JP3465999B2 - 離型シート又は離型フィルムの製造方法 - Google Patents
離型シート又は離型フィルムの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、両面テープ用、ラベル
用、工程用等に使用される、片面又は両面が離型処理さ
れた離型シート又は離型フィルムの製造方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】離型シート又は離型フィルムは、例え
ば、両面テープやラベルなどの粘着剤層の保護のために
使用され、両面テープやラベル製品の使用時に表面から
剥離されて廃棄されたり、キャストコートや各種成形工
業品の製造に際し粘着剤層を一時的に形成するための工
程用として使用される。 【０００３】従来、離型シート又は離型フィルムの多く
は、基材シート又はフィルムの片面又は両面に、離型剤
が塗工されたものであった。このような離型剤として
は、アルキルウレタン基を持ったセルロース誘導体のよ
うな長鎖アルキル基含有ポリマー系（特公昭３４−９７
６号公報参照）や熱硬化型シリコーンのようなシリコー
ンポリマー系（例えば、特開平２−１９１７９６号公報
参照）のものが使用され、処理方法としては、マイヤー
バーコーターやグラビヤコーターで塗布する方式が取ら
れている。 【０００４】これらの離型剤は溶剤に溶解されて使用さ
れるものが主であり、この場合、処理時の安全面及び労
働環境面に問題がある。 【０００５】上記長鎖アルキル基含有ポリマー系は、耐
熱温度が約６０℃であるため、工程用として使用する場
合には高温度をかけることができないので生産性が悪
く、両面テープやラベル用として使う場合には製品の熱
経時（５０℃）安定性に難があり、具体的には離型シー
ト又は離型フィルムと両面テープやラベルの剥離力の水
準が大きくなり実用に耐えなくなる、などの問題があ
る。 【０００６】上記シリコーンポリマー系離型剤は、重合
形式により付加重合型と縮合重合型に分類されるが、付
加重合型のものでは、シリコーンの低分子物がブリード
し、粘着剤層に移行し、粘着力の低下を起こすこと、及
び重合時に未反応であったモノマーのビニル基が静電気
を帯電したほこり等を吸着し、離型性が低下し展開力が
大きくなること、という問題があり、縮合重合型のもの
では、硬化時間が長いため、生産性が悪いという問題が
ある。また、いずれの型のものでも、シリコーンポリマ
ーの硬化に２００℃以上の高温が必要なため、大掛かり
な硬化炉となり、スペースを大きくとるという問題があ
る。 【０００７】また、離型処理の方法としては、基材シー
ト又はフィルムに、フッ素含有ガスを用いた低圧プラズ
マ処理をすることによって、フッ素化することも提案さ
れている（特開昭５５−１６５９２５号公報参照）が、
この場合は、低圧を維持するための設備が複雑、かつ高
価なものとなるばかりでなく、離型シート又は離型フィ
ルムの連続生産には不向きであるという問題がある。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決するものであり、その目的は、生産性が高く、経
時的に剥離力が大きくならず、離型剤と基材シート又は
フィルムとの密着性に優れた、離型シート又は離型フィ
ルムの製造方法を提供することにある。 【０００９】 【課題を解決するための手段】本発明は、基材シート又
はフィルムを、少なくとも一方の対向面に固体誘電体が
配設された対向する金属電極間に配置して、１０体積％
以下のフッ素原子含有ガスと残部が不活性ガスからなる
混合ガスの大気圧近傍の圧力下で、該金属電極間に電圧
を印加することにより発生した放電プラズマで該基材シ
ート又はフィルムを処理することにより、水に対する接
触角を１００度以上とすることを特徴とする離型シート
又は離型フィルムの製造方法である。 【００１０】上記基材シート又はフィルムの種類として
は、従来より離型シート又は離型フィルムに使用されて
いるものであれば、特に限定されない。例えば、クルパ
ック加工クラフト紙（晒し、未晒し共に使用可能）、一
般上質紙、グラシン紙等の紙ベース；ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等のフィル
ムベースが挙げられる。上記の紙ベースにおいては、表
面改質のためにクレー、タルク、炭酸カルシウム、ポリ
エチレン、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、紙
力剤、サイズ剤など使用されたものでもよい。 【００１１】上記フッ素原子含有ガスとしては、例え
ば、テトラフロロメタン（ＣＦ4 ）、ヘキサフロロエタ
ン（Ｃ2 Ｆ6 ）、ヘキサフロロプロピレン（Ｃ3 Ｆ6 ）
等のフッ化炭素；モノクロロトリフロロメタン（ＣＣｌ
Ｆ3)等のハロゲン化フッ化炭素；ヘキサフロロサルファ
イド（ＳＦ6 ）などが挙げられ、安全であり、かつプラ
ズマ中でフッ化水素等の有害ガスを発生しないＣＦ4 、
Ｃ2 Ｆ6 、Ｃ3 Ｆ6 等が特に好ましい。フッ素原子含有
ガスは、単独で使用されてもよいし、併用されてもよ
い。 【００１２】上記の不活性ガスとしては、ヘリウム、ア
ルゴン、ネオン、キセノン等の希ガスや窒素ガスが単独
又は混合して使用されるが、ヘリウムが準安定状態で寿
命が長く、フッ素原子含有ガスを励起するのに有利なた
め好ましい。不活性ガスとしてヘリウム以外のガスを使
用する場合は、安定な放電プラズマを発生させるため
に、アセトンやメタノール等の有機物蒸気、メタン、エ
タン等の炭化水素ガスを２体積％以下の割合で混合する
