JP3389718B2 - 液晶配向剤 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子の液晶配
向膜を形成するために用いる液晶配向剤に関する。さら
に詳しくは、液晶配向性が良好であり、電圧保持率の高
い液晶表示素子を構成することができ、形成される液晶
配向膜の表面にラビング処理に伴う傷（以下「ラビング
傷」ともいう。）がつきにくい液晶配向剤に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来、透明導電膜を介して液晶配向膜が
表面に形成されている２枚の基板の間に、正の誘電異方
性を有するネマチック型液晶の層を形成してサンドイッ
チ構造のセルとし、前記液晶分子の長軸が一方の基板か
ら他方の基板に向かって連続的に９０度捻れるようにし
たＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶セル
を有するＴＮ型表示素子が知られている。このＴＮ型表
示素子などの液晶表示素子における液晶の配向は、通
常、ラビング処理により液晶分子の配向能が付与された
液晶配向膜により実現される。ここに、液晶表示素子を
構成する液晶配向膜の材料としては、従来より、ポリイ
ミド、ポリアミド、ポリエステルなどの樹脂が知られて
いる。特にポリイミドは、耐熱性、液晶との親和性、機
械的強度などに優れているため多くの液晶表示素子に使
用されている。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来知
られているポリイミドなどからなる液晶配向膜を用いて
ＴＮ型表示素子などを作製した場合、液晶表示素子の電
圧保持率が低く、液晶表示素子のコントラストが十分で
ない、という問題がある。また、液晶配向膜のラビング
処理の際に液晶配向膜の表面に傷が生じ、液晶表示素子
の表示不良を招く、という問題もある。このため、ラビ
ング傷が少なく、かつ液晶配向性および電圧保持率に優
れた液晶表示素子を与える液晶配向剤の開発が望まれて
いた。 【０００４】本発明は、以上のような事情に基いてなさ
れたものであって、本発明の第１の目的は、ラビング処
理によって液晶分子の配向能が確実に付与され、優れた
液晶配向性を有する液晶表示素子を構成することができ
る液晶配向剤を提供することにある。本発明の第２の目
的は、電圧保持率の高い液晶表示素子を構成することが
できる液晶配向剤を提供することにある。本発明の第３
の目的は、ラビング傷がつきにくい塗膜を形成すること
ができる液晶配向剤を提供することにある。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的は、次記の液晶配向剤により達成される。 〔Ａ〕下記式（１）〜（７）で示されるテトラカルボン
酸から選ばれる少なくとも１種の化合物の二無水物（以
下「化合物（Ｉ）」ともいう。）７０〜９８モル％、お
よび下記式（８）で示されるシクロブタン環含有テトラ
カルボン酸化合物の二無水物（以下「化合物（II）」と
もいう。）２〜３０モル％からなるテトラカルボン酸二
無水物と、〔Ｂ〕下記式（９）で示されるジアミン化合
物（以下「化合物（III）」ともいう。）とを反応させ
ることにより得られるポリアミック酸（以下「重合体
Ａ」ともいう。）およびそのイミド化重合体（以下「重
合体Ｂ」ともいう。）の少なくとも一方を含有している
ことを特徴とする液晶配向剤。 【０００６】 【化４】 【０００７】 【化５】 〔式（８）中、Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に、水素原子、炭素
数１〜３のアルキル基またはハロゲン原子を示す。〕 【０００８】 【化６】 〔式（９）中、Ｒ5は２価の有機基を示す。〕 【０００９】以下、本発明についてその詳細を説明す
る。本発明の液晶配向剤は、化合物（Ｉ）および化合物
（II）からなるテトラカルボン酸二無水物と、化合物
（III）とを反応させることにより得られる重合体Ａお
よび／または重合体Ｂを含有する。 【００１０】＜化合物（Ｉ）＞本発明に用いられる化合
物（Ｉ）は、前記式（１）〜（７）で示されるテトラカ
ルボン酸から選ばれる少なくとも１種の化合物の二無水
物であり、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせ
て使用することができる。化合物（Ｉ）は、これを用い
ることにより、電圧保持率の高い液晶表示素子を与える
液晶配向剤が得られる。 【００１１】化合物（Ｉ）としては、例えば２，３，５
−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，
２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水
物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボ
ン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、５−
（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水
物、ビシクロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，
３，５，６テトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，
４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−
２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−
ｃ］フラン−１，３−ジオンなどのテトラカルボン酸の
二無水物が挙げられる。 【００１２】＜化合物（II）＞本発明に用いられる化合
物（II）は、シクロブタン環含有テトラカルボン酸の二
無水物であり、これを用いることにより、ラビング傷が
生じにくい液晶配向剤が得られる。これは、化合物（I
I）が骨格として剛直なシクロブタン構造を有している
ためと考えられる。 【００１３】化合物（II）としては、例えばシクロブタ
ンテトラカルボン酸の二無水物、１，３−ジメチルシク
ロブタンテトラカルボン酸の二無水物、１，２，３，４
−テトラメチルシクロブタンテトラカルボン酸の二無水
物、１，３−ジエチルシクロブタンテトラカルボン酸の
二無水物、１，２，３，４−テトラエチルシクロブタン
テトラカルボン酸の二無水物、１，２，３，４−テトラ
クロロシクロブタンテトラカルボン酸の二無水物、１，
２，３，４−テトラフルオロシクロブタンテトラカルボ
ン酸の二無水物などを挙げることができ、これらは単独
でまたは２種以上を組み合わせて使用することができ
る。これらのうちで、シクロブタンテトラカルボン酸の
二無水物は、これを用いて調製される液晶配向剤によっ
て形成される液晶配向膜が長期に渡って良好な液晶配向
性を有する点から特に好ましい。 【００１４】化合物（II）の使用割合は、全テトラカル
ボン酸二無水物の総量に対して２〜３０モル％であり、
好ましくは２〜２０モル％である。使用割合が２モル％
未満である場合には、ラビング傷低減の効果が少なく、
一方、この割合が３０モル％を超える場合には、得られ
る配向剤の保存安定性に劣るものとなる。また、この割
合が２０モル％以下の場合には、長々期にわたる保存が
可能で保存安定性に極めて優れたものとなる。 【００１５】＜化合物（III）＞本発明において用いら
れる化合物（III）は、前記式（９）で示されるジアミ
ン化合物である。式（９）に示される２価の有機基であ
るＲ5としては、脂肪族基、芳香族基、脂環族などを例
示することができる。このＲ5の炭素数としては２〜３
０であることが好ましい。 【００１６】化合物（III）の具体例としては、例えば
ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジア
ミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニル
スルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、
４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，５−ジア
ミノナフタレン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジア
ミノビフェニル、４，４’−ジアミノベンズアニリド、
３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジ
アミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェ
ノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ビ
ス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパ
ン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェ
ニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−ア
ミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−
（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、
４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビス
アニリン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベン
ゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼ
ン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒド
ロアントラセン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）
フルオレン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロア
ニリン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，
４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，
４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、
３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル
などの芳香族ジアミン類；ジアミノテトラフェニルチオ
フェンなどのヘテロ原子を有する芳香族ジアミン類；
１，１−メタキシリレンジアミン、１，２−エチレンジ
アミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジ
アミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジア
ミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、ノナメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘ
キサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペ
ンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタ
ノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ［６．
２．１．０2.7 ］−ウンデシレンジメチルジアミン、
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）など
の脂肪族または脂環族ジアミン類；さらに、下記式（１
０）などで示されるジアミノオルガノシロキサンなどを
挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組
み合わせて使用することができる。また、これらジアミ
ン化合物は市販品をそのまま使用してもよいし、市販品
