JP3426662B2 - 感光性誘電体シート組成物および多層相互接続回路 - Google Patents
感光性誘電体シート組成物および多層相互接続回路Info
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Description
【0001】
【技術分野】本発明は多層相互接続回路の製造に関す
る。さらに詳細には、本発明は感光性の誘電体シートを
使用する、多層の相互接続回路の製造に関する。
る。さらに詳細には、本発明は感光性の誘電体シートを
使用する、多層の相互接続回路の製造に関する。
【0002】
【背景技術】複雑な電子回路は、一般に回路が絶縁性の
誘電体層により分離された、電導体のいくつかの層で組
み立てられていることが必要である。各電導体層は、バ
イアと呼ばれている、誘電体を貫通する導電性の経路に
より各層の間が相互接続されている。かかる多層の相互
接続構造が回路をさらにコンパクトなものにする。
誘電体層により分離された、電導体のいくつかの層で組
み立てられていることが必要である。各電導体層は、バ
イアと呼ばれている、誘電体を貫通する導電性の経路に
より各層の間が相互接続されている。かかる多層の相互
接続構造が回路をさらにコンパクトなものにする。
【0003】多層相互接続回路を組み立てるのによく知
られた方法の一つは、硬い絶縁性の基体上にパターン付
けしたスクリーンメッシュを通して、厚いフィルム状の
電導体と絶縁性誘電体とを順次プリントしかつ焼成する
ものである。この硬い基体は機械的な支持性、寸法安定
性を与え、そしてパターン付き厚いフィルム状の電導体
と誘電体の各層との整合性を容易にする。しかしなが
ら、この厚いフィルムを用いる方法は、スクリーンメッ
シュを通してのプリントにより誘電体層中にピンホール
またはボイドを生じ、これは電導体層間にショートを起
こすという欠点がある。もし厚いフィルム誘電体をプリ
ント工程中にペーストが充分に流動して、ピンホールを
形成する傾向が低くなるように処方すると、小さなバイ
アの維持がバイアの孔の中への誘電体ペーストの流入に
より危うくなり易い。また、各層のためにくり返すプリ
ントと焼成の工程は時間がかかりかつ高価である。
られた方法の一つは、硬い絶縁性の基体上にパターン付
けしたスクリーンメッシュを通して、厚いフィルム状の
電導体と絶縁性誘電体とを順次プリントしかつ焼成する
ものである。この硬い基体は機械的な支持性、寸法安定
性を与え、そしてパターン付き厚いフィルム状の電導体
と誘電体の各層との整合性を容易にする。しかしなが
ら、この厚いフィルムを用いる方法は、スクリーンメッ
シュを通してのプリントにより誘電体層中にピンホール
またはボイドを生じ、これは電導体層間にショートを起
こすという欠点がある。もし厚いフィルム誘電体をプリ
ント工程中にペーストが充分に流動して、ピンホールを
形成する傾向が低くなるように処方すると、小さなバイ
アの維持がバイアの孔の中への誘電体ペーストの流入に
より危うくなり易い。また、各層のためにくり返すプリ
ントと焼成の工程は時間がかかりかつ高価である。
【0004】多層相互接続回路を組み立てるための別の
方法は、厚いフィルム状の電導体と有機ポリマーバイン
ダー中に分散した無機誘電体粉末からなるグリーン誘電
体シートとを使用する。バイアは機械パンチまたはレー
ザードリルにより個々のシートに形成する。このバイア
を含む誘電体シートを、電導体パターンが形成されてい
る寸法安定性の絶縁性基体に整合させてラミネートしそ
して誘電体を焼成する。つぎにこのバイアを金属化し、
第2の電導体層をこのバイアと整合させて誘電体層の露
出した表面上に形成させる。誘電体テープ層の追加と金
属化のこの連続工程は所望の回路が得られるまでくり返
される。寸法安定性の基体に連続的にラミネートする、
グリーン誘電体シートを利用する方法は米国特許第4,
655,864号と同第4,645,552号で詳しく述
べられている。シートの形での誘電体の使用により厚い
フィルムのペースト状誘電体のプリントと流動の各欠点
が避けられる。しかし、機械およびレーザーの手段によ
るバイア形成は時間を要し、また、異なるシートのバイ
ア配列の整合は困難であり、そして機械パンチはバイア
のまわりのシートを圧迫し変形させる。
方法は、厚いフィルム状の電導体と有機ポリマーバイン
ダー中に分散した無機誘電体粉末からなるグリーン誘電
体シートとを使用する。バイアは機械パンチまたはレー
ザードリルにより個々のシートに形成する。このバイア
を含む誘電体シートを、電導体パターンが形成されてい
る寸法安定性の絶縁性基体に整合させてラミネートしそ
して誘電体を焼成する。つぎにこのバイアを金属化し、
第2の電導体層をこのバイアと整合させて誘電体層の露
出した表面上に形成させる。誘電体テープ層の追加と金
属化のこの連続工程は所望の回路が得られるまでくり返
される。寸法安定性の基体に連続的にラミネートする、
グリーン誘電体シートを利用する方法は米国特許第4,
655,864号と同第4,645,552号で詳しく述
べられている。シートの形での誘電体の使用により厚い
フィルムのペースト状誘電体のプリントと流動の各欠点
が避けられる。しかし、機械およびレーザーの手段によ
るバイア形成は時間を要し、また、異なるシートのバイ
ア配列の整合は困難であり、そして機械パンチはバイア
のまわりのシートを圧迫し変形させる。
【0005】米国特許第5,032,216号でFeltenは
拡散パターン化によるバイアの形成を記述している。グ
リーン誘電体を水溶性にするような薬品をバイア配列の
パターン状でシートに付与する。乾燥中にこの薬品はグ
リーン誘電体材料中に拡散する。次いで誘電体を水中で
現像して所望のバイアパターンを形成させる。この方法
は機械パンチおよびレーザードリル法よりも著しく短い
時間内にバイアマトリクスを形成する。しかしながら、
この拡散用薬品はグリーンシート上にスクリーン印刷
し、ついで室温以上の温度で乾燥しなければならない。
このため、異なるシート上のパターンの整合が困難であ
り、そしてバイアの最小サイズはスクリーンメッシュの
解像性とグリーン誘電体中へ拡散する薬品の能力により
ほぼ6〜8ミル(0.15〜0.20mm)に限定される。
スクリーンメッシュの目づまりもまた重大な問題であ
る。
拡散パターン化によるバイアの形成を記述している。グ
リーン誘電体を水溶性にするような薬品をバイア配列の
パターン状でシートに付与する。乾燥中にこの薬品はグ
リーン誘電体材料中に拡散する。次いで誘電体を水中で
現像して所望のバイアパターンを形成させる。この方法
は機械パンチおよびレーザードリル法よりも著しく短い
時間内にバイアマトリクスを形成する。しかしながら、
この拡散用薬品はグリーンシート上にスクリーン印刷
し、ついで室温以上の温度で乾燥しなければならない。
このため、異なるシート上のパターンの整合が困難であ
り、そしてバイアの最小サイズはスクリーンメッシュの
解像性とグリーン誘電体中へ拡散する薬品の能力により
ほぼ6〜8ミル(0.15〜0.20mm)に限定される。
スクリーンメッシュの目づまりもまた重大な問題であ
る。
【0006】米国特許第4,613,560号でDueber
は、感光性のセラミック塗布組成物を開示している。こ
れは1,1,1−トリクロロエタンのような非水系の有機
液体により現像しうるものである。この組成物は厚いフ
ィルム用のペーストまたはフィルムとしてキャストする
ように処方され、このフィルムはついで硬い基体にラミ
ネートされ、露光し、現像しそして焼成して多層回路中
の誘電体層を形成する。この方法によりスクリーン印刷
の諸欠点が避けられる。しかし、非水系の有機現像液は
特別の取り扱いと廃棄を必要とし、また処理のために硬
い基体にキャストフィルムをラミネートするという条件
が組成物の使用を制限する。
は、感光性のセラミック塗布組成物を開示している。こ
れは1,1,1−トリクロロエタンのような非水系の有機
液体により現像しうるものである。この組成物は厚いフ
ィルム用のペーストまたはフィルムとしてキャストする
ように処方され、このフィルムはついで硬い基体にラミ
ネートされ、露光し、現像しそして焼成して多層回路中
の誘電体層を形成する。この方法によりスクリーン印刷
の諸欠点が避けられる。しかし、非水系の有機現像液は
特別の取り扱いと廃棄を必要とし、また処理のために硬
い基体にキャストフィルムをラミネートするという条件
が組成物の使用を制限する。
【0007】米国特許第4,912,019号中でNebe
は、厚いフィルム用ペーストまたは支持付きフィルム用
として使用しうる、別の感光性セラミック塗布組成物を
開示している。Deuberの組成物とは異なり、Nebeのもの
はわずか1重量%の炭酸ナトリウムを含む水溶液中で現
像可能である。この現像液は特別な処理をすることなし
に普通の廃棄系で受け入れることができる。しかしなが
ら、Dueberのフィルムのように、Nebeのフィルムも多層
回路に誘電体層を形成するためには硬い基体にラミネー
トし、露光し、現像し、次いで焼成する。硬い基体を必
要とすることがこのフィルムの使用を不都合に制限して
いる。
は、厚いフィルム用ペーストまたは支持付きフィルム用
として使用しうる、別の感光性セラミック塗布組成物を
開示している。Deuberの組成物とは異なり、Nebeのもの
はわずか1重量%の炭酸ナトリウムを含む水溶液中で現
像可能である。この現像液は特別な処理をすることなし
に普通の廃棄系で受け入れることができる。しかしなが
ら、Dueberのフィルムのように、Nebeのフィルムも多層
回路に誘電体層を形成するためには硬い基体にラミネー
トし、露光し、現像し、次いで焼成する。硬い基体を必
要とすることがこのフィルムの使用を不都合に制限して
いる。
【0008】誘電体組成物における前記の進歩にもかか
わらず、グリーンの状態で自己支持性であり、かつバイ
アおよび/または回路配列を速やかにパターン付けする
ことのできる、誘電性組成物についての絶えることのな
い必要性が存在している。また多層相互接続回路を製作
するための可撓性を加えた、各種の方法で処理すること
のできる誘電体フィルムについての必要性も存在する。
わらず、グリーンの状態で自己支持性であり、かつバイ
アおよび/または回路配列を速やかにパターン付けする
ことのできる、誘電性組成物についての絶えることのな
い必要性が存在している。また多層相互接続回路を製作
するための可撓性を加えた、各種の方法で処理すること
のできる誘電体フィルムについての必要性も存在する。
【0009】
【発明の要点】本発明は感光性の誘電体シート組成物
と、このシートを使用する多層相互接続回路の製造に関
する。このシートは自己支持性でありまた薄い水溶液中
で現像可能なものである。多層相互接続回路は、一方の
面または両面から、あるいは深さを調節して露光したシ
ートにより作ることができる。
と、このシートを使用する多層相互接続回路の製造に関
する。このシートは自己支持性でありまた薄い水溶液中
で現像可能なものである。多層相互接続回路は、一方の
面または両面から、あるいは深さを調節して露光したシ
ートにより作ることができる。
【0010】
【発明の具体的説明】本発明の感光性誘電体シート組成
物は (a) 無機バインダーの微砕粒子と、 (b) 場合により、セラミック固体の微砕粒子との混
合物からなる組成物であって、前記混合物が (e) 光硬化性モノマー、および (f) 有機溶剤に溶解した (c) アミン含有の有機ポリマーあるいはコポリマ
ー、インターポリマーまたはこれらの混合物からなる有
機重合体バインダーであって、各コポリマーまたはイン
ターポリマーは(1)C1〜C10のアルキルアクリレー
ト、C1〜C10のアルキルメタクリレート、スチレン、
置換スチレンまたはこれらの組み合わせの非酸性コモノ
マーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸部分を含む
酸性コモノマーとからなり、このコポリマー、インター
ポリマーまたは混合物は全ポリマー重量の少なくとも1
5重量%の酸含有量を有し、かつバインダーの重量平均
分子量は25,000〜500,000またはこれ以上の
範囲内であり、そしてバインダーの平均ガラス転位温度
は50°〜100℃の範囲内であるもの、および (d) 光開始剤を含有する有機媒体に分散されてお
り、かつ前記組成物が活性放射線の像露光で薄いアルカ
リ性または酸性の水溶液中で現像可能なものである。
物は (a) 無機バインダーの微砕粒子と、 (b) 場合により、セラミック固体の微砕粒子との混
合物からなる組成物であって、前記混合物が (e) 光硬化性モノマー、および (f) 有機溶剤に溶解した (c) アミン含有の有機ポリマーあるいはコポリマ
ー、インターポリマーまたはこれらの混合物からなる有
機重合体バインダーであって、各コポリマーまたはイン
ターポリマーは(1)C1〜C10のアルキルアクリレー
ト、C1〜C10のアルキルメタクリレート、スチレン、
置換スチレンまたはこれらの組み合わせの非酸性コモノ
マーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸部分を含む
酸性コモノマーとからなり、このコポリマー、インター
ポリマーまたは混合物は全ポリマー重量の少なくとも1
5重量%の酸含有量を有し、かつバインダーの重量平均
分子量は25,000〜500,000またはこれ以上の
範囲内であり、そしてバインダーの平均ガラス転位温度
は50°〜100℃の範囲内であるもの、および (d) 光開始剤を含有する有機媒体に分散されてお
り、かつ前記組成物が活性放射線の像露光で薄いアルカ
リ性または酸性の水溶液中で現像可能なものである。
【0011】〔無機バインダー〕無機バインダーは、系
中の他の材料に対して化学的に不活性であり、所望の電
気絶縁特性を有しそして全体中のどのセラミック固体に