のが好ましい。 【００１３】フッ素原子含有ガスと不活性ガスとの混合
割合は、使用するガスの種類によって変わるが、フッ素
原子含有ガスの相対濃度が低くなるとフッ素化の程度が
不十分となり、得られた離型シート又は離型フィルムの
水に対する接触角が１００度未満となり易く、高くなる
とアーク放電が発生し易くなり、更に高くなると、高い
電圧を印加しても放電プラズマを発生しなくなるので、
フッ素原子含有ガス濃度は１０体積％以下に限定され、
好ましくは０．１〜１０体積％である。 【００１４】上記のフッ素原子含有ガスと不活性ガスか
らなる混合ガスの圧力は、大気圧近傍に限定されるが、
具体的には、１００〜８００Ｔｏｒｒの圧力であり、圧
力調整が容易で装置が簡便で済むため、７００〜７８０
Ｔｏｒｒが好ましい。 【００１５】本発明で得られる離型シート又は離型フィ
ルムは、その処理面の水に対する接触角が１００度以上
とされる。水に対する接触角が１００度未満になると離
型性が不十分となる。 【００１６】以下に、本発明におけるプラズマ処理工程
について図面によって説明する。図１は、本発明に使用
されるプラズマ処理装置の一例を示す説明図である。こ
の装置は、電源部１、処理容器２、上部金属電極４、下
部金属電極５から構成されている。電源部１は、ｋＨｚ
台の周波数の電源が印加可能とされるが、耐熱性の低い
基材シート又はフィルムにプラズマ処理するには、基材
への影響が少ない１０〜３０ｋＨｚの周波数が好まし
い。 【００１７】放電プラズマの発生は、電極への電圧印加
によって行うが、電界強度が低くなると、プラズマ密度
が小さくなるので処理時間がかかり、高くなると、誘電
体が高温になりアーク放電に移行する挙動を示すので、
電界強度が５〜４０ｋＶ／ｃｍ程度になるように電圧印
加するのが好ましい。 【００１８】処理容器２は、上面２ａと底面２ｂがステ
ンレス製、側面２ｃがポリメチルメタクリレート製であ
り、上面２ａと上部電極４との間に絶縁体２ｄが配設さ
れている。処理容器２の材質は、これに限らず、全てが
プラスチック製、ガラス製でも構わないし、電極と絶縁
がとれているならば、ステンレスやアルミニウム等の金
属製でも構わない。 【００１９】処理容器２は、基材シート又はフィルムを
連続してプラズマ処理できるように、基材シート又はフ
ィルムの処理容器２への入口部と出口部となるための、
スリット１２、１２がその両側面にあけられている。ま
た、上記のスリット１２、１２は、必要に応じて処理容
器２を密閉できるように開閉可能とされている。 【００２０】処理容器２内に一対の対向する平行平板型
の上部金属電極４と下部金属電極５が配設されている。
なお、電極配置構造としては、平行平板型以外にも、同
軸円筒型、円筒対向平板型、球対向平板型、双曲面対向
平板型でも、また、複数の細線と平板からなるものでも
構わない。電極の材質は、金属であれば、特に限定され
ず、例えば、ステンレス、真鍮等の多成分系の金属で
も、銅、アルミニウム等の純金属でも良い。放電プラズ
マによる表面処理部３は、対向する上部金属電極４と下
部金属電極５の間の空間である。 【００２１】本発明においては、金属電極の少なくとも
一方の対向面に固体誘電体が配設される。具体的には、
上部金属電極４と下部金属電極５の少なくとも一方の対
向面に固体誘電体６が配設される。図１の装置において
は、下部金属電極５の上に固体誘電体６が配設されてい
る。固体誘電体６は、相対する電極の対向面の全面に配
設される必要がある。一部でも、対向面が露出している
とプラズマ処理時にアーク放電が生じる。固体誘電体６
は、図１に示すように、必ずしも下部金属電極５の上に
配設される必要はなく、上部金属電極４側に配設されて
も構わないし、両電極に配設されても構わない。 【００２２】固体誘電体６としては、例えば、ポリテト
ラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）やポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）等のプラスチック；シリカ、アルミ
ナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の金属酸化物単体
又はそれらの金属の化合物が挙げられる。固体誘電体６
の形状は、シート状でも、フィルム状でも構わない。固
体誘電体６の厚みについては、厚みが薄くなると、高電
圧印加時に絶縁破壊が起こってアーク放電が生じやすく
なり、厚くなると、放電プラズマを発生するのに高電圧
を要するので、０．０５〜４ｍｍの厚みが好ましい。 【００２３】図１の装置において、フッ素原子含有ガス
は、ガス導入管８を経て多孔構造の上部金属電極４か
ら、また不活性ガスは、ガス導入管９から、表面処理部
３に供給される。なお、図１においては、上部金属電極
４は、フッ素原子含有ガスを均一に供給するために、そ
の内部がガスの通路とされた、多孔性の電極とされてい
る。このように上部金属電極４がガス導入口と電極を兼
ね、且つ多孔構造からなると、フッ素原子含有ガスを表
面処理部３に均一に供給し、均一な処理を行うために好
ましい。しかし、例えば、フッ素原子含有ガスを高速で
吹き付けるなどにより、表面処理部３に均一に供給する
ことが可能であれば、必ずしも多孔構造とする必要はな
い。 【００２４】また、不活性ガスは、フッ素原子含有ガス
と混合してガス導入管８を通り、上部金属電極４から導
入しても構わないが、均一性よくプラズマ処理するため
には、フッ素原子含有ガスを上部金属電極４から導入
