JPH1050244A - ビーム検出信号の処理回路 - Google Patents
ビーム検出信号の処理回路Info
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- JPH1050244A JPH1050244A JP8205878A JP20587896A JPH1050244A JP H1050244 A JPH1050244 A JP H1050244A JP 8205878 A JP8205878 A JP 8205878A JP 20587896 A JP20587896 A JP 20587896A JP H1050244 A JPH1050244 A JP H1050244A
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- scanning
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- scanning signal
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 走査信号のノイズ等に影響されず、正確な検
出信号を得ることができるビーム検出信号の処理回路を
実現する。 【解決手段】 検出信号はＡＤ変換器１５によってディ
ジタル信号に変換された後、第１の演算回路１６に供給
される。また、走査信号発生回路１１からの走査信号
は、ＡＤ変換器１７によってディジタル信号に変換され
た後、第２の演算回路１８に供給される。走査信号のＡ
Ｄ変換データをＳ（ｉ）とし、検出信号のＡＤ変換デー
タをＤ（ｉ）とすると、第１の演算回路１６は検出信号
の変化量Ｓ（ｉ＋１）−Ｓ（ｉ）を求め、第２の演算回
路１８は走査信号の変化量Ｄ（ｉ＋１）−Ｄ（ｉ）を求
める。この２種の変化量はそれぞれ比較回路１９に供給
され、両者の比Ｈ（ｉ）が求められる。この比Ｈ（ｉ）
は、走査信号に含まれるノイズ成分による影響がなくな
り、理想的な走査信号に基づく検出信号を表すことにな
る。
出信号を得ることができるビーム検出信号の処理回路を
実現する。 【解決手段】 検出信号はＡＤ変換器１５によってディ
ジタル信号に変換された後、第１の演算回路１６に供給
される。また、走査信号発生回路１１からの走査信号
は、ＡＤ変換器１７によってディジタル信号に変換され
た後、第２の演算回路１８に供給される。走査信号のＡ
Ｄ変換データをＳ（ｉ）とし、検出信号のＡＤ変換デー
タをＤ（ｉ）とすると、第１の演算回路１６は検出信号
の変化量Ｓ（ｉ＋１）−Ｓ（ｉ）を求め、第２の演算回
路１８は走査信号の変化量Ｄ（ｉ＋１）−Ｄ（ｉ）を求
める。この２種の変化量はそれぞれ比較回路１９に供給
され、両者の比Ｈ（ｉ）が求められる。この比Ｈ（ｉ）
は、走査信号に含まれるノイズ成分による影響がなくな
り、理想的な走査信号に基づく検出信号を表すことにな
る。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、電子ビーム描画装置や
イオンビーム装置あるいはレーザービーム装置などのビ
ームを用いた装置において、ビームの走査に基づいて検
出された信号の処理回路に関する。
イオンビーム装置あるいはレーザービーム装置などのビ
ームを用いた装置において、ビームの走査に基づいて検
出された信号の処理回路に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、電子ビーム描画装置では、実際
の描画動作に先だって、描画に用いる電子ビームのサイ
ズや位置、あるいは、電子ビームのフォーカスの状態を
測定し、その測定結果に基づいて電子ビームの調整を行
っている。図１はこのような電子ビームの測定に用いら
れる装置の一例を示しており、１は測定される電子ビー
ムである。電子ビーム１は図示していないが、２枚の矩
形スリットと、２枚の矩形スリットの間に設けられた偏
向器によって断面が矩形に形成されている。
の描画動作に先だって、描画に用いる電子ビームのサイ
