JP3501796B1

JP3501796B1 - 着磁した水素化反応用ニッケル流動床触媒及びこの触媒の使用方法

Info

Publication number: JP3501796B1
Application number: JP2003114704A
Authority: JP
Inventors: 直文永井
Original assignee: 川研ファインケミカル株式会社
Priority date: 2003-04-18
Filing date: 2003-04-18
Publication date: 2004-03-02
Anticipated expiration: 2023-04-18
Also published as: JP2004314010A

Abstract

【要約】【課題】触媒活性が実用上十分高く沈降性に優れ、分
離、回収、再利用が容易で、かつ繰返し利用しても沈降
性の低下が少ない着磁された磁性金属流動床触媒、及び
その使用方法の提供。【解決手段】Ｘ線回折法による結晶格子面（１１１）
における結晶子径が５．０〜１０．０ｎｍのニッケル粒
子及び／又は２．０〜１０．０ｎｍのコバルト粒子から
なりこれに、０．１×１０^-4〜３０Ｔの磁束密度を有す
る磁場の印加により着磁されている磁性金属流動床触媒
は、液相反応に使用したとき、十分な触媒効果を示し、
かつ反応後に容易に沈降回収でき、この回収された触媒
は反復使用できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、着磁した水素化反
応用ニッケル流動床触媒及びその使用方法に関するもの
である。更に詳しく述べるならば、本発明は実用上十分
高い触媒活性を有し、かつ液相水素化反応系における触
媒の沈降性が良好で分離や回収が容易な着磁した水素化
反応用ニッケル流動床触媒、及びその使用方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】久保松照夫、小松信一郎著、「ラネー触
媒」（共立出版,1971、非特許文献１）には、触媒作用
を有する金属（Ａ金属）例えばニッケル、コバルト、
銅、鉄、銀、パラジウムなどと、溶出される金属 (Ｂ金
属) 例えばアルミニウム、珪素、亜鉛、マグネシウムと
の合金（ラネー合金）から、侵食剤例えば水、アルカ
リ、酸など（通常、アルカリが使用される）を用いて、
前記溶出される金属（Ｂ金属）を溶出させる工程（以後
展開工程と記す）により得られ、スポンジ状形態を有す
る活性金属を主成分とする触媒すなわちスポンジ金属触
媒が詳しく記載されている。スポンジニッケル触媒とは
前記Ａ金属がニッケルである場合のスポンジ触媒を意味
する。

【０００３】一般的には、スポンジ金属触媒は、Ａ金属
およびＢ金属から少なくとも一種類を選択してなる合金
末（以下、母合金と称する）を、水酸化ナトリウム水溶
液に投入し、所定温度で所定時間、加熱攪拌してＢ金属
の少なくとも一部分を溶出させ水洗することにより製造
され、水中に保存される。スポンジ金属触媒製造時の水
洗は、展開工程で溶出した金属および過剰のアルカリを
除去するために３〜２０回程度行われるが、触媒粒子の
沈降性が悪いと、水洗排水中に触媒が混入することがあ
る。水洗排水中の触媒を除去するため、ろ過器、沈降槽
等の付帯設備を必要としたり、触媒の沈降に長時間を要
するため操作が煩雑になり、コストアップにも繋がると
いう問題点があった。

【０００４】液相反応に使用したニッケル流動床触媒
は、沈降分離、ろ過分離、遠心分離、磁気による捕捉あ
るいはこれらを組合わせるなどの方法により液相から分
離される。この場合上記方法の各々において、沈降分離
槽、ろ過機、遠心分離機、着磁装置（電磁石あるいは永
久磁石）などを必要とする。分離回収した触媒を再利用
する場合、ろ過分離法や遠心分離法では、触媒の回収・
再利用に多大な労力を必要とするので工業的に有利な方
法とは言えない。ニッケル流動床触媒の沈降速度が速い
場合には、沈降分離法を用いることが実用上好ましい。
しかし、従来のニッケル流動床触媒を、重力のみにより
沈降分離するためには長時間を要することがあり、触媒
の粒度が細かい場合及び液相が高粘度の場合には分離効
率が大幅に低下して、工業的には実施し難いことがあっ
た。ニッケル流動床触媒の沈降時間を短縮する方法とし
て、この触媒の粒度を粗くする方法が知られているが、
このようにすると触媒活性が低下し所要反応時間が長く
なるという問題点があった。

