JP3481001B2 - バリアー性フィルムおよびその製造方法 - Google Patents
バリアー性フィルムおよびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はバリアー性フィルムとそ
の製造方法に係り、特に優れたバリアー性、透明性およ
び電子レンジ適性を備え、耐衝撃性に優れたバリアー性
フィルムとその製造方法に関する。
の製造方法に係り、特に優れたバリアー性、透明性およ
び電子レンジ適性を備え、耐衝撃性に優れたバリアー性
フィルムとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガスバリアー性を備えた包材として、従
来より基材にアルミニウム箔層を設けた包材が使用され
ている。しかし、このような包材は、安定したガスバリ
アー性が得られるものの、バリアー層としてのアルミニ
ウム箔層を備えているため焼却適性が劣り、使用後の廃
棄処分が容易ではないという問題があった。また、アル
ミニウム箔層を備えているため、透明性を有する包材は
得られないという問題もあった。さらに、電子レンジで
使用できないといった問題もあった。
来より基材にアルミニウム箔層を設けた包材が使用され
ている。しかし、このような包材は、安定したガスバリ
アー性が得られるものの、バリアー層としてのアルミニ
ウム箔層を備えているため焼却適性が劣り、使用後の廃
棄処分が容易ではないという問題があった。また、アル
ミニウム箔層を備えているため、透明性を有する包材は
得られないという問題もあった。さらに、電子レンジで
使用できないといった問題もあった。
【０００３】これに対処するために、ポリ塩化ビニリデ
ン（ＰＶＤＣ）やエチレン−ビニルアルコール共重合体
（ＥＶＯＨ）からなるバリアー層を備えた包材が開発さ
れた。しかし、ＰＶＤＣは塩素を含有するため、使用後
に焼却することにより塩素ガスが発生し、環境衛生上好
ましくないという問題があった。一方、ＥＶＯＨは、酸
素透過性が低く、かつ、香味成分の吸着性が低いという
長所があるものの、水蒸気に接触するとガスバリアー性
が低下してしまうという問題があった。このため、バリ
アー層であるＥＶＯＨを水蒸気から遮断するために包材
を複雑な積層構造とする必要があり、製造コストの増大
を来していた。
ン（ＰＶＤＣ）やエチレン−ビニルアルコール共重合体
（ＥＶＯＨ）からなるバリアー層を備えた包材が開発さ
れた。しかし、ＰＶＤＣは塩素を含有するため、使用後
に焼却することにより塩素ガスが発生し、環境衛生上好
ましくないという問題があった。一方、ＥＶＯＨは、酸
素透過性が低く、かつ、香味成分の吸着性が低いという
長所があるものの、水蒸気に接触するとガスバリアー性
が低下してしまうという問題があった。このため、バリ
アー層であるＥＶＯＨを水蒸気から遮断するために包材
を複雑な積層構造とする必要があり、製造コストの増大
を来していた。
【０００４】そして、近年、高いガスバリアー性と保香
性を安定して発揮し、かつ、透明性を有する包材とし
て、珪素酸化物の薄膜からなるバリアー層を備えたバリ
アー性フィルムが開発されている。この珪素酸化物の薄
膜は、材料である珪素酸化物を真空蒸着により基材上に
付着させることにより形成され、廃棄時における環境上
の問題もなく、また、バリアー性の湿度依存性もないも
のである。
性を安定して発揮し、かつ、透明性を有する包材とし
て、珪素酸化物の薄膜からなるバリアー層を備えたバリ
アー性フィルムが開発されている。この珪素酸化物の薄
膜は、材料である珪素酸化物を真空蒸着により基材上に
付着させることにより形成され、廃棄時における環境上
の問題もなく、また、バリアー性の湿度依存性もないも
のである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
珪素酸化物の薄膜からなるバリアー層は、珪素酸化物粒
子が基材上に蒸着したものであるため、珪素酸化物粒子
間に結晶粒界という隙間が存在しており、バリアー性が
十分とはいえず、膜厚を厚く（５００〜１０００Å）す
る必要があること、珪素酸化物の酸素原子割合が小さい
ほどバリアー性は向上するが、反面、黄褐色度が大きく
なって透明性が低下すること、上記のように膜厚を厚く
する必要性があるのでその結果延展性に劣りクラックが
生じやすいこと、基板と珪素酸化物粒子との密着力が弱
いこと、原料の珪素酸化物が高価であり、かつ、蒸着時
は高真空度を必要とするため、製造コストの増大を来す
こと等の種々の問題があった。
珪素酸化物の薄膜からなるバリアー層は、珪素酸化物粒
子が基材上に蒸着したものであるため、珪素酸化物粒子
間に結晶粒界という隙間が存在しており、バリアー性が
十分とはいえず、膜厚を厚く（５００〜１０００Å）す
る必要があること、珪素酸化物の酸素原子割合が小さい
ほどバリアー性は向上するが、反面、黄褐色度が大きく
なって透明性が低下すること、上記のように膜厚を厚く
する必要性があるのでその結果延展性に劣りクラックが
生じやすいこと、基板と珪素酸化物粒子との密着力が弱
いこと、原料の珪素酸化物が高価であり、かつ、蒸着時
は高真空度を必要とするため、製造コストの増大を来す
こと等の種々の問題があった。
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、耐衝撃性に優れ、高いバリアー性を安定
して維持するとともに良好な透明性と電子レンジ適性を
備えたバリアー性フィルムと、このようなバリアー性フ
ィルムを簡便に製造することのできる製造方法を提供す
ることを目的とする。
たものであり、耐衝撃性に優れ、高いバリアー性を安定
して維持するとともに良好な透明性と電子レンジ適性を
