JP3402595B2 - 感光性樹脂版の現像方法及び現像装置 - Google Patents

感光性樹脂版の現像方法及び現像装置

Info

Publication number
JP3402595B2
JP3402595B2 JP2000525792A JP2000525792A JP3402595B2 JP 3402595 B2 JP3402595 B2 JP 3402595B2 JP 2000525792 A JP2000525792 A JP 2000525792A JP 2000525792 A JP2000525792 A JP 2000525792A JP 3402595 B2 JP3402595 B2 JP 3402595B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
photosensitive resin
plate
resin plate
developing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000525792A
Other languages
English (en)
Inventor
展夫 小川
務 小島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Corp filed Critical Asahi Kasei Corp
Application granted granted Critical
Publication of JP3402595B2 publication Critical patent/JP3402595B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3092Recovery of material; Waste processing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3085Imagewise removal using liquid means from plates or webs transported vertically; from plates suspended or immersed vertically in the processing unit

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、感光性樹脂版の現像方法及び該方法に使用
する現像装置に関する。
背景技術 水現像系感光性樹脂版の製版で行われる現像方法とし
ては、例えば、露光完了後の感光性樹脂版の版面に界面
活性剤を主成分とした水系の現像液を吹き付けるか及び
/又は該版面に現像液を介してブラシを接触させて未露
光部の未硬化樹脂を該現像液に溶解させ、これにより、
露光部の硬化樹脂のみを残して該樹脂版にレリーフ画像
を形成するようにしたものが知られている。
感光性樹脂版の版面に界面活性剤を主成分とした水系
の現像液を吹き付ける手段としては、一般にスプレー装
置による噴霧が多く用いられるが、その他にパドル装置
等を用いた現像液の吹き付けも行われる。
スプレー装置は、一般に、現像液槽の液面上方に配置
された感光性樹脂版の版面に現像液を吹き付けるスプレ
ーノズルと、現像液槽内の現像液をスプレーノズルに循
環供給する循環供給ポンプとを備えている。
版面に現像液を吹き付けるようにした従来の感光性樹
脂版の現像方法においては、比較的少ない製版数で現像
液が劣化して、次に示す不具合を引き起こしている。
即ち、現像液中に溶解又は分散された未硬化樹脂の濃
度が比較的少ない現像回数で2〜3重量%まで上昇して
該現像液の現像機能が低下してしまい、溶解・分散でき
ずに現像液中に残った未硬化樹脂が循環供給ポンプを介
してスプレーノズルから現像液と共に吹き付けられてレ
リーフ画像の表面に再付着し、画像品質を劣化させてし
まう。
また、スプレーノズルから版面へ現像液を吹き付けた
際の泡の発生を防止する目的で現像液槽の現像液中にシ
リコーンなどの消泡剤が多量に加えられるが、このシリ
コーンなどに含まれる油分が遊離して版面に付着してし
まい、該付着油分が印刷に使用される水性インキをはじ
いて印刷物の品質を低下させてしまう。
従って、このような不具合をなくすために、従来にお
いては、比較的少ない製版数で現像液の交換を行ってお
