JP3505594B2 - 難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は難燃性ポリフェニレ
ンエーテル系樹脂組成物及び難燃性ポリフェニレンエー
テル系樹脂成形体に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリフェニレンエーテル系樹脂は、その
優れた機械特性、電気特性、耐熱性等の特性から自動車
部品、電器・電子製品、ＯＡ機器、事務機器及び通信機
器等の用途に使用されている。これらの用途では、内部
部品の発熱発火等の問題から樹脂の難燃化が必要とされ
ている。

【０００３】ポリフェニレンエーテル系樹脂に難燃性を
付与するためには、樹脂成形前に難燃剤を添加する方法
が一般的である。難燃剤としては、無機水酸化物、有機
ハロゲン化合物、ハロゲン含有有機リン化合物、赤リ
ン、有機リン酸エステル類、ホスファゼン系化合物等が
知られている。

【０００４】しかしながら、有機ハロゲン化合物、ハロ
ゲン含有有機リン化合物等のハロゲン含有化合物は、難
燃効果は優れているが、樹脂成形時に熱分解してハロゲ
ン化水素を発生し、金型の腐食や樹脂の劣化及び着色を
惹起する。加えて焼却、火災等により樹脂が燃焼する際
にはハロゲン化水素等の生物に対する有害ガスや煙、更
にはダイオキシンを発生し環境汚染を引き起こす問題点
を有している。ハロゲン含有化合物は三酸化アンチモン
を共に使用することで、難燃性が著しく向上することか
ら、一般に三酸化アンチモンを難燃助剤として使用して
いる。しかし、三酸化アンチモンは発ガン性化合物の疑
いがあることから、ハロゲン含有化合物との併用には問
題がある。

【０００５】一方、ハロゲンを含まない難燃剤は、水酸
化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機水酸化
物、赤リン、有機リン酸エステル類、ホスファゼン系化
合物等である。しかし、無機水酸化物は、熱分解で生じ
る水により難燃性が発現されるため、難燃効果が低く、
そのために多量に添加しなければならないが、多量添加
することにより、樹脂本来の特性が損なわれるという欠
点がある。赤リンは難燃効果は高いが、樹脂組成物が赤
く着色する欠点を有している。有機リン酸エステル類は
比較的良好な難燃効果が得られることから広く用いられ
ており、代表的なものとしてトリフェニルホスフェート
（ＴＰＰ）、レゾルシノールビス（ジフェニルホスフェ
ート）（ＲＤＰＰ）等が知られている（特公昭５３−４
１８号公報、特開昭５３−７３２４８号公報記載）。し
かしながら、これらの有機リン酸エステル類は液体もし
くは低融点固体であるため、揮発性が高く、樹脂の耐熱
性を大きく低下させたり、混練時のブロッキングや滲み
だし（ジューシング）等の問題がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】特公平３−７３５９０
号公報には、ポリフェニレンエーテル系樹脂にホスファ
ゼン系化合物を配合したポリフェニレンエーテル系樹脂
組成物が記載されている。該公報では、ホスファゼン系
化合物の配合により、ポリフェニレンエーテル又はこれ
とポリスチレン系樹脂とを樹脂成分とする組成物の耐熱
性の低下が効果的に抑制されると共に、リン酸エステル
類よりも優れた難燃性付与が達成されることが開示され
ている。しかしながら、該公報に記載の技術では、ポリ
フェニレンエーテルとポリスチレン系樹脂とを樹脂成分
とする組成物において、ポリスチレン系樹脂の含有率が
高い樹脂組成物（例えばポリスチレン系樹脂の含有率が
３０〜９０重量％である樹脂組成物）に、優れたＵＬ−
９４に規定される難燃性試験において難燃性評価Ｖ−０
を達成する高度な難燃性難燃性を付与することはできな
い。

【０００７】また、特開平７−２１６２３５号公報に
は、熱可塑性樹脂に(1)ホスファゼン系化合物並びに(2)
シアヌール酸又はイソシアヌール酸とメラミン化合物と
の塩を難燃剤として配合した難燃性樹脂組成物が記載さ
れている。該公報では、樹脂組成物はハロゲン化水素等
の揮発成分を発生せず、また高い難燃性、機械特性、耐
加水分解性を有することが記載されている。しかしなが
ら、該公報には、比較的難燃化しやすいポリフェニレン
オキシド樹脂（ＰＰＯ、即ちポリフェニレンエーテル
（ＰＰＥ）樹脂）を難燃化した具体的記載はあるが、難
燃化が極めて難しいとされているポリスチレン系樹脂を
配合した変性ＰＰＥ樹脂を難燃化した具体的記載はな
い。本発明者が、実際にポリスチレン系樹脂の含有率の
高い変性ＰＰＥ樹脂（ポリスチレン系樹脂の含有率：３
０〜９０重量％）に上記難燃剤を配合した場合、燃焼中
にドリッピングが起こり、該変性ＰＰＥ樹脂に充分な難
燃性（ＵＬ−９４に規定される難燃性試験において難燃
性評価Ｖ−０を達成する高度な難燃性）を付与すること
は不可能であった。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意研究を行った結果、ポリフェニレンエー
テル樹脂及びポリスチレン系樹脂からなる樹脂に架橋ホ
スファゼン系難燃剤を配合することにより、該樹脂に充
分な難燃性を付与できることを見い出した。また、本発
明者は、ポリフェニレンエーテル樹脂及びポリスチレン
系樹脂からなる樹脂に架橋ホスファゼン系難燃剤及びト
リアジン骨格含有化合物を配合することにより、該樹脂
により一層高度な難燃性を付与できることを見い出し
た。

【０００９】本発明によれば、（Ａ）ポリフェニレンエ
ーテル樹脂１〜９９重量部及びポリスチレン系樹脂９９
〜１重量部からなる樹脂１００重量部に対して、（Ｂ）
架橋ホスファゼン系難燃剤を１〜３０重量部を配合した
ことを特徴とする難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂
組成物が提供される。

【００１０】また、本発明によれば、（Ａ）ポリフェニ
レンエーテル樹脂１〜９９重量部及びポリスチレン系樹
脂９９〜１重量部からなる樹脂１００重量部に対して、
（Ｂ）架橋ホスファゼン系難燃剤を１〜３０重量部を配
合した組成物に、更に（Ａ）成分の樹脂１００重量部に
対して（Ｃ）トリアジン骨格含有化合物を３０重量部以
下配合した難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
が提供される。

【００１１】また、本発明によれば、上記難燃性ポリフ
ェニレンエーテル系樹脂組成物に、更に（Ｄ）無機質充
填剤を５０重量部以下及び／又は（Ｅ）ハロゲンを含有
しない有機リン化合物を３０重量部以下配合された難燃
性樹脂組成物が提供される。

【００１２】更に、本発明によれば、上記各種の難燃性
ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物を成形して得るこ
とのできる難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂成形体
が提供される。

【００１３】本発明によれば、燃焼性の高いポリスチレ
ン系樹脂の含有率の高いポリフェニレンエーテル系樹脂
であっても、ハロゲンを含まず、高融点、低揮発性で且
つ機械的特性、成形加工性等の樹脂本来の特性を低下さ
せず、混練時のブロッキングや滲みだし等の問題がな
く、燃焼中にドリッピングを起こさず、ＵＬ−９４に規
定される難燃性試験において難燃性評価Ｖ−０を達成す
る高度な難燃性を備えた樹脂組成物とすることができ
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】［樹脂成分］本発明の（Ａ）成分
であるポリフェニレンエーテル樹脂は、例えば下記一般
式

【００１５】

【化４】

【００１６】〔式中Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は
異なって、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示
す。〕で表される構造単位からなる重合体である。本発
明のポリフェニレンエーテル樹脂は、上記構造単位が１
種からなる単独重合体であってもよいし、上記構造単位
の２種以上からなる共重合体であってもよい。

【００１７】このようなポリフェニレンエーテル樹脂の
具体的な例としては、例えばポリ（２，６−ジメチル−
１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジエチ
ル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジ
プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−
メチル−６−エチル−１，４−フェニレン）エーテル、
ポリ（２−メチル−６−プロピル−１，４−フェニレ
ン）エーテル、ポリ（２−エチル−６−プロピル−１，
４−フェニレン）エーテル、２，６−ジメチルフェノー
ルと２，３，６−トリメチルフェノールの共重合体、
２，６−ジメチルフェノールと２，３，６−トリエチル
フェノールの共重合体、２，６−ジエチルフェノールと
２，３，６−トリメチルフェノールの共重合体、２，６
−ジプロピルフェノールと２，３，６−トリメチルフェ
ノールの共重合体等が挙げられ、その中でポリ（２，６
−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）が特に好ま
しい。

【００１８】これらポリフェニレンエーテル樹脂は、例
えば第４版「実験化学講座」第２８巻 高分子合成 第
１８２頁に記載の実験法に従い容易に合成され得る。

【００１９】本発明の他の一つの（Ａ）成分であるポリ
スチレン系樹脂は、例えば下記一般式

【００２０】

【化５】

【００２１】〔式中Ｒ⁵は水素原子又は炭素数１〜３の
アルキル基を示す。Ｒ⁶はハロゲン原子又は炭素数１〜
３のアルキル基を示す。ｌは０又は１〜３の整数を示
す。〕で表される構造単位をその重合体中に少なくとも
２５重量％以上含有する樹脂である。

