JP3494225B2 - トラン誘導体及びそれを含有する液晶組成物及びそれを用いた液晶表示素子 - Google Patents

トラン誘導体及びそれを含有する液晶組成物及びそれを用いた液晶表示素子

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JP3494225B2
JP3494225B2 JP12170193A JP12170193A JP3494225B2 JP 3494225 B2 JP3494225 B2 JP 3494225B2 JP 12170193 A JP12170193 A JP 12170193A JP 12170193 A JP12170193 A JP 12170193A JP 3494225 B2 JP3494225 B2 JP 3494225B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電気光学的表示材料とし
て用いられる新規なトラン誘導体及びそれを含有する液
晶組成物及びそれを用いた液晶表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は液晶の持つ電気光学効果
を利用したものであり、現在用いられている表示方式と
して、ねじれネマチック（以下ＴＮという）型あるいは
ねじれ角をさらに大きくしたスーパーツイステッドネマ
チック（以下ＳＴＮという）型がある。これらの表示方
式に要求される特性として以下のものが上げられてい
る。
【０００３】１，着色がなく、熱、光、電気的、化学的
に安定であること。
【０００４】２，実用温度範囲が広いこと。
【０００５】３，電気光学的な応答速度が速いこと。
【０００６】４，駆動電圧が低いこと。
【０００７】５，電圧−光透過率特性の立ち上がりが急
峻であり、またそのしきい値電圧（以下Ｖthという）の
温度依存性が小さいこと。
【０００８】６，視角範囲が広いこと。
【０００９】これらの特性のうち、１の特性を満足する
液晶は数多く知られているが２以下の特性を単一成分で
満足させる液晶化合物は知られていない。そこでこれら
の特性を得るために数種類のネマチック液晶化合物また
は非液晶化合物を混合した液晶組成物を用いている。こ
れらのうちで２の特性を満足させるためには、結晶相−
ネマチック液晶相転移点（以下Ｃ−Ｎ点という）が低
く、さらにネマチック液晶相−等方性液体転移点（以下
Ｎ−Ｉ点という）が高く結果的に広いネマチック液晶相
温度範囲を持つ液晶化合物が必要となる。また３の特性
を満足させるためには、応答速度（以下τという）と粘
性係数（以下ηという）とセルギャップ（以下ｄとい
う）との間には次の関係式があり、応答速度を速くする
ためにはｄを小 τ∝ηｄ2 さくする必要がある。ところで実用的に使用されるセル
では、セル外観を損なう原因となるセル表面での干渉縞
の発生を防止するために、Δｎ・ｄ（Δｎは屈折率異方
性、以下同じ）の値が一定値に設定されているから、結
局Δｎの大きな材料を使用することにより、ｄの値を小
さくでき、結果として応答速度を速めることができる。
この２と３の特性を同時に満足させるため、広いネマチ
ック液晶範囲を持ちさらにΔｎの大きい液晶材料として
すでにAdv. in Liquid Crystal Research and Applicat
ion(edited by L.Bata).Oxford:Pergamon Press;Budape
st:Akademiai Kiado 1980,S.1029，特開平1-305040号公
報等に記載されているトラン誘導体が知られている。
【００１０】
【表１】
【００１１】これらのなかで、ア，イの化合物について
は広いネマチック範囲を示しスメクチック層が現れな
い、また、ウ，エ，オの化合物についてはΔｎが極めて
大きく、粘度が三環構造の化合物としては低く、高いＮ
−Ｉ点を有し、液晶成分として望ましい特性をバランス
よく有しているとそれぞれの文献に記載されている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらこれらの
化合物のうちア、イの化合物は骨格中側鎖に塩素基また
はニトリル基が存在するため、Δｎが小さくなることが
予想される。またウ，エ，オの化合物はＣ−Ｎ点が１５
０℃以上であり、他の液晶との相溶性に問題があると思
われる。そこで本発明はこのような実状における要請に
応じるものであり、その目的は数種類のネマチック液晶
化合物または非液晶化合物との相溶性が良く、混合する
ことにより実用温度範囲が広く、Δｎの値の大きな液晶
組成物を得ることができる新規な液晶化合物を提供する
ことである。また、それらを用いることにより、実用温
度範囲が広く、応答速度の速い液晶表示素子を提供する
ことである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式
【００１４】
【化１６】
【００１５】（上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖ア
ルキル基を示し、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，Ｘ4はともにフッ素原
子または水素原子を表すが、少なくとも１つのＸはフッ
素原子を表す。また、Ｙはニトリル基または炭素数が１
〜１０の直鎖アルキル基を表す）で表されることを特徴
とするトラン誘導体及びそれを含有する液晶組成物及び
それを用いた液晶表示素子である。本発明化合物（１）
は次の製造方法により得ることができる。
【００１６】
【表２】
【００１７】（ここで、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖ア
ルキル基を示し、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，Ｘ4はともにフッ素原
子または水素原子を表すが、少なくとも１つのＸはフッ
素原子を表す。また、Ｙはニトリル基または炭素数が１
〜１０の直鎖アルキル基を表す）工程１）化合物（２）
をトリエチルアミン中でビス（トリフェニルフォスフィ
ン）パラジウム（II）クロライド、トリフェニルフォス
フィン、ヨウ化銅（Ｉ）の存在下３−メチル−１−ブチ
ン−３−オールと反応させて化合物（３）を得る。
【００１８】工程２）化合物（３）をトルエン中で水素
化ナトリウムで反応させ化合物（４）を得る。
【００１９】工程３）化合物（５）を酢酸中でピリジン
の存在下、一塩化よう素と反応させ化合物（６）を得
る。
【００２０】工程４）化合物（６）を酢酸中で亜硝酸ナ
トリウムと硫酸で反応させてジアゾニウム塩にした後、
臭化銅と臭化水素酸で反応させ化合物（７）を得る。
【００２１】ただし、化合物（６）が市販されていると
きは工程３は必要なく、化合物（７）が市販されている
ときは工程３及び４は必要ない。