ついても適切な物理的特性を有するようなものから選定
する。無機バインダーについて好ましい基本的な物理特
性は(1)全体中のどのセラミック固体のものより低い半
融温度を有し、(2)用いられる焼成温度で粘性の半融相
になることである。
中の他の材料に対して化学的に不活性であり、所望の電
気絶縁特性を有しそして全体中のどのセラミック固体に
ついても適切な物理的特性を有するようなものから選定
する。無機バインダーについて好ましい基本的な物理特
性は(1)全体中のどのセラミック固体のものより低い半
融温度を有し、(2)用いられる焼成温度で粘性の半融相
になることである。
【0012】普通の、セラミックの火入れさせていない
テープの無機バインダー成分がガラスであるとき、これ
は焼成条件において結晶性または非結晶性のガラスのい
ずれであっても良い。この例にはホウケイ酸鉛ガラス、
ホウケイ酸亜鉛ガラス、ビスマス、カドミウム、バリウ
ム、カルシウムまたはその他アルカリ土類のホウケイ酸
ガラスのようなホウケイ酸ガラス類;ホウ酸亜鉛ガラ
ス、ホウ酸亜鉛カルシウムガラスおよびホウ酸ビスマス
鉛ガラスのようなホウ酸ガラス類が含まれる。無機バイ
ンダーとセラミック固体の粒子サイズおよび粒子サイズ
分布は限界的にせまいものではなく、粒子は通常0.5
と20ミクロンの間のサイズである。
テープの無機バインダー成分がガラスであるとき、これ
は焼成条件において結晶性または非結晶性のガラスのい
ずれであっても良い。この例にはホウケイ酸鉛ガラス、
ホウケイ酸亜鉛ガラス、ビスマス、カドミウム、バリウ
ム、カルシウムまたはその他アルカリ土類のホウケイ酸
ガラスのようなホウケイ酸ガラス類;ホウ酸亜鉛ガラ
ス、ホウ酸亜鉛カルシウムガラスおよびホウ酸ビスマス
鉛ガラスのようなホウ酸ガラス類が含まれる。無機バイ
ンダーとセラミック固体の粒子サイズおよび粒子サイズ
分布は限界的にせまいものではなく、粒子は通常0.5
と20ミクロンの間のサイズである。
【0013】〔セラミック固体〕セラミック固体は本発
明の誘電体組成物中では任意的なものである。これが添
加される場合、それらは系中の他の物質に対して化学的
に不活性であり、所望の電気絶縁性を与えそして組成物
の無機バインダーと感光性の各成分に対して適切な物理
的特性をもつものから選定される。基本的に、この固体
は充填材であり熱膨張と誘電率のような特性を調節する
ものである。
明の誘電体組成物中では任意的なものである。これが添
加される場合、それらは系中の他の物質に対して化学的
に不活性であり、所望の電気絶縁性を与えそして組成物
の無機バインダーと感光性の各成分に対して適切な物理
的特性をもつものから選定される。基本的に、この固体
は充填材であり熱膨張と誘電率のような特性を調節する
ものである。
【0014】誘電体中のセラミック固体のもっとも望ま
しい物理的特性は(1)それらが無機バインダーの半融温
度以上の半融温度を有し、(2)本発明の焼成工程中に半
融しないことである。したがって、本発明の明細書中で
「セラミック固体」の用語は、普通酸化物である無機材
料を示し、これは本質的に半融とならず、そして本発明
の実施に際して行われる焼成条件下で無機バインダー中
への溶解を制限する傾向をもつものである。
しい物理的特性は(1)それらが無機バインダーの半融温
度以上の半融温度を有し、(2)本発明の焼成工程中に半
融しないことである。したがって、本発明の明細書中で
「セラミック固体」の用語は、普通酸化物である無機材
料を示し、これは本質的に半融とならず、そして本発明
の実施に際して行われる焼成条件下で無機バインダー中
への溶解を制限する傾向をもつものである。
【0015】以上の条件に従って、ほとんどの高融点無
機固体も誘電体テープのセラミック固体成分として用い
ることができる。その例にはBaTiO3、CaTi
O3、SrTiO3、PbTiO3、CaZrO3、BaZ
rO3、CaSnO3、BaSnO3、Al2O3のような
各物質、シリコンカーバイドのような金属カーバイド
類、アルミニウムナイトライドのような金属ナイトライ
ド類、ムライトおよびカイアナイト、コルディエライ
ト、ジルコニア、フォルステライト、アノルサイトおよ
び各種形態のシリカのような鉱物類などが含まれる。ま
た適当なものはこのような物質の前駆体、すなわち、焼
成すると誘電性の固体に変換される固体材料、およびこ
れらの任意の混合物である。高軟化点のガラスも、これ
らが充分に高い軟化点をもつならば、セラミック成分と
して用いることができる。さらに、このような物質の混
合物も同様に用いることができる。
機固体も誘電体テープのセラミック固体成分として用い
ることができる。その例にはBaTiO3、CaTi
O3、SrTiO3、PbTiO3、CaZrO3、BaZ
rO3、CaSnO3、BaSnO3、Al2O3のような
各物質、シリコンカーバイドのような金属カーバイド
類、アルミニウムナイトライドのような金属ナイトライ
ド類、ムライトおよびカイアナイト、コルディエライ
ト、ジルコニア、フォルステライト、アノルサイトおよ
び各種形態のシリカのような鉱物類などが含まれる。ま
た適当なものはこのような物質の前駆体、すなわち、焼
成すると誘電性の固体に変換される固体材料、およびこ
れらの任意の混合物である。高軟化点のガラスも、これ
らが充分に高い軟化点をもつならば、セラミック成分と
して用いることができる。さらに、このような物質の混
合物も同様に用いることができる。
【0016】〔有機性媒体〕有機重合体バインダー
バインダーポリマーは本発明の組成物にとって重要であ
る。これは水性処理可能性を与えねばならずまた同時に
高い解像性とグリーン強度とを与えねばならない。これ
らの各要件はつぎのいすれかのバインダーを選定するこ
とにより満たされるのが認められた:(A)8〜12の
pKa値をもつ有機アミン含有ポリマーか8〜12の平均p
Ka値をもつ有機アミン含有ポリマーの混合物、または
(B)コポリマー、インターポリマーまたはこれらの混
合物で、ここで各コポリマーまたはインターポリマーは
(1)C1〜C10のアルキルアクリレート、C1〜C10の
アルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレンまた
はこれらの組み合わせからなる非酸性コモノマーと、
(2)エチレン系不飽和カルボン酸部位を有する酸性コ
モノマーとから構成され、このコポリマー、インターポ
リマーまたは混合物は少なくとも15重量%の酸含有量
を有するものである。(B)における混合物はコポリマー
類、インターポリマー類または両方を含むことができ
る。バインダーが有機アミン含有ポリマーであるとき、
現像液は酸性成分を含まねばならない。反対に、酸性ポ
リマーバインダー(B)は塩基性成分を含有する溶液によ
り現像しなければならない。
る。これは水性処理可能性を与えねばならずまた同時に
高い解像性とグリーン強度とを与えねばならない。これ
らの各要件はつぎのいすれかのバインダーを選定するこ
とにより満たされるのが認められた:(A)8〜12の
pKa値をもつ有機アミン含有ポリマーか8〜12の平均p
Ka値をもつ有機アミン含有ポリマーの混合物、または
(B)コポリマー、インターポリマーまたはこれらの混
合物で、ここで各コポリマーまたはインターポリマーは
(1)C1〜C10のアルキルアクリレート、C1〜C10の
アルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレンまた
はこれらの組み合わせからなる非酸性コモノマーと、
(2)エチレン系不飽和カルボン酸部位を有する酸性コ
モノマーとから構成され、このコポリマー、インターポ
リマーまたは混合物は少なくとも15重量%の酸含有量
を有するものである。(B)における混合物はコポリマー
類、インターポリマー類または両方を含むことができ
る。バインダーが有機アミン含有ポリマーであるとき、
現像液は酸性成分を含まねばならない。反対に、酸性ポ
リマーバインダー(B)は塩基性成分を含有する溶液によ
り現像しなければならない。
【0017】酸性ポリマー/塩基性現像液系のために、
ポリマーバインダー(B)の酸官能性は、炭酸カリウムま
たはナトリウムの0.8〜2.0%溶液のような、塩基水
溶液中での現像可能性を生じる。酸性コモノマーが15
%以下の濃度で存在するとき、組成物は塩基水溶液中で
速やかにあるいは適切にウオッシュアウトされない。酸
性コモノマーが30%以上の濃度で存在するとき、組成
物は一般に高湿下に不安定でまた画像区域も部分的に現
像されてしまう。
ポリマーバインダー(B)の酸官能性は、炭酸カリウムま
たはナトリウムの0.8〜2.0%溶液のような、塩基水
溶液中での現像可能性を生じる。酸性コモノマーが15
%以下の濃度で存在するとき、組成物は塩基水溶液中で
速やかにあるいは適切にウオッシュアウトされない。酸
性コモノマーが30%以上の濃度で存在するとき、組成
物は一般に高湿下に不安定でまた画像区域も部分的に現
像されてしまう。
【0018】適当な酸性コモノマーにはアクリル、メタ
クリルおよびクロトン酸のようなエチレン系不飽和モノ
カルボン酸およびフマール、イタコン、シトラコン、コ
ハク酸ビニル、マレインのようなエチレン系不飽和ジカ
ルボン酸ならびにこれらの半エステル、そして適切な場
合それらの無水物および混合物などが含まれる。
クリルおよびクロトン酸のようなエチレン系不飽和モノ
カルボン酸およびフマール、イタコン、シトラコン、コ
ハク酸ビニル、マレインのようなエチレン系不飽和ジカ
ルボン酸ならびにこれらの半エステル、そして適切な場
合それらの無水物および混合物などが含まれる。
【0019】低酸素および実質的に非酸化性の雰囲気下
でもきれいに焼けるので、低い酸素ポテンシャルの雰囲
気が必要なときはアクリル系ポリマーよりもメタクリル
系のポリマーが好ましい。「実質的に非酸化性の雰囲
気」とは、金属銅を顕著に酸化するには酸素が不充分で
あるが、それにもかかわらず有機材料を酸化するには充
分な酸化物質を含んでいる雰囲気を意味している。
でもきれいに焼けるので、低い酸素ポテンシャルの雰囲
気が必要なときはアクリル系ポリマーよりもメタクリル
系のポリマーが好ましい。「実質的に非酸化性の雰囲
気」とは、金属銅を顕著に酸化するには酸素が不充分で
あるが、それにもかかわらず有機材料を酸化するには充
分な酸化物質を含んでいる雰囲気を意味している。
【0020】非酸性コモノマーはバインダーポリマーの
少なくとも50、好ましくは70〜75重量%を占める
ことが望ましい。酸性コモノマーが無水マレイン酸のよ
うな酸無水物の半エステルであるとき、酸性コモノマー
がバインダーポリマーの50重量%を構成し、そして他
の50%はスチレンまたは置換スチレンのような非酸性
コモノマーであることが好ましい。好ましい置換スチレ
ンはα−メチルスチレンである。ポリマーバインダーの
非酸性部分は、ポリマーのアルキルアクリレート、アル
キルメタクリレート、、スチレンまたは置換スチレンの
部分に代わるものとして、約50重量%までは他の非酸
性コモノマーを含むことができる。この例にはアクリロ
ニトリル、ビニルアセテート、アクリルアミドなどを、
前記の成分上の各条件と以下で述べる物理的基準とが合
致する限り包含させることができる。しかしながら、き
れいに燃え切りがより困難であるためこれらのポリマー
は全バインダーポリマーの約25重量%以下に用いるの
が好ましい。
少なくとも50、好ましくは70〜75重量%を占める
ことが望ましい。酸性コモノマーが無水マレイン酸のよ
うな酸無水物の半エステルであるとき、酸性コモノマー
がバインダーポリマーの50重量%を構成し、そして他
の50%はスチレンまたは置換スチレンのような非酸性
コモノマーであることが好ましい。好ましい置換スチレ
ンはα−メチルスチレンである。ポリマーバインダーの
非酸性部分は、ポリマーのアルキルアクリレート、アル
キルメタクリレート、、スチレンまたは置換スチレンの
部分に代わるものとして、約50重量%までは他の非酸
性コモノマーを含むことができる。この例にはアクリロ
ニトリル、ビニルアセテート、アクリルアミドなどを、
前記の成分上の各条件と以下で述べる物理的基準とが合
致する限り包含させることができる。しかしながら、き
れいに燃え切りがより困難であるためこれらのポリマー
は全バインダーポリマーの約25重量%以下に用いるの
が好ましい。
【0021】単一のコポリマーまたはコポリマーの組み
合わせで、それぞれが前記の基準を満たすものはバイン
ダーとして用いることができるのが認められよう。前記
のコポリマー類に加えて、少量のその他の重合体バイン
ダーを追加することも可能である。このようなものの例
にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポ
リイソブチレン、およびエチレン−プロピレンコポリマ
ーのようなポリオレフィン類;ポリエチレンオキサイド
のような低級アルキレンオキサイドのポリマーであるポ
リエーテル類が含まれる。
合わせで、それぞれが前記の基準を満たすものはバイン
ダーとして用いることができるのが認められよう。前記
のコポリマー類に加えて、少量のその他の重合体バイン
ダーを追加することも可能である。このようなものの例
にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポ
リイソブチレン、およびエチレン−プロピレンコポリマ
ーのようなポリオレフィン類;ポリエチレンオキサイド
のような低級アルキレンオキサイドのポリマーであるポ
リエーテル類が含まれる。
【0022】アミン含有ポリマー/酸性現像液系のため
に、ポリマーバインダー(A)のアミン官能基は、酢
酸、シュウ酸、乳酸またはクエン酸の0.8〜2.0重量
%溶液のような、有機または鉱酸水溶液中での現像可能
性を生じる。適当なアミン含有ポリマーには、2−ジメ
