JP3379020B2 - 新規なピレン系化合物及びその製造法並びに該化合物を含む電子写真感光体 - Google Patents
新規なピレン系化合物及びその製造法並びに該化合物を含む電子写真感光体Info
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- JP3379020B2 JP3379020B2 JP01756993A JP1756993A JP3379020B2 JP 3379020 B2 JP3379020 B2 JP 3379020B2 JP 01756993 A JP01756993 A JP 01756993A JP 1756993 A JP1756993 A JP 1756993A JP 3379020 B2 JP3379020 B2 JP 3379020B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なピレン系化合
物、その製造法及びそれを含む電子写真感光体に関す
る。
物、その製造法及びそれを含む電子写真感光体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、光導電性材料の研究が盛んに行わ
れており、電子写真感光体をはじめとして太陽電池、イ
メージセンサなどの光電変換素子として応用されてい
る。従来、これらの光導電性材料には主として無機系の
材料が用いられてきた。例えば、電子写真感光体におい
てはセレン、酸化亜鉛、硫化カドミニウム等の無機光導
電材料を主成分とする感光層を設けた無機感光体が広く
使用されてきた。しかしながら、このような無機感光体
は複写機等の電子写真感光体として要求される光感度、
熱安定性、耐湿性、耐久性等の特性において必ずしも満
足できるものではなかった。例えば、セレンは熱や指紋
の汚れ等によって結晶化するために電子写真感光体とし
ての特性が劣化しやすい。また、硫化カドミウムを用い
た電子写真感光体は耐湿性、耐久性に劣り、また、酸化
亜鉛を用いた電子写真感光体も耐久性に問題がある。更
に近年、環境問題が特に重要視されているがセレン、硫
化カドミウムの電子写真感光体は毒性の点で製造上、取
扱上の制約が大きいという欠点を有している。
れており、電子写真感光体をはじめとして太陽電池、イ
メージセンサなどの光電変換素子として応用されてい
る。従来、これらの光導電性材料には主として無機系の
材料が用いられてきた。例えば、電子写真感光体におい
てはセレン、酸化亜鉛、硫化カドミニウム等の無機光導
電材料を主成分とする感光層を設けた無機感光体が広く
使用されてきた。しかしながら、このような無機感光体
は複写機等の電子写真感光体として要求される光感度、
熱安定性、耐湿性、耐久性等の特性において必ずしも満
足できるものではなかった。例えば、セレンは熱や指紋
の汚れ等によって結晶化するために電子写真感光体とし
ての特性が劣化しやすい。また、硫化カドミウムを用い
た電子写真感光体は耐湿性、耐久性に劣り、また、酸化
亜鉛を用いた電子写真感光体も耐久性に問題がある。更
に近年、環境問題が特に重要視されているがセレン、硫
化カドミウムの電子写真感光体は毒性の点で製造上、取
扱上の制約が大きいという欠点を有している。
【０００３】このような無機光導電性物質の欠点を改善
するために種々の有機光導電性物質が注目されるように
なり電子写真感光体の感光層等に使用することが試みら
れ、近年、活発に研究が行われている。例えば、特公昭
50-10496号にはポリビニルカルバゾールとトリニトロフ
ルオレノンを含有した感光層を有する有機感光体が記載
されている。しかし、この感光体は感度及び耐久性にお
いて十分なものではない。そのため、キャリア発生機能
とキャリア輸送機能を異なる物質に個別に分担させた機
能分離型の電子写真感光体が開発された。このような電
子写真感光体においては、それぞれの材料を広い範囲で
選択できるので任意の特性を得やすく、高感度、高耐久
の優れた有機感光体が得られることが期待されている。
するために種々の有機光導電性物質が注目されるように
なり電子写真感光体の感光層等に使用することが試みら
れ、近年、活発に研究が行われている。例えば、特公昭
50-10496号にはポリビニルカルバゾールとトリニトロフ
ルオレノンを含有した感光層を有する有機感光体が記載
されている。しかし、この感光体は感度及び耐久性にお
いて十分なものではない。そのため、キャリア発生機能
とキャリア輸送機能を異なる物質に個別に分担させた機
能分離型の電子写真感光体が開発された。このような電
子写真感光体においては、それぞれの材料を広い範囲で
選択できるので任意の特性を得やすく、高感度、高耐久
の優れた有機感光体が得られることが期待されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような機能分離型
の電子写真感光体のキャリア発生物質及びキャリア輸送
物質として種々の有機化合物が提案されており、キャリ
ア発生物質としてはこれまでジブロムアンスアンスロン
に代表される多環キノン化合物、ピリリウム化合物及び
ピリリウム化合物の共晶錯体、スクエアリウム化合物、
フタロシアニン化合物、アゾ化合物などの光導電性物質
が実用化されている。
の電子写真感光体のキャリア発生物質及びキャリア輸送
物質として種々の有機化合物が提案されており、キャリ
ア発生物質としてはこれまでジブロムアンスアンスロン
に代表される多環キノン化合物、ピリリウム化合物及び
ピリリウム化合物の共晶錯体、スクエアリウム化合物、
フタロシアニン化合物、アゾ化合物などの光導電性物質
が実用化されている。
【０００５】例えば、多環キノン化合物を感光層中に含
有する電子写真感光体として、特開昭49-76933号、同50
-75042号、同63-180955号等が既に公知である。しかし
これらの化合物は、感度等の特性において必ずしも満足
し得るものではなく、また、キャリア輸送物質の選択範
囲が限定されるなど、電子写真プロセスの幅広い要求を
充分満足させるものではない。
有する電子写真感光体として、特開昭49-76933号、同50
-75042号、同63-180955号等が既に公知である。しかし
これらの化合物は、感度等の特性において必ずしも満足