り、製版作業の効率の低下を招くばかりでなく、現像廃
液を増加させる原因になっている。
このため、当業界においては、現像液の寿命を延ば
し、一定量の現像液で現像できる版数を増やせるように
して、製版作業効率の向上及び現像廃液を減少を達成で
きる技術が要望されているが、このような要望に応える
ためには、シリコーン等の消泡剤から遊離する油分を極
力少なくすると共に、版面の現像液に含まれる未硬化樹
脂が現像液槽内の現像液に溶け込む前に該未硬化樹脂を
除去することが必要になる。
更に詳述すると、現像液中の未硬化樹脂はアニオン系
及び/又はノニオン系界面活性剤の働きで分散される
が、同時に版面に現像液をスプレーする際にスプレー圧
で版面から吹き飛ばされた未硬化樹脂が充分に分散して
いない油滴の状態で現像液槽内の現像液中に溶け込み、
循環供給ポンプを介してスプレーノズルから現像液と共
に版面に吹き付けられて該版面に再付着する。
また、消泡剤については、消泡剤自身が循環供給ポン
プのインペラを通過する際に、インペラのせん断力によ
りエマルジョン破壊を起こしやすく、このため、原料の
シリコーンなどが油分(オイルスポット)として現像液
中に遊離浮遊し、これがスプレーノズルから版面に吹き
付けられて該版面に付着すると印刷に使用される水性イ
ンキをはじき、印刷トラブルを発生させる原因になる。
従って、これらの未硬化樹脂及びシリコーンなどのオ
イルスポットを版面に再付着する前に除去することが、
現像液の寿命を延ばすために必要になってくる。
なお、現像液中の未硬化樹脂やシリコーンなどの油分
を除去する方法として、蒸留や濾過による現像液の再生
が考えられる。
しかしながら、減圧蒸留による現像液の再生方法は、
樹脂成分が熱交換部に固着し易く、従って、熱交換部の
電熱効率が低下するのを防ぐために、事前に凝集沈殿処
理などによりヘドロ状の樹脂分を取り除いておく必要が
あり、該樹脂の取り扱いが困難であるという問題があ
る。
また、限外濾過膜、逆浸透膜又はイオン交換膜などの
膜による現像液再生方法があるが、粘着性のある未硬化
樹脂が膜を閉塞させるため、膜の寿命が短くなり、事前
に凝集沈殿処理などにより樹脂分を取り除いておく必要
があり、これも樹脂の取り扱いが困難である。
更に、濾過材をカートリッジ状にして現像液供給配管
中に設置するいわゆるカートリッジ方式のフィルター
も、現像液中の未硬化樹脂がフィルターの目を通過して
しまい現像液を再生するのは不可能である。
本発明はこのような背景技術を鑑みてなされたもので
あり、シリコーン等の消泡剤から遊離する油分を極力少
なくすると共に、版面の現像液に含まれる未硬化樹脂が
現像液槽内の現像液に溶け込む前に該未硬化樹脂を除去
し、これにより、現像液の寿命を延ばして一定量の現像
液で現像できる版数を増やせるようにし、製版作業効率
の向上及び現像廃液を減少を達成することができるよう
にした感光性樹脂版の現像方法及び現像装置を提供する
ことを目的とする。
発明の開示 かかる目的を達成するために、本発明に係る感光性樹
脂版の現像方法は、現像液槽内に収容された界面活性剤
を含む現像液を該現像液槽の液面上方に配置された感光
性樹脂版の版面に循環供給するようにした感光性樹脂版
の現像方法であって、 前記現像液槽の液面又は液面近傍に消泡剤を含浸させ
た多孔シートを配設して、前記感光性樹脂版の版面から
落下した現像液が該多孔シートを通過するようにしたこ
とを特徴とする。
また、本発明に係る感光性樹脂版の現像装置は、界面
活性剤を含む現像液が収容される現像液槽と、該現像液
槽の液面上方に配置された感光性樹脂版を支持する版支
持機構と、該感光性樹脂版の版面に前記現像液槽内の現
像液を循環供給する現像液循環供給機構とを備えた感光
性樹脂版の現像装置において、 前記現像液槽の液面又は液面近傍に消泡剤を含浸させ
た多孔シートを配設したことを特徴とする。
界面活性剤としては、アニオン系及び/又はノニオン
系の界面活性剤を用いることができ、また、多孔シート
に含浸させる消泡剤としては、シリコーン樹脂系消泡剤
が好ましく、更に、感光性樹脂版の版面に現像液を循環
供給する手段(現像液循環供給機構)としては、版面に
現像液を吹き付けるスプレーノズルと、現像液槽内の現
像液をスプレーノズルに循環供給する循環供給ポンプと
を備えたスプレー装置等が挙げられる。
アニオン系及び/又はノニオン系の界面活性剤を使用