チルアミノエチルアクリレートおよび2−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレートのような、ポリエチレンイミン
およびアミン含有のアクリレートとメタクリレートとが
含まれる。
に、ポリマーバインダー(A)のアミン官能基は、酢
酸、シュウ酸、乳酸またはクエン酸の0.8〜2.0重量
%溶液のような、有機または鉱酸水溶液中での現像可能
性を生じる。適当なアミン含有ポリマーには、2−ジメ
チルアミノエチルアクリレートおよび2−ジメチルアミ
ノエチルメタクリレートのような、ポリエチレンイミン
およびアミン含有のアクリレートとメタクリレートとが
含まれる。
【0023】ポリマーは当業者によく知られている普通
の方法による重合によって製造することができる。たと
えば、酸性のアクリレートポリマーはα−またはβ−エ
チレン系不飽和酸(酸性コモノマー)と1種またはそれ
以上の共重合性ビニルモノマー(非酸性コモノマー)と
を比較的低沸点(75°〜150℃)の有機溶剤中で合
してモノマー混合物の10〜60%溶液とし、ついで重
合触媒を添加しそして大気圧の下に溶液の還流温度に加
熱することによりモノマーを重合させる。重合反応が実
質的に完了した後、得られた酸性ポリマー溶液を室温に
冷却しサンプルを取出してポリマーの粘度、分子量、酸
価などを測定する。さらに、酸含有バインダーポリマー
の重量平均分子量は25,000以下の値ではない、好
ましくは25,000〜500,000の範囲内に、さら
に好ましくは35,000〜400,000の範囲内にそ
してもっとも好ましくは50,000〜250,000に
保持することが必要である。
の方法による重合によって製造することができる。たと
えば、酸性のアクリレートポリマーはα−またはβ−エ
チレン系不飽和酸(酸性コモノマー)と1種またはそれ
以上の共重合性ビニルモノマー(非酸性コモノマー)と
を比較的低沸点(75°〜150℃)の有機溶剤中で合
してモノマー混合物の10〜60%溶液とし、ついで重
合触媒を添加しそして大気圧の下に溶液の還流温度に加
熱することによりモノマーを重合させる。重合反応が実
質的に完了した後、得られた酸性ポリマー溶液を室温に
冷却しサンプルを取出してポリマーの粘度、分子量、酸
価などを測定する。さらに、酸含有バインダーポリマー
の重量平均分子量は25,000以下の値ではない、好
ましくは25,000〜500,000の範囲内に、さら
に好ましくは35,000〜400,000の範囲内にそ
してもっとも好ましくは50,000〜250,000に
保持することが必要である。
【0024】バインダーポリマーのTgは50℃以上で、
好ましくは50°〜100℃の範囲内である。有機重合
体バインダーは一般に乾燥光重合性層の全重量を基準に
4〜45重量%の量で存在する。
好ましくは50°〜100℃の範囲内である。有機重合
体バインダーは一般に乾燥光重合性層の全重量を基準に
4〜45重量%の量で存在する。
【0025】光開始剤系
適当な光開始剤系は熱的には不活性であるが、85℃ま
たはこれ以下で活性光の露光でフリーラジカルを発生す
るようなものである。これらには置換または未置換の多
核キノン類が含まれ、これは共役炭素環状系中に2個の
環内炭素原子を有する化合物で、たとえば9,10−ア
ントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチル
アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、オク
タメチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,1
0−フェナントレンキノン、ベンザアントラセン−7,
12−ジオン、2,3−ナフタセン−5,12−ジオン、
2−メチル−1,4−ナフトキノン、1,4−ジメチルア
ントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、2−
フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラ
キノン、レテンキノン、7,8,9,10−テトラヒドロ
ナフタセン−5,12−ジオンおよび1,2,3,4−テト
ラヒドロベンザアントラセン−7,12−ジオンなどで
ある。
たはこれ以下で活性光の露光でフリーラジカルを発生す
るようなものである。これらには置換または未置換の多
核キノン類が含まれ、これは共役炭素環状系中に2個の
環内炭素原子を有する化合物で、たとえば9,10−ア
ントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチル
アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、オク
タメチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,1
0−フェナントレンキノン、ベンザアントラセン−7,
12−ジオン、2,3−ナフタセン−5,12−ジオン、
2−メチル−1,4−ナフトキノン、1,4−ジメチルア
ントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、2−
フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラ
キノン、レテンキノン、7,8,9,10−テトラヒドロ
ナフタセン−5,12−ジオンおよび1,2,3,4−テト
ラヒドロベンザアントラセン−7,12−ジオンなどで
ある。
【0026】また、あるものは85℃以下の温度で熱的
に活性なこともあるが、有用なこの他の光開始剤が米国
特許第2,760,863号に述べられており、これには
ベンゾイン、ピバロイン、アシロインエーテル類のよう
な近接ケトアルドニルアルコール類が含まれ、たとえば
ベンゾインメチルおよびエチルエーテル類;α−メチル
ベンゾイン、α−アリルベンゾインおよびα−フェニル
ベンゾインを含むα−炭化水素置換芳香族アシロインな
どが含まれる。米国特許第2,850,445号、同第
2,875,047号、同第3,097,096号、同第
3,074,974号および同第3,145,104号で開
示されている光還元性色素と還元剤、同様に米国特許第
3,427,161号、同第3,479,185号および同
第3,549,367号で述べられたようなフェナジン、
オキサジンおよびキノンクラスの色素類、ミヒラーのケ
トン、エチルミヒラーのケトン、ベンゾフェノン、ロイ
コ色素を含む水素ドナーと2,4,5−トリフェニルイミ
ダゾリルダイマー類およびこれらの混合物も開始剤とし
て用いることができる。また光開始剤および光抑制剤と
ともに有用なものは米国特許第4,162,162号に開
示されている増感剤である。
に活性なこともあるが、有用なこの他の光開始剤が米国
特許第2,760,863号に述べられており、これには
ベンゾイン、ピバロイン、アシロインエーテル類のよう
な近接ケトアルドニルアルコール類が含まれ、たとえば
ベンゾインメチルおよびエチルエーテル類;α−メチル
ベンゾイン、α−アリルベンゾインおよびα−フェニル
ベンゾインを含むα−炭化水素置換芳香族アシロインな
どが含まれる。米国特許第2,850,445号、同第
2,875,047号、同第3,097,096号、同第
3,074,974号および同第3,145,104号で開
示されている光還元性色素と還元剤、同様に米国特許第
3,427,161号、同第3,479,185号および同
第3,549,367号で述べられたようなフェナジン、
オキサジンおよびキノンクラスの色素類、ミヒラーのケ
トン、エチルミヒラーのケトン、ベンゾフェノン、ロイ
コ色素を含む水素ドナーと2,4,5−トリフェニルイミ
ダゾリルダイマー類およびこれらの混合物も開始剤とし
て用いることができる。また光開始剤および光抑制剤と
ともに有用なものは米国特許第4,162,162号に開
示されている増感剤である。
【0027】光硬化性モノマー
本発明の光硬化性モノマー成分には少なくとも1個の光
重合しうるエチレン系基をもつ、少なくとも1種の付加
重合可能なエチレン系不飽和化合物が含まれる。このよ
うな化合物はフリーラジカルで開始された、連鎖生長付
加重合により高分子物を形成し得るものである。このモ
ノマー化合物は非ガス性、つまり通常100℃以上の沸
点をもつ有機重合体バインダーに可塑剤的作用をするも
のである。
重合しうるエチレン系基をもつ、少なくとも1種の付加
重合可能なエチレン系不飽和化合物が含まれる。このよ
うな化合物はフリーラジカルで開始された、連鎖生長付
加重合により高分子物を形成し得るものである。このモ
ノマー化合物は非ガス性、つまり通常100℃以上の沸
点をもつ有機重合体バインダーに可塑剤的作用をするも
のである。
【0028】単独または他のモノマーと組み合わせて用
いることのできる適当なモノマー類にはt−ブチルアク
リレートとメタクリレート、1,5−ペンタンジオール
ジアクリレートとジメタクリレート、N,N−ジエチル
アミノエチルアクリレートとメタクリレート、エチレン
グリコールジアクリレートとジメタクリレート、1,4
−ブタンジオールジアクリレートとジメタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレートとジメタクリレー
ト、ヘキサメチレングリコールジアクリレートとジメタ
クリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレート
とジメタクリレート、デカメチレングリコールジアクリ
レートとジメタクリレート、1,4−シクロヘキサンジ
オールジアクリレートとジメタクリレート、2,2−ジ
メチロールプロパンジアクリレートとジメタクリレー
ト、グリセロールジアクリレートとジメタクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレートとジメタクリ
レート、グリセロールトリアクリレートとトリメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレートとト
リメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ートとトリメタクリレート、ポリオキシエチル化トリメ
チロールプロパントリアクリレートとトリメタクリレー
トおよび米国特許第3,380,831号で開示された類
似の化合物、2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニル)
−プロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレートとテトラメタクリレート、2,2−ジ−
(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとテトラ
メタクリレート、2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニ
ル)−プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリオキシエチル、1,2−ジ−
(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジメタクリレー
ト、ビスフェノール−Aのジ−(3−メタクリルオキシ
−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフェノール
Aのジ−(2−メタクリルオキシエチル)エーテル、ビ
スフェノールAのジ−(3−アクリルオキシ−2−ヒド
ロキシプロピル)エーテル、ビスフェノール−Aのジ−
(2−アクリルオキシエチル)エーテル、ビスフェノー
ル−Aのジ−(2−アクリルオキシエチル)エーテル、
1,4−ブタンジオールのジ−(3−メタクリルオキシ
−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、トリエチレング
リコールジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメ
チロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコー
ルジアクリレートとジメタクリレート、1,2,4−ブタ
ントリオールトリアクリレートとトリメタクリレート、
2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジア
クリレートとジメタクリレート、1−フェニルエチレン
−1,2−ジメタクリレート、ジアリルフマレート、ス
チレン、1,4−ベンゼンジオールジメタクリレート、
1,4−ジイソプロペニルベンゼンおよび1,3,5−ト
リイソプロペニルベンゼンなどが含まれる。
いることのできる適当なモノマー類にはt−ブチルアク
リレートとメタクリレート、1,5−ペンタンジオール
ジアクリレートとジメタクリレート、N,N−ジエチル
アミノエチルアクリレートとメタクリレート、エチレン
グリコールジアクリレートとジメタクリレート、1,4
−ブタンジオールジアクリレートとジメタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレートとジメタクリレー
ト、ヘキサメチレングリコールジアクリレートとジメタ
クリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレート
とジメタクリレート、デカメチレングリコールジアクリ
レートとジメタクリレート、1,4−シクロヘキサンジ
オールジアクリレートとジメタクリレート、2,2−ジ
メチロールプロパンジアクリレートとジメタクリレー
ト、グリセロールジアクリレートとジメタクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレートとジメタクリ
レート、グリセロールトリアクリレートとトリメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレートとト
リメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ートとトリメタクリレート、ポリオキシエチル化トリメ
チロールプロパントリアクリレートとトリメタクリレー
トおよび米国特許第3,380,831号で開示された類
似の化合物、2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニル)
−プロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラアクリレートとテトラメタクリレート、2,2−ジ−
(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとテトラ
メタクリレート、2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニ
ル)−プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリオキシエチル、1,2−ジ−
(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジメタクリレー
ト、ビスフェノール−Aのジ−(3−メタクリルオキシ
−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフェノール
Aのジ−(2−メタクリルオキシエチル)エーテル、ビ
スフェノールAのジ−(3−アクリルオキシ−2−ヒド
ロキシプロピル)エーテル、ビスフェノール−Aのジ−
(2−アクリルオキシエチル)エーテル、ビスフェノー
ル−Aのジ−(2−アクリルオキシエチル)エーテル、
1,4−ブタンジオールのジ−(3−メタクリルオキシ
−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、トリエチレング
リコールジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメ
チロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコー
ルジアクリレートとジメタクリレート、1,2,4−ブタ
ントリオールトリアクリレートとトリメタクリレート、
2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジア
クリレートとジメタクリレート、1−フェニルエチレン
−1,2−ジメタクリレート、ジアリルフマレート、ス
チレン、1,4−ベンゼンジオールジメタクリレート、
1,4−ジイソプロペニルベンゼンおよび1,3,5−ト
リイソプロペニルベンゼンなどが含まれる。
【0029】またさらに有用なものは少なくとも300
の分子量をもつエチレン系の不飽和化合物で、たとえば
C2〜C15のアルキレングリコールまたは1〜10個の
エーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコールから
作られた、アルキレンまたはポリアルキレンジアクリレ
ート、および米国特許第2,927,022号で開示され
た、たとえば複数の付加重合しうるエチレン系の結合
を、特に末端結合として有するようなものである。好ま
しいモノマーはポリオキシエチル化トリメチロールプロ
パントリアクリレートとメタクリレート、エチル化ペン
タエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレートとメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートおよび
1,10−デカンジオールジメタアクリレートなどであ
る。好ましい他のモノマーはモノヒドロキシポリカプロ
ラクトンモノアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート(分子量、約200)、およびポリエチレ
ングリコール400ジメタアクリレート(分子量、約4
00)である。不飽和単量体成分は乾燥光重合性層の全
重量を基準に1〜25重量%の分量で存在する。
の分子量をもつエチレン系の不飽和化合物で、たとえば
C2〜C15のアルキレングリコールまたは1〜10個の
エーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコールから
作られた、アルキレンまたはポリアルキレンジアクリレ
ート、および米国特許第2,927,022号で開示され
た、たとえば複数の付加重合しうるエチレン系の結合
を、特に末端結合として有するようなものである。好ま
しいモノマーはポリオキシエチル化トリメチロールプロ
パントリアクリレートとメタクリレート、エチル化ペン
タエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレートとメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートおよび
1,10−デカンジオールジメタアクリレートなどであ
る。好ましい他のモノマーはモノヒドロキシポリカプロ
ラクトンモノアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート(分子量、約200)、およびポリエチレ
ングリコール400ジメタアクリレート(分子量、約4
00)である。不飽和単量体成分は乾燥光重合性層の全
重量を基準に1〜25重量%の分量で存在する。
【0030】有機溶剤
溶剤成分はポリマーの完全な溶液が得られ、かつ大気圧
において比較的低レベルの熱を与えることにより、溶剤
が分散物から蒸発し得るのに充分な高い揮発性であるも
のが選ばれる。その上、この溶剤は有機性媒体中に含ま
れている他のどの添加物の沸点および分解温度以下でよ
く沸騰しなければならない。したがって、大気下150
℃以下の沸点をもつ溶剤がもっとも普通に用いられる。
このような溶剤にはアセトン、キシレン、メタノール、
エタノール、メチルエチルケトン、1,1,1−トリクロ
ロエタン、アミルアセテート、エチルアセテート、トル
エン、メチレンクロライドおよびこれらの混合物が含ま
れる。
において比較的低レベルの熱を与えることにより、溶剤
が分散物から蒸発し得るのに充分な高い揮発性であるも
のが選ばれる。その上、この溶剤は有機性媒体中に含ま
れている他のどの添加物の沸点および分解温度以下でよ
く沸騰しなければならない。したがって、大気下150
℃以下の沸点をもつ溶剤がもっとも普通に用いられる。
このような溶剤にはアセトン、キシレン、メタノール、
エタノール、メチルエチルケトン、1,1,1−トリクロ
ロエタン、アミルアセテート、エチルアセテート、トル
エン、メチレンクロライドおよびこれらの混合物が含ま
れる。
【0031】前述のものに加えて、有機性媒体は分散
剤、重合抑制剤、着色材、可塑剤、離型剤、ストリップ
剤、付着防止剤およびぬれ剤のような添加剤を含むこと
もできる。
剤、重合抑制剤、着色材、可塑剤、離型剤、ストリップ
剤、付着防止剤およびぬれ剤のような添加剤を含むこと
もできる。
【0032】分散剤は有機ポリマーとモノマーとにより
無機材料が効率的にぬれるのを確実にするため添加され
る。充分に分散した無機材料は、良好な屈曲性、グリー
ン強度および焼成の際の有機材料の完全な燃え切りなど
の、必要とされる特性をもつ感光性テープの作製のため
望ましいものである。分散剤は、ポリマーバインダーが
無機固体に結び付きまたはぬらすように作用して塊りの
ない系にする。選定された分散剤はH.K. Jakubauskasに
より「Use of A-B Block Polymers as Dispersants for
Non-aqueous Coating System」、Journal of Coating
Technology, Vol. 58, No. 736, 第71〜82頁、で述べら
れている良く知られたA−B分散剤である。
無機材料が効率的にぬれるのを確実にするため添加され
る。充分に分散した無機材料は、良好な屈曲性、グリー
ン強度および焼成の際の有機材料の完全な燃え切りなど
の、必要とされる特性をもつ感光性テープの作製のため
望ましいものである。分散剤は、ポリマーバインダーが
無機固体に結び付きまたはぬらすように作用して塊りの
ない系にする。選定された分散剤はH.K. Jakubauskasに
より「Use of A-B Block Polymers as Dispersants for
Non-aqueous Coating System」、Journal of Coating
Technology, Vol. 58, No. 736, 第71〜82頁、で述べら
れている良く知られたA−B分散剤である。
【0033】乾燥と保存中の熱重合を防止するため抑制
剤を含有させるのが一般に望ましいが、光重合性組成物
に対して絶対的に必要なものではない。光重合性組成物
中で用いることのできる熱重合抑制際にはp−メトキシ
フェノール、ヒドロキノン、アルキルおよびアリール置
換ヒドロキノンとキノン、t−ブチル−カテコール、ピ
ロガロール、銅レジネート、ナフチルアミン、β−ナフ
トール、塩化第一銅、2,6−ジ−t−ブチル−p−ク
レゾール、フエノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン
とジニトロベンゼン、p−トリルキノンおよびクロルア
ニルなどが含まれる。また熱重合抑制剤として有用なも
のは米国特許第4,168,982号に開示されたニトロ
ソ組成物である。
剤を含有させるのが一般に望ましいが、光重合性組成物
に対して絶対的に必要なものではない。光重合性組成物
中で用いることのできる熱重合抑制際にはp−メトキシ
フェノール、ヒドロキノン、アルキルおよびアリール置
換ヒドロキノンとキノン、t−ブチル−カテコール、ピ
ロガロール、銅レジネート、ナフチルアミン、β−ナフ
トール、塩化第一銅、2,6−ジ−t−ブチル−p−ク
レゾール、フエノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン
とジニトロベンゼン、p−トリルキノンおよびクロルア
ニルなどが含まれる。また熱重合抑制剤として有用なも
のは米国特許第4,168,982号に開示されたニトロ
ソ組成物である。
【0034】各種の色素とピグメントを処理の際のテー
プの可視性を高めるため添加することができる。適当な
着色材は組成物と相容性を有するものであり、また好ま
しくは使用される活性放射線に対して透明であるべきで
ある。「ウインドウ色素」といわれているものおよび米
国特許第4,622,088号で述べられているもののよ
うな有機染料の使用は、これらが焼成工程中に燃え切っ
てしまうので一時的に着色をほどこすためである。材料
の永久的な着色(焼成後も含めて)のためには無機顔料
が好ましい。
プの可視性を高めるため添加することができる。適当な
着色材は組成物と相容性を有するものであり、また好ま
しくは使用される活性放射線に対して透明であるべきで
ある。「ウインドウ色素」といわれているものおよび米
国特許第4,622,088号で述べられているもののよ
うな有機染料の使用は、これらが焼成工程中に燃え切っ
てしまうので一時的に着色をほどこすためである。材料
の永久的な着色(焼成後も含めて)のためには無機顔料
が好ましい。
【0035】バインダーポリマーに対して、少量の可塑
剤を用いるとバインダーポリマーのガラス転位温度(T
g)を低下させるように働く。しかしながら、このよう
な材料の使用はキャストフィルムを焼成するとき、それ
から除かねばならない有機材料の量を減らすためにでき
るだけ少なくすべきである。可塑剤の選択はもちろん調
整をしなければならないポリマーにより主に決められ
る。各種のバインダー系で用いられる可塑剤はジエチル
フタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト、ブチルベンジルフタレート、アルキルホスフェー
ト、ポリアルキレングリコール、グリセロール、(ポ
リ)エチレンオキサイド、ヒドロキシエチル化アルキル
フェノール、ジアルキルジチオホスホネートおよび(ポ
リ)イソブチレンなどである。ブチルベンジルフタレー
トは、比較的低濃度で効果的に使用できるため、アクリ
ル系ポリマー系でもちろんもっとも良く用いられてい
る。
剤を用いるとバインダーポリマーのガラス転位温度(T
g)を低下させるように働く。しかしながら、このよう
な材料の使用はキャストフィルムを焼成するとき、それ
から除かねばならない有機材料の量を減らすためにでき
るだけ少なくすべきである。可塑剤の選択はもちろん調
整をしなければならないポリマーにより主に決められ
る。各種のバインダー系で用いられる可塑剤はジエチル
フタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト、ブチルベンジルフタレート、アルキルホスフェー
ト、ポリアルキレングリコール、グリセロール、(ポ
リ)エチレンオキサイド、ヒドロキシエチル化アルキル
フェノール、ジアルキルジチオホスホネートおよび(ポ
リ)イソブチレンなどである。ブチルベンジルフタレー
トは、比較的低濃度で効果的に使用できるため、アクリ
ル系ポリマー系でもちろんもっとも良く用いられてい
る。
【0036】セラミック固体、無機バインダーおよび有
機性媒体混合物はグリーン誘電体シートにするため最終
的に処方される。このようなテープを形成するための一
つの方法は、スチールベルトまたは重合体フィルムのよ