し得るものではなく、また、キャリア輸送物質の選択範
囲が限定されるなど、電子写真プロセスの幅広い要求を
充分満足させるものではない。
【０００６】
【発明の目的】本発明の目的は、有機光導電性化合物と
して特に有用なピレン系化合物、その製造法及びそれを
含む電子写真感光体を提供することにある。
して特に有用なピレン系化合物、その製造法及びそれを
含む電子写真感光体を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のピレン系化合物
は、下記一般式〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕で
表される化合物である。
は、下記一般式〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕で
表される化合物である。
【０００８】
【化５】
【０００９】但し、式中Ｘは置換または無置換の二価の
芳香族環を表し、置換基としては、アルキル基、アルコ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、ア
シロキシ基、アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン基、
ニトロ基、シアノ基から選ばれる基を表し、Ｒ1〜Ｒ6は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アラルキル基、置換または無置換の
芳香族環残基を表し、置換基としては、アルキル基また
はアルコキシ基を表す。
芳香族環を表し、置換基としては、アルキル基、アルコ
キシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、ア
シロキシ基、アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン基、
ニトロ基、シアノ基から選ばれる基を表し、Ｒ1〜Ｒ6は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アラルキル基、置換または無置換の
芳香族環残基を表し、置換基としては、アルキル基また
はアルコキシ基を表す。
【００１０】Ｘの好ましいものとしては、ベンゼン環、
ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスレン環、ピ
リジン環、ピリミジン環、アントラキノン環が挙げら
れ、特に好ましいものはベンゼン環、ナフタレン環であ
る。Ｘの置換基としては、アルキル、アルコキシ、アリ
ール、アリールオキシ、アシル、アシロキシ、アミノ、
カルバモイル、ハロゲン、ニトロ、シアノなどが挙げら
れる。また、Ｒ1、Ｒ4としては、置換、無置換の芳香族
環残基が好ましく、置換、無置換のフェニル基が更に好
ましい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6としては、水素原子、ハロ
ゲン原子が好ましい。
ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスレン環、ピ
リジン環、ピリミジン環、アントラキノン環が挙げら
れ、特に好ましいものはベンゼン環、ナフタレン環であ
る。Ｘの置換基としては、アルキル、アルコキシ、アリ
ール、アリールオキシ、アシル、アシロキシ、アミノ、
カルバモイル、ハロゲン、ニトロ、シアノなどが挙げら
れる。また、Ｒ1、Ｒ4としては、置換、無置換の芳香族
環残基が好ましく、置換、無置換のフェニル基が更に好
ましい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6としては、水素原子、ハロ
ゲン原子が好ましい。
【００１１】更に、本発明のもうひとつのピレン系化合
物は、下記一般式〔５〕で表される化合物である。
物は、下記一般式〔５〕で表される化合物である。
【００１２】
【化６】
【００１３】但し、式中Ｒは水素原子、置換または無置
換のアルキル基、置換または無置換の芳香族残基を表
し、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、アシル基、アシロキシ基、
アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン基、ニトロ基、シ
アノ基から選ばれる基を表し、Ｒ1〜Ｒ6は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキル基、置換または無置換の芳香族環残基
を表し、置換基としては、アルキル基またはアルコキシ
基を表す。
換のアルキル基、置換または無置換の芳香族残基を表
し、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、アシル基、アシロキシ基、
アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン基、ニトロ基、シ
アノ基から選ばれる基を表し、Ｒ1〜Ｒ6は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキル基、置換または無置換の芳香族環残基
を表し、置換基としては、アルキル基またはアルコキシ
基を表す。
【００１４】Ｒ1、Ｒ4としては、置換、無置換の芳香族
環残基が好ましく、置換、無置換のフェニル基がさらに
好ましい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6としては、水素原子、ハ
ロゲン原子が好ましい。
環残基が好ましく、置換、無置換のフェニル基がさらに
好ましい。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ5、Ｒ6としては、水素原子、ハ
ロゲン原子が好ましい。
【００１５】一般式〔１〕、〔２〕、〔３〕または
〔４〕で表されるピレン化合物は、一般式〔６〕で表さ
れるピレン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無水物誘導体
と一般式〔７〕で表されるジアミノ化合物の脱水縮合反