【００２２】このようなポリスチレン系樹脂の具体的な
例としては、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレン（耐
衝撃性ポリスチレン）、スチレン−ブタジエンコポリマ
ー、スチレン−ブタジエン−アクリロニトリルコポリマ
ー等を挙げることができる。その中で耐衝撃性ポリスチ
レンが好適に用いられる。本発明のポリスチレン系樹脂
には、ポリブタジエン−スチレン共重合体ゴム、ＥＰＤ
Ｍ等のゴム成分で変性されたゴム変性ポリスチレンが包
含される。

【００２３】ポリフェニレンエーテルとポリスチレン系
樹脂の配合割合は、通常、ポリフェニレンエーテル樹脂
が１〜９９重量部に対して、ポリスチレン系樹脂が９９
〜１重量部である。

【００２４】［架橋ホスファゼン系難燃剤］本発明の
（Ｂ）成分である架橋ホスファゼン系難燃剤としては、
例えば一般式（１）

【００２５】

【化６】

【００２６】〔式中ｍは３〜２５の整数を示す。Ｐｈは
フェニル基を示す。〕で表される環状フェノキシホスフ
ァゼン及び一般式（２）

【００２７】

【化７】

【００２８】〔式中Ｘ¹は基−Ｎ＝Ｐ（ＯＰｈ）₃又は基
−Ｎ＝Ｐ（Ｏ）ＯＰｈを示し、Ｙ¹は基−Ｐ（ＯＰｈ）₄
又は基−Ｐ（Ｏ）（ＯＰｈ）₂を示す。ｎは３〜１００
００の整数を示す。Ｐｈは前記に同じ。〕で表される直
鎖状フェノキシホスファゼンからなる群より選ばれる少
なくとも１種のホスファゼン化合物が、ｏ−フェニレン
基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基及び一般式
（３）

【００２９】

【化８】

【００３０】〔式中Ａは−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＳＯ
₂−、−Ｓ−又は−Ｏ−を示す。ａは０又は１を示
す。〕で表されるビスフェニレン基からなる群より選ば
れる少なくとも１種の架橋基により架橋されてなる化合
物であって、（ａ）該架橋基はホスファゼン化合物のフ
ェニル基が脱離した２個の酸素原子間に介在し、（ｂ）
フェニル基の含有割合が上記ホスファゼン化合物（１）
及び／又は（２）中の全フェニル基の総数を基準に５０
〜９９．９％であり、且つ（ｃ）分子内にフリーの水酸
基を有していない架橋フェノキシホスファゼン化合物等
を挙げることができる。上記一般式（２）においては、
ｎが３〜１０００の整数が好ましい。

【００３１】本発明によれば、一般式（４）

【００３２】

【化９】

【００３３】〔式中ｍは前記に同じ。〕で表される環状
ジクロルホスファゼン及び一般式（５）

【００３４】

【化１０】

【００３５】〔式中Ｘ²は基−Ｎ＝ＰＣｌ₃又は基−Ｎ＝
Ｐ（Ｏ）Ｃｌを示し、Ｙ²は基−ＰＣｌ₄又は基−Ｐ
（Ｏ）Ｃｌ₂を示す。ｎは前記に同じ。〕で表される直
鎖状ジクロルホスファゼンからなる群より選ばれる少な
くとも１種のジクロルホスファゼン化合物に、一般式
（６）

【００３６】

【化１１】

【００３７】〔式中Ｍはアルカリ金属を示す。〕で表さ
れるアルカリ金属フェノラートと、一般式（７）

【００３８】

【化１２】

【００３９】〔式中Ｍは前記に同じ。〕で表されるアル
カリ金属ジフェノラート及び一般式（８）

【００４０】

【化１３】

【００４１】〔式中Ａ、ａ及びＭは前記に同じ。〕で表
されるアルカリ金属ジフェノラートからなる群より選ば
れる少なくとも１種のジフェノラートとの混合物を反応
させ、次いで得られる化合物に上記アルカリ金属フェノ
ラートを更に反応させることにより製造される。

【００４２】即ち、本発明の架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物は、上記一般式（４）で表される環状ジクロル
ホスファゼン及び一般式（５）で表される直鎖状ジクロ
ルホスファゼンからなる群より選ばれる少なくとも１種
のジクロルホスファゼン化合物に、一般式（６）で表さ
れるアルカリ金属フェノラートと、一般式（７）で表さ
れるアルカリ金属ジフェノラート及び一般式（８）で表
されるアルカリ金属ジフェノラートからなる群より選ば
れる少なくとも１種のジフェノラートとの混合物を反応
させ（第一工程）、次いで得られる化合物に上記アルカ
リ金属フェノラートを更に反応させる（第二工程）こと
により製造される。

【００４３】本発明者の研究によれば、一般式（７）及
び一般式（８）で表されるアルカリ金属ジフェノラート
のジクロルホスファゼン化合物に対する反応性が、一般
式（６）で表されるアルカリ金属フェノラートのそれに
比べ極端に低いことが判明した。より具体的には、ジク
ロルホスファゼン化合物と一般式（６）で表されるアル
カリ金属フェノラートとを混合加熱すると、塩素原子が
フェノキシ基に置換したフェノキシホスファゼンが生成
するが、ジクロルホスファゼン化合物と一般式（７）及
び／又は一般式（８）で表されるアルカリ金属ジフェノ
ラートとを混合加熱しても置換反応は殆ど起らない。こ
れは、アルカリ金属ジフェノラートの溶媒への溶解性が
極端に低く、反応系で完全に分離することが一因になっ
ていると考えられる。

【００４４】従って、例えば特開昭５１−４７０４２号
公報に記載されている方法、即ちジクロルホスファゼン
化合物にアルカリ金属フェノラートを反応させ、次いで
アルカリ金属ジフェノラートを反応させる方法では、ア
ルカリ金属フェノラートとの反応後に残存する塩素原子
をアルカリ金属ジフェノラートで完全に置換することは
非常に困難であり、仮にアルカリ金属ジフェノラートの
一方のＯＭ基がジクロルホスファゼン化合物中の塩素原
子と反応したとしても、残った片端のＯＭ基が他の塩素
原子と反応し難くなり、このＯＭ基がＯＨ基に変換さ
れ、結果として水酸基が残存したホスファゼン化合物が
生成する。

【００４５】これに対し本発明によれば、ジクロルホス
ファゼン化合物にアルカリ金属フェノラートとアルカリ
金属ジフェノラートとの混合物を反応させ、次いで得ら
れる化合物に更にアルカリ金属フェノラートを反応させ
るという特定の構成を採用することにより、フリーの水
酸基を分子内に残存させることなく、アルカリ金属ジフ
ェノラートの両ＯＭ基のＭが脱離して、二つの酸素原子
がジクロルホスファゼン化合物中のリン原子に結合し、
架橋された（即ち分子量が増加した）フェノキシホスフ
ァゼン化合物が製造される。

【００４６】本発明の製造法において、原料の一つとし
て使用される、一般式（４）及び一般式（５）で表され
るジクロルホスファゼン化合物は、例えば、特開昭５７
−８７４２７号公報、特公昭５８−１９６０４号公報、
特公昭６１−１３６３号公報、特公昭６２−２０１２４
号公報等に記載の公知の方法に従って製造できる。その
一例を示せば、まずクロルベンゼン中で、塩化アンモニ
ウムと五塩化リン（又は塩化アンモニウムと三塩化リン
と塩素）とを、１２０〜１３０℃程度で反応させて、脱
塩酸化することで製造できる。

【００４７】一般式（６）で表されるアルカリ金属フェ
ノラートとしては、従来公知のものを広く使用でき、例
えばナトリウムフェノラート、カリウムフェノラート、
リチウムフェノラート等を挙げることができる。これら
アルカリ金属フェノラートは１種を単独で使用でき又は
２種以上を併用できる。

【００４８】一般式（７）で表されるアルカリ金属ジフ
ェノラートにおいて、２つの基−ＯＭ（Ｍは上記に同
じ）は、オルト、メタ又はパラのいずれの位置関係にあ
ってもよい。該アルカリ金属ジフェノラートの具体例と
しては、例えば、レゾルシノール、ハイドロキノン、カ
テコール等のアルカリ金属塩を挙げることができる。こ
れらの中でも、ナトリウム塩及びリチウム塩が好まし
い。該アルカリ金属ジフェノラートは、１種を単独で使
用でき又は２種以上を併用できる。

【００４９】一般式（８）で表されるアルカリ金属ジフ
ェノラートとしては、例えば、４，４’−イソプロピリ
デンジフェノール（ビスフェノール−Ａ）、４，４’−
スルホニルジフェノール（ビスフェノール−Ｓ）、４，
４’−チオジフェノール、４，４’−オキシジフェノー
ル、４，４’−ジフェノール等のアルカリ金属塩等を挙
げることができる。これらの中でも、ナトリウム塩及び
リチウム塩が好ましい。該アルカリ金属ジフェノラート
は、１種を単独で使用でき又は２種以上を併用できる。

【００５０】本発明では、一般式（７）で表されるアル
カリ金属ジフェノラート及び一般式（８）で表されるア
ルカリ金属ジフェノラートをそれぞれ単独で使用しても
よいし、これらを混合して使用してもよい。

