JP3362294B2 - 画像形成方法及びそれに用いる受像材料 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、受像材料に一度画像記
録した後に所望の被転写媒体へ再転写することにより、
平滑度の低い被転写媒体へも鮮明に高解像度の画像を記
録するための再転写可能な受像材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、熱転写方式としては、サーマルヘ
ッドによる加圧加熱方式が実用化されており、非騒音、
簡単な機構、メンテナンスフリー、ドライ処理の面で優
れた特徴を有している。

【０００３】しかも解像度の面でもサーマルヘッドの高
密度化が進み、近年では400〜600DPI以上もの解像力が
得られている。しかしながら、サーマルヘッドの高密度
化も、これ以上は困難であり、従来の熱転写記録方式で
は解像力に限界があった。

【０００４】そこで熱源としてレーザー光を用いたレー
ザー熱転写方式が提案されている。この方式ではレーザ
ー光を数ミクロン程度まで集光することが可能なため飛
躍的な解像力のアップが可能となる。

【０００５】しかし、高精細ゆえに表面凹凸やうねりの
大きい被転写媒体への転写は満足できるものではない。
即ち、被転写シートとシートとの密着性が画像の解像力
に大きく影響するようになって来た。

【０００６】従来、露光面上でのシート密着はドラムに
シートを巻き付け、シートの両端を引っ張る、あるいは
ドラムの内側から空気を吸引し真空密着するなどの方法
が考えられている。しかし、これらの方法のみではイン
クシートと被転写媒体との十分な密着性を得ることが困
難であり、十分な転写性を得られなかった。

【０００７】又、十分な真空密着性を得るためには、マ
ット材と呼ばれる数ミクロンの微粒子を受像層あるいは
インク層に添加することも考えられるが、反面、表面が
粗面化するため微細な密着性が損なわれ、転写ムラが起
こるなどの問題があった。

【０００８】これを解決するために、被転写媒体あるい
は転写媒体にクッション性を持たせて密着を改善するこ
とも有効だが、真空密着などでは十分な圧力が得られな
いため、表面平滑度の低い所謂ラフ紙に対しては根本的
解決手段とならないのが現状であった。

【０００９】よって一度平滑な受像面を持つ中間転写媒
体へ画像を転写し、更に所望の被転写媒体へラミネート
等により画像を再転写するという方法が考えられる。

【００１０】中間転写媒体上に画像を記録し、その後ラ
フ紙など任意の被転写媒体に感圧転写する方法は、特開
昭54-127334号、同54-161946号、同61-295094号、同63-
128987号等に開示されているが、従来のサーマルヘッド
による転写と異なり、レーザー熱転写方式では充分な転
写圧力が得られないため、これらの方法ではレーザー記
録に相当する数μmオーダーの高解像度画像を形成する
ことも、これを再転写することも困難であった。

【００１１】又、再転写することは出来ても、一度転写
した画像を紙などの被転写体に再転写する時に、被転写
体の凹凸に画像が完全に追従し、転写画像部の表面に凹
凸が生じるため、画像部の光沢が低下するという問題が
あった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、本発
明は上記事情に鑑み為されたものであり、高感度で高解
像度の画像を記録することが出来、平滑度の低い被転写
媒体へも鮮明に再転写可能な受像材料を提供することに
ある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の構成により達成された。

【００１４】(１)記録材料のインク層を、支持体上に少
なくとも受像層を有する受像材料の受像面に画像状に転
写し、更に該転写画像を被転写体に加熱又は加熱・加圧
によって再転写する画像形成方法において、該受像層の
ガラス転移点（Ｔｇ）が１００℃以上であって、下記ポ
リマー群から選ばれるポリマーの少なくとも１種以上を
含有し、更に再転写が該受像層のTgよりも低い温度で行
われる画像形成方法。

【００１５】

【００１６】(２)記録材料のインク層を、支持体上に少
なくとも受像層を有する受像材料の受像面に画像状に転
写し、更に該転写画像を被転写体に再転写する画像形成
方法に用いられる受像材料において、受像層のTgが100
℃以上であって、下記ポリマー群から選ばれるポリマー
の少なくとも１種以上を含有する再転写可能な受像材
料。

【００１７】

【００１８】ポリマー群：ポリアリレート、ポリパラバ
ン酸、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフ
ィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、芳
香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリカーボ
ネート、ポリスルホン (３)支持体と受像層との間にビカット軟化点が150℃以
下で厚さ15μm以上の熱軟化層を有する(１)又は(２)記
載の再転写可能な受像材料。

【００１９】以下、本発明をより具体的に説明する。

【００２０】再転写可能な受像材料を用いた本発明の画
像形成方法を図１(a)に、又、従来の再転写可能な受像
材料を用いた画像形成方法を図１(b)に示す。

【００２１】本発明の画像形成方法においては、記録
材料のインク層(２)面と再転写可能な受像材料の受像層
(3a)面を重ね合わせ、サーマルヘッドやレーザー等を用
いてインクを受像層上に像様に転写する。次に、記録
材料を剥離して、インクが像様に形成された受像層とア
ート紙などの被転写体(５)の転写面を密着するよう重ね
合わせ、ヒートロール(７)を有するラミネーター等によ
りインクのみ被転写体に転写する。