する水現像系感光性樹脂版の現像方法において、現像液
槽の液面又は液面近傍に配設された消泡剤を含浸させた
多孔シートを感光性樹脂版の版面から落下した現像液が
通過することにより、多孔シートに含浸させた消泡剤が
現像液に効率良く溶け込み、泡が消えた状態で現像液が
現像液槽に供給されるため、循環供給ポンプのキャビテ
ーション現象が発生せずに消泡効果が持続し、また、現
像液に溶け込む消泡剤の量を最適量に制御することがで
きる。
さらに、消泡剤の量を少なくすることができるため、
過剰量の消泡剤による原料シリコーンなどのオイルスポ
ットの発生を押さえることができる。
多孔シートに親油性物質を使用することは、消泡剤の
保持機能を持続できることだけでなく、現像液を版面に
吹き付けた際に版面から吹き飛ばされた現像液に充分に
分散していない未硬化樹脂を、現像液が該シートを通過
する時に吸着除去する上で好ましい。
本発明の多孔シートとは、多孔質吸収体をシート状に
加工したもであるが、繊維(編み物、織物や不織布)を
シート状に加工したものが使い易さの面で好ましい。ま
た、多孔シートの素材としては、疎水性で親油性の高い
性質を持つポリエステル、アクリル、ポリエチレン、ポ
リプロピレンなどが使用できるが、ポリエチレン及び/
又はポリプロピレン繊維で作られたシート状のものが親
油性が高く、しかも、比重も軽く使い易いため特に好ま
しい。
但し、これらの繊維に限定されることはなく、他の繊
維も使用することができるのは勿論である。また、現像
液中に繊維が浮遊すると現像中の感光性樹脂版の版面に
繊維が付着して品質低下の恐れがあるので、繊維長は長
いものを使用することが好ましい。なお、長繊維不織布
も好適に用いることができる。
多孔シートの密度は、0.02g/cm3 以上が吸収
機能及び強度の面で好ましく、0.2g/cm3 以下が
現像液の通過抵抗が少なくて使いやすい。
多孔シートの厚みは、1〜10mm程度のものを単層
または積層して使用して良いが、全体の厚みが5cm以
下である方が、取り扱い上好ましい。
また、多孔シートの繊維表面に、油剤として撥水剤、
例えばアルキルリン酸系撥水剤を使用して撥水効果を持
たせ、油分の吸着効率を高めることは有効である。
多孔シートを現像液槽内の液面近傍に設置するには、
例えば多孔シートが載置される網状体を有するネット付
き架台、又は多孔シートに引っ張り力を付与した状態で
該多孔シートを支持する引っ張り治具等を用いて液面近
傍に固定すればよい。
多孔シートの比重が1より小さい場合は、多孔シート
を現像液槽の液面に浮かしたままにしてもよいし、多孔
シートの端部を引っ張り治具で軽く引っ張って固定する
こともできる。また、多孔シート自体に補強材を通して
液面近傍に固定してもよいし、多孔シートに剛性があれ
ば該シートの端部を現像液槽に固定してもよい。
多孔シートの設置は、現像液槽内の液面からあまり離
れると現像液が現像液槽に落下する際の衝撃で発泡して
消泡効果が少なくなるので、液面近傍に設けるが、この
場合、液面表面を含み液面上方に20cm以内に設置す
るか、液面下方に設置するのであれば液面下方5cm以
内に設置するのが好ましい。多孔シートは現像液槽内の
液面面積で現像液が通過できる範囲の全面積を覆うこと
が好ましいが、少なくとも現像液が通過できる液面面積
の80%以上を覆う大きさで使用することが多孔シート
を通過しないで流れる現像液の量を制御する上で有効で
ある。
なお、多孔シートに現像液を通過させる際に、現像液
を加圧した状態で通過させると、多孔シートの目が開い
たり、多孔シート通過後の現像液が大気圧に戻る際に発
泡し易くなるので、現像液は加圧せず、液の自重及び重
力で多孔シートを通過させるようにするのが好ましい。
また、多孔シートに消泡剤を含浸させる方法として
は、多孔シートに使用される繊維に消泡剤を予め含浸さ
せておいてもよいが、現像液を準備する工程で、多孔シ
ートを現像液槽に設置した状態で該シート表面に適量に
希釈した消泡剤を該シート表面全体に均一に含浸させる
方法、又は現像液を準備する工程で多孔シート表面に適
量に希釈した消泡剤を該シート表面全体に均一に含浸さ
せた後に該シートを現像液槽に設置する方法が簡便で好
ましい。
現像液の主成分である界面活性剤としては、アニオン
系の界面活性剤又はノニオン系界面剤をそれぞれ単独
で、あるいは両方を併用して用いることができる。
アニオン系界面活性剤の代表例としては、例えば直鎖
