JP3390201B2 - 包装用クリーンフィルムの製造方法 - Google Patents

包装用クリーンフィルムの製造方法

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JP3390201B2 JP07456093A JP7456093A JP3390201B2 JP 3390201 B2 JP3390201 B2 JP 3390201B2 JP 07456093 A JP07456093 A JP 07456093A JP 7456093 A JP7456093 A JP 7456093A JP 3390201 B2 JP3390201 B2 JP 3390201B2
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は包装用クリーンフィルム
の製造方法に関し、さらに詳しくはクリーンルーム等の
クリーンな環境下で製造される例えば半導体製品あるい
はそのような製品の製造時に必要とされる衣服等の梱
包、包装に好適に用いられる包装用クリーンフィルムを
製造する方法に関する。 【0002】 【従来の技術】たとえばIC、LSIなどの半導体製品
はチリ、ホコリを極端に嫌うことからクリーンルーム内
で製造されている。そして、このようなクリーンな環境
下で製造される製品あるいはそのような製品の製造時に
必要な衣服等の包装に用いられる包装材料にもチリ、ホ
コリが付着していないことが要求される。 【0003】そのため、従来は、クリーンルーム内で製
造した包装材料を超純水で洗浄したものが、クリーンな
環境で用いられる包装材料として利用されてきた。 【0004】 【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、この
包装材料においては、クリーンルーム内で製造したもの
を、さらに超純水で洗浄する必要があるため、この洗浄
工程が製造コストの低減を図る上での障害となってい
た。また、超純水による洗浄の程度により、クリーン度
の確実性に欠けるという問題もあった。 【0005】本発明はかかる事情に基づいてなされたも
のであり、本発明の目的は、ゴミやチリの付着が完全に
防止されていて洗浄が不要であり、例えば半導体製品等
の包装に好適に利用可能な包装用クリーンフィルムの製
造方法を提供することにある。 【0006】 【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の構成は、被包装体の包装に用いられる内層
フィルムの表裏両面が外層フィルムにより剥離可能に被
覆されて前記内層フィルムの汚染が防止される包装用ク
リーンフィルムを共押し出しにより製造する包装用クリ
ーンフィルムの製造方法において、前記内層フィルムを
低密度ポリエチレンにより形成するとともに、前記外層
フィルムをエチレン含有率が1重量%以下のポリプロピ
レン樹脂により形成し、共押し出し温度を230℃以下
とすることを特徴とする包装用クリーンフィルムの製造
方法である。 【0007】本発明のクリーンフィルムの製造方法にお
いては、例えばTダイ法による共押し出しにより、内層
フィルムを形成する樹脂と、この内層フィルムの表裏両
面を各面から剥離可能に被覆する外層フィルムを形成す
る樹脂とを溶融状態で押出機から押し出し、これによ
り、図1に示すように、内層フィルム1と外層フィルム
2,2′とを積層する。 【0008】ここで、共押し出し温度は230℃以下、
好ましくは220℃以下に設定する。共押し出し温度が
230℃を超えると、内層フィルム1と、この内層フィ
ルム1の表裏両面を被覆する外層フィルム2,2′との
剥離性が不良となることがある。 【0009】内層フィルム1は、たとえば半導体製品な
どの被包装体と直接に接触する包装材料に用いられ、表
裏両面を被覆する外層フィルム2,2′が剥離除去され
た状態で使用に供される。そして、内層フィルム1およ
び外層フィルム2,2′は、共押し出しにより積層され
ているので、製造時および製造後のいずれにおいても内
層フィルム1の表面および裏面が直接外気に触れること
はなく、したがって、製造時から使用に供されるまでの
間に内層フィルム1の表面および裏面にゴミ、ホコリ、
チリ等が付着することがない。 【0010】内層フィルム1の形成材料には、密度が
0.900〜0.960、好ましくは0.915〜0.