応を行うことにより、製造される。なお、一般式
〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕で表されるピレン
化合物は構造異性体であり、上記縮合反応において混合
物として生成し得るが、これらは単離することなく使用
できる。
〔４〕で表されるピレン化合物は、一般式〔６〕で表さ
れるピレン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無水物誘導体
と一般式〔７〕で表されるジアミノ化合物の脱水縮合反
応を行うことにより、製造される。なお、一般式
〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕で表されるピレン
化合物は構造異性体であり、上記縮合反応において混合
物として生成し得るが、これらは単離することなく使用
できる。
【００１６】
【化７】
【００１７】一般式〔６〕中、Ｒ1〜Ｒ6は一般式
〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕中におけると同一
である。
〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕中におけると同一
である。
【００１８】また、一般式〔７〕中Ｘは、一般式
〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕中におけると同一
である。
〔１〕、〔２〕、〔３〕または〔４〕中におけると同一
である。
【００１９】また、一般式〔５〕で表されるピレン系化
合物は、一般式〔６〕で表されるピレン-1,2,6,7-テト
ラカルボン酸二無水物誘導体と一般式〔８〕で表される
アミノ化合物の脱水縮合反応を行うことにより、製造さ
れる。
合物は、一般式〔６〕で表されるピレン-1,2,6,7-テト
ラカルボン酸二無水物誘導体と一般式〔８〕で表される
アミノ化合物の脱水縮合反応を行うことにより、製造さ
れる。
【００２０】尚、一般式〔８〕中Ｒは、一般式〔５〕中
におけると同一である。
におけると同一である。
【００２１】上記の製造合成は、非反応性の高沸点溶
媒、好ましくはN-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホル
ムアミド、キノリン、α-クロルナフタレン溶媒中、ピ
レン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無水物誘導体と各種
ジアミノ化合物あるいはアミノ化合物とを１：２〜１：
10好ましくは１：２〜１：３のモル比で混合し、撹拌
下、150〜250℃の温度で行われる。また、無水塩化亜
鉛、無水酢酸亜鉛、酢酸、塩酸のような脱水触媒を使用
して、反応速度を増加させることもできる。触媒は酸無
水物１モルに対して約0.01〜約２モル量用いると効果的
である。
媒、好ましくはN-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホル
ムアミド、キノリン、α-クロルナフタレン溶媒中、ピ
レン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無水物誘導体と各種
ジアミノ化合物あるいはアミノ化合物とを１：２〜１：
10好ましくは１：２〜１：３のモル比で混合し、撹拌
下、150〜250℃の温度で行われる。また、無水塩化亜
鉛、無水酢酸亜鉛、酢酸、塩酸のような脱水触媒を使用
して、反応速度を増加させることもできる。触媒は酸無
水物１モルに対して約0.01〜約２モル量用いると効果的
である。
【００２２】本発明の原料化合物であるピレン-1,2,6,7
-テトラカルボン酸二無水物誘導体は、公知の方法、例
えば、Tetrahedron誌、第30巻、3293ページ（1974年）
に記載されている方法により得ることができる。
-テトラカルボン酸二無水物誘導体は、公知の方法、例
えば、Tetrahedron誌、第30巻、3293ページ（1974年）
に記載されている方法により得ることができる。
【００２３】このようにして得られる本発明のピレン系
化合物を以下に例示するが、本発明はこれら例示化合物
のみに限定されるものではない。
化合物を以下に例示するが、本発明はこれら例示化合物
のみに限定されるものではない。
【００２４】
【化８】
【００２５】
【化９】
【００２６】
【化１０】
【００２７】
【化１１】
【００２８】
【化１２】
【００２９】
【化１３】
【００３０】
【化１４】
【００３１】
【化１５】
【００３２】
【化１６】
【００３３】
【化１７】
【００３４】
【化１８】
【００３５】
【化１９】
【００３６】
【化２０】
【００３７】
【化２１】
【００３８】
【化２２】
【００３９】
【化２３】
【００４０】
【化２４】
【００４１】本発明のピレン系化合物を電子写真感光体
に用いる場合について、以下に説明する。
に用いる場合について、以下に説明する。
【００４２】感光体の構成は種々の形態が知られてい
る。本発明の感光体はそれらのいずれの形態をもとり得
るが、積層型もしくは分散型の機能分離型感光体とする
のが望ましい。この場合、通常は図１（１）〜図１
（６）のような構成となる。同図（１）に示す層構成
は、導電性支持体１上にキャリア発生層２を形成し、こ
れにキャリア輸送層３を積層して感光層４を形成したも
のであり、同図（２）はこれらのキャリア発生層２とキ
ャリア輸送層３を逆にした感光層４′を形成したもので
ある。同図（３）は同図（１）の層構成の感光層４と導
電性支持体１の間に中間層５を設け、同図（４）は同図
（２）の層構成の感光層４′と導電性支持体１との間に
中間層５を設けたものである。同図（５）の層構成はキ
ャリア発生物質６とキャリア輸送物質７を含有する感光
層４″を形成したものであり、同図（６）はこのような
感光層４″と導電性支持体１との間に中間層５を設けた
ものである。
る。本発明の感光体はそれらのいずれの形態をもとり得
るが、積層型もしくは分散型の機能分離型感光体とする
のが望ましい。この場合、通常は図１（１）〜図１
（６）のような構成となる。同図（１）に示す層構成
は、導電性支持体１上にキャリア発生層２を形成し、こ