し、不活性ガスをガス導入管９から導入するのが好まし
い。また、ガス導入管９の処理容器２内の先端部は、図
１に示したように、多数の穴の開いたリング状とし、そ
の穴からガスが処理容器２内に供給される方が、均一に
処理され易いので好ましい。 【００２５】また、フッ素原子含有ガス及び不活性ガス
は、図示しないが、マスフローコントローラーで流量制
御されて供給されるのが好ましい。 【００２６】図１のプラズマ処理装置を用いて、基材シ
ート又はフィルムをプラズマ処理する際の操作手順は、
特に限定されないが、例えば、以下の手順である。処理
容器２内の空気を排気した後、次いで、フッ素原子含有
ガス及び不活性ガスをマスフローコントローラーで流量
制御し、上記の所定の濃度の混合ガスとして、表面処理
部３に供給し、表面処理部３の混合ガスの圧力を１００
〜８００Ｔｏｒｒとする。次いで、スリット１２、１２
をあけて基材シート又はフィルム７を一方のスリット１
２から処理容器２内に入れ、他方のスリット１２から処
理容器２外に出し、引取ロール（図示せず）などを使用
して、基材シート又はフィルム７が処理容器２内を連続
して、通過できるようにする。この際、基材シート又は
フィルム７のプラズマ処理したい面を表面処理部３に対
向するようにして、基材シート又はフィルム７を固体誘
電体６に接触させる。また、基材シート又はフィルム７
の両面をプラズマ処理したい場合は、基材シート又はフ
ィルム７を固体誘電体６に接触させずに、表面処理部３
内に浮かせるように配置すればよい。次いで、金属電極
間に電圧を印加し、放電プラズマを発生させて、該プラ
ズマを基材シート又はフィルム７のプラズマ処理したい
面に接触させる。そして、基材シート又はフィルム７を
必要な時間だけプラズマが接触するようなライン速度
で、処理容器２内を通過せしめてプラズマ処理する。 【００２７】また、上部金属電極４と下部金属電極５の
間の距離は、供給されるフッ素原子含有ガスのガス流
量、印加電圧の大きさ、固体誘電体の材質及び厚み、並
びに、基材シート又はフィルムの厚みなどによって、適
宜決定されるが、距離が小さくなると未使用のフッ素原
子含有ガスが多くなり非能率的であり、大きくなると、
電極空間のガスの均一性が損なわれ易くなるので、１〜
２０ｍｍが好ましい。 【００２８】また、過剰のフッ素原子含有ガス及び不活
性ガスは、処理容器２のガス出口１０から排出する。ま
た、処理容器２内にフッ素原子含有ガス及び不活性ガス
を導入する際に、処理容器２内に残存する空気を、上述
のように、予め、排気口１１から排気するようにするの
が好ましい。 【００２９】また、上記の操作手順においては、プラズ
マ処理に先立って、処理容器２内の空気を排気した後、
所定の濃度の混合ガスを表面処理部３に供給したが、処
理容器２内の空気を排気せずに、所定の濃度の混合ガス
を表面処理部３にある時間供給しながら、ガス出口１０
又は排気口１１から処理容器２内のガスを排気させるこ
とにより、ガス交換をした後プラズマ処理してもよい。 【００３０】 【作用】本発明の離型シート又は離型フィルムは、プラ
ズマ処理により基材シート又はフィルムの表面にフッ素
原子が分布し、基材シート又はフィルムの表面エネルギ
ーが小さくなり、基材シート又はフィルムの表面に粘着
剤、キャストコート品又は工業製品等が濡れにくくな
り、基材シート又はフィルム表面は剥離性を有するよう
になるため、両面テープ、ラベル、キャストコート品又
は工業製品等の剥離が軽くなる。 【００３１】また、プラズマ処理により基材シート又は
フィルムの表面にフッ素原子が強力に結合するため、基
材シート又はフィルムの表面から粘着剤、キャストコー
ト品又は工業製品等表面へのフッ素原子の移行がなく、
本発明で得られる離型シート又は離型フィルムの剥離力
が経時変化しない。 【００３２】また、本発明の粘着テープは、１００〜８
００Ｔｏｒｒの大気圧近傍の圧力下でのプラズマ処理に
よって製造されるから、処理装置として低圧を維持する
ための装置は必要なく、また、従来の離型処理装置と異
なり、溶剤型の剥離剤を塗工した後、溶剤を揮発、乾燥
するための乾燥炉は不要で、また、処理装置以外の硬化
炉等も必要なく、設備もコンパクトであり、製造が簡単
であり、生産性も高い。 【００３３】 【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。 （実施例１）図１に示したプラズマ処理装置〔処理容器
２は、５００ｍｍ×５００ｍｍ×５００ｍｍの立方体で
ある。上部および下部金属電極は３００ｍｍ×３００ｍ
ｍのステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）よりなる。上部金属
電極４の下部金属電極５への対向面には、１ｍｍφの穴
が１ｃｍ間隔で開いている。電極間距離は５ｍｍであ
り、下部金属電極５上に固体誘電体６として厚み１ｍｍ
の３５０ｍｍ×３５０ｍｍのポリテトラフルオロエチレ
ンが配設されている。〕を使用した。まず、テトラフロ
ロメタンを流量１００ｓｃｃｍでガス導入管８から、ヘ
リウムガスを流量９９００ｓｃｃｍでガス導入管９から
処理容器２内に導入し、７６０Ｔｏｒｒの大気圧と等圧
で１５分間ガス置換した。 【００３４】スリット１２、１２をあけ、坪量９５ｇ／
ｍ2 のグラシン紙（新王子製紙社製、３Ｇ−９５−１１
１−１２４、幅３００ｍｍ）７を、処理容器２内を通過
せしめるように配置せしめると共に、表面処理部３に対
向するように配置し、その片面を固体誘電体６の上に接
触させた。 【００３５】次いで、テトラフロロメタンの流量を１０
ｓｃｃｍ、ヘリウムガス流量を９９０ｓｃｃｍに変えた
