JP3472127B2 - ビームの測定方法 - Google Patents
ビームの測定方法Info
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Description
イオンビーム装置などの荷電粒子ビームを用いた装置に
おける荷電粒子ビームや、レーザービーム装置における
レーザービーム等のビームの測定方法に関する。
の描画動作に先だって、描画に用いる電子ビームのサイ
ズや位置、あるいは、電子ビームのフォーカスの状態を
測定し、その測定結果に基づいて電子ビームの調整を行
っている。図1はこのような電子ビームの測定に用いら
れる装置の一例を示しており、1は測定される電子ビー
ムである。電子ビーム1は図示していないが、2枚の矩
形スリットと、2枚の矩形スリットの間に設けられた偏
向器によって断面が矩形に形成されている。
集束され、更に、静電偏向器3によって偏向を受ける。
偏向器3の下部には、ナイフエッジ部材4が配置されて
いるが、ナイフエッジ部材4は矩形の開口が設けられて
おり、その各内側は薄く直線状に形成されている。ナイ
フエッジ部材4の下部には、散乱された電子ビームをカ
ットするアパーチャ5が設けられ、更にその下部には、
電子ビームの電流量を検出するファラデーカップ6が配
置されている。
す鋸歯状の偏向信号を印加すると、矩形の電子ビーム1
は、X方向に偏向を受ける。電子ビームの偏向により、
電子ビームは徐々にナイフエッジ部材4によって遮蔽さ
れ、ファラデーカップ6に入射する電子ビームの量は減
少する。電子ビーム1がナイフエッジ部材4によって完
全に遮蔽されると、ファラデーカップ6の検出電流は0
となる。
電流を示しており、この検出電流信号を1回微分する
と、図2(c)の信号が得られる。更に、図2(c)の
信号を再度微分すると、図2(d)の信号が得られる。
この図2(d)で横軸は電子ビームの走査位置であり、
信号の2つのピーク間の距離に基づいて電子ビームのサ
イズが求められる。また、2つのピーク位置の中間位置
に基づいて、電子ビームの位置が判明する。更に、ピー
クの波高値は、電子ビームのフォーカスの状態を示して
いる。このようにして得られたビームサイズ、ビーム位
置、フォーカス状態により、電子ビームの各種調整が行
われ、その後に正規の描画動作が実行される。
サイズ等の測定において、図2(b)に示した検出信号
は、通常ノイズ成分が含まれている。図3(a)はノイ
ズ成分を含んだファラデーカップの検出信号波形を示し
ており、このようなノイズ成分を含んだ信号を1回微分
すると、図3(b)の信号が得られ、更に、2回微分し
た結果の信号は、図3(c)のようになる。この図3
(c)の信号は、2つのピークがノイズピークの中に埋
もれてしまい、正確なビームサイズ,位置,フォーカス
状態の測定が不可能となる。
実施されている。図4(a)はノイズ成分を含んだ検出
信号であり、この信号を微分すると図4(b)の信号が
得られる。この時、1次微分信号はノイズ除去の平滑化
処理が施されている。この処理を実行した後、再度微分
を行うと、図4(c)の信号が得られる。この信号で
は、ピーク位置は正しく得られるものの、平滑化処理に
よってピークが鈍ってしまうため、ビームのフォーカス
状態を反映するピークの波高値は、正しいものとはなら
なくなり、実質的にフォーカス状態を正しく測定するこ
とはできない。
た部材を横切って走査し、この走査にともなって検出さ
れたビームの信号の変化に対してカーブフィッティング
を施し、ビームサイズや位置等の測定を行なうことが考
えられている。
めの構成の一例を示しており、図1の装置と同一番号は
同一構成要素を示す。この構成で、ファラデーカップ6
によって検出された電流信号は、AD変換器7によって
ディジタル信号に変換された後、波形メモリー8に供給
される。波形メモリー8に供給されて記憶された信号
は、制御CPU9によって読み出され、カーブフィッテ
ィング処理が施される。なお、制御CPU9は静電偏向
器3に電子ビーム1の走査信号を供給するための偏向回
路10を制御している。このような構成の動作を次に説
明する。
状態を測定する場合、制御CPU9は偏向回路10を制
御し、静電偏向器3に鋸歯状の偏向信号を印加する。こ
の偏向信号の印加に伴って、矩形の電子ビーム1は、X
方向に偏向を受ける。電子ビームの偏向により、電子ビ
ームは徐々にナイフエッジ部材4によって遮蔽され、フ
ァラデーカップ6に入射する電子ビームの量は減少す
る。電子ビーム1がナイフエッジ部材4によって完全に
遮蔽されると、ファラデーカップ6の検出電流は0とな
る。
得られたファラデーカップ6の検出信号波形を示してお
り、この検出信号は波形メモリー8に記憶される。この
波形メモリー8に記憶された検出信号は制御CPU9に
よって読み出され、一次微分が行われる。ここで、一次
微分波形は予め図7に示すようにモデル化してある。図
7においてaはビームサイズの2分の1、bはビーム位
置である。
え方は、検出信号波形をモデル化した波形に対してフィ
ティング処理を行うことであり、図6(a)に示した信
号波形は、一次微分され図7に示すモデル化された信号
波形とフィッティングを行うことにより、図6(b)の
信号が得られる。フィッティング処理された信号はノイ
ズ成分が除去され、図6(b)の信号を更に微分するこ
とにより、図6(c)の信号が得られる。
処理が施されているのでノイズ成分が除去されており、
更に、平滑化処理がされていないので、ナイフエッジの
端部に基づく信号成分が鈍らずに明瞭に残っており、従