うな可撓性の基体上に組成物をキャストし、次いでこの
キャスト層を加熱して揮発性の有機溶剤を除くことから
なる。もっとも普通には、可撓性基体は重合体フィルム
であり、組成物はキャストし、加熱しそしてこのフィル
ム上で保存される。
機性媒体混合物はグリーン誘電体シートにするため最終
的に処方される。このようなテープを形成するための一
つの方法は、スチールベルトまたは重合体フィルムのよ
うな可撓性の基体上に組成物をキャストし、次いでこの
キャスト層を加熱して揮発性の有機溶剤を除くことから
なる。もっとも普通には、可撓性基体は重合体フィルム
であり、組成物はキャストし、加熱しそしてこのフィル
ム上で保存される。
【0037】回路配線、キャパシターおよびレジスター
のような各特徴を含んでいる多層相互接続回路は、誘電
体シートと適切な導電性および抵抗性組成物から製作さ
れる。これを作るために、まず誘電体シートをバイアと
キャビティのような孔の所望パターンの像を通して活性
放射線に像露光する、この露光はシートを完全に貫通
し、また回路配線、レジスターおよびキャパシターのよ
うな図形の場所のくぼみはシートを通して部分的に貫通
される。これらの異なる各パターンエレメントは露光の
強度または時間を調整し、そして各シートの一方または
両方の面を同一または異なるパターンに露光することに
より形成される。くぼみがシートに形成される場合はシ
ートの両面を露光することが必要である。
のような各特徴を含んでいる多層相互接続回路は、誘電
体シートと適切な導電性および抵抗性組成物から製作さ
れる。これを作るために、まず誘電体シートをバイアと
キャビティのような孔の所望パターンの像を通して活性
放射線に像露光する、この露光はシートを完全に貫通
し、また回路配線、レジスターおよびキャパシターのよ
うな図形の場所のくぼみはシートを通して部分的に貫通
される。これらの異なる各パターンエレメントは露光の
強度または時間を調整し、そして各シートの一方または
両方の面を同一または異なるパターンに露光することに
より形成される。くぼみがシートに形成される場合はシ
ートの両面を露光することが必要である。
【0038】たとえば、孔のパターンが必要ならば本発
明のシートは4〜8秒間一方の面上で露光することがで
き、またはそれぞれの面を2〜4秒間同じパターンの相
補的に配列した像に露光することができる。孔とくぼみ
の混ざったパターン(たとえば、バイアと回路配線)が
必要ならば、シートの一方の面は孔とくぼみの両方のパ
ターンの像に1〜7秒間露光をする。シートの反対側の
面は同じ孔のパターンの相補的に配列した像に1〜7秒
間露光する。
明のシートは4〜8秒間一方の面上で露光することがで
き、またはそれぞれの面を2〜4秒間同じパターンの相
補的に配列した像に露光することができる。孔とくぼみ
の混ざったパターン(たとえば、バイアと回路配線)が
必要ならば、シートの一方の面は孔とくぼみの両方のパ
ターンの像に1〜7秒間露光をする。シートの反対側の
面は同じ孔のパターンの相補的に配列した像に1〜7秒
間露光する。
【0039】この方法によりシートに形成することので
きるくぼみの深さが、シートの各面に与える露光レベル
を変えることにより調整ないし変更できることは、光重
合の当業者には明らかであろう。くぼみの反対側への露
光が増大すると誘電体中により浅いくぼみを与え、また
くぼみの反対側への露光レベルが減少するとシート中の
くぼみの深さを大きくする。
きるくぼみの深さが、シートの各面に与える露光レベル
を変えることにより調整ないし変更できることは、光重
合の当業者には明らかであろう。くぼみの反対側への露
光が増大すると誘電体中により浅いくぼみを与え、また
くぼみの反対側への露光レベルが減少するとシート中の
くぼみの深さを大きくする。
【0040】露光したシートを薄い水溶液中で現像す
る。露光は感光性誘電体シートの露光された部分の溶解
性を変化させ、現像は孔(バイアとキャビティ)および
くぼみのパターンから未露光の重合していない材料をと
り除く。前に述べたように、誘電体シート中の有機ポリ
マーバインダーが酸性ポリマー(B)のときは現像液は
薄いアルカリ性水溶液であり、また有機ポリマーバイン
ダーがアミン含有ポリマー(A)であるときは薄い酸性
水溶液である。シートは、デイッピング、ブラッシング
およびスプレーのような普通の方法により現像液で処理
することができる。光重合中の3次元ポリマーネットワ
ークの形成による、誘電体シートのすぐれたグリーン強
度のために本発明の誘電体シートは、スクリーンメッシ
ュまたはその他の多孔性の支持体上のシートに、10〜
35psi(0.7〜2.5kg/cm2)の強さの適当な溶液を
スプレーすることによっても現像することができる。現
像液による処理につづいて、シートを水道水または好ま
しくは脱イオン水により通常リンスする。
る。露光は感光性誘電体シートの露光された部分の溶解
性を変化させ、現像は孔(バイアとキャビティ)および
くぼみのパターンから未露光の重合していない材料をと
り除く。前に述べたように、誘電体シート中の有機ポリ
マーバインダーが酸性ポリマー(B)のときは現像液は
薄いアルカリ性水溶液であり、また有機ポリマーバイン
ダーがアミン含有ポリマー(A)であるときは薄い酸性
水溶液である。シートは、デイッピング、ブラッシング
およびスプレーのような普通の方法により現像液で処理
することができる。光重合中の3次元ポリマーネットワ
ークの形成による、誘電体シートのすぐれたグリーン強
度のために本発明の誘電体シートは、スクリーンメッシ
ュまたはその他の多孔性の支持体上のシートに、10〜
35psi(0.7〜2.5kg/cm2)の強さの適当な溶液を
スプレーすることによっても現像することができる。現
像液による処理につづいて、シートを水道水または好ま
しくは脱イオン水により通常リンスする。
【0041】現像したシートはさらに処理をするための
準備で乾燥をする。たとえば、現像したシート全体に空
気を吹き付ける、およびオーブン中でシートを加熱する
などはシートの各特性に不都合な作用をしないその他の
普通の方法と同様に適当な乾燥方法である。典型的に
は、40°〜120℃の範囲の温度が適当である。
準備で乾燥をする。たとえば、現像したシート全体に空
気を吹き付ける、およびオーブン中でシートを加熱する
などはシートの各特性に不都合な作用をしないその他の
普通の方法と同様に適当な乾燥方法である。典型的に
は、40°〜120℃の範囲の温度が適当である。
【0042】多層相互接続回路用に各層を組み立てるた
め、適切にパターン付けした誘電体シート中のバイアの
孔は電導性の組成物によって金属化される。厚いフィル
ム用組成物および電導性シート用組成物を含め、適当な
組成物はよく知られかつ容易に入手できる。このような
組成物中で銀、金、銅、パラジウム、白金およびこれら
の混合物などが普通の電導性金属である。
め、適切にパターン付けした誘電体シート中のバイアの
孔は電導性の組成物によって金属化される。厚いフィル
ム用組成物および電導性シート用組成物を含め、適当な
組成物はよく知られかつ容易に入手できる。このような
組成物中で銀、金、銅、パラジウム、白金およびこれら
の混合物などが普通の電導性金属である。
【0043】誘電体シートがパターン付けしたくぼみを
そのいずれかの面または両面上に含む場合は、このくぼ
みは適当な電導性または抵抗性の組成物によって金属化
する。金属化は各種の方法により行うことができる。た
とえば、金属性組成物をくぼみにスクリーン印刷するこ
ともできるし、あるいは金属性組成物を別の誘電体シー
トの表面に適当に付与しついでこれをくぼみのパターン
に配列させることもできる。くぼみのパターンは、多層
回路の誘電体シートの表面上よりむしろ内部にあるよう
な、キャパシターとレジスターおよび回路配線のような
各コンポーネントにすることができる。これは多層回路
のより滑らかな表面形状を達成する。多層回路表面に対
する付着はこの平滑な表面により一層容易でかつさらに
信頼しうるものとなる。
そのいずれかの面または両面上に含む場合は、このくぼ
みは適当な電導性または抵抗性の組成物によって金属化
する。金属化は各種の方法により行うことができる。た
とえば、金属性組成物をくぼみにスクリーン印刷するこ
ともできるし、あるいは金属性組成物を別の誘電体シー
トの表面に適当に付与しついでこれをくぼみのパターン
に配列させることもできる。くぼみのパターンは、多層
回路の誘電体シートの表面上よりむしろ内部にあるよう
な、キャパシターとレジスターおよび回路配線のような
各コンポーネントにすることができる。これは多層回路
のより滑らかな表面形状を達成する。多層回路表面に対
する付着はこの平滑な表面により一層容易でかつさらに
信頼しうるものとなる。
【0044】一般的に、適当な抵抗性と電導性の各要素
を含むパターン付き電気的機能層をバイアとキャビティ
(もしあるならば)、またパターン付けしたくぼみ(も
しあるならば)と整合させて誘電体シート面に付与す
る。所望により、バイアとくぼみは金属化することがで
き、パターン付き電気的機能層は同じ工程中に付与する
ことができる。同様に、バイアとくぼみは別の工程で付
与されるパターン付き機能層とともに1段で金属化する
こともできる。
を含むパターン付き電気的機能層をバイアとキャビティ
(もしあるならば)、またパターン付けしたくぼみ(も
しあるならば)と整合させて誘電体シート面に付与す
る。所望により、バイアとくぼみは金属化することがで
き、パターン付き電気的機能層は同じ工程中に付与する
ことができる。同様に、バイアとくぼみは別の工程で付
与されるパターン付き機能層とともに1段で金属化する
こともできる。
【0045】この技術分野でよく知られているように、
多層相互接続回路の設計は、応用のための電気的機能お
よび物理的な大きさと形状などの条件により全く顕著に
変わってくる。孔とくぼみの適切なパターンによって適
当な数の誘電体シートを露光し、現像し、乾燥しそして
金属化することにより、所望の相互接続回路を組み立て
ることができる。
多層相互接続回路の設計は、応用のための電気的機能お
よび物理的な大きさと形状などの条件により全く顕著に
変わってくる。孔とくぼみの適切なパターンによって適
当な数の誘電体シートを露光し、現像し、乾燥しそして
金属化することにより、所望の相互接続回路を組み立て
ることができる。
【0046】典型的には、所要の金属化によりパターン
付きシートを積み重ね、ラミネートしてグリーンモノリ
スを形成する。単一の集合体は層と層とにより形成させ
ることもできるが、この方法はさらに時間を要し収率が
低い。
付きシートを積み重ね、ラミネートしてグリーンモノリ
スを形成する。単一の集合体は層と層とにより形成させ
ることもできるが、この方法はさらに時間を要し収率が
低い。
【0047】モノリスが組み立てられた後これを焼成す
る。焼成は1段または2段法のいずれかで行われる。1
段法は普通長いベルト炉を用いるが、2段法は有機物の
燃え切りのためにプログラム化しうるボックス型の炉と
焼成のための通常の厚膜フィルム用炉とを使用する。焼
成時間と温度とは、所望の物理的各特性と組成物中で用
いられた無機バインダーおよびセラミック固体にとって
最適なものとすべきである。たとえば、以下の各例では
燃え切りと焼成は12のゾーンの炉中で1段で行われ
た。モノリスは毎分10℃の割合で温度上昇し、そして
200℃〜500℃で1時間保持された。次いで温度を
850℃に上げ、試料をこの温度でほぼ20分間保持し
そして冷却した。600℃以上の全時間はほぼ48分で
あり、燃え切りと焼成の全サイクルに3時間以上を要し
た。これらの時間と温度とは、組成物中に用いるセラミ
ック固体と無機バインダーに適応するように調整される
べきである。
る。焼成は1段または2段法のいずれかで行われる。1
段法は普通長いベルト炉を用いるが、2段法は有機物の
燃え切りのためにプログラム化しうるボックス型の炉と
焼成のための通常の厚膜フィルム用炉とを使用する。焼
成時間と温度とは、所望の物理的各特性と組成物中で用
いられた無機バインダーおよびセラミック固体にとって
最適なものとすべきである。たとえば、以下の各例では
燃え切りと焼成は12のゾーンの炉中で1段で行われ
た。モノリスは毎分10℃の割合で温度上昇し、そして
200℃〜500℃で1時間保持された。次いで温度を
850℃に上げ、試料をこの温度でほぼ20分間保持し
そして冷却した。600℃以上の全時間はほぼ48分で
あり、燃え切りと焼成の全サイクルに3時間以上を要し
た。これらの時間と温度とは、組成物中に用いるセラミ
ック固体と無機バインダーに適応するように調整される
べきである。
【0048】本発明の感光性誘電体シートを使用し、
5,000孔/秒までの割合でシート中に孔を形成する
ことができ、くぼみを作ることができ、キャビティとく
ぼみとをバイアとともに同時に作ることができ、そして
4ミル(0.10mm)厚みのテープ中に直径4ミル程度
の小さなバイアを確実にかつ再現性よく解像することが
できる。
5,000孔/秒までの割合でシート中に孔を形成する
ことができ、くぼみを作ることができ、キャビティとく
ぼみとをバイアとともに同時に作ることができ、そして
4ミル(0.10mm)厚みのテープ中に直径4ミル程度
の小さなバイアを確実にかつ再現性よく解像することが
できる。
【0049】
【実施例】次の材料を以下に特定した量で実施例中で使
用した。パーセントは特に記載しない限りすべて重量に
よるものである。セラミック固体 石英は2.0〜2.4μmのもの50%PSD(粒子サイ
ズ分布)をもつシリカ粉末。アルミナは7.4〜9.0m
2/gの表面積をもつ粒子を含んでいる酸化アルミニウ
ム粉末。無機バインダー ガラスフリットはSiO2 56.5%、PbO 17.2
%、Al2O3 9.1%、CaO 8.0%、B2O3 4.5
%、Na2O 2.4%、K2O 1.7%そしてMgO 0.