備えたバリアー性フィルムと、このようなバリアー性フ
ィルムを簡便に製造することのできる製造方法を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のバリアー性フィルムは基材と、該基
材の少なくとも一方の面に設けられたバリアー層とを有
し、該バリアー層は珪素酸化物と、グラファイト状、ダ
イヤモンド状およびフラーレン状のいずれかである炭素
単体および／または酸化珪素分子鎖に結合した炭素化合
物とを含有する連続層であり、かつ、バリアー層の表面
から深さ方向に向かって炭素含有量が減少しているよう
な構成とした。
るために、本発明のバリアー性フィルムは基材と、該基
材の少なくとも一方の面に設けられたバリアー層とを有
し、該バリアー層は珪素酸化物と、グラファイト状、ダ
イヤモンド状およびフラーレン状のいずれかである炭素
単体および／または酸化珪素分子鎖に結合した炭素化合
物とを含有する連続層であり、かつ、バリアー層の表面
から深さ方向に向かって炭素含有量が減少しているよう
な構成とした。
【０００８】また、本発明のバリアー性フィルムの製造
方法は少なくとも有機珪素化合物の蒸気と酸素とを含有
するガスを用い、プラズマＣＶＤ法により基材上に、珪
素酸化物を主体とし、グラファイト状、ダイヤモンド状
およびフラーレン状のいずれかである炭素単体および／
または酸化珪素分子鎖に結合した炭素化合物を含有する
連続層であって、表面から深さ方向に向かって炭素含有
量が減少するバリアー層を形成するような構成とした。
方法は少なくとも有機珪素化合物の蒸気と酸素とを含有
するガスを用い、プラズマＣＶＤ法により基材上に、珪
素酸化物を主体とし、グラファイト状、ダイヤモンド状
およびフラーレン状のいずれかである炭素単体および／
または酸化珪素分子鎖に結合した炭素化合物を含有する
連続層であって、表面から深さ方向に向かって炭素含有
量が減少するバリアー層を形成するような構成とした。
【０００９】
【００１０】
【作用】バリアー層は少なくとも有機珪素化合物の蒸気
と酸素とを含有するガスを用いてプラズマＣＶＤ法によ
り形成されるので、バリアー層を構成する珪素酸化物の
連続層は緻密であり極めて高いバリアー性を有し、さら
に、少なくとも１種類含有される炭素、水素、珪素およ
び酸素のなかの１種類あるいは２種類以上の元素からな
る化合物によって珪素酸化物の連続層は耐衝撃性に優れ
たものとなる。さらに、バリアー層中の上記の化合物の
含有量がバリアー層の表面から深さ方向に向って減少し
ていること、つまりバリアー層の最表面が含有量が最も
多く、基材との界面が最も含有量が少ない構造となるた
め、最もクラックが発生し易いバリアー層最表面の耐衝
撃性が向上し、基材と珪素酸化物膜との密着は強固にな
る。
と酸素とを含有するガスを用いてプラズマＣＶＤ法によ
り形成されるので、バリアー層を構成する珪素酸化物の
連続層は緻密であり極めて高いバリアー性を有し、さら
に、少なくとも１種類含有される炭素、水素、珪素およ
び酸素のなかの１種類あるいは２種類以上の元素からな
る化合物によって珪素酸化物の連続層は耐衝撃性に優れ
たものとなる。さらに、バリアー層中の上記の化合物の
含有量がバリアー層の表面から深さ方向に向って減少し
ていること、つまりバリアー層の最表面が含有量が最も
多く、基材との界面が最も含有量が少ない構造となるた
め、最もクラックが発生し易いバリアー層最表面の耐衝
撃性が向上し、基材と珪素酸化物膜との密着は強固にな
る。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【００１２】図１は本発明のバリアー性フィルムを用い
た包材の一実施例を示す概略断面図である。図１におい
てバリアー性フィルム１は基材２と、この基材の一方の
面に形成されたバリアー層３とからなり、バリアー層３
上に樹脂層４を形成して包材とされている。
た包材の一実施例を示す概略断面図である。図１におい
てバリアー性フィルム１は基材２と、この基材の一方の
面に形成されたバリアー層３とからなり、バリアー層３
上に樹脂層４を形成して包材とされている。
【００１３】バリアー性フィルム１を構成する基材２
は、バリアー性フィルムの使用目的、被包装物の物性、
特性等から適宜選択することができるが、例えば、可撓
性の樹脂フィルムを用いることができる。具体的には、
ポリエステル、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルア
ルコール、セルロース、ポリアクリレート、ポリウレタ
ン、セロハン、ポリエチレンテレフタレート、アイオノ
マー等の延伸又は未延伸の樹脂フィルムを挙げることが
できる。このような基材２の厚みは、バリアー性フィル
ムの使用目的、製造時の安定性等から適宜設定すること
ができるが、例えば、１０〜１００μｍ程度とすること
ができる。
は、バリアー性フィルムの使用目的、被包装物の物性、
特性等から適宜選択することができるが、例えば、可撓
性の樹脂フィルムを用いることができる。具体的には、
ポリエステル、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルア
ルコール、セルロース、ポリアクリレート、ポリウレタ
ン、セロハン、ポリエチレンテレフタレート、アイオノ
マー等の延伸又は未延伸の樹脂フィルムを挙げることが
できる。このような基材２の厚みは、バリアー性フィル
ムの使用目的、製造時の安定性等から適宜設定すること
ができるが、例えば、１０〜１００μｍ程度とすること
ができる。
【００１４】また、バリアー性フィルム１を構成するバ
リアー層３は、珪素酸化物を主体とする連続層である。