【００２２】この工程からも明らかな如く、本発明にお
いては、インクのみが被転写体に転写するものであり、
受像層等は被転写体に転写されない。この時、被転写体
に形成された画像（インク層）表面は受像層のTgより低
い再転写温度により平滑度が良く、光沢度の高い画像が
得られる。

【００２３】これに反して、従来の受像層のTgより高い
再転写温度を有する受像材料を用いる画像形成方法（図
１(b)）においては、転写されたインク層表面が被転写
体の凹凸に追従するため平滑度が悪く、最終画像の光沢
度が低い。

【００２４】被転写体の凹凸にもよるが、被転写体がア
ート紙のような紙の場合には、再転写可能な受像材料の
支持体と受像層の間にはクッション性を有する中間層が
あることが好ましい。このような中間層が存在しない
と、受像材料が被転写体である紙の「うねり」に追従し
ないので再転写性が落ちることがある。

【００２５】再転写時の温度は、上記中間層の粘度を十
分に低くするために中間層の軟化点より高いことが好ま
しい。

【００２６】本発明で用いられる被転写体は、例えばア
ート紙、上質紙のような紙が用いられ、基準長さが2.5m
m、カットオフ値が0.8mmの時、Ｒaが0.5〜3.0μm、Ｒ₂
（十点平均粗さ）が３〜20μm、Ｒmax（最高高さ）が３
〜25μmの範囲のものであるが、これに限定されるもの
ではない。

【００２７】以下に再転写方法及び条件を示す。

【００２８】再転写時の温度は80〜180℃が好ましく、
中間層がある場合には、中間層の粘度を十分に低くする
ため、中間層の軟化点より高いことが好ましい。

【００２９】一方、再転写時に、形成した画像が紙の細
かい粗さに完全に追従してしまうと画像が平滑性を失う
ので光沢度が低下してしまう。従って、再転写の温度は
受像層の表面を変形させ難いことが好ましく、再転写温
度は受像層のTgより低いことが好ましい。

【００３０】又、再転写の際に圧力を掛けることが好ま
しく、線圧として0.1〜20kg／cm、より好ましくは１〜
５kg／cmの範囲である。送り速度としては１〜50mm／se
c、より好ましくは５〜20mm／secである。

【００３１】実際に再転写を行う時の再転写装置として
は、再転写可能な受像シートと被転写体であるシート
（紙）の被転写面を重ねたものを、加熱・加圧ローラー
等を通過させて転写するもの、例えば市販のラミネータ
ー等を用いることができる。図２に再転写装置の一例を
示すが、装置構成はこれに限定されない。

【００３２】本発明に用いる再転写可能な受像材料の層
構成としては、受像層／支持体、受像層／中間層／支持
体が考えられるが、上述の理由から後者が好ましい。

【００３３】受像層のTgは100℃以上のものが好まし
く、より好ましくは120℃以上、更に好ましくは140℃以
上である。このようなものとして、例えばポリビニルア
セタール、塩化ビニル、セルロース系樹脂、フェノキシ
樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリパラ
バン酸、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリ
フェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリ
スルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテル
ケトン、ポリエーテルニトリル、芳香族ポリアミド、ポ
リベンゾイミダゾール等が挙げられる。これらTgが100
℃以上のものを単独あるいは組み合わせて用いることが
できる。

【００３４】受像層に含まれる樹脂としてより好ましく
は、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリア
リレートである。

【００３５】ポリカーボネートとしては、メチルエチル
ケトン、トルエン等の汎用溶媒にも溶解するものが好ま
しく、例えば下記構造のものが挙げられるが、これに限
定されない。

【００３６】

【化１】

【００３７】式中、Ｒは置換されてもよいシクロプロパ
ンを表す。

【００３８】又、分子量としては低い方が好ましく、数
平均分子量として30,000以下、より好ましくは25,000以
下のものが用いられる。 ポリビニルアセタールとしてはTgの高いもの、即ちTg≧
100℃のものが好ましく、硬化剤の添加により硬化する
ことにより、更に高いTgのものを用いることができる。
具体的には下記構造のもの等が好ましい。

【００３９】

【化２】

【００４０】式中、Ｒ′はブチル基又は／及びメチル基
を表し、ｐ：ｑ：ｒ＝０〜0.5：10〜20：80〜90（％）
である。又、ブチル基／メチル基＝50／50〜20／80であ
る。受像層には、これらの樹脂の他にインクとの接着性
の高い樹脂を添加することもでき、又、インクと類似構
造の樹脂、タッキファイヤー、可塑剤等で低Tgのものを
含有してもよい。

【００４１】タッキファイヤーとしては、ロジン変性合
成樹脂、ロジン変性グリセリンエステル、ロジン変性マ
レイン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、脂肪族系炭化
水素、脂肪族系オリゴマー、脂環族飽和炭化水素、ロジ
ンエステル、水素添加テルペン、芳香族系炭化水素、マ
レイン酸樹脂、アルキルフェノール、アルデヒド樹脂、
ケトン樹脂等がある。これらの含有量は受像層の全重量
に対して１〜50％が好ましい。