6%からなるホウケイ酸鉛ガラスの粉末であり、粒子は
3.8/4.6m 2/gの表面積を有している。
用した。パーセントは特に記載しない限りすべて重量に
よるものである。セラミック固体 石英は2.0〜2.4μmのもの50%PSD(粒子サイ
ズ分布)をもつシリカ粉末。アルミナは7.4〜9.0m
2/gの表面積をもつ粒子を含んでいる酸化アルミニウ
ム粉末。無機バインダー ガラスフリットはSiO2 56.5%、PbO 17.2
%、Al2O3 9.1%、CaO 8.0%、B2O3 4.5
%、Na2O 2.4%、K2O 1.7%そしてMgO 0.
6%からなるホウケイ酸鉛ガラスの粉末であり、粒子は
3.8/4.6m 2/gの表面積を有している。
【0050】有機重合体バインダー
バインダーIはメチルメタクリレート(MMA)44
%、エチルアクリレート(EA)35%およびメタクリ
ル酸(MAA)21%のコポリマーで、Mw=50,00
0、Tg=87℃そして酸価=120。バインダーIIは
MMA 41%、EA 38%およびMAA 21%のコ
ポリマーで、Mw=65,000、Tg=98℃そして酸
価=120。バインダーIIIはMMA 38%、EA 3
8%およびMAA 24%のコポリマーで、Mw=57,
000、Tg=91℃そして酸価=145。
%、エチルアクリレート(EA)35%およびメタクリ
ル酸(MAA)21%のコポリマーで、Mw=50,00
0、Tg=87℃そして酸価=120。バインダーIIは
MMA 41%、EA 38%およびMAA 21%のコ
ポリマーで、Mw=65,000、Tg=98℃そして酸
価=120。バインダーIIIはMMA 38%、EA 3
8%およびMAA 24%のコポリマーで、Mw=57,
000、Tg=91℃そして酸価=145。
【0051】バインダーIVはMMA 37%、EA 55
%およびMAA 8%のコポリマーで、Mw=250,0
00、Tg=35℃そして酸価=85。バインダーVは
MMA 75%とMAA 25%のコポリマーで、Mw=
6,100、Tg=110℃そして酸価=155。バイ
ンダーVIはスチレン(Sty)20%、MMA 21
%、EA 38%、MAA 21%のコポリマーで、Mw
=65,000、Tg=80℃そして酸価=135。
%およびMAA 8%のコポリマーで、Mw=250,0
00、Tg=35℃そして酸価=85。バインダーVは
MMA 75%とMAA 25%のコポリマーで、Mw=
6,100、Tg=110℃そして酸価=155。バイ
ンダーVIはスチレン(Sty)20%、MMA 21
%、EA 38%、MAA 21%のコポリマーで、Mw
=65,000、Tg=80℃そして酸価=135。
【0052】光開始剤
ベンゾフェノン、ミヒラーのケトン〔4,4′−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン〕およびエチルミヒ
ラーのケトン〔4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベン
ゾフェノン〕光硬化性モノマー TMPTAはトリメチロールプロパントリアクリレート
である。TEOTA−1000はエトキシル化トリメチ
ロールプロパントリアクリレートで、Mw=1000で
ある。TMPEOTAはエトキシル化トリメチロールプ
ロパントリアクリレートで、Mw=428である。
(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン〕およびエチルミヒ
ラーのケトン〔4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ベン
ゾフェノン〕光硬化性モノマー TMPTAはトリメチロールプロパントリアクリレート
である。TEOTA−1000はエトキシル化トリメチ
ロールプロパントリアクリレートで、Mw=1000で
ある。TMPEOTAはエトキシル化トリメチロールプ
ロパントリアクリレートで、Mw=428である。
【0053】溶剤
メチルエチルケトン、1,1,1−トリクロロエタン、エ
チルアセテートおよびメタノール抑制剤 イオノールは2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェ
ノールである。分散剤 プルロニック3lRlはポリプロピレンとポリエチレン
オキサイドのA−B−AブロックコポリマーでMw=3,
200である。
チルアセテートおよびメタノール抑制剤 イオノールは2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェ
ノールである。分散剤 プルロニック3lRlはポリプロピレンとポリエチレン
オキサイドのA−B−AブロックコポリマーでMw=3,
200である。
【0054】〔実施例1〕
誘電体組成物 重量部(pbw)
石英 8.18
アルミナ 33.30
ガラスフリット 65.18
バインダーII 9.16
ベンゾフェノン 0.92
ミヒラーのケトン 0.18
TEOTA−1000 3.18
TMPTA 0.80
メチルエチルケトン 30.00
1,1,1−トリクロロエタン 60.00
イオノール 0.06
合 計 210.96
【0055】有機重合体バインダー、光開始剤、光硬化
性モノマー、抑制剤、有機溶剤、セラミック固体および
無機バインダーを計量し、そしてジルコニウム媒体の1
360gを含んだ00番ボールミルのジャーに入れた。
この混合物を16時間磨砕して各成分を溶解および/ま
たは分散した。分散物をミルジャーからとり出し、可撓
性のポリエステルシート上に20ミル(0.5mm)のギ
ャップをもつドクターナイフを使用してキャストした。
塗膜は室温で2時間以上乾燥しテストをした。塗膜は乾
燥したとき若干のひび割れを示した。
性モノマー、抑制剤、有機溶剤、セラミック固体および
無機バインダーを計量し、そしてジルコニウム媒体の1
360gを含んだ00番ボールミルのジャーに入れた。
この混合物を16時間磨砕して各成分を溶解および/ま
たは分散した。分散物をミルジャーからとり出し、可撓
性のポリエステルシート上に20ミル(0.5mm)のギ
ャップをもつドクターナイフを使用してキャストした。
塗膜は室温で2時間以上乾燥しテストをした。塗膜は乾
燥したとき若干のひび割れを示した。
【0056】乾燥した誘電体シートは屈曲によりテスト
したとき良好な可撓性を示した。シートの一方の面を、
25、10、8、6および4ミルのバイアを含んだパタ
ーン像を通して、種々の時間(1〜30秒)活性放射線
に露光した。次いでシートを0.8%のNa2CO3水溶
液中85℃で現像した。10ミルのバイアが現像中に解
像された。
したとき良好な可撓性を示した。シートの一方の面を、
25、10、8、6および4ミルのバイアを含んだパタ
ーン像を通して、種々の時間(1〜30秒)活性放射線
に露光した。次いでシートを0.8%のNa2CO3水溶
液中85℃で現像した。10ミルのバイアが現像中に解
像された。
【0057】〔実施例2〕15ミル(0.75mm)のド
クターナイフギャップを用いたことの他は実施例1をく
り返して誘電体シートを作った。乾燥後の誘電体シート
は曲げたときに良好な可撓性を示し、そしてシートを実
施例1と同じ方法で露光し現像すると、10ミルのバイ
アが解像された。
クターナイフギャップを用いたことの他は実施例1をく
り返して誘電体シートを作った。乾燥後の誘電体シート
は曲げたときに良好な可撓性を示し、そしてシートを実
施例1と同じ方法で露光し現像すると、10ミルのバイ
アが解像された。
【0058】〔実施例3〕実施例1を以下の組成物につ
いてくり返した: 誘電体組成物 重量部(pbw) 石英 8.18 アルミナ 33.30 ガラスフリット 65.18 バインダーI 9.16 ベンゾフェノン 0.92 ミヒラーのケトン 0.18 TEOTA−1000 3.18 TMPTA 0.80 メチルエチルケトン 30.00 1,1,1−トリクロロエタン 60.00 イオノール 0.06 合 計 210.96
いてくり返した: 誘電体組成物 重量部(pbw) 石英 8.18 アルミナ 33.30 ガラスフリット 65.18 バインダーI 9.16 ベンゾフェノン 0.92 ミヒラーのケトン 0.18 TEOTA−1000 3.18 TMPTA 0.80 メチルエチルケトン 30.00 1,1,1−トリクロロエタン 60.00 イオノール 0.06 合 計 210.96
【0059】塗膜は乾燥したとき若干のひび割れを示し
た。乾燥した誘電体シートは屈曲によりテストしたとき
わずかなもろさを示した。シートの一方の面を、25、
10、8、6および4ミルのバイアを含んだパターン像
を通して、種々の時間(1〜30秒)活性放射線に露光
した。次いでシートを0.8%のNa2CO3水溶液中8
5℃で現像した。10ミルのバイアが現像を通して解像
された。
た。乾燥した誘電体シートは屈曲によりテストしたとき
わずかなもろさを示した。シートの一方の面を、25、
10、8、6および4ミルのバイアを含んだパターン像
を通して、種々の時間(1〜30秒)活性放射線に露光
した。次いでシートを0.8%のNa2CO3水溶液中8
5℃で現像した。10ミルのバイアが現像を通して解像
された。
【0060】〔実施例4〕
誘電体組成物 重量部(pbw)
石英 8.18
アルミナ 33.30
ガラスフリット 65.18
バインダーIII 14.00
ベンゾフェノン 2.08
エチルミヒラーのケトン 0.40
TEOTA−1000 14.18
TMPTA 3.53
エチルアセテート 75.20
メタノール 5.00
イオノール 0.10
合 計 221.15
【0061】有機重合体バインダー、光開始剤、光硬化
性モノマー、抑制剤および有機溶剤を透明なガラス製ジ
ャーに入れ、すべての材料が溶解して溶液を形成するま
で撹拌した。セラミック固体と無機バインダーをジルコ
ニウム媒体1350gをもつ00番ミルジャーに入れ、
1時間回転させて無機材料を混合した。ミルジャーを開
けて前に作った有機成分溶液をミルジャー中に注加し、
そして16時間回転を継続して分散液を形成させた。磨
砕後に媒体から分散液をこし分け、そして20ミル
(0.5mm)のギャップをもつドクターナイフを使用し
て可撓性のポリエステルシート上にキャストした。塗膜
を室温で2時間以上乾燥しついでテストした。
性モノマー、抑制剤および有機溶剤を透明なガラス製ジ
ャーに入れ、すべての材料が溶解して溶液を形成するま
で撹拌した。セラミック固体と無機バインダーをジルコ