バリアー層３を構成する珪素酸化物は、ＳｉＯx （Ｘ＝
１〜２）の薄膜、好ましくは連続層であり、厚みは１０
〜３０００Å、好ましくは６０〜４００Å程度である。
特に、透明性の点から、珪素酸化物の連続層は、ＳｉＯ
x （Ｘ＝１．７〜２）である薄膜が好ましい。
リアー層３は、珪素酸化物を主体とする連続層である。
バリアー層３を構成する珪素酸化物は、ＳｉＯx （Ｘ＝
１〜２）の薄膜、好ましくは連続層であり、厚みは１０
〜３０００Å、好ましくは６０〜４００Å程度である。
特に、透明性の点から、珪素酸化物の連続層は、ＳｉＯ
x （Ｘ＝１．７〜２）である薄膜が好ましい。
【００１５】また、バリアー層中には珪素酸化物に加え
て、炭素、水素、珪素および酸素のなかの１種類、ある
いは２種類以上の元素からなる化合物が少なくとも１種
類含有される。例えば、Ｃ−Ｈ結合を有する化合物、Ｓ
ｉ−Ｈ結合を有する化合物、または炭素単体がグラファ
イト状、ダイヤモンド状、フラーレン状になっている場
合、さらに原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を含
有する場合がある。具体例を挙げると、ＣＨ3 部位をも
つハイドロカ−ボン、ＳｉＨ3 シリル、ＳｉＨ2 シリレ
ン等のハイドロシリカ、ＳｉＨ2 ＯＨシラノールなどの
水酸基誘導体などを挙げることができる。上記以外で
も、蒸着過程の条件を変化させることによりバリアー層
に含有される化合物の種類、量等を変化させることがで
きる。これらの化合物のバリアー層中の含有率は、０．
１〜５０％、好ましくは５〜２０％程度である。この含
有率が０．１％未満であると、バリアー層３の耐衝撃
性、延展性が不十分となり、曲げなどによってクラック
の発生がみられ、高いバリアー性を安定して維持するこ
とができなくなる。また、含有率が４０％を超えると、
バリアー性が低下し好ましくない。さらに、本発明で
は、バリアー層中の上記の化合物の含有量をバリアー層
の表面から深さ方向へ向かって減少させることが好まし
い。これにより、バリアー層の最表面において珪素酸化
物の連続層は上記化合物によって耐衝撃性を高められ、
一方、基材２との界面では上記化合物の含有量が少ない
ため、基材と珪素酸化物連続層との密着は強固なものと
なる。
て、炭素、水素、珪素および酸素のなかの１種類、ある
いは２種類以上の元素からなる化合物が少なくとも１種
類含有される。例えば、Ｃ−Ｈ結合を有する化合物、Ｓ
ｉ−Ｈ結合を有する化合物、または炭素単体がグラファ
イト状、ダイヤモンド状、フラーレン状になっている場
合、さらに原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を含
有する場合がある。具体例を挙げると、ＣＨ3 部位をも
つハイドロカ−ボン、ＳｉＨ3 シリル、ＳｉＨ2 シリレ
ン等のハイドロシリカ、ＳｉＨ2 ＯＨシラノールなどの
水酸基誘導体などを挙げることができる。上記以外で
も、蒸着過程の条件を変化させることによりバリアー層
に含有される化合物の種類、量等を変化させることがで
きる。これらの化合物のバリアー層中の含有率は、０．
１〜５０％、好ましくは５〜２０％程度である。この含
有率が０．１％未満であると、バリアー層３の耐衝撃
性、延展性が不十分となり、曲げなどによってクラック
の発生がみられ、高いバリアー性を安定して維持するこ
とができなくなる。また、含有率が４０％を超えると、
バリアー性が低下し好ましくない。さらに、本発明で
は、バリアー層中の上記の化合物の含有量をバリアー層
の表面から深さ方向へ向かって減少させることが好まし
い。これにより、バリアー層の最表面において珪素酸化
物の連続層は上記化合物によって耐衝撃性を高められ、
一方、基材２との界面では上記化合物の含有量が少ない
ため、基材と珪素酸化物連続層との密着は強固なものと
なる。
【００１６】上記の包材を構成する樹脂層４は、包材の
使用目的、被包装物の物性、特性等から適宜選択するこ
とができるが、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
アミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポ
リビニルアルコール樹脂、エチレン／ビニルアルコール
共重合体、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂等
の樹脂層とすることができる。また、この樹脂層４は単
層であってもよいが、２種以上の樹脂からなる多層構造
であってもよい。このような樹脂層４の厚みは、例え
ば、１０〜１０００μｍ程度とすることができる。
使用目的、被包装物の物性、特性等から適宜選択するこ
とができるが、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピ
レン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
アミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポ
リビニルアルコール樹脂、エチレン／ビニルアルコール
共重合体、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂等
の樹脂層とすることができる。また、この樹脂層４は単
層であってもよいが、２種以上の樹脂からなる多層構造
であってもよい。このような樹脂層４の厚みは、例え
ば、１０〜１０００μｍ程度とすることができる。
【００１７】次に、本発明のバリアー性フィルムの製造
方法を説明する。図２は本発明のバリアー性フィルムの