【００４２】可塑剤としては、例えば下記に詳述する無
機酸エステル、有機酸エステル、多価アルコールエステ
ル、エポキシ化油類などを挙げることができる。無機酸
エステルとしては例えば燐酸エステルが挙げられ、具体
的にトリエチルホスフェート、トリブチルホスフェー
ト、トリオクチルホスフェート、ジフェニル・オクチル
ホスフェート、ブチル-2-キシレニルホスフェート、ト
リフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、
2-エチルヘキシル・ジフェニルホスフェート等が挙げら
れる。

【００４３】有機酸エステルとしては、低級脂肪酸エス
テル及び高級脂肪酸エステルが挙げられ、前者の具体例
としてトリブチルシトレート、アセチルトリブチルシト
レート、トリエチルシトレート、アセチルトリエチルシ
トレート、トリシクロヘキシルシトレート、アセチルト
リオクチルシトレート、アセチルオクチルシトレート等
が、後者の具体例としてステアリン酸ブチル、オレイン
酸メトキシエチル、アセチルリシノール酸メチル、アセ
チルリシノール酸エチル、アセチルリシノール酸メトキ
シエチル等が挙げられる。

【００４４】更に有機酸エステルとして、脂肪族、芳香
族の２価の有機酸が含まれ、具体的にジブチルアジペー
ト、ジ-2-エチルヘキシルアジペート、ジオクチルアジ
ペート、ジオクチルセバケート、ジブチルセバケート、
ジ-2-エチルヘキシルアゼレート、ジ-i-デシルアジペー
ト等の脂肪族２塩基性酸、ジエチルフタレート、ジ-i-
プロピルフタレート、ジブチルフタレート、ジブチルテ
レフタレート、ブチル・ベンジルフタレート、ジブトキ
シエチルフタレート、ジヘキシルフタレート、ジシクロ
ヘキシルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチ
ルフタレート、ジ-2-エチルヘキシルフタレート、ジ-2-
エチルヘキシルテレフタレート、ジ-2-エチルヘキシル
イソフタレート、ジノニルフタレート、ブチル・シクロ
ヘキシルフタレート、ジブチルテトラクロロフタレー
ト、ジブチルイソフタレート、ジカプリルフタレート、
ジ-2-メトキシエチルフタレート、ジ-i-ブチルフタレー
ト等の芳香族２塩基性酸が上げられる。更に、多価アル
コールエステルとしては、例えばグリコールエステル類
が挙げられ、具体的にエチルフタリルエチルグリコレー
ト、ブチルフタリルエチルグリコレート、ジエチレング
リコールジベンゾエート、ジプロピレングリコールジベ
ンゾエート、蔗糖ベンゾエート等がある。エポキシ化油
類としては、例えばエポキシ化大豆油、オレイン酸グリ
シジール、9,10-エポキシステアリン酸-2-エチルヘキシ
ル、エポキシ化トール油アルキルル等を用いることがで
きる。又、単環式（ベンゼン系、ビフェニル系、ターフ
ェニル系、シクロアルカン系など）、２環式（ナフタレ
ン系、インデン系、アズレン系など）、多環式（アント
ラセン系、アセナフテン系など）、複素環式（ピリジン
系、インドール系、キノリン系など）の化合物を用いる
ことができ、例えばビフェニル系のp-ベンジルビフェニ
ルが挙げられる。

【００４５】最も好ましい受像層組成としては、ポリカ
ーボネートに上記添加剤を加えた系、ポリビニルアセタ
ール樹脂単独の系である。ポリカーボネートへの好まし
い添加剤の具体例としては、タッキファイヤーとしてロ
ジン変性合成樹脂、ロジン変性グリセリンエステル、ロ
ジン変性フェノール樹脂等のロジン系樹脂が挙げられ
る。添加量は20〜40重量％が好ましい。又、ポリカーボ
ネートの可塑剤としては、p-ベンジルビフェニル等の単
環式ビフェニル系化合物、２環式ナフタレン系、インデ
ン系化合物が挙げられ、好ましくは５〜20重量％が用い
られる。

【００４６】次に、本発明で用いられる中間層について
説明する。

【００４７】中間層の素材としては、ビカット軟化点
（JIS K7206，ASTM D1525；プラスチックの軟化温度試
験法）150℃以下で、20℃における弾性率が100kg／cm²
以下、針入度が10以上ものが好ましい。例えばＳＢＲ、
ＥＶＡ、ＳＩＳ、ＳＥＢＳ、ポリブタジエン等が挙げら
れる。又、低弾性率を有する材料、具体的に天然ゴム、
アクリレートゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、ブタジ
エンゴム、イソプレンゴム、スチレン・ブタジエンゴ
ム、クロロプレンゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴ
ム、アクリルゴム、弗素ゴム、ネオプレンゴム、クロロ
スルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリン、ＥＰＤ
Ｍ（エチレン・プロピレン・ジエンゴム）、ウレタンエ
ラストマー等のエラストマー、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリブタジエン、ポリブテン、耐衝撃性ＡＢＳ
樹脂、ポリウレタン、ＡＢＳ樹脂、アセテート、セルロ
ースアセテート、アミド樹脂、ポリテトラフルオロエチ
レン、ニトロセルロース、ポリスチレン、エポキシ樹
脂、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ポリエステ
ル、耐衝撃性アクリル樹脂、スチレン・ブタジエン共重
合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリ
ル・ブタジエン共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、可塑剤入り塩化ビニル樹脂、塩
化ビニリデン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン等のうち弾性率の小さな樹脂が挙げられる。

