前駆物質を含有するポリマー層を透明基質
の上に形成する工程、 （２）化学的、光分解的もしくは熱的手段、またはレー
ザーもしくは他の照射線源によって、またはこれらの組
み合わせによって、好ましくはレーザーマーキングによ
って該可溶性前駆物質から顔料を局所的に再生する工
程、および （３）青色、緑色および赤色の各着色パターンが得られ
るように該前駆物質を変えて上記工程（１）−（２）を
３回くり返す工程を包含する作成方法。 - 【請求項９】 ＬＣＤ用のカラーフィルターの作成方法
であって、 （１）溶解された、請求項２に記載の顔料前駆物質成分
（ａ），高分子有機バインダー材料（ｂ’）、および場
合によっては成分（ｃ）としてポジティブまたはネガテ
ィブポリマー構造化触媒および／または顔料形成触媒、
好ましくは酸または塩基触媒、より好ましくは潜在酸ま
たは塩基触媒、最も好ましくはオニウム塩、ジアゾニウ
ム塩、スルホニウム塩、スルホキソニウム塩またはヨー
ドニウム塩を含有するポリマー層を形成する工程、 （２）後記工程（３）で青色、緑色および赤色の各着色
パターンが得られるよう該前駆物質を変えて上記工程
（１）を３回くり返す工程、および （３）化学的、光分解的もしくは熱的手段、またはレー
ザーもしくは他の照射線源によって、またはこれらの組
み合わせによって、好ましくはレーザーマーキングによ
って該可溶性前駆物質から顔料を局所的に再生する工程
を包含する作成方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE93810807.3 | 1993-11-22 | ||
| EP93810807 | 1993-11-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH086242A JPH086242A (ja) | 1996-01-12 |
| JP3510927B2 true JP3510927B2 (ja) | 2004-03-29 |
Family
ID=8215070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28768994A Expired - Fee Related JP3510927B2 (ja) | 1993-11-22 | 1994-11-22 | 構造化色像を作成するための組成物とその用法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5879855A (ja) |
| JP (1) | JP3510927B2 (ja) |
| CA (1) | CA2135657A1 (ja) |
| DE (1) | DE69418826T2 (ja) |
Families Citing this family (72)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE59408909D1 (de) * | 1993-10-13 | 1999-12-16 | Ciba Sc Holding Ag | Neue Fluoreszenzfarbstoffe |
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| CN105175315B (zh) | 2009-03-23 | 2018-08-28 | 巴斯夫欧洲公司 | 光致抗蚀剂组合物 |
| US8765855B2 (en) | 2010-07-28 | 2014-07-01 | Jagdip Thaker | Reaction-based laser marking compositions, systems and methods |
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| EP2668156B1 (en) | 2011-01-28 | 2018-10-31 | Basf Se | Polymerizable composition comprising an oxime sulfonate as thermal curing agent |
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| CN104284888B (zh) | 2012-05-09 | 2017-10-27 | 巴斯夫欧洲公司 | 肟酯光敏引发剂 |
| US9589797B2 (en) | 2013-05-17 | 2017-03-07 | Microcontinuum, Inc. | Tools and methods for producing nanoantenna electronic devices |
| WO2015004565A1 (en) | 2013-07-08 | 2015-01-15 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| JP6530410B2 (ja) | 2013-09-10 | 2019-06-12 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | オキシムエステル光開始剤 |
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| WO2016030790A1 (en) | 2014-08-29 | 2016-03-03 | Basf Se | Oxime sulfonate derivatives |
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-
1994
- 1994-11-14 DE DE69418826T patent/DE69418826T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-18 CA CA002135657A patent/CA2135657A1/en not_active Abandoned
- 1994-11-18 US US08/341,721 patent/US5879855A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-22 JP JP28768994A patent/JP3510927B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-12-03 US US09/204,190 patent/US6040108A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-12-10 US US09/458,771 patent/US6180315B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69418826D1 (de) | 1999-07-08 |
| DE69418826T2 (de) | 1999-10-21 |
| US6180315B1 (en) | 2001-01-30 |
| CA2135657A1 (en) | 1995-05-23 |
| US5879855A (en) | 1999-03-09 |
| US6040108A (en) | 2000-03-21 |
| JPH086242A (ja) | 1996-01-12 |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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|
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|
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