JP3437773B2 - 滴下防止装置 - Google Patents
滴下防止装置Info
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- JP3437773B2 JP3437773B2 JP26356898A JP26356898A JP3437773B2 JP 3437773 B2 JP3437773 B2 JP 3437773B2 JP 26356898 A JP26356898 A JP 26356898A JP 26356898 A JP26356898 A JP 26356898A JP 3437773 B2 JP3437773 B2 JP 3437773B2
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- JP
- Japan
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- conduit
- liquid
- negative pressure
- prevention device
- chamber
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B67—OPENING, CLOSING OR CLEANING BOTTLES, JARS OR SIMILAR CONTAINERS; LIQUID HANDLING
- B67C—CLEANING, FILLING WITH LIQUIDS OR SEMILIQUIDS, OR EMPTYING, OF BOTTLES, JARS, CANS, CASKS, BARRELS, OR SIMILAR CONTAINERS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; FUNNELS
- B67C3/00—Bottling liquids or semiliquids; Filling jars or cans with liquids or semiliquids using bottling or like apparatus; Filling casks or barrels with liquids or semiliquids
- B67C3/02—Bottling liquids or semiliquids; Filling jars or cans with liquids or semiliquids using bottling or like apparatus
- B67C3/22—Details
- B67C3/26—Filling-heads; Means for engaging filling-heads with bottle necks
- B67C3/2608—Filling-heads; Means for engaging filling-heads with bottle necks comprising anti-dripping means
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、導管（ライン）の
開口から液体が滴下するのを防止する装置に関する。本
発明の適用分野は、例えば、半導体ウエハの製造におい
て、処理液をウエハに供給する溶離ユニットの導管に対
してである。
開口から液体が滴下するのを防止する装置に関する。本
発明の適用分野は、例えば、半導体ウエハの製造におい
て、処理液をウエハに供給する溶離ユニットの導管に対
してである。
【０００２】
【従来の技術】このような溶離ユニットは、欧州特許Ｅ
Ｐ ４４４ ７１４ Ｂに開示されているようなエッチ
ング装置で、例えば、使用されている。
Ｐ ４４４ ７１４ Ｂに開示されているようなエッチ
ング装置で、例えば、使用されている。
【０００３】滴下が防止される導管は、また、例えば、
飲料産業での充填システムの導管である。
飲料産業での充填システムの導管である。
【０００４】滴下の問題を解決するための提案におい
て、測定をすることは、導管からの液体の一定の流速並
びに一定の体積流に逆に影響を与えず、また、液体の流
れは（かなりの）時間遅れがなく開成と閉成との両者を
しなければならないことが考えられている。最終目標
は、例えば、遮断部材（シャットオフ部材）が閉じられ
たときに、滴下が生じないで導管から吐出される液体柱
が分離されることである。滴下は、半導体技術の分野に
おいて、半導体ウエハ（シリコンウエハ）の表面上への
滴下は、不規則な処置を生じさせるので好ましくない。
かくして、例えば、エッチング酸液は不都合のエッチン
グトレースを生じさせる。飲料産業においては、滴下
は、飲料が充填されたドラムが、飲料が滴下することに
より汚れて、興味を引かなくなる（ジュースは一般には
べとつく）。
て、測定をすることは、導管からの液体の一定の流速並
びに一定の体積流に逆に影響を与えず、また、液体の流
れは（かなりの）時間遅れがなく開成と閉成との両者を
しなければならないことが考えられている。最終目標
は、例えば、遮断部材（シャットオフ部材）が閉じられ
たときに、滴下が生じないで導管から吐出される液体柱
が分離されることである。滴下は、半導体技術の分野に
おいて、半導体ウエハ（シリコンウエハ）の表面上への
滴下は、不規則な処置を生じさせるので好ましくない。
かくして、例えば、エッチング酸液は不都合のエッチン
グトレースを生じさせる。飲料産業においては、滴下
は、飲料が充填されたドラムが、飲料が滴下することに
より汚れて、興味を引かなくなる（ジュースは一般には
べとつく）。