【００４８】更に好ましくはEVA、SBR、SIS、SEBSであ
る。EVAはVAの含有量が30〜50％のものが好ましく、か
つ針入度30以上のものが好ましい。又、SBR、SIS、SEBS
のような熱可塑性エラストマーは、スチレン／ゴム比が
10／90〜20／80Ｋものが好ましい。

【００４９】中間層の膜厚は付着可能な異物の大きさに
も依存するが、通常５〜50μmの範囲が好ましく、更に
好ましくは15〜40μmである。中間層の塗布方法として
は、リバースコーター、エクストルージョンコーター、
スライドホッパーコーター、グラビヤコーター、コンマ
ドクター、カーテンコーター、ワイヤバーなど周知の方
法が用いられる。

【００５０】又、中間層の表面性は転写性を左右するた
め、表面粗さ、「うねり」が小さい方が好ましく、基準
長さが2.5mm、カットオフ値が0.08mmの時、表面粗さＲa
が0.5μm以下であり、かつ基準長さが2.5mm、カットオ
フ値８mmの時、Ｒmaxが３μm以下の「うねり」であるこ
とが好ましい。

【００５１】その他、受像材料及び記録材料の構成、素
材に関しては、特願平4-82251号、同4-94422号、同4-13
0915号、同4-148472号、同4-209197号、同4-228778号、
同4-234901号等に記載の技術が適用できる。

【００５２】次に、記録材料（以下、インクシートと称
す）について説明する。

【００５３】インクシートは基本的に支持体上にインク
層を有し、インク層には色材及び光熱変換物質を含有す
るが、光熱変換層を別層として設けてもよい。又、支持
体とインク層（又は光熱変換層）の間にクッション層等
の中間層を設けることもできる。

【００５４】支持体としては、寸法安定性が良く、画像
形成の際の熱に耐えるものならば何でもよく、具体的に
は特開昭63-193886号２頁左下欄12〜18行に記載のフィ
ルム又はシートを使用することができる。又、レーザー
光を記録材料側から照射して画像を形成するのであれ
ば、記録材料の支持体は透明であることが望ましい。レ
ーザー光を受像材料側から照射して画像を形成するので
あれば、記録材料の支持体は透明である必要はない。支
持体の厚さは特に制約はないが、通常２〜300μm、好ま
しくは50〜100μmである。支持体の裏面（インク層を設
けた表面とは反対側の面）には、耐ブロッキング性、走
行安定性、耐熱性、帯電防止等の機能を付与するため
に、バッキング層を設けることができる。バッキング層
は、例えばニトロセルロース等の樹脂を溶媒中に溶解し
た、或はバインダー樹脂と20〜30μmの微粒子を溶媒中
に溶解又は分散したバッキング層塗工液を、支持体表面
に塗工することにより形成できる。

【００５５】クッション層は記録材料と受像材料との密
着を増す目的で設けられる。このクッション層は熱軟化
性または弾性を有する層であり、加熱により十分に軟化
変形しうるもの又は低弾性率を有する材料、あるいはゴ
ム弾性を有する材料を使用すればよい。具体的には、天
然ゴム、アクリレートゴム、ブチルゴム、ニトリルゴ
ム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン・ブタ
ジエンゴム、クロロプレンゴム、ウレタンゴム、シリコ
ーンゴム、アクリルゴム、弗素ゴム、ネオプレンゴム、
クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリン、
EPDM（エチレン・プロピレン・ジエンゴム）、ウレタン
エラストマー等のエラストマー、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリブタジエン、ポリブテン、耐衝撃性ABS
樹脂、ポリウレタン、ABS樹脂、アセテート、セルロー
スアセテート、アミド樹脂、ポリテトラフルオロエチレ
ン、ニトロセルロース、ポリスチレン、エポキシ樹脂、
フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ポリエステル系樹
脂、耐衝撃性アクリル樹脂、スチレン・ブタジエン共重
合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリ
ル・ブタジエン共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル共重
合体、ポリ酢酸ビニル、可塑剤入り塩化ビニル樹脂、塩
化ビニリデン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン等の樹脂が挙げられる。又、これらの材料を支持体形
成時に適用して、支持体自身にクッション性を持たせる
こともできる。