【００５１】本発明の製造法の第一工程においては、ジ
クロルホスファゼン化合物中の塩素原子がアルカリ金属
フェノラート及びアルカリ金属ジフェノラートとの反応
により全て消費されないように、即ちジクロルホスファ
ゼン化合物中の塩素原子がアルカリ金属フェノラート及
びアルカリ金属ジフェノラートとの反応によっても尚残
存しているように、アルカリ金属フェノラート及びアル
カリ金属ジフェノラートの使用量を調節することが望ま
しい。これにより、アルカリ金属ジフェノラートの両−
ＯＭ基（Ｍは前記に同じ）がジクロルホスファゼン化合
物のリン原子に結合する。第一工程では、アルカリ金属
フェノラート及びアルカリ金属ジフェノラートの使用量
は、ジクロルホスファゼン化合物の塩素量を基準にし
て、両フェノラートの合計量で通常０．０５〜０．９当
量程度、好ましくは０．１〜０．８当量程度とすればよ
い。

【００５２】本発明の製造法の第二工程においては、上
記第一工程で生成する化合物中の塩素原子及びフリーの
水酸基が全てアルカリ金属フェノラートとの反応によっ
て全て消費されるように、アルカリ金属フェノラートの
使用量を調節することが望ましい。本発明では、アルカ
リ金属フェノラートの使用量は、ジクロルホスファゼン
化合物の塩素量を基準にして、通常１〜１．５当量程
度、好ましくは１〜１．２当量程度とすればよい。

【００５３】本発明では、アルカリ金属フェノラート
（第一工程及び第二工程で用いる合計量）とアルカリ金
属ジフェノラートとの使用割合（アルカリ金属ジフェノ
ラート／アルカリ金属フェノラート、モル比）は、通常
１／２０００〜１／４程度、好ましくは１／２０〜１／
６とすればよい。

【００５４】第一工程及び第二工程の反応は、各々通常
室温〜１５０℃程度、好ましくは８０〜１４０℃程度の
温度下に行われ、通常１〜１２時間程度、好ましくは３
〜７時間程度で終了する。第一工程及び第二工程の反応
は、いずれも、通常ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素等の有機溶媒中にて
行われる。

【００５５】上記反応により製造される本発明の架橋フ
ェノキシホスファゼン化合物は、例えば、洗浄、濾過、
乾燥等の通常の単離方法に従い、反応混合物から容易に
単離、精製できる。

【００５６】本発明の架橋フェノキシホスファゼン化合
物は、分解温度が２５０〜３５０℃の範囲内にある。

【００５７】また、本発明の架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物中のフェニル基の含有割合は、一般式（１）の
環状フェノキシホスファゼン及び／又は一般式（２）の
直鎖状フェノキシホスファゼン中の全フェニル基の総数
を基準に５０〜９９．９％であり、好ましくは７０〜９
０％である。

【００５８】尚、一般式（２）における末端基Ｘ¹及び
Ｙ¹は反応条件等により変化し、通常の反応条件で、例
えば非水の系で温和な反応を行った場合には、Ｘ¹が−
Ｎ＝Ｐ（ＯＰｈ）₃、Ｙ¹が−Ｐ（ＯＰｈ）₄の構造とな
り、水分もしくはアルカリ金属水酸化物が反応系内に存
在するような反応条件で又は転移反応が生じるような過
酷な反応条件で反応を行った場合には、Ｘ¹が−Ｎ＝Ｐ
（ＯＰｈ）₃、Ｙ¹が−Ｐ（ＯＰｈ）₄の構造の他に、Ｘ¹
が−Ｎ＝Ｐ（Ｏ）ＯＰｈ、Ｙ¹が−Ｐ（Ｏ）（ＯＰｈ）₂
の構造のものが混在する状態となる。

【００５９】本発明の架橋フェノキシホスファゼン化合
物は、難燃剤として有用である。

【００６０】本発明の架橋フェノキシホスファゼン化合
物からなる難燃剤は、ハロゲンを含まず、従って樹脂成
型時に熱分解してハロゲン化水素を発生し金型の腐食や
樹脂の劣化及び着色を惹起することはなく、また火災等
により樹脂が燃焼する際にはハロゲン化水素等の生物に
対する有害ガスや煙を発生することはない。また本発明
の架橋フェノキシホスファゼン化合物は、揮発性が低
く、樹脂の成形温度を低下させることはなく、また混練
時のブロッキングや滲みだし（ジューシング）、燃焼時
のドリッピング等の問題が生じることはない。

【００６１】更に、本発明の架橋フェノキシホスファゼ
ン化合物からなる難燃剤は、樹脂の分子量を低下させる
ことがなく、難燃剤の配合によって耐衝撃性等の機械的
特性、耐熱性、成形加工性等の樹脂本来の特性を低下さ
せることが少ない。

【００６２】［トリアジン骨格含有化合物］本発明の
（Ｃ）成分であるトリアジン骨格含有化合物は、ホスフ
ァゼン系難燃剤と共に使用し、難燃性をより一層向上さ
せるための成分（難燃助剤）である。

【００６３】本発明において、トリアジン骨格含有化合
物としては、分子内にトリアジン骨格を含有している化
合物である限り、従来公知のものを広く使用できる。ト
リアジン骨格含有化合物の具体例としては、例えばメラ
ミン（下記式(9)）、メラム（下記式(10)）、メレム
（下記式(11)）、メロン（メレム３分子から３分子の脱
アンモニアによる生成物）、メラミン・シアヌレート
（下記式(12)）、リン酸メラミン（下記式(13)）、サク
シノグアナミン（下記式(14)）、メラミン樹脂（下記式
(15)）等を挙げることができるが、耐揮発性、分散性の
観点から特にメラミン・シアヌレートが好ましい。

【００６４】

【化１４】

【００６５】［難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組
成物］本発明の難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組
成物中に配合される（Ｂ）成分の架橋ホスファゼン系難
燃剤の配合量は、（Ａ）成分であるポリフェニレンエー
テル樹脂１〜９９重量部及びポリスチレン系樹脂９９〜
１重量部からなる樹脂１００重量部に対して１〜３０重
量部である。

【００６６】また、本発明の難燃性ポリフェニレンエー
テル系樹脂組成物中に配合される（Ｃ）成分のトリアジ
ン骨格含有化合物の配合量は、（Ａ）成分であるポリフ
ェニレンエーテル樹脂１〜９９重量部及びポリスチレン
系樹脂９９〜１重量部からなる樹脂１００重量部に対し
て３０重量部以下である。即ち、（Ｃ）成分のトリアジ
ン骨格含有化合物が更に配合された本発明の難燃性ポリ
フェニレンエーテル系樹脂組成物は、（Ａ）成分である
ポリフェニレンエーテル樹脂１〜９９重量部及びポリス
チレン系樹脂９９〜１重量部からなる樹脂１００重量
部、（Ｂ）成分の架橋ホスファゼン系難燃剤１〜３０重
量部並びに（Ｃ）成分のトリアジン骨格含有化合物３０
重量部以下、好ましくは０．１〜３０重量部からなって
いる。

【００６７】本発明の難燃性ポリフェニレンエーテル系
樹脂組成物の特に好ましい組成は、（Ａ）成分であるポ
リフェニレンエーテル樹脂１〜７０重量部及びポリスチ
レン系樹脂９９〜３０重量部からなる樹脂１００重量
部、（Ｂ）成分の架橋ホスファゼン系難燃剤１〜３０重
量部並びに（Ｃ）成分のトリアジン骨格含有化合物３０
重量部以下、好ましくは０．１〜３０重量部である。

【００６８】［無機質充填剤］本発明の難燃性ポリフェ
ニレンエーテル系樹脂組成物には、樹脂の機械的物性を
向上させるため及び／又はドリッピング防止性をより一
層向上させるために、無機質充填剤を配合することがで
きる。

【００６９】無機質充填剤としては従来公知の樹脂充填
剤を広く使用でき、例えば、マイカ、カオリン、タル
ク、シリカ、クレー、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭
酸カルシウム、硫酸カルシウム、珪酸カルシウム、酸化
チタン、硝子ビーズ、硝子バルーン、硝子フレーク、ガ
ラス繊維、繊維状チタン酸アルカリ金属（チタン酸カリ
ウム繊維等）、繊維状ホウ酸遷移金属塩（ホウ酸アルミ
ニウム繊維等）、繊維状ホウ酸アルカリ土類金属塩（ホ
ウ酸マグネシウム繊維等）、酸化亜鉛ウィスカー、酸化
チタンウィスカー、酸化マグネシウムウィスカー、石膏
ウィスカー、珪酸アルミニウム（鉱物名ムライト）ウィ
スカー、珪酸カルシウム（鉱物名ワラストナイト）ウィ
スカー、炭化珪素ウィスカー、炭化チタンウィスカー、
窒化珪素ウィスカー、窒化チタンウィスカー、炭素繊
維、アルミナ繊維、アルミナ−シリカ繊維、ジルコニア
繊維、石英繊維等を挙げることができる。

【００７０】これら無機質充填剤の中でも、繊維状チタ
ン酸アルカリ金属、繊維状ホウ酸遷移金属塩、繊維状ホ
ウ酸アルカリ土類金属塩、酸化亜鉛ウィスカー、酸化チ
タンウィスカー、酸化マグネシウムウィスカー、珪酸ア
ルミニウムウィスカー、珪酸カルシウムウィスカー、炭
化珪素ウィスカー、炭化チタンウィスカー、窒化珪素ウ
ィスカー、窒化チタンウィスカー等の繊維状物やマイカ
等の形状異方性を有するものが好ましく、繊維状チタン
酸アルカリ金属、繊維状ホウ酸遷移金属塩、繊維状ホウ
酸アルカリ土類金属塩、酸化チタンウィスカー、珪酸カ
ルシウムウィスカー等が特に好ましい。