を再還元してから使用してもよい。 【００１７】 Ｈ2Ｎ−（ＣＨ2）ｐ−ＳｉＲ2−（Ｏ−ＳｉＲ2−）ｑ−（ＣＨ2）ｒ−ＮＨ2 ・・・（１０） 〔式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基などから
選ばれたアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロア
ルキル基またはフェニル基などのアリール基のような炭
素数１〜１２の炭化水素基を示す。ｐは１〜３の整数で
あり、ｑは１〜２０の整数であり、ｒは１〜３の整数で
ある。〕 【００１８】これらの化合物のうち、ｐ−フェニレンジ
アミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，
４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、９，
９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−
ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニ
レンジイソプロピリデン）ビスアニリンおよび４，４’
−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン
は、これらを用いて調製される液晶配向剤によって形成
される液晶配向膜が長期にわたって良好な液晶配向性を
有するものとなることから特に好ましい。 【００１９】＜反応原料の使用割合＞重合体Ａの合成反
応に供されるテトラカルボン酸二無水物〔化合物（Ｉ）
および化合物（II）〕と、ジアミン化合物〔化合物（II
I）〕との使用割合は、ジアミン化合物に含まれるアミ
ノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物に含ま
れる酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好まし
く、さらに好ましくは０．３〜１．４当量となる割合で
ある。テトラカルボン酸二無水物に含まれる酸無水物基
の割合が０．２当量未満の場合および２当量を超える場
合のいずれにおいても、得られる重合体Ａの分子量が小
さくなりすぎ、液晶配向剤の塗布性が劣るものとなる。 【００２０】＜重合体Ａの合成＞本発明の液晶配向剤を
構成する重合体Ａは、テトラカルボン酸二無水物〔化合
物（Ｉ）および化合物（II）〕と、ジアミン化合物〔化
合物（III）〕との反応により合成される。重合体Ａの
合成反応は、有機溶媒中で、通常０〜１５０℃、好まし
くは０〜１００℃の温度条件下で行われる。反応温度が
０℃以下であると化合物の溶剤に対する溶解性が劣り、
１５０℃を超えると得られる重合体の分子量が低下す
る。 【００２１】重合体Ａの合成に用いられる有機溶媒とし
ては、テトラカルボン酸二無水物、ジアミンおよび反応
で生成する重合体Ａを溶解し得るものであれば特に制限
はなく、例えばγ−ブチロラクトン，Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラ
メチル尿素、ヘキサメチルホスホトリアミドなどの非プ
ロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フ
ェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶
媒を挙げることができる。 【００２２】有機溶媒の使用量（ａ）としては、反応原
料であるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物と
の総量（ｂ）が反応溶液の全量（ａ＋ｂ）に対して０．
１〜３０重量％になるような量であることが好ましい。 【００２３】なお、前記有機溶媒には、重合体Ａの貧溶
媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテ
ル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類などを、生成
する重合体Ａが析出しない範囲で併用することができ
る。かかる貧溶媒の具体例としては、例えばメチルアル
コール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、
シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、１，４−ブタンジオール、トリエチレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチ
ルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチ
レングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリ
コール−ｉ−プロピルエーテル、エチレングリコール−
ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ヘキシ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールメチルエーテルアセテート、エチレングリコール
−ｎ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコー
ル−ｉ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコ
ール−ｎ−ブチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ール−ｎ−ヘキシルエーテルアセテート、４−ヒドロキ
シ−４−メチル−２−ペンタノン、２−ヒドロキシプロ
ピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオ
ン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸
メチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、
２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メト
キシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エ
チル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシ
プロピオン酸メチル、テトラヒドロフラン、ジクロロメ
タン、１，２−ジクロロエタン、１，４−ジクロロブタ
ン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロル
ベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどを挙げることができる。 【００２４】以上の合成反応によって、重合体Ａを溶解
してなる重合体溶液が得られる。そして、この重合体溶
液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を
減圧下乾燥することにより重合体Ａを得ることができ
る。また、この重合体Ａを再び有機溶媒に溶解させ、次
いで貧溶媒で析出する工程を１回または数回行うことに
より、重合体Ａの精製を行うことができる。 【００２５】＜重合体Ｂ＞本発明の液晶配向剤を構成す
る重合体Ｂは、ポリアミック酸である重合体Ａをイミド
化反応に供することにより得られるイミド化重合体であ
る。イミド化反応は、重合体Ａを加熱することにより、
または、重合体Ａを有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱
水剤およびイミド化触媒を添加し必要に応じて加熱する
ことにより行われる。 【００２６】重合体Ａを加熱する方法における反応温度
は、通常６０〜２００℃とされ、好ましくは１００〜１
７０℃とされる。反応温度が６０℃未満ではイミド化反
応が十分に進行せず、反応温度が２００℃を超えると得
られる重合体Ｂの分子量が小さくなることがある。 【００２７】一方、重合体Ａの溶液中に脱水剤およびイ
ミド化触媒を添加する方法において、脱水剤としては、
例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ
酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使
用量は、重合体Ａの繰り返し単位１モルに対して１．６
〜２０モルとするのが好ましい。また、イミド化触媒と
しては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエ
チルアミンなどの３級アミンを用いることができるが、
これらに限定されるものではない。イミド化触媒の使用
量は、使用する脱水剤１モルに対して０．５〜１０モル
とするのが好ましい。なお、イミド化反応に用いられる
有機溶媒としては、重合体Ａの合成に用いられるものと
して例示した有機溶媒を挙げることができる。そして、
イミド化反応の反応温度は、通常０〜１８０℃、好まし
くは６０〜１５０℃とされる。また、このようにして得
られる重合体溶液に対し、重合体Ａの精製方法と同様の
操作を行うことにより、重合体Ｂを精製することができ
る。 【００２８】＜重合体の固有粘度＞以上のようにして得
られる重合体Ａおよび重合体Ｂの固有粘度（３０℃，Ｎ
−メチル−２−ピロリドン中で測定。以下において同
じ。）は、通常０．０５〜１０ｄｌ／ｇ、好ましくは
０．０５〜５ｄｌ／ｇである。 【００２９】＜液晶配向剤＞本発明の液晶配向剤は、重
合体Ａおよび／または重合体Ｂが有機溶媒中に溶解され
て使用される。本発明の液晶配向剤を構成する有機溶媒
としては、重合体Ａの合成反応やイミド化反応に用いら
れるものとして例示した溶媒を挙げることができる。ま
た、重合体Ａの合成の際に併用することができるものと
して例示した貧溶媒も適宜選択して併用することができ
る。 【００３０】本発明の液晶配向剤における重合体濃度
（重合体Ａと重合体Ｂの合計濃度）は、粘性、揮発性、
環境への影響などを考慮して選択されるが、好ましくは
１〜１０重量％の範囲とされる。すなわち、重合体を含
有する液晶配向剤は、溶液として印刷法、スピンコート
法などにより基板表面に塗布され、次いで、これを乾燥
することにより、液晶配向膜となる塗膜が形成されるの
であるが、重合体濃度が１重量％未満である場合には、
この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得る
ことができない。一方、重合体濃度が１０重量％を超え
る場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向
膜を得ることができず、また、液晶配向剤の粘性が増大
して塗布特性に劣るものとなる。 【００３１】本発明の液晶配向剤を構成する重合体Ａお
よび／または重合体Ｂは、末端修飾型の重合体であって
もよい。この末端修飾型の重合体は、分子量が調節さ
れ、本発明の効果が損われることなく、液晶配向剤の塗
布特性などを改善することができる。末端修飾型の重合
体は、重合体Ａを合成する際に、酸無水物やモノアミン
化合物を反応系に添加することにより合成することがで
きる。 【００３２】末端修飾型の重合体を得るために重合体Ａ
を合成する際の反応系に添加される酸無水物としては、
例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン
酸、ｎ−デシルサクシニック酸無水物、ｎ−ドデシルサ
クシニック酸無水物、ｎ−テトラデシルサクシニック酸
無水物、ｎ−ヘキサデシルサクシニック酸無水物などを
挙げることができ、また、反応系に添加されるモノアミ
ンとしては、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、
ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシル
アミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ
−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルア
ミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ
−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−
ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミン、ｎ−オ
クタデシルアミン、ｎ−エイコシルアミンなどを挙げる
ことができる。 【００３３】本発明の液晶配向剤は、重合体Ａおよび／
または重合体Ｂを含有するものであるが、基板表面との
接着性を向上させる観点から、官能性シラン含有化合物
が含有されていてもよい。 【００３４】このような官能性シラン含有化合物として
は、例えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３
−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウ
レイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３
−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカ
ルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミ
ン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリ
アミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリ
アザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−
トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジ
アザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，
６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３
−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキ
シエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピル
トリエトキシシランなどを挙げることができる。さら
に、特開昭６３ー２９１９２２号公報に記載されている
テトラカルボン酸二無水物とアミノ基含有シラン化合物
との反応物などが含有されていてもよい。 【００３５】＜液晶表示素子の製造＞本発明の液晶配向
剤を用いて得られる液晶表示素子は、例えば次の方法に
よって製造することができる。 【００３６】（１）透明導電膜が設けられている基板の
一面に、本発明の液晶配向剤を例えば印刷法によって塗
布し、次いで、塗布面を加熱することにより塗膜を形成
する。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、
ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネートなどのプラスチックなどからなる
透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられ
た透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ2 ）からなる
ＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム
−酸化スズ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）からなるＩＴＯ膜
などを用いることができ、これらの透明導電膜のパター
ニングには、フォト・エッチング法や予めマスクを用い
る方法などが用いられる。液晶配向剤の塗布方法として
は、印刷法のほか、ロールコーター法、スピンナー法な
どの方法も用いることができる。液晶配向剤の塗布に際
しては、基板表面および透明導電膜と塗膜との接着性を
さらに良好にするために、基板の一面および透明導電膜
上に、官能性シラン含有化合物、官能性チタン含有化合
物などを予め塗布することもできる。加熱温度は８０〜
２００℃とされ、好ましくは１２０〜２００℃とされ
る。形成される塗膜の膜厚は、通常０．００１〜１μｍ
であり、好ましくは０．００５〜０．５μｍである。 【００３７】（２）形成された塗膜面を、例えばナイロ
ン、レーヨンまたはコットン繊維からなる布を巻き付け
たロールで一定方向に擦るラビング処理を行う。これに
より、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜
となる。 【００３８】（３）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作製し、それぞれの液晶配向膜におけ
るラビング方向が直交または逆平行となるように、２枚
の基板を、間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、
２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基
板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内
に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成
する。そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セル
を構成するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その
偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラ
ビング方向と一致または直交するように貼り合わせるこ
とにより、液晶表示素子が得られる。 【００３８】ここに、シール剤としては、例えば硬化剤
およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有す
るエポキシ樹脂などを用いることができる。液晶材料と
しては、ネマティック型液晶およびスメクティック型液
晶を挙げることができ、その中でもネマティック型液晶
が好ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液
晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液
晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニル
シクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン
系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶など
を用いることができる。また、これらの液晶に、例えば
コレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレ
ステリルカーボネートなどのコレステリック型液晶や商
品名「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メルク社製）として
販売されているようなカイラル剤などを添加して使用す
ることもできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン
−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強
誘電性液晶も使用することができる。液晶セルの外表面
に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコー
ルを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と称
される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、
またはＨ膜そのものからなる偏光板などを挙げることが
できる。 【００３９】 【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。なお、以下の実施例および比較例により作
製された各液晶表示素子について、 液晶配向膜のラ
ビング傷、 液晶表示素子の配向性、 液晶表示素
子の電圧保持率について評価した。評価方法は以下のと
おりである。 【００４０】〔液晶配向膜のラビング傷〕ラビング処理
後の液晶配向膜の表面を光学顕微鏡（倍率１００倍）で
観察し、ラビング処理によるラビング傷の発生の有無を
調べた。 【００４１】〔液晶表示素子の配向性〕電圧をオン・オ
フさせた時の液晶セル中の異常ドメインの有無を偏光顕
微鏡で観察し、異常ドメインのない場合を「良好」と判
定した。 【００４２】〔液晶配向剤の電圧保持率〕８０℃の恒温
槽中に設置した液晶表示素子に５Ｖの電圧を印加し、そ
の印加電圧をオフにして、１６．７ｍｓｅｃ後の電圧保
持率を測定した。測定装置は（株）東陽テクニカ製ＶＨ
Ｒ−１を使用した。 【００４３】合成例１ ２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物４０．３ｇ（０．１８モル）、シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物３．９ｇ（０．０２モル）およびｐ−
フェニレンジアミン２１．６ｇ（０．２０モル）をＮ−
メチル−２−ピロリドン１０１０ｇに溶解させ、室温で
６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタ
ノールに注いで、反応生成物を沈澱させた。その後、メ
タノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させ
て、固有粘度１．３４ｄｌ／ｇの重合体（Ａ−１）；６
２．９ｇを得た。 【００４４】合成例２ 合成例１で得られた重合体（Ａ−１）３０．０ｇをγ−
ブチロラクトン５７０ｇに溶解し、この溶液にピリジン
２１．６ｇと無水酢酸１６．７４ｇを添加し、１２０℃
で３時間加熱することによりイミド化反応を行った。次
いで、反応生成液を合成例１と同様にして沈澱させ、固
有粘度１．４０ｄｌ／ｇの重合体（Ｂ−１）；２８．３
ｇを得た。 【００４５】合成例３ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物４
２．６ｇ（０．１９モル）およびシクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物２．０ｇ（０．０１モル）とした以外
は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−２）を得、さら
にこの重合体（Ａ−２）を用いて合成例２と同様にして
イミド化反応を行い、固有粘度１．３６ｄｌ／ｇの重合
体（Ｂ−２）；２７．２ｇを得た。 【００４６】合成例４ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物３
５．８ｇ（０．１６モル）およびシクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物７．８ｇ（０．０４モル）とした以外
は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−３）を得、さら
にこの重合体（Ａ−３）を用いて合成例２と同様にして
イミド化反応を行い、固有粘度１．４６ｄｌ／ｇの重合
体（Ｂ−３）；２７．３ｇを得た。 【００４７】合成例５ 合成例１において、ジアミンを４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン３９．６ｇ（０．２０モル）とした以外
は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−４）を得、さら
にこの重合体（Ａ−４）を用いて合成例２と同様にして
イミド化反応を行い、固有粘度１．３７ｄｌ／ｇの重合
体（Ｂ−４）；２７．３ｇを得た。 【００４８】合成例６ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を１，
２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物