って、電子ビーム1のサイズ,位置,フォーカス状態を
正確に測定することができる。
いて述べる。まず、波形メモリー8に記憶されたファラ
デーカップ6の検出信号は制御CPU9に読み出され、
一次微分処理が施される。一次微分信号に対して、制御
CPU9はフィッティグ処理を行う。このフィッティン
グ処理は、適宜な評価関数を用いて行う。例えば、aが
ビームサイズの1/2、bがビーム位置、cがフォーカ
ス情報とすると、次の評価関数を用いることができる。
−b)/c}−Tanh{(i+a−b)/c} なお、上式でiはビームの走査位置(i=1,2,……
…,n)を示している。フィッティングは、一次微分信
号のn個のデータAiと上記評価関数との差分の2乗和
が最小となるようにパラメータa,b,cを決定する。
すなわち、次式を用いてパラメータが決定される。
出信号を一次微分し、その後にフィッティング処理を行
ったが、この場合には、検出信号のSN比が比較的優れ
ている場合に適用することができる。ファラデーカップ
6の検出信号のSN比が比較的悪い場合には、波形メモ
リー8のn個のデータBi(i=1,2,……,n)と
評価関数Fiとの差分の2乗和
を決定することができる。この場合、評価関数として
は、例えば、非線形最小2乗法を用いた次の関数を用い
ることができる。
{(i+a−b)/c}]+Log[Cosh{(−i
+a+b)/c}] 上記はX方向のビームの測定であるが、同様にしてY方
向のビームの測定が行われる。このようにして、電子ビ
ームのビームサイズ、ビーム位置、フォーカス情報を測
定した後、ビームサイズの調整、ビーム位置の補正、フ
ォーカスの調整が実施され、その後、正規の描画動作が
開始される。
は、非線形最小2乗法を用いている。すなわち、信号波
形モデルと測定データとの残差の2乗和が最小となるよ
うに、信号波形モデルのパラメータを追い込んでいく。
したがって、パラメータの初期値が真値とずれた場合に
計算に時間が掛かっていた。特にビーム位置に関して
は、偏向歪みやビームドリフトによってその位置が変化
しやすく問題となっていた。
もので、その目的は、短時間にカーブフィッティング法
によってビームサイズやビーム位置やフォーカス状態を
正しく測定することができるビームの測定方法を実現す
るにある。
ビームの測定方法は、ビームを直線状のエッジを有した
部材を横切って走査し、この走査に伴って検出されたビ
ームの信号の変化に対してカーブフィッティングを施
し、荷電粒子ビームのビームサイズ、ビーム位置、フォ
ーカス情報の少なくともいずれかを測定するようにした
ビームの測定方法において、ビームの信号の最大値と最
小値の中間値に基づいてあらかじめビームの位置を測定
し、測定されたビーム位置を初期値としてカーブフィッ
ティング処理を施すようにしたことを特徴としている。
値と最小値の中間値に基づいてあらかじめビームの位置
を測定し、測定されたビーム位置を初期値としてカーブ
フィッティング処理を施し、短時間にノイズの影響な
く、各情報を正確に測定する。
は、荷電粒子ビームを直線状のエッジを有した部材を横
切って走査し、この走査に伴って検出された荷電粒子ビ
ームの信号を一次微分し、一次微分信号のn個のデータ
Ai(iは走査位置,i=1,2,………,n)と、a
がビームサイズの1/2、bがビーム位置、cがフォー
カス情報である次の評価関数 Fi(a,b,c)=Tanh{(i−a−b)/c}
−Tanh{(i+a−b)/c} とを用い、データAiと評価関数Fiとの差分の2乗和
が最小となるようにパラメータa,b,cを決定するよ
うにしたビームの測定方法において、荷電粒子ビームの
信号の最大値と最小値の中間値に基づいてあらかじめビ
ームの位置を測定し、測定されたビーム位置を初期値と
してパラメータa,b,cを決定するようにしたことを
特徴としている。
のデータAiと評価関数Fiとの差分の2乗和が最小と
なるようにパラメータa(ビームサイズの1/2),b
(ビーム位置),c(フォーカス情報)を決定するに際
し、荷電粒子ビームの信号の最大値と最小値の中間値に
基づいてあらかじめビームの位置を測定し、測定された
ビーム位置を初期値としてパラメータa,b,cを決定
する。
施の形態を詳細に説明する。本発明によるビームの測定
は、例えば、図8に示した構成で行われるが、図5の構
成と同一部分には同一番号が付されている。すなわち、
電子ビーム1のサイズ,位置,フォーカス状態を測定す
る場合、制御CPU9は偏向回路10を制御し、静電偏
向器3に鋸歯状の偏向信号を印加する。
ビーム1は、X方向に偏向を受ける。電子ビームの偏向
により、電子ビームは徐々にナイフエッジ部材4によっ
て遮蔽され、ファラデーカップ6に入射する電子ビーム
の量は減少する。電子ビーム1がナイフエッジ部材4に
よって完全に遮蔽されると、ファラデーカップ6の検出
電流は0となる。
換器7にてデジタル信号に変換された後、波形メモリー
8に記録される。その後、制御CPU9は波形メモリー
8から波形メモリーデータを読みだし、カーブフィッテ
ィングの前処理として概略ビーム位置を求めたり、カー
ブフィッティング処理を行う。なお、求められた概略ビ
ーム位置は、メモリー15に記憶される。
として指定したビームサイズ、エッジシャープネスの値
を初期値としてカーブフィッティング(非線形最小2乗
法による曲線適合)を行う。このフィッティングの結果
から、ビームサイズ、ビーム位置、フォーカス情報(エ
ッジシャープネス)を短時間に正確に求めることができ
る。
してのビーム位置の測定と、その後のカーブフィッティ
ング処理についてより詳細に説明する。ビーム位置の測