【００２２】工程５）化合物（４）をジエチルアミン中
でビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（II）
クロライド、ヨウ化銅（Ｉ）の存在下、化合物（７）と
反応させて化合物（８）を得る。
【００２３】工程６）化合物（９）をトリエチルアミン
中でビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（I
I）クロライド、トリフェニルフォスフィン、ヨウ化銅
（Ｉ）の存在下３−メチル−１−ブチン−３−オールと
反応させて化合物（１０）を得る。
【００２４】工程７）化合物（１０）をトルエン中で水
素化ナトリウムで反応させ化合物（１１）を得る。
【００２５】工程８）化合物（８）をトリエチルアミン
中でビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（I
I）クロライド、トリフェニルフォスフィン、ヨウ化銅
（Ｉ）の存在下、化合物（１１）と反応させて化合物
（１）を得る。
【００２６】本発明のトラン誘導体を混合する場合にベ
ースとなる液晶組成物の成分としては次に示した化合物
があげられるが、これに限定されることなく、従来のす
べての液晶化合物またはその類似化合物と良好な相溶性
を有し、得られた液晶組成物は実用温度範囲が広く、Δ
ｎが大きいという特徴を有する。
【００２７】
【表３】
【００２８】（ここでＲおよびＲ’はアルキル基、アル
コキシ基、アルコキシメチレン基、ニトリル基、または
フルオロ基を表し、フェニレン基は２または３位にハロ
ゲン置換基を有してもよく、シクロヘキサン環はトラン
ス配置である。）また、この液晶組成物に本発明の化合
物を混合できる割合は１〜５０重量パーセントである
が、低温領域での結晶析出を考慮した場合には３〜３０
重量パーセントの範囲が特に好ましい。
【００２９】本発明の化合物を少なくとも一種類含有す
る液晶組成物を使用した液晶表示装置は時分割駆動方式
を用いた液晶表示装置に好適であり、特にＴＮ型及びＳ
ＴＮ型の液晶表示素子において高時分割駆動が可能であ
る。
【００３０】
【実施例】以下、実施例により本発明ををさらに詳しく
説明する。
【００３１】（実施例１）〔化合物（１−ａ）の合成〕 １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン
の製造 工程１）窒素雰囲気中１−ブロモ−４−プロピルベンゼ
ン60ｇ、３−メチル−１−ブチン−３−オール38ｇ、ト
リフェニルフォスフィン1.3ｇ、ビス（トリフェニルフ
ォスフィン）パラジウム（II）クロライド0.7ｇをトリ
エチルアミン260mlへ溶解し、その中へヨウ化銅（Ｉ）
0.2ｇを加えた。室温で１時間攪拌後、90℃で５時間攪
拌した。析出した結晶を濾過後トリエチルアミンを留去
し、クロロホルムで抽出した。10%塩酸２回、水で２回
洗浄後クロロホルムを留去した。残さをシリカゲル−ク
ロロホルムカラムクロマトグラフィーで精製し、３−メ
チル−１−（４’−プロピルフェニル）−１−ブチン−
３−オール37ｇを得た。
【００３２】工程２）窒素雰囲気中３−メチル−１−
（４’−プロピルフェニル）−１−ブチン−３−オール
33ｇをトルエン320mlに溶かし、その中へ水素化ナトリ
ウム(60%in paraffin liquid)2ｇを加えた。60℃で６時
間攪拌した。反応液を水300ml中へ注ぎクロロホルムで
抽出し、水洗を３回行った。トルエンとクロロホルムを
留去後減圧蒸留（b.p.60〜63℃／4mmHg）を行い４−プ
ロピルフェニルアセチレン16ｇを得た。
【００３３】工程３，４）４−ブロモ−２−フルオロ−
１−ヨードベンゼンが市販されているので、この工程は
必要なし。
【００３４】工程５）窒素雰囲気中４−ブロモ−２−フ
ルオロ−１−ヨードベンゼン33ｇをジエチルアミン37ml
に溶解し、その中へ、ビス（トリフェニルフォスフィ
ン）パラジウム（II）クロライド0.1ｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）0.1ｇを加えて攪拌した。フラスコを５℃以下に
冷却し、４−プロピルフェニルアセチレン16ｇを滴下し
た。室温で５時間攪拌後、反応液を濃塩酸23mlと氷150
ｇの混合中へ注いだ。クロロホルムで抽出し水で２回洗
浄後クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留（b.p.19
0〜200℃／4mmHg）を行った後、アセトンとメタノール
の混合溶媒中より再結晶を行い、４−ブロモ−２−フル
オロ−４’−プロピルトラン23ｇを得た。
【００３５】工程６）窒素雰囲気中１−ブロモ−４−ペ
ンチルベンゼン102ｇ、３−メチル−１−ブチン−３−
オール38ｇ、トリフェニルフォスフィン2ｇ、ビス（ト
リフェニルフォスフィン）パラジウム（II）クロライド
1ｇをトリエチルアミン390mlへ溶解し、その中へヨウ化
銅（Ｉ）0.3ｇを加えた。室温で１時間攪拌後、90℃で
５時間攪拌した。析出した結晶を濾過後トリエチルアミ
ンを留去し、クロロホルムで抽出した。10%塩酸２回、
水で２回洗浄後クロロホルムを留去した。残さをシリカ
ゲル−クロロホルムカラムクロマトグラフィーで精製
し、３−メチル−１−（４’−ペンチルフェニル）−１
−ブチン−３−オール82ｇを得た。
【００３６】工程７）窒素雰囲気中３−メチル−１−
（４’−ペンチルフェニル）−１−ブチン−３−オール
82ｇをトルエン900mlに溶かし、その中へ水素化ナトリ
ウム(60%in paraffin liquid)5.6ｇを加えた。60℃で６
時間攪拌した。反応液を水５００ｍｌ中へ注ぎクロロホ
ルムで抽出し、水洗を３回行った。トルエンとクロロホ
ルムを留去後減圧蒸留（ｂ．ｐ．８５〜90℃／3mmHg）
を行い４−ペンチルフェニルアセチレン48ｇを得た。
【００３７】工程８）窒素雰囲気中４−ブロモ−２−フ
ルオロ−４’−プロピルトラン3.8ｇ、４−ペンチルフ
ェニルアセチレン2.1ｇ、トリフェニルフォスフィン0.0
5ｇ、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（I
I）クロライド0.02ｇをトリエチルアミン27mlへ溶解
し、その中へヨウ化銅（Ｉ）0.01ｇを加えた。その後、
還流を５時間行った。反応液を水300ml中へ注ぎクロロ
ホルムで抽出し水で２回洗浄後、クロロホルムを留去し
た。残さをシリカゲル−クロロホルムカラムクロマトグ
ラフィーで精製しアセトン中より再結晶を行い、１−
（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”−ペ
ンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン1.4
ｇを得た。この化合物のＣ−Ｎ点は81.3℃であり、Ｎ−