製造方法に使用するプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor D
eposition ）装置の一例を示す図である。図２におい
て、プラズマＣＶＤ装置１１は、チャンバー１２、この
チャンバー１２内に配設された供給ローラ１３、巻取ロ
ーラ１４、冷却・電極ドラム１５、補助ローラ１６，１
６を備え、冷却・電極ドラム１５は電源１７に接続され
ているとともに、チャンバー１２内は真空ポンプ１８に
より所望の真空度に設定できるようになっている。さら
に、チャンバー１２内の冷却・電極ドラム１５の近傍に
は、原料供給ノズル１９の開口部が位置しており、この
原料供給ノズル１９の他端は、チャンバー１２外部に配
設されている原料揮発供給装置２１およびガス供給装置
２２に接続されている。また、冷却・電極ドラム１５の
近傍にはマグネット２３を設置し、プラズマの発生を促
進している。
方法を説明する。図２は本発明のバリアー性フィルムの
製造方法に使用するプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor D
eposition ）装置の一例を示す図である。図２におい
て、プラズマＣＶＤ装置１１は、チャンバー１２、この
チャンバー１２内に配設された供給ローラ１３、巻取ロ
ーラ１４、冷却・電極ドラム１５、補助ローラ１６，１
６を備え、冷却・電極ドラム１５は電源１７に接続され
ているとともに、チャンバー１２内は真空ポンプ１８に
より所望の真空度に設定できるようになっている。さら
に、チャンバー１２内の冷却・電極ドラム１５の近傍に
は、原料供給ノズル１９の開口部が位置しており、この
原料供給ノズル１９の他端は、チャンバー１２外部に配
設されている原料揮発供給装置２１およびガス供給装置
２２に接続されている。また、冷却・電極ドラム１５の
近傍にはマグネット２３を設置し、プラズマの発生を促
進している。
【００１８】上述のようなプラズマＣＶＤ装置１１の供
給ローラ１３に、基材２の原反を装着し、補助ローラ１
６、冷却・電極ドラム１５、補助ローラ１６を経由して
巻取ローラ１４に至る図示のような原反搬送パスを形成
する。
給ローラ１３に、基材２の原反を装着し、補助ローラ１
６、冷却・電極ドラム１５、補助ローラ１６を経由して
巻取ローラ１４に至る図示のような原反搬送パスを形成
する。
【００１９】次に、チャンバー１２内を真空ポンプ１８
により減圧して、真空度１０-1〜１０-8torr、好ましく
は、真空度１０-3〜１０-7torrとする。そして、原料揮
発供給装置２１において原料である有機珪素化合物を揮
発させ、ガス供給装置２２から供給される酸素ガスおよ
び不活性ガスと混合させ、この混合ガスを原料供給ノズ
ル１９を介してチャンバー１２中に導入する。この場
合、混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は１〜４０
％、酸素ガスの含有量は１０〜７０％、不活性ガスの含
有量は１０〜６０％の範囲とすることができ、例えば、
有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスの混合比を１：
６：５〜１：１７：１４程度とすることができる。
により減圧して、真空度１０-1〜１０-8torr、好ましく
は、真空度１０-3〜１０-7torrとする。そして、原料揮
発供給装置２１において原料である有機珪素化合物を揮
発させ、ガス供給装置２２から供給される酸素ガスおよ
び不活性ガスと混合させ、この混合ガスを原料供給ノズ
ル１９を介してチャンバー１２中に導入する。この場
合、混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は１〜４０
％、酸素ガスの含有量は１０〜７０％、不活性ガスの含
有量は１０〜６０％の範囲とすることができ、例えば、
有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスの混合比を１：
６：５〜１：１７：１４程度とすることができる。
【００２０】一方、冷却・電極ドラム１５には電源１７
から所定の電圧が印加されているため、チャンバー１２
内の原料供給ノズル１９の開口部と冷却・電極ドラム１
５との近傍でグロー放電プラズマＰが確立される。この
グロー放電プラズマＰは、混合ガス中の１つ以上のガス
成分から導出されるものである。この状態で、基材２を
一定速度で搬送させ、グロー放電プラズマＰによって冷
却・電極ドラム１５の周面上の基材２上に珪素酸化物の
連続層からなるバリアー層３を形成する。このときのチ
ャンバー１２内の真空度は、１０-1〜１０-4torr、好ま
しくは、１０-1〜１０-2torrとする。また、基材２の搬
送速度は１０〜３００ｍ／分、好ましくは５０〜１５０
ｍ／分とする。
から所定の電圧が印加されているため、チャンバー１２
内の原料供給ノズル１９の開口部と冷却・電極ドラム１
５との近傍でグロー放電プラズマＰが確立される。この
グロー放電プラズマＰは、混合ガス中の１つ以上のガス
成分から導出されるものである。この状態で、基材２を
一定速度で搬送させ、グロー放電プラズマＰによって冷
却・電極ドラム１５の周面上の基材２上に珪素酸化物の
連続層からなるバリアー層３を形成する。このときのチ
ャンバー１２内の真空度は、１０-1〜１０-4torr、好ま
しくは、１０-1〜１０-2torrとする。また、基材２の搬
送速度は１０〜３００ｍ／分、好ましくは５０〜１５０
ｍ／分とする。
【００２１】このようにバリアー層が形成された基材２
は巻取ローラ１４に巻き上げられる。その後、樹脂フィ
ルムをバリアー層上にラミネートしたり、あるいは、バ