【０００５】この問題を解決するために、今まで、種々
の提案がなされている。閉塞のときに、少量の液体を吸
い戻すバルブ（サックアップ・バルブ）、が度々使用さ
れている。これらバルブ（吸い戻しバルブと称する）
は、１／４インチ（０．６４ｃｍ）ホース（内径は約５
ｍｍ、断面積は約０．２ｍｍ2 ）に対して約１０ｃｍの
液体柱を、即ち、約２ｍｌの液体を吸い戻す。１／４イ
ンチホースにとって２．５ ｌ／ｍｉｎの体積流では、
流速は約２ｍ／ｓｅｃである。シリコンウエハが大きく
なるのに従って（一般には３００ｍｍ以上の直径）、処
理のためには益々大きな体積流が必要になる。現在、６
ｌ／ｍｉｎ以上の体積流が必要となっている。１／４
インチホースのためには、約５ｍ／ｓｅｃの流速が必要
であり、これは、別の問題（導管での高圧ロスや、閉塞
中の液体柱の流れの大きな遅れ）を生じさせる。これを
防ぐために、径の大きいホース（３／８インチホース）
が使用されている。しかし、ホースの直径が大きくなる
のに従って、流速は、初期の２ｍ／ｓｅｃにまで再び減
じられてしまう。３／８インチホース（内径がほぼ８ｍ
ｍで、断面積がほぼ０．５ｃｍ2 ）に対しては、吸い戻
しバルブの吸い戻し量は、４ｃｍの吸い戻し高さにのみ
対応する。
の提案がなされている。閉塞のときに、少量の液体を吸
い戻すバルブ（サックアップ・バルブ）、が度々使用さ
れている。これらバルブ（吸い戻しバルブと称する）
は、１／４インチ（０．６４ｃｍ）ホース（内径は約５
ｍｍ、断面積は約０．２ｍｍ2 ）に対して約１０ｃｍの
液体柱を、即ち、約２ｍｌの液体を吸い戻す。１／４イ
ンチホースにとって２．５ ｌ／ｍｉｎの体積流では、
流速は約２ｍ／ｓｅｃである。シリコンウエハが大きく
なるのに従って（一般には３００ｍｍ以上の直径）、処
理のためには益々大きな体積流が必要になる。現在、６
ｌ／ｍｉｎ以上の体積流が必要となっている。１／４
インチホースのためには、約５ｍ／ｓｅｃの流速が必要
であり、これは、別の問題（導管での高圧ロスや、閉塞
中の液体柱の流れの大きな遅れ）を生じさせる。これを
防ぐために、径の大きいホース（３／８インチホース）
が使用されている。しかし、ホースの直径が大きくなる
のに従って、流速は、初期の２ｍ／ｓｅｃにまで再び減
じられてしまう。３／８インチホース（内径がほぼ８ｍ
ｍで、断面積がほぼ０．５ｃｍ2 ）に対しては、吸い戻
しバルブの吸い戻し量は、４ｃｍの吸い戻し高さにのみ
対応する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この結果、吸い戻しバ
ルブの使用にも関わらず、低い吸い戻し高さと共に大き
い導管断面積のために繰り返し生じるために、好ましく
ない滴下が生じることになる。特に、表面張力のため
に、液体柱の下端に形成された湾曲面が傾斜するとき
に、気泡が上昇して液体が導管の端部から滴下してしま
う。
ルブの使用にも関わらず、低い吸い戻し高さと共に大き
い導管断面積のために繰り返し生じるために、好ましく
ない滴下が生じることになる。特に、表面張力のため
に、液体柱の下端に形成された湾曲面が傾斜するとき
に、気泡が上昇して液体が導管の端部から滴下してしま
う。
【０００７】吸い戻しバルブの使用にも関わらず低い体
積流では、滴下は導管内での気泡の発生の結果として生
じるとうい他の問題がある。
積流では、滴下は導管内での気泡の発生の結果として生
じるとうい他の問題がある。
【０００８】欧州特許ＥＰ ４０２ ５３５ Ｂ１は、
バルブと、調節可能なピストンと、出口開口に設けられ
た多孔性挿入体とを有する計測装置を開示している。
バルブと、調節可能なピストンと、出口開口に設けられ
た多孔性挿入体とを有する計測装置を開示している。
【０００９】既知の装置において、ピストンは、バルブ
が閉じた後に出口開口から離れるように移動する。この
結果、出口開口の領域で負圧が生じて、出口開口から液
体が滴下するのを防止する。
が閉じた後に出口開口から離れるように移動する。この
結果、出口開口の領域で負圧が生じて、出口開口から液
体が滴下するのを防止する。
【００１０】ＤＤ ２５０ ８４６ Ａ３は、液体容器
を滴下無しで閉じるためのチヤンババルブを開示してい
る。この装置で、カラーは、測定される液体が流れるチ
ヤンバを形成している。バルブが開成されると、カラー
は、圧縮され（チヤンバの小さい内部空間）、また、バ
ルブが閉成されると、カラーは延ばされる（チヤンバの
大きい内部空間）。チャンバ内で、バルブが閉成（カラ
ーが延びる）されたときに体積が増すことにより、出口
開口から液体を吸い戻す負圧が発生する。
を滴下無しで閉じるためのチヤンババルブを開示してい
る。この装置で、カラーは、測定される液体が流れるチ
ヤンバを形成している。バルブが開成されると、カラー
は、圧縮され（チヤンバの小さい内部空間）、また、バ
ルブが閉成されると、カラーは延ばされる（チヤンバの
大きい内部空間）。チャンバ内で、バルブが閉成（カラ
ーが延びる）されたときに体積が増すことにより、出口
開口から液体を吸い戻す負圧が発生する。
【００１１】上記ＤＤ ２５０ ８４６ Ａ３で請求さ
れるようなバルブは、液体は、出口開口とバルブとの間
の領域内並びに／もしくはバルブチヤンバ内に残る。し
かし、この装置では、ガス状の液体は滴下してしまう。
れるようなバルブは、液体は、出口開口とバルブとの間
の領域内並びに／もしくはバルブチヤンバ内に残る。し
かし、この装置では、ガス状の液体は滴下してしまう。
【００１２】本発明の目的は、高体積流でも並びに／も
しくはガスを含む液体の吐出の場合に滴下を信頼性良く
防止できる滴下防止装置を提供することである。
しくはガスを含む液体の吐出の場合に滴下を信頼性良く