Ｉ点は202.7℃であった。
【００３８】同様の方法で以下の化合物を合成した。
【００３９】１，４−ビス（４’−メチルフェニルエチ
ニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １，４−ビス（４’−エチルフェニルエチニル）−２−
フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 150.3℃ Ｎ−Ｉ点 214.1℃ １，４−ビス（４’−プロピルフェニルエチニル）−２
−フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 147.0℃ Ｎ−Ｉ点 220.0℃ １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 112.4℃ Ｎ−Ｉ点 203.7℃ １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 112.6℃ Ｎ−Ｉ点 201.2℃ １，４−ビス（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−
フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 91.5℃ Ｎ−Ｉ点 185.6℃ １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 78.5℃ Ｎ−Ｉ点 186.9℃ １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 88.3℃ Ｎ−Ｉ点 203.0℃ １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 82.4℃ Ｎ−Ｉ点 187.7℃ １，４−ビス（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２
−フルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 89.2℃ Ｎ−Ｉ点 189.0℃ １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １，４−ビス（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２
−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １，４−ビス（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２
−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １，４−ビス（４’−オクチルフェニルエチニル）−２
−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １，４−ビス（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−
フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
メチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
エチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １，４−ビス（４’−デシルフェニルエチニル）−２−
フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン （実施例２）〔化合物（１−ｂ）の合成〕 １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼンの
製造 工程１，２）実施例１の工程６，７と同様にして４−ペ
ンチルフェニルアセチレンを合成した。
【００４０】工程３，４）４−ブロモ−２−フルオロ−
１−ヨードベンゼンが市販されているので、この工程は
必要なし。
【００４１】工程５）窒素雰囲気中４−ブロモ−２−フ
ルオロ−１−ヨードベンゼン57ｇをジエチルアミン66ml
に溶解し、その中へ、ビス（トリフェニルフォスフィ
ン）パラジウム（II）クロライド0.5ｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）0.5ｇを加えて攪拌した。フラスコを５℃以下に
冷却し、４−ペンチルフェニルアセチレン36ｇを滴下し
た。室温で５時間攪拌後、反応液を濃塩酸40mlと氷30ｇ
の混合中へ注いだ。クロロホルムで抽出し水で２回洗浄
後クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留（b.p.205
〜210℃／3mmHg）を行った後、アセトンとメタノールの
混合溶媒中より再結晶を行い、４−ブロモ−２−フルオ
ロ−４’−ペンチルトラン27ｇを得た。
【００４２】工程６）窒素雰囲気中４−ブロモベンゾニ
トリル30ｇ、３−メチル−１−ブチン−３−オール13.4
ｇ、トリフェニルフォスフィン0.7ｇ、ビス（トリフェ
ニルフォスフィン）パラジウム（II）クロライド0.3ｇ
をトリエチルアミン140mlへ溶解し、その中へヨウ化銅
（Ｉ）0.1ｇを加えた。室温で１時間攪拌後、90℃で５
時間攪拌した。析出した結晶を濾過後トリエチルアミン
を留去し、クロロホルムで抽出した。10%塩酸２回、水
で２回洗浄後クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留
（140〜160℃／5mmHg）し、３−メチル−１−（４’−
シアノフェニル）−１−ブチン−３−オール23.5ｇを得
た。
【００４３】工程７）窒素雰囲気中３−メチル−１−
（４’−シアノフェニル）−１−ブチン−３−オール2
3.5ｇをトルエン250mlに溶かし、その中へ水素化ナトリ
ウム1.6ｇを加えた。80〜90℃で４時間攪拌した。反応
液を水300ml中へ注ぎクロロホルムで抽出し、水洗を３
回行った。トルエンとクロロホルムを留去後メタノール
中より再結晶し４−シアノフェニルアセチレン9.9ｇを
得た。
【００４４】工程８）窒素雰囲気中４−ブロモ−２−フ
ルオロ−４’−ペンチルトラン5.2ｇ、４−シアノフェ
ニルアセチレン1.9ｇ、トリフェニルフォスフィン0.06
ｇ、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（I
I）クロライド0.04ｇをトリエチルアミン33mlへ溶解
し、その中へヨウ化銅（Ｉ）0.01ｇを加えた。その後、
還流を５時間行った。反応液を水300ml中へ注ぎクロロ
ホルムで抽出し水で２回洗浄後、クロロホルムを留去し
た。残さをシリカゲル−クロロホルムカラムクロマトグ