【００５６】クッション層は、ある程度の厚さを持たせ
るために塗布あるいはラミネート、フィルムの貼り合わ
せなどにより行い、更に表面平滑性を出すために、塗布
にて仕上げることもできる。クッション層の形成方法と
しては、ブレードコーター、ロールコーター、バーコー
ター、カーテンコーター、グラビアコーター等の塗布法
によるか、ホットメルトによる押出しラミネーション
法、又はフィルムシートにしたものを基材と貼り合わせ
る方法などを適用できる。又、特殊なクッション層とし
て熱軟化性あるいは熱可塑性の樹脂を発泡させたボイド
構造の樹脂層を用いることも可能である。表面平滑性が
必須な目止めクッション層を更に形成する場合、これは
各種塗布方式によってコーティングを行うことが望まし
い。好ましいクッション層の総厚は２μm以上、より好
ましくは４μm以上である。

【００５７】インク層中に光熱変換物質を添加できる場
合は、特に光熱変換層を必要としないが、光熱変換物質
が実質的に透明でない場合、転写画像の色再現性を考慮
してインク層と別に光熱変換層を設けることが望まし
い。光熱変換層はインク層に隣接して設けることができ
る。

【００５８】光熱変換物質を使用する場合、光源によっ
ても異なるが、光を吸収し効率良く熱に変換する物質が
よく、例えば半導体レーザーを光源として使用する場
合、近赤外に吸収帯を有する物質が好ましく、近赤外光
吸収剤としては、例えばシアニン系、ポリメチン系、ア
ズレニウム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナ
フトキノン系、アントラキノン系色素等の有機化合物、
フタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯
体などが好適に用いられ、具体的には特開昭63-139191
号、同64-33547号、特開平1-160683号、同1-280750号、
同1-293342号、同2-2074号、同3-26593号、同3-30991
号、同3-34891号、同3-36093号、同3-36094号、同3-360
95号、同3-42281号、同3-97589号、同3-103476号等に記
載の化合物が挙げられる。これらは１種又は２種以上を
組み合わせて用いることができる。

【００５９】光熱変換層におけるバインダーとしては、
Tgが高く熱伝導率の高い樹脂、例えばポリメタクリル酸
メチル、ポリカーボネート、ポリスチレン、エチルセル
ロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポ
リ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル
イミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アラミ
ド等の一般的な耐熱性樹脂を使用することができる。

【００６０】又、光熱変換層におけるバインダーとして
は、水溶性ポリマーも用いることができる。水溶性ポリ
マーはインク層との剥離性も良く、又、光照射時の耐熱
性が良く、過度な加熱に対しても所謂飛散が少ない点で
好ましい。水溶性ポリマーを用いる場合には、光熱変換
物質を水溶性に変性（スルホ基の導入等により）した
り、水系分散することが望ましい。水溶性樹脂の中でも
ゼラチンは水溶性の赤外吸収色素の凝集が少なく、光熱
変換層の安定なコーティング、記録媒体の保存、赤外吸
収色素の凝集による色濁り、感度低下が無く好ましい。
また光熱変換層とインク層との剥離性を上げることは感
度の向上につながるので、光熱変換層へ各種の離型剤を
含有させることが有効である。離型剤としては、シリコ
ーン系の離型剤（ポリオキシアルキレン変性シリコーン
オイル、アルコール変性シリコーンオイルなど）、弗素
系の界面活性剤（パーフルオロ燐酸エステル系界面活性
剤）、その他各種界面活性剤等が有効である。

【００６１】この光熱変換層の膜厚は0.1〜３μmが好ま
しく、より好ましくは0.2〜1.0μmである。光熱変換層
における光熱転換物質の含有量は、通常、画像記録に用
いる光源の波長での吸光度が0.3〜3.0、更に好ましくは
0.7〜2.5になるように決めることができる。光熱変換層
がクッション層との接着性に劣る場合は光照射時あるい
は熱転写後に、受像シートからインクシートを剥離する
際、膜剥がれを起こし、色濁りを起こすことがあるの
で、クッション層との間に接着層を設けることも可能で
ある。接着層としてはインク転写時のインク剥離強度よ
りインク転写時の光熱変換層と層及び接着層とクッショ
ン層との接着力が大きい組合せになるように素材を選ぶ
必要がある。一般的にはポリエステル、ウレタン、ゼラ
チンなどの従来公知の接着剤が使用出きる。又、同様な
効果を得るために、接着層を設ける代わりにクッション
層に粘着付与剤、接着剤を添加することもできる。接着
層にクッション性や熱軟化性が乏しい場合、クッション
層の効果が減ってしまうので、出来るだけ接着層は薄い
方が好ましい。好ましい膜厚は0.5μm以下であるが、接
着層がクッション層の目的を果たすことが出来ればこの
限りではない。

【００６２】光熱変換層としては、この他にも蒸着膜を
使用することも可能であり、カーボンブラック、特開昭
52-20842号に記載の金、銀、アルミニウム、クロム、ニ
ッケル、アンチモン、テルル、ビスマス、セレン等のメ
タルブラックの蒸着層等を挙げることができる。なお、
光熱変換物質はインク層の色材そのものでもよく、又、
上記のものに限定されず、様々な物質が使用できる。

【００６３】インク層とは、加熱時に溶融又は軟化して
色材とバインダー等を含有する層毎転写可能である層を
意味し、完全な溶融状態で転写しなくてもよい。色材と
しては、例えば無機顔料及び有機顔料などの顔料ならび
に染料を挙げることができる。