ズや位置、あるいは、電子ビームのフォーカスの状態を
測定し、その測定結果に基づいて電子ビームの調整を行
っている。図１はこのような電子ビームの測定に用いら
れる装置の一例を示しており、１は測定される電子ビー
ムである。電子ビーム１は図示していないが、２枚の矩
形スリットと、２枚の矩形スリットの間に設けられた偏
向器によって断面が矩形に形成されている。
【０００３】電子ビーム１は、最終段レンズ２によって
集束され、更に、静電偏向器３によって偏向を受ける。
偏向器３の下部には、ナイフエッジ部材４が配置されて
いるが、ナイフエッジ部材４は矩形の開口が設けられて
おり、その各内側は薄く直線状に形成されている。ナイ
フエッジ部材４の下部には、散乱された電子ビームをカ
ットするアパーチャ５が設けられ、更にその下部には、
電子ビームの電流量を検出するファラデーカップ６が配
置されている。
集束され、更に、静電偏向器３によって偏向を受ける。
偏向器３の下部には、ナイフエッジ部材４が配置されて
いるが、ナイフエッジ部材４は矩形の開口が設けられて
おり、その各内側は薄く直線状に形成されている。ナイ
フエッジ部材４の下部には、散乱された電子ビームをカ
ットするアパーチャ５が設けられ、更にその下部には、
電子ビームの電流量を検出するファラデーカップ６が配
置されている。
【０００４】上記の構成で、偏向器３に図２（ａ）に示
す鋸歯状の偏向信号を印加すると、矩形の電子ビーム１
は、Ｘ方向に偏向を受ける。電子ビームの偏向により、
電子ビームは徐々にナイフエッジ部材４によって遮蔽さ
れ、ファラデーカップ６に入射する電子ビームの量は減
少する。電子ビーム１がナイフエッジ部材４によって完
全に遮蔽されると、ファラデーカップ６の検出電流は０
となる。
す鋸歯状の偏向信号を印加すると、矩形の電子ビーム１
は、Ｘ方向に偏向を受ける。電子ビームの偏向により、
電子ビームは徐々にナイフエッジ部材４によって遮蔽さ
れ、ファラデーカップ６に入射する電子ビームの量は減
少する。電子ビーム１がナイフエッジ部材４によって完
全に遮蔽されると、ファラデーカップ６の検出電流は０
となる。
【０００５】図２（ｂ）は、ファラデーカップ６の検出
電流を示しており、この検出電流信号を１回微分する
と、図２（ｃ）の信号が得られる。更に、図２（ｃ）の
信号を再度微分すると、図２（ｄ）の信号が得られる。
この図２（ｄ）で横軸は電子ビームの走査位置であり、
信号の２つのピーク間の距離に基づいて電子ビームのサ
イズが求められる。また、２つのピーク位置の中間位置
に基づいて、電子ビームの位置が判明する。更に、ピー
クの波高値は、電子ビームのフォーカスの状態を示して
いる。
電流を示しており、この検出電流信号を１回微分する
と、図２（ｃ）の信号が得られる。更に、図２（ｃ）の
信号を再度微分すると、図２（ｄ）の信号が得られる。
この図２（ｄ）で横軸は電子ビームの走査位置であり、
信号の２つのピーク間の距離に基づいて電子ビームのサ
イズが求められる。また、２つのピーク位置の中間位置
に基づいて、電子ビームの位置が判明する。更に、ピー
クの波高値は、電子ビームのフォーカスの状態を示して
いる。
【０００６】このようにして得られたビームサイズ、ビ
ーム位置、フォーカス状態により、電子ビームの各種調
整が行われ、その後に正規の描画動作が実行される。な
お、上記した説明では、電子ビームをナイフエッジ部材
４を横切って走査し、ナイフエッジ部材４を透過した電
子ビームを検出したが、材料上のマークの直線状のエッ
ジを横切って電子ビームを走査し、マーク部分からの反
射電子等を検出し、この検出信号に基づいて電子ビーム
の各種調整を行っても良い。このマークを横切っての電
子ビームの走査に基づいて検出された信号の例を図２
（ｅ）に示す。
ーム位置、フォーカス状態により、電子ビームの各種調
整が行われ、その後に正規の描画動作が実行される。な
お、上記した説明では、電子ビームをナイフエッジ部材
４を横切って走査し、ナイフエッジ部材４を透過した電
