KR0116341Y1 - 웨이퍼 세정공정용 기포 자동배출장치 - Google Patents

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Abstract

본 고안은 웨이퍼의 가장자리를 세정하기 위한 세정공정 장비의 볼밸브와 필터 사이의 신너공급관에 엠프티 센서탱크가 연결되고, 상기 엠프티 센서탱크와 연결된 드레인관에는 기포자동배출 콘트롤러에 의해 구동되는 전자밸브가 설치되어 소량의 미세기포는 고수위 감지센서의 감지신호에 의해 자동배출되고, 대량의 기포가 신너공급관에 유입시에는 장비를 인터록시켜 공정을 중단시키므로써 웨이퍼 감광막의 코팅불량을 방지하여 재작업률 및 작업손실을 줄이므로 인해 반도체 공정의 수율을 향상시킨 것이다.
이를위해, 본 고안은 볼밸브(1)와 필터(2) 사이의 신너공급관(3)에 소량 및 다량의 미세기포가 신너공급관(3)의 유입시 감지하는 고,저수위 감지센서(4a)(4b)가 부착되어 기포가 저장되는 엠프티 센서탱크(5)와, 상기 고,저수위 감지센서(4a)(4b)의 감지상태를 전달받아 전압을 발생시키는 기포자동배출 콘트롤러(6)와, 상기 기포자동배출 콘트롤러(6)의 제어신호를 전달받아 온/오프로 스위칭되는 전자밸브(8)로 구성된 웨이퍼 세정공정용 기포 자동배출장이다.