【００６４】無機顔料としては、例えば二酸化チタン、
カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、プルシア
ンブルー、硫化カドミウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、
バリウム及びカルシウムのクロム酸塩等が挙げられる。

【００６５】有機顔料としては、アゾ系、チオインジゴ
系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェ
ンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシア
ニン顔料（例えば銅フタロシアニン）及びその誘導体、
キナクリドン顔料などが挙げられる。

【００６６】プルーフ材料としてはイエロー、マゼン
タ、シアンがそれぞれ、C.I.21095又はC.I.21090，C.I.
15850：１，C.I.74160の顔料が好ましく用いられる。

【００６７】又、有機染料としては、酸性染料、直接染
料、分散染料、油溶性染料、含金属油溶性染料又は昇華
性色素等が挙げられる。

【００６８】インク層における色材の含有率は特に限定
されないが、通常５〜70重量％の範囲内にあり、好まし
くは10〜60重量％である。

【００６９】インク層のバインダーとしては、熱溶融性
物質、熱軟化性物質、熱可塑性樹脂を挙げることができ
る。熱溶融性物質は、通常、柳本MJP-2型を用いて測定
した融点が40〜150℃の範囲内にある固体又は半固体の
物質である。具体的には、カルナバ蝋、木蝋、オウリキ
ュリー蝋、エスパル蝋等の植物蝋；蜜蝋、昆虫蝋、セラ
ック蝋、鯨蝋等の動物蝋；パラフィンワックス、マイク
ロクリスタルワックス、ポリエチレンワックス、エステ
ルワックス、酸ワックス等の石油蝋；並びにモンタン
蝋、オゾケライト、セレシン等の鉱物蝋等のワックス類
を挙げることができ、更にこれらのワックス類などの他
に、パルミチン酸、ステアリン酸、マルガリン酸、ベヘ
ン酸等の高級脂肪酸；パルミチルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ベヘニルアルコール、マルガニルアルコ
ール、ミリシルアルコール、エイコサノール等の高級ア
ルコール；パルミチン酸セチル、パルミチン酸ミリシ
ル、ステアリン酸セチル、ステアリン酸ミリシル等の高
級脂肪酸エステル；アセトアミド、プロピオン酸アミ
ド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、アミド
ワックス等のアミド類；並びにステアリルアミン、ベヘ
ニルアミン、パルミチルアミン等の高級アミン類などが
挙げられる。

【００７０】又、熱可塑性樹脂としては、エチレン系共
重合体、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹
脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ロジン系樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセター
ル系樹脂、アイオノマー樹脂、石油系樹脂等の樹脂類；
天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、
クロロプレンゴム、ジエン系コポリマー等のエラストマ
ー類；エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフ
ェノール樹脂、水添ロジン等のロジン誘導体；並びにフ
ェノール樹脂、テルペン樹脂、シクロペンタジエン樹
脂、芳香族系炭化水素樹脂等の高分子化合物などを挙げ
ることができる。

【００７１】上記熱溶融性物質及び熱可塑性物質を適宜
に選択することにより、所望の熱軟化点あるいは熱溶融
点を有する熱転写層を形成することができる。

【００７２】以上のバインダー成分に加え、再転写性の
良いバインダーとして、例えば特願平4-142801号記載中
の一般式（１）で示されるモノマーを主成分として含む
ホモ又はコポリマー及びフタル酸系ポリエステルの中か
ら選ばれる少なくとも１種の樹脂が挙げられる。

【００７３】上記一般式（１）で示されるモノマーは、
具体的にはアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マ
レイン酸、フマール酸、及びこれらのエステルである。
これらを主成分としたホモ又はコポリマー及びフタル酸
系ポリエステルの中でも、インク画像のみ再転写させる
のに有効なバインダーとしては、スチレン・アクリル酸
樹脂、スチレン・アクリル酸エステル樹脂、フタル酸系
ポリエステル樹脂が好ましく用いられる。

【００７４】その他の添加剤としては、インク層の可塑
化により感度アップを図る可塑剤の添加、インク層の塗
布性を向上させる界面活性剤の添加、インク層のブロッ
キングを防止するサブミクロンからミクロンオーダーの
粒子（マット材）の添加が可能である。

【００７５】好ましいインク層の厚さは0.2〜２μm、更
に好ましくは0.3〜1.5μmである。

【００７６】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。なお、実施
例における「部」は「重量部」を示す。

【００７７】（インクシートの作成）以下のようにし
て、支持体上にインクシート下引第１層、下引第２層及
び色材層を有するインクシートを作成した。

【００７８】まず、支持体（ダイヤホイルＴ-100，38μ
m）上に、下記組成のインクシート下引第２層をグラビ
ヤ塗布・乾燥した後、巻き取った。

【００７９】次に、帯電防止コートを裏面に施した支持
体（ダイヤホイルＴ-100Ｇ，100μm）上に、下記組成の
インクシート下引第１層をアプリケータを用いて塗布・
乾燥した後、上記塗布済みのインクシート下引第２層と
塗布面同士を重ね、３kg／cmの圧力を掛けて貼り合わせ
た後、巻き取り、インクシート下引第２層塗布時のベー
ス（Ｔ-100，38μm）を剥ぎ取った。