後、電極間に周波数１５ｋＨｚ、６．２ｋＶの電圧を印
加し、上記グラシン紙７を走行スピード１０ｍ／分で移
動させながらプラズマ処理し離型シートを得た。 【００３６】（実施例２）基材シート又はフィルム７と
して、グラシン紙の代わりに、厚さ２５μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルム（東レ社製、ルミラー♯２
５）を使用したことの他は、実施例１と同様にして離型
フィルムを得た。 【００３７】（比較例１）坪量９５ｇ／ｍ2 のグラシン
紙（新王子製紙社製、３Ｇ−９５−１１１−１２４、幅
３００ｍｍ）を未処理のまま離型シートとした。 【００３８】（比較例２）厚さ２５μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ社製、ルミラー♯２５）
を未処理のまま離型フィルムとした。 【００３９】（比較例３）坪量９５ｇ／ｍ2 のグラシン
紙（新王子製紙社製、３Ｇ−９５−１１１−１２４、幅
３００ｍｍ）の片面に、無溶剤型シリコーン（信越化学
工業社製、ＫＮＳ−３１００）を１．０ｇ／ｍ2 塗工
し、硬化させ離型シートを得た。 【００４０】（比較例４）厚さ２５μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ社製、ルミラー♯２５）
の片面に、無溶剤型シリコーン（信越化学工業社製、Ｋ
ＮＳ−３１００）を０．７ｇ／ｍ2 塗工し、硬化させ離
型フィルムを得た。 【００４１】（比較例５）実施例１におけるガス置換に
おいてテトラフロロメタンの流量を１５００ｓｃｃｍ、
ヘリウムガスの流量を８５００ｓｃｃｍに変えたこと、
及び、プラズマ処理において、テトラフロロメタンの流
量を１５０ｓｃｃｍ、ヘリウムガスの流量を８５０ｓｃ
ｃｍに変えたことの他は、実施例１と同様にして離型シ
ートを得た。 【００４２】（比較例６）実施例２におけるガス置換に
おいてテトラフロロメタンの流量を１５００ｓｃｃｍ、
ヘリウムガスの流量を８５００ｓｃｃｍに変えたこと、
及び、プラズマ処理において、テトラフロロメタンの流
量を１５０ｓｃｃｍ、ヘリウムガスの流量を８５０ｓｃ
ｃｍに変えたことの他は、実施例２と同様にして離型フ
ィルムを得た。 【００４３】評価 実施例１及び２、比較例１〜６で得られた離型シート又
は離型フィルムについて、接触角剥離力熱経時剥
離力を、以下のようにして調べ、結果を表１に示した。 接触角 離型シート又は離型フィルムのプラズマ処理面又は離型
剤処理面に直径２ｍｍの水滴を２ｍｍの間隔で滴下し、
協和界面化学社製の接触角測定装置（商品名ＣＡ−Ｄ）
を用いて測定した。 剥離力 離型シート又は離型フィルムをステンレス板（厚み１ｍ
ｍ）で支持し、離型シート又は離型フィルムのプラズマ
処理面又は離型剤処理面に日東ポリエステルテープ♯３
１Ｂ（日東電工社製）を貼り付け、ＪＩＳ Ｚ ０２３
７（粘着テープ・粘着シート試験方法）の粘着力試験に
準拠して、１８０度ひきはがし粘着力を測定した。 熱経時剥離力 離型シート又は離型フィルムをステンレス板（厚み１ｍ
ｍ）で支持し、離型シート又は離型フィルムのプラズマ
処理面又は離型剤処理面に日東ポリエステルテープ♯３
１Ｂ（日東電工社製）を貼り付けた状態で、５０℃の雰
囲気下に１カ月放置した後、ＪＩＳ Ｚ ０２３７（粘
着テープ・粘着シート試験方法）の粘着力試験に準拠し
て、１８０度ひきはがし粘着力を測定した。 【００４４】 【表１】 【００４５】 【発明の効果】本発明の離型シート又は離型フィルムの
製造方法の構成は上述の通りであり、生産性が高く、経
時的に剥離力が大きくならず、離型剤と基材シート又は
フィルムとの密着性に優れた、離型シート又は離型フィ
ルムの製造方法を提供する。
用、工程用等に使用される、片面又は両面が離型処理さ
れた離型シート又は離型フィルムの製造方法に関する。 【０００２】 【従来の技術】離型シート又は離型フィルムは、例え
ば、両面テープやラベルなどの粘着剤層の保護のために
使用され、両面テープやラベル製品の使用時に表面から
剥離されて廃棄されたり、キャストコートや各種成形工
業品の製造に際し粘着剤層を一時的に形成するための工
程用として使用される。 【０００３】従来、離型シート又は離型フィルムの多く
は、基材シート又はフィルムの片面又は両面に、離型剤
が塗工されたものであった。このような離型剤として
は、アルキルウレタン基を持ったセルロース誘導体のよ
うな長鎖アルキル基含有ポリマー系（特公昭３４−９７
６号公報参照）や熱硬化型シリコーンのようなシリコー
ンポリマー系（例えば、特開平２−１９１７９６号公報
参照）のものが使用され、処理方法としては、マイヤー
バーコーターやグラビヤコーターで塗布する方式が取ら
れている。 【０００４】これらの離型剤は溶剤に溶解されて使用さ
れるものが主であり、この場合、処理時の安全面及び労
働環境面に問題がある。 【０００５】上記長鎖アルキル基含有ポリマー系は、耐
熱温度が約６０℃であるため、工程用として使用する場
合には高温度をかけることができないので生産性が悪
く、両面テープやラベル用として使う場合には製品の熱
経時（５０℃）安定性に難があり、具体的には離型シー
ト又は離型フィルムと両面テープやラベルの剥離力の水
準が大きくなり実用に耐えなくなる、などの問題があ
る。 【０００６】上記シリコーンポリマー系離型剤は、重合
形式により付加重合型と縮合重合型に分類されるが、付
加重合型のものでは、シリコーンの低分子物がブリード
し、粘着剤層に移行し、粘着力の低下を起こすこと、及