リアー層上に樹脂を溶融押出しコートすることにより、
樹脂層４を形成することができる。
は巻取ローラ１４に巻き上げられる。その後、樹脂フィ
ルムをバリアー層上にラミネートしたり、あるいは、バ
リアー層上に樹脂を溶融押出しコートすることにより、
樹脂層４を形成することができる。
【００２２】上記のようなプラズマＣＶＤ装置１１にお
けるバリアー層３の形成では、プラズマ化した原料ガス
を酸素で酸化しながらＳｉＯx の形で基材２上に薄膜が
形成されるので、形成された珪素酸化物の薄膜は、緻密
で隙間の少ない連続層となる。したがって、バリアー層
３のバリアー性は、従来の真空蒸着により形成された珪
素酸化物膜のバリアー性よりもはるかに高いものとな
り、薄い層厚で十分なバリアー性を得ることができる。
また、ＳｉＯx プラズマにより基材２の表面が清浄化さ
れ、基材２表面に極性基やフリーラジカルが発生するの
で、形成された珪素酸化物の薄膜と基材２との接着性が
高いものとなる。さらに、上述のように珪素酸化物薄膜
の形成時の真空度は１０-1〜１０-4torr、好ましくは、
１０-1〜１０-2torrであり、従来の真空蒸着による珪素
酸化物膜形成時の真空度（１０-4〜１０-5torr）に比べ
て低真空度であるため、基材の原反交換の際の真空状態
設定時間を短くすることができ、真空度も安定しやす
く、成膜プロセスが安定する。
けるバリアー層３の形成では、プラズマ化した原料ガス
を酸素で酸化しながらＳｉＯx の形で基材２上に薄膜が
形成されるので、形成された珪素酸化物の薄膜は、緻密
で隙間の少ない連続層となる。したがって、バリアー層
３のバリアー性は、従来の真空蒸着により形成された珪
素酸化物膜のバリアー性よりもはるかに高いものとな
り、薄い層厚で十分なバリアー性を得ることができる。
また、ＳｉＯx プラズマにより基材２の表面が清浄化さ
れ、基材２表面に極性基やフリーラジカルが発生するの
で、形成された珪素酸化物の薄膜と基材２との接着性が
高いものとなる。さらに、上述のように珪素酸化物薄膜
の形成時の真空度は１０-1〜１０-4torr、好ましくは、
１０-1〜１０-2torrであり、従来の真空蒸着による珪素
酸化物膜形成時の真空度（１０-4〜１０-5torr）に比べ
て低真空度であるため、基材の原反交換の際の真空状態
設定時間を短くすることができ、真空度も安定しやす
く、成膜プロセスが安定する。
【００２３】本発明において使用する有機珪素化合物と
しては、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、ヘキサメ
チルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルト
リメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラ
ン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラ
ン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシ
クロテトラシロキサン等を挙げることができる。このな
かでは、特に1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、ヘキ
サメチルジシロキサンが好ましく用いられる。これらの
有機珪素化合物は、常温・常圧では液体である。
しては、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、ヘキサメ
チルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルト
リメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラ
ン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラ
ン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシ
クロテトラシロキサン等を挙げることができる。このな
かでは、特に1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、ヘキ
サメチルジシロキサンが好ましく用いられる。これらの
有機珪素化合物は、常温・常圧では液体である。
【００２４】本発明により製造されるバリアー性フィル
ムのバリアー層の性質は、バリアー層を構成する珪素酸
化物連続層の組成ＳｉＯx のＸの値、および、層厚によ
り決定され、基材の搬送速度、プラズマ発生時の電気的
パワー、混合ガスの混合比を適正化することにより良好
な珪素酸化物連続層を形成することができる。
ムのバリアー層の性質は、バリアー層を構成する珪素酸
化物連続層の組成ＳｉＯx のＸの値、および、層厚によ
り決定され、基材の搬送速度、プラズマ発生時の電気的
パワー、混合ガスの混合比を適正化することにより良好
な珪素酸化物連続層を形成することができる。
【００２５】次に、具体的な実施例を示して本発明を更
に詳細に説明する。 （実施例１）基材として厚み１２μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルム原反を準備し、これを図２に示さ
れるようなプラズマＣＶＤ装置１１に装着した。次に、
プラズマＣＶＤ装置のチャンバー１２を１×１０-5torr
まで減圧した。一方、原料である有機珪素化合物のヘキ
サメチルジシロキサンを原料揮発供給装置２１において
揮発させ、ガス供給装置２２から供給された酸素ガスお
よび不活性ガスのヘリウムと混合させて原料ガスとし
た。この原料ガスの混合比は、ヘキサメチルジシロキサ