【００８０】更に、下記組成の色材層をインクシート下
引第２層上に、グラビヤ塗布で設け乾燥した。

【００８１】インクシート下引第１層 スチレン・ブチレン・スチレン三重合体 16部 （クレイトンG1657：シェルジャパン） 特殊ロジンエステル 4部 （スーパーエステルＡ：播磨化学） トルエン 72部 メチルエチルケトン 8部 乾燥膜厚は６μmとした。

【００８２】インクシート下引第２層 ゼラチン 1.8208部 ポリビニルアルコール（GL-05：日本合成化学） 0.8232部 酢酸ナトリウム 0.016部 アニオン系界面活性剤（化合物１） 0.04部 水溶性赤外吸収色素（化合物２） 1.2部 水 96.00部 830nmの吸光度が約1.0になる膜厚とした。

【００８３】色材層 スチレン・アクリル系樹脂（SBM73F：三洋化成） 3.24部 マゼンタ顔料（化合物３） 2.4部 エチレン・酢酸ビニル共重合体 0.3部 （酢ビ40％，EV40Y：三井デュポン） 弗素系界面活性剤（S382：旭硝子） 0.06部 メチルエチルケトン 84.6部 シクロヘキサノン 9.4部 乾燥膜厚は0.7μmとした。

【００８４】

【化３】

【００８５】（受像材料の作成）以下のようにして、支
持体上に受像材料下引層及び受像層を有する再転写可能
な受像材料を作成した。

【００８６】まず、支持体（ダイヤホイルＴ-100，38μ
m）上に、下記組成の受像層をグラビヤ塗布・乾燥した
後、巻き取った。

【００８７】次に、帯電防止コートを裏面に施した支持
体（ダイヤホイルＴ-100Ｇ，100μm）上に、下記組成の
受像材料下引層をアプリケータを用いて塗布・乾燥した
後、上記塗布済みの受像材料受像層と塗布面同士を重
ね、３kg／cmの圧力を掛けて貼り合わせた後、巻き取
り、受像層塗布時のベース（Ｔ-100，38μm）を剥ぎ取
った。これを受像材料の比較試料１とする。

【００８８】受像材料下引層 エチレン・酢酸ビニル共重合体（EV40Y：前出） 30部 トルエン 63部 メチルエチルケトン 7部 乾燥膜厚は30μmとした。EV40Yのビカット軟化点は40
℃、針入度は40である。

【００８９】受像層 ヒドロキシプロピルセルロース（HPC−L） 4部 エタノール 96部 乾燥膜厚は1.0μmとした。

【００９０】別に、上記比較試料１と受像層処方、膜厚
以外は同様にして表１に示すような比較試料２及び本発
明の試料１〜21を作成した。ただし、本発明試料18，2
1，22については、熱硬化するために受像層塗布後に120
℃で24時間恒温槽中に放置した。

【００９１】

【表１】

【００９２】受像層の主バインダ、添加物の内容は以下
の通りである。

【００９３】 HPC-L：ヒドロキシプロピルセルロース（日本曹達） デンカブチラール＃3000-K：ポリビニルブチラール（電
気化学工業） ユーピロンZ-200：ポリカーボネート（三菱瓦斯化学） ユーポリマーU-100：ポリアリレート（ユニチカ） PES4100P：ポリエーテルスルホン（三井東圧化学） ソルラックXT-1：ポリパラバン酸（東燃石油化学） KS-1：ポリビニルアセタール（積水化学） SBM100：スチレン・アクリル酸エステル（三洋化成） ハリフェノールP1：ロジン変性フェノール樹脂（播磨化
学） ハリエスターMT：ロジン変性合成樹脂（播磨化学） ハリタックF90：ロジン変性合成樹脂（播磨化学） スーパーエステルA-75：特殊ロジンエステル（播磨化
学） DS-90：ロジン変性合成樹脂（播磨化学） DOP：ジ-2エチルヘキシルフタレート（第八化学） p-ベンジルビフェニル（新日鉄化学） プラクセルH1：ポリエステル（ダイセル化学） コロネートHX：イソシアナート（日本ポリウレタン） なお、溶剤としてEA（エタノール）、MEK（メチルエチ
ルケトン）、T（トルエン）、MC（メチレンクロライ
ド）、NMP（N-メチルピロリドン）、DO（ジオキソラ
ン）を用い、添加量は受像層バインダ＋添加物を溶解
（固形分５重量部）した固形分を100と換算して示し
た。

【００９４】受像層のTgはＤＳＣ(Differential Scanni
ng Calorimetry)法で測定、変曲点の温度とした（図３
に示す）。昇温速度20℃／minとし、温度-吸熱量曲線に
おけるＢ点をTgとする。２種類生じた場合は平均値を採
る。

【００９５】（画像形成）上記受像材料の受像層面とイ
ンクシートの色材層面を重ね合わせ、受像材料をドラム
側にしてドラム上に減圧により密着させる。この時、受
像材料の大きさは、インクシートの大きさより或る程度
小さくして、インクシートが受像材料を完全に押さえ付
けるようにする。