ニウム媒体1350gをもつ00番ミルジャーに入れ、
1時間回転させて無機材料を混合した。ミルジャーを開
けて前に作った有機成分溶液をミルジャー中に注加し、
そして16時間回転を継続して分散液を形成させた。磨
砕後に媒体から分散液をこし分け、そして20ミル
(0.5mm)のギャップをもつドクターナイフを使用し
て可撓性のポリエステルシート上にキャストした。塗膜
を室温で2時間以上乾燥しついでテストした。
【0062】乾燥した厚み5ミル(0.13mm)の塗膜
はごくわずかなひび割れを示した。乾燥した誘電体シー
トは屈曲テストにより良好な可撓性を示した。シートの
一方の面を、25、10、8、6および4ミルのバイア
を含むパターン像を通して、種々の時間(1〜15秒)
活性放射線に露光した。ついでシートを0.85%のN
a2CO3水溶液中85℃で現像した。8ミルのバイアが
4〜6秒の露光で現像を通して解像された。
はごくわずかなひび割れを示した。乾燥した誘電体シー
トは屈曲テストにより良好な可撓性を示した。シートの
一方の面を、25、10、8、6および4ミルのバイア
を含むパターン像を通して、種々の時間(1〜15秒)
活性放射線に露光した。ついでシートを0.85%のN
a2CO3水溶液中85℃で現像した。8ミルのバイアが
4〜6秒の露光で現像を通して解像された。
【0063】〔実施例5〕15ミル(0.38mm)のド
クターナイフのギャップを用いて実施例4をくり返し、
厚み4.2ミル(0.10mm)の乾燥塗膜を得た。塗膜の
物理的各特性は同様なものであった。6ミルのバイアが
4〜5秒の露光で現像を通して解像された。
クターナイフのギャップを用いて実施例4をくり返し、
厚み4.2ミル(0.10mm)の乾燥塗膜を得た。塗膜の
物理的各特性は同様なものであった。6ミルのバイアが
4〜5秒の露光で現像を通して解像された。
【0064】〔実施例6〕バインダーIIIの12.00pb
wを使用して実施例4をくり返した。乾燥した厚み5ミ
ル(0.13mm)の塗膜はごくわずかなひび割れを示し
た。乾燥した誘電体シートは屈曲テストにより良好な可
撓性を示した。シートの一方の面を25、10、8、6
および4ミルのバイアを含むパターン像を通して、種々
の時間(1〜15秒)活性放射線に露光した。次いでシ
ートを0.85%のNa2CO3水溶液中で現像した。8
ミルのバイアが4〜6秒の露光で現像を通して解像され
た。
wを使用して実施例4をくり返した。乾燥した厚み5ミ
ル(0.13mm)の塗膜はごくわずかなひび割れを示し
た。乾燥した誘電体シートは屈曲テストにより良好な可
撓性を示した。シートの一方の面を25、10、8、6
および4ミルのバイアを含むパターン像を通して、種々
の時間(1〜15秒)活性放射線に露光した。次いでシ
ートを0.85%のNa2CO3水溶液中で現像した。8
ミルのバイアが4〜6秒の露光で現像を通して解像され
た。
【0065】〔実施例7〕25ミル(0.64mm)のド
クターナイフのギャップを用い実施例6をくり返し、厚
み6ミル(0.15mm)の乾燥塗膜を得た。この誘電体
は良好な可撓性を示し、そして4〜10秒の露光と0.
85%Na2CO3水溶液中の現像を使用して10ミルの
バイアを解像した。
クターナイフのギャップを用い実施例6をくり返し、厚
み6ミル(0.15mm)の乾燥塗膜を得た。この誘電体
は良好な可撓性を示し、そして4〜10秒の露光と0.
85%Na2CO3水溶液中の現像を使用して10ミルの
バイアを解像した。
【0066】〔実施例8〕実施例4の組成物を433
8.2gの大バッチサイズで調製した。有機性の各成分
は前もって溶解し、これをジャー容量の50%のジルコ
ニウム媒体および1時間ロールミルしてあらかじめ分散
した無機バインダーおよびセラミック粒子とを含んでい
る、3ガロン(11.4リットル)のミルジャーに入れ
た。磨砕をさらに16時間つづけて、成分のすべてを分
散してスリップ(最終分散液)を形成させた。磨砕後、
このスリップを140メッシュのナイロン製濾布を通じ
てこし分けた。スリップをドクターナイフ塗布ヘッドを
備えた機械コーターを用いて可撓性ポリエステル上に塗
布した。毎分2フイート(61cm/分)の塗布速度を使
用し、乾燥温度は140〜165°F(60〜74℃)
であった。ドクターナイフを調節してほぼ4ミル(0.
10mm)の乾燥厚みとした。誘電体の塗布性状は非常に
良好でひび割れのない平滑な均一の表面であった。誘電
体は曲げたとき可撓性であり、600psi(42.2kg/
cm2)以上の引張り強度と14%以上の伸び率とを示し
た。
8.2gの大バッチサイズで調製した。有機性の各成分
は前もって溶解し、これをジャー容量の50%のジルコ
ニウム媒体および1時間ロールミルしてあらかじめ分散
した無機バインダーおよびセラミック粒子とを含んでい
る、3ガロン(11.4リットル)のミルジャーに入れ
た。磨砕をさらに16時間つづけて、成分のすべてを分
散してスリップ(最終分散液)を形成させた。磨砕後、
このスリップを140メッシュのナイロン製濾布を通じ
てこし分けた。スリップをドクターナイフ塗布ヘッドを
備えた機械コーターを用いて可撓性ポリエステル上に塗
布した。毎分2フイート(61cm/分)の塗布速度を使
用し、乾燥温度は140〜165°F(60〜74℃)
であった。ドクターナイフを調節してほぼ4ミル(0.
10mm)の乾燥厚みとした。誘電体の塗布性状は非常に
良好でひび割れのない平滑な均一の表面であった。誘電
体は曲げたとき可撓性であり、600psi(42.2kg/
cm2)以上の引張り強度と14%以上の伸び率とを示し
た。
【0067】誘電体シートの一方の面を25、10、
8、6および4ミルのバイアを含むパターン像を通し
て、種々のエネルギーレベル(10〜90mj/cm2)で
活性放射線に露光した。次いでシートは0.85%Na2
CO3水溶液中85℃で現像し、そして温かいエアター
ビンドライヤー中で乾燥した。6ミルのバイアがほぼ5
5mj/cm2のエネルギーレベルにおいて現像を通しては
っきりと解像された。大きなバイア配列パターンは、1
パターン当り15.4ミル(0.39mm)の中心上に16
0,000以上の8ミルのバイアを含んだ1〜4個のパ
ターン像で、誘電体シートの一方の面を40〜70mj/
cm2の活性放射線に露光し、現像しそしてこのパーツを
温かいエアタービンドライヤー中で乾燥することにより
形成させた。全部で640,000以上のバイアのため
の4個のパターン像により誘電体シートを活性放射線に
露光しそして現像し約2分乾燥した。
8、6および4ミルのバイアを含むパターン像を通し
て、種々のエネルギーレベル(10〜90mj/cm2)で
活性放射線に露光した。次いでシートは0.85%Na2
CO3水溶液中85℃で現像し、そして温かいエアター
ビンドライヤー中で乾燥した。6ミルのバイアがほぼ5
5mj/cm2のエネルギーレベルにおいて現像を通しては
っきりと解像された。大きなバイア配列パターンは、1
パターン当り15.4ミル(0.39mm)の中心上に16
0,000以上の8ミルのバイアを含んだ1〜4個のパ
ターン像で、誘電体シートの一方の面を40〜70mj/
cm2の活性放射線に露光し、現像しそしてこのパーツを
温かいエアタービンドライヤー中で乾燥することにより
形成させた。全部で640,000以上のバイアのため
の4個のパターン像により誘電体シートを活性放射線に
露光しそして現像し約2分乾燥した。
【0068】誘電体シートはまた種々のエネルギーレベ
ル(10〜50mj/cm2)で両面を活性放射線に露光
し、多孔性の支持体上で現像しそして乾燥した。20mj
/cm2の露光で誘電体シート中に4ミルのバイアがはっ
きりと解像された。バイアとくぼみは、シートをバイア
と線とのパターンで両面を30〜40mj/cm2の活性放
射線に露光し、そして多孔性支持体上でシートを現像す
ることにより誘電体シート中に同時に形成される。メタ
ル化をしない単一の誘電体シートと4および9層にラミ
ネートしたモノリスとを、前述の条件下に拡張した12
区分の一段炉中で焼成してセラミック基体を作った。
ル(10〜50mj/cm2)で両面を活性放射線に露光
し、多孔性の支持体上で現像しそして乾燥した。20mj
/cm2の露光で誘電体シート中に4ミルのバイアがはっ
きりと解像された。バイアとくぼみは、シートをバイア
と線とのパターンで両面を30〜40mj/cm2の活性放
射線に露光し、そして多孔性支持体上でシートを現像す
ることにより誘電体シート中に同時に形成される。メタ
ル化をしない単一の誘電体シートと4および9層にラミ
ネートしたモノリスとを、前述の条件下に拡張した12
区分の一段炉中で焼成してセラミック基体を作った。
【0069】〔実施例9〕実施例6の組成物を435
0.2gの大バッチサイズで調製した。有機性の各成分
は前もって溶解し、これをジャー容量の50%のジルコ
ニウム媒体および1時間ロールミルしてあらかじめ分散
した無機バインダーとセラミック粒子とを含んでいる、
3ガロン(11.4リットル)のミルジャーに入れた。
磨砕をさらに16時間つづけて、成分のすべてを分散し
てスリップ(最終分散液)を形成させた。磨砕後、この
スリップは140メッシュのナイロン製濾布を通してこ
し分けた。スリップはドクターナイフ塗布ヘッドを備え
た機械コーターを用いて可撓性ポリエステル上に塗布し
た。毎分2フィート(61cm/分)の塗布速度を用い
て、乾燥温度は140〜165°F(60〜74℃)で
あった。ドクターナイフを調節してほぼ4.2ミル(0.
10mm)の乾燥厚さにした。誘電体の塗布性状は非常に
良好で、ひび割れのない平滑な均一の表面であった。誘
電体は曲げたとき可撓性であり、550psi(38.7kg
/cm2)以上の引張り強さと13%以上の伸び率とを示
した。
0.2gの大バッチサイズで調製した。有機性の各成分
は前もって溶解し、これをジャー容量の50%のジルコ
ニウム媒体および1時間ロールミルしてあらかじめ分散
した無機バインダーとセラミック粒子とを含んでいる、
3ガロン(11.4リットル)のミルジャーに入れた。
磨砕をさらに16時間つづけて、成分のすべてを分散し
てスリップ(最終分散液)を形成させた。磨砕後、この
スリップは140メッシュのナイロン製濾布を通してこ
し分けた。スリップはドクターナイフ塗布ヘッドを備え
た機械コーターを用いて可撓性ポリエステル上に塗布し
た。毎分2フィート(61cm/分)の塗布速度を用い
て、乾燥温度は140〜165°F(60〜74℃)で
あった。ドクターナイフを調節してほぼ4.2ミル(0.
