JP3414769B2 - オレフィン重合用触媒およびこれを用いたオレフィン重合体の製造方法 - Google Patents
オレフィン重合用触媒およびこれを用いたオレフィン重合体の製造方法Info
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Description
らびに該触媒を用いてオレフィン重合体を高い収率で得
る方法に関するものである。
レフィン重合体を製造するにあたり、触媒として(1)
メタロセンおよび(2)アルミノキサンからなるものを
用いる方法が提案されている(特開昭58−01930
9号公報、特開平2−167307号公報等)。
ウム化合物あるいはバナジウム化合物と有機アルミニウ
ム化合物からなる従来のチーグラー・ナッタ触媒を用い
る方法と比較して、遷移金属あたりの重合活性が非常に
高く、また、分子量分布の狭い重合体が得られる。
の触媒を用いて充分な重合活性を得る為には多量のアル
ミノキサンを必要とするため、アルミニウムあたりの重
合活性は低く、不経済であるばかりでなく、生成した重
合体から触媒残渣を除去する必要があった。一方、上記
の遷移金属化合物およびアルミノキサンの一方あるいは
両方をシリカ、アルミナ等の無機酸化物に担持させた触
媒でオレフィンの重合を行う方法も提案されている(特
開昭61−108610号公報、同60−135408
号公報、同61−296008号公報、特開平3−74
412号公報、同3−74415号公報等)。
ウム化合物の一方あるいは両方をシリカ、アルミナ等の
無機酸化物もしくは有機物に担持させた触媒でオレフィ
ンの重合を行う方法も提案されている(特開平1−10
1303号公報、同1−207303号公報、同3−2
34709号公報、同3−234710号公報、特表平
3−501869号公報等)。しかしながら、これらに
提案された方法においても、アルミニウムあたりの重合
活性はなお充分とはいえず、生成物中の触媒残渣の量は
無視し得ないものであった。
を解決すべく検討した結果、遷移金属あたり及びアルミ
ニウムあたりの重合活性が充分高い触媒を見いだし、本
発明に到達した。すなわち、本発明は〔A〕メタロセン
系遷移金属化合物であって、前記遷移金属がチタニウ
ム、ジルコニウム、及びハフニウムからなる群から選択
されるもの、〔B〕粘土もしくは粘土鉱物、および
〔C〕トリアルキルアルミニウム化合物を接触して得ら
れる生成物からなることを特徴とするオレフィン重合用
触媒および、〔A〕メタロセン系遷移金属化合物であっ
て、前記遷移金属がチタニウム、ジルコニウム、及びハ
フニウムからなる群から選択されるもの、〔B〕粘土も
しくは粘土鉱物、および〔C〕トリアルキルアルミニウ
ム化合物を接触して得られる生成物、並びに必要に応じ
て〔D〕トリアルキルアルミニウムからなる触媒の存在
下、オレフィンを単独重合または共重合させることを特
徴とするオレフィン重合体の製造方法、に存する。
触媒に用いられる〔A〕成分であるメタロセン系遷移金
属化合物は、前記遷移金属がチタニウム、ジルコニウ
ム、及びハフニウムからなる群から選択されるもの、好
ましくは、置換されていてもよいシクロペンタジエニル
系配位子すなわち置換基が結合して縮合環を形成しても
よいシクロペンタジエニル環含有配位子と、チタニウ
ム、ジルコニウム、及びハフニウムからなる群から選択
される遷移金属とからなる有機金属化合物である。
好ましいものは、下記一般式〔1〕もしくは〔2〕で表
される化合物である。
R2 n)は同一でも異なっていてもよいシクロペンタジエ
ニル基または置換シクロペンタジエニル基を表し、R1
は、炭素、ケイ素、ゲルマニウム等の長周期表の第14
族元素を含む共有結合架橋基であり、各R2は同一また
は異なっていてもよい水素、ハロゲン、珪素含有基、ハ
ロゲン置換基を有していてもよい炭素数が1ないし20
の炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基であ
り、2個のR2がシクロペンタジエニル環の隣接する2
個の炭素原子に存在する場合には、互いに結合してC4
〜C6環を形成してもよい。R3は、同一または異なって
いてもよい水素、ハロゲン、珪素含有基、ハロゲン置換
基を有していてもよい炭素数が1〜20の炭化水素基、
アルコキシ基、アリールオキシ基であり、mは0または
1であり、各nはn+m=5となる整数であり、Mはチ
タニウム、ジルコニウム、及びハフニウムからなる群か
ら選択される金属であり、R4はMに配位する中性の配
位子であり、R5は上記金属カチオンを安定化させるこ
とのできる対アニオンを示す。)
1 は、炭素、珪素、ゲルマニウム等の長周期表の第14
族元素を含む共有結合架橋基であり、上記CpR2 nで
示される2個のシクロペンタジエニル環含有基を結合す
るものである。具体的には、メチレン基、エチレン基の
ようなアルキレン基、エチリデン基、プロピリデン基、
イソプロピリデン基、フェニルメチリデン基、ジフェニ
ルメチリデン基のようなアルキリデン基、ジメチルシリ
レン基、ジエチルシリレン基、ジプロピルシリレン基、
ジイソプロピルシリレン基、ジフェニルシリレン基、メ
チルエチルシリレン基、メチルフェニルシリレン基、メ
チルイソプロピルシリレン基、メチル−t−ブチルシリ
レン基のような珪素含有架橋基、ジメチルゲルミレン
基、ジエチルゲルミレン基、ジプロピルゲルミレン基、
ジイソプロピルゲルミレン基、ジフェニルゲルミレン
基、メチルエチルゲルミレン基、メチルフェニルゲルミ
レン基、メチルイソプロピルゲルミレン基、メチル−t
−ブチルゲルミレン基のようなゲルマニウム含有架橋基
等、アルキルホスフィン、アミン等があげられる。これ
らのうち、アルキレン基、アルキリデン基、および珪素
含有架橋基が特に好ましく用いられる。
いシクロペンタジエニル基または置換シクロペンタジエ
ニル基である。ここでR2 は、同一または異なっていて
もよい水素、フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン、
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシ
リル基等の珪素含有基、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、フェニル、
クロロメチル、クロロエチル基等のハロゲン基を有して
いてもよい炭素数1ないし20の炭化水素基、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基等のアルコキシ
基、または、フェノキシ、メチルフェノキシ、ペンタメ
チルフェノキシ基等のアリールオキシ基である。
エニル環の隣接する2個の炭素原子に存在する場合は、
互いに結合してC4 〜C6 環を形成し、インデニル、テ
トラヒドロインデニル、フルオレニル、オクタヒドロフ
ルオレニル基等となってもよい。これらのうち、R2 と
して特に好ましいのは、水素、メチル基、及び2個のR
2 が互いに結合してインデニル、テトラヒドロインデニ
ル、フルオレニルまたはオクタヒドロフルオレニル基を
形成した炭化水素基である。
素、フッ素、塩素、臭素、沃素等のハロゲン、トリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル基等
の珪素含有基、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イ
ソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、フェニル、クロロメチ
ル、クロロエチル基等のハロゲン置換基を有していても
よい炭素数1ないし20の炭化水素基、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、ブトキシ基等のアルコキシ基、フェ
ノキシ、メチルフェノキシ、ペンタメチルフェノキシ基
等のアリールオキシ基であり、特に水素、塩素、メチル
基が好ましい。
で結合しない場合は0であり、結合する場合は1であ
る。各nはmが1のとき4であり、mが0のとき5であ
る。Mはチタニウム、ジルコニウム、及びハフニウムか
らなる群から選択される金属である。
中性の配位子であり、R5-は、テトラフェニルボレー
ト、テトラ(p−トリル)ボレート、カルバドデカボレ
ート、ジカルバウンデカボレート等の上記一般式〔2〕
中の金属カチオンを安定化させることのできる対アニオ
ンを示す。本発明の触媒は、アイソタクチック重合体、
シンジオタクチック重合体及びアタクチック重合体のい
ずれをも製造することができる。
体的には、ジルコニウムを例にとれば、式〔1〕に相当
するものとしては、ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ビス(エチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(メチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス
(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチ
ル、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
二水素化物、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウム二水素化物、ビス(ジメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(トリメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス
(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロライド、ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(インデニ
ル)ジルコニウムジクロライド、ビス(ジメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(トリメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビ
ス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジメチル、ビス(エチルテトラメチルシクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジメチル、ビス(インデニル)ジル
コニウムジメチル、ビス(ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、ビス(トリメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、ビス(エチ
ルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム二
水素化物、ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、ビス(トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、ビス
(トリフルオロメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、ビス(トリフルオロメチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(トリフル
オロメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素