アルキルベンゼンスルホン酸、α−オレフィンスルホン
酸、ジアルキルスルホコハク酸、脂肪酸低級アルキルエ
ステルのスルホン酸、アルキル硫酸、アルキルエーテル
硫酸、飽和若しくは不飽和脂肪酸など、又はこれらのポ
リオキシアルキレン付加物のナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属塩、及びアンモニウム、モノエタノール
アミン、ジエタノールアミンなどのアルカノールアミン
塩等が挙げられる。
また、ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシアル
キレンアルキル若しくはアルケニルエーテル又はその末
端アルキル化物、ポリオキシアルキレンアルキル若しく
はアルケニルフェニルエーテル又はその末端アルキル化
物、ポリオキシアルキレンアルキル又はアルケニキシド
/プロピレンオキシドブロック付加物(プルロニック型
界面活性剤)を挙げることができる。
感光性樹脂版の感光性樹脂としては、末端に反応性二
重結合を持ったプレポリマー(例えば、不飽和ポリウレ
タンプレポリマー)を含む液体状感光性樹脂版が本発明
の作用効果を得る上に特に好ましい。
図面の簡単な説明 図1は本発明の第1の実施の形態である感光性樹脂版
の現像方法に用いる現像装置を説明するための説明的概
略図である。
図2は本発明の第2の実施の形態である感光性樹脂版
の現像方法に用いる現像装置を説明するための説明的概
略図である。
図3はネット付き架台の概略斜視図である。
図4は引っ張り治具の概略斜視図である。
図5は本発明の第3の実施の形態である感光性樹脂版
の現像方法に用いる現像装置を説明するための説明的概
略図である。
発明を実施するための最良の形態 以下、本発明の実施の形態を図を参照して説明する。
まず、本発明の第1の実施の形態である感光性樹脂版
の現像方法に用いる現像装置から説明すると、この現像
装置は、図1に示すように、消泡剤界面活性剤を主成分
とした現像液2が収容される現像液槽1と、該現像液槽
1の液面上方に配置された露光完了後の感光性樹脂版5
を支持する版支持機構8と、該感光性樹脂版5の版面に
現像液槽1内の現像液を循環供給する現像液循環供給機
構と、現像液槽1の液面近傍に設置されて感光性樹脂版
5から落下する現像液2を通過させる多孔シート6とを
備える。
感光性樹脂版5は、版支持機構8にクランプ、クリッ
プ又は接着テープ等を介して垂直に支持されている。
現像液循環供給機構は、感光性樹脂版5の版面に現像
液2を吹き付けるスプレーノズル4と、現像液槽1内の
現像液2を配管10を介してスプレーノズル4に循環供
給する循環供給ポンプ3とによって構成されている。
多孔シート6の表面には消泡剤がまんべんなく含浸さ
れている。また、多孔シート6は現像液槽1の内面側に
取り付けられた引っ張り治具9(図4参照)によって現
像液面の上方に支持固定されている。該固定状態におい
ては、多孔シート6は引っ張り治具9のコイルばね9a
によって引っ張り力が付与されている。なお、図におい
て符号7は現像液槽1内で劣化した現像液を排水するた
めの排水バルブである。
かかる構成の現像装置においては、現像を開始する
と、現像液槽1内の現像液2が循環供給ポンプ3により
配管10を介してスプレーノズル4から感光性樹脂版5
の版面に吹き付けられる。
感光性樹脂版5の版面に現像液2が吹き付けられる
と、版面上の未硬化樹脂が現像液2に溶解されて版面か
ら除去され、該未硬化樹脂を含む現像液2は多孔シート
6上に落下して該多孔シート6を通過する。このとき、
多孔シート6によって現像液2に含まれる未硬化樹脂の
一部が除去され、また、多孔シート6に含浸された消泡
剤が現像液2に溶け込み、該現像液2は消泡されながら
現像液槽1に戻される。
現像液槽1に戻された現像液2は、上記同様に、循環
供給ポンプ3により配管10を介してスプレーノズル4
に循環供給され、該スプレーノズル4から感光性樹脂版
5の版面に吹き付けられる。このように現像液槽1内の
現像液2を感光性樹脂版5の版面に循環供給することに
より、現像が行われる。
実施例1 液体状感光性樹脂版「APR<登録商標>フレックス
樹脂XF729」(旭化成工業(株)製)をAWF11
0E露光線(旭化成工業(株)製)で露光した後、AW
F110W現像機(旭化成工業(株)製:版垂直固定、