び重合時に未反応であったモノマーのビニル基が静電気
を帯電したほこり等を吸着し、離型性が低下し展開力が
大きくなること、という問題があり、縮合重合型のもの
では、硬化時間が長いため、生産性が悪いという問題が
ある。また、いずれの型のものでも、シリコーンポリマ
ーの硬化に２００℃以上の高温が必要なため、大掛かり
な硬化炉となり、スペースを大きくとるという問題があ
る。 【０００７】また、離型処理の方法としては、基材シー
ト又はフィルムに、フッ素含有ガスを用いた低圧プラズ
マ処理をすることによって、フッ素化することも提案さ
れている（特開昭５５−１６５９２５号公報参照）が、
この場合は、低圧を維持するための設備が複雑、かつ高
価なものとなるばかりでなく、離型シート又は離型フィ
ルムの連続生産には不向きであるという問題がある。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決するものであり、その目的は、生産性が高く、経
時的に剥離力が大きくならず、離型剤と基材シート又は
フィルムとの密着性に優れた、離型シート又は離型フィ
ルムの製造方法を提供することにある。 【０００９】 【課題を解決するための手段】本発明は、基材シート又
はフィルムを、少なくとも一方の対向面に固体誘電体が
配設された対向する金属電極間に配置して、１０体積％
以下のフッ素原子含有ガスと残部が不活性ガスからなる
混合ガスの大気圧近傍の圧力下で、該金属電極間に電圧
を印加することにより発生した放電プラズマで該基材シ
ート又はフィルムを処理することにより、水に対する接
触角を１００度以上とすることを特徴とする離型シート
又は離型フィルムの製造方法である。 【００１０】上記基材シート又はフィルムの種類として
は、従来より離型シート又は離型フィルムに使用されて
いるものであれば、特に限定されない。例えば、クルパ
ック加工クラフト紙（晒し、未晒し共に使用可能）、一
般上質紙、グラシン紙等の紙ベース；ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等のフィル
ムベースが挙げられる。上記の紙ベースにおいては、表
面改質のためにクレー、タルク、炭酸カルシウム、ポリ
エチレン、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、紙
力剤、サイズ剤など使用されたものでもよい。 【００１１】上記フッ素原子含有ガスとしては、例え
ば、テトラフロロメタン（ＣＦ4 ）、ヘキサフロロエタ
ン（Ｃ2 Ｆ6 ）、ヘキサフロロプロピレン（Ｃ3 Ｆ6 ）
等のフッ化炭素；モノクロロトリフロロメタン（ＣＣｌ
Ｆ3)等のハロゲン化フッ化炭素；ヘキサフロロサルファ
イド（ＳＦ6 ）などが挙げられ、安全であり、かつプラ
ズマ中でフッ化水素等の有害ガスを発生しないＣＦ4 、
Ｃ2 Ｆ6 、Ｃ3 Ｆ6 等が特に好ましい。フッ素原子含有
ガスは、単独で使用されてもよいし、併用されてもよ
い。 【００１２】上記の不活性ガスとしては、ヘリウム、ア
ルゴン、ネオン、キセノン等の希ガスや窒素ガスが単独
又は混合して使用されるが、ヘリウムが準安定状態で寿
命が長く、フッ素原子含有ガスを励起するのに有利なた
め好ましい。不活性ガスとしてヘリウム以外のガスを使
用する場合は、安定な放電プラズマを発生させるため
に、アセトンやメタノール等の有機物蒸気、メタン、エ
タン等の炭化水素ガスを２体積％以下の割合で混合する
のが好ましい。 【００１３】フッ素原子含有ガスと不活性ガスとの混合
割合は、使用するガスの種類によって変わるが、フッ素
原子含有ガスの相対濃度が低くなるとフッ素化の程度が
不十分となり、得られた離型シート又は離型フィルムの
水に対する接触角が１００度未満となり易く、高くなる
とアーク放電が発生し易くなり、更に高くなると、高い
電圧を印加しても放電プラズマを発生しなくなるので、
フッ素原子含有ガス濃度は１０体積％以下に限定され、
好ましくは０．１〜１０体積％である。 【００１４】上記のフッ素原子含有ガスと不活性ガスか
らなる混合ガスの圧力は、大気圧近傍に限定されるが、
具体的には、１００〜８００Ｔｏｒｒの圧力であり、圧
力調整が容易で装置が簡便で済むため、７００〜７８０
Ｔｏｒｒが好ましい。 【００１５】本発明で得られる離型シート又は離型フィ
ルムは、その処理面の水に対する接触角が１００度以上
とされる。水に対する接触角が１００度未満になると離
型性が不十分となる。 【００１６】以下に、本発明におけるプラズマ処理工程
について図面によって説明する。図１は、本発明に使用
されるプラズマ処理装置の一例を示す説明図である。こ
の装置は、電源部１、処理容器２、上部金属電極４、下
部金属電極５から構成されている。電源部１は、ｋＨｚ
台の周波数の電源が印加可能とされるが、耐熱性の低い
基材シート又はフィルムにプラズマ処理するには、基材
への影響が少ない１０〜３０ｋＨｚの周波数が好まし
い。 【００１７】放電プラズマの発生は、電極への電圧印加
によって行うが、電界強度が低くなると、プラズマ密度
が小さくなるので処理時間がかかり、高くなると、誘電
体が高温になりアーク放電に移行する挙動を示すので、
電界強度が５〜４０ｋＶ／ｃｍ程度になるように電圧印
加するのが好ましい。 【００１８】処理容器２は、上面２ａと底面２ｂがステ
ンレス製、側面２ｃがポリメチルメタクリレート製であ
り、上面２ａと上部電極４との間に絶縁体２ｄが配設さ
れている。処理容器２の材質は、これに限らず、全てが
プラスチック製、ガラス製でも構わないし、電極と絶縁
がとれているならば、ステンレスやアルミニウム等の金