化物、イソプロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン−ビス(インデニ
ル)ジルコニウムジメチル、イソプロピリデン−ピス
(インデニル)ジルコニウム二水素化物、ペンタメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ペ
ンタメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム二水素化物、エチルテトラメチルシク
ロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム二水素化物、イソプロピリデン(シクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライド、イソ
プロピリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニ
ル)ジルコニウムジメチル、ジメチルシリル(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジメチ
ル、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウム二水素化物、ビス(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロライド、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジエチル、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジプロピル、ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジフェニル、メチルシ
クロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、エチルシクロペンタジエニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、メチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、エチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、メチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
二水素化物、エチルシクロペンタジエニル(シクロペン
タジエニル)ジルコニウム二水素化物、ジメチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジクロライド、トリメチルシクロペンタジエニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、テトラ
メチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)
ジルコニウムジクロライド、ビス(ペンタメチルシクロ
ペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、テトラメ
チルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、インデニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロライド、ジメチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
メチル、トリメチルシクロペンタジエニル(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジメチル、テトラメチルシク
ロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジメチル、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、エチルテトラメチルシクロ
ペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
ジメチル、インデニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、ジメチルシクロペンタジエニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、トリメチ
ルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム二水素化物、ビス(ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム二水素化物、インデニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、トリメチ
ルシリルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジメチル、トリメチルシリルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二
水素化物、トリフルオロメチルシクロペンタジエニル
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライド、
トリフルオロメチルシクロペンタジエニル(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジメチル、トリフルオロメチ
ルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム二水素化物、ビス(シクロペンタジエニル)
(トリメチルシリル)(メチル)ジルコニウム、ビス
(シクロペンタジエニル)(トリフェニルシリル)(メ
チル)ジルコニウム、ビス(シクロペンタジエニル)
〔トリス(ジメチルシリル)シリル〕(メチル)ジルコ
ニウム、ビス(シクロペンタジエニル)〔ビス(メチル
シリル)シリル〕(メチル)ジルコニウム、ビス(シク
ロペンタジエニル)(トリメチルシリル)(トリメチル
シリルメチル)ジルコニウム、ビス(シクロペンタジエ
ニル)(トリメチルシリル)(ベンジル)ジルコニウ
ム、メチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロライド、エチレン−ビス(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウムジクロライド、イソプロピリデン−
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロライド、メチレン−ビス(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジメチル、エチレン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジメチル、イソ
プロピリデン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジメチル、ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジメチル、メチレン−ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物、エチレン
−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化
物、イソプロピリデン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウム二水素化物、ジメチルシリル−ビス(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム二水素化物等である。
は、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム
(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、ビス(メチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、ビス(エチルシクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、ビス(メチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、ビス
(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、ビス(トリメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、ビス(テトラメチルシ
クロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、ビス
(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、ビス(インデニル)ジルコニウム
(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、ビス(トリメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、ビス(テトラメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、ビス
(エチルテトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、ビス(インデニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、ビス(トリメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、ビス(エチルテトラメチ
ルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、ビス(トリメチルシリルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニル
ボレート)テトラヒドロフラン錯体、ビス(トリフルオ
ロメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、ビス(トリフルオロメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、イソプロピリデン−ビス(イ
ンデニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、イソプロピリデ
ン−ビス(インデニル)ジルコニウム(メチル)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、イソプ
ロピリデン−ビス(インデニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、ペンタメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタ
ジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、エチルテトラメ
チルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、ペンタメチルシクロペンタジ
エニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、エチルテトラメチルシクロペンタジエニル(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、ペンタメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、エチルテトラメチルシクロペンタジ
エニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フル
オレニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、イソプロピリデ
ン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒド
ロフラン錯体、イソプロピリデン(シクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テト
ラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
ビス(シクロペンタジエニル)(メチル)ジルコニウム
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
ビス(シクロペンタジエニル)(エチル)ジルコニウム
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
ビス(シクロペンタジエニル)(プロピル)ジルコニウ
ム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、ビス(シクロペンタジエニル)(フェニル)ジルコ
ニウム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン
錯体、メチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエ
ニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、エチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロ
ライド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体、ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体、メチルシクロペンタジエニル(シク
ロペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、エチルシク
ロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウ
ム(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、メチルシクロペンタジエニル(シクロペン
タジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、エチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロ
フラン錯体、ジメチルシクロペンタジエニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフ
ェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、トリメチル
シクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、テトラメチルシクロペンタジエニ
ル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(クロライド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、インデニル(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、ジメチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、トリメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレ
ート)テトラヒドロフラン錯体、テトラメチルシクロペ
ンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体、シクロペンタジエニル(インデ
ニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、ジメチルシクロペンタジ
エニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、トリメチルシクロペンタジエニル(シクロペンタジ
エニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボ
レート)テトラヒドロフラン錯体、ビス(ペンタメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)(テ
トラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、イン
デニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、トリメチルシリルシクロペンタジエニル(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェニ
ルボレート)テトラヒドロフラン錯体、トリメチルシリ
ルシクロペンタジエニル(シクロペンタジエニル)ジル
コニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、トリフルオロメチルシクロペンタ
ジエニル(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒド
リド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン
錯体、ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチルシリ
ル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、ビス(シクロペンタジエニル)(トリ
フェニルシリル)ジルコニウム(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、ビス(シクロペンタジエ
ニル)〔トリス(ジメチルシリル)シリル〕ジルコニウ
ム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、ビス(シクロペンタジエニル)(トリメチルシリル
メチル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、ビス(シクロペンタジエニル)
(ベンジル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)
テトラヒドロフラン錯体、メチレン−ビス(シクロペン
タジエニル)ジルコニウム(クロライド)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、エチレン−ビ
ス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライ
ド)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、イソプロピリデン−ビス(シクロペンタジエニル)
ジルコニウム(クロライド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、ジメチルシリル−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(クロライド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
メチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム
(メチル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフ
ラン錯体、エチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジ
ルコニウム(メチル)(テトラフェニルボレート)テト
ラヒドロフラン錯体、イソプロピリデン−ビス(シクロ
ペンタジエニル)ジルコニウム(メチル)(テトラフェ
ニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、ジメチルシリ
ル−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(メチ
ル)(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯
体、メチレン−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニ
ウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体、エチレン−ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレー
ト)テトラヒドロフラン錯体、イソプロピリデン−ビス
(シクロペンタジエニル)ジルコニウム(ヒドリド)
(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラン錯体、
ジメチルシリル−ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウム(ヒドリド)(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体等である。
物についても、上記と同様の化合物が挙げられる。更
に、これら化合物の混合物を用いてもよい。本発明にお
いては、〔B〕成分として、粘土もしくは粘土鉱物を用
いる。粘土は、通常、粘土鉱物を主成分として構成され
る。大部分の粘土鉱物はイオン交換性層状化合物であ
る。また、これら粘土、粘土鉱物は天然産のものに限ら
ず、人工合成物であってもよい。
ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、
ヒシンゲル石、パイロフィライト、タルク、ウンモ群、
モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石
群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、デ
ィッカイト、ハロイサイト等が挙げられる。
た半径20Å以上の細孔容積が0.1cc/g以上、特
には、0.3〜5cc/gのものが好ましい。
ターを用いた水銀圧入法により細孔半径として20〜3
0000Åの範囲で測定される。本実施例では(株)島
津製作所の「Auto Pore 9200」を用いて
測定した。なお、〔B〕成分として、半径20Å以上の
細孔容積が0.1cc/g以下の化合物を用いた場合に
は、高い重合活性が得られ難い傾向がある。
好ましい。
不純物を除去する表面処理と粘土の結晶構造に影響を与
える処理のいずれをも用いることができる。具体的に
は、酸処理、アルカリ処理、塩類処理、有機物処理等が
あげられる。酸処理は表面の不純物を取り除くほか、結
晶構造中のAl、Fe、Mg等の陽イオンを溶出させる
ことによって表面積を増大させる。アルカリ処理では粘