防止できる滴下防止装置を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的は、導管中の液
体流が遮断されたときに、導管の出口開口からの液体の
滴下を防止するための装置において、導管の出口開口の
領域に設けられ、出口開口の領域に残った液体を吸引に
より除去する手段を有することを特徴とする滴下防止装
置により解決される。
体流が遮断されたときに、導管の出口開口からの液体の
滴下を防止するための装置において、導管の出口開口の
領域に設けられ、出口開口の領域に残った液体を吸引に
より除去する手段を有することを特徴とする滴下防止装
置により解決される。
【００１４】好ましく、また効果のある実施の形態は従
属項の形態で請求されている。
属項の形態で請求されている。
【００１５】本発明は、上記目的を信頼性良く達成し、
特に、高体積流の液体、並びに／もしくは気体を含む液
体の場合に、導管からの液体が滴下するのを信頼性良く
防止する。すなわち、液体が導管の出口開口の上流側で
直接に吸引されるので、液体は、導管の出口開口から出
る（滴下する）ことは無い。
特に、高体積流の液体、並びに／もしくは気体を含む液
体の場合に、導管からの液体が滴下するのを信頼性良く
防止する。すなわち、液体が導管の出口開口の上流側で
直接に吸引されるので、液体は、導管の出口開口から出
る（滴下する）ことは無い。
【００１６】また、前記導管の出口開口から所定の距離
離間してこの導管を囲んでおり、所定の時間に負圧を発
生されることが可能なチャンバを有する。
離間してこの導管を囲んでおり、所定の時間に負圧を発
生されることが可能なチャンバを有する。
【００１７】導管の壁に形成された出口開口の領域に
は、この領域を囲むように設けられたチャンバ内に発生
される負圧の作用のもとで、液体が吸引される透孔が形
成されている。これら透孔を介して導管の側方への吸引
が行われることによって、導管の上方に上昇する気泡の
発生が無く、液体柱の下方に向いた湾曲面は、透孔より
上方にあって、この湾曲面が傾いた場合でも、液体を滴
下させずにその都度再生される。
は、この領域を囲むように設けられたチャンバ内に発生
される負圧の作用のもとで、液体が吸引される透孔が形
成されている。これら透孔を介して導管の側方への吸引
が行われることによって、導管の上方に上昇する気泡の
発生が無く、液体柱の下方に向いた湾曲面は、透孔より
上方にあって、この湾曲面が傾いた場合でも、液体を滴
下させずにその都度再生される。
【００１８】導管の端部に設けられたチャンバ内には、
導管の端部の領域で液体の不要の取出しを防ぐように負
圧が発生される。すなわち、この負圧の発生がなされる
のは、例えば導管中の液体流を阻止するシャットオフ装
置により導管が閉じられたときなど、チャンバ内に負圧
を発生させることにより導管を通る液体の吐出が停止さ
れるとき（もしくはその少し後）のみである。また、導
管内の液体に影響を与えないで予めチャンバ内に負圧を
発生させるために、前記透孔は、液体が導管中を流れて
いる場合には、閉塞されるような手段が講じられていて
も良い。
導管の端部の領域で液体の不要の取出しを防ぐように負
圧が発生される。すなわち、この負圧の発生がなされる
のは、例えば導管中の液体流を阻止するシャットオフ装
置により導管が閉じられたときなど、チャンバ内に負圧
を発生させることにより導管を通る液体の吐出が停止さ
れるとき（もしくはその少し後）のみである。また、導
管内の液体に影響を与えないで予めチャンバ内に負圧を
発生させるために、前記透孔は、液体が導管中を流れて
いる場合には、閉塞されるような手段が講じられていて
も良い。
【００１９】負圧が発生されたチヤンバを介して吸引さ
れた液体は、排出もしくは液体サイクルに戻し再び使用
され得る。
れた液体は、排出もしくは液体サイクルに戻し再び使用
され得る。
【００２０】
【実施例】図１並びに２は、導管（パイプもしくはライ
ン）２の出口端部を示す。液体は、導管２から、これの
端部に形成された出口開口６を通って吐出される。導管
２を流れる液体流を制御するために、例えば、吸い戻し
バルブとして形成された少くとも１つのシャットオフ・
バルブ（図３を参照）が設けられている。前記端部（開
口６）から（短い）距離離間して、導管２に手段１が設
けられている。この手段１は、導管２の出口開口６から
の液体の滴下を防止するために使用されている。
ン）２の出口端部を示す。液体は、導管２から、これの
端部に形成された出口開口６を通って吐出される。導管
２を流れる液体流を制御するために、例えば、吸い戻し
バルブとして形成された少くとも１つのシャットオフ・
バルブ（図３を参照）が設けられている。前記端部（開
口６）から（短い）距離離間して、導管２に手段１が設
けられている。この手段１は、導管２の出口開口６から
の液体の滴下を防止するために使用されている。
【００２１】この実施の形態において、液体を吸い込む
ための前記手段１は、例えば、円筒状のハウジング４を
有する。このハウジング４は、導管２を囲むように配設
されており、導管２の周りで外側に延びたチヤンバ３を
規定している。このハウジング４には、導管５が接続さ
れており、この導管５を介してチヤンバ３内に負圧が発
生され得る。この理由のために、導管５は、負圧源（図
３を参照）に接続されている。この負圧源に延びた導管
５内にはシャットオフ部材が設けられ得る。
ための前記手段１は、例えば、円筒状のハウジング４を
有する。このハウジング４は、導管２を囲むように配設
されており、導管２の周りで外側に延びたチヤンバ３を
規定している。このハウジング４には、導管５が接続さ
れており、この導管５を介してチヤンバ３内に負圧が発