３５．７ｇ（０．１７モル）およびシクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物５．９ｇ（０．０３モル）とした以
外は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−５）を得、さ
らにこの重合体（Ａ−５）を用いて合成例２と同様にし
てイミド化反応を行い、固有粘度０．９９ｄｌ／ｇの重
合体（Ｂ−５）；２６．３ｇを得た。 【００４９】合成例７ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無
水物３６．０ｇ（０．１７モル）およびシクロブタンテ
トラカルボン酸二無水物５．９ｇ（０．０３モル）とし
た以外は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−６）を
得、さらにこの重合体（Ａ−６）を用いて合成例２と同
様にしてイミド化反応を行い、固有粘度１．０８ｄｌ／
ｇの重合体（Ｂ−６）；２６．７ｇを得た。 【００５０】合成例８ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物をブタン
テトラカルボン酸二無水物３３．７ｇ（０．１７モル）
およびシクロブタンテトラカルボン酸二無水物５．９ｇ
（０．０３モル）とした以外は、合成例１と同様にして
重合体（Ａ−７）を得、さらにこの重合体（Ａ−７）を
用いて合成例２と同様にしてイミド化反応を行い、固有
粘度１．０１ｄｌ／ｇの重合体（Ｂ−７）；２６．４ｇ
を得た。 【００５１】合成例９ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を５−
（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物
４４．９ｇ（０．１７モル）およびシクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物５．９ｇ（０．０３モル）とした以
外は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−８）を得、さ
らにこの重合体（Ａ−８）を用いて合成例２と同様にし
てイミド化反応を行い、固有粘度１．１４ｄｌ／ｇの重
合体（Ｂ−８）；２５．７ｇを得た。 【００５２】合成例１０ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物をビシク
ロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，３，５，６
テトラカルボン酸二無水物４２．２ｇ（０．１７モル）
およびシクロブタンテトラカルボン酸二無水物５．９ｇ
（０．０３モル）とした以外は、合成例１と同様にして
重合体（Ａ−９）を得、さらにこの重合体（Ａ−９）を
用いて合成例２と同様にしてイミド化反応を行い、固有
粘度１．０４ｄｌ／ｇの重合体（Ｂ−９）；２６．０ｇ
を得た。 【００５３】合成例１１ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラ
ヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト
［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン５１．０ｇ
（０．１７モル）およびシクロブタンテトラカルボン酸
二無水物５．９ｇ（０．０３モル）とした以外は、合成
例１と同様にして重合体（Ａ−１０）を得、さらにこの
重合体（Ａ−１０）を用いて合成例２と同様にしてイミ
ド化反応を行い、固有粘度１．１４ｄｌ／ｇの重合体
（Ｂ−１０）；２６．０ｇを得た。 【００５４】合成例１２ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物４
４．８ｇ（０．２０モル）とした以外は、合成例１と同
様にして重合体（Ａ−１１）を得、さらにこの重合体
（Ａ−１１）を用いて合成例２と同様にしてイミド化反
応を行い、固有粘度１．３４ｄｌ／ｇの重合体（Ｂ−１
１）；２７．２ｇを得た。 【００５５】合成例１３ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２
９．１ｇ（０．１３モル）およびシクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物１３．７ｇ（０．０７モル）とした以
外は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−１２）を得、
さらにこの重合体（Ａ−１２）を用いて合成例２と同様
にしてイミド化反応を行ったが、イミド化時に析出物
（重合体（Ｂ−１２））が生じた。 【００５６】合成例１４ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物をベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物６４．４ｇ（０．２
０モル）とした以外は、合成例１と同様にして固有粘度
１．６８ｄｌ／ｇの重合体（Ａ−１３）；８４．２ｇを
得た。 【００５７】実施例１ （１）液晶配向剤の調製 合成例１で得られた重合体（Ａ−１）をＮ−メチル−２
−ピロリドンに溶解させて、固形分濃度４重量％の溶液
とし、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過し、液
晶配向剤を調製した。 【００５８】（２）液晶表示素子の作製 ガラス基板の一面に設けられたＩＴＯ膜からなる透
明導電膜上に、液晶配向膜塗布用の印刷機を用いて本発
明の液晶配向剤を塗布し、１８０℃で１時間乾燥するこ
とにより乾燥膜厚０．０５μｍの塗膜を形成した。 【００５９】 形成された塗膜面を、レーヨン製の布
を巻き付けたロールを有するラビングマシーンを用いて
ラビング処理を行うことにより、液晶分子の配向能を塗
膜に付与して液晶配向膜を作製した。ここに、ラビング
処理条件は、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの
移動速度１ｃｍ／秒、毛足押し込み長さ０．７ｍｍとし
た。得られた液晶配向膜にはラビング傷は認められなか
った。 【００６０】 上記のようにして液晶配向膜が形成さ
れた基板を２枚作製し、それぞれの基板の外縁部に、直
径１７μｍの酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹
脂をスクリーン印刷塗布した後、それぞれの液晶配向膜
におけるラビング方向が直交となるように２枚の基板を
間隙を介して対向配置し、外縁部同士を当接させて圧着
して接着剤を硬化させた。 【００６１】 基板の表面および外縁部の接着剤によ
り区画されたセルギャップ内に、ネマティック型液晶
「ＭＬＣ−２００３」（メルク・ジャパン社製）を注入
充填し、次いで、注入孔をエポキシ系接着剤で封止して
液晶セルを構成した。次いで、液晶セルの外表面、すな
わち、液晶セルを構成するそれぞれの基板の他面に、偏
光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビ
ング方向と一致するように偏光板を貼り合わせることに
より、液晶表示素子を作製した。以上のようにして作製
した液晶表示素子について、電圧をオン・オフさせた時
の液晶セル中には異常ドメインは認められず、優れた配
向性を有するものであった。また、８０℃における電圧
保持率は９４．５％と高い値であった。 【００６２】実施例２〜実施例１１ 表１に示す処方に従って、合成例２〜合成例１１により
得られた重合体Ｂのそれぞれを用い、実施例１（１）と
同様にして本発明の液晶配向剤を調製した。次いで、こ
のようにして得られた液晶配向剤の各々を用い、実施例
１（２）と同様にして液晶表示素子を作製した。各実施
例において、液晶配向膜におけるラビング傷の発生状
況、液晶の配向性および電圧保持率について評価した。
結果を表１に併せて示す。 【００６３】比較例１ 合成例１２により得られた重合体（Ｂ−１１）を用い、
実施例１（１）と同様にして比較用の液晶配向剤を調製
した。次いで、この液晶配向剤を用い、実施例１（２）
と同様にして液晶表示素子を作製し、評価をした。評価
結果を表１に示す。 【００６４】比較例２ 合成例１３により得られた重合体（Ｂ−１２）を用い、
実施例１（１）と同様にして比較用の液晶配向剤を調製
した。この調製液はフィルターでの濾過性が非常に悪
く、濾過した液も白濁を生じていた。次いで、この液晶
配向剤を用い、実施例１（２）と同様にして液晶表示素
子を作製したところ、印刷時の膜厚の不均一性によると
考えられる表示不良が発生した。評価結果を表１に示
す。 【００６５】比較例３ 合成例１４により得られた重合体（Ａ−１３）を用い、
実施例１（１）と同様にして比較用の液晶配向剤を調製
した。次いで、この液晶配向剤を用い、実施例１（２）
と同様にして液晶表示素子を作製し、評価をした。評価
結果を表１に示す。 【００６６】 【発明の効果】本発明によれば、ラビング処理で生じる
液晶配向膜表面の傷が少なく、かつ液晶配向性および電
圧保持率に優れた液晶表示素子を与える液晶配向剤が得
られる。また、本発明の液晶配向剤により形成された液
晶配向膜に、例えば特開平６−２２２３６６号公報や特
開平６−２８１９３７号公報に示されているような紫外
線を照射することによってプレチルト角を変化させるよ
うな処理、あるいは特開平５−１０７５４４号公報に示
されているような液晶配向膜上にレジストを部分的に塗
布して液晶配向膜のラビング方向を変えるような処理を
行うことによって、液晶表示素子の視界特性を改善する
ことが可能である。本発明の液晶配向剤を用いて形成し
た液晶配向膜を有する液晶表示素子は、使用する液晶を
選択することにより、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔ
ｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＨ（Ｓｕｐｅｒ Ｈｏｍｅ
ｏｔｒｏｐｉｃ）、強誘電性、反強誘電性液晶表示素子
などにも好適に使用することができる。さらに、本発明
の液晶配向剤を用いて形成した配向膜を有する液晶表示
素子は、液晶の配向性および信頼性に優れ、種々の装置
に有効に使用でき、例えば卓上計算機、腕時計、置時
計、係数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピ
ューター、液晶テレビなどの表示装置に用いられる。 【００６７】以下に本発明の好ましい態様を列挙する。 １）化合物（II）の使用割合が、全テトラカルボン酸二
無水物の総量に対して２〜２０モル％である液晶配向
剤。 ２）化合物（III）が、ｐ−フェニレンジアミン、４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノ
フェノキシ）フェニル］プロパン、９，９−ビス（４−
アミノフェニル）フルオレン 、２，２−ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプ
ロピリデン）ビスアニリンおよび４，４’−（ｍ−フェ
ニレンジイソプロピリデン）ビスアニリンから選ばれた
ものである液晶配向剤。 ３）化合物（II）が、シクロブタンテトラカルボン酸の
二無水物である液晶配向剤。 【００６８】 【表１】
向膜を形成するために用いる液晶配向剤に関する。さら
に詳しくは、液晶配向性が良好であり、電圧保持率の高
い液晶表示素子を構成することができ、形成される液晶
配向膜の表面にラビング処理に伴う傷（以下「ラビング
傷」ともいう。）がつきにくい液晶配向剤に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来、透明導電膜を介して液晶配向膜が
表面に形成されている２枚の基板の間に、正の誘電異方
性を有するネマチック型液晶の層を形成してサンドイッ
チ構造のセルとし、前記液晶分子の長軸が一方の基板か
ら他方の基板に向かって連続的に９０度捻れるようにし
たＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶セル
を有するＴＮ型表示素子が知られている。このＴＮ型表
示素子などの液晶表示素子における液晶の配向は、通
常、ラビング処理により液晶分子の配向能が付与された
液晶配向膜により実現される。ここに、液晶表示素子を
構成する液晶配向膜の材料としては、従来より、ポリイ