土の結晶構造が破壊され、粘土の構造の変化をもたら
す。また塩類処理、有機物処理では、イオン複合体、分
子複合体、有機誘導体などを形成し、表面積や層間距離
を変えることができる。
ンを別の大きな嵩高いイオンと置換することにより、層
間が拡大した状態の層状物質を得ることも出来る。すな
わち、嵩高いイオンが層状構造を支える支柱的な役割を
担っており、ピラーと呼ばれる。また層状物質の層間に
別の物質を導入することをインターカレーションとい
う。
してはTiCl4 、ZrCl4 等の陽イオン性無機化合
物、Ti(OR)4 、Zr(OR)4 、PO(O
R)3 、B(OR)3 〔Rはアルキル、アリールなど〕
等の金属アルコラート、〔Al13O 4 (OH)24〕7+、
〔Zr4 (OH)14〕2+、〔Fe3 O(OCOCH3 )
6 〕 + 等の金属水酸化物イオン等があげられる。これら
の化合物は、単一で用いても、また2種以上共存させて
用いてもよい。また、これらの化合物をインターカレー
ションする際に、Si(OR)4 、Al(OR)3 、G
e(OR)4 等の金属アルコラート等を加水分解して得
た重合物、SiO2 等のコロイド状無機化合物等を共存
させることもできる。また、ピラーの例としては上記水
酸化物イオンを層間にインターカレーションした後に加
熱脱水することにより生成する酸化物等があげられる。
たに水を添加吸着させ、あるいは加熱脱水処理した後用
いても良い。また、単独で用いても、上記固体の2種以
上を混合して用いても良い。〔B〕成分として、好まし
いものは粘土または粘土鉱物であり、最も好ましくは、
モンモリロナイトである。
いられる有機アルミニウム化合物は、トリメチルアルミ
ニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミ
ニウム、トリイソブチルアルミニウム等のトリアルキル
アルミニウム化合物である。
から重合触媒を得るための接触方法については、〔B〕
成分が粘土もしくは粘土鉱物の場合には、〔A〕成分中
の遷移金属と粘土もしくは粘土鉱物中の水酸基および
〔C〕有機アルミニウム化合物中のアルミニウムのモル
比が1:0.1〜100000:0.1〜100000
00になるように、特に1:0.5〜10000:0.
5〜1000000で接触反応させるのが好ましい。
ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の不活性炭
化水素溶媒中で行ってもよい。接触温度は、−20℃〜
溶媒の沸点の間で行い、特に室温から溶媒の沸点の間で
行うのが好ましい。
られる有機アルミニウム化合物〔D〕としては、〔C〕
成分と同様の化合物が挙げられる。この際に用いられる
有機アルミニウム化合物の量は、触媒成分〔A〕中の遷
移金属対〔D〕成分中のアルミニウムのモル比が1:0
〜10000になるように選ばれる。触媒各成分の接触
順序は特に限定されないが、以下のような接触順序で接
触させることができる。
た後に〔A〕成分を添加する。そのほか、三成分を同時
に接触してもよい。触媒各成分の接触に際し、または接
触の後にポリエチレン、ポリプロピレン等の重合体、シ
リカ、アルミナ等の無機酸化物等の固体を共存させある
いは接触させてもよい。
チレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、3−
メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、4−
メチル−1−ペンテン、ビニルシクロアルカン、スチレ
ンあるいはこれらの誘導体等が挙げられる。また、重合
は単独重合のほか通常公知のランダム共重合やブロック
共重合に好適に適用できる。
ン、ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等の不活性炭
化水素や液化α−オレフィン等の溶媒存在下、あるいは
不存在下に行われる。温度は、−50℃〜250℃であ
り、圧力は特に制限されないが、好ましくは、常圧〜約
2000kgf/cm2 の範囲である。また、重合系内
に分子量調節剤として水素を存在させてもよい。
説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限りこれら
実施例によって制約を受けるものではない。
(Aldrich社製、Montmorillonit
e K10;水銀圧入法で測定した半径20Å以上の細
孔容積が1.004cc/g;以下同様)17gを採取
し、フラスコ内を窒素置換した後、トルエン50mlを
添加し、スラリーとした。別途、トリメチルアルミニウ
ム7.21gをトルエン50mlに溶解した。モンモリ
ロナイトスラリーを激しく攪はんしながらこれに室温で
トリメチルアルミニウム溶液をゆっくり滴下した。ガス
の発生をともなって発熱した。適宜、氷水で冷却しなが
ら攪拌を2時間続け、灰緑色のスラリーを得た。
クロライドを室温で、窒素雰囲気下、0.0179Mト
リメチルアルミニウムのトルエン溶液4.8mlと30
分間予備接触させ、さらに上記(1)によって製造され
た触媒成分スラリー4.7mlと20分接触させた。
拌式オートクレーブに窒素気流下、室温でトルエン50
0mlおよび上記触媒成分接触混合物を添加した。混合
液を70℃に昇温した後エチレン分圧が9kgf/cm
2 となるようにエチレンを導入し、1時間重合を行っ
た。そののちエチレンの供給をとめ、エタノールを導入
して重合を停止させた。その後オートクレーブ内容物を
30℃まで降温してから内部のガスをパージし、粉末ポ
リエチレン170gを得た。遷移金属触媒成分(ビスシ
クロペンタジエニルジルコニウムジクロライド、以下断
りのないかぎり同様)1gあたりのポリエチレン生成量
は、6.80×104 g、重合活性は7600g−PE
/g−cat・h・kgf・cm-2であった。また、モ
ンモリロナイト、及びビスシクロペンタジエニルジルコ
ニウムジクロライドと接触させたトリメチルアルミニウ
ムに由来するアルミニウム1gあたりのポリエチレン生
成量は1600gであった。
ジクロライドを室温で窒素雰囲気下、0.0179Mト
リメチルアルミニウムのトルエン溶液0.48mlと3
0分間予備接触させ、さらに上記の実施例1 (1)によ
って製造された触媒成分スラリー0.47mlと20分
予備接触させた。
拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエン3
00mlおよび上記触媒接触混合物を導入した。更に液
体プロピレン600mlを導入した。混合液を70℃に
昇温した後エチレン分圧が7.6kgf/cm2 となる
ようにエチレンを導入し、1時間重合を行った。その
後、エチレンの供給を止め、エタノールを導入して重合
を停止させた。その後オートクレーブ内容物を30℃ま
で降温してから内部のガスをパージし、エチレン−プロ
ピレン共重合体100gを得た。遷移金属触媒成分1g
あたりの共重合体生成量は、3.7×105 gであっ
た。また、モンモリロナイト及びビスシクロペンタジエ
ニルジルコニウムジクロライドと接触させたトリメチル
アルミニウムに由来するアルミニウム1gあたりの共重
合体生成量は8600gであった。また、得られた共重
合体の分子量分布は、Mw/Mn=2.1であった。
ジクロライドを室温で窒素雰囲気下、上記の実施例1
(1)によって製造された触媒成分スラリー0.47m
lと20分予備接触させた。
拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエン3
00mlおよび上記触媒成分接触混合物を添加した。更
に液体プロピレン600mlを導入した。混合液を70
℃に昇温した後エチレン分圧が7.6kgf/cm2 と
なるようにエチレンを導入し、1時間重合を行った。そ
ののちエチレンの供給をとめ、エタノールを導入して重
合を停止させた。その後オートクレーブ内容物を30℃
まで降温してから内部のガスをパージし、エチレン−プ
ロピレン共重合体38.7gを得た。遷移金属触媒成分
1gあたりの共重合体生成量は、1.54×105 gで
あった。また、モンモリロナイトと接触させたトリメチ
ルアルミニウムに由来するアルミニウム1gあたりの共
重合体生成量は3300gであった。
er Scientific Co.製;酸処理品;水
銀圧入法で測定した半径20Å以上の細孔容積が0.6
91cc/g)6.46gを採取し、フラスコ内を窒素
置換した後、トルエン200mlを添加し、スラリーと
した。別途、トリメチルアルミニウム7.21gを50
mlトルエンに溶解した。カオリンスラリーを激しく攪
はんしながら室温でトリメチルアルミニウム溶液をゆっ
くり滴下し、その後2時間還流し、褐色のスラリーを得
た。
クロライドを室温で、窒素雰囲気下、0.196Mトリ
メチルアルミニウムのトルエン溶液0.44mlと30
分間予備接触させ、さらに上記の実施例3(1)によっ
て製造された触媒成分スラリー14mlと20分予備接
触させた。
拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエン3
00mlおよび上記触媒成分接触混合物を添加した。更
に液体プロピレン600mlを導入した。混合液を70
℃に昇温した後、エチレン分圧が7.6kgf/cm2
となるようにエチレンを導入し、1時間重合を行った。
その後、エチレンの供給をとめ、エタノールを導入して
重合を停止させた。その後、オートクレーブ内容物を3
0℃まで降温してから内部のガスをパージし、エチレン
−プロピレン共重合体105gを得た。遷移金属触媒成
分1gあたりの共重合体生成量は、3.9×104 gで
あった。また、カオリン、及びビスシクロペンタジエニ
ルジルコニウムジクロライドと接触させたトリメチルア
ルミニウムに由来するアルミニウム1gあたりの共重合
体生成量は844gであった。
(メチル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)テ
トラヒドロフラン錯体の合成 300ml丸底フラスコに市販のビスシクロペンタジエ
ニルジルコニウムジクロライド7.5gを採取し、フラ
スコ内を窒素置換した後、−20℃でジエチルエーテル
120mlを添加し、スラリーとした。このスラリーに
−20℃において、メチルリチウムのヘキサン溶液
(1.6M)32mlをゆっくりと添加し、0℃で30
分攪拌した。その後、溶媒を蒸発させ、残った固体を6
0〜80℃で2×10-4mmHgの減圧下昇華精製し、
ビスシクロペンタジエニルジルコニウムジメチルを得
た。別途、硝酸銀3.40gの水溶液とテトラフェニル
ほう酸ナトリウム6.84gを混合することによりテト
ラフェニルほう酸銀を得た。
ニルジルコニウムジメチルを10mlのアセトニトリル
に溶解し、この溶液にテトラフェニルほう酸銀1.0g
のアセトニトリル(10ml)スラリーを0℃で添加
し、1時間攪拌した。得られた溶液を固体と分離し、蒸
発乾固させたのち、冷アセトニトリルで洗浄した。その
後、アセトニトリルで再結晶させ、48時間減圧乾燥さ
せた。得られた固体をテトラヒドロフランで3回再結晶
することによりビス(シクロペンタジエニル)(メチ
ル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)テトラヒ
ドロフラン錯体を得た。
得た0.55mgのビス(シクロペンタジエニル)(メ
チル)ジルコニウム(テトラフェニルボレート)テトラ
ヒドロフラン錯体を室温で、窒素雰囲気下、0.196
Mトリメチルアルミニウムのトルエン溶液0.49ml
と30分間予備接触させ、さらに実施例1 (1)によっ
て製造された触媒成分スラリー0.48mlと20分予
備接触させたものを用いて行った。
拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエン3
00mlおよび、上記触媒成分接触混合物を添加した。
更に液体プロピレン600mlを導入した。混合物を7
0℃に昇温した後エチレン分圧が7.6kgf/cm2
となるようにエチレンを導入し、1時間重合を行った。
そののちエチレンの供給をとめ、エタノールを導入して
重合を停止させた。そののち、オートクレーブ内容物を
30℃まで降温してから内部のガスをパージし、エチレ
ン−プロピレン共重合体24.2gを得た。遷移金属触
媒成分(ビス(シクロペンタジエニル)(メチル)ジル
コニウム(テトラフェニルボレート)テトラヒドロフラ
ン錯体)1gあたりの共重合体生成量は、4.4×10
4 gであった。また、モンモリロナイト及び〔A〕成分
と接触させたトリメチルアルミニウムに由来するアルミ
ニウム1gあたりの共重合体生成量は2200gであっ
た。
ンタジエニルジルコニウムジクロライドを室温で、窒素
雰囲気下、メチルアルミノキサン(分子量1232;東
ソー・アクゾ製)Al原子換算5.00mmolのトル
エン溶液と30分間予備接触させた。
拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエン5
00ml、ビスシクロペンタジエニルジルコニウムジク
ロライドとメチルアルミノキサンの混合溶液を添加し
た。混合液を70℃に昇温した後エチレン分圧が9kg
f/cm2 となるようにエチレンを導入し、1時間重合
を行った。そののちエチレンの供給をとめ、オートクレ
ーブ内容物を30℃まで降温してから内部のガスをパー
ジし、粉末ポリエチレン11.6gを得た。遷移金属触
媒成分1gあたりのポリエチレン生成量は、1.20×
104 g、重合活性は1300g−PE/g−cat・
h・kgf・cm-2であった。また、メチルアルミノキ
サンに由来するアルミニウム1gあたりのポリエチレン
生成量は86gであった。
エニルジルコニウムジクロライド8.9mgを採取し、
フラスコ内を窒素置換した後、n−ヘプタン25mlを
添加し、スラリーとした。別途、トリメチルアルミニウ
ム1.18g、市販のモンモリロナイト3.72gをそ
れぞれ採取し、n−ヘプタンをそれぞれ5ml、15m
l添加した。ビスシクロペンタジエニルジルコニウムジ
クロライドスラリーを激しく攪拌しながらこれに室温で
モンモリロナイトスラリーを滴下し、ついでトリメチル
アルミニウム溶液を滴下した。ガスの発生をともなって
発熱した。滴下終了後、攪拌を2時間続け、灰色のスラ
リーを得た。触媒スラリー中のジルコニウム濃度は、
0.72μmol/mlであった。
レーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン300m
l、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.1
8mM)1.9ml、上記実施例5 (1)で得た触媒ス
ラリー3.9mlを順次導入した。混合液を70℃に昇
温した後エチレン分圧が9kgf/cm2となるように
エチレンを導入し、30分重合を行った。そののちエチ
レンの供給をとめ、エタノールを導入して重合を停止さ
せた。その後オートクレーブ内容物を30℃まで降温し
てから内部のガスをパージし、粉末ポリエチレン230
gを得た。遷移金属触媒成分1gあたりの重合体生成量
は、2.8×105 であった。またトリメチルアルミニ
ウムに由来するアルミニウム1gあたりの重合体生成量
は8500gであった。
レーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン300m
l、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.1
8mM)1.9ml、上記触媒スラリー2.6mlを順
次導入した。更に液体プロピレン600mlを導入し
た。混合液を70℃に昇温した後エチレン分圧が7.6
kgf/cm2 となるようにエチレンを導入し、25分
重合を行った。そののちエチレンの供給をとめ、エタノ
ールを導入して重合を停止させた。その後オートクレー
ブ内容物を30℃まで降温してから内部のガスをパージ
し、エチレン−プロピレン共重合体243gを得た。遷
移金属触媒成分1gあたりの共重合体生成量は4.4×
105 gであった。また、トリメチルアルミニウムに由
来するアルミニウム1gあたりの共重合体生成量は92
00gであった。
7.7gを採取し、フラスコ内を充分窒素置換した後、
トルエン80mlを添加し、スラリーとした。別途、ト
リメチルアルミニウム5.86gをトルエン20mlに
溶解した。トリメチルアルミニウム溶液を激しく攪拌し
ながらこれに室温でモンモリロナイトスラリーを滴下し
た。ガスの発生をともなって発熱した。滴下終了後2時
間攪拌し、緑灰色スラリーを得た。
ジクロライドを室温で、窒素雰囲気下、10.10mM
トリメチルアルミニウムのトルエン溶液1.9mlと3
0分間予備接触させ、さらに上記実施例6 (1)によっ
て製造された触媒成分スラリー1.3mlと予備接触さ
せた。
導攪拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエ
ン300ml、上記触媒成分接触混合物を導入した。更
に液体プロピレン600mlを導入した。オートクレー
ブを70℃に昇温した後、エチレン分圧が7.6kgf
/cm2 となるようにエチレンを導入し、30分間重合
を行った。そののちエチレンの供給をとめ、エタノール
を導入して重合を停止させた。エチレン−プロピレン共
重合体310gを得た。遷移金属触媒成分1gあたりの
共重合体生成量は、5.5×105 gであった。また、
モンモリロナイト及びビスシクロペンタジエニルジルコ
ニウムジクロライドと接触させたトリメチルアルミニウ
ムに由来するアルミニウム1gあたりの共重合体生成量
は12000gであった。
ジクロライドを室温で、窒素雰囲気下、9.50mMト
リエチルアルミニウムのトルエン溶液1.8mlと30
分間予備接触させ、さらに上記実施例6 (1)によって
製造された触媒成分スラリー1.1mlと予備接触させ
た。
導攪拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエ
ン300ml、上記触媒成分接触混合物を導入した。更
に液体プロピレン600mlを導入した。オートクレー
ブを70℃に昇温した後、エチレン分圧が7.6kgf
/cm2 となるようにエチレンを導入し、30分間重合
を行った。そののちエチレンの供給をとめ、エタノール
を導入して重合を停止させた。エチレン−プロピレン共
重合体299gを得た。遷移金属触媒成分1gあたりの
共重合体生成量は、6.0×105 gであった。また、
モンモリロナイトと接触させたトリメチルアルミニウム
及びビスシクロペンタジエニルジルコニウムジクロライ
ドと接触させたトリエチルアルミニウムに由来するアル
ミニウム1gあたりの共重合体生成量は13000gで
あった。
ンデニル)ジルコニウムジクロライドの合成 上記錯体の合成はJournal of Organo
metallic Chemistry,232(19
82)233のエチレンビス(4,5,6,7−テトラ
ヒドロインデニル)チタンジクロライドについての記載
と同様に行った。
7−テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロライ
ドを室温で、窒素雰囲気下、10.10mMトリメチル
アルミニウムのトルエン溶液1.9mlと30分間予備
接触させ、さらに上記の実施例6 (1)によって製造さ
れた触媒成分スラリー1.3mlと予備接触させた。
導攪拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエ
ン300ml、上記触媒成分接触混合物を導入した。更
に液体プロピレン600mlを導入した。オートクレー
ブを70℃に昇温し、30分間重合を行った。そのの
ち、オートクレーブ内部のガスをパージし、プロピレン
重合体286gを得た。遷移金属触媒成分(エチレンビ
ス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニル)ジルコ
ニウムジクロライド)1gあたりの重合体生成量は、
3.5×105 gであった。また、モンモリロナイト及
びエチレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデ
ニル)ジルコニウムジクロライドと接触させたトリメチ
ルアルミニウムに由来するアルミニウム1gあたりのプ
ロピレン重合体生成量は9900gであった。また、立
体規則性を表す沸騰ヘプタン不溶部(6時間還流後の
値)は96%であった。
チレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロインデニ
ル)ジルコニウムジクロライドを室温で、窒素雰囲気
下、10.10mMのトリメチルアルミニウムのトリエ
ン溶液1.9mlと30分接触させ、更にメチルアルミ
ノキサン(東ソー・アクゾ製)Al原子換算12.5m
molのトルエン溶液と予備接触させたものを用いプロ
ピレンの重合を行った。
導攪拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエ
ン300ml、エチレンビス(4,5,6,7−テトラ
ヒドロインデニル)ジルコニウムジクロライドとメチル
アルミノキサンの混合溶液を添加した。更に液体プロピ
レン600mlを導入した。オートクレーブを70℃に
昇温し、1時間重合を行った。その後内部のガスをパー
ジし、プロピレン重合体115gを得た。遷移金属触媒
成分(エチレンビス(4,5,6,7−テトラヒドロイ
ンデニル)ジルコニウムジクロライド)1gあたりのプ
ロピレン重合体生成量は、1.4×105 gであった。
また、メチルアルミノキサンに由来するアルミニウム1
gあたりのプロピレン生成量は340gであった。ま
た、沸騰ヘプタン不溶部は96%であった。
ルオレニル)ジルコニウムジクロライドの合成 上記錯体の合成は、特開平2−41305号公報記載の
方法と同様に行った。
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライドを室温
で、窒素雰囲気下、10.10mMトリメチルアルミニ
ウムのトルエン溶液1.9mlと30分間予備接触さ
せ、さらに上記の実施例6 (1)によって製造された触
媒成分スラリー1.3mlと予備接触させた。
導攪拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエ
ン300ml及び上記触媒成分接触混合物を導入した。
更に液体プロピレン600mlを導入した。オートクレ
ーブを70℃に昇温し、30分間重合を行った。その後
オートクレーブ内部のガスをパージし、プロピレン重合
体253gを得た。遷移金属触媒成分1gあたりのプロ
ピレン重合体生成量は、3.0×105 gであった。ま
た、モンモリロナイト及びイソプロピリデン(シクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロラ
イドと接触させたトリメチルアルミニウムに由来するア
ルミニウム1gあたりの重合体生成量は8800gであ
った。得られた重合体の13C−NMRによるrrrrす
なわちシンジオタクチック重合体含有率は90%であっ
た。
デン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコ
ニウムジクロライドを室温で、窒素雰囲気下、メチルア
ルミノキサン(東ソー・アクゾ製)Al原子換算12.