スプレー噴霧(図1の現像装置と同一構成))に、30
0リットルの温水を供給し、APR<登録商標>ウオッ
シュアウト剤XW10(旭化成工業(株)製)2重量
%、界面活性剤に溶解したベンゾフェノン0.16重量
%を温水に溶解させた現像液を準備した。
次に、ポリエチレンとポリプロピレン繊維からなる多
孔シート(厚さ5mm、密度0.04g/cm3 )を現
像液槽の液面面積に合わせて該液面の全面を覆う目的で
切断し、これを現像液槽内の現像液の液面上方に引っ張
り治具を用いて支持固定し、次いで、シリコーン製消泡
剤APR消泡剤TYPESH−4(旭化成工業(株)
製)を0.3重量%ほど水に溶解させたものを多孔シー
トの表面にまんべんなく含浸させた。
この条件で露光、現像作業を実施した。
現像工程では、スプレーノズルから液体状感光性樹脂
版の版面に吹き付けられた現像液が版面から落下して多
孔シート表面を通過し、現像液槽に戻されて循環供給ポ
ンプによって再度スプレーノズルから液体状感光性樹脂
版の版面に循環して吹き付けられるが、多孔シート表面
で発泡した現像液が効果的に消泡されることが確認でき
た。
現像を繰り返し、12版(現像液の溶存樹脂濃度が2
重量%相当)になったところで、現像液の劣化が見られ
ないので、現像を継続することにした。
現像を継続するに際し、現像液が現像中に供給される
版水洗水で薄められてきたので、ウオッシュアウト剤X
W10を1重量%とベンゾフェノン0.08重量%を多
孔シートに含浸させないように該シートの端をめくって
現像液槽内へ直接追加した。
露光、現像を繰り返し、24版になったところで、ウ
オッシュアウト剤XW10を1重量%とベンゾフェノン
0.08重量%を上記同様にして追加し、現像液が発泡
してきたので、SH−4消泡剤を従来の半分の0.15
%だけ水に溶解させたものを多孔シートの表面にまんべ
んなく含浸させた。
その後も露光、現像を繰り返し、34版目になったと
ころで現像を中止したが、現像不良もなく現像液の劣化
が見られず、従来の2〜3倍以上の現像版数を得ること
ができた。
現像終了後、排水バルブを開いて現像液槽内の現像液
を排水し、多孔シートも未溶解樹脂を含む油分を含んで
汚れていたので廃棄した。
この現像工程で使用したウオッシュアウト剤やベンゾ
フェノンの添加量は従来の2/3であり、消泡剤添加量
も従来の1/2の量で材料を節約でき、且つ、現像液の
寿命を延長できた。
次に、本発明の第2の実施の形態である感光性樹脂版
の現像方法に用いる現像装置を図2を参照して説明す
る。
この現像装置は、消泡剤界面活性剤を主成分とした現
像液12が収容される現像液槽11と、該現像液槽11
の液面上方に配置された露光完了後の感光性樹脂版15
を支持する版支持機構18と、該感光性樹脂版15の版
面に現像液槽11内の現像液を循環供給する現像液循環
供給機構と、現像液槽1の液面近傍に設置されて感光性
樹脂版15から落下する現像液12を通過させる多孔シ
ート16とを備える。
感光性樹脂版15は軸線を水平方向に向けて配置され
たドラム状の版支持機構18の外周面にクランプ、クリ
ップ又は接着テープ等を介して支持されている。
現像液循環供給機構は、感光性樹脂版15の版面に現
像液を吹き付けるスプレーノズル14と、現像液槽1内
の現像液を配管20を介してスプレーノズル14に循環
供給する循環供給ポンプ13とによって構成されてい
る。
多孔シート16の表面には消泡剤がまんべんなく含浸
されている。また、多孔シート16は予め製作しておい
たネット付き架台19(図3参照)の網状体19aに載
置されるようになっている。ネット付き架台19は現像
液槽1内に設置されており、網状体19aの高さ、即
ち、多孔シート16の高さが現像液の液面から約2cm
上方になるように調整されている。た。なお、図におい
て符号17は現像液槽1内で劣化した現像液を排水する
ための排水バルブである。
かかる構成の現像装置においては、現像を開始する
と、現像液槽11内の現像液12が循環供給ポンプ13
により配管20を介してスプレーノズル14から感光性
樹脂版15の版面に吹き付けられる。
感光性樹脂版15の版面に現像液12が吹き付けられ
ると、版面上の未硬化樹脂が現像液12に溶解されて版
面から除去され、該未硬化樹脂を含む現像液12は多孔
シート16上に落下して該多孔シート16を通過する。
このとき、多孔シート16によって現像液12に含ま
れる未硬化樹脂の一部が除去され、また、多孔シート1