【０００５】また、ニッケル流動床触媒を分離回収、
再利用するために、重力とともに、これらの触媒に磁場
を印加する方法が知られている。特公昭３９−９８６５
号公報（特許文献１）には、反応液中の大部分の磁性金
属流動床触媒を重力により分離し、さらに磁場中を通過
させて残存する触媒を捕捉し、磁場の消去によって着磁
を解除して反応器に回収する接触連続反応方法が開示さ
れている。特公昭４５−２０８８４号公報（特許文献
２）には、反応器の下流に、冷却装置、及び壁面の少な
くとも一部に電磁石を作用させた分離器、並びにスラリ
ーポンプ又は気体インジェクターを設置して、液中に懸
濁したニッケル触媒を分離回収し使用する連続接触反応
装置が提案されている。また、特開昭４９−４７２４６
号公報（特許文献３）には、液体中のニッケル触媒に磁
性を与え、その残留磁性によりニッケル触媒粒子を互い
に凝集させて触媒の沈降速度を増加させることを特徴と
するニッケル触媒の分離方法が開示されている。

【０００６】磁性金属流動床触媒に磁場を印加して液相
から分離する方法は、磁場を印加するべき磁性金属触媒
及び、それが懸濁している液相の粘度によっては、実用
上満足できる程度に沈降時間を短縮できないことがあ
り、さらに、磁場を印加するために大掛かりな特別な装
置、設備を必要とするなどの問題点があった。さらに、
スポンジ金属触媒の種類によっては、保存中に固結して
反応槽などへの仕込が困難になることがあった。

【０００７】

【非特許文献１】久保松照夫、小松信一郎著「ラネー触
媒」、共立出版、1971、１〜１０３頁

【特許文献１】特公昭３９−９８６５号公報、１〜５頁

【特許文献２】特公昭４５−２０８８４号公報、１〜４
頁

【特許文献３】特開昭４９−４７２４６号公報、１〜４
頁

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、実用上十分
に高い触媒活性を有し、かつ、沈降性に優れ、特別な装
置がなくとも分離、回収、再利用が容易であって、さら
に、繰返し利用しても沈降性の低下が少なく、保存中に
固結することのない又は少ない、着磁した水素化反応用
ニッケル流動床触媒及びその使用方法を提供しようとす
るものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の着磁した水素化
反応用ニッケル流動床触媒は、Ｘ線回折法により測定さ
れた結晶格子面（１１１）におけるニッケル結晶子径が
６．０〜１０．０ｎｍのニッケル粒子からなり、かつ
０．１×１０^-4〜３０Ｔの磁束密度を有する磁場の印加
により着磁している水素化反応用ニッケル流動床触媒粒
子からなることを特徴とするものである。本発明の着磁
した水素化反応用ニッケル流動床触媒において、前記ニ
ッケル粒子がスポンジ状の形態を有することが好まし
い。本発明の着磁した水素化反応用ニッケル流動床触媒
の使用方法は、請求項１又は２の着磁した水素化反応用
ニッケル流動床触媒を流動床における液相水素化反応に
使用し、当該液相水素化反応の終了後に前記触媒を、液
相水素化反応系中を沈降させて分離することを含むもの
である。本発明の着磁した水素化反応用ニッケル磁性金
属流動床触媒の使用方法において、前記液相水素化反応
が、液相における糖の水素化反応であってもよい。

【００１０】

【発明の実施の形態】これまで、着磁した水素化反応用
ニッケル流動床触媒の存在下に液相水素化反応を実施し
た例、及び該触媒を沈降分離した後に繰返し液相水素化
反応に利用した例は知られていない。本発明者らは、鋭
意研究を重ねた結果、触媒作用を有するニッケルの結晶
子径が特定の範囲にある粉粒状ニッケルに、特定の範囲
にある磁束密度の磁場を印加することにより着磁させた
水素化反応用ニッケル流動床触媒を液相反応に使用した
場合、該触媒が沈降性に優れ、特別な装置がなくとも分
離、回収、再利用が容易で、かつ触媒活性も実用上十分
に高く、さらに繰返し利用しても沈降性の低下が少ない
ことを見出し、本発明を完成するに至った。

【００１１】本発明におけるニッケル流動床触媒と
は、形状が粉体、微粒子、フレークなどで、主とした触
媒作用がニッケルにより発現する固体触媒を意味する。
ニッケル流動床触媒としては、ニッケルをスポンジ状に
した無担体のスポンジニッケル触媒や触媒作用を有する
ニッケルを多孔質担体に担持したニッケル担持型流動床
触媒などが含まれる。スポンジニッケル触媒は以下に示
すスポンジ金属触媒の一種である。