子ビームを検出したが、材料上のマークの直線状のエッ
ジを横切って電子ビームを走査し、マーク部分からの反
射電子等を検出し、この検出信号に基づいて電子ビーム
の各種調整を行っても良い。このマークを横切っての電
子ビームの走査に基づいて検出された信号の例を図２
（ｅ）に示す。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記した電子ビームの
サイズ等の測定において、図２（ｂ）や図２（ｅ）に示
した検出信号は、通常ノイズ成分が含まれている。その
原因としては、電子ビームを走査させるための走査信号
にノイズやビットオフエラー等が重畳することが挙げら
れる。
サイズ等の測定において、図２（ｂ）や図２（ｅ）に示
した検出信号は、通常ノイズ成分が含まれている。その
原因としては、電子ビームを走査させるための走査信号
にノイズやビットオフエラー等が重畳することが挙げら
れる。
【０００８】図３（ａ）は走査電圧信号の特性を示して
おり、点線のＳａがノイズ成分等を含まない理想的な走
査電圧特性であり、実線のＳｂがノイズやエラーを含ん
だ走査電圧特性である。図３（ｂ）は検出信号特性を示
しており、点線のＤａがノイズ成分等を含まない理想的
な走査信号（Ｓａ）に基づいて検出された信号特性であ
り、実線のＤｂがノイズやエラーを含んだ走査信号（Ｓ
ｂ）に基づいて検出された信号特性である。
おり、点線のＳａがノイズ成分等を含まない理想的な走
査電圧特性であり、実線のＳｂがノイズやエラーを含ん
だ走査電圧特性である。図３（ｂ）は検出信号特性を示
しており、点線のＤａがノイズ成分等を含まない理想的
な走査信号（Ｓａ）に基づいて検出された信号特性であ
り、実線のＤｂがノイズやエラーを含んだ走査信号（Ｓ
ｂ）に基づいて検出された信号特性である。
【０００９】このようなノイズ成分を含んだ信号を微分
処理してビームサイズ，位置，フォーカス状態の測定を
行っても正確にそれらの値を得ることはできない。本発
明は、このような点に鑑みてなされたもので、その目的
は、走査信号のノイズ等に影響されず、正確な検出信号
を得ることができるビーム検出信号の処理回路を実現す
るにある。
処理してビームサイズ，位置，フォーカス状態の測定を
行っても正確にそれらの値を得ることはできない。本発
明は、このような点に鑑みてなされたもので、その目的
は、走査信号のノイズ等に影響されず、正確な検出信号
を得ることができるビーム検出信号の処理回路を実現す
るにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に基づく
ビーム検出信号の処理回路は、ビームを直線状のエッジ
を有した部材を横切って走査し、この走査に伴って得ら
れた信号を検出し、この検出信号を処理する回路におい
て、検出信号の変化量と走査信号の相関演算を行うよう
にしたことを特徴としている。
ビーム検出信号の処理回路は、ビームを直線状のエッジ
を有した部材を横切って走査し、この走査に伴って得ら
れた信号を検出し、この検出信号を処理する回路におい
て、検出信号の変化量と走査信号の相関演算を行うよう
にしたことを特徴としている。
【００１１】請求項１の発明では、検出信号の変化量と
走査信号の変化量の相関演算を行い、この演算結果に基
づいて信号の処理を行う。請求項２の発明に基づくビー
ム検出信号の処理回路は、検出信号の変化量と走査信号
の変化量の比を求めるようにしたことを特徴としてい
る。
走査信号の変化量の相関演算を行い、この演算結果に基
づいて信号の処理を行う。請求項２の発明に基づくビー
ム検出信号の処理回路は、検出信号の変化量と走査信号
の変化量の比を求めるようにしたことを特徴としてい
る。
【００１２】請求項２の発明では、検出信号の変化量と
走査信号の変化量の比を求め、この比の信号に基づいて
信号の処理を行う。請求項３の発明に基づくビーム検出
信号の処理回路は、検出信号の変化量と走査信号の相関
演算結果に基づいて、ビームのビームサイズ、ビーム位
置、フォーカス情報の少なくともいずれかを測定するよ