定は、1回ビームをナイフエッジ4の特定のエッジを横
切って走査する。この走査によってファラデーカップ6
によって検出された信号Ai(i=1,2,3,・・・
n)を波形メモリー8に記憶する。
Aiに基づき、制御CPU9はデータの最大値(あるい
は初期値)と最小値(あるいは最終値)との中間値とな
る位置bmid を求め、メモリー15に記憶する。図
9は信号Aiを示しているが、図9(a)はビーム位置
がほぼセンターにある場合、図9(b)はビーム位置が
ずれている場合を示している。
算量はわずかであるため、ビームの概略位置を高速に求
めることができる。カーブフィッティング処理は、非線
形最小2乗法を使って、波形メモリーのn個のデータ、 Ai i=1,2,3,・・・,n と、信号波形モデル式 Fi(a,b,c)=−Log[Cosh{(i+a−
b)/c}]+Log[Cosh{(−i+a+b)/
c}] i=1,2,3,・・・,n との差分の2乗和が最小となるようにパラメータa,
b,cを決定する。すなわち、次式を用いてパラメータ
が決定される。
2、bがビーム位置、cがフォーカス情報(エッジシャ
ープネス)を表している。また、パラメータの初期値と
して、bはbmid を用い、aとcは指定した値を用
いる。
発明は上記形態に限定されない。例えば、入力信号のS
/Nが優れている場合には、微分処理後にフィッティン
グを行っても良い。その場合の信号波形モデルの一例と
して、次の式を用いることができる。
−b)/c}−Tanh{(i+a−b)/c}i =1,2,3,・・・,n また、フィッティングの計算処理は、スピード向上のた
め、制御CPUで行わず、別個のマイクロプロセッサー
を用いても良い。更に、評価関数は、ビームサイズ、ビ
ーム位置、フォーカス情報を表せるものであれば、上式
に限定されるものではない。そして、評価関数を変更す
れば、矩形ビームのみならず、スポットビームにも本発
明を適用することができる。
いて説明したが、イオンビーム装置7レーザービーム装
置にも本発明を適用することができる。更に、ナイフエ
ッジ部材4によって遮蔽され、ファラデーカップ6に入
射する電子ビームの量を検出したが、直線状のエッジを
有した2次電子や反射電子の放出係数の高い材料を用
い、その材料を横切って荷電粒子ビームを走査し、材料
からの2次電子や反射電子を検出するように構成しても
良い。
は、ビームの信号の最大値と最小値の中間値に基づいて
あらかじめビームの位置を測定し、測定されたビーム位
置を初期値としてカーブフィッティング処理を施すよう
にしたので、短時間に、ノイズの影響なく、各情報を正
確に測定することができる。また、検出信号の平滑化処
理を行わないので、フォーカス情報をより正確に測定で
きる。
のデータAiと評価関数Fiとの差分の2乗和が最小と
なるようにパラメータa(ビームサイズの1/2),b
(ビーム位置),c(フォーカス情報)を決定するに際
し、荷電粒子ビームの信号の最大値と最小値の中間値に
基づいてあらかじめビームの位置を測定し、測定された
ビーム位置を初期値としてパラメータa,b,cを決定
するようにしたので、短時間に、ノイズの影響なく、各
情報を正確に測定することができる。また、検出信号の
平滑化処理を行わないので、フォーカス情報をより正確
に測定できる。
を示す図である。
明するための波形図である。
る。
波形を示す図である。
一例を示す図である。
種波形を示す図である。
ある。
出信号波形を示す図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 ビームを直線状のエッジを有した部材を
横切って走査し、この走査に伴って検出されたビームの
信号の変化に対してカーブフィッティングを施し、荷電
粒子ビームのビームサイズ、ビーム位置、フォーカス情
報の少なくともいずれかを測定するようにしたビームの
測定方法において、ビームの信号の最大値と最小値の中
間値に基づいてあらかじめビームの位置を測定し、測定
されたビーム位置を初期値としてカーブフィッティング
処理を施すようにしたことを特徴とするビーム測定方
法。 - 【請求項2】 荷電粒子ビームを直線状のエッジを有し
た部材を横切って走査し、この走査に伴って検出された
荷電粒子ビームの信号を一次微分し、一次微分信号のn
個のデータAi(iは走査位置,i=1,2,………,
n)と、aがビームサイズの1/2、bがビーム位置、
cがフォーカス情報である次の評価関数 Fi(a,b,c)=Tanh{(i−a−b)/c} −Tanh{(i+a−b)/c} とを用い、データAiと評価関数Fiとの差分の2乗和
が最小となるようにパラメータa,b,cを決定するよ
うにしたビームの測定方法において、荷電粒子ビームの
信号の最大値と最小値の中間値に基づいてあらかじめビ
ームの位置を測定し、測定されたビーム位置を初期値と
してパラメータa,b,cを決定するようにしたビーム
の測定方法。
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JP7907698A JP3472127B2 (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | ビームの測定方法 |
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JPH11271459A JPH11271459A (ja) | 1999-10-08 |