5mmolのトルエン溶液と30分間予備接触させた。
導攪拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でトルエ
ン300ml、上記イソプロピリデン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロライドと
メチルアルミノキサンの混合溶液を添加した。更に、液
体プロピレン600mlを導入した。オートクレーブを
70℃に昇温し、1時間重合を行った。そののちオート
クレーブ内部のガスをパージし、プロピレン重合体10
8gを得た。遷移金属触媒成分1gあたりのプロピレン
重合体生成量は、1.3×105 gであった。また、メ
チルアルミノキサンに由来するアルミニウム1gあたり
のプロピレン重合体生成量は320gであった。得られ
た重合体の13C−NMRによるrrrrは89%であっ
た。
8.1gを採取し、フラスコ内を充分窒素置換した後、
n−ヘプタン80mlを添加し、スラリーとした。別
途、トリメチルアルミニウム6.25gをn−ヘプタン
20mlに溶解した。トリメチルアルミニウム溶液を激
しく攪拌しながらこれに室温でモンモリロナイトスラリ
ーをゆっくり滴下した。ガスの発生をともなって発熱し
た。滴下終了後、攪拌を2時間続け、灰色のスラリーを
得た。
ジクロライドを室温で窒素雰囲気下、0.0102Mト
リメチルアルミニウムのトルエン溶液2.0mlと30
分間予備接触させ、さらに上記実施例9 (1)によって
製造された触媒成分スラリー1.2mlと20分予備接
触させた。
導攪拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でn−ヘ
キサン300ml、上記触媒成分接触混合物を導入し
た。更に液体プロピレン600mlを導入した。混合液
を70℃に昇温した後エチレン分圧が7.6kgf/c
m2 となるようにエチレンを導入し、20分重合を行っ
た。そののちエチレンの供給をとめ、エタノールを導入
して重合を停止させた。その後オートクレーブ内容物を
30℃まで降温してから内部のガスをパージし、エチレ
ン−プロピレン共重合体311gを得た。遷移金属触媒
成分1gあたりの共重合体生成量は、5.3×105 g
であった。また、モンモリロナイト及びビスシクロペン
タジエニルジルコニウムジクロライドと接触させたトリ
メチルアルミニウムに由来するアルミニウム1gあたり
の共重合体生成量は11000gであった。
エニルジルコニウムジクロライド15.1mgを採取
し、フラスコ内を窒素置換した後、n−ヘプタン50m
lを添加し、スラリーとした。別途、トリメチルアルミ
ニウム1.99g、市販のモンモリロナイト6.21g
をそれぞれ採取し、n−ヘプタンをそれぞれ10ml、
40ml添加した。ビスシクロペンタジエニルジルコニ
ウムジクロライドスラリーを激しく攪拌しながらこれに
室温でトリメチルアルミニウム溶液を滴下し、ついでモ
ンモリロナイトスラリーを滴下した。ガスの発生をとも
なって発熱した。滴下終了後、攪拌を2時間続け、灰色
のスラリーを得た。触媒スラリー中のジルコニウム濃度
は、0.49μmol/mlであった。
レーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン300m
l、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.1
8mM)1.9ml、上記触媒スラリー3.9mlを順
次導入した。混合液を70℃に昇温した後エチレン分圧
が9kgf/cm2 となるようにエチレンを導入し、1
5分重合を行った。そののちエチレンの供給をとめ、エ
タノールを導入して重合を停止させた。その後オートク
レーブ内容物を30℃まで降温してから内部のガスをパ
ージし、粉末ポリエチレン244gを得た。遷移金属触
媒成分1gあたりの重合体生成量は、4.4×105 g
であった。またトリメチルアルミニウムに由来するアル
ミニウム1gあたりの重合体生成量は8800gであっ
た。
レーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン300m
l、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.1
8mM)1.9ml、上記触媒スラリー3.9mlを順
次導入した。更に液体プロピレン600mlを導入し
た。混合液を70℃に昇温した後エチレン分圧が7.6
kgf/cm2 となるようにエチレンを導入し、16分
重合を行った。そののちエチレンの供給をとめ、エタノ
ールを導入して重合を停止させた。その後オートクレー
ブ内容物を30℃まで降温してから内部のガスをパージ
し、エチレン−プロピレン共重合体302gを得た。遷
移金属触媒成分1gあたりの共重合体生成量は、5.4
×105 gであった。また、トリメチルアルミニウムに
由来するアルミニウム1gあたりの共重合体生成量は1
1000gであった。
20Å以上の細孔容積が0.791cc/gであるバー
ミキュライト3.12gを採取し、フラスコ内を窒素置
換した後、n−ヘキサン50.8mlを添加し、スラリ
ーとした。別途、トリメチルアルミニウム1.25gを
n−ヘキサン20.6mlに溶解した。バーミキュライ
トスラリーを攪拌しながら、これに室温で上記トリメチ
ルアルミニウム溶液をゆっくり滴下した。適宜冷却しな
がら攪拌を2時間続け、スラリーを得た。
ジクロライドを室温で窒素雰囲気下、トリメチルアルミ
ニウムのトルエン溶液(トリメチルアルミニウムとして
23.8μmol)と30分間予備接触させ、さらに上
記の実施例11(1)によって製造された触媒成分スラ
リー5.0mlと20分間予備接触させた。
拌式オートクレーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサ
ン300ml及び上記触媒成分接触混合物を導入した。
更に液体プロピレン600mlを導入した。混合液を7
0℃に昇温した後エチレン分圧が7.6kgf/cm2
となるようにエチレンを導入し、1時間重合を行った。
その後、エチレンの供給を止め、エタノールを導入して
重合を停止させた。その後オートクレーブ内容物を30
℃まで降温してから内部のガスをパージし、エチレン−
プロピレン共重合体55.6gを得た。ジルコニウム1
gあたりの共重合体生成量は、1.3×105 gであっ
た。また、バーミキュライトおよびビスシクロペンタジ
エニルジルコニウムジクロライドと接触させたトリメチ
ルアルミニウムに由来するアルミニウム1gあたりの共
重合体生成量は1700gであった。
20Å以上の細孔容積が0.712cc/gであるスメ
クトンSA−1 (クニミネ工業(株)社製)4.11g
を採取し、フラスコ内を窒素置換した後、n−ヘキサン
81.2mlを添加し、スラリーとした。別途、トリメ
チルアルミニウム1.92gをn−ヘキサン20.2m
lに溶解した。スメクトンSA−1スラリーを攪拌しな
がら、これに室温で上記トリメチルアルミニウム溶液を
ゆっくり滴下した。適宜冷却しながら攪拌を2時間続
け、スラリーを得た。
ジクロライドを室温で窒素雰囲気下、トリメチルアルミ
ニウムのトルエン溶液(トリメチルアルミニウムとして
21.9μmol)と30分間予備接触させ、さらに上
記の実施例12(1)によって製造された触媒成分スラ
リー4.3mlとを20分間予備接触させた。
合体48.4gを得た。ジルコニウム1gあたりの共重
合体生成量は、1.2×105 gであった。また、スメ
クトンSA−1およびビスシクロペンタジエニルジルコ
ニウムジクロライドと接触させたトリメチルアルミニウ
ムに由来するアルミニウム1gあたりの共重合体生成量
は1600gであった。
スシクロペンタジエニルジルコニウムジクロライド0.