属製でも構わない。 【００１９】処理容器２は、基材シート又はフィルムを
連続してプラズマ処理できるように、基材シート又はフ
ィルムの処理容器２への入口部と出口部となるための、
スリット１２、１２がその両側面にあけられている。ま
た、上記のスリット１２、１２は、必要に応じて処理容
器２を密閉できるように開閉可能とされている。 【００２０】処理容器２内に一対の対向する平行平板型
の上部金属電極４と下部金属電極５が配設されている。
なお、電極配置構造としては、平行平板型以外にも、同
軸円筒型、円筒対向平板型、球対向平板型、双曲面対向
平板型でも、また、複数の細線と平板からなるものでも
構わない。電極の材質は、金属であれば、特に限定され
ず、例えば、ステンレス、真鍮等の多成分系の金属で
も、銅、アルミニウム等の純金属でも良い。放電プラズ
マによる表面処理部３は、対向する上部金属電極４と下
部金属電極５の間の空間である。 【００２１】本発明においては、金属電極の少なくとも
一方の対向面に固体誘電体が配設される。具体的には、
上部金属電極４と下部金属電極５の少なくとも一方の対
向面に固体誘電体６が配設される。図１の装置において
は、下部金属電極５の上に固体誘電体６が配設されてい
る。固体誘電体６は、相対する電極の対向面の全面に配
設される必要がある。一部でも、対向面が露出している
とプラズマ処理時にアーク放電が生じる。固体誘電体６
は、図１に示すように、必ずしも下部金属電極５の上に
配設される必要はなく、上部金属電極４側に配設されて
も構わないし、両電極に配設されても構わない。 【００２２】固体誘電体６としては、例えば、ポリテト
ラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）やポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）等のプラスチック；シリカ、アルミ
ナ、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の金属酸化物単体
又はそれらの金属の化合物が挙げられる。固体誘電体６
の形状は、シート状でも、フィルム状でも構わない。固
体誘電体６の厚みについては、厚みが薄くなると、高電
圧印加時に絶縁破壊が起こってアーク放電が生じやすく
なり、厚くなると、放電プラズマを発生するのに高電圧
を要するので、０．０５〜４ｍｍの厚みが好ましい。 【００２３】図１の装置において、フッ素原子含有ガス
は、ガス導入管８を経て多孔構造の上部金属電極４か
ら、また不活性ガスは、ガス導入管９から、表面処理部
３に供給される。なお、図１においては、上部金属電極
４は、フッ素原子含有ガスを均一に供給するために、そ
の内部がガスの通路とされた、多孔性の電極とされてい
る。このように上部金属電極４がガス導入口と電極を兼
ね、且つ多孔構造からなると、フッ素原子含有ガスを表
面処理部３に均一に供給し、均一な処理を行うために好
ましい。しかし、例えば、フッ素原子含有ガスを高速で
吹き付けるなどにより、表面処理部３に均一に供給する
ことが可能であれば、必ずしも多孔構造とする必要はな
い。 【００２４】また、不活性ガスは、フッ素原子含有ガス
と混合してガス導入管８を通り、上部金属電極４から導
入しても構わないが、均一性よくプラズマ処理するため
には、フッ素原子含有ガスを上部金属電極４から導入
し、不活性ガスをガス導入管９から導入するのが好まし
い。また、ガス導入管９の処理容器２内の先端部は、図
１に示したように、多数の穴の開いたリング状とし、そ
の穴からガスが処理容器２内に供給される方が、均一に
処理され易いので好ましい。 【００２５】また、フッ素原子含有ガス及び不活性ガス
は、図示しないが、マスフローコントローラーで流量制
御されて供給されるのが好ましい。 【００２６】図１のプラズマ処理装置を用いて、基材シ
ート又はフィルムをプラズマ処理する際の操作手順は、
特に限定されないが、例えば、以下の手順である。処理
容器２内の空気を排気した後、次いで、フッ素原子含有
ガス及び不活性ガスをマスフローコントローラーで流量
制御し、上記の所定の濃度の混合ガスとして、表面処理
部３に供給し、表面処理部３の混合ガスの圧力を１００
〜８００Ｔｏｒｒとする。次いで、スリット１２、１２
をあけて基材シート又はフィルム７を一方のスリット１
２から処理容器２内に入れ、他方のスリット１２から処
理容器２外に出し、引取ロール（図示せず）などを使用
して、基材シート又はフィルム７が処理容器２内を連続
して、通過できるようにする。この際、基材シート又は
フィルム７のプラズマ処理したい面を表面処理部３に対
向するようにして、基材シート又はフィルム７を固体誘
電体６に接触させる。また、基材シート又はフィルム７
の両面をプラズマ処理したい場合は、基材シート又はフ
ィルム７を固体誘電体６に接触させずに、表面処理部３
内に浮かせるように配置すればよい。次いで、金属電極
間に電圧を印加し、放電プラズマを発生させて、該プラ
ズマを基材シート又はフィルム７のプラズマ処理したい
面に接触させる。そして、基材シート又はフィルム７を
必要な時間だけプラズマが接触するようなライン速度
で、処理容器２内を通過せしめてプラズマ処理する。 【００２７】また、上部金属電極４と下部金属電極５の
間の距離は、供給されるフッ素原子含有ガスのガス流
量、印加電圧の大きさ、固体誘電体の材質及び厚み、並
びに、基材シート又はフィルムの厚みなどによって、適
宜決定されるが、距離が小さくなると未使用のフッ素原
子含有ガスが多くなり非能率的であり、大きくなると、
