KR940007600A - 감광성 유전 시이트 조성물 및 다층 상호접속 회로 - Google Patents

감광성 유전 시이트 조성물 및 다층 상호접속 회로 Download PDF

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Abstract

본 발명은 감광성 유전 시이트 조성물 및 그로부터 다층 상호접속 회로를 제조하는 방법에 관한 것이다. 이러한 다층 상호 접속 회로는 회로 소자 뿐만 아니라 밀접한 형태중의 축전기 및 저항기와 같은 별개의 구성 성분과 일체화한다.

Description

감광성 유정 시이트 조성물 및 다층 상호접속 회로
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (21)

  1. (a) 무기 결합제의 미립자, (b) 선택적으로, 하기 성분 (c)를 함유한 유기 매질내에 분산되어 있는 세라믹 고형물의 미립자, (c)아민-함유 유기 중합체, (1)C1-C10알킬 아크릴레이트, C1-C10-알킬 메타크릴레이트, 스티렌, 치환된 스티렌 또는 이들의 조합의 비-산성 공단량체, 및 (2)에틸렌형 불포화 카복실산-함유 잔기를 포함한 산성 공단량체를 포함한 공중합체; 또는 이들의 혼합물을 포함한 유기 중합체성 결합제(상기 공중합체 또는 이들의 혼합물은 총 중합체 중량을 기준으로 15중량%이상의 산 함량을 가지며, 상기 결합제의 중량 평균 분자량은 25,000 내지 500,000또는 그 이상이고 평균 유리 전이 온도는 50° 내지 100℃이다.) (d)하기 성분 (e)에 용해된 광개시제, (e)광경화성 단량체, 및 (f)유기용매의 혼합물을 포함하며, 화학선에 영상식 노출시켰을때 묽은 수성의 산성 용액 또는 가성 용액중에서 현상할수 있는, 유전 시이트 성형용의 주조 가능한 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 유기 중합체성 결합제 또는 중합체성 결합제의 혼합물의 중량 평균 분자량이 35,000내지 400,000인 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 상기 유기 중합체성 결합제 또는 중합체성 결합제의 혼합물의 중량 평균 분자량이 50,000내지 250,000인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 유기 중합체성 결합제가, (1) C1-C10알킬 아크릴레이트, C1-C10알킬 메타크릴레이트, 스티렌, 치환된 스티렌 또는 이들의 혼합물의 비-산성 공단량체, 및 (2) 에틸렌형 불포화카복실산-함유 잔기를 포함하는 산성 공단량체를 포함하며 총중합체 중량을 기준으로 15중량%이상의 산 함량을 갖는 공중합체 또는 이들의 혼합물인 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 불포화 카복실산으로부터 유도된 유기 중합체성 결합제 잔기의 함량이 결합제 중량의 30중량% 이하인 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 상기 유기 중합체성 결합제가 메틸메타크릴레이트, 에킬아크릴레이트 및 메타크릴산의 삼원공중합체인 조성물.
  7. (a) 무기 결합제의 미립자, (b) 선택적으로, 하기 성분 (c)를 함유한 유기 매질내에 분산되어 있는 세라믹 고형물의 미립자, (c)아민-함유 유기 중합체, (1)C1-C10알킬 아크릴레이트, C1-C10-알킬 메타크릴레이트, 스티렌, 치환된 스티렌 또는 이들의 조합의 비-산성 공단량체, 및 (2)에틸렌형 불포화 카복실산-함유 잔기를 포함한 산성 공단량체를 포함한 공중합체; 또는 이들의 혼합물을 포함한 유기 중합체성 결합제(상기 공중합체 또는 이들의 혼합물은 총 중합체 중량을 기준으로 15중량%이상의 산 함량을 가지며, 상기 결합제의 중량 평균 분자량은 25,000 내지 500,000또는 그 이상이고 평균 유리 전이 온도는 50°내지 100℃이다.) (d)하기 성분 (e)에 용해된 광개시제, (e)광경화성 단량체의 혼합물을 포함하며, 화학선에 영상식 노출시켰을때 묽은 수성의 산성용액 또는 가정 용액중에서 현상할 수 있는, 감광성 그린(green) 유전 시이트.
  8. 제7항에 있어서, 상기 유기 중합체성 결합제 또는 중합체성 결합제의 혼합물의 중량평균 분자량이 35,000 내지 400,000인 유전 시이트.
  9. 제8항에 있어서, 상기 유기 중합체성 결합제 또는 중합체성 결합제의 혼합물의 중량평균 분자량이 50,000 내지 250,000인 유전 시이트.
  10. 제7항에 있어서, 상기 유기 중합체성 결합제가, (1) C1-C10알킬 아크릴레이트, C1-C10알킬 메타크릴레이트, 스티렌, 치환된 스티렌 또는 이들의 혼합물의 비-산성 공단량체, 및 (2) 에틸렌형 불포화 카복실산-함유 잔기를 포함하는 산성 공단량체를 포함하며 총 중합체 중량을 기준으로 15중량%이상의 산 함량을 갖는 공중합체 또는 이들의 혼합물인 유전 시이트.