72mgのトルエン溶液を採取し、室温で攪拌しながら
トリメチルアルミニウム1.3mmolを添加した。別
途、100ml丸底フラスコに水銀圧入法で測定した半
径20Å以上の細孔容積が0.670cc/gであるマ
イカ3.33gを採取し、フラスコ内を窒素置換した
後、n−ヘキサン63.9mlを添加し、スラリーとし
た。このスラリー4.9mlを上記のビスシクロペンタ
ジエニルジルコニウムジクロリドとトリメチルアルミニ
ウムの接触物に、室温で添加した。添加終了後、室温で
1時間攪拌を行い、触媒スラリーを得た。
レーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン300m
l、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.1
8mM)2.4ml、次いで上記触媒スラリーを全量導
入した。更に液体プロピレン600mlを導入した。混
合液を70℃に昇温した後エチレン分圧が7.6kgf
/cm2 となるようにエチレンを導入し、1時間重合を
行った。その後エチレンの供給を止め、エタノールを導
入して重合を停止させた。その後オートクレーブ内容物
を30℃まで降温してから内部のガスをパージし、エチ
レン−プロピレン共重合体42.9gを得た。ジルコニ
ウム1gあたりの共重合体生成量は、1.9×105 g
であった。また、トリメチルアルミニウムに由来するア
ルミニウム1gあたりの共重合体生成量は1200gで
あった。
成 オキシ塩化ジルコニウム八水和物(和光純薬;特級)6
4.45gを純水1リットルに溶解し、モンモリロナイ
ト6.0gを加えスラリー状にした。70℃で1時間攪
拌した後、ろ過し、熱純水500mlで洗浄した。その
後、室温で一晩風乾し、表記化合物を得た。
エニルジルコニウムジクロライド10.0mgを採取
し、フラスコ内を窒素置換した後、n−ヘプタン10m
lを添加し、スラリーとした。別途、トリメチルアルミ
ニウム1.21g、上記実施例14 (1)で合成したジ
ルコニウム−モンモリロナイト層間化合物3.0gを採
取し、n−ヘプタンをそれぞれ20ml添加した。ビス
シクロペンタジエニルジルコニウムジクロライドスラリ
ーを激しく攪拌しながらこれに室温でトリメチルアルミ
ニウム溶液を滴下し、ついでジルコニウム−モンモリロ
ナイト層間化合物スラリーを滴下した。ガスの発生をと
もなって発熱した。滴下終了後、攪拌を2時間続け、灰
色の触媒スラリーを得た。スラリー中のビスシクロペン
タジエニルジルコニウムジクロライド由来のジルコニウ
ム濃度は、0.65μmol/mlであった。
トクレーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン500
ml、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.
18mM)1.9ml、上記触媒スラリー3.0mlを
順次導入した。混合液を70℃に昇温した後エチレン分
圧が9kgf/cm2 となるようにエチレンを導入し、
1時間重合を行った。そののちエチレンの供給をとめ、
エタノールを導入して重合を停止させた。その後オート
クレーブ内容物を30℃まで降温してから内部のガスを
パージし、粉末ポリエチレン42gを得た。ビスシクロ
ペンタジエニルジルコニウムジクロライドに由来するジ
ルコニウム1gあたりのポリエチレン生成量は、1.0
×106 gであった。また、トリメチルアルミニウムに
由来するアルミニウム1gあたりのポリエチレン生成量
は7000gであった。
レーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン300m
l、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.1
8mM)1.9ml、上記触媒スラリー3.0mlを順
次導入した。更に液体プロピレン600mlを導入し
た。混合液を70℃に昇温した後エチレン分圧が7.6
kgf/cm2 となるようにエチレンを導入し、1時間
重合を行った。そののちエチレンの供給をとめ、エタノ
ールを導入して重合を停止させた。その後オートクレー
ブ内容物を30℃まで降温してから内部のガスをパージ
した。その結果、Mw/Mnが2.2であるエチレン−
プロピレン共重合体217gを得た。ビスシクロペンタ
ジエニルジルコニウムジクロライドに由来するジルコニ
ウム1gあたりの共重合体生成量は、1.2×106 g
であった。また、トリメチルアルミニウムに由来するア
ルミニウム1gあたりの共重合体生成量は8300gで
あった。
エニルジルコニウムジクロライド50mgを採取し、フ
ラスコ内を充分窒素置換した後、n−ヘプタン10ml
を添加し、スラリーとした。別途、トリメチルアルミニ
ウム1.25g、実施例14 (1)で合成したジルコニ
ウム−モンモリロナイト層間化合物3.0gをそれぞれ
採取し、n−ヘプタンをそれぞれ20ml添加した。ビ
スシクロペンタジエニルジルコニウムジクロライドスラ
リーを激しく攪拌しながらこれに室温でトリメチルアル
ミニウム溶液を滴下し、ついでジルコニウム−モンモリ
ロナイト層間化合物スラリーを滴下した。ガスの発生を
ともなって発熱した。滴下終了後、攪拌を2時間続け、
灰色のスラリーを得た。触媒スラリー中のジルコニウム
濃度は、3.3μmol/mlであった。
雰囲気下、室温で上記触媒スラリー40mlを分取し、
トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(196mM)
6.7mlを添加した。その後、系内にエチレンガスを
導入し、室温で3時間前重合した。その後、上澄液を除
去し、ヘキサンで洗浄した。この反応により、ジルコニ
ウム−モンモリロナイト層間化合物1gに対して、ビス
シクロペンタジエニルジルコニウムジクロライドに由来
するジルコニウム35.8μmol、トリメチルアルミ
ニウムに由来するアルミニウム4.25mmol、ポリ
エチレン3.8gを含有する固体触媒を得た。
トクレーブに、窒素気流下、室温で乾燥塩化ナトリウム
150g、上記固体触媒をビスシクロペンタジエニルジ
ルコニウムジクロライド由来のジルコニウムあたり8.
5μmol、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液
(10.18mM)8.4mlを導入した。オートクレ
ーブの内容物を70℃に昇温した後、エチレン分圧が9
kgf/cm2 となるようにエチレンを導入し、1時間
重合を行った。その後、オートクレーブの内容物を水洗
して塩化ナトリウムを除いた後、重合体をヘキサンで洗
浄した。その結果、嵩比重が0.45g/cm3 であ
り、Mw/Mnが2.3である粉末ポリエチレン127
gを得た。ビスシクロペンタジエニルジルコニウムジク
ロライド由来のジルコニウム1gあたりのポリエチレン
生成量は1.6×105g、また、トリメチルアルミニ
ウムに由来するアルミニウム1gあたりのポリエチレン
生成量は4300gであった。
ナイト層間化合物を400℃で4時間空気焼成してジル
コニウム架橋モンモリロナイトを得た。
エニルジルコニウムジクロライド7.5mgを採取し、
フラスコ内を窒素置換した後、n−ヘプタン10mlを
添加し、スラリーとした。別途、トリメチルアルミニウ
ム0.93g、上記実施例16 (1)で合成したジルコ
ニウム架橋モンモリロナイト2.9gを採取し、n−ヘ
プタンをそれぞれ20ml添加した。ビスシクロペンタ
ジエニルジルコニウムジクロライドスラリーを激しく攪
拌しながらこれに室温でトリメチルアルミニウム溶液を
滴下し、ついでジルコニウム架橋モンモリロナイトスラ
リーを滴下した。ガスの発生をともなって発熱した。滴
下終了後、攪拌を2時間続け、灰色の触媒スラリーを得
た。スラリー中のビスシクロペンタジエニルジルコニウ
ムジクロライドに由来するジルコニウム濃度は、0.5
0μmol/lであった。
レーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン300m
l、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.1
8mM)2.2ml、上記触媒スラリー4.4mlを順
次導入した。更に液体プロピレン600mlを導入し
た。混合液を70℃に昇温した後エチレン分圧が7.6
kgf/cm2 となるようにエチレンを導入し、1時間
重合を行った。そののちエチレンの供給をとめ、エタノ
ールを導入して重合を停止させた。その後オートクレー
ブ内容物を30℃まで降温してから内部のガスをパージ
した。その結果、Mw/Mnが2.2であるエチレン−
プロピレン共重合体199gを得た。ビスシクロペンタ
ジエニルジルコニウムジクロライドに由来するジルコニ
ウム1gあたりの共重合体生成量は、1.0×106 g
であった。また、トリメチルアルミニウムに由来するア
ルミニウム1gあたりの共重合体生成量は6600gで
あった。
成 塩化アルミニウム六水和物(和光純薬;特級)60.4
gを純水250mlに溶解し、これに金属アルミニウム
粉末(和光純薬)54.0gを加えた。これを、湯浴上
で加熱しながら攪拌し、水素を穏やかに発生させた。水
素の発生が終了した後、未反応アルミニウム粉末を濾別
し、アルミニウムクロロヒドロキシド錯体溶液を得た。
この溶液にモンモリロナイト20gを添加し、70℃で
1時間攪拌した。得られたスラリーを濾過し、熱純水5
00mlで洗浄した。その後、室温で一晩風乾し、表記
化合物を得た。
エニルジルコニウムジクロライド21.2mgを採取
し、フラスコ内を窒素置換した後、n−ヘプタン10m
lを添加し、スラリーとした。別途、トリメチルアルミ
ニウム2.61g、上記実施例17 (1)で合成したア
ルミニウム−モンモリロナイト層間化合物3.1gを採
取し、n−ヘプタンをそれぞれ20ml添加した。ビス
シクロペンタジエニルジルコニウムジクロライドスラリ
ーを激しく攪拌しながらこれに室温でトリメチルアルミ
ニウム溶液を滴下し、ついでアルミニウム−モンモリロ
ナイト層間化合物スラリーを滴下した。ガスの発生をと
もなって発熱した。滴下終了後、攪拌を2時間続け、灰
色の触媒スラリーを得た。スラリー中のビスシクロペン
タジエニルジルコニウムジクロライド由来のジルコニウ
ム濃度は、1.32μmol/mlであった。
レーブに、窒素気流下、室温でn−ヘキサン300m
l、トリメチルアルミニウムのトルエン溶液(10.1
8mM)2.6ml、上記触媒スラリー2.0mlを順
次導入した。更に液体プロピレン600mlを導入し
た。混合液を70℃に昇温した後エチレン分圧が7.6
kgf/cm2 となるようにエチレンを導入し、1時間
重合を行った。そののちエチレンの供給をとめ、エタノ
ールを導入して重合を停止させた。その後オートクレー
ブ内容物を30℃まで降温してから内部のガスをパージ
した。その結果、Mw/Mnが2.2であるエチレン−
プロピレン共重合体54gを得た。ビスシクロペンタジ
エニルジルコニウムジクロライドに由来するジルコニウ
ム1gあたりの共重合体生成量は、2.2×105 gで
あった。また、トリメチルアルミニウムに由来するアル
ミニウム1gあたりの共重合体生成量は1500gであ
った。
以外は、同様の操作によって、エチレンを重合した。す
なわち、2.5mgのビスシクロぺンタジエニルジルコ
ニウムジクロライドを室温で、窒素雰囲気下、0.01
79Mトリメチルアルミニウムのトルエン溶液4.8m
Lと30分間予備接触させ、さらにトリメチルアルミニ
ウム7.21gを100mLのトルエンに溶解した溶液
4.7mLを添加し、20分接触させた。以下、実施例
1(2)と同じ条件でエチレンを重合し、エタノ−ルで
停止後0.29gの固体物を回収した。このうちトリメ
チルアルミニウム由来の無機固体物を除いたポリマーの
生成量は、0.09gであつた。したがってメタロセン
遷移金属錯体1gあたりのポリマー生成量は36gとな
る。また、トリメチルアルミニウムに由来するアルミニ
ウム1gあたりのポリマー生成量は0.76gであっ
た。
単位量当たりの重合活性が画期的に向上するだけでな
く、従来の技術におけるアルミノキサンの使用をまった
く必要とせずに、アルミノキサン使用に優るメタロセン
系遷移金属化合物単位量当たりの重合活性も得られる。
また、分子量分布が狭くしかも二種以上のオレフィンの
共重合に適用した場合には、分子量分布および組成分布
が狭いオレフィン重合体を極めて高い重合活性で得るこ
とができるため、得られた重合体から触媒残渣を除去す
る必要がなく工業的に極めて有用である。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記〔B〕及び〔C〕を接触して得られ
る反応生成物と〔A〕とからなることを特徴とする、オ
レフィン重合用触媒。 〔A〕メタロセン系遷移金属化合物であって、前記遷移
金属がチタニウム、ジルコニウム、及びハフニウムから
なる群から選択されるもの 〔B〕カオリン、ウンモ群、モンモリロナイト群および
バーミキュライトからなる群から選択される物質であっ
て、水銀圧入法により測定した半径20Å以上の細孔容
積が0.3〜5cc/gのもの 〔C〕トリアルキルアルミニウム化合物 - 【請求項2】 前記〔A〕が下記一般式〔1〕もしくは
〔2〕で表される化合物である、請求項1に記載のオレ
フィン重合用触媒。 【化1】 R1 m(CpR2 n)(CpR2 n)MR3 2 ・・・〔1〕 [R1 m(CpR2 n)(CpR2 n)MR3R4]+R5- ・・・〔2〕 (但し、〔1〕、〔2〕式中、(CpR2 n)は同一でも
異なっていてもよいシクロペンタジエニル基または置換
シクロペンタジエニル基を表し、R1は、炭素、ケイ
素、ゲルマニウム等の長周期表の第14族元素を含む共
有結合架橋基であり、各R2は同一または異なっていて
もよい水素、ハロゲン、珪素含有基、ハロゲン置換基を
有していてもよい炭素数が1ないし20の炭化水素基、
アルコキシ基、アリールオキシ基であり、2個のR2が
シクロペンタジエニル環の隣接する2個の炭素原子に存
在する場合には、互いに結合してC4〜C6環を形成して
もよい。R3は、同一または異なっていてもよい水素、
ハロゲン、珪素含有基、ハロゲン置換基を有していても
よい炭素数が1〜20の炭化水素基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基であり、mは0または1であり、各nは
n+m=5となる整数であり、Mはチタニウム、ジルコ
ニウム、及びハフニウムからなる群から選択される金属
であり、R4はMに配位する中性の配位子であり、R5-
は上記金属カチオンを安定化させることのできる対アニ
オンを示す。) - 【請求項3】 請求項1〜2のいずれかに記載のオレフ
ィン重合用触媒を用いて、オレフィンを単独重合又は共
重合させることを特徴とするオレフィン重合体の製造方
法。
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