【００７１】これらの無機質充填剤は、１種を単独で使
用でき、又は２種以上を併用できる。

【００７２】これらの無機充填剤の中でも、ウィスカー
類やマイカ等の形状異方性を有するものを好ましく使用
できる。

【００７３】ポリフェニレンエーテル系樹脂に対する無
機質充填剤の配合割合としては、特に限定されるもので
はないが、機械的物性の向上と難燃性能の向上のバラン
スを考慮すると、通常ポリフェニレンエーテル系樹脂１
００重量部当たり５０重量部以下、好ましくは１〜５０
重量部とするのがよい。

【００７４】［ハロゲンを含有しない有機リン化合物］
本発明の難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物に
は、その難燃性をより一層向上させるために、ハロゲン
を含有しない有機リン化合物（以下「ハロゲンフリー有
機リン化合物」という）を配合することもできる。

【００７５】従来、ハロゲンフリー有機リン化合物が樹
脂等のマトリックスの難燃性を向上させることは公知で
ある。しかしながら、本発明者は、本発明において使用
する架橋ホスファゼン系難燃剤とハロゲンフリー有機リ
ン化合物とを併用した場合には、相乗効果が発現され、
難燃効果が著しく高められることを見い出した。

【００７６】ハロゲンフリー有機リン化合物としては、
従来公知のものを広く使用できる。例えば特公平６−１
９００３号公報、特開平２−１１５２６２号公報、特開
平５−１０７９号公報、特開平６−３２２２７７号公
報、米国特許第５１２２５５６号明細書等に記載のもの
を挙げることができる。

【００７７】より具体的には、例えばトリメチルホスフ
ェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェ
ート、トリオクチルホスフェート、トリフェニルホスフ
ェート、トリクレジルホスフェート、トリキシリルホス
フェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシリル
ジフェニルホスフェート、トリルジキシリルホスフェー
ト、トリス（ノリルフェニル）ホスフェート、（２−エ
チルヘキシル）ジフェニルホスフェート等のリン酸エス
テル、レゾルシノールジフェニルホスフェート、ハイド
ロキノンジフェニルホスフェート等の水酸基含有リン酸
エステル、１，３−フェニレンビス（２, ６−ジキシレ
ニルホスフェート）、レゾルシノールビス（ジフェニル
ホスフェート）、ハイドロキノンビス（ジフェニルホス
フェート）、ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホス
フェート）、ビスフェノール−Ｓビス（ジフェニルホス
フェート）、レゾルシノールビス（ジキシリルホスフェ
ート）、ハイドロキノンビス（ジキシリルホスフェー
ト）、ビスフェノール−Ａビス（ジトリルホスフェー
ト）、ビフェノール−Ａビス（ジキシリルホスフェー
ト）、ビスフェノール−Ｓビス（ジキシリルホスフェー
ト）等の縮合リン酸エステル化合物、トリラウリルホス
フィン、トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィンオキシド、トリトリルホス
フィンオキシド等のホスフィン又はホスフィンオキシド
化合物等を挙げることができる。

【００７８】これらハロゲンフリー有機リン化合物の中
でも、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフ
ェート、トリキシリルホスフェート、１，３−フェニレ
ンビス（２, ６−ジキシレニルホスフェート）、レゾル
シノールビス（ジフェニルホスフェート）、ハイドロキ
ノンビス（ジフェニルホスフェート）、ビスフェノール
−Ａビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシノール
ビス（ジキシリルホスフェート）、ハイドロキノンビス
（ジキシリルホスフェート）、ビスフェノール−Ａビス
（ジトリルホスフェート）等の縮合リン酸エステル化合
物、トリフェニルホスフィンオキシド、トリトリルホス
フィンオキシド等のホスフィンオキシド化合物等が好ま
しく、特にトリフェニルホスフェート、１，３−フェニ
レンビス（２, ６−ジキシレニルホスフェート）、レゾ
ルシノールビス（ジフェニルホスフェート）、レゾルシ
ノールビス（ジキシリルホスフェート）、トリフェニル
ホスフィンオキシド等が好ましい。

【００７９】ハロゲンフリー有機リン化合物は、１種を
単独で使用でき又は２種以上を併用できる。

【００８０】ポリフェニレンエーテル系樹脂に対するハ
ロゲンフリー有機リン化合物の配合割合としては、特に
限定されるものではないが、機械的物性の向上と難燃性
能の向上のバランスを考慮すると、通常ポリフェニレン
エーテル系樹脂１００重量部当たり５０重量部以下、好
ましくは３０重量部以下、より好ましくは１〜３０重量
部とするのがよい。

【００８１】［各種添加剤］本発明の難燃性ポリフェニ
レンエーテル系樹脂組成物は、塩素、臭素等のハロゲン
を含有する化合物を難燃化成分として使用せずに、優れ
た難燃効果を発現する樹脂組成物であるが、通常用いら
れる公知の難燃化のための添加剤を、その優れた効果を
損なわない範囲で適宜組合せて添加することもできる。

【００８２】難燃化のための添加剤は、通常、難燃化効
果を発現するものであれば特に制限はなく、酸化亜鉛、
酸化スズ、酸化鉄、酸化モリブデン、酸化銅、二酸化マ
ンガン等の金属酸化物、水酸化アルミニウム、水酸化マ
グネシウム、水酸化ジルコニウム、シュウ酸処理した水
酸化アルミニウム、ニッケル化合物で処理した水酸化マ
グネシウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム、アルキルスルホン酸ナトリウ
ム等のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、塩素化
パラフィン、パークロロシクロペンタデカン、テトラブ
ロモビスフェノール−Ａ、エポキシ樹脂、ビス（トリブ
ロモフェノキシ）エタン、ビス（テトラブロムフタルイ
ミノ）エタン等の有機塩素化合物又は有機臭素化合物、
三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモ
ン、アンチモン酸ナトリウム等のアンチモン化合物、赤
リン、ハロゲン含有リン酸エステル化合物、ハロゲン含
有縮合リン酸エステル化合物又はホスホン酸エステル化
合物、スルファミン酸グアニジン、硫酸アンモニウム、
リン酸アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム、アルキ
ルアミンリン酸塩等の窒素含有化合物、硼酸亜鉛、メタ
硼酸バリウム、硼酸アンモニウム等の硼素化合物、シリ
コーンポリマー、シリカ等の珪素化合物、熱膨脹性のグ
ラファイト等を挙げることができる。

【００８３】これらの難燃化のための添加剤は、１種を
単独で使用でき、又は２種以上を併用できる。

【００８４】更に、本発明難燃性ポリフェニレンエーテ
ル系樹脂組成物には、その優れた特性を損なわない範囲
で、従来から公知の各種樹脂添加剤を適宜組合せて配合
することができる。樹脂添加剤としては、例えば、上記
以外の難燃剤、ポリ四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）
等のドリップ防止剤（滴下防止剤）、紫外線吸収剤、光
安定剤、酸化防止剤、遮光剤、金属不活性剤、消光剤、
耐熱安定剤、潤滑剤、離型剤、着色剤、帯電防止剤、老
化防止剤、可塑剤、衝撃強度改良剤、相溶化剤等を挙げ
ることができる。また、防曇性、防黴性、抗菌性、或い
はその他の機能性を付与する目的で、従来公知の各種添
加剤を更に配合してもよい。

【００８５】［本発明難燃性樹脂組成物の製造］本発明
の難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物は、ポリ
フェニレンエーテル系樹脂に上記架橋ホスファゼン系難
燃剤及び必要に応じてトリアジン骨格含有化合物、無機
質充填剤、ハロゲンフリー有機リン化合物、難燃化のた
めの各種添加剤、その他の添加剤の所定量又は適量を秤
量して添加し、公知の方法で混合、混練することにより
得ることができる。例えば、粉末、ビーズ、フレーク又
はペレット状の各成分の混合物を、１軸押出機、２軸押
出機等の押出機、バンバリーミキサー、加圧ニーダー、
２本ロール等の混練機等を用いて混練することにより本
発明の樹脂組成物を得ることができる。また、液体を配
合する必要のある場合には、公知の液体注入装置を用
い、上記の押出機又は混練機等で混練することができ
る。

【００８６】［本発明難燃性樹脂成形体］本発明の難燃
性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物を成形すること
により、難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂成形体を
得ることができる。例えば、プレス成形、射出成形、押
出成形等の従来公知の成形手段より、樹脂板、シート、
フィルム、異形品等の種々の形状の押出成形品を製造で
きることは勿論であり、また共押出混練機等を用いて、
二層乃至三層構造の樹脂板を製造することも可能であ
る。

【００８７】このようにして得られる本発明の難燃性ポ
リフェニレンエーテル系樹脂組成物及び難燃性ポリフェ
ニレンエーテル系樹脂成形体は、電気・電子・通信、農
林水産、鉱業、建設、食品、繊維、衣類、医療、石炭、
石油、ゴム、皮革、自動車、精密機器、木材、家具、印
刷、楽器等の幅広い産業分野に使用できる。