ラフィーで精製しアセトンとクロロホルムの混合溶媒中
より再結晶を行い、１−（４’−ペンチルフェニルエチ
ニル）−４−（４”−シアノフェニルエチニル）−２−
フルオロベンゼン2.7ｇを得た。この化合物のＣ−Ｎ点
は150.5℃であり、Ｎ−Ｉ点は256.5℃であった。
【００４５】同様の方法で以下の化合物を合成した。
【００４６】１−（４’−メチルフェニルエチニル）−
４−（４”−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロ
ベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−プロピルメチルフェニルエチニル）−４−
（４”−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベン
ゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １−（４’−デシルフェニルエチニル）−４−（４”−
シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン （実施例３）〔化合物（１−ｃ）の合成〕 ４−（４’−プロピルフェニルエチニル）−１−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼンの
製造 工程１，２）実施例１の工程６，７と同様にして４−ペ
ンチルフェニルアセチレンを合成した。
【００４７】工程３）２−フルオロ−４−ヨードアニリ
ンが市販されているためこの工程は必要なし。
【００４８】工程４）亜硝酸ナトリウム51.2ｇを硫酸39
0ml中へ溶解し、その後10℃以下で酢酸454mlを加えた。
溶液を20〜25℃に保ち１時間かけて２−フルオロ−４−
ヨードアニリン124ｇを加え、２時間攪拌した。その溶
液を48%臭化水素酸390mlへ臭化銅130ｇを溶かした液中
に滴下して１晩攪拌した。その後水1000mlを加えクロロ
ホルムで抽出し、水洗を３回行った。クロロホルムを留
去し、減圧蒸留（b.p.120〜125℃／13mmHg）を行いメタ
ノール中より再結晶し、１−ブロモ−２−フルオロ−４
−ヨードベンゼン114ｇを得た。
【００４９】工程５）窒素雰囲気中１−ブロモ−２−フ
ルオロ−４−ヨードベンゼン15ｇをジエチルアミン17ml
に溶解し、その中へ、ビス（トリフェニルフォスフィ
ン）パラジウム（II）クロライド0.12ｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）0.12ｇを加えて攪拌した。フラスコを５℃以下に
冷却し、４−プロピルフェニルアセチレン8ｇを滴下し
た。室温で５時間攪拌後、反応液を濃塩酸10mlと氷50ｇ
の混合中へ注いだ。クロロホルムで抽出し水で２回洗浄
後クロロホルムを留去した。残さを、アセトンとメタノ
ールの混合溶媒中より再結晶を行い、４−ブロモ−３−
フルオロ−４’−プロピルルトラン11ｇを得た。
【００５０】工程６，７）実施例２の工程６，７と同様
にして４−シアノフェニルアセチレンを合成した。
【００５１】工程８）窒素雰囲気中４−ブロモ−３−フ
ルオロ−４’−プロピルトラン4.8ｇ、４−シアノフェ
ニルアセチレン1.9ｇ、トリフェニルフォスフィン0.06
ｇ、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム（I
I）クロライド0.04ｇをトリエチルアミン33mlへ溶解
し、その中へヨウ化銅（Ｉ）0.01ｇを加えた。その後、
還流を５時間行った。反応液を水300ml中へ注ぎクロロ
ホルムで抽出し水で２回洗浄後、クロロホルムを留去し
た。残さをシリカゲル−クロロホルムカラムクロマトグ
ラフィーで精製しアセトンとクロロホルムの混合溶媒中
より再結晶を行い、４−（４’−プロピルフェニルエチ
ニル）−１−（４”−シアノフェニルエチニル）−２−
フルオロベンゼン3.4ｇを得た。この化合物のＣ−Ｎ点
は163.6℃であり、Ｎ−Ｉ点は275.3℃であった。
【００５２】同様の方法で以下の化合物を合成した。
【００５３】４−（４’−メチルフェニルエチニル）−
１−（４”−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロ
ベンゼン ４−（４’−エチルフェニルエチニル）−１−（４”−
シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン ４−（４’−ブチルフェニルエチニル）−１−（４”−
シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン ４−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−１−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン ４−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−１−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン ４−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−１−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン ４−（４’−オクチルフェニルエチニル）−１−（４”
−シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン ４−（４’−ノニルフェニルエチニル）−１−（４”−
シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン ４−（４’−デシルフェニルエチニル）−１−（４”−
シアノフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン （実施例４）〔化合物（１−ｄ）の合成〕 ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼンの製造 工程１，２）実施例１の工程１，２と同様にして４−プ
ロピルフェニルアセチレンを合成した。
【００５４】工程３）２，６−ジフルオロアニリン38ｇ
を酢酸120mlに溶解し、ピリジン25ｇを加え攪拌した。
その中へ一塩化よう素50ｇを酢酸30mlに溶解した混合液
を滴下した。室温で１時間攪拌後、70〜80℃で２時間攪
拌した。その後反応液を水中に注ぎ析出した結晶を濾過
し、水洗を行った。結晶をクロロホルムに溶解し、水洗
２回、10％水酸化カリウム水溶液２回、水洗２回を行っ
た後、クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留（b.p.