【００１２】本発明の着磁した水素化反応用ニッケル
流動床触媒は、Ｘ線回折法における結晶格子面（１１
１）におけるニッケル結晶子径が特定の範囲にあるニッ
ケル粒子からなる水素化反応用流動床触媒用ニッケル粒
子に、磁束密度が特定の範囲にある磁場を印加して着磁
させることにより製造できる。本発明の、磁場を印加す
る流動床触媒用ニッケル粒子としては、前記記載のスポ
ンジニッケル触媒粒子、及びニッケル担持型流動床触媒
粒子などが挙げられる。

【００１３】本発明に用いられるニッケル粒子の結晶
格子面（１１１）におけるニッケル結晶子径は６．０〜
１０．０ｎｍである。結晶格子面（１１１）におけるニ
ッケル結晶子径が６．０ｎｍ未満の場合は、得られる触
媒粒子における沈降性向上効果が不十分であり、またそ
れが、１０．０ｎｍを超えると得られる触媒粒子の触媒
活性が著しく低くなる。

【００１４】また、結晶格子面（１１１）におけるニ
ッケル結晶子径が６．０〜１０．０ｎｍであるニッケル
流動床触媒粒子は、その結晶子径が６．０ｎｍ未満のニ
ッケル流動床触媒粒子を、水及び／又は有機溶媒中にお
いて、４０℃以上で加熱攪拌することによっても製造す
ることができる。上記加熱撹拌温度が４０℃未満では、
結晶子径の成長が極めて遅いので実用的ではない。

【００１５】本発明の、磁場を印加すべきスポンジニ
ッケル触媒粒子の製造方法について説明する。スポンジ
ニッケル触媒の原料となる母合金としては、ニッケル−
アルミニウム合金、及びニッケル−モリブデン−アルミ
ニウム合金などが例示できる。また、ニッケル流動床触
媒粒子には、触媒の活性、反応の選択性あるいは触媒の
耐久性を向上させることなどを目的とする副成分金属が
塩として添加されていてもよい。

【００１６】格子面（１１１）におけるニッケル結晶
子径が６．０〜１０．０ｎｍであるスポンジニッケル触
媒の製造方法の一例を下記に示す。触媒作用を有するＡ
金属としてニッケルを含有する母合金を、その質量の
０．５〜５質量倍の、濃度５〜５０重量％のアルカリ水
溶液中に添加して、９５〜１２０℃の温度で０．５〜５
時間展開後、水洗することによりスポンジニッケル触媒
粒子を製造できる。スポンジニッケル触媒を製造するた
めの展開温度および時間は、好ましくは、１００〜１２
０℃で０．５〜５時間である。展開温度が９５℃未満の
場合は、金属結晶子の成長が極めて遅いことがあり、ま
たそれが１２０℃を越えると、得られる触媒の活性が不
十分になることがある。

【００１７】また、スポンジニッケル触媒のニッケル
の結晶子径は、その母合金中のニッケルと他の金属との
比率によって影響され、同一の展開条件では、合金中の
ニッケル金属の比率が低い程、結晶子径が大きくなる。

【００１８】本発明の、磁場を印加すべきニッケル担
持型流動床触媒粒子の製造方法について説明する。ニッ
ケルを担持するための担体としては、珪藻土、軽石、酸
性白土、アルミナ、シリカなどを用いることができる。
結晶格子面（１１１）におけるニッケル結晶子径が６．
０〜１０．０ｎｍであるニッケル担持型流動床触媒粒子
は、例えば、下記の方法により製造することができる。
すなわち、硝酸ニッケル又は硫酸ニッケルなどのニッケ
ル塩の水溶液中に、珪藻土などの多孔質担体粒子を分散
させ、この分散液中に炭酸ナトリウムなどのアルカリ溶
液を滴下し、担体上に塩基性炭酸ニッケルを沈着させ
る。形成された沈殿粒子を７０〜８０℃で１〜２時間熟
成し、ろ過し、洗浄し、乾燥し、粉砕し、さらに空気中
で加熱して、多孔質担体上に酸化ニッケルを担持させ
る。これを水素などの還元剤で処理して、酸化ニッケル
を還元してニッケル担持型流動床触媒粒子を製造でき
る。さらに、急激な酸化による発火を避けるために、触
媒表面を硬化油で被覆したり、酸素を含む窒素または二
酸化炭素で処理して、ニッケル粒子の表面だけを酸化す
るなど安定化処理してもよい。