れにキャリア輸送層３を積層して感光層４を形成したも
のであり、同図（２）はこれらのキャリア発生層２とキ
ャリア輸送層３を逆にした感光層４′を形成したもので
ある。同図（３）は同図（１）の層構成の感光層４と導
電性支持体１の間に中間層５を設け、同図（４）は同図
（２）の層構成の感光層４′と導電性支持体１との間に
中間層５を設けたものである。同図（５）の層構成はキ
ャリア発生物質６とキャリア輸送物質７を含有する感光
層４″を形成したものであり、同図（６）はこのような
感光層４″と導電性支持体１との間に中間層５を設けた
ものである。
【００４３】本発明では上記のピレン系化合物の他に他
のキャリア発生物質を併用してもよい。そのようなキャ
リア発生物質としてはフタロシアニン顔料、アゾ顔料、
アントラキノン顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、
スクエアリウム顔料等が挙げられる。
のキャリア発生物質を併用してもよい。そのようなキャ
リア発生物質としてはフタロシアニン顔料、アゾ顔料、
アントラキノン顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、
スクエアリウム顔料等が挙げられる。
【００４４】本発明の感光体におけるキャリア輸送物質
としては、種々のものが使用できるが、代表的なものと
しては例えば、オキサゾール、オキサジアゾール、チア
ゾール、チアジアゾール、イミダゾール等に代表される
含窒素複素環核及びその縮合環核を有する化合物、ポリ
アリールアルカン系の化合物、ピラゾリン系化合物、ヒ
ドラゾン系化合物、トリアリールアミン系化合物、スチ
リル系化合物、スチリルトリフェニルアミン系化合物、
β-フェニルスチリルトリフェニルアミン系化合物、ブ
タジエン系化合物、ヘキサトリエン系化合物、カルバゾ
ール系化合物、縮合多環系化合物、等が挙げられる。
としては、種々のものが使用できるが、代表的なものと
しては例えば、オキサゾール、オキサジアゾール、チア
ゾール、チアジアゾール、イミダゾール等に代表される
含窒素複素環核及びその縮合環核を有する化合物、ポリ
アリールアルカン系の化合物、ピラゾリン系化合物、ヒ
ドラゾン系化合物、トリアリールアミン系化合物、スチ
リル系化合物、スチリルトリフェニルアミン系化合物、
β-フェニルスチリルトリフェニルアミン系化合物、ブ
タジエン系化合物、ヘキサトリエン系化合物、カルバゾ
ール系化合物、縮合多環系化合物、等が挙げられる。
【００４５】これらのキャリア輸送物質の具体例として
は、例えば特開昭61-107356号に記載のキャリア輸送物
質を挙げることができるが、特に代表的なものの構造を
次に示す。
は、例えば特開昭61-107356号に記載のキャリア輸送物
質を挙げることができるが、特に代表的なものの構造を
次に示す。
【００４６】
【化２５】
【００４７】
【化２６】
【００４８】
【化２７】
【００４９】
【化２８】
【００５０】
【化２９】
【００５１】キャリア発生層は、キャリア発生物質を単
独もしくはバインダや添加剤ともに適当な分散媒中に微
粒子分散させた液を塗布するか、あるいはキャリア発生
物質を真空蒸着することにより形成する。前者の場合、
分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンド
ミル、ホモミキサ等の分散装置が使用できる。また、キ
ャリア輸送層は、キャリア輸送物質を単独で、もしくは
バインダや添加剤とともに溶解させた溶液を塗布する方
法が有効である。
独もしくはバインダや添加剤ともに適当な分散媒中に微
粒子分散させた液を塗布するか、あるいはキャリア発生
物質を真空蒸着することにより形成する。前者の場合、
分散手段としては、超音波分散機、ボールミル、サンド
ミル、ホモミキサ等の分散装置が使用できる。また、キ
ャリア輸送層は、キャリア輸送物質を単独で、もしくは
バインダや添加剤とともに溶解させた溶液を塗布する方
法が有効である。
【００５２】感光層の形成に使用される溶剤或は分散媒
としては広く任意のものを用いることができる。例え
ば、ブチルアミン、エチレンジアミン、N,N-ジメチルホ
ルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、エチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、
キシレン、アセトフェノン、クロロホルム、ジクロルメ
タン、ジクロルエタン、トリクロルエタン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げら
れる。
としては広く任意のものを用いることができる。例え
ば、ブチルアミン、エチレンジアミン、N,N-ジメチルホ
ルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、エチレングリコールジメチルエーテル、トルエン、
キシレン、アセトフェノン、クロロホルム、ジクロルメ
タン、ジクロルエタン、トリクロルエタン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール等が挙げら
れる。
【００５３】キャリア発生層もしくはキャリア輸送層の
形成にバインダを用いる場合に、バインダとして任意の
ものを選ぶことができるが、特に疎水性でかつフィルム
形成能を有する高分子重合体が望ましい。このような重
合体としては例えば次のものを挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。
形成にバインダを用いる場合に、バインダとして任意の
ものを選ぶことができるが、特に疎水性でかつフィルム
形成能を有する高分子重合体が望ましい。このような重
合体としては例えば次のものを挙げることができるが、
これらに限定されるものではない。
【００５４】
ポリカーボネート ポリカーボネートＺ
樹脂 アクリル樹脂 メタクリル樹脂 ポリ塩化ビニル ポリ塩化ビニリデン ポリスチレン スチレン―ブタジエ
ン共重合体 ポリ酢酸ビニル ポリビニルホルマー
ル ポリビニルブチラール ポリビニルアセター
ル ポリビニルカルバゾール スチレン―アルキッ