うにしたことを特徴としている。
走査信号の変化量の比を求め、この比の信号に基づいて
信号の処理を行う。請求項３の発明に基づくビーム検出
信号の処理回路は、検出信号の変化量と走査信号の相関
演算結果に基づいて、ビームのビームサイズ、ビーム位
置、フォーカス情報の少なくともいずれかを測定するよ
うにしたことを特徴としている。
【００１３】請求項３の発明では、検出信号の変化量と
走査信号の相関演算の結果に基づいて、ビームのビーム
サイズ、ビーム位置、フォーカス情報の少なくともいず
れかを測定する。
走査信号の相関演算の結果に基づいて、ビームのビーム
サイズ、ビーム位置、フォーカス情報の少なくともいず
れかを測定する。
【００１４】請求項４の発明に基づくビーム検出信号の
処理回路は、走査信号を記憶するメモリーを設け、メモ
リー内に走査信号のデータを走査速度を遅くした状態で
供給して格納し、検出信号の変化量と走査信号の変化量
の相関演算を行う際には、走査信号データをこのメモリ
ーから読み出しその変化量を得るようにしたことを特徴
としている。
処理回路は、走査信号を記憶するメモリーを設け、メモ
リー内に走査信号のデータを走査速度を遅くした状態で
供給して格納し、検出信号の変化量と走査信号の変化量
の相関演算を行う際には、走査信号データをこのメモリ
ーから読み出しその変化量を得るようにしたことを特徴
としている。
【００１５】請求項４の発明では、メモリー内に走査信
号のデータを走査速度を遅くした状態で供給して格納
し、検出信号の変化量と走査信号の変化量の相関演算を
行う際には、走査信号データをこのメモリーから読み出
しその変化量を得る。
号のデータを走査速度を遅くした状態で供給して格納
し、検出信号の変化量と走査信号の変化量の相関演算を
行う際には、走査信号データをこのメモリーから読み出
しその変化量を得る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図４は本発明に基づく電子
ビーム検出信号の処理回路の一例を示しており、図１の
従来装置と同一番号は同一ないしは類似の構成要素を示
す。この実施の形態で、最終段集束レンズ２によって電
子ビームＥＢは被描画材料１０上に集束され、更に、偏
向器３により被描画材料１０上で走査される。この偏向
器３には走査信号発生回路１１から走査信号が供給され
る。
施の形態を詳細に説明する。図４は本発明に基づく電子
ビーム検出信号の処理回路の一例を示しており、図１の
従来装置と同一番号は同一ないしは類似の構成要素を示
す。この実施の形態で、最終段集束レンズ２によって電
子ビームＥＢは被描画材料１０上に集束され、更に、偏
向器３により被描画材料１０上で走査される。この偏向
器３には走査信号発生回路１１から走査信号が供給され
る。
【００１７】被描画材料１０上には、マーク部材１２が
設けられており、電子ビームはこのマーク部材１２の直
線状のエッジを横切って走査される。電子ビームの被描
画材料１０上での走査に伴って発生した反射電子は、反
射電子検出器１３によって検出される。
設けられており、電子ビームはこのマーク部材１２の直
線状のエッジを横切って走査される。電子ビームの被描
画材料１０上での走査に伴って発生した反射電子は、反
射電子検出器１３によって検出される。
【００１８】検出器１３によって検出された信号は、増
幅器１４によって増幅され、ＡＤ変換器１５によってデ
ィジタル信号に変換された後、第１の演算回路１６に供
給される。また、走査信号発生回路１１からの走査信号
はＡＤ変換器１７によってディジタル信号に変換された
後、第２の演算回路１８に供給される。
幅器１４によって増幅され、ＡＤ変換器１５によってデ
ィジタル信号に変換された後、第１の演算回路１６に供
給される。また、走査信号発生回路１１からの走査信号
はＡＤ変換器１７によってディジタル信号に変換された
後、第２の演算回路１８に供給される。
【００１９】第１の演算回路１６と第２の演算回路１８
は、それぞれ入力信号の変化量を求め、比較回路１９に