930の低密度ポリエチレン(LDPE)が用いられ
る。低密度ポリエチレン(LDPE)は、水蒸気の透
過、吸湿が少なく、コストが安いという利点を有してい
るからである。ここで、低密度ポリエチレンの密度が
0.900未満であると、ブロッキングが発生して外層
フィルム2,2′との剥離性が不良になることがある。
一方、0.960を超えると、内層フィルム1が脆くな
り、同フィルム1が破損し易くなることがある。 【0011】この内層フィルム1の厚さは、通常、10
〜300μm、好ましくは30〜120μmである。こ
の厚さが10μm未満であると、破れ易くなることがあ
る。一方、120μmを超えると、厚さが過剰となって
製造コストの上昇を招くことになる。 【0012】外層フィルム2,2′は、内層フィルム1
が直接に外気と接触するのを防いで内層フィルム1の表
面にゴミ、ホコリ、チリ等が付着するのを防止する機能
乃至作用を有するとともに、内層フィルム1から容易に
剥離除去可能である。すなわち、図2に示すように、内
層フィルム1の使用時に外層フィルム2,2′を剥離除
去することにより、これらの外層フィルム2,2′で被
覆されゴミ、ホコリ、チリ等の付着が完全に防止されて
いた内層フィルム1の清浄面が出現する。 【0013】このような作用乃至機能を有する外層フィ
ルム2,2′の形成材料には、エチレン含有率が1重量
%以下であるポリプロピレンが用いられる。このような
ポリプロピレンは、上記の低密度ポリエチレン(LDP
E)からなる内層フィルム1と積層した場合の成膜性が
優れているとともに、剥離性にも優れているからであ
る。ここで、エチレン含有率が1重量%を超えると、層
間の剥離性が不良となることがある。 【0014】この外層フィルム2,2′の厚さは、通
常、10〜100μm、好ましくは30〜80μmであ
る。この厚さが10μm未満であると、内層フィルム1
から剥がしにくくなることがある。一方、100μmを
超えると、厚さが過剰となって製造コストの上昇を招く
ことになる。 【0015】なお、内層フィルム1の表裏面を被覆する
外層フィルム2,2′の厚さは互いに同じであってもよ
いし、それぞれ異なっていてもよい。以上のようにして
製造される包装用クリーンフィルムの層間剥離強度につ
いては、例えばフィルム巾が600mmである場合、5
0g/15mm巾以下であることが好ましい。層間剥離
強度が50g/15mm巾以下であると、全巾600m
mで層間剥離強度が2kg以下となり、ロールサポート
での剥離が可能だからである。 【0016】本発明の方法により製造される包装用クリ
ーンフィルムを使用して実際に半導体製品などの被包装
体を包装する場合には、たとえば図3に示す無塵充填製
袋機を好適に使用することができる。 【0017】図3に示す無塵充填製袋機は、対向して配
置された一対のクリーンフィルム供給手段51,51
と、各クリーンフィルム供給手段51,51に対応して
設けられた外層フィルム剥離手段52,52と、外層フ
ィルム巻取り手段53,53と、内層フィルム送り手段
54,54と、被包装体充填手段55と、被包装体60
が挿入された2枚の内層フィルム1,1をシールするイ
ンパルスシールヘッド56とにより構成されている。 【0018】対向して配置された一対のクリーンフィル
ム供給手段51,51から供給された各包装用クリーン
フィルム3の外層フィルム2,2′は、外層フィルム剥
離手段52,52により各内層フィルム1から剥離され
る。 【0019】外層フィルム剥離手段52により剥離され
た各外層フィルム2,2′は各外層フィルム巻取り手段
53,53により巻取られる。一方、表裏両面を被覆す
る外層フィルム2,2′が剥離除去されて清浄面が露出
した各内層フィルム1,1は、一対の内層フィルム送り
手段54,54により対向する状態で被包装体充填手段
55に送られる。 【0020】被包装体充填手段55では、対向する状態
で送られて来た2枚の内層フィルム1,1間に被包装体
60が挿入される。具体的には、被包装体充填手段55
には、たとえば従来より包装に用いられている真空パッ
ク方式あるいはチッ素ガス充填方式が好適に適用され
る。 【0021】真空パック方式の場合には、被包装体60
を2枚の内層フィルム1,1間に挿入し、三方をシール
した後、包装体内部のガス置換、脱気を行ない、さらに
ヒートシールを行なって密封すればよい。また、チッ素
ガス充填方式の場合には、被包装体60を2枚の内層フ
ィルム1,1間に挿入すると同時に三方をヒートシール
により封着し、その後、チッ素ガスを内部の空気と置換
し、さらにヒートシールを行なって密封すればよい。 【0022】ここで、2枚の内層フィルム1,1のヒー
トシールにはインパルスシールヘッド56が用いられ
る。なお、この無塵充填製袋機においては、図3に示す
ように、内層フィルム送り手段54,54、被包装体充
填手段55およびインパルスシールヘッド56はクリー
ンルーム内(図3中、破線Aより右側)に設置されてお
り、これにより、被包装体60の充填密封が無塵雰囲気
で行われることになる。 【0023】本発明の方法により製造される包装用クリ
ーンフィルムは、たとえば上記のような無塵充填製袋機
を使用して好適に用いられ、この包装用クリーンフィル
ムにより包装された半導体製品等の包装体は、包装体内
部へのゴミ、ホコリ、チリ等の混入が完全に防止された
ものである。 【0024】 【実施例】次に、本発明の実施例を示し、本発明につい
てさらに具体的に説明する。 (実施例1)口径50mmφの押出機2台を用いてエチ
レン含有率1重量%以下のホモタイプのポリプロピレン
樹脂(三井石油化学社製「LA−221」、密度0.9
1、MFR=26)を押し出し、さらに口径100mm
φの押出機を用いて低密度ポリエチレン(日本ユニカー
社製「NUC8160」、密度0.923、MI=2.