電極空間のガスの均一性が損なわれ易くなるので、１〜
２０ｍｍが好ましい。 【００２８】また、過剰のフッ素原子含有ガス及び不活
性ガスは、処理容器２のガス出口１０から排出する。ま
た、処理容器２内にフッ素原子含有ガス及び不活性ガス
を導入する際に、処理容器２内に残存する空気を、上述
のように、予め、排気口１１から排気するようにするの
が好ましい。 【００２９】また、上記の操作手順においては、プラズ
マ処理に先立って、処理容器２内の空気を排気した後、
所定の濃度の混合ガスを表面処理部３に供給したが、処
理容器２内の空気を排気せずに、所定の濃度の混合ガス
を表面処理部３にある時間供給しながら、ガス出口１０
又は排気口１１から処理容器２内のガスを排気させるこ
とにより、ガス交換をした後プラズマ処理してもよい。 【００３０】 【作用】本発明の離型シート又は離型フィルムは、プラ
ズマ処理により基材シート又はフィルムの表面にフッ素
原子が分布し、基材シート又はフィルムの表面エネルギ
ーが小さくなり、基材シート又はフィルムの表面に粘着
剤、キャストコート品又は工業製品等が濡れにくくな
り、基材シート又はフィルム表面は剥離性を有するよう
になるため、両面テープ、ラベル、キャストコート品又
は工業製品等の剥離が軽くなる。 【００３１】また、プラズマ処理により基材シート又は
フィルムの表面にフッ素原子が強力に結合するため、基
材シート又はフィルムの表面から粘着剤、キャストコー
ト品又は工業製品等表面へのフッ素原子の移行がなく、
本発明で得られる離型シート又は離型フィルムの剥離力
が経時変化しない。 【００３２】また、本発明の粘着テープは、１００〜８
００Ｔｏｒｒの大気圧近傍の圧力下でのプラズマ処理に
よって製造されるから、処理装置として低圧を維持する
ための装置は必要なく、また、従来の離型処理装置と異
なり、溶剤型の剥離剤を塗工した後、溶剤を揮発、乾燥
するための乾燥炉は不要で、また、処理装置以外の硬化
炉等も必要なく、設備もコンパクトであり、製造が簡単
であり、生産性も高い。 【００３３】 【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。 （実施例１）図１に示したプラズマ処理装置〔処理容器
２は、５００ｍｍ×５００ｍｍ×５００ｍｍの立方体で
ある。上部および下部金属電極は３００ｍｍ×３００ｍ
ｍのステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）よりなる。上部金属
電極４の下部金属電極５への対向面には、１ｍｍφの穴
が１ｃｍ間隔で開いている。電極間距離は５ｍｍであ
り、下部金属電極５上に固体誘電体６として厚み１ｍｍ
の３５０ｍｍ×３５０ｍｍのポリテトラフルオロエチレ
ンが配設されている。〕を使用した。まず、テトラフロ
ロメタンを流量１００ｓｃｃｍでガス導入管８から、ヘ
リウムガスを流量９９００ｓｃｃｍでガス導入管９から
処理容器２内に導入し、７６０Ｔｏｒｒの大気圧と等圧
で１５分間ガス置換した。 【００３４】スリット１２、１２をあけ、坪量９５ｇ／
ｍ2 のグラシン紙（新王子製紙社製、３Ｇ−９５−１１
１−１２４、幅３００ｍｍ）７を、処理容器２内を通過
せしめるように配置せしめると共に、表面処理部３に対
向するように配置し、その片面を固体誘電体６の上に接
触させた。 【００３５】次いで、テトラフロロメタンの流量を１０
ｓｃｃｍ、ヘリウムガス流量を９９０ｓｃｃｍに変えた
後、電極間に周波数１５ｋＨｚ、６．２ｋＶの電圧を印
加し、上記グラシン紙７を走行スピード１０ｍ／分で移
動させながらプラズマ処理し離型シートを得た。 【００３６】（実施例２）基材シート又はフィルム７と
して、グラシン紙の代わりに、厚さ２５μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルム（東レ社製、ルミラー♯２
５）を使用したことの他は、実施例１と同様にして離型
フィルムを得た。 【００３７】（比較例１）坪量９５ｇ／ｍ2 のグラシン
紙（新王子製紙社製、３Ｇ−９５−１１１−１２４、幅
３００ｍｍ）を未処理のまま離型シートとした。 【００３８】（比較例２）厚さ２５μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ社製、ルミラー♯２５）
を未処理のまま離型フィルムとした。 【００３９】（比較例３）坪量９５ｇ／ｍ2 のグラシン
紙（新王子製紙社製、３Ｇ−９５−１１１−１２４、幅
３００ｍｍ）の片面に、無溶剤型シリコーン（信越化学
工業社製、ＫＮＳ−３１００）を１．０ｇ／ｍ2 塗工
し、硬化させ離型シートを得た。 【００４０】（比較例４）厚さ２５μｍのポリエチレン
テレフタレートフィルム（東レ社製、ルミラー♯２５）
の片面に、無溶剤型シリコーン（信越化学工業社製、Ｋ
ＮＳ−３１００）を０．７ｇ／ｍ2 塗工し、硬化させ離
型フィルムを得た。 【００４１】（比較例５）実施例１におけるガス置換に
おいてテトラフロロメタンの流量を１５００ｓｃｃｍ、
ヘリウムガスの流量を８５００ｓｃｃｍに変えたこと、
及び、プラズマ処理において、テトラフロロメタンの流
量を１５０ｓｃｃｍ、ヘリウムガスの流量を８５０ｓｃ
ｃｍに変えたことの他は、実施例１と同様にして離型シ
ートを得た。 【００４２】（比較例６）実施例２におけるガス置換に
おいてテトラフロロメタンの流量を１５００ｓｃｃｍ、
ヘリウムガスの流量を８５００ｓｃｃｍに変えたこと、
及び、プラズマ処理において、テトラフロロメタンの流
量を１５０ｓｃｃｍ、ヘリウムガスの流量を８５０ｓｃ
ｃｍに変えたことの他は、実施例２と同様にして離型フ