生され得る。この理由のために、導管５は、負圧源（図
３を参照）に接続されている。この負圧源に延びた導管
５内にはシャットオフ部材が設けられ得る。
【００２２】チヤンバ３の領域内の導管２の側壁には、
複数の透孔７（原理的には１つの透孔で充分である）が
形成されている。これら透孔７は、非常に短い直径を有
する穿設孔として形成され得る。導管２に形成された透
孔７と、出口開口６との間の距離は好ましくは短く設定
され得る。
複数の透孔７（原理的には１つの透孔で充分である）が
形成されている。これら透孔７は、非常に短い直径を有
する穿設孔として形成され得る。導管２に形成された透
孔７と、出口開口６との間の距離は好ましくは短く設定
され得る。
【００２３】負圧がハウジング４内のチヤンバ３に発生
されると、液体流が停止された後に透孔７の所で導管２
内に残っている液体残部は、透孔７を介してチヤンバア
３内に、さらに、導管５内に吸引される。この結果、導
管２の出口開口６からの液体の滴下が防止される。
されると、液体流が停止された後に透孔７の所で導管２
内に残っている液体残部は、透孔７を介してチヤンバア
３内に、さらに、導管５内に吸引される。この結果、導
管２の出口開口６からの液体の滴下が防止される。
【００２４】導管２の端部の出口開口６から吐出される
液体、例えば、半導体ウエハに供給されるエッチング
液、が透孔７並びにチヤンバ３を介して導管５中に吸引
されるのを防止するために、必要な時にのみ、かくし
て、導管２中の液体の流れが中断されたときにのみ、負
圧は導管５に、かくして、チヤンバ３内に発生される。
液体、例えば、半導体ウエハに供給されるエッチング
液、が透孔７並びにチヤンバ３を介して導管５中に吸引
されるのを防止するために、必要な時にのみ、かくし
て、導管２中の液体の流れが中断されたときにのみ、負
圧は導管５に、かくして、チヤンバ３内に発生される。
【００２５】代わって、導管２の側壁に形成された透孔
７は、液体が導管２中を流れている場合には、閉塞され
るような手段が講じられる。このような手段は、例え
ば、孔が形成され、導管２の端部に対して捻られ得るス
リーブの形態のシャットオフ手段でも良い。スリーブ
は、これの孔が前記透孔７と揃うように捻られときに、
チヤンバ３内の負圧が液体残部を吸引するように作用す
る。
７は、液体が導管２中を流れている場合には、閉塞され
るような手段が講じられる。このような手段は、例え
ば、孔が形成され、導管２の端部に対して捻られ得るス
リーブの形態のシャットオフ手段でも良い。スリーブ
は、これの孔が前記透孔７と揃うように捻られときに、
チヤンバ３内の負圧が液体残部を吸引するように作用す
る。
【００２６】図３は、手段１が必要なときにのみ駆動
し、かくして、負圧がチヤンバ３に発生されるのを可能
にする回路の一例を示す。
し、かくして、負圧がチヤンバ３に発生されるのを可能
にする回路の一例を示す。
【００２７】液体は導管２を流れる。導管８は、圧縮空
気用のラインであり、２つの枝管に分けられている。導
管２内の液体流９と、チヤンバ３内の負圧の発生との同
時の遮断は、以下のようにしてなされ得る。圧縮空気用
の導管８の一方の枝管を流れる圧縮空気流１１により、
ベンチュリーノズル（負圧を発生する手段）１２を介し
て負圧をチヤンバ３に発生させる吸引流１０が発生され
る。導管２内のバルブ１３が液体の流れを阻止するよう
に閉塞されると同時に、バルブ１４は開成されて吸引流
１０を発生させる。これは、制御空気を一方のバルブか
ら他方のバルブに３−ウエイバルブにより切り換えるこ
とによる、圧縮空気制御バルブによりなされる。液体流
のためのバルブ１３は、吸い戻しバルブとして形成され
得るが、これに限定されることはない。チヤンバ３を備
えた手段１からの流れ媒体での気体と液体との分離は、
公知の手段、例えば、ミスト・コレクター１６によりな
される。排出気体は、排出器１７に送られる。液体は、
導管１８を介して排出されるか、導管１９を介して液体
サイクルとして再び供給される（液体回路に戻されて再
使用される）。
気用のラインであり、２つの枝管に分けられている。導
管２内の液体流９と、チヤンバ３内の負圧の発生との同
時の遮断は、以下のようにしてなされ得る。圧縮空気用
の導管８の一方の枝管を流れる圧縮空気流１１により、
ベンチュリーノズル（負圧を発生する手段）１２を介し
て負圧をチヤンバ３に発生させる吸引流１０が発生され
る。導管２内のバルブ１３が液体の流れを阻止するよう
に閉塞されると同時に、バルブ１４は開成されて吸引流
１０を発生させる。これは、制御空気を一方のバルブか
ら他方のバルブに３−ウエイバルブにより切り換えるこ
とによる、圧縮空気制御バルブによりなされる。液体流
のためのバルブ１３は、吸い戻しバルブとして形成され
得るが、これに限定されることはない。チヤンバ３を備
えた手段１からの流れ媒体での気体と液体との分離は、
公知の手段、例えば、ミスト・コレクター１６によりな
される。排出気体は、排出器１７に送られる。液体は、
導管１８を介して排出されるか、導管１９を介して液体
サイクルとして再び供給される（液体回路に戻されて再
使用される）。
【００２８】本発明の他の実施の形態（図示せず）にお
いて、負圧は、真空ポンプにより発生され得る。この場
合、吸引流は、自身のバルブにより切替えられる。液体
流の停止と、吸引流の発生とを同時に行うのは、この例
では、例えば、電気的になされる。
いて、負圧は、真空ポンプにより発生され得る。この場
合、吸引流は、自身のバルブにより切替えられる。液体
流の停止と、吸引流の発生とを同時に行うのは、この例
では、例えば、電気的になされる。
【００２９】両実施の形態において、液体流と吸引流と