供給する。比較回路１９は２種の入力信号の比を求め、
その値をコンピュータのごとき制御回路２０に供給す
る。制御回路２０は入力信号に基づいて、電子ビームの
サイズ，位置，フォーカス状態等を測定する。このよう
な構成の動作を次に説明する。
は、それぞれ入力信号の変化量を求め、比較回路１９に
供給する。比較回路１９は２種の入力信号の比を求め、
その値をコンピュータのごとき制御回路２０に供給す
る。制御回路２０は入力信号に基づいて、電子ビームの
サイズ，位置，フォーカス状態等を測定する。このよう
な構成の動作を次に説明する。
【００２０】さて、電子ビームのサイズ，位置，フォー
カス状態等を測定する場合、まず被描画材料１０を移動
させ、マーク部材１２を電子ビームＥＢの光軸上に配置
する。次に制御回路２０は走査信号発生回路１１を制御
し、静電偏向器３に鋸歯状の偏向信号を印加する。この
偏向信号の印加に伴って、矩形の電子ビームＥＢは、マ
ーク部材１２の直線状のエッジを横切る方向に偏向を受
ける。
カス状態等を測定する場合、まず被描画材料１０を移動
させ、マーク部材１２を電子ビームＥＢの光軸上に配置
する。次に制御回路２０は走査信号発生回路１１を制御
し、静電偏向器３に鋸歯状の偏向信号を印加する。この
偏向信号の印加に伴って、矩形の電子ビームＥＢは、マ
ーク部材１２の直線状のエッジを横切る方向に偏向を受
ける。
【００２１】電子ビームの偏向により、電子ビームは徐
々にマーク部材１２上に照射され、検出器１３によって
検出された反射電子強度は、偏向器３に供給される走査
信号が図３（ａ）の場合、図３（ｂ）に示すように変化
する。この検出信号は増幅器１４によって増幅され、Ａ
Ｄ変換器１５によってディジタル信号に変換された後、
第１の演算回路１６に供給される。また、走査信号発生
回路１１からの走査信号は、ＡＤ変換器１７によってデ
ィジタル信号に変換された後、第２の演算回路１８に供
給される。
々にマーク部材１２上に照射され、検出器１３によって
検出された反射電子強度は、偏向器３に供給される走査
信号が図３（ａ）の場合、図３（ｂ）に示すように変化
する。この検出信号は増幅器１４によって増幅され、Ａ
Ｄ変換器１５によってディジタル信号に変換された後、
第１の演算回路１６に供給される。また、走査信号発生
回路１１からの走査信号は、ＡＤ変換器１７によってデ
ィジタル信号に変換された後、第２の演算回路１８に供
給される。
【００２２】ここで、走査信号のＡＤ変換データをＳ
（ｉ）とし、検出信号のＡＤ変換データをＤ（ｉ）とす
る。なお、ｉは走査位置である。第１の演算回路１６は
検出信号の変化量Ｓ（ｉ＋１）−Ｓ（ｉ）を求め、第２
の演算回路１８は走査信号の変化量Ｄ（ｉ＋１）−Ｄ
（ｉ）を求める。この２種の変化量はそれぞれ比較回路
１９に供給され、両者の比Ｈ（ｉ）が求められる。この
比Ｈ（ｉ）は次のように表される。
（ｉ）とし、検出信号のＡＤ変換データをＤ（ｉ）とす
る。なお、ｉは走査位置である。第１の演算回路１６は
検出信号の変化量Ｓ（ｉ＋１）−Ｓ（ｉ）を求め、第２
の演算回路１８は走査信号の変化量Ｄ（ｉ＋１）−Ｄ
（ｉ）を求める。この２種の変化量はそれぞれ比較回路
１９に供給され、両者の比Ｈ（ｉ）が求められる。この
比Ｈ（ｉ）は次のように表される。
【００２３】Ｈ（ｉ）＝｛Ｓ（ｉ＋１）−Ｓ（ｉ）｝／
｛Ｄ（ｉ＋１）−Ｄ（ｉ）｝ この比Ｈ（ｉ）は、走査信号に含まれるノイズ成分によ
る影響がなくなり、理想的な走査信号に基づく検出信号
を表すことになる。図５は検出信号の変化量、すなわち
走査信号の微分波形を示したもので、ΔＤ１ が走査信
号に含まれるノイズ成分が除去された微分波形（比Ｈ
（ｉ）の信号波形）を示し、ΔＤ２ が、比を求めない
従来方法により得られた検出信号の微分波形である。
｛Ｄ（ｉ＋１）−Ｄ（ｉ）｝ この比Ｈ（ｉ）は、走査信号に含まれるノイズ成分によ
る影響がなくなり、理想的な走査信号に基づく検出信号
を表すことになる。図５は検出信号の変化量、すなわち
走査信号の微分波形を示したもので、ΔＤ１ が走査信