ド樹脂 シリコーン樹脂 シリコーン―アルキ
ッド樹脂 ポリエステル フェノール樹脂 ポリウレタン エポキシ樹脂 塩化ビニリデン―アクリロニトリル共重合体 塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体 塩化ビニル―酢酸ビニル―無水マレイン酸共重合体 バインダに対するキャリア発生物質の割合は10〜600wt
％が望ましく、さらには50〜400wt％が好ましい。バイ
ンダに対するキャリア輸送物質の割合は10〜500wt％と
するのが望ましい。キャリア発生層の厚さは、0.01〜20
μmとされるが、さらには0.05〜５μmが好ましい。キャ
リア輸送層の厚みは１〜100μmであるが、さらには５〜
30μmが好ましい。
樹脂 アクリル樹脂 メタクリル樹脂 ポリ塩化ビニル ポリ塩化ビニリデン ポリスチレン スチレン―ブタジエ
ン共重合体 ポリ酢酸ビニル ポリビニルホルマー
ル ポリビニルブチラール ポリビニルアセター
ル ポリビニルカルバゾール スチレン―アルキッ
ド樹脂 シリコーン樹脂 シリコーン―アルキ
ッド樹脂 ポリエステル フェノール樹脂 ポリウレタン エポキシ樹脂 塩化ビニリデン―アクリロニトリル共重合体 塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体 塩化ビニル―酢酸ビニル―無水マレイン酸共重合体 バインダに対するキャリア発生物質の割合は10〜600wt
％が望ましく、さらには50〜400wt％が好ましい。バイ
ンダに対するキャリア輸送物質の割合は10〜500wt％と
するのが望ましい。キャリア発生層の厚さは、0.01〜20
μmとされるが、さらには0.05〜５μmが好ましい。キャ
リア輸送層の厚みは１〜100μmであるが、さらには５〜
30μmが好ましい。
【００５５】上記感光層には感度の向上や残留電位の減
少、或は反復使用時の疲労の低減を目的として、電子受
容性物質を含有させることができる。このような電子受
容性物質としては例えば、無水琥珀酸、無水マレイン
酸、ジブロム無水琥珀酸、無水フタル酸、テトラクロル
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3―ニトロ
無水フタル酸、4―ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリ
ット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テト
ラシアノキノジメタン、o―ジニトロベンゼン、m―ジニ
トロベンゼン、1,3,5―トリニトロベンゼン、p-ニトロ
ベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイ
ミド、クロラニル、ブロマニル、ジクロルジシアノ-p-
ベンゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノ
ン、9―フルオレニリデンマロノジニトリル、ポリニト
ロ―9―フルオレニリデンマロノジニトリル、ピクリン
酸、o―ニトロ安息香酸、p―ニトロ安息香酸、3,5―ジ
ニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、5―ニトロ
サリチル酸、3,5―ジニトロサリチル酸、フタル酸、メ
リット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げる
ことができる。電子受容性物質の添加割合はキャリア発
生物質の重量100に対して0.01〜200が望ましく、さらに
は0.1〜100が好ましい。
少、或は反復使用時の疲労の低減を目的として、電子受
容性物質を含有させることができる。このような電子受
容性物質としては例えば、無水琥珀酸、無水マレイン
酸、ジブロム無水琥珀酸、無水フタル酸、テトラクロル
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3―ニトロ
無水フタル酸、4―ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリ
ット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テト
ラシアノキノジメタン、o―ジニトロベンゼン、m―ジニ
トロベンゼン、1,3,5―トリニトロベンゼン、p-ニトロ
ベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイ
ミド、クロラニル、ブロマニル、ジクロルジシアノ-p-
ベンゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノ
ン、9―フルオレニリデンマロノジニトリル、ポリニト
ロ―9―フルオレニリデンマロノジニトリル、ピクリン
酸、o―ニトロ安息香酸、p―ニトロ安息香酸、3,5―ジ
ニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、5―ニトロ
サリチル酸、3,5―ジニトロサリチル酸、フタル酸、メ
リット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げる
ことができる。電子受容性物質の添加割合はキャリア発
生物質の重量100に対して0.01〜200が望ましく、さらに
は0.1〜100が好ましい。
【００５６】また、上記感光層中には保存性、耐久性、
耐環境依存性を向上させる目的で酸化防止剤や光安定剤
等の劣化防止剤を含有させることができる。そのような
目的に用いられる化合物としては例えば、トコフェロー
ル等のクロマノール誘導体及びそのエーテル化化合物も
しくはエステル化化合物、ポリアリールアルカン化合
物、ハイドロキノン誘導体及びそのモノ及びジエーテル
化化合物、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール
誘導体、チオエーテル化合物、ホスホン酸エステル、亜
燐酸エステル、フェニレンジアミン誘導体、フェノール
化合物、ヒンダードフェノール化合物、直鎖アミン化合
物、環状アミン化合物、ヒンダードアミン化合物などが