ミド、ポリアミド、ポリエステルなどの樹脂が知られて
いる。特にポリイミドは、耐熱性、液晶との親和性、機
械的強度などに優れているため多くの液晶表示素子に使
用されている。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来知
られているポリイミドなどからなる液晶配向膜を用いて
ＴＮ型表示素子などを作製した場合、液晶表示素子の電
圧保持率が低く、液晶表示素子のコントラストが十分で
ない、という問題がある。また、液晶配向膜のラビング
処理の際に液晶配向膜の表面に傷が生じ、液晶表示素子
の表示不良を招く、という問題もある。このため、ラビ
ング傷が少なく、かつ液晶配向性および電圧保持率に優
れた液晶表示素子を与える液晶配向剤の開発が望まれて
いた。 【０００４】本発明は、以上のような事情に基いてなさ
れたものであって、本発明の第１の目的は、ラビング処
理によって液晶分子の配向能が確実に付与され、優れた
液晶配向性を有する液晶表示素子を構成することができ
る液晶配向剤を提供することにある。本発明の第２の目
的は、電圧保持率の高い液晶表示素子を構成することが
できる液晶配向剤を提供することにある。本発明の第３
の目的は、ラビング傷がつきにくい塗膜を形成すること
ができる液晶配向剤を提供することにある。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的は、次記の液晶配向剤により達成される。 〔Ａ〕下記式（１）〜（７）で示されるテトラカルボン
酸から選ばれる少なくとも１種の化合物の二無水物（以
下「化合物（Ｉ）」ともいう。）７０〜９８モル％、お
よび下記式（８）で示されるシクロブタン環含有テトラ
カルボン酸化合物の二無水物（以下「化合物（II）」と
もいう。）２〜３０モル％からなるテトラカルボン酸二
無水物と、〔Ｂ〕下記式（９）で示されるジアミン化合
物（以下「化合物（III）」ともいう。）とを反応させ
ることにより得られるポリアミック酸（以下「重合体
Ａ」ともいう。）およびそのイミド化重合体（以下「重
合体Ｂ」ともいう。）の少なくとも一方を含有している
ことを特徴とする液晶配向剤。 【０００６】 【化４】 【０００７】 【化５】 〔式（８）中、Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に、水素原子、炭素
数１〜３のアルキル基またはハロゲン原子を示す。〕 【０００８】 【化６】 〔式（９）中、Ｒ5は２価の有機基を示す。〕 【０００９】以下、本発明についてその詳細を説明す
る。本発明の液晶配向剤は、化合物（Ｉ）および化合物
（II）からなるテトラカルボン酸二無水物と、化合物
（III）とを反応させることにより得られる重合体Ａお
よび／または重合体Ｂを含有する。 【００１０】＜化合物（Ｉ）＞本発明に用いられる化合
物（Ｉ）は、前記式（１）〜（７）で示されるテトラカ
ルボン酸から選ばれる少なくとも１種の化合物の二無水
物であり、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせ
て使用することができる。化合物（Ｉ）は、これを用い
ることにより、電圧保持率の高い液晶表示素子を与える
液晶配向剤が得られる。 【００１１】化合物（Ｉ）としては、例えば２，３，５
−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，
２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水
物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボ
ン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、５−
（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水
物、ビシクロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，
３，５，６テトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，
４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−
２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−
ｃ］フラン−１，３−ジオンなどのテトラカルボン酸の
二無水物が挙げられる。 【００１２】＜化合物（II）＞本発明に用いられる化合
物（II）は、シクロブタン環含有テトラカルボン酸の二
無水物であり、これを用いることにより、ラビング傷が
生じにくい液晶配向剤が得られる。これは、化合物（I
I）が骨格として剛直なシクロブタン構造を有している
ためと考えられる。 【００１３】化合物（II）としては、例えばシクロブタ
ンテトラカルボン酸の二無水物、１，３−ジメチルシク
ロブタンテトラカルボン酸の二無水物、１，２，３，４
−テトラメチルシクロブタンテトラカルボン酸の二無水
物、１，３−ジエチルシクロブタンテトラカルボン酸の
二無水物、１，２，３，４−テトラエチルシクロブタン
テトラカルボン酸の二無水物、１，２，３，４−テトラ
クロロシクロブタンテトラカルボン酸の二無水物、１，
２，３，４−テトラフルオロシクロブタンテトラカルボ
ン酸の二無水物などを挙げることができ、これらは単独
でまたは２種以上を組み合わせて使用することができ
る。これらのうちで、シクロブタンテトラカルボン酸の
二無水物は、これを用いて調製される液晶配向剤によっ
て形成される液晶配向膜が長期に渡って良好な液晶配向
性を有する点から特に好ましい。 【００１４】化合物（II）の使用割合は、全テトラカル
ボン酸二無水物の総量に対して２〜３０モル％であり、
好ましくは２〜２０モル％である。使用割合が２モル％
未満である場合には、ラビング傷低減の効果が少なく、
一方、この割合が３０モル％を超える場合には、得られ
る配向剤の保存安定性に劣るものとなる。また、この割
合が２０モル％以下の場合には、長々期にわたる保存が
可能で保存安定性に極めて優れたものとなる。 【００１５】＜化合物（III）＞本発明において用いら
れる化合物（III）は、前記式（９）で示されるジアミ
ン化合物である。式（９）に示される２価の有機基であ
るＲ5としては、脂肪族基、芳香族基、脂環族などを例
示することができる。このＲ5の炭素数としては２〜３
０であることが好ましい。 【００１６】化合物（III）の具体例としては、例えば
ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジア
ミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニル
スルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、
４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，５−ジア
ミノナフタレン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジア
ミノビフェニル、４，４’−ジアミノベンズアニリド、
３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジ
アミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェ
ノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ビ
ス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパ
ン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェ
ニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−ア
ミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−
（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、
４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビス
アニリン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベン
ゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼ
ン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒド
ロアントラセン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）
フルオレン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロア
ニリン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，
４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，
４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、
３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル
などの芳香族ジアミン類；ジアミノテトラフェニルチオ
フェンなどのヘテロ原子を有する芳香族ジアミン類；
１，１−メタキシリレンジアミン、１，２−エチレンジ
アミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジ
アミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジア
ミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、ノナメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘ
キサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペ
ンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタ
ノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ［６．
２．１．０2.7 ］−ウンデシレンジメチルジアミン、
４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）など
の脂肪族または脂環族ジアミン類；さらに、下記式（１
０）などで示されるジアミノオルガノシロキサンなどを
挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組
み合わせて使用することができる。また、これらジアミ
ン化合物は市販品をそのまま使用してもよいし、市販品
を再還元してから使用してもよい。 【００１７】 Ｈ2Ｎ−（ＣＨ2）ｐ−ＳｉＲ2−（Ｏ−ＳｉＲ2−）ｑ−（ＣＨ2）ｒ−ＮＨ2 ・・・（１０） 〔式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基などから
選ばれたアルキル基、シクロヘキシル基などのシクロア
ルキル基またはフェニル基などのアリール基のような炭
素数１〜１２の炭化水素基を示す。ｐは１〜３の整数で
あり、ｑは１〜２０の整数であり、ｒは１〜３の整数で
ある。〕 【００１８】これらの化合物のうち、ｐ−フェニレンジ
アミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，
４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、９，
９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−
ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニ
レンジイソプロピリデン）ビスアニリンおよび４，４’
−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン
は、これらを用いて調製される液晶配向剤によって形成
される液晶配向膜が長期にわたって良好な液晶配向性を
有するものとなることから特に好ましい。 【００１９】＜反応原料の使用割合＞重合体Ａの合成反
応に供されるテトラカルボン酸二無水物〔化合物（Ｉ）
および化合物（II）〕と、ジアミン化合物〔化合物（II
I）〕との使用割合は、ジアミン化合物に含まれるアミ
ノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物に含ま
れる酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好まし
く、さらに好ましくは０．３〜１．４当量となる割合で
ある。テトラカルボン酸二無水物に含まれる酸無水物基
の割合が０．２当量未満の場合および２当量を超える場
合のいずれにおいても、得られる重合体Ａの分子量が小
さくなりすぎ、液晶配向剤の塗布性が劣るものとなる。 【００２０】＜重合体Ａの合成＞本発明の液晶配向剤を
構成する重合体Ａは、テトラカルボン酸二無水物〔化合
物（Ｉ）および化合物（II）〕と、ジアミン化合物〔化
合物（III）〕との反応により合成される。重合体Ａの
合成反応は、有機溶媒中で、通常０〜１５０℃、好まし
くは０〜１００℃の温度条件下で行われる。反応温度が
０℃以下であると化合物の溶剤に対する溶解性が劣り、
１５０℃を超えると得られる重合体の分子量が低下す
る。 【００２１】重合体Ａの合成に用いられる有機溶媒とし
ては、テトラカルボン酸二無水物、ジアミンおよび反応
で生成する重合体Ａを溶解し得るものであれば特に制限
はなく、例えばγ−ブチロラクトン，Ｎ−メチル−２−
ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラ
メチル尿素、ヘキサメチルホスホトリアミドなどの非プ
ロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フ
ェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶
媒を挙げることができる。 【００２２】有機溶媒の使用量（ａ）としては、反応原
料であるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物と
の総量（ｂ）が反応溶液の全量（ａ＋ｂ）に対して０．
１〜３０重量％になるような量であることが好ましい。 【００２３】なお、前記有機溶媒には、重合体Ａの貧溶
媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテ
ル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類などを、生成
する重合体Ａが析出しない範囲で併用することができ
る。かかる貧溶媒の具体例としては、例えばメチルアル
コール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、
シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、１，４−ブタンジオール、トリエチレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチ
ルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチ
レングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリ
コール−ｉ−プロピルエーテル、エチレングリコール−
ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−ヘキシ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールメチルエーテルアセテート、エチレングリコール
−ｎ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコー
ル−ｉ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコ
ール−ｎ−ブチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ール−ｎ−ヘキシルエーテルアセテート、４−ヒドロキ
シ−４−メチル−２−ペンタノン、２−ヒドロキシプロ
ピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオ
ン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸
メチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、
２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メト
キシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エ
チル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシ
プロピオン酸メチル、テトラヒドロフラン、ジクロロメ
タン、１，２−ジクロロエタン、１，４−ジクロロブタ
ン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−ジクロル
ベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどを挙げることができる。 【００２４】以上の合成反応によって、重合体Ａを溶解
してなる重合体溶液が得られる。そして、この重合体溶
液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を
減圧下乾燥することにより重合体Ａを得ることができ
る。また、この重合体Ａを再び有機溶媒に溶解させ、次
いで貧溶媒で析出する工程を１回または数回行うことに
より、重合体Ａの精製を行うことができる。 【００２５】＜重合体Ｂ＞本発明の液晶配向剤を構成す
る重合体Ｂは、ポリアミック酸である重合体Ａをイミド
化反応に供することにより得られるイミド化重合体であ
る。イミド化反応は、重合体Ａを加熱することにより、
または、重合体Ａを有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱
水剤およびイミド化触媒を添加し必要に応じて加熱する
ことにより行われる。 【００２６】重合体Ａを加熱する方法における反応温度
は、通常６０〜２００℃とされ、好ましくは１００〜１
７０℃とされる。反応温度が６０℃未満ではイミド化反
応が十分に進行せず、反応温度が２００℃を超えると得
られる重合体Ｂの分子量が小さくなることがある。 【００２７】一方、重合体Ａの溶液中に脱水剤およびイ
ミド化触媒を添加する方法において、脱水剤としては、
例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ
酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使
用量は、重合体Ａの繰り返し単位１モルに対して１．６
〜２０モルとするのが好ましい。また、イミド化触媒と
しては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエ
チルアミンなどの３級アミンを用いることができるが、
これらに限定されるものではない。イミド化触媒の使用
量は、使用する脱水剤１モルに対して０．５〜１０モル
とするのが好ましい。なお、イミド化反応に用いられる
有機溶媒としては、重合体Ａの合成に用いられるものと
して例示した有機溶媒を挙げることができる。そして、
イミド化反応の反応温度は、通常０〜１８０℃、好まし
くは６０〜１５０℃とされる。また、このようにして得
られる重合体溶液に対し、重合体Ａの精製方法と同様の
操作を行うことにより、重合体Ｂを精製することができ
る。 【００２８】＜重合体の固有粘度＞以上のようにして得
られる重合体Ａおよび重合体Ｂの固有粘度（３０℃，Ｎ
−メチル−２−ピロリドン中で測定。以下において同
じ。）は、通常０．０５〜１０ｄｌ／ｇ、好ましくは
０．０５〜５ｄｌ／ｇである。 【００２９】＜液晶配向剤＞本発明の液晶配向剤は、重
合体Ａおよび／または重合体Ｂが有機溶媒中に溶解され
て使用される。本発明の液晶配向剤を構成する有機溶媒
としては、重合体Ａの合成反応やイミド化反応に用いら
れるものとして例示した溶媒を挙げることができる。ま
た、重合体Ａの合成の際に併用することができるものと
して例示した貧溶媒も適宜選択して併用することができ
る。 【００３０】本発明の液晶配向剤における重合体濃度
（重合体Ａと重合体Ｂの合計濃度）は、粘性、揮発性、
環境への影響などを考慮して選択されるが、好ましくは
１〜１０重量％の範囲とされる。すなわち、重合体を含
有する液晶配向剤は、溶液として印刷法、スピンコート
法などにより基板表面に塗布され、次いで、これを乾燥
することにより、液晶配向膜となる塗膜が形成されるの
であるが、重合体濃度が１重量％未満である場合には、
この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得る
ことができない。一方、重合体濃度が１０重量％を超え
る場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向
膜を得ることができず、また、液晶配向剤の粘性が増大
して塗布特性に劣るものとなる。 【００３１】本発明の液晶配向剤を構成する重合体Ａお
よび／または重合体Ｂは、末端修飾型の重合体であって
もよい。この末端修飾型の重合体は、分子量が調節さ
れ、本発明の効果が損われることなく、液晶配向剤の塗
布特性などを改善することができる。末端修飾型の重合
体は、重合体Ａを合成する際に、酸無水物やモノアミン
化合物を反応系に添加することにより合成することがで
きる。 【００３２】末端修飾型の重合体を得るために重合体Ａ
を合成する際の反応系に添加される酸無水物としては、
例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン
酸、ｎ−デシルサクシニック酸無水物、ｎ−ドデシルサ
クシニック酸無水物、ｎ−テトラデシルサクシニック酸
無水物、ｎ−ヘキサデシルサクシニック酸無水物などを
挙げることができ、また、反応系に添加されるモノアミ
ンとしては、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、
ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシル
アミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ
−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルア
ミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルアミン、ｎ
−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミン、ｎ−
ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミン、ｎ−オ
クタデシルアミン、ｎ−エイコシルアミンなどを挙げる
ことができる。 【００３３】本発明の液晶配向剤は、重合体Ａおよび／
または重合体Ｂを含有するものであるが、基板表面との
接着性を向上させる観点から、官能性シラン含有化合物
が含有されていてもよい。 【００３４】このような官能性シラン含有化合物として
は、例えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３
−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウ
レイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３
−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカ
ルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ
−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミ
ン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリ
アミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリ
アザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−
トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジ
アザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，
６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３
−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキ
シエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピル
トリエトキシシランなどを挙げることができる。さら
に、特開昭６３ー２９１９２２号公報に記載されている
テトラカルボン酸二無水物とアミノ基含有シラン化合物
との反応物などが含有されていてもよい。 【００３５】＜液晶表示素子の製造＞本発明の液晶配向
剤を用いて得られる液晶表示素子は、例えば次の方法に
よって製造することができる。 【００３６】（１）透明導電膜が設けられている基板の
一面に、本発明の液晶配向剤を例えば印刷法によって塗
布し、次いで、塗布面を加熱することにより塗膜を形成
する。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、
ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネートなどのプラスチックなどからなる
透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられ
た透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ2 ）からなる
ＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム
−酸化スズ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）からなるＩＴＯ膜
などを用いることができ、これらの透明導電膜のパター
ニングには、フォト・エッチング法や予めマスクを用い
る方法などが用いられる。液晶配向剤の塗布方法として
は、印刷法のほか、ロールコーター法、スピンナー法な
どの方法も用いることができる。液晶配向剤の塗布に際
しては、基板表面および透明導電膜と塗膜との接着性を
さらに良好にするために、基板の一面および透明導電膜
上に、官能性シラン含有化合物、官能性チタン含有化合
物などを予め塗布することもできる。加熱温度は８０〜
２００℃とされ、好ましくは１２０〜２００℃とされ
る。形成される塗膜の膜厚は、通常０．００１〜１μｍ
であり、好ましくは０．００５〜０．５μｍである。 【００３７】（２）形成された塗膜面を、例えばナイロ
ン、レーヨンまたはコットン繊維からなる布を巻き付け
たロールで一定方向に擦るラビング処理を行う。これに
より、液晶分子の配向能が塗膜に付与されて液晶配向膜
となる。 【００３８】（３）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作製し、それぞれの液晶配向膜におけ
るラビング方向が直交または逆平行となるように、２枚
の基板を、間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、
２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基
板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内
に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成
する。そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セル
を構成するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その
偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラ
ビング方向と一致または直交するように貼り合わせるこ
とにより、液晶表示素子が得られる。 【００３８】ここに、シール剤としては、例えば硬化剤
およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有す
るエポキシ樹脂などを用いることができる。液晶材料と
しては、ネマティック型液晶およびスメクティック型液
晶を挙げることができ、その中でもネマティック型液晶
が好ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液
晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液
晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニル
シクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン
系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶など
を用いることができる。また、これらの液晶に、例えば
コレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレ
ステリルカーボネートなどのコレステリック型液晶や商
品名「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メルク社製）として
販売されているようなカイラル剤などを添加して使用す
ることもできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン
−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強
誘電性液晶も使用することができる。液晶セルの外表面
に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコー
ルを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と称
される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、
またはＨ膜そのものからなる偏光板などを挙げることが
できる。 【００３９】 【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。なお、以下の実施例および比較例により作
製された各液晶表示素子について、 液晶配向膜のラ
ビング傷、 液晶表示素子の配向性、 液晶表示素
子の電圧保持率について評価した。評価方法は以下のと
おりである。 【００４０】〔液晶配向膜のラビング傷〕ラビング処理
後の液晶配向膜の表面を光学顕微鏡（倍率１００倍）で
観察し、ラビング処理によるラビング傷の発生の有無を
調べた。 【００４１】〔液晶表示素子の配向性〕電圧をオン・オ
フさせた時の液晶セル中の異常ドメインの有無を偏光顕
微鏡で観察し、異常ドメインのない場合を「良好」と判
定した。 【００４２】〔液晶配向剤の電圧保持率〕８０℃の恒温
槽中に設置した液晶表示素子に５Ｖの電圧を印加し、そ
の印加電圧をオフにして、１６．７ｍｓｅｃ後の電圧保
持率を測定した。測定装置は（株）東陽テクニカ製ＶＨ
Ｒ−１を使用した。 【００４３】合成例１ ２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水
物４０．３ｇ（０．１８モル）、シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物３．９ｇ（０．０２モル）およびｐ−
フェニレンジアミン２１．６ｇ（０．２０モル）をＮ−
メチル−２−ピロリドン１０１０ｇに溶解させ、室温で
６時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタ
ノールに注いで、反応生成物を沈澱させた。その後、メ
タノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させ
て、固有粘度１．３４ｄｌ／ｇの重合体（Ａ−１）；６
２．９ｇを得た。 【００４４】合成例２ 合成例１で得られた重合体（Ａ−１）３０．０ｇをγ−
ブチロラクトン５７０ｇに溶解し、この溶液にピリジン
２１．６ｇと無水酢酸１６．７４ｇを添加し、１２０℃
で３時間加熱することによりイミド化反応を行った。次
いで、反応生成液を合成例１と同様にして沈澱させ、固
有粘度１．４０ｄｌ／ｇの重合体（Ｂ−１）；２８．３
ｇを得た。 【００４５】合成例３ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物４
２．６ｇ（０．１９モル）およびシクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物２．０ｇ（０．０１モル）とした以外
は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−２）を得、さら
にこの重合体（Ａ−２）を用いて合成例２と同様にして
イミド化反応を行い、固有粘度１．３６ｄｌ／ｇの重合
体（Ｂ−２）；２７．２ｇを得た。 【００４６】合成例４ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物３
５．８ｇ（０．１６モル）およびシクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物７．８ｇ（０．０４モル）とした以外
は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−３）を得、さら
にこの重合体（Ａ−３）を用いて合成例２と同様にして
イミド化反応を行い、固有粘度１．４６ｄｌ／ｇの重合
体（Ｂ−３）；２７．３ｇを得た。 【００４７】合成例５ 合成例１において、ジアミンを４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン３９．６ｇ（０．２０モル）とした以外
は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−４）を得、さら
にこの重合体（Ａ−４）を用いて合成例２と同様にして
イミド化反応を行い、固有粘度１．３７ｄｌ／ｇの重合
体（Ｂ−４）；２７．３ｇを得た。 【００４８】合成例６ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を１，
２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物
３５．７ｇ（０．１７モル）およびシクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物５．９ｇ（０．０３モル）とした以
外は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−５）を得、さ
らにこの重合体（Ａ−５）を用いて合成例２と同様にし
てイミド化反応を行い、固有粘度０．９９ｄｌ／ｇの重
合体（Ｂ−５）；２６．３ｇを得た。 【００４９】合成例７ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無
水物３６．０ｇ（０．１７モル）およびシクロブタンテ
トラカルボン酸二無水物５．９ｇ（０．０３モル）とし
た以外は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−６）を
得、さらにこの重合体（Ａ−６）を用いて合成例２と同
様にしてイミド化反応を行い、固有粘度１．０８ｄｌ／
ｇの重合体（Ｂ−６）；２６．７ｇを得た。 【００５０】合成例８ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物をブタン
テトラカルボン酸二無水物３３．７ｇ（０．１７モル）
およびシクロブタンテトラカルボン酸二無水物５．９ｇ