号に含まれるノイズ成分が除去された微分波形（比Ｈ
（ｉ）の信号波形）を示し、ΔＤ２ が、比を求めない
従来方法により得られた検出信号の微分波形である。
【００２４】この比Ｈ（ｉ）の信号は、比較回路１９か
ら制御回路２０に供給され、更に、微分処理等が施され
て、従来と同様に電子ビームのビームサイズ、ビーム位
置、フォーカスの状態などが測定される。
ら制御回路２０に供給され、更に、微分処理等が施され
て、従来と同様に電子ビームのビームサイズ、ビーム位
置、フォーカスの状態などが測定される。
【００２５】上記はＸ方向のビームの測定であるが、同
様にしてＹ方向のビームの測定が行われる。このように
して、電子ビームのビームサイズ、ビーム位置、フォー
カス情報を測定した後、ビームサイズの調整、ビーム位
置の補正、フォーカスの調整が実施され、その後、正規
の描画動作が開始される。
様にしてＹ方向のビームの測定が行われる。このように
して、電子ビームのビームサイズ、ビーム位置、フォー
カス情報を測定した後、ビームサイズの調整、ビーム位
置の補正、フォーカスの調整が実施され、その後、正規
の描画動作が開始される。
【００２６】図６は本発明の他の実施の形態を示してお
り、図４の装置と同一部分には同一番号が付されてい
る。この図６の形態では、初期段階において走査信号発
生回路１１からの走査信号は、ＤＡ変換器１７によって
ディジタル信号に変換された後、メモリー２１に供給さ
れて記憶される。この時、走査信号発生回路１１からの
走査信号の速度は遅くされ、走査信号は正確にメモリー
２１に記憶される。
り、図４の装置と同一部分には同一番号が付されてい
る。この図６の形態では、初期段階において走査信号発
生回路１１からの走査信号は、ＤＡ変換器１７によって
ディジタル信号に変換された後、メモリー２１に供給さ
れて記憶される。この時、走査信号発生回路１１からの
走査信号の速度は遅くされ、走査信号は正確にメモリー
２１に記憶される。
【００２７】実際の測定に際しては、走査信号発生回路
１１からの走査信号は、測定モード時の比較的速い走査
速度で行われ、メモリー２１からは走査信号に同期して
読み出された正確な走査信号が第２の演算回路１８に供
給されて走査信号の変化量が求められる。
１１からの走査信号は、測定モード時の比較的速い走査
速度で行われ、メモリー２１からは走査信号に同期して
読み出された正確な走査信号が第２の演算回路１８に供
給されて走査信号の変化量が求められる。
【００２８】この変化量信号が比較回路１９に供給さ
れ、第１の演算回路１６からの検出信号の変化量との比
が求められる。このように、この実施の形態では、事前
に走査信号を遅い速度で発生させ、正確にメモリーに記
憶させ、走査信号の変化量をメモリーに記憶した走査信
号により得るようにしたので、より正確な演算を実行す
ることができる。なお、走査信号発生回路１１からの走
査信号に含まれるノイズは、時間によって変化すること
はほとんどない。
れ、第１の演算回路１６からの検出信号の変化量との比
が求められる。このように、この実施の形態では、事前
に走査信号を遅い速度で発生させ、正確にメモリーに記
憶させ、走査信号の変化量をメモリーに記憶した走査信
号により得るようにしたので、より正確な演算を実行す
ることができる。なお、走査信号発生回路１１からの走
査信号に含まれるノイズは、時間によって変化すること
はほとんどない。
【００２９】以上本発明の実施の形態を説明したが、本
発明は上記形態に限定されない。例えば、上記実施の形
態では電子ビームを用いて説明したが、イオンビーム装
置やレーザービーム装置にも本発明を適用することがで
きる。また、反射電子を検出するようにしたが２次電子
を検出するようにしても良い。更に、直線状のエッジを
有した２次電子や反射電子の放出係数の高い材料を用
い、その材料を横切って荷電粒子ビームを走査し、材料
からの２次電子や反射電子を検出するように構成した
が、ナイフエッジ部材によって遮蔽され、ファラデーカ
ップに入射する電子ビームの量を検出する場合にも本発