Description

웨이퍼 세정공정용 기포 자동배출장치
제1도는 종래의 웨이퍼 세정장치를 나타낸 유압회로도.
제2도는 본 고안을 나타낸 유압회로도.
＊ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 볼밸브 2 : 필터
3 : 신너공급관 4a : 고수위감지센서
4b : 저수위감지센서 5 : 엠프티 센서탱크
6 : 기포자동배출 콘트롤러 8 : 전자밸브
9 : 체크밸브
본 고안은 웨이퍼 세정공정용 기포 자동배출장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼 세정장치의 볼밸브와 필터사이에 기포 자동배출장치를 설치하여 웨이퍼 가장자리의 세정시 기포에 의한 감광제 코팅불량을 방지할 수 있도록 한 것이다.
종래의 웨이퍼 세정장치는 제1도에 나타낸 바와 같이, 감광막이 도포된 웨이퍼(도시는 생략함)의 가장자리를 세정하기 위한 용제인 신너(Thinner)를 저장하여 공급하는 중앙공급장치(10)를 온시키면, 신너는 신너공급관(3)의 수동볼밸브(1)와 거쳐 신너공급관(3) 선단에 설치된 세정노출(11)을 통해 웨이퍼의 가장자리로 분사 되므로써 웨이퍼의 가장자리에 도포된 감광제가 세정된다.
그러나, 이와같은 종래의 웨이퍼 감광막 세정장치는 중앙공급장치(10)로 부터 공급되는 신너가 신너공급관(3) 선단의 세정노출(11)을 통해 웨이퍼의 가장자리에 분사될 때, 신너 자체에 포함되어 있는 기포 및 외부로 부터 유입된 기포가 신너공급관(3)의 절곡부 윗부분으로 모여 보다 큰 기포로 성장하여 신너공급관(3) 선단에 설치되는 세정노즐(11) 밖으로 분사됨과 동시에 동시에 관 내부와 외부의 급격한 압력차에 의해 기포가 터져 신너가 웨이퍼의 가장자리를 벗어나 칩 부분에까지 튀므로써 부분적으로 칩부분의 감광막을 녹여 감광막으로 도포불량을 발생 시킨다.
특히, 신너공급장치에서 볼밸브(1)와 필터(2) 사이의 신너공급관(3)의 길이는 3~4미터가 되는데, 상기 신너공급관(3) 내부에 모여있는 기포의 제거가 볼밸브(1)를 조작하므로써 이루어지므로 불편할 뿐만 아니라, 기포의 다량 발생시에는 분사불량 등으로 인해 장비의 다운(down)이 일어나 생산성이 저하되는 등의 문제점이 있었다.
본 고안은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 웨이퍼 가장자리 감광막 제거장치의 볼밸브와 필터사이의 신너공급라인에 기포 자동 배출장치를 설치하여 공급라인 내의 기포를 자동 배출하므로써 웨이퍼 가장자리의 감광막 세정이 안정된 상태로 진행되므로 인해 반도체 공정의 수율을 향상시킬 수 있는 웨이퍼 세정공정용 기포 자동배출장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 고안은 볼밸브와 필터 사이의 신너공급관에 소량 및 다량의 미세기포가 신너공급관의 유입시 감지하는 고,저수위 감지센서가 부착되어 기포가 저장되는 엠프티 센서탱크와, 상기 고,저수위 감지센서의 감지상태를 전달받아 전압을 발생시키는 기포자동배출 콘트롤러와, 상기 기포자동배출 콘트롤러의 제어신호를 전달받아 온/오프로 스위칭되는 전자밸브로 구성된 웨이퍼 세정공정용 기포 자동배출장치이다.
이하, 본 고안의 일실시예를 첨부도면 제2도를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
제2도는 본 고안을 나타낸 유압 회로도로서, 웨이퍼의 가장자리를 세정하기 위한 코터장비의 볼밸브(1)와 필터(2) 사이의 신너공급관(3)에 소량 및 다량의 미세기포가 신너공급관(3)에 유입시 감지하는 고,저수위 감지센서(4a)(4b)가 부착되어 기포가 저장되는 엠프티 센서탱크(5)가 설치되고, 상기 고,저수위 감지센서(4a)(4b)의 감지상태를 전달받아 전압을 발생시키는 기포자동배출 콘트롤러(6)가 설치된다.
또한, 엠프티 센서탱크(5)와 연결된 드레인관(7)에는 기포자동배출 콘트롤러(6)의 제어에 의해 온/오프로 스위칭되는 전자밸브(8)가 설치되고, 전자밸브(8)의 일측에는 전자밸브(8)의 열림에 의해 신너공급관(3)의 분사압력저하를 방지하기 위한 체크밸브(9)가 설치되어 구성된다.
이와같이 구성된 본 고안은 제2도에 나타낸 바와 같이, 웨이퍼의 표면에 감광막이 도포된 후에 웨이퍼 가장자리의 감광막을 신너를 이용하여 제거하는 세정공정을 진행할 때, 신너공급관(3) 내부에 발생하는 작은 기포는 볼밸브(1)와 필터(2) 사이의 신너공급관(3)에 연결된 엠프티 센서탱크(5)로 모이게 되며, 필터(2)전단의 기포들이 차례로 엠프티 센서탱크(5)로 모여 엠프티 센서탱크(5)의 액면이 일정이하로 내려가면 엠프티 센서탱크(5) 일측에 부설된 고수위 감지센서(4a)는 액면을 감지하여 기포자동배출 콘트롤러(6)에 감지신호를 보내게 된다.
상기 고수위 감지센서(4a)의 감지신호를 받은 기포자동배출 콘트롤러(6)는 전자밸브(8)에 전압을 인가하여 상기 전자밸브(8)가 열리도록 제어하므로써 엠프티 센서탱크(5)내에 모인 기포를 배출시키게 된다.
한편, 웨이퍼 가장자리의 세정공정 진행 도중에 전자밸브(8)가 열려 기포가 빠져 나가면 신너공급관(3)의 관내 압력이 떨어져 분사압이 저하되므로 이를 방지하기 위한 체크밸브(9)를 전자밸브(8)의 일측에 설치하여 신너공급관(3) 내의 압력을 10Psi 이상으로 유지시켜 준다.
또한, 상기와는 달리 신너공급관(3)에 다량의 기포가 유입된 경우에는 엠프티 센서탱크(5)의 액면이 저수위 감지센서(4b)가 동작하는 높이까지 내려가 센서가 동작하게되며 상기 저수위 감지센서(4b)의 감지신호가 기포자동배출 콘트롤러(6)로 보내지면 기포자동배출 콘트롤러(6)는 엠프티 신호를 장비 인터록 발생용 신너엠프티 신호라인에 연결시켜 세정공정 장비를 인터록 시키므로써 공정을 중단시켜 각종 장비의 다운을 막을 수 있게 된다.
따라서, 엠프티 센서탱크(5)의 고수위 감지센서(4a)에 의해 미세기포가 감지되면 전자밸브(8)가 기포자동배출 콘트롤러(6)의 제어에 의해 개폐되므로써 기포를 드레인관(7)으로 배출하고, 상기 엠프티 센서탱크(5)의 저수위 감지센서(4b)에 의해 다량의 기포가 감지되면 감지신호가 신너 엠프티 신호에 연결되어 공정장비를 인터록시켜 공정의 진행을 중단시키므로써 신너를 안정된 상태로 분사되도록 하여 웨이퍼의 감광막 코팅불량을 방지할 뿐만 아니라 웨이퍼의 재작업율 및 작업손실 등을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
이상에서와 같이, 본 고안은 웨이퍼의 가장자리를 세정하기 위한 세정공정 장비의 볼밸브(1)와 필터(2)사이의 신너공급관(3)에 고,저수위 감지센서(4a)(4b)가 부착된 엠프티 센서탱크(5)가 연결되고, 상기 엠프티 센서탱크(5)와 연결된 드레인관(7)에는 기포자동배출 콘트롤러(6)에 의해 구동되는 전자밸브(8)가 설치되어 소량의 미세기포는 고수위 감지센서(4a)의 감지신호에 의해 자동배출되고, 대량의 기포가 신너공급관(3)에 유입시에는 장비를 인터록시켜 공정을 중단시키므로써 웨이퍼 감광막의 코팅불량을 방지하여 재작업률 및 작업손실을 줄이므로 인해 반도체 공정의 수율을 향상시킨 매우 유용한 고안이다.

Claims (2)

  1. 볼밸브(1)와 필터(2) 사이의 신너공급관(3)에 소량 및 다량의 미세기포가 신너공급관(3)의 유입시 감지하는 고,저수위 감지센서(4a)(4b)가 부착되어 기포가 저장되는 엠프티 센서탱크(5)와, 상기 고,저수위 감지센서(4a)(4b)의 감지상태를 전달받아 전압을 발생시키는 기포자동배출 콘트롤러(6)와, 상기 기포자동배출 콘트롤러(6)의 제어신호를 전달받아 온/오프로 스위칭되는 전자밸브(8)로 구성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정공정용 기포 자동배출장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 전자밸브(8)의 일측에는 전자밸브(8)의 열림에 의해 신너공급관(3)의 분사압력 저하를 방지하기 위한 첵크밸브(9)가 설치된 웨이퍼 세정공정용 기포 자동배출장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20000026455A (ko) * 1998-10-20 2000-05-15 윤종용 포토레지스트 분사 장치
KR100481176B1 (ko) * 2002-08-20 2005-04-07 삼성전자주식회사 기포검출장치가 장착된 웨트 크리닝 설비

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KR20000026455A (ko) * 1998-10-20 2000-05-15 윤종용 포토레지스트 분사 장치
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