ィルムを得た。 【００４３】評価 実施例１及び２、比較例１〜６で得られた離型シート又
は離型フィルムについて、接触角剥離力熱経時剥
離力を、以下のようにして調べ、結果を表１に示した。 接触角 離型シート又は離型フィルムのプラズマ処理面又は離型
剤処理面に直径２ｍｍの水滴を２ｍｍの間隔で滴下し、
協和界面化学社製の接触角測定装置（商品名ＣＡ−Ｄ）
を用いて測定した。 剥離力 離型シート又は離型フィルムをステンレス板（厚み１ｍ
ｍ）で支持し、離型シート又は離型フィルムのプラズマ
処理面又は離型剤処理面に日東ポリエステルテープ♯３
１Ｂ（日東電工社製）を貼り付け、ＪＩＳ Ｚ ０２３
７（粘着テープ・粘着シート試験方法）の粘着力試験に
準拠して、１８０度ひきはがし粘着力を測定した。 熱経時剥離力 離型シート又は離型フィルムをステンレス板（厚み１ｍ
ｍ）で支持し、離型シート又は離型フィルムのプラズマ
処理面又は離型剤処理面に日東ポリエステルテープ♯３
１Ｂ（日東電工社製）を貼り付けた状態で、５０℃の雰
囲気下に１カ月放置した後、ＪＩＳ Ｚ ０２３７（粘
着テープ・粘着シート試験方法）の粘着力試験に準拠し
て、１８０度ひきはがし粘着力を測定した。 【００４４】 【表１】 【００４５】 【発明の効果】本発明の離型シート又は離型フィルムの
製造方法の構成は上述の通りであり、生産性が高く、経
時的に剥離力が大きくならず、離型剤と基材シート又は
フィルムとの密着性に優れた、離型シート又は離型フィ
ルムの製造方法を提供する。
【図面の簡単な説明】
【図１】プラズマ処理装置の一例を示す説明図。
【符号の説明】
１ 電源部
２ 処理容器
３ 表面処理部
４ 上部金属電極
５ 下部金属電極
６ 固体誘電体
７ 基材シート又はフィルム
８ ガス導入管
９ ガス導入管
１０ ガス出口
１１ 排気口
１２ スリット
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 基材シート又はフィルムを、少なくとも
一方の対向面に固体誘電体が配設された対向する金属電
極間に配置して、１０体積％以下のフッ素原子含有ガス
と残部が不活性ガスからなる混合ガスの大気圧近傍の圧
力下で、該金属電極間に電圧を印加することにより発生
した放電プラズマで該基材シート又はフィルムを処理す
ることにより、水に対する接触角を１００度以上とする
ことを特徴とする離型シート又は離型フィルムの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15596695A JP3465999B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 離型シート又は離型フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15596695A JP3465999B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 離型シート又は離型フィルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH093219A JPH093219A (ja) | 1997-01-07 |
| JP3465999B2 true JP3465999B2 (ja) | 2003-11-10 |
Family
ID=15617437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15596695A Expired - Fee Related JP3465999B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | 離型シート又は離型フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3465999B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007308752A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Kobe Steel Ltd | 撥水性薄膜及び撥水性薄膜の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4764659B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2011-09-07 | 日本合成化学工業株式会社 | ポリビニルアルコール系フィルムの製造方法 |
| CN115254792B (zh) * | 2022-07-26 | 2023-05-30 | 江苏富乐华功率半导体研究院有限公司 | 一种电子陶瓷浆料流延用pet膜带清洗方法 |
-
1995
- 1995-06-22 JP JP15596695A patent/JP3465999B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007308752A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Kobe Steel Ltd | 撥水性薄膜及び撥水性薄膜の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH093219A (ja) | 1997-01-07 |
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