120〜130℃／20mmHg）し、メタノール中より再結晶を行
い、４−ヨード−２，６−ジフルオロアニリン44ｇを得
た。
【００５５】工程４）亜硝酸ナトリウム17ｇを硫酸130m
l中へ溶解し、その後10℃以下で酢酸150mlを加えた。溶
液を20〜25℃に保ち１時間かけて４−ヨード−２，６−
ジフルオロアニリン44ｇを加え、２時間攪拌した。その
溶液を48%臭化水素酸125mlへ臭化銅43ｇを溶かした液中
に滴下して１晩攪拌した。その後水300mlを加えクロロ
ホルムで抽出し、水洗を３回行った。クロロホルムを留
去し、メタノール中より再結晶し、２−ブロモ−１，３
−ジフルオロ−４−ヨードベンゼン38ｇを得た。
【００５６】工程５）窒素雰囲気中２−ブロモ−１，３
−ジフルオロ−４−ヨードベンゼン20ｇをジエチルアミ
ン30mlに溶解し、その中へ、ビス（トリフェニルフォス
フィン）パラジウム（II）クロライド0.06ｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）0.06ｇを加えて攪拌した。フラスコを５℃以下に
冷却し、４−プロピルフェニルアセチレン10ｇを滴下し
た。室温で５時間攪拌後、反応液を濃塩酸15mlと氷30ｇ
の混合中へ注いだ。クロロホルムで抽出し水で２回洗浄
後クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留（b.p.185
〜192℃／4mmHg）を行った後、アセトンとメタノールの
混合溶媒中より再結晶を行い、４−ブロモ−３，５−ジ
フルオロ−４’−プロピルトラン12ｇを得た。
【００５７】工程６）窒素雰囲気中１−ブロモ−４−ブ
チルベンゼン235ｇ、３−メチル−１−ブチン−３−オ
ール139ｇ、トリフェニルフォスフィン4.8ｇ、ビス（ト
リフェニルフォスフィン）パラジウム（II）クロライド
2.8ｇをトリエチルアミン1,000mlへ溶解し、その中へヨ
ウ化銅（Ｉ）0.8ｇを加えた。室温で１時間攪拌後、90
℃で５時間攪拌した。析出した結晶を濾過後トリエチル
アミンを留去し、クロロホルムで抽出した。10%塩酸２
回、水で２回洗浄後クロロホルムを留去した。残さをシ
リカゲル−クロロホルムカラムクロマトグラフィーで精
製し、３−メチル−１−（４’−ブチルフェニル）−１
−ブチン−３−オール100ｇを得た。
【００５８】工程７）窒素雰囲気中３−メチル−１−
（４’−ブチルフェニル）−１−ブチン−３−オール10
0ｇをトルエン900mlに溶かし、その中へ水素化ナトリウ
ム(60% in paraffin liquid)5.7ｇを加えた。60℃で６
時間攪拌した。反応液を水500ml中へ注ぎクロロホルム
で抽出し、水洗を３回行った。トルエンとクロロホルム
を留去後減圧蒸留（b.p.62〜65℃／3mmHg）を行い４−
ブチルフェニルアセチレン63ｇを得た。
【００５９】工程８）窒素雰囲気中４−ブロモ−３，５
−ジフルオロ−４’−プロピルトラン5.0ｇ、４−ブチ
ルフェニルアセチレン2.4ｇ、トリフェニルフォスフィ
ン0.06ｇ、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウ
ム（II）クロライド0.04ｇをトリエチルアミン33mlへ溶
解し、その中へヨウ化銅（Ｉ）0.01ｇを加えた。その
後、還流を５時間行った。反応液を濃塩酸16mlと氷30ｇ
の混合中へ注ぎクロロホルムで抽出し水で２回洗浄後、
クロロホルムを留去した。残さをシリカゲル−クロロホ
ルムカラムクロマトグラフィーで精製しアセトン中より
再結晶を行い、５−（４’−プロピルフェニルエチニ
ル）−２−（４”−ブチルフェニルエチニル）−１，３
−ジフルオロベンゼン3.5ｇを得た。この化合物のＣ−
Ｎ点は120.4℃であり、Ｎ−Ｉ点は181.9℃であった。
【００６０】同様の方法で以下の化合物を合成した。
【００６１】５−（４’−メチルフェニルエチニル）−
２−（４”−メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフ
ルオロベンゼン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−メチルフェニルエチニル）−２−（４”−
デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン Ｃ−Ｎ点 155.9℃ Ｎ−Ｉ点 196.9℃ ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン Ｃ−Ｎ点 79.6℃ Ｎ−Ｉ点 182.7℃ ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン Ｃ−Ｎ点 115.5℃ Ｎ−Ｉ点 180.6℃ ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン Ｃ−Ｎ点 96.2℃ Ｎ−Ｉ点 167.7℃ ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン Ｃ−Ｎ点 78.3℃ Ｎ−Ｉ点 168.7℃ ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベ
ンゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
メチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
エチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
デシルフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン （実施例５）〔化合物（１−ｅ）の合成〕 ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼンの製造 工程１，２）実施例１の工程１，２と同様にして４−プ
ロピルフェニルアセチレンを合成した。
【００６２】工程３，４）実施例４の工程３，４と同様
にして２−ブロモ−１，３−ジフルオロ−４−ヨードベ
ンゼンを合成した。
【００６３】工程５）窒素雰囲気中２−ブロモ−１，３
−ジフルオロ−４−ヨードベンゼン20ｇをジエチルアミ
ン30mlに溶解し、その中へ、ビス（トリフェニルフォス
フィン）パラジウム（II）クロライド0.06ｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）0.06ｇを加えて攪拌した。フラスコを５℃以下に
冷却し、４−プロピルフェニルアセチレン10ｇを滴下し
た。室温で５時間攪拌後、反応液を濃塩酸15mlと氷30ｇ
の混合中へ注いだ。クロロホルムで抽出し水で２回洗浄
後クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留(b.p185〜1
92℃／4mmHg)を行った後、アセトンとメタノールの混合
溶媒中より再結晶を行い、４−ブロモ−３，５−ジフル
オロ−４’−プロピルトラン12ｇを得た。
【００６４】工程６，７）実施例２の工程６，７と同様
にして４−シアノフェニルアセチレンを合成した。
【００６５】工程８）窒素雰囲気中４−ブロモ−３，５
−ジフルオロ−４’−プロピルトラン5.0ｇ、４−シア
ノフェニルアセチレン1.9ｇ、トリフェニルフォスフィ
ン0.06ｇ、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウ
ム（II）クロライド0.04ｇをトリエチルアミン33mlへ溶
解し、その中へヨウ化銅（Ｉ）0.01ｇを加えた。その
後、還流を５時間行った。反応液を水300ml中へ注ぎク
ロロホルムで抽出し水で２回洗浄後、クロロホルムを留
去した。残さをシリカゲル−クロロホルムカラムクロマ
トグラフィーで精製しアセトンとクロロホルムの混合溶
媒中より再結晶を行い、５−（４’−プロピルフェニル
エチニル）−２−（４”−シアノフェニルエチニル）−
１，３−ジフルオロベンゼン0.7ｇを得た。この化合物
のＣ−Ｎ点は147.5℃であり、Ｎ−Ｉ点は263.9℃であっ
た。
【００６６】同様の方法で以下の化合物を合成した。
【００６７】５−（４’−メチルフェニルエチニル）−
２−（４”−シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフ
ルオロベンゼン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
シアノフェニルエチニル）−１，３−ジフルオロベンゼ
ン （実施例６）〔化合物（１−ｆ）の合成〕 １，４−ビス（４’−プロピルフェニルエチニル）−
２，５−ジフルオロベンゼンの製造 工程１，２）実施例１の工程１，２と同様にして４−プ
ロピルフェニルアセチレンを合成した。
【００６８】工程３）２，５−ジフルオロアニリン38ｇ
を酢酸120mlに溶解し、ピリジン25ｇを加え攪拌した。
その中へ一塩化よう素50ｇを酢酸30mlに溶解した混合液
を滴下した。室温で１時間攪拌後、70〜80℃で２時間攪
拌した。その後反応液を水中に注ぎ析出した結晶を濾過
し、水洗を行った。結晶をクロロホルムに溶解し、水洗
２回、10％水酸化カリウム水溶液２回、水洗２回を行っ
た後、クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留（b.p.