有効である。特に有効な化合物の具体例としては、「IR
GANOX 1010」，「IRGANOX 565」（チバ・ガイギー社
製)，「スミライザー BHT」，「スミライザー MDP」（住
友化学工業社製）等のヒンダードフェノール化合物、
「サノールLS―2626」，「サノール LS―622LD」（三共
社製）等のヒンダードアミン化合物が挙げられる。
耐環境依存性を向上させる目的で酸化防止剤や光安定剤
等の劣化防止剤を含有させることができる。そのような
目的に用いられる化合物としては例えば、トコフェロー
ル等のクロマノール誘導体及びそのエーテル化化合物も
しくはエステル化化合物、ポリアリールアルカン化合
物、ハイドロキノン誘導体及びそのモノ及びジエーテル
化化合物、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール
誘導体、チオエーテル化合物、ホスホン酸エステル、亜
燐酸エステル、フェニレンジアミン誘導体、フェノール
化合物、ヒンダードフェノール化合物、直鎖アミン化合
物、環状アミン化合物、ヒンダードアミン化合物などが
有効である。特に有効な化合物の具体例としては、「IR
GANOX 1010」，「IRGANOX 565」（チバ・ガイギー社
製)，「スミライザー BHT」，「スミライザー MDP」（住
友化学工業社製）等のヒンダードフェノール化合物、
「サノールLS―2626」，「サノール LS―622LD」（三共
社製）等のヒンダードアミン化合物が挙げられる。
【００５７】中間層、保護層等に用いられるバインダと
しては、上記のキャリア発生層及びキャリア輸送層用に
挙げたものを用いることができるが、その他にポリアミ
ド樹脂、ナイロン樹脂、エチレン―酢酸ビニル共重合
体、エチレン―酢酸ビニル―無水マレイン酸共重合体、
エチレン―酢酸ビニル―メタクリル酸共重合体等のエチ
レン系樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体
等が有効である。
しては、上記のキャリア発生層及びキャリア輸送層用に
挙げたものを用いることができるが、その他にポリアミ
ド樹脂、ナイロン樹脂、エチレン―酢酸ビニル共重合
体、エチレン―酢酸ビニル―無水マレイン酸共重合体、
エチレン―酢酸ビニル―メタクリル酸共重合体等のエチ
レン系樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体
等が有効である。
【００５８】導電性支持体としては、金属板、金属ドラ
ムが用いられる他、導電性ポリマーや酸化インジウム等
の導電性化合物、もしくはアルミニウム、パラジウム等
の金属の薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により
紙やプラスチックフィルムなどの基体の上に設けてなる
ものを用いることができる。
ムが用いられる他、導電性ポリマーや酸化インジウム等
の導電性化合物、もしくはアルミニウム、パラジウム等
の金属の薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により
紙やプラスチックフィルムなどの基体の上に設けてなる
ものを用いることができる。
【００５９】
【実施例】以下に実施例を示すが、本発明はこれに限定
されるものではない。
されるものではない。
【００６０】実施例１
3,8-ジフェニルピレン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無
水物2.5g（0.005モル）、o-フェニレンジアミン1.6g
（0.015モル）、無水塩化亜鉛0.1g（0.001モル）を、キ
ノリン50ml中２時間加熱還流し、析出した結晶を濾取し
た。アセトン、メタノールで洗浄した後乾燥し、2.8g
（88％）の生成物を得た。これを昇華精製した。赤外吸
収スペクトルを図２に示す。原料の酸無水物のν＝184
0、1770cm-1の赤外吸収が消え、ν＝1740cm-1に新たな
赤外吸収が現れたこと、及びＦＤ−マススペクトルの分
子イオンピーク（ｍ／ｅ＝638）によって、ビス（ベン
ズイミダゾール）ジフェニルピレン（例示化合物No.4
1）が合成されたことが確認された。これは、下に示す
３種の構造異性体の混合物であると考えられる。
水物2.5g（0.005モル）、o-フェニレンジアミン1.6g
（0.015モル）、無水塩化亜鉛0.1g（0.001モル）を、キ
ノリン50ml中２時間加熱還流し、析出した結晶を濾取し
た。アセトン、メタノールで洗浄した後乾燥し、2.8g
（88％）の生成物を得た。これを昇華精製した。赤外吸
収スペクトルを図２に示す。原料の酸無水物のν＝184
0、1770cm-1の赤外吸収が消え、ν＝1740cm-1に新たな
赤外吸収が現れたこと、及びＦＤ−マススペクトルの分
子イオンピーク（ｍ／ｅ＝638）によって、ビス（ベン
ズイミダゾール）ジフェニルピレン（例示化合物No.4
1）が合成されたことが確認された。これは、下に示す
３種の構造異性体の混合物であると考えられる。
【００６１】
【化３０】
【００６２】実施例２〜５
実施例１においてo-フェニレンジアミンを表１中のジア
ミノ化合物に変えた他は実施例１と同様にして各種のピ
レン系化合物を製造した。結果を表１に示す。また、こ
れらのピレン系化合物の赤外吸収スペクトルを図３〜６
に示す。
ミノ化合物に変えた他は実施例１と同様にして各種のピ
レン系化合物を製造した。結果を表１に示す。また、こ
れらのピレン系化合物の赤外吸収スペクトルを図３〜６
に示す。
【００６３】
【表１】
【００６４】実施例６〜10
実施例１においてo-フェニレンジアミンを表２中のアミ
ノ化合物に変えた他は実施例１と同様にして各種のピレ
ン系化合物を製造した。結果を表２に示す。また、これ
らのピレン系化合物の赤外吸収スペクトルを図７〜11に
示す。
ノ化合物に変えた他は実施例１と同様にして各種のピレ
ン系化合物を製造した。結果を表２に示す。また、これ
らのピレン系化合物の赤外吸収スペクトルを図７〜11に
示す。
【００６５】
【表２】
【００６６】実施例11
実施例１で得られた化合物No.41のピレン系化合物を、
アルミニウムを蒸着したポリエステルフィルム上に0.5