10mm)の乾燥厚さにした。誘電体の塗布性状は非常に
良好で、ひび割れのない平滑な均一の表面であった。誘
電体は曲げたとき可撓性であり、550psi(38.7kg
/cm2)以上の引張り強さと13%以上の伸び率とを示
した。
【0070】誘電体シートの一方の面を25、10、
8、6および4ミルのバイアを含むパターン像を通し
て、種々のエネルギーレベル(10〜90mj/cm2)で
活性放射線に露光した。次いでシートは0.85%Na2
CO3水溶液中85℃で現像し、そして温かいエアター
ビンドライヤー中で乾燥した。6ミルのバイアがほぼ6
5mj/cm2のエネルギーレベルで現像を通してはっきり
と解像された。大きなバイア配列のパターンは、1パタ
ーン当り15.4ミル(0.39mm)の中心上に160,
000以上の8ミルのバイアを含んだ1〜4個のパター
ン像で、誘電体シートの一方の面を40〜70mj/cm2
の活性放射線に露光し、現像しそしてこのパーツを温か
いエアタービンドライヤー中で乾燥することにより形成
させた。全部で480,000以上のバイアのための3
個のパターン像により誘電体シートを、活性放射線に露
光しそして現像をし約2分乾燥した。
8、6および4ミルのバイアを含むパターン像を通し
て、種々のエネルギーレベル(10〜90mj/cm2)で
活性放射線に露光した。次いでシートは0.85%Na2
CO3水溶液中85℃で現像し、そして温かいエアター
ビンドライヤー中で乾燥した。6ミルのバイアがほぼ6
5mj/cm2のエネルギーレベルで現像を通してはっきり
と解像された。大きなバイア配列のパターンは、1パタ
ーン当り15.4ミル(0.39mm)の中心上に160,
000以上の8ミルのバイアを含んだ1〜4個のパター
ン像で、誘電体シートの一方の面を40〜70mj/cm2
の活性放射線に露光し、現像しそしてこのパーツを温か
いエアタービンドライヤー中で乾燥することにより形成
させた。全部で480,000以上のバイアのための3
個のパターン像により誘電体シートを、活性放射線に露
光しそして現像をし約2分乾燥した。
【0071】〔実施例10〕
誘電体組成物 重量部(pbw)
石英 155.4
アルミナ 632.7
ガラスフリット 1238.4
バインダーIII 152.0
バインダーIV 38.0
ベンゾフェノン 39.5
エチルミヒラーのケトン 7.6
TMPEOTA 332.5
イオノール 3.1
エチルアセテート 1607.0
メタノール 106.0
合 計 4312.2
【0072】有機性各成分は前もって溶解し、これをジ
ャー容量の50%のジルコニウム媒体および1時間ロー
ルミルしてあらかじめ分散した無機バインダーとセラミ
ック粒子とを含んでいる、3ガロン(11.4リット
ル)のミルジャーに入れた。磨砕をさらに16時間つづ
けて、成分のすべてを分散してスリップ(最終分散液)
を形成させた。磨砕後、このスリップは140メッシュ
のナイロン製濾布を通してこし分けた。スリップはドク
ターナイフ塗布ヘッドを備えた機械コーターを用いて可
撓性ポリエステル上に塗布した。毎分2フィート(61
cm/分)の塗布速度を用い、乾燥温度は140〜165
°F(60〜74℃)であった。ドクターナイフを調節
してほぼ4.0ミル(0.10mm)の乾燥厚さにした。誘
電体の塗布性状は良好でわずかにひび割れがあった。誘
電体は曲げたとき可撓性で、200psi(14.1kg/cm
2)以上の引張り強さと2%以上の伸び率とを示した。
ャー容量の50%のジルコニウム媒体および1時間ロー
ルミルしてあらかじめ分散した無機バインダーとセラミ
ック粒子とを含んでいる、3ガロン(11.4リット
ル)のミルジャーに入れた。磨砕をさらに16時間つづ
けて、成分のすべてを分散してスリップ(最終分散液)
を形成させた。磨砕後、このスリップは140メッシュ
のナイロン製濾布を通してこし分けた。スリップはドク
ターナイフ塗布ヘッドを備えた機械コーターを用いて可
撓性ポリエステル上に塗布した。毎分2フィート(61
cm/分)の塗布速度を用い、乾燥温度は140〜165
°F(60〜74℃)であった。ドクターナイフを調節
してほぼ4.0ミル(0.10mm)の乾燥厚さにした。誘
電体の塗布性状は良好でわずかにひび割れがあった。誘
電体は曲げたとき可撓性で、200psi(14.1kg/cm
2)以上の引張り強さと2%以上の伸び率とを示した。
【0073】誘電体シートの一方の面を8ミルのバイア
を含むパターン像を通して、55mj/cm2の活性放射線
に露光をした。次いでシートは0.85%Na2CO3水
溶液中85℃で現像し、そして温かいエアタービンドラ
イヤー中で乾燥した。8ミルのバイアが現像を通して明
瞭に解像された。
を含むパターン像を通して、55mj/cm2の活性放射線
に露光をした。次いでシートは0.85%Na2CO3水
溶液中85℃で現像し、そして温かいエアタービンドラ
イヤー中で乾燥した。8ミルのバイアが現像を通して明
瞭に解像された。
【0074】〔実施例11〕プルロニック3lRlの2
pbwを追加して実施例6の組成物を実施例6と同じ磨砕
法により調製し、小型の機械コーターのドクターナイフ
を使用して可撓性のポリエーテルイミドシート上にキャ
ストした。塗膜は150°F(65.6℃)の加熱した
ドラム上で乾燥した。厚み5.4ミル(0.14mm)の塗
膜はひび割れを示さずまた曲げたときに可撓性であっ
た。シートの一方の面を25、10、8、6および4ミ
ルのバイアを含むパターン像を通して、種々の長さの時
間(2〜10秒)活性放射線に露光した。次いでシート
は0.85%Na2CO3水溶液中85℃で現像した。6
と8ミルのバイアが、それぞれ4と6秒の露光で解像さ
れた。
pbwを追加して実施例6の組成物を実施例6と同じ磨砕
法により調製し、小型の機械コーターのドクターナイフ
を使用して可撓性のポリエーテルイミドシート上にキャ
ストした。塗膜は150°F(65.6℃)の加熱した
ドラム上で乾燥した。厚み5.4ミル(0.14mm)の塗
膜はひび割れを示さずまた曲げたときに可撓性であっ
た。シートの一方の面を25、10、8、6および4ミ
ルのバイアを含むパターン像を通して、種々の長さの時
間(2〜10秒)活性放射線に露光した。次いでシート
は0.85%Na2CO3水溶液中85℃で現像した。6
と8ミルのバイアが、それぞれ4と6秒の露光で解像さ
れた。
【0075】〔実施例12〕バインダーIIIをバインダ
ーVIに変えて実施例4の組成物を調製し、キャストしそ
して実施例11と同じ方法で処理した。厚み5.3ミル
(0.14mm)の塗膜はひび割れのない良好なもので曲
げたとき良好な可撓性を示した。実施例11で用いたの
と同じ露光と現像条件下に、8ミルのバイアが6、8お
よび10秒の露光で明瞭に解像された。
ーVIに変えて実施例4の組成物を調製し、キャストしそ
して実施例11と同じ方法で処理した。厚み5.3ミル
(0.14mm)の塗膜はひび割れのない良好なもので曲
げたとき良好な可撓性を示した。実施例11で用いたの
と同じ露光と現像条件下に、8ミルのバイアが6、8お
よび10秒の露光で明瞭に解像された。
【0076】〔実施例13〕
誘電体組成物 重量部(pbw)
石英 8.2
アルミナ 33.3
ガラスフリット 65.2
バインダーVI 10.0
バインダーV 4.0
ベンゾフェノン 2.1
エチルミヒラーのケトン 0.4
TMPTA 3.5
TEOTA−1000 14.2
イオノール 0.1
エチルアセテート 75.2
メタノール 5.0
合 計 221.2
【0077】組成物は実施例11と同じ方法で調製し、
キャストしそして処理した。厚み6.3ミル(0.15m
m)の塗膜はひび割れがなく可撓性であった。25ミル
のバイアが4〜10秒の範囲の露光で明瞭に解像され
た。
キャストしそして処理した。厚み6.3ミル(0.15m
m)の塗膜はひび割れがなく可撓性であった。25ミル
のバイアが4〜10秒の範囲の露光で明瞭に解像され
た。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ウイリアム・ジヨン・ニーベ
アメリカ合衆国デラウエア州19808.ウ
イルミントン.タナジヤードライブ2719
(56)参考文献 特開 平2−25848(JP,A)
特開 平2−25847(JP,A)
特開 昭61−158861(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
G03F 7/00 - 7/42
Claims (2)
- 【請求項1】 (a) 無機バインダーの微砕粒子と、 (b) 場合により、セラミック固体の微砕粒子との混
合物からなる組成物であって、前記混合物が (e) 光硬化性モノマーおよび (f) 有機溶剤に溶解した (c) アミン含有の有機ポリマーあるいはコポリマ
ー、インターポリマーまたはこれらの混合物からなる有
機重合体バインダーであって、各コポリマーまたはイン
ターポリマーは(1)C1〜C10のアルキルアクリレー
ト、C1〜C10のアルキルメタクリレート、スチレン、
置換スチレンまたはこれらの組み合わせの非酸性コモノ
マーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸部分を含む
酸性コモノマーとからなり、このコポリマー、インター
ポリマーまたは混合物は全ポリマー重量の少なくとも1
5重量%の酸含有量を有し、かつバインダーの重量平均
分子量は55,000〜500,000またはこれ以上の
範囲内であり、そしてバインダーの平均ガラス転位温度
は50°〜100℃の範囲内であるもの、および (d) 光開始剤を含有する有機媒体に分散されてお
り、かつ前記組成物が活性放射線の像露光後0.8〜2.
0重量%の酸または塩基を含有する薄い酸性またはアル
カリ性の水溶液中で現像可能である、自己支持性誘電体
シート形成のためのキャスト可能な組成物。 - 【請求項2】 (a) 無機バインダーの微砕粒子と、 (b) 場合により、セラミック固体の微砕粒子との混
合物からなる誘電体シートであって、前記混合物が (e) 光硬化性モノマーに溶解した (c) アミン含有の有機ポリマーあるいはコポリマ
ー、インターポリマーまたはこれらの混合物からなる有
機重合体バインダーであって、各コポリマーまたはイン
ターポリマーが(1)C1〜C10のアルキルアクリレー
ト、C1〜C10のアルキルメタクリレート、スチレン、
置換スチレンまたはこれらの組み合わせの非酸性コモノ
マーと、(2)エチレン系の不飽和カルボン酸部分を含
む酸性コモノマーとから構成され、このコポリマー、イ
ンターポリマーまたは混合物は全ポリマー重量の少なく
とも15重量%の酸含有量を有し、かつバインダーの重
量平均分子量が、55,000〜500,000またはこ
れ以上の範囲内であり、そしてバインダーの平均ガラス
転位温度が50°〜100℃の範囲内であるもの、およ
び (d) 光開始剤を含有する有機媒体に分散されてお
り、かつ前記誘電体シートが活性放射線の像露光後0.
8〜2.0重量%の酸または塩基を含有する薄い酸性ま
たはアルカリ性の水溶液中で現像可能である、感光性の
自己支持性グリーン誘電体シート。
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DE19830582A1 (de) * | 1998-07-08 | 2000-01-13 | Siemens Ag | Photostrukturierbares Dielektrikum und Verwendung eines derartigen Dielektrikums bei integrierten Kondensatoren in Dünnfilmtechnik |
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JP2000284472A (ja) * | 1999-01-27 | 2000-10-13 | Murata Mfg Co Ltd | 感光性絶縁体ペースト及び厚膜多層回路基板 |
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KR100587461B1 (ko) * | 2004-06-17 | 2006-06-09 | 전자부품연구원 | 그린 쉬트용 슬러리 조성물 및 그로부터 제조되는 그린 쉬트 |
JP2006008792A (ja) * | 2004-06-24 | 2006-01-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | シート形成用組成物、シート形成用組成物の製造方法、および、ディスプレイパネル製造用シート状未焼成体 |
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KR101043156B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2011-06-21 | 두산디에스티주식회사 | 고에너지 고체레이저장치용 냉각장치 |
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KR102219709B1 (ko) * | 2019-02-13 | 2021-02-24 | 우정석 | 레이저 장비 광학계통의 냉각수 관리방법 |
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US4912019A (en) * | 1988-05-31 | 1990-03-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable ceramic coating composition |
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