（０．０３モル）とした以外は、合成例１と同様にして
重合体（Ａ−７）を得、さらにこの重合体（Ａ−７）を
用いて合成例２と同様にしてイミド化反応を行い、固有
粘度１．０１ｄｌ／ｇの重合体（Ｂ−７）；２６．４ｇ
を得た。 【００５１】合成例９ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を５−
（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物
４４．９ｇ（０．１７モル）およびシクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物５．９ｇ（０．０３モル）とした以
外は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−８）を得、さ
らにこの重合体（Ａ−８）を用いて合成例２と同様にし
てイミド化反応を行い、固有粘度１．１４ｄｌ／ｇの重
合体（Ｂ−８）；２５．７ｇを得た。 【００５２】合成例１０ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物をビシク
ロ［２．２．２］−オクト−７−エン−２，３，５，６
テトラカルボン酸二無水物４２．２ｇ（０．１７モル）
およびシクロブタンテトラカルボン酸二無水物５．９ｇ
（０．０３モル）とした以外は、合成例１と同様にして
重合体（Ａ−９）を得、さらにこの重合体（Ａ−９）を
用いて合成例２と同様にしてイミド化反応を行い、固有
粘度１．０４ｄｌ／ｇの重合体（Ｂ−９）；２６．０ｇ
を得た。 【００５３】合成例１１ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラ
ヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト
［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン５１．０ｇ
（０．１７モル）およびシクロブタンテトラカルボン酸
二無水物５．９ｇ（０．０３モル）とした以外は、合成
例１と同様にして重合体（Ａ−１０）を得、さらにこの
重合体（Ａ−１０）を用いて合成例２と同様にしてイミ
ド化反応を行い、固有粘度１．１４ｄｌ／ｇの重合体
（Ｂ−１０）；２６．０ｇを得た。 【００５４】合成例１２ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物４
４．８ｇ（０．２０モル）とした以外は、合成例１と同
様にして重合体（Ａ−１１）を得、さらにこの重合体
（Ａ−１１）を用いて合成例２と同様にしてイミド化反
応を行い、固有粘度１．３４ｄｌ／ｇの重合体（Ｂ−１
１）；２７．２ｇを得た。 【００５５】合成例１３ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物を２，
３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物２
９．１ｇ（０．１３モル）およびシクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物１３．７ｇ（０．０７モル）とした以
外は、合成例１と同様にして重合体（Ａ−１２）を得、
さらにこの重合体（Ａ−１２）を用いて合成例２と同様
にしてイミド化反応を行ったが、イミド化時に析出物
（重合体（Ｂ−１２））が生じた。 【００５６】合成例１４ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物をベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物６４．４ｇ（０．２
０モル）とした以外は、合成例１と同様にして固有粘度
１．６８ｄｌ／ｇの重合体（Ａ−１３）；８４．２ｇを
得た。 【００５７】実施例１ （１）液晶配向剤の調製 合成例１で得られた重合体（Ａ−１）をＮ−メチル−２
−ピロリドンに溶解させて、固形分濃度４重量％の溶液
とし、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過し、液
晶配向剤を調製した。 【００５８】（２）液晶表示素子の作製 ガラス基板の一面に設けられたＩＴＯ膜からなる透
明導電膜上に、液晶配向膜塗布用の印刷機を用いて本発
明の液晶配向剤を塗布し、１８０℃で１時間乾燥するこ
とにより乾燥膜厚０．０５μｍの塗膜を形成した。 【００５９】 形成された塗膜面を、レーヨン製の布
を巻き付けたロールを有するラビングマシーンを用いて
ラビング処理を行うことにより、液晶分子の配向能を塗
膜に付与して液晶配向膜を作製した。ここに、ラビング
処理条件は、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの
移動速度１ｃｍ／秒、毛足押し込み長さ０．７ｍｍとし
た。得られた液晶配向膜にはラビング傷は認められなか
った。 【００６０】 上記のようにして液晶配向膜が形成さ
れた基板を２枚作製し、それぞれの基板の外縁部に、直
径１７μｍの酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹
脂をスクリーン印刷塗布した後、それぞれの液晶配向膜
におけるラビング方向が直交となるように２枚の基板を
間隙を介して対向配置し、外縁部同士を当接させて圧着
して接着剤を硬化させた。 【００６１】 基板の表面および外縁部の接着剤によ
り区画されたセルギャップ内に、ネマティック型液晶
「ＭＬＣ−２００３」（メルク・ジャパン社製）を注入
充填し、次いで、注入孔をエポキシ系接着剤で封止して
液晶セルを構成した。次いで、液晶セルの外表面、すな
わち、液晶セルを構成するそれぞれの基板の他面に、偏
光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビ
ング方向と一致するように偏光板を貼り合わせることに
より、液晶表示素子を作製した。以上のようにして作製
した液晶表示素子について、電圧をオン・オフさせた時
の液晶セル中には異常ドメインは認められず、優れた配
向性を有するものであった。また、８０℃における電圧
保持率は９４．５％と高い値であった。 【００６２】実施例２〜実施例１１ 表１に示す処方に従って、合成例２〜合成例１１により
得られた重合体Ｂのそれぞれを用い、実施例１（１）と
同様にして本発明の液晶配向剤を調製した。次いで、こ
のようにして得られた液晶配向剤の各々を用い、実施例
１（２）と同様にして液晶表示素子を作製した。各実施
例において、液晶配向膜におけるラビング傷の発生状
況、液晶の配向性および電圧保持率について評価した。
結果を表１に併せて示す。 【００６３】比較例１ 合成例１２により得られた重合体（Ｂ−１１）を用い、
実施例１（１）と同様にして比較用の液晶配向剤を調製
した。次いで、この液晶配向剤を用い、実施例１（２）
と同様にして液晶表示素子を作製し、評価をした。評価
結果を表１に示す。 【００６４】比較例２ 合成例１３により得られた重合体（Ｂ−１２）を用い、
実施例１（１）と同様にして比較用の液晶配向剤を調製
した。この調製液はフィルターでの濾過性が非常に悪
く、濾過した液も白濁を生じていた。次いで、この液晶
配向剤を用い、実施例１（２）と同様にして液晶表示素
子を作製したところ、印刷時の膜厚の不均一性によると
考えられる表示不良が発生した。評価結果を表１に示
す。 【００６５】比較例３ 合成例１４により得られた重合体（Ａ−１３）を用い、
実施例１（１）と同様にして比較用の液晶配向剤を調製
した。次いで、この液晶配向剤を用い、実施例１（２）
と同様にして液晶表示素子を作製し、評価をした。評価
結果を表１に示す。 【００６６】 【発明の効果】本発明によれば、ラビング処理で生じる
液晶配向膜表面の傷が少なく、かつ液晶配向性および電
圧保持率に優れた液晶表示素子を与える液晶配向剤が得
られる。また、本発明の液晶配向剤により形成された液
晶配向膜に、例えば特開平６−２２２３６６号公報や特
開平６−２８１９３７号公報に示されているような紫外
線を照射することによってプレチルト角を変化させるよ
うな処理、あるいは特開平５−１０７５４４号公報に示
されているような液晶配向膜上にレジストを部分的に塗
布して液晶配向膜のラビング方向を変えるような処理を
行うことによって、液晶表示素子の視界特性を改善する
ことが可能である。本発明の液晶配向剤を用いて形成し
た液晶配向膜を有する液晶表示素子は、使用する液晶を
選択することにより、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔ
ｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＳＨ（Ｓｕｐｅｒ Ｈｏｍｅ
ｏｔｒｏｐｉｃ）、強誘電性、反強誘電性液晶表示素子
などにも好適に使用することができる。さらに、本発明
の液晶配向剤を用いて形成した配向膜を有する液晶表示
素子は、液晶の配向性および信頼性に優れ、種々の装置
に有効に使用でき、例えば卓上計算機、腕時計、置時
計、係数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピ
ューター、液晶テレビなどの表示装置に用いられる。 【００６７】以下に本発明の好ましい態様を列挙する。 １）化合物（II）の使用割合が、全テトラカルボン酸二
無水物の総量に対して２〜２０モル％である液晶配向
剤。 ２）化合物（III）が、ｐ−フェニレンジアミン、４，
４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノ
フェノキシ）フェニル］プロパン、９，９−ビス（４−
アミノフェニル）フルオレン 、２，２−ビス［４−
（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプ
ロピリデン）ビスアニリンおよび４，４’−（ｍ−フェ
ニレンジイソプロピリデン）ビスアニリンから選ばれた
ものである液晶配向剤。 ３）化合物（II）が、シクロブタンテトラカルボン酸の
二無水物である液晶配向剤。 【００６８】 【表１】
─────────────────────────────────────────────────────
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(56)参考文献 特開 平８−122793（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−305065（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−222367（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−341291（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−216045（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−157424（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−287324（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−47932（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C08G 73/00 - 73/26
G02F 1/1337
ＣＡＰＬＵＳ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 〔Ａ〕下記式（１）〜（７）で示される
テトラカルボン酸から選ばれる少なくとも１種の化合物
の二無水物７０〜９８モル％、および下記式（８）で示
されるシクロブタン環含有テトラカルボン酸化合物の二
無水物２〜３０モル％からなるテトラカルボン酸二無水
物と、 〔Ｂ〕下記式（９）で示されるジアミン化合物とを反応
させることにより得られるポリアミック酸およびそのイ
ミド化重合体の少なくとも一方を含有していることを特
徴とする液晶配向剤。 【化１】【化２】 〔式（８）中、Ｒ1〜Ｒ4は各々独立に、水素原子、炭素
数１〜３のアルキル基またはハロゲン原子を示す。〕 【化３】 〔式（９）中、Ｒ5は２価の有機基を示す。〕
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