6に含浸された消泡剤が現像液12に溶け込み、該現像
液12は消泡されながら現像液槽11に戻される。
現像液槽11に戻された現像液12は、上記同様に、
循環供給ポンプ13により配管20を介してスプレーノ
ズル14に循環供給され、該スプレーノズル14から感
光性樹脂版15の版面に吹き付けられる。このように現
像液槽11内の現像液12を感光性樹脂版15の版面に
循環供給することにより、現像が行われる。
実施例2 液体状感光性樹脂版「APR<登録商標>フレックス
樹脂XF729」(旭化成工業(株)製)をALF21
3E露光機(旭化成工業(株)製)で露光した後、AL
400W現像機(旭化成工業(株)製:版ドラム固定、
スプレー噴霧(図2の現像装置と同一構成))に、60
リットルの温水を供給し、APRウオッシュアウト剤X
W10(旭化成工業(株)製)を2重量%と、界面活性
剤に溶解したベンゾフェノン0.16重量%を温水に溶
解させた現像液を準備した。
予め製作しておいた多孔シート固定用のネット付き架
台を現像液槽内に設置し、該ネット付き架台の網状体に
多孔シートを載置して該網状体の高さを現像液の液面か
ら約2cm上方になるように調整した。ネット付き架台
の網状体は現像液の液面の全面を覆う大きさとされてお
り、従って、多孔シートも同様に現像液の液面の全面を
覆う大きさとされている。
次に、多孔シート(ポリエチレン、ポリプロピレン製
厚さ5mm、密度0.04g/cm3 )の表面にシリコ
ーン製消泡剤APR消泡剤TYPESH−4(旭化成工
業(株)製)を0.3重量%ほど水に溶解させたものを
まんべんなく含浸させた。
この条件で、露光、現像作業を上述した第1の実施の
形態と同様にして行った。
現像工程では、スプレーノズルから液体状感光性樹脂
版の版面に吹き付けられた現像液が該版面から落下して
多孔シートの表面を通過し、現像液槽に戻されて循環供
給ポンプによって再度スプレーノズルから液体状感光性
樹脂版の版面に循環して吹き付けられるが、多孔シート
表面で発泡した現像液が効果的に消泡されることが確認
できた。
現像を繰り返し、12版(現像液の溶存樹脂濃度が2
重量%相当)になったところで、現像液の劣化が見られ
ないので、現像を継続することにした。
現像を継続するに際し、現像液が現像中に供給される
版水洗水で薄められてきたので、ウオッシュアウト剤X
W10を1重量%とベンゾフェノン0.08重量%を多
孔シートに含浸させないように該シートの端をめくって
現像液槽内へ直接追加して現像を継続した。
露光、現像を繰り返し、24版になったところで、ウ
オッシュアウト剤XW10を1重量%とベンゾフェノン
0.08重量%を上記同様にして追加し、現像液が発泡
してきたので、SH−4消泡剤を従来の半分の0.15
%だけ水に溶解させたものを多孔シート表面にまんべん
なく含浸させた。
その後も露光、現像を繰り返し、48版目になったと
ころで現像を中止したが、現像不良もなく現像液の劣化
が見られず、従来の3倍以上の現像版数を得ることがで
きた。
この現像工程で使用したウオッシュアウト剤やベンゾ
フェノンの添加量は従来の2.5/4であり、消泡剤添
加量も従来の1.5/4の量で材料を節約でき、且つ、
現像液の寿命を延長できた。
図5は本発明の第3の実施の形態である感光性樹脂版
の現像方法に用いる現像装置であるが、この現像装置
は、比重が1より小さいポリエチレン、ポリプロピレン
製の多孔シート26を固定せずに、現像液槽11の現像
液の液面に浮遊させるようにした点を除いて、上述した
第2の実施の形態の現像装置と構成及び作用効果が同一
であるので、図に同一符号を付して説明を省略する。
実施例3 比重が1より小さいポリエチレン、ポリプロピレン製
の多孔シートを固定せずに、現像液槽の現像液の液面に
浮遊させるようにした点を除いて、実施例2と同一条件
で液体状感光性樹脂版の露光、現像を行ったところ、現
像不良もなく現像液の劣化が見られず、従来の2〜3倍
以上の現像版数を得ることができた。
産業上の利用可能性 上記の説明から明らかなように、本発明によれば、現
像液の寿命を大幅に延ばして一定量の現像液で現像でき
る版数を増やすことができるので、製版作業効率の向上
及び現像廃液を減少を達成することができるという効果
が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/30 501