【００８８】より具体的には、本発明の難燃性ポリフェ
ニレンエーテル系樹脂組成物及び難燃性ポリフェニレン
エーテル系樹脂成形体は、プリンター、パソコン、ワー
プロ、キーボード、ＰＤＡ（小型情報端末機）、電話
機、ファクシミリ、複写機、ＥＣＲ（電子式金銭登録
機）、電卓、電子手帳、電子辞書、カード、ホルダー、
文具等の事務・ＯＡ機器、 洗濯機、冷蔵庫、掃除機、
電子レンジ、照明器具、ゲーム機、アイロン、炬燵等の
家電機器、ＴＶ、ＶＴＲ、ビデオカメラ、ラジカセ、テ
ープレコーダー、ミニディスク、ＣＤプレイヤー、スピ
ーカー、液晶ディスプレイ等のＡＶ機器、コネクター、
リレー、コンデンサー、スイッチ、プリント基板、コイ
ルボビン、半導体封止材料、電線、ケーブル、トラン
ス、偏向ヨーク、分電盤、時計等の電気・電子部品及び
通信機器、自動車、車両、船舶、航空機等の部品及び建
築用材料等の用途に使用される。

【００８９】

【実施例】以下に合成例、実施例、比較例及び参考例を
挙げ、本発明を更に詳しく説明する。以下において、
「部」及び「％」とあるのは、それぞれ「重量部」及び
「重量％」を意味する。また、「−Ｐｈ」及び「−Ｐｈ
−」とあるのは、それぞれ「フェニル基」及び「フェニ
レン基」を意味する。更に、実施例等中の各種評価は、
次のようにして測定した値である。

【００９０】１．熱変形温度：ＡＳＴＭ Ｄ−６４８に
準じ、荷重１８．６ｋｇｆ／ｃｍ²で測定し、耐熱性の
指標とした。

【００９１】２．難燃性：ＵＬ−９４の試験法（Test f
or Flammability of Plastic Materials for Parts in
Devices and Appliances UL94,Fourth Edition）に基づ
き、厚さ１／１６インチ、長さ５インチ、幅０．５イン
チの試験片を用い評価試験を実施した。評価基準を以下
に示す。 Ｖ−０：下記（Ａ）〜（Ｅ）の条件を全て満たす。 （Ａ）１セット５個のどの試験片も接炎後のフレイミン
グ（炎をあげて燃え続ける）は１０秒以下。 （Ｂ）１セット５個の試験片に２回づつ、合計１０回の
接炎後のフレイミング合計は５０秒以内。 （Ｃ）１セット５個のどの試験片もクランプまでフレイ
ミングしない。 （Ｄ）１セット５個のどの試験片も３０５ｍｍ下の綿を
発火するフレイミング粒を滴下しない。 （Ｅ）１セット５個のどの試験片も２回目の接炎後、グ
ローイング（炎をあげて燃えないが、赤熱した火種とし
て残る）は３０秒以内。 Ｖ−１：下記（Ａ）〜（Ｅ）の条件を全て満たす。 （Ａ）１セット５個のどの試験片も接炎後のフレイミン
グは３０秒以内。 （Ｂ）１セット５個の試験片に２回づつ、合計１０回の
接炎後のフレイミング合計は２５０秒以内。 （Ｃ）及び（Ｄ）はＶ−０に同じ。 （Ｅ）１セット５個のどの試験片も２回目の接炎後、グ
ローイングは６０秒以内。 Ｖ−２：下記（Ａ）〜（Ｅ）の条件を全て満たす。 （Ａ）（Ｂ）（Ｃ）及び（Ｅ）はＶ−１に同じ。 （Ｄ）１セット５個の試験片のうち一つ以上が３０５ｍ
ｍ下の綿を発火するフレイミング粒を滴下する。 ＮＧ：Ｖ−２の条件に一つでも達しない。

【００９２】３．成型時の揮発ガス及び変色：目視によ
って確認した。

【００９３】ポリフェニレンエーテル、ポリスチレン系
樹脂、ハロゲンフリー有機リン化合物及び無機質充填剤
は以下のものを用いた。 ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）：ポリ（２，６−ジ
メチル−１，４−フェニレンエーテル）、極限粘度
［η］０．５６ｄｌ／ｇ。 耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）：（商品名：ＨＩＰ
Ｓ Ｈ５５０、日本ポリスチレン（株）製） ポリスチレン（ＧＰＰＳ）：（商品名：ＧＰＰＳ Ｇ６
９０Ｎ、日本ポリスチレン（株）製） 芳香族リン酸エステル：（トリフェニルホスフェート
（ＴＰＰ）、和光純薬（株）製） 芳香族縮合リン酸エステル：１，３−フェニレンビス
（２, ６−ジキシレニルホスフェート）（商品名ＰＸ−
２００、大八化学工業（株）製） 無機質充填剤：チタン酸カリウム繊維（商品名：ティス
モ Ｎ、大塚化学（株）製） ワラストナイト（商品名：バイスタルＷ、大塚化学
（株）製）。

【００９４】合成例１（ｐ−フェニレン基による架橋構
造を有するフェノキシホスファゼン化合物の合成） フェノール１０３．５ｇ（１．１モル）、水酸化ナトリ
ウム４４．０ｇ（１．１モル）、水５０ｇ及びトルエン
５００ｍｌの混合物を加熱還流し、水のみを系外に取り
除くことにより、ナトリウムフェノラートのトルエン溶
液を調製した。

【００９５】前記反応と並行し、２リットル四ツ口フラ
スコにハイドロキノン１６．５ｇ（０．１５モル）、フ
ェノール９４．１ｇ（１．０モル）、水酸化リチウム３
１．１ｇ（１．３モル）、水５２ｇ及びトルエン６００
ｍｌを入れ、加熱還流し、水のみを系外に取り除くこと
により、ハイドロキノンとフェノールのリチウム塩のト
ルエン溶液を調製した。このトルエン溶液に、ジクロル
ホスファゼンオリゴマー（３量体６２％、４量体１２
％、５量体及び６量体１１％、７量体３％、８量体以上
１２％の混合体）１．０ユニットモル（１１５．９ｇ）
を含む２０％クロルベンゼン溶液５８０ｇを、撹拌下３
０℃以下で滴下した後、１１０℃で３時間撹拌反応し
た。次に、先に調製したナトリウムフェノラートのトル
エン溶液を撹拌下で添加した後、１１０℃で４時間反応
を継続した。

【００９６】反応終了後、反応混合物を３％水酸化ナト
リウム水溶液１．０リットルで３回洗浄し、次に、水
１．０リットルで３回洗浄した後、有機層を減圧下で濃
縮した。得られた生成物を８０℃、３ｍｍＨｇ以下で１
１時間加熱真空乾燥し、架橋フェノキシホスファゼンの
微黄色粉末２１１ｇを得た。

【００９７】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ンは、加水分解塩素０．０４％、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）１１００（ポリスチレン換算、ＧＰＣ分析）、リン
含有率及びＣＨＮ元素分析値による組成は、ほぼ［Ｎ＝
Ｐ（−Ｏ−ｐ−Ｐｈ−Ｏ−）_{0. 15}（−Ｏ−Ｐｈ）_1.7］
であることが判明した。

【００９８】ＴＧ／ＤＴＡ分析（熱重量分析）では明確
な融点は示さず、分解開始温度は３０６℃、５％重量減
少温度は３１１℃であった。

【００９９】また、アセチル化法によって残存水酸基の
定量を行った結果、検出限界（サンプル１ｇ当たりの水
酸基当量として：１×１０^-6当量／ｇ）以下であった。
尚、検出限界は以下の合成例においても同数値である。

【０１００】合成例２（２，２−ビス（ｐ−オキシフェ
ニル）イソプロピリデン基による架橋構造を有するフェ
ノキシホスファゼン化合物の合成） フェノール６５．９ｇ（０．７モル）及びトルエン５０
０ｍｌを１リットル四ツ口フラスコに入れ、撹拌下、内
部の液温を２５℃に保ちつつ、金属ナトリウム０．６５
グラム原子１４．９ｇを細かく裁断して投入した。投入
終了後７７〜１１３℃で金属ナトリウムが完全に消失す
るまで８時間撹拌を続け、ナトリウムフェノラート溶液
を調製した。

【０１０１】前記反応と並行し、ビスフェノール−Ａ
５７．１ｇ（０．２５モル）、フェノール１０３．５ｇ
（１．１モル）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）８０
０ｍｌを３リットル四ツ口フラスコに入れ、撹拌下、内
部の液温を２５℃以下に保ちつつ、金属リチウム１．６
グラム原子１１．１ｇを細かく裁断して投入した。投入
終了後、６１〜６８℃で金属リチウムが完全に消失する
まで、８時間撹拌を続けた。このスラリー溶液にジクロ
ルホスファゼンオリゴマー（濃度：３７％、クロルベン
ゼン溶液３１３ｇ、組成：３量体７５％、４量体１７
％、５及び６量体６％、７量体１％、８量体以上１％の
混合体）１．０ユニットモル（１１５．９ｇ）を撹拌
下、内部の液温を２０℃以下に保ちつつ、１時間かけて
滴下した後、８０℃で２時間反応した。次いで撹拌下、
内部の液温を２０℃に保ちつつ、別途調製したナトリウ
ムフェノラート溶液を１時間かけて添加した後、８０℃
で５時間反応をした。

【０１０２】反応終了後、反応混合物を濃縮しＴＨＦを
除き、新たにトルエン１リットルを添加した。このトル
エン溶液を２％ＮａＯＨ １リットルで３回洗浄、次
に、水１．０リットルで３回洗浄した後、有機層を減圧
下で濃縮した。得られた生成物を８０℃、３ｍｍＨｇ以
下で１１時間加熱真空乾燥し、架橋フェノキシホスファ
ゼンの白色粉末２２９ｇを得た。

【０１０３】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ンは、加水分解塩素０．０７％、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）１１３０（ポリスチレン換算、ＧＰＣ分析）、リン
含有率及びＣＨＮ元素分析値よる組成は［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ
−Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｐｈ−Ｏ−）_0.25（−Ｏ−Ｐ
ｈ）_1.50］であった。

【０１０４】ＴＧ／ＤＴＡ分析では明確な融点は示さ
ず、分解開始温度は３０８℃、５％重量減少温度は３１
３℃であった。また残存水酸基量は検出限界以下であっ
た（アセチル化法）。

【０１０５】合成例３（メタフェニレン基による架橋構
造を有するフェノキシホスファゼン化合物の合成） ハイドロキノンに代えてレゾルシノールを用い、合成例
１と同様に反応と処理を行い、架橋フェノキシホスファ
ゼンの白色粉末２０９ｇを得た。

【０１０６】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ンは、加水分解塩素０．０８％、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）１０８０（ポリスチレン換算、ＧＰＣ分析）、リン
含有率及びＣＨＮ元素分析値よる組成は、［Ｎ＝Ｐ（−
Ｏ−ｍ−Ｐｈ−Ｏ−）_0.15（−Ｏ−Ｐｈ）_1.7］であっ
た。

【０１０７】ＴＧ／ＤＴＡ分析では明確な融点は示さ
ず、分解開始温度は３０４℃、５％重量減少温度は３１
１℃であった。また、残存水酸基量は検出限界以下であ
った（アセチル化法）。

【０１０８】合成例４（４，４’−スルホニルジフェニ
レン基（ビスフェノール−Ｓ残基）による架橋構造を有
するフェノキシホスファゼンの合成） フェノール１０３．５ｇ（１．１モル）及びＴＨＦ ５
００ｍｌを１リットル四ツ口フラスコに入れ、撹拌下、
内部の液温を２５℃に保ちつつ、金属ナトリウム１．１
グラム原子２５．３ｇを細かく裁断して投入した。投入
終了後６５〜７２℃で金属ナトリウムが完全に消失する
まで５時間撹拌を続けた。

【０１０９】前記反応と並行し、１リットル四つ口フラ
スコで、フェノール９４．１ｇ（１．０モル）とビスフ
ェノール−Ｓ ６．２６ｇ（０．０２５モル）をＴＨＦ
５００ｍｌに溶解し、２５℃以下で金属ナトリウム
１．０５グラム原子の砕片２４．１ｇを投入し、投入終
了後１時間かけて６１℃まで昇温、６１〜６８℃で６時
間撹拌を続け、ナトリウムフェノラート混合溶液を調製
した。この溶液をジクロルホスファゼンオリゴマー（３
量体６２％、４量体１２％、５量体及び６量体１１％、
７量体３％、８量体以上１２％の混合体）１．０ユニッ
トモル（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン溶
液５８０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下で滴下後、７
１〜７３℃で５時間撹拌反応した。次に、先に調製した
ナトリウムフェノラート溶液を滴下した後、７１〜７３
℃で３時間反応を継続し、ナトリウムフェノラートを調
製した。

【０１１０】反応終了後、反応混合物を濃縮し、クロル
ベンゼン５００ｍｌに再溶解した後、５％ＮａＯＨ水洗
浄を３回、５％硫酸洗浄、５％重曹水洗浄、水洗３回を
行い、濃縮乾固し、架橋フェノキシホスファゼンの淡黄
色のワックス状物２１６ｇを得た。

【０１１１】上記で得られた架橋フェノキシホスファゼ
ンは、加水分解塩素０．０５％、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）１０３０（ポリスチレン換算）であり、燐含有率及
びＣＨＮ元素分析値により組成はほぼ［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−
Ｐｈ−ＳＯ₂−Ｐｈ−Ｏ−）_{0.0 25}（−Ｏ−Ｐｈ）_1.95］
と決定した。 ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：１０３℃、分解開始
温度：３２１℃、５％重量減少温度：３３２℃ 残存水酸基量：検出限界以下（アセチル化法）。

【０１１２】合成例５（４，４’−スルホニルジフェニ
レン基（ビスフェノール−Ｓ残基）による架橋構造を有
するフェノキシホスファゼンの合成） フェノール３７．６ｇ（０．４モル）及び金属ナトリウ
ム０．４グラム原子９．２ｇを用い、合成例４と同様に
して、ナトリウムフェノラートを調製した。

【０１１３】また、フェノール１６０．０ｇ（１．７０
モル）、ビスフェノール−Ｓ １２．５ｇ（０．０５モ
ル）及び金属ナトリウム１．８グラム原子（４１．４
ｇ）を用い、合成例４と同様にしてナトリウムフェノラ
ートとナトリウムジフェノラートとの混合物を調製し
た。この混合物を、ジクロルホスファゼンオリゴマー
（３量体６２％、４量体１２％、５量体及び６量体１１
％、７量体３％、８量体以上１２％の混合体）１．０ユ
ニットモル（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼ
ン溶液５８０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下で滴下
し、以下合成例４と同様に操作し、架橋フェノキシホス
ファゼンの淡黄色ワックス状物２１８ｇを得、分析の結
果以下の化合物であることを確認した。 ［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−ＳＯ₂−Ｐｈ−Ｏ−）_0.05（−
Ｏ−Ｐｈ）_1.90］ 残存塩素：０．０１％以下 重量平均分子量Ｍｗ：１０８０（ポリスチレン換算） ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：１０３℃、分解開始
温度：３２０℃、５％重量減少温度：３３４℃ 残存水酸基量：検出限界以下。

【０１１４】合成例６（４，４’−スルホニルジフェニ
レン基（ビスフェノール−Ｓ残基）による架橋構造を有
するフェノキシホスファゼンの合成） フェノール３７．６ｇ（０．４モル）及び金属ナトリウ
ム０．４グラム原子９．２ｇを用い、合成例４と同様に
して、ナトリウムフェノラートを調製した。

【０１１５】また、フェノール１４１．２ｇ（１．５０
モル）、ビスフェノール−Ｓ ３７．５ｇ（０．１５モ
ル）及び金属ナトリウム１．８グラム原子４１．４ｇを
用い、合成例４と同様にしてナトリウムフェノラートと
ナトリウムジフェノラートとの混合物を調製した。この
混合物を、ジクロルホスファゼンオリゴマー（３量体６
２％、４量体１２％、５量体及び６量体１１％、７量体
３％、８量体以上１２％の混合体）１．０ユニットモル
（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン溶液５８
０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下で滴下し、以下合成
例４と同様に操作し、架橋フェノキシホスファゼンの淡
黄色ワックス状物２１７ｇを得、分析の結果以下の化合
物であることを確認した。 ［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−ＳＯ₂−Ｐｈ−Ｏ−）_0.15（−
Ｏ−Ｐｈ）_1.70］ 残存塩素：０．０３％ 重量平均分子量Ｍｗ：１１５０（ポリスチレン換算） ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：検出不可、分解開始
温度：３１８℃、５％重量減少温度：３３５℃ 残存水酸基量（アセチル化法）：検出限界以下。

【０１１６】合成例７（４，４’−オキシジフェニレン
基による架橋構造を有するフェノキシホスファゼンの合
成） フェノール９４．１ｇ（１．０モル）及び金属ナトリウ
ム１．０グラム原子２３．０ｇを用い、合成例４と同様
にして、ナトリウムフェノラートを調製した。

【０１１７】また、フェノール９４．１ｇ（１．０モ
ル）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル２０．
２ｇ（０．１０モル）及び金属ナトリウム１．２グラム
原子２７．６ｇを用い、合成例４と同様にしてナトリウ
ムフェノラートとナトリウムジフェノラートとの混合物
を調製した。この混合物を、ジクロルホスファゼンオリ
ゴマー（３量体６２％、４量体１２％、５量体及び６量
体１１％、７量体３％、８量体以上１２％の混合体）
１．０ユニットモル（１１５．９ｇ）を含む２０％クロ
ルベンゼン溶液５８０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下
で滴下し、以下合成例４と同様に操作し、架橋フェノキ
シホスファゼンの淡黄色ワックス状物２１１ｇを得、分
析の結果以下の化合物であることを確認した。

【０１１８】［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ−Ｏ−）
_0.1（−Ｏ−Ｐｈ）_1.8］ 残存塩素：０．０１％以下 重量平均分子量Ｍｗ：１１００（ポリスチレン換算） ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：検出不可、分解開始
温度：３２１℃、５％重量減少温度：３２８℃ 残存水酸基量（アセチル化法）：検出限界以下。

【０１１９】合成例８（４，４’−オキシジフェニレン
基による架橋構造を有するフェノキシホスファゼンの合
成） フェノール９４．１ｇ（１．０モル）及び金属ナトリウ
ム１．２グラム原子２７．６ｇを用い、合成例４と同様
にして、ナトリウムフェノラートを調製した。