【００１９】印加する磁場の磁束密度は、０．１×１
０^-4〜３．０Ｔであり、０．１×１０^-1〜１．０Ｔであ
ることが好ましい。磁場の印加装置には電磁石あるいは
永久磁石が用いられる。好ましくは電磁石が用いられ
る。電磁石に流す電流は直流でもよく、又交流でもよ
い。磁場の印加方法にも特に限定はないが、結晶格子面
（１１１）におけるニッケル結晶子径が６．０〜１０．
０ｎｍのニッケル流動床触媒粒子を、水中あるいは液相
反応混合液中に分散させ、ポンプにより、配管内を通っ
て反応器中に移送される際に、予め配管に磁場形成して
おき、該配管を通過する触媒粒子に着磁させる方法を用
いることが好ましい。また、磁場を印加するニッケル流
動床触媒は、液相水素化反応に使用した後に回収された
触媒であってもよい。

【００２０】本発明の着磁した水素化反応用ニッケル
流動床触媒が使用される化学反応は液相水素化反応であ
り、例えば、オレフィンの水素化、芳香族化合物の水素
化、アルデヒド及びケトンなどのカルボニル化合物のア
ルコールへの水素化、オキシム、イミン、ニトリル及び
ニトロ化合物のアミンへの水素化、カルボニル化合物の
アミンへの還元アミノ化、ハロゲン化炭化水素の加水素
分解、ベンジル化合物の加水素分解、硫黄化合物の脱硫
などの液相水素化反応に用いられる。具体的に好適な反
応としては、グルコースなど糖の水素化；油脂の水素化
（硬化、部分硬化）；高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル
および高級アルコールの脱臭、脱色、安定性の向上など
を目的とする水素化反応などの液相反応が挙げられる。
また、本発明の着磁した水素化反応用ニッケル流動床触
媒はその使用後に急速に凝集沈降し、容易に分離回収す
ることができるので、触媒を分離除去すべき液相の粘度
が高い場合、及び触媒を繰返し利用する場合に、特に有
利に使用される。

【００２１】

【実施例】下記実施例により本発明の着磁した磁性金属
流動床触媒及びその使用方法を説明する。

【００２２】（１）結晶格子面（１１１）における結晶
子のサイズは、Ｘ線回折法により算出した。Ｘ線回折の
測定条件は、下記の通りであった。Ｘ線：ＣｕＫ_α1／４０KV／４０ｍＡカウンター：シンチレーションカウンターゴニオメーター：ＲＩＮＴ２０００縦型ゴニオメーターアタッチメント：標準試料ホルダーフィルター：無しカウンターモノクロメーター：全自動モノクロメーター発散スリット：１ｄｅｇ. 散乱スリット：１ｄｅｇ. 受光スリット：０．１５ｍｍ走査モード：連続スキャンスピード：２．０００°／ｍｉｎスキャンステップ：０．０１０°／ｍｉｎ走査軸：２θ／θ θオフセット：０．０００° 固定角：０．０００° 波長：１．５４０５６２０装置定数：Ｃａｕｃｈｙ関数近似結晶子の大きさ：Ｃａｕｃｈｙ関数近似Ｋ値リスト：０．９４ hkl半価幅面指数hkl ：（１１１）（２）液相反応に使用した後の磁性金属流動床触媒の沈
降性は、下記のようにして評価した。すなわち反応終了
後、反応液を200mlのメスシリンダーに移し、触媒が均
一に分散するように上下に振り、３０分静置後、上澄み
液を抜き取り、残った触媒の重量から沈降率（％）＝
（沈降回収された触媒の質量）／（反応に供した触媒の
全質量）×１００を算出した。沈降率が大きいほど、該
触媒の沈降性がよい。