4g/10分)を押し出し、これを幅1000mmのマ
ルチマニホールド多層Tダイスを使用して押出温度22
0℃にて共押し出しし、厚さ50μmの内層フィルムの
表裏両面にそれぞれ厚さ30μmが外層フィルムが積層
された3層共押し出しフィルムからなる包装用クリーン
フィルムを作成した。 【0025】次いで、この3層共押し出しフィルムの層
間剥離強度を測定した。結果を表1に示す。 【0026】 【表1】 なお、層間剥離強度は次のようにして測定した。 層間剥離強度;引張試験機(テンシロン)を用い、速度
100mm/min、角度180゜の条件で層間剥離強度を測
定した。 (比較例1)前記実施例1において、エチレン含有率1
重量%以下のホモタイプのポリプロピレン樹脂(三井石
油化学社製「LA−221」、密度0.91、MFR=
26)に代えてコポリマータイプのポリプロピレン樹脂
(チッソ石油化学社製「F−8298」、密度0.9
0、MFR=18)を用いたほかは、前記実施例1と同
様にして3層共押し出しフィルムを作成した。 【0027】次いで、この3層共押し出しフィルムの層
間剥離強度を前記実施例1と同様にして測定した。結果
を表1に示す。 (比較例2)前記実施例1において、共押し出し温度を
220℃から240℃に変えたほかは、前記実施例1と
同様にして3層共押し出しフィルムを作成した。 【0028】次いで、この3層共押し出しフィルムの層
間剥離強度を前記実施例1と同様にして測定した。結果
を表1に示す。 (結果の検討)表1から明らかなように、実施例1で作
成された3層共押し出しフィルムの層間剥離強度は、比
較例1および比較例2で作成された3層共押し出しフィ
ルムの層間剥離強度に比べて著しく小さく、クリーンフ
ィルムとしての適性に優れていることが確認された。 【0029】 【発明の効果】以上に詳述したとおり、本発明によれ
ば、低密度ポリエチレンからなる内層フィルムの表裏両
面が特定のポリプロピレンからなる外層フィルムにより
剥離可能に被覆されてなる包装用クリーンフィルムを、
特定の押し出し温度の共押し出しにより製造できるの
で、ゴミ、ホコリ、チリ等の付着が完全に防止されてい
て洗浄が不要であり、例えば半導体製品等の包装に好適
に利用可能な包装用クリーンフィルムを容易に効率良く
得ることのできる包装用クリーンフィルムの製造方法が
提供される。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の製造方法により得られる包装用クリー
ンフィルムの層構成を示す断面図である。 【図2】図2に示す包装用クリーンフィルムにおいて外
層フィルムを剥離した状態を示す説明図である。 【図3】本発明の製造方法により得られる包装用クリー
ンフィルムを好適に使用することのできる無塵充填製袋
機の構成例を示す説明図である。 【符号の説明】 1…内層フィルム 2,2′…外層フィルム 3…包装用クリーンフィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−254060(JP,A) 特開 平5−237977(JP,A) 特開 平2−63830(JP,A) 特開 平4−185430(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B29C 47/00 - 47/96 B32B 7/06 B32B 27/32

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 被包装体の包装に用いられる内層フィル
    ムの表裏両面が外層フィルムにより剥離可能に被覆され
    て前記内層フィルムの汚染が防止される包装用クリーン
    フィルムを共押し出しにより製造する包装用クリーンフ
    ィルムの製造方法において、前記内層フィルムを低密度
    ポリエチレンにより形成するとともに、前記外層フィル
    ムをエチレン含有率が1重量%以下のポリプロピレン樹
    により形成し、共押し出し温度を230℃以下とする
    ことを特徴とする包装用クリーンフィルムの製造方法。
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