【０１２０】また、フェノール９４．１ｇ（１．０モ
ル）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル４０．
４ｇ（０．２０モル）及び金属ナトリウム１．２グラム
原子２７．６ｇを用い、合成例４と同様にしてナトリウ
ムフェノラートとナトリウムジフェノラートとの混合物
を調製した。この混合物を、ジクロルホスファゼンオリ
ゴマー（３量体６２％、４量体１２％、５量体及び６量
体１１％、７量体３％、８量体以上１２％の混合体）
１．０ユニットモル（１１５．９ｇ）を含む２０％クロ
ルベンゼン溶液５８０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下
で滴下し、以下合成例４と同様に操作し、架橋フェノキ
シホスファゼンの淡黄色ワックス状物２１２ｇを得、分
析の結果以下の化合物であることを確認した。

【０１２１】［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｏ−Ｐｈ−Ｏ−）
_0.2（−Ｏ−Ｐｈ）_1.6］ 残存塩素：０．０２％ 重量平均分子量Ｍｗ：１２２０（ポリスチレン換算） ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：検出できず、分解開
始温度：３０６℃、５％重量減少温度：３２１℃ 残存水酸基量（アセチル化法）：検出限界以下。

【０１２２】合成例９（４，４’−チオジフェニレン基
による架橋構造を有するフェノキシホスファゼンの合
成） フェノール９４．１ｇ（１．０モル）及び金属ナトリウ
ム１．０グラム原子２３．０ｇを用い、合成例４と同様
にして、ナトリウムフェノラートを調製した。

【０１２３】また、フェノール９４．１ｇ（１．０モ
ル）、４，４’−チオジフェノール２１．８ｇ（０．１
０モル）及び金属ナトリウム１．２グラム原子２７．６
ｇを用い、合成例４と同様にしてナトリウムフェノラー
トとナトリウムジフェノラートとの混合物を調製した。
この混合物を、ジクロルホスファゼンオリゴマー（３量
体６２％、４量体１２％、５量体及び６量体１１％、７
量体３％、８量体以上１２％の混合体）１．０ユニット
モル（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン溶液
５８０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下で滴下し、以下
合成例４と同様に操作し、架橋フェノキシホスファゼン
の淡黄色高粘性物２１５ｇを得、分析の結果以下の化合
物であることを確認した。

【０１２４】［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｓ−Ｐｈ−Ｏ−）
_0.1（−Ｏ−Ｐｈ）_1.8］ 残存塩素：０．０７％ 重量平均分子量Ｍｗ：１２１０（ポリスチレン換算） ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：検出できず、分解開
始温度：３３７℃、５％重量減少温度：３４２℃ 残存水酸基量（アセチル化法）：検出限界以下。

【０１２５】合成例１０（４，４’−チオジフェニレン
基による架橋構造を有するフェノキシホスファゼンの合
成） フェノール９４．１ｇ（１．０モル）及び金属ナトリウ
ム１．０グラム原子２３．０ｇを用い、合成例４と同様
にして、ナトリウムフェノラートを調製した。

【０１２６】また、フェノール９４．１ｇ（１．０モ
ル）、４，４’−チオジフェノール４３．７ｇ（０．２
０モル）及び金属ナトリウム１．２グラム原子２７．６
ｇを用い、合成例４と同様にしてナトリウムフェノラー
トとナトリウムジフェノラートとの混合物を調製した。
この混合物を、ジクロルホスファゼンオリゴマー（３量
体６２％、４量体１２％、５量体及び６量体１１％、７
量体３％、８量体以上１２％の混合体）１．０ユニット
モル（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン溶液
５８０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下で滴下し、以下
合成例４と同様に操作し、架橋フェノキシホスファゼン
の淡黄色高粘性物２１７ｇを得、分析の結果以下の化合
物であることを確認した。

【０１２７】［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｓ−Ｐｈ−Ｏ−）
_0.2（−Ｏ−Ｐｈ）_1.6］ 残存塩素：０．０１％ 重量平均分子量Ｍｗ：１３２０（ポリスチレン換算） ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：検出できず、分解開
始温度：３４１℃、５％重量減少温度：３４７℃ 残存水酸基量（アセチル化法）：検出限界以下。

【０１２８】合成例１１（４，４’−ジフェニレン基に
よる架橋構造を有するフェノキシホスファゼンの合成） フェノール９４．１ｇ（１．０モル）及び金属ナトリウ
ム１．０グラム原子２３．０ｇを用い、合成例４と同様
にして、ナトリウムフェノラートを調製した。

【０１２９】また、フェノール９４．１ｇ（１．０モ
ル）、４，４’−ジフェノール１８．６ｇ（０．１０モ
ル）及び金属ナトリウム１．２グラム原子２７．６ｇを
用い、合成例４と同様にしてナトリウムフェノラートと
ナトリウムジフェノラートとの混合物を調製した。この
混合物を、ジクロルホスファゼンオリゴマー（３量体６
２％、４量体１２％、５量体及び６量体１１％、７量体
３％、８量体以上１２％の混合体）１．０ユニットモル
（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン溶液５８
０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下で滴下し、以下合成
例４と同様に操作し、架橋フェノキシホスファゼンの淡
黄色高粘性物２０８ｇを得、分析の結果以下の化合物で
あることを確認した。

【０１３０】［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｏ−）_0.1
（−Ｏ−Ｐｈ）_1.8］ 残存塩素：０．０１％ 重量平均分子量Ｍｗ：１２１０（ポリスチレン換算） ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：検出できず、分解開
始温度：３３８℃、５％重量減少温度：３４９℃ 残存水酸基量（アセチル化法）：検出限界以下。

【０１３１】合成例１２（４，４’−ジフェニレン基に
よる架橋構造を有するフェノキシホスファゼンの合成） フェノール９４．１ｇ（１．０モル）及び金属ナトリウ
ム１．０グラム原子２３．０ｇを用い、合成例４と同様
にして、ナトリウムフェノラートを調製した。

【０１３２】また、フェノール９４．１ｇ（１．０モ
ル）、４，４’−ジフェノール３７．２ｇ（０．２０モ
ル）及び金属ナトリウム１．２グラム原子２７．６ｇを
用い、合成例４と同様にしてナトリウムフェノラートと
ナトリウムジフェノラートとの混合物を調製した。この
混合物を、ジクロルホスファゼンオリゴマー（３量体６
２％、４量体１２％、５量体及び６量体１１％、７量体
３％、８量体以上１２％の混合体）１．０ユニットモル
（１１５．９ｇ）を含む２０％クロルベンゼン溶液５８
０ｇに、２５℃以下の冷却・撹拌下で滴下し、以下合成
例４と同様に操作し、架橋フェノキシホスファゼンの淡
黄色高粘性物２１１ｇを得、分析の結果以下の化合物で
あることを確認した。

【０１３３】［Ｎ＝Ｐ（−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−Ｏ−）_0.2
（−Ｏ−Ｐｈ）_1.6］ 残存塩素：０．０１％ 重量平均分子量Ｍｗ：１３５０（ポリスチレン換算） ＴＧ／ＤＴＡ分析；融解温度Ｔｍ：検出できず、分解開
始温度：３３６℃、５％重量減少温度：３４７℃ 残存水酸基量（アセチル化法）：検出限界以下。

【０１３４】実施例１ ポリ（２, ６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテ
ル）８０部、耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）１０部
及びポリスチレン（ＧＰＰＳ）１０部からなる樹脂成分
１００重量部に、難燃化剤として合成例１で製造した架
橋フェノキシホスファゼン化合物５部を添加してミキサ
ーで混合後、２５ｍｍ ２軸混練機を用いて溶融混練
し、難燃性樹脂組成物を得た。

【０１３５】この組成物を射出成型により１／１６イン
チの厚さの試験片を作製し、ＵＬ−９４の試験法に基づ
く難燃性の評価とＡＳＴＭのＤ−６４８に準じて熱変形
温度の測定を行った。この結果、難燃性はＶ−０、熱変
形温度は１５０℃であり、成型時にジューシングは認め
られなかった。

【０１３６】実施例２〜１２ 合成例２〜１２で製造した架橋フェノキシホスファゼン
化合物を使用する以外は、実施例１と同様にして、難燃
性樹脂組成物を得た。

【０１３７】実施例１３ 更にワラストナイト１５部を添加する以外は、実施例１
と同様にして、難燃性樹脂組成物を得た。

【０１３８】実施例１４ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、合成例２で製造した架橋フェノキシホスファ
ゼン化合物３部及び１, ３−フェニレンビス（２, ６−
ジキシレニルホスフェート）（ＰＸ−２００）１部を使
用する以外は、実施例１と同様にして、難燃性樹脂組成
物を得た。

【０１３９】比較例１〜３ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、ＴＰＰ ５部（比較例１）又はＰＸ−２００
５部（比較例２）を配合するか或いは難燃剤を配合し
ない（比較例３）以外は、実施例１と同様にして、難燃
性樹脂組成物を得た。

【０１４０】上記実施例２〜１４で得られる難燃性樹脂
組成物及び比較例１〜３で得られる難燃性樹脂組成物を
用い、実施例１と同様にして、試験片の作製及び評価を
行った。これらの結果を表１に示す。