ン：Ｏ2 ：Ｈｅ＝１：９：８とした。
に詳細に説明する。 （実施例１）基材として厚み１２μｍのポリエチレンテ
レフタレートフィルム原反を準備し、これを図２に示さ
れるようなプラズマＣＶＤ装置１１に装着した。次に、
プラズマＣＶＤ装置のチャンバー１２を１×１０-5torr
まで減圧した。一方、原料である有機珪素化合物のヘキ
サメチルジシロキサンを原料揮発供給装置２１において
揮発させ、ガス供給装置２２から供給された酸素ガスお
よび不活性ガスのヘリウムと混合させて原料ガスとし
た。この原料ガスの混合比は、ヘキサメチルジシロキサ
ン：Ｏ2 ：Ｈｅ＝１：９：８とした。
【００２６】次に、上記の原料ガスを原料供給ノズル１
９を介してチャンバー内に導入し、一方、電源１７から
冷却・電極ドラム１５に供給する電力を１０ｋＷとし、
原料ガスによりグロー放電プラズマを確立させた。この
プラズマ中を基材であるポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを速度９０ｍ／分で搬送し、フィルム上に珪素酸
化物の薄膜を形成し、バリアー性フィルム（試料１）を
得た。この時のチャンバー１２の真空度は５×１０-2to
rrに保った。
９を介してチャンバー内に導入し、一方、電源１７から
冷却・電極ドラム１５に供給する電力を１０ｋＷとし、
原料ガスによりグロー放電プラズマを確立させた。この
プラズマ中を基材であるポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを速度９０ｍ／分で搬送し、フィルム上に珪素酸
化物の薄膜を形成し、バリアー性フィルム（試料１）を
得た。この時のチャンバー１２の真空度は５×１０-2to
rrに保った。
【００２７】また、基材の搬送速度、冷却・電極ドラム
への供極電力を変えることにより、厚みと組成の異なる
珪素酸化物の薄膜を備えたバリアー性フィルム（試料２
〜８）を作成した。各バリアー性フィルム（試料１〜
８）の珪素酸化物薄膜の厚み（透過電子顕微鏡により観
察）と組成を下記の表１に示した。
への供極電力を変えることにより、厚みと組成の異なる
珪素酸化物の薄膜を備えたバリアー性フィルム（試料２
〜８）を作成した。各バリアー性フィルム（試料１〜
８）の珪素酸化物薄膜の厚み（透過電子顕微鏡により観
察）と組成を下記の表１に示した。
【００２８】一方、比較として、従来の蒸着法により珪
素酸化物膜を厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に形成して２種のバリアー性フィルム（比
較試料１、２）を作成した。このバリアー性フィルム
（比較試料１〜２）の珪素酸化物薄膜の厚み（透過電子
顕微鏡により観察）と組成を下記の表１に示した。
素酸化物膜を厚み１２μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に形成して２種のバリアー性フィルム（比
較試料１、２）を作成した。このバリアー性フィルム
（比較試料１〜２）の珪素酸化物薄膜の厚み（透過電子
顕微鏡により観察）と組成を下記の表１に示した。
【００２９】上記のようにしてポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にバリアー層を形成したバリアー性フィ
ルム（試料１〜８、比較試料１〜２）について、下記の
条件で酸素透過度、水蒸気透過度、色、延展性およびコ
ンバーティング適性を測定し、結果を下記の表１に示し
た。
ートフィルム上にバリアー層を形成したバリアー性フィ
ルム（試料１〜８、比較試料１〜２）について、下記の
条件で酸素透過度、水蒸気透過度、色、延展性およびコ
ンバーティング適性を測定し、結果を下記の表１に示し
た。
【００３０】バリア−層中の炭素原子割合
ＶＧサイエンティフィック社のＥＳＣＡにて測定
酸素透過度
温度２３℃、湿度９０％ＲＨでＭＯＣＯＮ社のＯＸＴＲ
ＡＮにて測定 水蒸気透過度 温度４０℃、湿度９０％ＲＨでＭＯＣＯＮ社のＰＥＲＭ
ＡＴＲＮにて測定 色 目視による色、および、５００ｎｍでの透過率を測定 延展性 （株）オリエンテック社製の引張試験機テンシロンを用
いてバリアー性フィルムを４％引張り、その状態で３０
秒間保持する。その後、元に戻して表面状態の観察（ク
ラック）を光学顕微鏡および走査型電子顕微鏡にて行っ
た。同時に、酸素透過度および水蒸気透過度の測定も行
った。
ＡＮにて測定 水蒸気透過度 温度４０℃、湿度９０％ＲＨでＭＯＣＯＮ社のＰＥＲＭ
ＡＴＲＮにて測定 色 目視による色、および、５００ｎｍでの透過率を測定 延展性 （株）オリエンテック社製の引張試験機テンシロンを用
いてバリアー性フィルムを４％引張り、その状態で３０
秒間保持する。その後、元に戻して表面状態の観察（ク
ラック）を光学顕微鏡および走査型電子顕微鏡にて行っ
た。同時に、酸素透過度および水蒸気透過度の測定も行
った。
【００３１】コンバーティング適性
バリアー性フィルムの珪素酸化物薄膜上にポリエチレン
テレフタレート（厚み１２μｍをドライラミネートし、
剥離強度と酸素透過度および水蒸気透過度の測定を行っ
た。
テレフタレート（厚み１２μｍをドライラミネートし、
剥離強度と酸素透過度および水蒸気透過度の測定を行っ
た。
【００３２】
【表１】
表１に示されるように試料１〜４、試料７は、優れたガ
スバリアー性、水蒸気バリアー性を有し、透明性、延展
性およびコンバーティング適性に優れることが確認され
た。ただし、試料５はバリアー層がやや厚いため延展性
が若干劣り、また、試料２はバリアー層が薄すぎて十分
なバリアー性が得られていない。さらに、試料８は珪素
酸化物薄膜の組成中の酸素原子量が少なく、透明性の点