130〜140℃／20mmHg）し、メタノール中より再結晶を行
い、４−ヨード−２，５−ジフルオロアニリン50ｇを得
た。
【００６９】工程４）亜硝酸ナトリウム19ｇを硫酸148m
l中へ溶解し、その後10℃以下で酢酸170mlを加えた。溶
液を20〜25℃に保ち１時間かけて４−ヨード−２，５−
ジフルオロアニリン50ｇを加え、２時間攪拌した。その
溶液を48%臭化水素酸142mlへ臭化銅49ｇを溶かした液中
に滴下して１晩攪拌した。その後水300mlを加えクロロ
ホルムで抽出し、水洗を３回行った。クロロホルムを留
去し、メタノール中より再結晶し、２−ブロモ−１，４
−ジフルオロ−４−ヨードベンゼン45ｇを得た。
【００７０】工程５）窒素雰囲気中２−ブロモ−１，４
−ジフルオロ−４−ヨードベンゼン19ｇをジエチルアミ
ン28mlに溶解し、その中へ、ビス（トリフェニルフォス
フィン）パラジウム（II）クロライド0.06ｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）0.06ｇを加えて攪拌した。フラスコを５℃以下に
冷却し、４−プロピルフェニルアセチレン10ｇを滴下し
た。室温で５時間攪拌後、反応液を濃塩酸15mlと氷30ｇ
の混合中へ注いだ。クロロホルムで抽出し水で２回洗浄
後クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留(b.p170〜1
80℃／4mmHg)を行い、４−ブロモ−２，５−ジフルオロ
−４’−プロピルトラン16ｇを得た。
【００７１】工程６，７）実施例１の工程１，２と同様
にして４−プロピルフェニルアセチレンを合成した。
【００７２】工程８）窒素雰囲気中４−ブロモ−２，５
−ジフルオロ−４’−プロピルトラン5.0ｇ、４−プロ
ピルフェニルアセチレン2.1ｇ、トリフェニルフォスフ
ィン0.06ｇ、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジ
ウム（II）クロライド0.04ｇをトリエチルアミン33mlへ
溶解し、その中へヨウ化銅（Ｉ）0.01ｇを加えた。その
後、還流を５時間行った。反応液を濃塩酸16mlと氷30ｇ
の混合中へ注ぎクロロホルムで抽出し水で２回洗浄後、
クロロホルムを留去した。残さをシリカゲル−クロロホ
ルムカラムクロマトグラフィーで精製しアセトン中より
再結晶を行い、１，４−ビス（４’−プロピルフェニル
エチニル）−２，５−ジフルオロベンゼン2.6ｇを得
た。この化合物のＣ−Ｎ点は153.4℃であり、Ｎ−Ｉ点
は197.7℃であった。
【００７３】同様の方法で以下の化合物を合成した。
【００７４】１，４−ビス（４’−メチルフェニルエチ
ニル）−２，５−ジフルオロベンゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
エチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １−（４’−メチルフェニルエチニル）−４−（４”−
デシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １，４−ビス（４’−エチルフェニルエチニル）−２，
５−ジフルオロベンゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
プロピルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ブチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １−（４’−エチルフェニルエチニル）−４−（４”−
デシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ブチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン Ｃ−Ｎ点 117.7℃ Ｎ−Ｉ点 183.8℃ １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ペンチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−プロピルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １，４−ビス（４’−ブチルフェニルエチニル）−２，
５−ジフルオロベンゼン Ｃ−Ｎ点 101.4℃ Ｎ−Ｉ点 169.9℃ １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ペンチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘキシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ヘプチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
オクチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
ノニルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １−（４’−ブチルフェニルエチニル）−４−（４”−
デシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベンゼ
ン １，４−ビス（４’−ペンチルフェニルエチニル）−
２，５−ジフルオロベンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘキシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １，４−ビス（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−
２，５−ジフルオロベンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−ヘプチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １，４−ビス（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−
２，５−ジフルオロベンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−オクチルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベ
ンゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １，４−ビス（４’−オクチルフェニルエチニル）−
２，５−ジフルオロベンゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−ノニルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １−（４’−オクチルフェニルエチニル）−４−（４”
−デシルフェニルエチニル）−２，５−ジフルオロベン
ゼン １，４−ビス（４’−ノニルフェニルエチニル）−２，
５−ジフルオロベンゼン １−（４’−ノニルフェニルエチニル）−４−（４”−