  11. 제10항에 있어서, 상기 불포화 카복실산으로부터 유도된 유기 중합체성 결합제 잔기의 함량이 결합제 중량의 30중량% 이하인 유전 시이트.
  12. 제11항에 있어서, 상기 유기 중합체성 결합제가 메틸메타크릴레이트, 에킬아크릴레이트 및 메타크릴산의 삼원공중합체인 유전 시이트.
  13. (a) 유전 시이트를 비아(via) 패턴 및 선택적으로, 동공 패턴의 상을 통해서 화학선을 영상식 노출시키는 단계, (b) 상기 노출된 시이트를 묽은 수성의 가성 또는 사성 용액중에서 현상시키고, 비아 및 선택적으로, 동공의 패턴화된 배열을 형성시키는 단계, (c) 상기 현상된 시이트를 건조시키는 단계, (d) 비아를 전도성 조성물로 금속화시키는 단계, (e)선택적으로 비아 패턴 및 임의의 동공을 갖는 유전 시이트에 패턴화된 전기적 작용층을 적용시키는 단계, (f) 목적하는 갯수의 층이 형성될때까지 목적하는 비아, 동공 및 전기적 작용 패턴을 사용하여 상기 (a)내지 (e)단계를 반복하는 단계, (g)상기 (f)단계로부터의 층들을 적층하여, 유전 물질에 으해서 분리된, 전기적으로 상호 접속된 작용층의 집합체를 형성시키는 단계; 및 (h)t상기 (g)단계의 집합체를 함께 소성시키는 단계를 연속적으로 포함하는, 제7항의 감광성 유전 시이트를 사용하여 다층 상호 접속 회로를 제조하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 영상식 노출된 유전 시이트를 현상하여 다공성 지지체상에서 건조시키는 방법.
  15. (a) 감광성 유전 시이트를 비아 패턴 및 선택적으로, 동공 패턴이 정합되고 정렬된 상들의 쌍을 통해서 화학선을 영상식 노출시키는 단계, (b) 상기 노출된 시이트를 묽은 수성의 가성 또는 산성 용액중에서 현상시키고, 비아 및 선택적으로, 동공의 패턴화된 배열을 형성시키는 단계, (c) 상기 현상된 시이트를 건조시키는 단계, (d) 비아를 전도성 조성물로 금속화시키는 단계, (e)선택적으로 비아 패턴 및 임의의 동공을 갖는 유전 시이트에 패턴화된 전기적 작용층을 적용시키는 단계, (f) 목적하는 갯수의 층이 형성될때까지 목적하는 비아, 동공 및 전기적 작용 패턴을 사용하여 상기 (a)내지 (e)단계를 반복하는 단계, (g)상기 (f)단계로부터의 층들을 적층하여, 유전 물질에 의해서 분리된, 전기적으로 상호 접속된 작용층의 집합체를 형성시키는 단계; 및 (h)상기 (g)단계의 집합체를 함께 소성시키는 단계를 연속적으로 포함하는, 제7항의 감광성 유전 시이트를 사용하여 다층 상호 접속 회로를 제조하는 방법.
  16. 제15항에 있어서, (a)단계에서, 적어도 하나의 감광성 유전 시이트의 한면을 비아 및 선택적으로, 동공 패텅, 및 또 다른 전기적 작용 특성을 위한 패턴을 포함하는 상을 통해서 영상식 노출시키고, 이 시이트의 대향면을 상기 비아 및 선택적인 동공 패턴의 정합되고 정렬된 상을 통해서 노출시키며, (b)단계에서, 상기 시이트를 현상하여 시이트를 통해 비아 및 선택적으로, 동공의 패턴화된 배열 및 이 시이트의 한면에 전기적작용 특성을 가진 형상으로 패턴화된 리세스를 형성시키며, 패턴화된 리세스를 전도성 또는 저항성 조성물를 금속화시키는 방법.
  17. 제16항에 있어서, (a)단계에서, 적어도 하나의 감광성 유전 시이트의 대향 면을 동일한 비아 및 동공 패턴, 및 또 다른 전기적 작용 특성을 위한 패턴을 포함하는 정합되고 정렬된 상을 통해서 노출시키며, (b)단계에서, 상기 시이트를 현상할때 비아 및 선택적으로, 동공의 패턴화된 배열을 상기 시이트를 통해서 형성시키고, 전기적 특성을 가진 형상으로 패턴화된 리세스를 상기 시이트의 각 면에 형성시키는 방법.
  18. 제15항 내지 제17항중 어느 한 항에 있어서, 상기 영상식 노출된 유전 시이트를 현상하여 다공성 지지체성에서 건조시키는 방법.
  19. 제15항 내지 제17항중 어느 한 항에 있어서, (a)단계에서, 상기 유전 시이트의 각 면을 정합되고 정렬된 적절한 상의 셋트를 통해서 영상식 노출시키는 방법.
  20. 제15항 내지 제17항중 어느 한 항에 있어서, (b)단계에서, 상기 유전 시이트의 양면을 정합되고 정렬된 상들의 쌍을 통해서 동시에 영상식 노출시키는 방법.
  21. 제13항 내지 제20항중 어느 한 항에 있어서, (i)비아 패턴 및 임의의 동공을 갖는 패턴화된 전기적 작용층을 소성된 집합체의 가장 바깥 표면의 한면 또는 양면에 적용시키고, (j) 상기 (i) 단계로부터의 구조물을 소성시키고, (k)목적하는 외층 회로 패턴(들)을 형성시키는데 필요한 횟수만큼 상기 (i) 및 (j)단계를 반복함을 포함하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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