でやや劣っている。
スバリアー性、水蒸気バリアー性を有し、透明性、延展
性およびコンバーティング適性に優れることが確認され
た。ただし、試料５はバリアー層がやや厚いため延展性
が若干劣り、また、試料２はバリアー層が薄すぎて十分
なバリアー性が得られていない。さらに、試料８は珪素
酸化物薄膜の組成中の酸素原子量が少なく、透明性の点
でやや劣っている。
【００３３】一方、比較試料は、本発明のバリアー性フ
ィルムに比べてガスバリアー性、水蒸気バリアー性とも
劣り、透明性も悪く、さらに延展性およびコンバーティ
ング適性も不十分なものであった。 （実施例２）図３に示されるように、バリアー層中の炭
素の含有量がバリアー層の深さ方向へ向かって減少する
ようなバリアー性フィルム（試料９）と、図４に示され
るように、深さ方向に向って増加するようなバリア−性
フィルム（比較試料３）を作成した。製造方法は実施例
１と同様とし、これらの試料について実施例１と同様に
評価を行って、その結果を表２に示した。
ィルムに比べてガスバリアー性、水蒸気バリアー性とも
劣り、透明性も悪く、さらに延展性およびコンバーティ
ング適性も不十分なものであった。 （実施例２）図３に示されるように、バリアー層中の炭
素の含有量がバリアー層の深さ方向へ向かって減少する
ようなバリアー性フィルム（試料９）と、図４に示され
るように、深さ方向に向って増加するようなバリア−性
フィルム（比較試料３）を作成した。製造方法は実施例
１と同様とし、これらの試料について実施例１と同様に
評価を行って、その結果を表２に示した。
【００３４】
【表２】
表２に示されるように試料９に比べて比較試料３はバリ
アー性については試料９と同等であるが、延展性・コン
バーティング適性が劣る。また、剥離強度を測定した際
に、試料９には認められなかった珪素酸化物薄膜の基材
からの剥離が比較試料３に認められた。
アー性については試料９と同等であるが、延展性・コン
バーティング適性が劣る。また、剥離強度を測定した際
に、試料９には認められなかった珪素酸化物薄膜の基材
からの剥離が比較試料３に認められた。
【００３５】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればバ
リアー層を構成する珪素酸化物の連続層は緻密であるた
め薄くても極めて高いバリアー性を有し、また、少なく
とも１種類含有される炭素、水素、珪素および酸素のな
かの１種類あるいは２種類以上の元素からなる化合物に
よってバリアー層は耐衝撃性、延展性に優れ、さらに、
上記の化合物の含有量がバリア−層の表面から深さ方向
に向って減少する場合にはバリアー層の耐衝撃性、延展
性はより優れたものとなり、これにより、本発明のバリ
アー性フィルムは優れたバリアー性と透明性をもち、か
つ、曲げなどによるクラックの発生がなく高いバリアー
性を安定して維持することができ、また、廃棄時におけ
る環境上の問題やバリアー性の湿度依存性もなく、良好
な電子レンジ適性を有し、さらに、原料である有機珪素
化合物は安価であり、低真空度でのプラズマＣＶＤ法に
よりバリアー層が形成されるので、製造が容易でコスト
の低減が可能である。
リアー層を構成する珪素酸化物の連続層は緻密であるた
め薄くても極めて高いバリアー性を有し、また、少なく
とも１種類含有される炭素、水素、珪素および酸素のな
かの１種類あるいは２種類以上の元素からなる化合物に
よってバリアー層は耐衝撃性、延展性に優れ、さらに、
上記の化合物の含有量がバリア−層の表面から深さ方向
に向って減少する場合にはバリアー層の耐衝撃性、延展
性はより優れたものとなり、これにより、本発明のバリ
アー性フィルムは優れたバリアー性と透明性をもち、か
つ、曲げなどによるクラックの発生がなく高いバリアー
性を安定して維持することができ、また、廃棄時におけ
る環境上の問題やバリアー性の湿度依存性もなく、良好
な電子レンジ適性を有し、さらに、原料である有機珪素
化合物は安価であり、低真空度でのプラズマＣＶＤ法に
よりバリアー層が形成されるので、製造が容易でコスト
の低減が可能である。
【図１】本発明のバリアー性フィルムを用いた包材の一
実施例を示す概略断面図である。
実施例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のバリアー性フィルムの製造方法に使用
する装置の一例を示す図である。
する装置の一例を示す図である。
【図３】バリアー層中の炭素含有量の深さ方向での変化
の状態を示す図である。
の状態を示す図である。
【図４】バリアー層中の炭素含有量の深さ方向での変化
の状態を示す図である。
の状態を示す図である。
１…バリアー性フィルム
２…基材
３…バリアー層
４…樹脂層
１１…プラズマＣＶＤ装置
１２…チャンバー
１３…供給ローラ
１４…巻取ローラ
１５…冷却・電極ドラム
１６…補助ローラ
１７…電源
１８…真空ポンプ
１９…原料供給ノズル
２１…原料揮発供給装置
２２…ガス供給装置
２３…マグネット
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｃ２３Ｃ 16/50 Ｃ２３Ｃ 16/50
(56)参考文献 特開 平６−99536（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−93120（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−96688（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−210790（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−127569（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−72193（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−48370（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−48369（ＪＰ，Ａ)