μmの厚さに真空蒸着し、キャリア発生層とした。その
上に、キャリア輸送物質Ｔ−20を１部とポリカーボネー
ト樹脂「ユーピロンＺ−200」（三菱瓦斯化学社製）を
1.3部、及び微量のシリコーンオイル「ＫＦ−54」（信
越化学社製）を1,2-ジクロルエタン10部に溶解した液を
ブレード塗布機を用いて塗布し、乾燥の後、膜厚20μm
のキャリア輸送層を形成した。このようにして得られた
感光体は、ペーパアナライザＥＰＡ−8100（川口電機社
製）を用いて以下のようにして評価した。まず、−６k
Ｖで５秒間のコロナ帯電を行い、帯電直後の表面電位Ｖ
a及び５秒間放置後の表面電位Ｖiを求め、続いて表面照
度が8.2 luxとなるような露光を行った。表面電位を１
／２Ｖiとするのに必要な露光量Ｅ1/2、Ｄ＝100（Ｖa−
Ｖi）／Ｖaの式より、暗減衰率Ｄを求めた。結果を表３
に示す。
アルミニウムを蒸着したポリエステルフィルム上に0.5
μmの厚さに真空蒸着し、キャリア発生層とした。その
上に、キャリア輸送物質Ｔ−20を１部とポリカーボネー
ト樹脂「ユーピロンＺ−200」（三菱瓦斯化学社製）を
1.3部、及び微量のシリコーンオイル「ＫＦ−54」（信
越化学社製）を1,2-ジクロルエタン10部に溶解した液を
ブレード塗布機を用いて塗布し、乾燥の後、膜厚20μm
のキャリア輸送層を形成した。このようにして得られた
感光体は、ペーパアナライザＥＰＡ−8100（川口電機社
製）を用いて以下のようにして評価した。まず、−６k
Ｖで５秒間のコロナ帯電を行い、帯電直後の表面電位Ｖ
a及び５秒間放置後の表面電位Ｖiを求め、続いて表面照
度が8.2 luxとなるような露光を行った。表面電位を１
／２Ｖiとするのに必要な露光量Ｅ1/2、Ｄ＝100（Ｖa−
Ｖi）／Ｖaの式より、暗減衰率Ｄを求めた。結果を表３
に示す。
【００６７】実施例12〜16
実施例11において化合物No.41のピレン系化合物を表３
中のピレン系化合物に変えた他は実施例11と同様にして
感光体を作製した。これを実施例11と同様にして評価し
た。結果を表３に示す。
中のピレン系化合物に変えた他は実施例11と同様にして
感光体を作製した。これを実施例11と同様にして評価し
た。結果を表３に示す。
【００６８】比較例 (１)
実施例11において化合物No.41のピレン系化合物を下記
のＧ−１で表されるペリノン化合物に変えた他は実施例
11と同様にして感光体を作製した。これを実施例11と同
様にして評価した。結果を表３に示す。
のＧ−１で表されるペリノン化合物に変えた他は実施例
11と同様にして感光体を作製した。これを実施例11と同
様にして評価した。結果を表３に示す。
【００６９】比較例（２）
実施例11において化合物No.41のピレン系化合物を下記
のＧ−２で表されるペリノン化合物に変えた他は実施例
11と同様にして感光体を作製した。これを実施例11と同
様にして評価した。結果を表３に示す。
のＧ−２で表されるペリノン化合物に変えた他は実施例
11と同様にして感光体を作製した。これを実施例11と同
様にして評価した。結果を表３に示す。
【００７０】
【化３１】
【００７１】
【表３】
【００７２】
【発明の効果】本発明のピレン系化合物は、容易に製造
できる上、実施例からも明らかなように光導電性化合物
としてきわめて有用である。
できる上、実施例からも明らかなように光導電性化合物
としてきわめて有用である。
【図１】本発明の感光体の層構成の具体例の断面図
【図２】実施例１で得られたピレン系化合物のＫＢr錠
剤法による赤外スペクトル図
剤法による赤外スペクトル図
【図３】実施例２で得られたピレン系化合物のＫＢr錠
剤法による赤外スペクトル図
剤法による赤外スペクトル図
【図４】実施例３で得られたピレン系化合物のＫＢr錠
剤法による赤外スペクトル図
剤法による赤外スペクトル図
【図５】実施例４で得られたピレン系化合物のＫＢr錠
剤法による赤外スペクトル図
剤法による赤外スペクトル図
【図６】実施例５で得られたピレン系化合物のＫＢr錠
剤法による赤外スペクトル図
剤法による赤外スペクトル図
【図７】実施例６で得られたピレン系化合物のＫＢr錠
剤法による赤外スペクトル図
剤法による赤外スペクトル図
【図８】実施例７で得られたピレン系化合物のＫＢr錠
剤法による赤外スペクトル図
剤法による赤外スペクトル図
【図９】実施例８で得られたピレン系化合物のＫＢr錠
剤法による赤外スペクトル図
剤法による赤外スペクトル図
【図１０】実施例９で得られたピレン系化合物のＫＢr
錠剤法による赤外スペクトル図
錠剤法による赤外スペクトル図
【図１１】実施例10で得られたピレン系化合物のＫＢr
錠剤法による赤外スペクトル図
錠剤法による赤外スペクトル図
１ 導電性支持体
２ キャリア発生層
３ キャリア輸送層
４、４′、４″ 感光層
５ 中間層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07D 487/04 - 487/22
G03G 5/06
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (6)
- 【請求項１】 一般式〔１〕、〔２〕、〔３〕または
〔４〕で表されるピレン系化合物。 【化１】 〔式中、Ｘは置換または無置換の二価の芳香族環を表
し、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、アシル基、アシロキシ基、
アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン基、ニトロ基、シ
アノ基から選ばれる基を表し、Ｒ1〜Ｒ6は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキル基、置換または無置換の芳香族環残基
を表し、置換基としては、アルキル基またはアルコキシ
基を表す。〕 - 【請求項２】 一般式〔５〕で表されるピレン系化合
物。 【化２】 〔式中、Ｒは水素原子、置換または無置換のアルキル
基、置換または無置換の芳香族残基を表し、置換基とし
ては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリー
ルオキシ基、アシル基、アシロキシ基、アミノ基、カル
バモイル基、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基から選ば
れる基を表し、Ｒ1〜Ｒ6は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキ
ル基、置換または無置換の芳香族環残基を表し、置換基
としては、アルキル基またはアルコキシ基を表す。〕 - 【請求項３】 一般式〔６〕で表されるピレン-1,2,6,7
-テトラカルボン酸二無水物誘導体と一般式〔７〕で表
されるジアミノ化合物を反応させることを特徴とする、
請求項１記載のピレン系化合物の製造法。 【化３】 〔一般式〔６〕中、Ｒ1〜Ｒ6は水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ラルキル基、置換または無置換の芳香族環残基を表し、
置換基としては、アルキル基またはアルコキシ基を表
す。また、一般式〔７〕中、Ｘは置換または無置換の二
価の芳香族環を表し、置換基としては、アルキル基、ア
ルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル
基、アシロキシ基、アミノ基、カルバモイル基、ハロゲ
ン基、ニトロ基、シアノ基から選ばれる基を表す。〕 - 【請求項４】 一般式〔６〕で表されるピレン-1,2,6,7
-テトラカルボン酸二無水物誘導体と一般式〔８〕で表
されるアミノ化合物を反応させることを特徴とする、請
求項２記載のピレン系化合物の製造法。 【化４】 〔一般式〔６〕中、Ｒ1〜Ｒ6は水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ラルキル基、置換または無置換の芳香族環残基を表し、
置換基としては、アルキル基またはアルコキシ基を表
す。また、一般式〔８〕中、Ｒは水素原子、置換または
無置換のアルキル基、置換または無置換の芳香族環残基
を表し、置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、アシル基、アシロキシ
基、アミノ基、カルバモイル基、ハロゲン基、ニトロ
基、シアノ基から選ばれる基を表す。〕 - 【請求項５】 導電性支持体もしくは導電層上に感光層
を有する電子写真感光体において、感光層が請求項１記
載のピレン系化合物を含有することを特徴とする電子写
真感光体。 - 【請求項６】 導電性支持体もしくは導電層上に感光層
を有する電子写真感光体において、感光層が請求項２記
載のピレン系化合物を含有することを特徴とする電子写
真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01756993A JP3379020B2 (ja) | 1992-02-25 | 1993-02-04 | 新規なピレン系化合物及びその製造法並びに該化合物を含む電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3803292 | 1992-02-25 | ||
| JP4-38032 | 1992-02-25 | ||
| JP01756993A JP3379020B2 (ja) | 1992-02-25 | 1993-02-04 | 新規なピレン系化合物及びその製造法並びに該化合物を含む電子写真感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05301876A JPH05301876A (ja) | 1993-11-16 |
| JP3379020B2 true JP3379020B2 (ja) | 2003-02-17 |
Family
ID=26354117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01756993A Expired - Fee Related JP3379020B2 (ja) | 1992-02-25 | 1993-02-04 | 新規なピレン系化合物及びその製造法並びに該化合物を含む電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3379020B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
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| KR100786947B1 (ko) * | 2005-06-30 | 2007-12-17 | 주식회사 엘지화학 | 파이렌 유도체 및 파이렌 유도체를 이용한 유기전자소자 |
| JP2008127294A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Konica Minolta Business Technologies Inc | ピレン系化合物、該化合物を用いた有機感光体、画像形成方法及び画像形成装置 |
| DE102008035413A1 (de) * | 2008-07-29 | 2010-02-04 | Merck Patent Gmbh | Verbindungen für organische elektronische Vorrichtungen |
| WO2019058789A1 (ja) * | 2017-09-19 | 2019-03-28 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 電子写真感光体 |
| CN113754865B (zh) * | 2020-06-18 | 2023-06-06 | 黑龙江大学 | 一种咔唑基低带隙共轭聚合物及其有机电存储器件的制备方法 |
-
1993
- 1993-02-04 JP JP01756993A patent/JP3379020B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05301876A (ja) | 1993-11-16 |
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