の切替えは、同時に生じるばかりではなく、一定の間
隔、例えば、２〜３秒ずれて行われても良い。チヤンバ
３を介する液体の吸引は、導管２中の液体流が停止され
る少し前に作動されることが望ましい。
の切替えは、同時に生じるばかりではなく、一定の間
隔、例えば、２〜３秒ずれて行われても良い。チヤンバ
３を介する液体の吸引は、導管２中の液体流が停止され
る少し前に作動されることが望ましい。
【００３０】本発明において、側方への吸引により、液
体柱の下方に向いた湾曲面は、上方に上昇する気泡の発
生が無く、液体が滴下しないように、湾曲面が傾いた場
合でも度々再生される。
体柱の下方に向いた湾曲面は、上方に上昇する気泡の発
生が無く、液体が滴下しないように、湾曲面が傾いた場
合でも度々再生される。
【００３１】本発明の実施の形態を要約すれば、以下の
通りである。
通りである。
【００３２】導管２の出口開口６からの液体の滴下を防
止するために、滴吸引手段１が導管２の端部に配設され
ている。この滴吸引手段１は、チヤンバ３を規定するよ
うに、導管２の端部を囲むハウジング４を有する。この
チヤンバ３は、透孔７を介して、導管２の内部と連通さ
れており、また、このチヤンバ３には、導管２内の液体
流が遮断された後に出口開口６の付近に残る液体残部を
吸引するように、導管５を介して、負圧が発生され得
る。導管２中の液体流が、この導管２に設けられたシャ
ットオフ手段により遮断（停止）されたときに、滴吸引
手段１を作動させるのみ、例えば、チヤンバ３に負圧を
発生させる回路が提供される。
止するために、滴吸引手段１が導管２の端部に配設され
ている。この滴吸引手段１は、チヤンバ３を規定するよ
うに、導管２の端部を囲むハウジング４を有する。この
チヤンバ３は、透孔７を介して、導管２の内部と連通さ
れており、また、このチヤンバ３には、導管２内の液体
流が遮断された後に出口開口６の付近に残る液体残部を
吸引するように、導管５を介して、負圧が発生され得
る。導管２中の液体流が、この導管２に設けられたシャ
ットオフ手段により遮断（停止）されたときに、滴吸引
手段１を作動させるのみ、例えば、チヤンバ３に負圧を
発生させる回路が提供される。
【図１】図１は、本発明の一実施の形態に関わる滴下防
止装置を説明するための、図のＢ−Ｂ線に沿う断面図で
ある。
止装置を説明するための、図のＢ−Ｂ線に沿う断面図で
ある。
【図２】図２は、図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】図３は、本発明に関わる滴下防止装置の回路の
例を示す図である。
例を示す図である。
２…導管、３…チヤンバ、４…ハウジング、６…出口開
口、１２…ベンチュリーノズル（負圧を発生する手
段）。
口、１２…ベンチュリーノズル（負圧を発生する手
段）。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平６−244543（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−309460（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−253602（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−94589（ＪＰ，Ａ)
特開 昭59−84790（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−75818（ＪＰ，Ａ)
実開 昭58−156567（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B05C 11/10
Claims (8)
- 【請求項１】 導管（２）中の液体流が遮断されたとき
に、この導管（２）の出口開口（６）から液体の滴下を
防止するために、前記導管（２）の出口開口（６）の領
域に残っているすべての液体を吸引により除去する滴下
防止装置において、 前記導管（２）の出口開口（６）から所定の距離離間し
て、この導管（２）の周りに配置されている少なくとも
１つの透孔（７）と、 この透孔（７）を介して前記導管（２）の内部に連通す
るように、前記導管（２）の出口開口（６）の上流側に
所定の距離離間して前記導管を囲んでおり、中に負圧を
発生されることが可能なチャンバ（３）と、 このチャンバ（３）を規定するように、前記導管（２）
の周りに配置されたハウジング（４）と、 前記チャンバ内に負圧を発生させる手段（１２）と、 一端部がこの負圧を発生させる手段（１２）に、他端部
が前記ハウジング（４）にそれぞれ接続された導管
（５）とを具備することを特徴とする滴下防止装置。 - 【請求項２】 複数の透孔（７）が、前記導管（２）の
周壁に分布して形成されていることを特徴とする請求項
１に記載の滴下防止装置。 - 【請求項３】 前記導管（２）に設けられた第１のシャ
ットオフ部材（１３）と、 負圧を発生させる手段（１２）に接続された前記導管
（５）に設けられた第２のシャットオフ部材（１４）
と、をさらに具備し、前記第１のシャットオフ部材（１
３）が閉成されたときに前記第２のシャットオフ部材
（１４）が開成されるように、これら部材（１３，１
４）が互いに動作的に接続されていることを特徴とする
請求項１もしくは２に記載の滴下防止装置。 - 【請求項４】 前記第１のシャットオフ部材（１３）と
第２のシャットオフ部材（１４）との間の動作には、時
間の遅れがあることを特徴とする請求項３に記載の滴下
防止装置。 - 【請求項５】 負圧を発生させる手段は、ベンチュリー
ノズル（１２）を備えた手段であることを特徴とする請