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JP7907698A Expired - Fee Related JP3472127B2 (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | ビームの測定方法 |
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Families Citing this family (5)
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JP2002246298A (ja) * | 2001-02-20 | 2002-08-30 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置の結像性能の評価方法及び荷電粒子線露光装置 |
JP2002237444A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置の結像性能の評価方法及び荷電粒子線露光装置 |
JP4397549B2 (ja) * | 2001-07-04 | 2010-01-13 | 株式会社リコー | ビームプロファイル検証方法 |
JP4522267B2 (ja) * | 2005-01-11 | 2010-08-11 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビームの評価方法及び走査方法並びに荷電粒子ビーム装置 |
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Family Cites Families (15)
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JPS54107677A (en) * | 1978-02-10 | 1979-08-23 | Jeol Ltd | Rotation error detection method of apperture in electronic ray exposure and its unit |
JPS5569076A (en) * | 1978-11-21 | 1980-05-24 | Fujitsu Ltd | Measurement system for charge beam shape |
JPS56107185A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-25 | Jeol Ltd | Beam measurement |
JPS56107184A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-25 | Jeol Ltd | Beam measurement |
JPH07107893B2 (ja) * | 1987-03-26 | 1995-11-15 | 株式会社東芝 | 荷電ビ−ム描画方法 |
JPH0395478A (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-19 | Nec Corp | 電子線線量計算におけるパラメータ算出システム |
JPH04270985A (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-28 | Hitachi Medical Corp | 高エネルギー電子ビーム測定装置 |
JPH05312962A (ja) * | 1992-05-15 | 1993-11-26 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線径計測方法 |
JP3280525B2 (ja) * | 1994-09-12 | 2002-05-13 | 日本電信電話株式会社 | 微細構造の構造寸法計測方法 |
JP2778487B2 (ja) * | 1994-10-28 | 1998-07-23 | 株式会社島津製作所 | 放射線撮像装置 |
JP3375778B2 (ja) * | 1995-03-20 | 2003-02-10 | 三菱電機株式会社 | 荷電粒子の軌跡判別方法 |
JP3351671B2 (ja) * | 1995-12-18 | 2002-12-03 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビームの測定方法 |
JPH09190792A (ja) * | 1996-01-11 | 1997-07-22 | Jeol Ltd | 集束ビームのフォーカス調整方法 |
JPH11258185A (ja) * | 1998-03-10 | 1999-09-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | X線による薄膜の解析方法 |
JPH11271458A (ja) * | 1998-03-26 | 1999-10-08 | Jeol Ltd | ビームの測定方法 |
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- 1998-03-26 JP JP7907698A patent/JP3472127B2/ja not_active Expired - Fee Related
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