【００２３】実施例１（触媒Ａの製造）ニッケル−アルミニウム（Ｎｉ：Ａｌ＝５０：５０）の
合金粉末３０ｇを、１５％水酸化ナトリウム水溶液３０
０ｇ中に仕込み、この混合液を１０５℃、２時間展開し
た。この展開液中に３００ｇの水を添加し、この混合物
を１０分間攪拌した後、５分静置して触媒粒子を沈降さ
せ、この混合液をデカンテーションにより上澄み液を除
去する操作を１サイクルとして、これを５回繰返した。
得られたスポンジニッケル触媒粒子を分析した結果、Ｎ
ｉ含有率９５．６％、Ａｌ含有率４．４％、平均粒子
径：３０μｍ、結晶子格子面（１１１）におけるニッケ
ル結晶子径：７．５ｎｍであった。得られたスポンジニ
ッケル触媒粒子に磁束密度０．１５Ｔの磁場を印加する
ことにより着磁したスポンジニッケル触媒Ａを製造し
た。

【００２４】比較例１（触媒Ｂの製造）展開温度を９０℃に変更したこと以外は実施例１と同様
に展開して、Ｎｉ含有率９４．２％、Ａｌ含有率５．８
％、平均粒子径：３１μｍ、結晶子格子面（１１１）に
おけるニッケル結晶子径：５．０ｎｍのスポンジニッケ
ル触媒を得た。得られた触媒に、実施例１と同様に磁場
を印加して、着磁したスポンジニッケル触媒Ｂを製造し
た。

【００２５】実施例２（触媒Ｃの製造）ニッケル−アルミニウム（Ｎｉ：Ａｌ＝４０：６０）の
合金粉末５０ｇを１５％水酸化ナトリウム水溶液５００
ｇ中に仕込みこの混合液を１０５℃、２時間展開した。
この展開液中に５００ｇの水を添加し、この混合物を１
０分間攪拌後、５分静置して触媒粒子を沈降させ、この
混合液をデカンテーションにより上澄み液を除去する操
作を１サイクルとして５回繰返した。得られたスポンジ
ニッケル触媒粒子を分析した結果、Ｎｉ含有率９５．０
％、Ａｌ含有率５％、平均粒子径：２０μｍ、結晶子格
子面（１１１）におけるニッケル結晶子径：７．７ｎｍ
であった。得られたスポンジニッケル触媒粒子に磁束密
度０．１５Ｔの磁場を印加することにより着磁したスポ
ンジニッケル触媒Ｃを製造した。

【００２６】

【００２７】比較例２（触媒Ｅの製造）展開温度を９０℃に変更したこと以外は実施例１と同様
に展開して、Ｎｉ含有率９４．２％、Ａｌ含有率５．８
％、平均粒子径：３１μｍ、結晶子格子面（１１１）に
おけるニッケル結晶子径：５．０ｎｍの、未着磁のスポ
ンジニッケル触媒Ｅを製造した。

【００２８】比較例３（触媒Ｆの製造）展開温度を６０℃に変更したこと以外は実施例２と同様
に展開して、Ｎｉ含有率９２．２％、Ａｌ含有率７．８
％、平均粒子径：２０μｍ、結晶子格子面（１１１）に
おけるニッケル結晶子径：４．９ｎｍのスポンジニッケ
ル触媒を得た。得られた触媒に、実施例２と同様に磁場
を印加して、着磁したスポンジニッケル触媒Ｆを製造し
た。

【００２９】

【００３０】実施例３（触媒Ａの使用）実施例に記載の着磁スポンジニッケル触媒Ａ２ｇと、
７０％グルコース溶液１５０ｇとを容量５００ｍｌの電
磁攪拌式オートクレーブに仕込み、オートクレーブ内の
空気を充分に水素により置換した後、反応系の水素圧を
１０ＭＰａまで加圧し、かつ反応温度を１５０℃まで加
熱してグルコースに水素添加を施した。反応温度が１５
０℃に到達後１０分で上記反応を停止させた。ベルトラ
ン法（「生化学辞典」、東京化学同人、１９８４年など
を参照）にて反応液中の残糖率を測定したところ、０．
２０％であった。触媒の沈降率は９５％であった。

【００３１】比較例４（触媒Ｂの使用）触媒として着磁スポンジニッケル触媒Ｂを用いたことを
除き、それ以外は実施例３と同様にしてグルコースの水
素添加反応を行い、反応液中の残糖率及び触媒Ｂの沈降
率を測定した。残糖率は０．１８％であり、触媒の沈降
率は７０％であった。

【００３２】実施例４（触媒Ｃの使用）触媒として着磁スポンジニッケル触媒Ｃを用いたことを
除き、それ以外は実施例３と同様にしてグルコースの水
素添加反応を行った。残糖率は０．１５％であり、触媒
の沈降率は９７％であった。