求項１ないし４のいずれか１に記載の滴下防止装置。 - 【請求項６】 負圧を発生させる手段（１２）に接続さ
れた前記導管（５）にはミスト・コレクター（１６）が
設けられていることを特徴とする請求項１ないし５のい
ずれか１に記載の滴下防止装置。 - 【請求項７】 前記ミスト・コレクター（１６）には、
液体を吐出する導管（１８）が接続されていることを特
徴とする請求項６に記載の滴下防止装置。 - 【請求項８】 前記ミスト・コレクター(１６)には、液
体を液体回路に戻す導管（１９）が接続されていること
を特徴とする請求項６もしくは７に記載の滴下防止装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT0157897A AT407385B (de) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | Anordnung um das nachtropfen von flüssigkeiten aus leitungen zu verhindern |
| AT1578/97 | 1997-09-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11179265A JPH11179265A (ja) | 1999-07-06 |
| JP3437773B2 true JP3437773B2 (ja) | 2003-08-18 |
Family
ID=3516448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26356898A Expired - Fee Related JP3437773B2 (ja) | 1997-09-18 | 1998-09-17 | 滴下防止装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6056208A (ja) |
| EP (1) | EP0906888B1 (ja) |
| JP (1) | JP3437773B2 (ja) |
| KR (1) | KR100493254B1 (ja) |
| AT (1) | AT407385B (ja) |
| DE (1) | DE59800986D1 (ja) |
| TW (1) | TW440539B (ja) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6789748B2 (en) * | 2001-02-14 | 2004-09-14 | Valiant Corporation | Water jet |
| JP2004131180A (ja) * | 2002-07-09 | 2004-04-30 | Imi Cornelius (Uk) Ltd | 飲料の注出における改良または飲料の注出に関連する改良 |
| JP2006010037A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Smc Corp | サックバックバルブ |
| JP2006010038A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Smc Corp | サックバックバルブ |
| US20060046499A1 (en) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Dolechek Kert L | Apparatus for use in thinning a semiconductor workpiece |
| US20060040111A1 (en) * | 2004-08-20 | 2006-02-23 | Dolechek Kert L | Process chamber and system for thinning a semiconductor workpiece |
| US7354649B2 (en) | 2004-08-20 | 2008-04-08 | Semitool, Inc. | Semiconductor workpiece |
| US7288489B2 (en) * | 2004-08-20 | 2007-10-30 | Semitool, Inc. | Process for thinning a semiconductor workpiece |
| US7193295B2 (en) * | 2004-08-20 | 2007-03-20 | Semitool, Inc. | Process and apparatus for thinning a semiconductor workpiece |
| US8453945B2 (en) | 2005-05-06 | 2013-06-04 | Dieter Wurz | Spray nozzle, spray device and method for operating a spray nozzle and a spray device |
| JP5440011B2 (ja) * | 2009-07-31 | 2014-03-12 | カシオ計算機株式会社 | 吐出ノズル、吐出装置及び塗布装置 |
| US9873096B2 (en) * | 2009-12-29 | 2018-01-23 | Indian Oil Corporation Limited | Feed nozzle assembly |
| TWI585885B (zh) * | 2015-09-11 | 2017-06-01 | 辛耘企業股份有限公司 | 管尾關斷裝置以及基板處理裝置 |