実開 平５−35660（ＪＰ，Ｕ)
特表 平８−500068（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B32B 1/00 - 35/00
Claims (2)
- 【請求項１】 基材と、該基材の少なくとも一方の面に
設けられたバリアー層とを有し、該バリアー層は珪素酸
化物と、グラファイト状、ダイヤモンド状およびフラー
レン状のいずれかである炭素単体および／または酸化珪
素分子鎖に結合した炭素化合物とを含有する連続層であ
り、かつ、バリアー層の表面から深さ方向に向かって炭
素含有量が減少していることを特徴とするバリアー性フ
ィルム。 - 【請求項２】 少なくとも有機珪素化合物の蒸気と酸素
とを含有するガスを用い、プラズマＣＶＤ法により基材
上に、珪素酸化物を主体とし、グラファイト状、ダイヤ
モンド状およびフラーレン状のいずれかである炭素単体
および／または酸化珪素分子鎖に結合した炭素化合物を
含有する連続層であって、表面から深さ方向に向かって
炭素含有量が減少するバリアー層を形成することを特徴
とするバリアー性フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31130894A JP3481001B2 (ja) | 1994-11-22 | 1994-11-22 | バリアー性フィルムおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31130894A JP3481001B2 (ja) | 1994-11-22 | 1994-11-22 | バリアー性フィルムおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08142252A JPH08142252A (ja) | 1996-06-04 |
| JP3481001B2 true JP3481001B2 (ja) | 2003-12-22 |
Family
ID=18015578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31130894A Expired - Fee Related JP3481001B2 (ja) | 1994-11-22 | 1994-11-22 | バリアー性フィルムおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3481001B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4544552B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2010-09-15 | 大日本印刷株式会社 | バリア性フィルムの製造方法及びバリア性フィルムの基材 |
| WO2006033233A1 (ja) * | 2004-09-21 | 2006-03-30 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 透明ガスバリア性フィルム |
| JP2009234057A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア性積層フィルム |
| EP2695732A4 (en) | 2011-04-05 | 2015-05-13 | Toray Industries | BARRIER FILM TO GAS |
| WO2013035689A1 (ja) | 2011-09-07 | 2013-03-14 | 東レ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
| EP2772353A4 (en) | 2011-10-28 | 2015-06-24 | Toray Industries | GAS BARRIER FILM |
| JP6269476B2 (ja) | 2013-01-11 | 2018-01-31 | 東レ株式会社 | ガスバリア性フィルム |
| CN105307852B (zh) | 2013-06-27 | 2018-06-19 | 东丽株式会社 | 片材、无机物层合片材及使用其形成的电子设备 |
| KR102255614B1 (ko) | 2014-01-27 | 2021-05-25 | 도레이 카부시키가이샤 | 가스 배리어성 필름 |
| KR102355268B1 (ko) | 2014-01-29 | 2022-01-25 | 도레이 카부시키가이샤 | 가스 배리어성 필름 |
| JP6879209B2 (ja) | 2016-08-29 | 2021-06-02 | 東レ株式会社 | 積層体 |
-
1994
- 1994-11-22 JP JP31130894A patent/JP3481001B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08142252A (ja) | 1996-06-04 |
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