【００９６】材料が焦点位置に来るようにセッティング
し、ドラムを回転させながら市販の100mW半導体レーザ
ーを用いて露光した。又、レーザーの位置を回転方向と
垂直に移動させ、ベタ印字が出来るようにした。

【００９７】受像材料への転写終了後、剥離角を十分に
とった状態でインクシートと受像材料を剥離した。印字
サンプルの印字面とアート紙（三菱特両アート紙）とを
重ね合わせて、ラミネータを用いて二次転写した（ロー
ル線圧３kg／cm、送り速度７mm／sec）。転写は116℃で
行った。

【００９８】各受像材料への一次転写時の感度及びアー
ト紙へ二次転写された画像の光沢度を以下に示す。アー
ト紙上に形成されたベタ画像部分の光沢度を、偏角光度
計（日本電色工業製）を用い入射角60度、測光角60度で
行った。 試 料 感度(mJ／cm²) 光沢度 試 料 感度(mJ／cm²) 光沢度 比較例１ 350 28 本発明11 300 61 比較例２ 350 32 本発明12 300 64 本発明１ 300 60 本発明13 285 68 本発明２ 300 48 本発明14 265 41 本発明３ 265 47 本発明15 265 45 本発明４ 265 48 本発明16 265 49 本発明５ 265 41 本発明17 265 56 本発明６ 285 42 本発明18 285 58 本発明７ 285 41 本発明19 245 39 本発明８ 285 51 本発明20 265 48 本発明９ 285 50 本発明21 265 49 本発明１０ ２８５ ４６

【００９９】

【発明の効果】本発明の再転写可能な受像材料を用いれ
ば、受像層のＴｇが再転写温度より低い受像層を持つ受
像材料と比べて、比較的感度が良好なままで、ラミネー
タにて紙などへ高光沢の画像を再転写することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】(ａ)は本発明の受像材料を用いた画像形成方法
の時系列的模式図、(ｂ)は従来の受像材料を用いた画像
形成方法の時系列的模式図。

【図２】(ａ)は本発明の画像形成方法に用いられる再転
写装置の一例の断面図、(ｂ)は再転写の時系列的工程
図。

【図３】Tgを求めるための温度-吸熱量曲線。横軸は温
度（℃）、縦軸は吸熱量（cal）を示す。

【図４】本発明の画像形成方法における受像材料及び記
録材料をドラム状減圧器に巻き付けることを示す斜視
図。

【図５】ドラム状減圧器及び減圧器の周辺を示す全体構
成図。

【符号の説明】

Ｉ 記録材料 II 受像材料 III 一次転写された受像材料 １ 支持体 ２ インク層 ３a 再転写温度より低いTgを有する受像層 ３b 再転写温度より高いTgを有する受像層 ４ 中間層 ５ アート紙などの被転写体 ６ 画像が形成された被転写体 ７ ヒートロール 11 圧力ロール 12 減圧孔（12−１は開いた状態、12−２は閉じた状態
を示す） 13 記録材料（13−１はイエロー、13−２はマゼンタ、
13−３はシアン、13−４はブラックを示す） 14 受像材料 15 記録材料補給手段 16 受像材料補給手段 17 減圧器保持部分 18 光学的書込み手段 19 筺体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−327954（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−169861（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−67414（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−128987（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B41M 5/38 - 5/40

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録材料のインク層を、支持体上に少な
   くとも受像層を有する受像材料の受像面に画像状に転写
   し、更に該転写画像を被転写体に加熱又は加熱・加圧に
   よって再転写する画像形成方法において、該受像層のガ
   ラス転移点（Tg）が100℃以上であって、下記ポリマー
   群から選ばれるポリマーの少なくとも１種以上を含有
   し、更に再転写が該受像層のガラス転移点（Tg）よりも
   低い温度で行われることを特徴とする画像形成方法。ポリマー群：ポリアリレート、ポリパラバン酸、ポリフ
   ェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエ
   ーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエ
   ーテルケトン、ポリエーテルニトリル、芳香族ポリアミ
   ド、ポリベンゾイミダゾール、ポリカーボネート、ポリ
   スルホン
2. 【請求項２】 記録材料のインク層を、支持体上に少な
   くとも受像層を有する受像材料の受像面に画像状に転写
   し、更に該転写画像を被転写体に再転写する画像形成方
   法に用いられる受像材料において、受像層のTgが100℃
   以上であって、下記ポリマー群から選ばれるポリマーの
   少なくとも１種以上を含有することを特徴とする再転写
   可能な受像材料。ポリマー群：ポリアリレート、ポリパラバン酸、ポリフ
   ェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエ
   ーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエ
   ーテルケトン、ポリエーテルニトリル、芳香族ポリアミ
   ド、ポリベンゾイミダゾール、ポリカーボネート、ポリ
   スルホン
3. 【請求項３】 支持体と受像層との間にビカット軟化点
   が150℃以下で厚さ15μm以上の熱軟化層を有することを
   特徴とする請求項２記載の再転写可能な受像材料。