| US10023333B2 (en) * | 2016-03-07 | 2018-07-17 | The Procter & Gamble Company | Vacuum assisted nozzle and apparatus |
| CN106956790B (zh) * | 2017-03-31 | 2020-12-29 | 长春融成智能设备制造股份有限公司 | 一种基于内回流式充料枪的防爆灌装机器人系统 |
| NL2019096B1 (en) | 2017-06-20 | 2018-12-27 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Nozzle tip adapter, nozzle assembly as well as nozzle |
| CN107619012A (zh) * | 2017-09-29 | 2018-01-23 | 重庆尚洁日化用品有限公司 | 一种洗发水灌装机 |
| JP7312304B2 (ja) * | 2018-09-21 | 2023-07-20 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置、及び基板処理方法 |
| US10988363B1 (en) | 2019-02-06 | 2021-04-27 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | System for preventing dripping from nozzles in a container filling system |
| CN111960362B (zh) * | 2020-07-28 | 2021-12-14 | 江苏源泉泵业股份有限公司 | 一种水泵式灌装设备 |
| CN114572439B (zh) * | 2022-04-07 | 2023-10-17 | 台州市祥珑食品容器科技股份有限公司 | 一种灌装管控制结构 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE250846C (ja) * | ||||
| US3583634A (en) * | 1968-12-02 | 1971-06-08 | Fmc Corp | Spray nozzle |
| US3792724A (en) * | 1972-05-15 | 1974-02-19 | Delamere & Williams Co Ltd | Bag filling machine |
| GB2002331A (en) * | 1977-08-09 | 1979-02-21 | Albro Fillers & Eng Co Ltd | Filling-nozzle wipers |
| US4362572A (en) * | 1981-06-25 | 1982-12-07 | Burroughs Corporation | Method and apparatus for cleaning ink jet printer heads |
| JPS58156567U (ja) * | 1982-04-12 | 1983-10-19 | トヨタ自動車株式会社 | 高粘弾性流体用ノズル |
| JPS5984790A (ja) * | 1982-09-13 | 1984-05-16 | ハ−マン・ロ−ブ・ザ・サ−ド | 液体充填ノズル装置 |
| US4634027A (en) * | 1985-01-04 | 1987-01-06 | Mvm Valve Co., Inc. | Liquid dispensing apparatus and an anti-drip valve cartridge therefor |
| DD250846A3 (de) * | 1985-08-30 | 1987-10-28 | Colditz Veb Porzellan | Kammerventil zum tropfenfreien schliessen von fluessigkeitsbehaeltern |
| US4911267A (en) * | 1987-08-31 | 1990-03-27 | Yohwa Trading Co., Ltd. | Oiler with drippage preventing device |
| AT389959B (de) | 1987-11-09 | 1990-02-26 | Sez Semiconduct Equip Zubehoer | Vorrichtung zum aetzen von scheibenfoermigen gegenstaenden, insbesondere von siliziumscheiben |
| US5016687A (en) * | 1989-06-15 | 1991-05-21 | Shikoku Kakoki Co., Ltd. | Device for preventing liquid from dripping from filling nozzle of liquid filling machine |
| JPH0494589A (ja) * | 1990-08-10 | 1992-03-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品固定用接着剤塗布装置 |
| ZA915594B (en) * | 1990-08-13 | 1993-03-31 | Colgate Palmolive Co | Package filling method and apparatus |