デシルフェニルエチニル）−２−フルオロベンゼン １，４−ビス（４’−デシルフェニルエチニル）−２，
５−ジフルオロベンゼン（実施例７）〔化合物（１−
ｇ）の合成〕 ５−（４’−ブチルフェニルエチニル）−２−（４”−
シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベンゼ
ンの製造 工程１，２）実施例４の工程６，７）と同様にして４−
ブチルフェニルアセチレンを合成した。
【００７５】工程３，４）実施例６の工程３，４と同様
にして２−ブロモ−１，４−ジフルオロ−４−ヨードベ
ンゼンを合成した。
【００７６】工程５）窒素雰囲気中２−ブロモ−１，４
−ジフルオロ−４−ヨードベンゼン11ｇをジエチルアミ
ン16mlに溶解し、その中へ、ビス（トリフェニルフォス
フィン）パラジウム（II）クロライド0.03ｇ、ヨウ化銅
（Ｉ）0.03ｇを加えて攪拌した。フラスコを５℃以下に
冷却し、４−ブチルフェニルアセチレン6.2ｇを滴下し
た。室温で５時間攪拌後、反応液を濃塩酸9mlと氷20ｇ
の混合中へ注いだ。クロロホルムで抽出し水で２回洗浄
後クロロホルムを留去した。残さを減圧蒸留(b.p170〜1
80℃／5mmHg)を行い、４−ブロモ−２，５−ジフルオロ
−４’−ブチルトラン8ｇを得た。
【００７７】工程６，７）実施例２の工程６，７と同様
にして４−シアノフェニルアセチレンを合成した。
【００７８】工程８）窒素雰囲気中４−ブロモ−２，５
−ジフルオロ−４’−ブチルトラン5.2ｇ、４−シアノ
フェニルアセチレン1.9ｇ、トリフェニルフォスフィン
0.06ｇ、ビス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム
（II）クロライド0.04ｇをトリエチルアミン33mlへ溶解
し、その中へヨウ化銅（Ｉ）0.01ｇを加えた。その後、
還流を５時間行った。反応液を水300ml中へ注ぎクロロ
ホルムで抽出し水で２回洗浄後、クロロホルムを留去し
た。残さをシリカゲル−クロロホルムカラムクロマトグ
ラフィーで精製しアセトンとクロロホルムの混合溶媒中
より再結晶を行い、５−（４’−ブチルフェニルエチニ
ル）−２−（４”−シアノフェニルエチニル）−１，４
−ジフルオロベンゼン2.9ｇを得た。この化合物のＣ−
Ｎ点は145.5℃であり、Ｎ−Ｉ点は250.1℃であった。
【００７９】同様の方法で以下の化合物を合成した。
【００８０】５−（４’−メチルフェニルエチニル）−
２−（４”−シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフ
ルオロベンゼン ５−（４’−エチルフェニルエチニル）−２−（４”−
シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−プロピルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ペンチルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘキシルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ヘプチルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−オクチルフェニルエチニル）−２−（４”
−シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベン
ゼン ５−（４’−ノニルフェニルエチニル）−２−（４”−
シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベンゼ
ン ５−（４’−デシルフェニルエチニル）−２−（４”−
シアノフェニルエチニル）−１，４−ジフルオロベンゼ
ン （実施例８）〔液晶組成物〕 本発明化合物と表１に記載した既存化合物の特性比較を
行うため、ＥＣＨ系液晶をベース液晶とし、本発明化合
物である実施例１を含有する液晶組成物ａと表１のア、
イ、オの液晶化合物をそれぞれ10％含有する液晶組成物
ｂ〜ｄを下記のとおりの組成比率で作った。
【００８１】
【表４】
【００８２】また、ＥＣＨ系液晶をベース液晶とし、本
発明化合物である実施例１〜７を10〜30％含有する液晶
組成物ｅ〜ｌ、現在Δｎを大きくする目的で一般に使用
されている既存の液晶化合物を含有する液晶組成物ｍ〜
ｏを比較例として下記のとおりの組成比率で作った。
【００８３】
【表５】
【００８４】
【表６】
【００８５】
【表７】
【００８６】組成物ａ〜ｏのＮ−Ｉ点、複屈折（以下Δ
ｎという）を測定した。その結果は以下のとおりであ
る。
【００８７】
【表８】
【００８８】組成物ａと組成物ｂ〜ｄを比較してみる。
組成物ａはｂ、ｃに比べＮ−Ｉ点が高い。また組成物ｄ
は室温で結晶が析出してしまい、Δｎの測定は不可能で
あった。このように本発明化合物を含有した液晶組成物
ａは表１に記載した既存化合物を含有する組成物ｂ〜ｄ
に比べ液晶温度範囲の広い液晶組成物であることがわか
る。次に本発明化合物を含有する液晶組成物ｅ〜ｌと既
存化合物を含有するｍ〜ｏを比較してみる。液晶組成物
ｅ〜ｌは、液晶組成物ｍ〜ｏに比較してΔｎが0.03〜0.
11程度大きいことがわかった。
【００８９】（実施例９）〔液晶表示素子〕 図１に示すようにガラス基板１及び２の上に透明電極膜
（例えばＩＴＯ膜）からなる電極３を形成し、この上に
ポリイミド等よりなる配向膜を塗布する。次ににラビン
グして配向制御層４を形成し、さらにガラス基板１及び
２をシール剤６を介して対向配置し、ガラス基板間に実
施例８で作った液晶組成ａ〜ｏをそれぞれ注入し、基板
１の外面に偏光板、基板２の外面には反射型偏光板を貼
り付けてＴＮ型の液晶表示パネルＡ〜Ｏを作成した。こ
の時液晶表示パネルのセルギャプｄは液晶パネルＡ〜Ｃ
は9.0μとし、液晶パネルＥ〜ＯはそれぞれのセルのΔ
ｎ・ｄの値が概ね1.25〜1.35になるように設定した。
【００９０】このようにして作成した液晶表示セルを交
流スタテック駆動を用い、反射型測定で、２５℃におけ
るしきい値電圧（以下Ｖthという）、電圧−光透過率の
視角依存性（以下αという）、急峻性（以下βとい
う）、立ち上がり速度（以下Ｔｒという）、立ち下がり
速度（以下Ｔｄという）を測定した。なお、α、β、Ｖ
th、は次式で定義した。
【００９１】
【数１】
【００９２】また、Ｔｒは電圧をＯＮ（この時の印加電
圧はＶ90(θ＝80°)）にして光透過率が１０％まで低下
するのに要する時間、Ｔｄは電圧をＯＦＦ（この時の印
加電圧はＶ10(θ＝80°)）にして９０％の光透過率を回
復するのに要した時間で表した。測定の結果は以下のと
おりであった。
【００９３】
【表９】
【００９４】本発明の液晶化合物を含有した液晶組成物
を用いた液晶パネルＡと、表１に記載した既存の液晶化
合物を含有する組成物を用いた液晶パネルＢ、Ｄを比較
してみると、β値がＡのパネルが小さいことがわかる。
これによりＡのパネルはＴＮ表示における高時分割駆動
が可能となることがわかる。次に本発明の液晶化合物を
含有した液晶組成物を使用した液晶パネルＥ〜Ｌと、既
存の液晶化合物を含有する液晶パネルＭ〜Ｏと比較して
みると、Ｔｒ＋Ｔｄが液晶パネルＥ〜Ｌの方が５０〜１
５０ｍｓ程度速いことがわかった。