【０１４１】尚、比較例１の樹脂組成物は、成型時にジ
ューシングが認められた。また、比較例３の樹脂組成物
は難燃性を全く示さなかった。

【０１４２】

【表１】

【０１４３】表１中、樹脂成分はＰＰＥ／ＰＳ樹脂＝８
０／２０の混合物である。ワラストナイトは無機充填
剤、ＰＸ−２００及びＴＰＰはハロゲンフリー有機リン
化合物である。

【０１４４】実施例１５ ポリ（２, ６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル
５０部、耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）２５部及び
ポリスチレン（ＧＰＰＳ）２５部からなる樹脂成分１０
０重量部に、合成例１で製造した架橋フェノキシホスフ
ァゼン化合物１５部と難燃助剤としてメラミン・シアヌ
レート１０部を添加してミキサーで混合後、２５ｍｍ
２軸混練機を用いて溶融混練し、難燃性樹脂組成物を得
た。

【０１４５】この組成物を射出成型により１／１６イン
チの厚さの試験片を作製し、ＵＬ−９４の試験法に基づ
く難燃性の評価とＡＳＴＭのＤ−６４８に準じて熱変形
温度の測定を行った。この結果、難燃性はＶ−０、熱変
形温度は１０１℃であり、成型時にジューシングは認め
られなかった。

【０１４６】実施例１６〜２６ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、合成例２〜１２で製造した架橋フェノキシホ
スファゼン化合物を使用する以外は、実施例１５と同様
にして、難燃性樹脂組成物を得た。

【０１４７】実施例２７ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、合成例３で製造した架橋フェノキシホスファ
ゼン化合物を使用し、更にチタン酸カリウム繊維（ティ
スモ Ｎ）１５部を添加する以外は、実施例１５と同様
にして、難燃性樹脂組成物を得た。

【０１４８】実施例２８ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、合成例４で製造した架橋フェノキシホスファ
ゼン化合物１０部と、１, ３−フェニレンビス（２, ６
−ジキシレニルホスフェート）（ＰＸ−２００）２部と
を使用する以外は、実施例１５と同様にして、難燃性樹
脂組成物を得た。

【０１４９】比較例４〜７ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、ＴＰＰ １５部（比較例４）又はＰＸ−２０
０ １５部（比較例５）を配合するか、難燃剤のみを配
合せず且つ難燃助剤の配合量を２０部とする（比較例
６）か、或いは難燃剤と難燃助剤の両方を配合しない
（比較例７）以外は、実施例１５と同様にして、難燃性
樹脂組成物を得た。

【０１５０】上記実施例１６〜２８で得られる難燃性樹
脂組成物及び比較例４〜７で得られる難燃性樹脂組成物
を用い、実施例１５と同様にして、試験片の作製及び評
価を行った。これらの結果を表２に示す。

【０１５１】尚、比較例４の樹脂組成物は、成型時にジ
ューシングが認められた。また、比較例７の樹脂組成物
は難燃性を全く示さなかった。

【０１５２】

【表２】

【０１５３】表２中、樹脂成分はＰＰＥ／ＰＳ樹脂＝５
０／５０の混合物である。

【０１５４】実施例２９ ポリ（２, ６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル
２０部、耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）４０部及び
ポリスチレン（ＧＰＰＳ）４０部からなる樹脂成分１０
０重量部に、難燃剤として合成例１で製造した架橋フェ
ノキシホスファゼン化合物 ２０部と難燃助剤としてメ
ラミン・シアヌレート ２０部を添加してミキサーで混
合後、２５ｍｍ ２軸混練機を用いて溶融混練し、難燃
性樹脂組成物を得た。

【０１５５】この組成物を射出成型により１／１６イン
チの厚さの試験片を作製し、ＵＬ−９４の試験法に基づ
く難燃性の評価とＡＳＴＭのＤ−６４８に準じて熱変形
温度の測定を行った。この結果、難燃性はＶ−０、熱変
形温度は８２℃であり、成型時にジューシングは認めら
れなかった。

【０１５６】実施例３０〜４０ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、合成例２〜１２で製造した架橋フェノキシホ
スファゼン化合物を使用する以外は、実施例２９と同様
にして、難燃性樹脂組成物を得た。

【０１５７】実施例４１ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、合成例５で製造した架橋フェノキシホスファ
ゼン化合物２０部を使用し、更にチタン酸カリウム繊維
（ティスモ Ｎ）１５部を添加する以外は、実施例２９
と同様にして、難燃性樹脂組成物を得た。

【０１５８】実施例４２ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、合成例６で製造した架橋フェノキシホスファ
ゼン化合物１２部と、トリフェニルホスフェート（ＴＰ
Ｐ）４部とを使用する以外は、実施例２９と同様にし
て、難燃性樹脂組成物を得た。

【０１５９】比較例８〜１１ 合成例１で製造した架橋フェノキシホスファゼン化合物
に代えて、ＴＰＰ ２０部（比較例８）又はＰＸ−２０
０ ２０部（比較例９）を配合するか、難燃剤のみを配
合せず且つ難燃助剤の配合量を３０部とする（比較例１
０）か、或いは難燃剤と難燃助剤の両方を配合しない
（比較例１１）以外は、実施例２９と同様にして、難燃
性樹脂組成物を得た。

【０１６０】上記実施例２９〜４２で得られる難燃性樹
脂組成物及び比較例８〜１１で得られる難燃性樹脂組成
物を用い、実施例２９と同様にして、試験片の作製及び
評価を行った。これらの結果を表３に示す。

【０１６１】尚、比較例８の樹脂組成物は、成型時に激
しいジューシングが認められた。また、比較例１１の樹
脂組成物は難燃性を全く示さなかった。

【０１６２】

【表３】

【０１６３】表３中、樹脂成分はＰＰＥ／ＰＳ樹脂＝２
０／８０の混合物である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ //(Ｃ０８Ｋ 13/02 Ｃ０８Ｋ 3:00 3:00 5:3492 5:3492 5:49 5:49 5:5399 5:5399） (72)発明者 亀島 隆 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 西岡 洋一 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 高瀬 裕行 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (56)参考文献 特開 昭52−153987（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−302124（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−71708（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−58461（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−100785（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−181429（ＪＰ，Ａ) 特開2000−160164（ＪＰ，Ａ) 特開2000−63564（ＪＰ，Ａ) 国際公開00／009518（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 71/12 C08L 25/04 - 25/14 C08L 85/00 - 85/04 C08K 3/00 - 3/40 C08K 5/00 - 5/59

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）ポリフェニレンエーテル樹脂１〜９
   ９重量部及びポリスチレン系樹脂９９〜１重量部からな
   る樹脂１００重量部に対して、（Ｂ）架橋ホスファゼン
   系難燃剤１〜３０重量部を配合した難燃性ポリフェニレ
   ンエーテル系樹脂組成物であって、前記架橋ホスファゼ
   ン系難燃剤が、一般式（１） 【化１】 〔式中ｍは３〜２５の整数を示す。Ｐｈはフェニル基を
   示す。〕で表される環状フェノキシホスファゼン及び一
   般式（２） 【化２】 〔式中Ｘ ¹ は基−Ｎ＝Ｐ（ＯＰｈ） ₃ 又は基−Ｎ＝Ｐ
   （Ｏ）ＯＰｈを示し、Ｙ ¹ は基−Ｐ（ＯＰｈ） ₄ 又は基−
   Ｐ（Ｏ）（ＯＰｈ） ₂ を示す。ｎは３〜１００００の整
   数を示す。Ｐｈは前記に同じ。〕で表される直鎖状フェ
   ノキシホスファゼンからなる群より選ばれる少なくとも
   １種のホスファゼン化合物が、ｏ−フェニレン基、ｍ−
   フェニレン基、ｐ−フェニレン基及び一般式（３） 【化３】 〔式中Ａは−Ｃ（ＣＨ ₃ ） ₂ −、−ＳＯ ₂ −、−Ｓ−又は
   −Ｏ−を示す。ａは０又は１を示す。〕で表されるビス
   フェニレン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の
   架橋基により架橋されてなる化合物であって、（ａ）該
   架橋基はホスファゼン化合物のフェニル基が脱離した２
   個の酸素原子間に介在し、（ｂ）フェニル基の含有割合
   が上記ホスファゼン化合物（１）及び／又は（２）中の
   全フェニル基の総数を基準に５０〜９９．９％であり、
   且つ（ｃ）分子内にフリーの水酸基を有していない架橋
   フェノキシホスファゼン化合物である難燃性ポリフェニ
   レンエーテル系樹脂組成物。
2. 【請求項２】（Ａ）成分の樹脂１００重量部に対して、
   （Ｃ）トリアジン骨格含有化合物を３０重量部以下配合
   した請求項１に記載の難燃性ポリフェニレンエーテル系
   樹脂組成物。
3. 【請求項３】（Ａ）成分の樹脂１００重量部に対して、
   （Ｄ）無機質充填剤を５０重量部以下配合した請求項１
   又は請求項２に記載の難燃性ポリフェニレンエーテル系
   樹脂組成物。
4. 【請求項４】（Ａ）成分の樹脂１００重量部に対して、
   （Ｅ）ハロゲンを含有しない有機リン化合物を３０重量
   部以下配合した請求項１、請求項２又は請求項３に記載
   の難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。
5. 【請求項５】 請求項１、請求項２、請求項３又は請求項
   ４に記載の難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
   を成形して得ることができる難燃性ポリフェニレンエー
   テル系樹脂成形体。