| JPH04309460A (ja) * | 1991-04-04 | 1992-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | クリームはんだ塗布装置 |
| JPH06244543A (ja) * | 1993-02-17 | 1994-09-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 接着剤塗布装置用の接着剤塗布ノズル |
| JPH0768208A (ja) * | 1993-09-06 | 1995-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 間欠塗布装置 |
| JPH0975818A (ja) * | 1995-09-20 | 1997-03-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 塗布装置 |
| US5756155A (en) * | 1996-01-22 | 1998-05-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Combination nozzle and vacuum hood that is self cleaning |
| US5720433A (en) * | 1996-01-30 | 1998-02-24 | Dexter Corporation | Draw back valve for a glue gun |
| DE19646006C2 (de) * | 1996-11-07 | 2000-04-06 | Hideyuki Kobayashi | Düse zur Schnellgalvanisierung mit einer Galvanisierungslösungsabstrahl- und -ansaugfunktion |
| JP3940853B2 (ja) * | 1997-03-11 | 2007-07-04 | Ｓｍｃ株式会社 | サックバックバルブ |
| JP3951150B2 (ja) * | 1997-04-09 | 2007-08-01 | Ｓｍｃ株式会社 | サックバックバルブ |
-
1997
- 1997-09-18 AT AT0157897A patent/AT407385B/de not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-08-20 EP EP98115683A patent/EP0906888B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-08-20 DE DE59800986T patent/DE59800986D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-01 KR KR10-1998-0035814A patent/KR100493254B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-09-17 JP JP26356898A patent/JP3437773B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-09-18 US US09/156,598 patent/US6056208A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-10-09 TW TW087116804A patent/TW440539B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59800986D1 (de) | 2001-08-16 |
| JPH11179265A (ja) | 1999-07-06 |
| US6056208A (en) | 2000-05-02 |
| KR19990029405A (ko) | 1999-04-26 |
| EP0906888B1 (de) | 2001-07-11 |
| KR100493254B1 (ko) | 2005-10-25 |
| AT407385B (de) | 2001-02-26 |
| TW440539B (en) | 2001-06-16 |
| EP0906888A1 (de) | 1999-04-07 |
| ATA157897A (de) | 2000-07-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080606 Year of fee payment: 5 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090606 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100606 Year of fee payment: 7 |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100606 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120606 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130606 Year of fee payment: 10 |
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