【００９５】なお、上記の実施例においてはＴＮ型の液
晶表示セルを用いたが、ＳＴＮ型の表示セルを用いた場
合にも同様な効果が得られた。
【００９６】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明の化合物は他の
液晶化合物との相溶性が良く、一般的な液晶混合物に混
合することにより、実用温度範囲を広くし、Δｎを大き
くする効果がある。よって本発明液晶化合物を含有する
液晶組成物を用いることにより、実用温度範囲が広く応
答速度の速い液晶表示素子が得られる。これらの点で本
発明は、現在表示装置の主流となっているＳＴＮ型表示
の液晶組成物の基本的成分として極めて有効である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例で作成した液晶表示セルを示す
図。
【符号の説明】
１．２．ガラス基板 ３．透明電極 ４．配向制御層 ５．偏光板 ６．シール剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平5−49571 (32)優先日 平成５年３月10日(1993．3．10) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (56)参考文献 特開 平１−305040（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−286653（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 【化１】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    し、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，Ｘ4はともにフッ素原子または水素
    原子を表すが、少なくとも１つのＸはフッ素原子を表
    す。また、Ｙはニトリル基または炭素数が１〜１０の直
    鎖アルキル基を表す）で表されることを特徴とするトラ
    ン誘導体。
  2. 【請求項２】一般式 【化２】 （上式中、Ｒ1、Ｒ2はともに炭素数が１〜１０の直鎖ア
    ルキル基を示す）で表されることを特徴とする請求項１
    に記載のトラン誘導体。
  3. 【請求項３】一般式 【化３】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    す）で表されることを特徴とする請求項１に記載のトラ
    ン誘導体。
  4. 【請求項４】一般式 【化４】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    す）で表されることを特徴とする請求項１に記載のトラ
    ン誘導体。
  5. 【請求項５】一般式 【化５】 （上式中、Ｒ1、Ｒ2はともに炭素数が１〜１０の直鎖ア
    ルキル基を示す）で表されることを特徴とする請求項１
    に記載のトラン誘導体。
  6. 【請求項６】一般式 【化６】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    す）で表されることを特徴とする請求項１に記載のトラ
    ン誘導体。
  7. 【請求項７】一般式 【化７】 （上式中、Ｒ1、Ｒ2はともに炭素数が１〜１０の直鎖ア
    ルキル基を示す）で表されることを特徴とする請求項１
    に記載のトラン誘導体。
  8. 【請求項８】一般式 【化８】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    す）で表されることを特徴とする請求項１に記載のトラ
    ン誘導体。
  9. 【請求項９】一般式 【化９】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    し、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，Ｘ4はともにフッ素原子または水素
    原子を表すが、少なくとも１つのＸはフッ素原子を表
    す。また、Ｙはニトリル基または炭素数が１〜１０の直
    鎖アルキル基を表す）で表されるトラン誘導体の少なく
    とも１種類を含有することを特徴とするトラン誘導体を
    含有する液晶組成物。
  10. 【請求項１０】一般式 【化１０】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    し、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，Ｘ4はともにフッ素原子または水素
    原子を表すが、少なくとも１つのＸはフッ素原子を表
    す。また、Ｙはニトリル基または炭素数が１〜１０の直
    鎖アルキル基を表す）で表されるトラン誘導体の少なく
    とも１種類を５〜５０重量％一般式 【化１１】 （上式中、Ｒ1、Ｒ2はともに炭素数が１〜１０の直鎖ア
    ルキル基を示し、シクロヘキサン環はトランス配置であ
    る）で表されるシクロヘキサンカルボン酸フェニルエス
    テル誘導体（以下ＥＣＨ系という）の少なくとも１種類
    を３０〜８０重量％を含有することを特徴とする請求項
    ９に記載のトラン誘導体を含有する液晶組成物。
  11. 【請求項１１】一般式 【化１２】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    し、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，Ｘ4はともにフッ素原子または水素
    原子を表すが、少なくとも１つのＸはフッ素原子を表
    す。また、Ｙはニトリル基または炭素数が１〜１０の直
    鎖アルキル基を表す）で表されるトラン誘導体の少なく
    とも１種類を１０〜３５重量％ 一般式 【化１３】 （上式中、Ｒ1、Ｒ2はともに炭素数が１〜１０の直鎖ア
    ルキル基を示し、シクロヘキサン環はトランス配置であ
    る）で表されるＥＣＨ系の少なくとも１種類を４０〜７
    ０重量％ 一般式 【化１４】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    し、シクロヘキサン環はトランス配置である）で表され
    る正の誘電異方性を持つ化合物の少なくとも１種類を１
    ０〜５０重量％を含有することを特徴とする請求項９に
    記載のトラン誘導体を含有する液晶組成物。
  12. 【請求項１２】一般式 【化１５】 （上式中、Ｒは炭素数が１〜１０の直鎖アルキル基を示
    し、Ｘ1，Ｘ2，Ｘ3，Ｘ4はともにフッ素原子または水素
    原子を表すが、少なくとも１つのＸはフッ素原子を表
    す。また、Ｙはニトリル基または炭素数が１〜１０の直
    鎖アルキル基を表す）で表されることを特徴とするトラ
    ン誘導体の少なくとも１種類を含有する液晶組成物を用
    いたことを特徴とするトラン誘導体を含有する液晶組成
    物を用いた液晶表示素子。
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