明を適用することができる。
発明は上記形態に限定されない。例えば、上記実施の形
態では電子ビームを用いて説明したが、イオンビーム装
置やレーザービーム装置にも本発明を適用することがで
きる。また、反射電子を検出するようにしたが２次電子
を検出するようにしても良い。更に、直線状のエッジを
有した２次電子や反射電子の放出係数の高い材料を用
い、その材料を横切って荷電粒子ビームを走査し、材料
からの２次電子や反射電子を検出するように構成した
が、ナイフエッジ部材によって遮蔽され、ファラデーカ
ップに入射する電子ビームの量を検出する場合にも本発
明を適用することができる。
【００３０】更にまた、検出信号の変化量と走査信号の
変化量の比を求め、この比の信号に基づいて信号の処理
を行うようにしたが、このような相関演算のみではな
く、他の相関演算処理を行ってノイズの影響を除去して
も良い。
変化量の比を求め、この比の信号に基づいて信号の処理
を行うようにしたが、このような相関演算のみではな
く、他の相関演算処理を行ってノイズの影響を除去して
も良い。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明で
は、検出信号の変化量と走査信号の変化量の相関演算を
行い、相関演算の結果に基づいて信号の処理を行うよう
にしたので、検出信号から走査信号に含まれるノイズの
影響を除去することができる。
は、検出信号の変化量と走査信号の変化量の相関演算を
行い、相関演算の結果に基づいて信号の処理を行うよう
にしたので、検出信号から走査信号に含まれるノイズの
影響を除去することができる。
【００３２】請求項２の発明では、検出信号の変化量と
走査信号の変化量の比を求め、この比の信号に基づいて
信号の処理を行うようにしたので、検出信号から走査信
号に含まれるノイズの影響を除去することができる。
走査信号の変化量の比を求め、この比の信号に基づいて
信号の処理を行うようにしたので、検出信号から走査信
号に含まれるノイズの影響を除去することができる。
【００３３】請求項３の発明に基づく荷電粒子ビーム検
出信号の処理回路は、検出信号の変化量と走査信号の変
化量の相関演算結果に基づいて、ビームのビームサイ
ズ、ビーム位置、フォーカス情報の少なくともいずれか
を測定するようにしたので、各種の測定を正確に行うこ
とができる。
出信号の処理回路は、検出信号の変化量と走査信号の変
化量の相関演算結果に基づいて、ビームのビームサイ
ズ、ビーム位置、フォーカス情報の少なくともいずれか
を測定するようにしたので、各種の測定を正確に行うこ
とができる。
【００３４】請求項４の発明では、メモリー内に走査信
号のデータを走査速度を遅くした状態で供給して格納
し、検出信号の変化量と走査信号の変化量の相関演算を
行う際には、走査信号データをこのメモリーから読み出
しその変化量を得るようにしたので、実際の測定時の速
い走査速度であっても、正確な走査信号の変化量を求め
ることができる。
号のデータを走査速度を遅くした状態で供給して格納
し、検出信号の変化量と走査信号の変化量の相関演算を
行う際には、走査信号データをこのメモリーから読み出
しその変化量を得るようにしたので、実際の測定時の速
い走査速度であっても、正確な走査信号の変化量を求め
ることができる。
【図１】従来の電子ビーム測定に用いられる装置の一例
を示す図である。
を示す図である。
【図２】電子ビーム測定のための基本的な信号処理を説
明するための波形図である。
明するための波形図である。
【図３】従来の信号処理による各種波形を示す図であ
る。
る。
【図４】本発明に基づく電子ビーム検出信号の処理回路
の一例を示す図である。
の一例を示す図である。
【図５】検出信号の微分波形を示す図である。
【図６】本発明に基づく電子ビーム検出信号の処理回路
の他の例を示す図である。
の他の例を示す図である。