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 現像液槽内に収容された界面活性剤を含
    む現像液を該現像液槽の液面上方に配置された感光性樹
    脂版の版面に循環供給するようにした感光性樹脂版の現
    像方法であって、 前記現像液槽の液面又は液面近傍に消泡剤を含浸させた
    多孔シートを配設して、前記感光性樹脂版の版面から落
    下した現像液が該多孔シートを通過するようにしたこと
    を特徴とする感光性樹脂版の現像方法。
  2. 【請求項2】 前記界面活性剤がアニオン系及び/又は
    ノニオン系の界面活性剤であることを特徴とする請求の
    範囲第1項記載の感光性樹脂版の現像方法。
  3. 【請求項3】 前記感光性樹脂版の版面への現像液の供
    給を吹き付けにより行うことを特徴とする請求の範囲第
    1項又は第2項記載の感光性樹脂版の現像方法。
  4. 【請求項4】 界面活性剤を含む現像液が収容される現
    像液槽と、該現像液槽の液面上方に配置された感光性樹
    脂版を支持する版支持機構と、該感光性樹脂版の版面に
    前記現像液槽内の現像液を循環供給する現像液循環供給
    機構とを備えた感光性樹脂版の現像装置において、 前記現像液槽の液面又は液面近傍に消泡剤を含浸させた
    多孔シートを配設したことを特徴とする感光性樹脂版の
    現像装置。
  5. 【請求項5】 前記多孔シートが載置される網状体を有
    するネット付き架台、又は該多孔シートに引っ張り力を
    付与した状態で前記多孔シートを支持固定する引っ張り
    治具を備えたことを特徴とする請求の範囲第4項記載の
    感光性樹脂版の現像装置。
JP2000525792A 1997-12-22 1998-12-22 感光性樹脂版の現像方法及び現像装置 Expired - Fee Related JP3402595B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35363097 1997-12-22
JP9-353630 1997-12-22
JP9004698 1998-04-02
JP10-90046 1998-04-02
PCT/JP1998/005808 WO1999032939A1 (fr) 1997-12-22 1998-12-22 Procede de developpement de plaque de resine photosensible et dispositif de developpement associe