【００３３】比較例５触媒をスポンジニッケル触媒Ｅに変更したことを除き、
それ以外は実施例３と同様にしてグルコースの水素添加
反応を行った。残糖率は０．２０％であり、触媒の沈降
率は４８％であった。

【００３４】比較例６触媒をスポンジニッケル触媒Ｆに変更したことを除き、
それ以外は実施例３と同様にしてグルコースの水素添加
反応を行った。残糖率は０．１６％であり、触媒の沈降
率は６５％であった。

【００３５】実施例５（触媒Ａの使用）着磁したスポンジニッケル触媒Ａ１ｇと、１−デカン
ニトリル２００ｇと、１５％水酸化ナトリウム水溶液１
ｇとを３００ｍｌ電磁攪拌式オートクレーブに仕込み、
オートクレーブ内の空気を充分に水素により置換した
後、反応系の水素圧を２ＭＰａまで加圧し、温度１１０
℃まで加熱して水素添加反応を行った。水素吸収は２．
２時間で終了した。触媒の沈降率は９０％であった。

【００３６】比較例７触媒をスポンジニッケル触媒Ｅに変更したことを除き、
それ以外は実施例５と同様にして１−デカンニトリルの
水素添加反応を行った。水素吸収は２．１時間で終了し
た。触媒の沈降率は４１％であった。

【００３７】

【００３８】

【００３９】実施例６着磁スポンジニッケル触媒Ａを使用して、実施例４と同
様に、グルコースの水素添加反応を行った。反応終了
後、反応液をメスシリンダーに移し、実施例３と同様に
沈降率を測定した。上澄み液中の触媒も沈降させて回収
し、得られた触媒を使用して、繰返しグルコースの水素
添加反応を行った。この操作を５回繰返した。各回の反
応における触媒の沈降率は、初回から順に９５％、９３
％、９４％、９３％、９４％であった。

【００４０】実施例３、比較例４、実施例４、並びに
比較例５及び６におけるグルコースの水素化に用いられ
た触媒の性状並びに使用後の触媒粒子の沈降率及び残糖
率を表１に示す。

【００４１】

【表１】

【００４２】実施例５及び比較例７における１−デカ
ンニトリルの水素化に用いられた触媒の性状、並びに使
用後の触媒粒子の沈降率及び反応完了に要した時間を表
２に示す。

【００４３】

【表２】

【００４４】

【００４５】

【００４６】実施例６における、グルコースの水素化
反応に、触媒が５回繰り返し使用されたときの各回の反
応終了後の触媒沈降率を表３に示す。

【００４７】

【表３】

【００４８】

【発明の効果】本発明の着磁した水素化反応用ニッケル
流動床触媒は触媒活性も実用上十分高く、またそれを液
相反応に使用した場合、反応終了後の触媒の分離、回収
が容易で、かつこれを再利用しても触媒の分離性や活性
の低下が少ないので、液相反応用流動床触媒として、高
い生産効率で経済的に目的物質を製造することができる
という高い実用性を有している。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＣ０７Ｂ 31/00 Ｃ０７Ｂ 31/00 Ｃ０７Ｃ 1/32 Ｃ０７Ｃ 1/32 15/06 15/06 29/141 29/141 31/26 31/26 209/48 209/48 211/07 211/07 211/27 211/27 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B01J 21/00 - 38/74 C07B 31/00 - 61/00 C07B 61/02 - 63/04 C07C 1/00 - 409/44

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｘ線回折法により測定された結晶格子面
（１１１）におけるニッケル結晶子径が６．０〜１０．
０ｎｍのニッケル粒子からなり、かつ０．１×１０^-4〜
３０Ｔの磁束密度を有する磁場の印加により着磁してい
る磁性ニッケル粒子からなることを特徴とする着磁した
水素化反応用ニッケル流動床触媒。
【請求項２】前記ニッケル粒子がスポンジ状の形態を
有する、請求項１に記載の着磁した水素化反応用ニッケ
ル流動床触媒。
【請求項３】請求項１又は２に記載の着磁した水素化
反応用ニッケル流動床触媒を流動床における液相水素化
反応に使用し、当該液相水素化反応の終了後に前記触媒
を、液相水素化反応系中を沈降させて分離することを含
む着磁した水素化反応用ニッケル流動床触媒の使用方
法。
【請求項４】前記液相水素化反応が、液相における糖
の水素化反応である、請求項３に記載の着磁した水素化
反応用ニッケル流動床触媒の使用方法。