２ 集束レンズ ３ 静電偏向器 １０ 被描画材料 １１ 走査信号発生回路 １２ マーク部材 １３ 反射電子検出器 １４ 増幅器 １５，１７ ＡＤ変換器 １６，１８ 演算回路 １９ 比較回路 ２０ 制御装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５５１
Claims (4)
- 【請求項１】 ビームを直線状のエッジを有した部材を
横切って走査し、この走査に伴って得られた信号を検出
し、この検出信号を処理する回路において、検出信号の
変化量と走査信号の変化量の相関演算を行うようにした
ビーム検出信号の処理回路。 - 【請求項２】 相関演算は検出信号の変化量と走査信号
の変化量の比を求めるようにした請求項１記載のビーム
検出信号の処理回路。 - 【請求項３】 検出信号の変化量と走査信号の相関演算
結果に基づいて、ビームのビームサイズ、ビーム位置、
フォーカス情報の少なくともいずれかを測定するように
した請求項１記載のビーム検出信号の処理回路。 - 【請求項４】 走査信号を記憶するメモリーを設け、メ
モリー内に走査信号のデータを走査速度を遅くした状態
で供給して格納し、検出信号の変化量と走査信号の変化
量の相関演算を行う際には、走査信号データをこのメモ
リーから読み出しその変化量を得るようにした請求項１
記載のビーム検出信号の処理回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8205878A JPH1050244A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | ビーム検出信号の処理回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8205878A JPH1050244A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | ビーム検出信号の処理回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1050244A true JPH1050244A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16514235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8205878A Withdrawn JPH1050244A (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | ビーム検出信号の処理回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1050244A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002237444A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置の結像性能の評価方法及び荷電粒子線露光装置 |
| JP2002246298A (ja) * | 2001-02-20 | 2002-08-30 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置の結像性能の評価方法及び荷電粒子線露光装置 |
-
1996
- 1996-08-05 JP JP8205878A patent/JPH1050244A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002237444A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置の結像性能の評価方法及び荷電粒子線露光装置 |
| JP2002246298A (ja) * | 2001-02-20 | 2002-08-30 | Nikon Corp | 荷電粒子線露光装置の結像性能の評価方法及び荷電粒子線露光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031007 |