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP3402595B2 true JP3402595B2 (ja) 2003-05-06

Family

ID=26431564

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000525792A Expired - Fee Related JP3402595B2 (ja) 1997-12-22 1998-12-22 感光性樹脂版の現像方法及び現像装置

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6270267B1 (ja)
EP (1) EP1043628B1 (ja)
JP (1) JP3402595B2 (ja)
KR (1) KR100349290B1 (ja)
AU (1) AU731539B2 (ja)
DE (1) DE69819035T2 (ja)
ES (1) ES2209231T3 (ja)
WO (1) WO1999032939A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040092550A (ko) * 2003-04-24 2004-11-04 클라리언트 인터내셔널 리미티드 레지스트 조성물 및 레지스트 제거용 유기용제
CN110161810B (zh) * 2019-06-03 2022-06-28 中航电测仪器股份有限公司 一种应变计显影装置及方法
NL2025512B1 (en) 2020-05-06 2021-11-23 Xeikon Prepress Nv Apparatus and method for treating a relief precursor with reduced cleaning

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58202444A (ja) * 1982-05-20 1983-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料処理装置
GB2152398B (en) * 1984-01-13 1987-08-19 Chemcut Corp Apparatus for chemically removing solid matter from articles
JPS6141250U (ja) * 1984-08-18 1986-03-15 コニカ株式会社 感光材料処理装置
JPH0652416B2 (ja) * 1986-12-09 1994-07-06 富士写真フイルム株式会社 画像形成装置
JPH04249259A (ja) * 1991-02-05 1992-09-04 Konica Corp 感光性平版印刷版の処理方法
US5811224A (en) * 1994-08-24 1998-09-22 Bayer Corporation Process for rejuvenating developer in printing plate development

Also Published As

Publication number Publication date
AU1685599A (en) 1999-07-12
KR20010033430A (ko) 2001-04-25
EP1043628A1 (en) 2000-10-11
KR100349290B1 (ko) 2002-08-21
US6270267B1 (en) 2001-08-07
AU731539B2 (en) 2001-03-29
DE69819035D1 (de) 2003-11-20
EP1043628A4 (en) 2001-03-14
EP1043628B1 (en) 2003-10-15
DE69819035T2 (de) 2004-07-08
ES2209231T3 (es) 2004-06-16
WO1999032939A1 (fr) 1999-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100552881B1 (ko) 감광성 수지 볼록판의 현상 방법 및 현상 장치
JP3513517B2 (ja) 版面現像において現像液を若返らせるための方法と装置
JP7269245B2 (ja) 低減された流量のフレキソ印刷処理システム
JP3402595B2 (ja) 感光性樹脂版の現像方法及び現像装置
ES2221074T3 (es) Aparato y metodo para recuperar reveladores y decapantes de resina fotosensible.
US6454867B1 (en) Method and machine for cleaning objects in plate form
JPH09290272A (ja) スライム防除方法及び防除用受水装置
JP4485258B2 (ja) 印刷版製造装置、及び印刷版の製造方法
JPH0588331A (ja) 写真材料の処理方法
JP2770057B2 (ja) Ps版の処理装置
JPH0225200Y2 (ja)
JP3910287B2 (ja) 系統配管の化学除染装置およびその化学除染方法
JP2001340711A (ja) ろ過装置のろ材洗浄装置
JP2006227472A (ja) アルミニウム平版印刷版処理装置
JPH04240651A (ja) 水なし平版印刷版の処理装置
JP2876230B2 (ja) 放射性汚染機器の除染装置
JP2988766B2 (ja) 感光性平版印刷版処理装置
JPH02244139A (ja) 節水効率の優れた自動現像装置及び該装置を用いたハロゲン化銀黒白感光材料の処理方法
EP0075028A1 (en) Apparatus for treating lithographic printing blocks
JPS6332135Y2 (ja)
JPH10175284A (ja) 湿し水濾過装置
JP3274560B2 (ja) 平版印刷版処理装置
JPH07134374A (ja) 現像水洗水の処理方法
JPH075697A (ja) 感光性平版印刷版の処理装置
JPH0887116A (ja) 感光性平版印刷版の処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030121

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080229

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090228

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090228

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100228

Year of fee payment: 7

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100228

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100228

Year of fee payment: 7

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100228

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110228

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110228

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120229

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120229

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130228

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140228

Year of fee payment: 11

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees