JP3215987B2 - 熱転写受像材料 - Google Patents
熱転写受像材料Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は熱転写記録に用いる熱転
写受像材料に関し、詳しくはヒートモードレーザー型熱
転写記録に用いる熱転写受像材料に関する。
写受像材料に関し、詳しくはヒートモードレーザー型熱
転写記録に用いる熱転写受像材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、熱転写記録方法として、サーマル
ヘッドによる加圧・加熱方式が知られている。この方式
は、騒音が少なく、簡単な機構の装置で実施でき、メン
テナンスフリー、ドライ処理など優れた特長を有するの
で、サーマルヘッドの高密度化(近年では400〜600dpi
の解像度)と相俟って実用化されてきた。
ヘッドによる加圧・加熱方式が知られている。この方式
は、騒音が少なく、簡単な機構の装置で実施でき、メン
テナンスフリー、ドライ処理など優れた特長を有するの
で、サーマルヘッドの高密度化(近年では400〜600dpi
の解像度)と相俟って実用化されてきた。
【0003】しかしながら、サーマルヘッドの高密度化
もこれ以上は困難であり、又、画像形成についてはヘッ
ド走査単位となるため、時間が掛かるという欠点があっ
た。
もこれ以上は困難であり、又、画像形成についてはヘッ
ド走査単位となるため、時間が掛かるという欠点があっ
た。
【0004】一方、高解像度の画像を記録できる方式と
して、レーザービームを熱転写記録材料に照射し、記録
材料中で前記レーザービームを熱に変換し、その熱によ
り熱転写記録を行う方式が知られている。この方式では
エネルギー供給に使用されるレーザー光を数μm程度に
まで集光できるので、サーマルヘッドで熱を供給する方
法に比べて飛躍的な解像度の向上が可能になる。
して、レーザービームを熱転写記録材料に照射し、記録
材料中で前記レーザービームを熱に変換し、その熱によ
り熱転写記録を行う方式が知られている。この方式では
エネルギー供給に使用されるレーザー光を数μm程度に
まで集光できるので、サーマルヘッドで熱を供給する方
法に比べて飛躍的な解像度の向上が可能になる。
【0005】このヒートモードレーザー型熱転写記録方
式(以下、「レーザー熱転写記録方式」とも言う)にお
いては、熱転写記録材料と熱転写受像材料(以下、「記
録材料」、「受像材料」とも言う)との密着性が画像の
解像力に大きな影響を与えるので、特に高解像度の画像
を得るには、如何にして密着性を高めるかが問題になっ
ている。
式(以下、「レーザー熱転写記録方式」とも言う)にお
いては、熱転写記録材料と熱転写受像材料(以下、「記
録材料」、「受像材料」とも言う)との密着性が画像の
解像力に大きな影響を与えるので、特に高解像度の画像
を得るには、如何にして密着性を高めるかが問題になっ
ている。
【0006】レーザー熱転写記録方式において平面走査
を行う場合には、透明な押圧部材を記録材料と受像材料
との積層体の上に被せることにより、両者間の密着性を
向上することもできる。
を行う場合には、透明な押圧部材を記録材料と受像材料
との積層体の上に被せることにより、両者間の密着性を
向上することもできる。
【0007】しかしながら、高速記録及び光学系のスペ
ースを小さくするために円筒状ドラムの表面に記録材料
と受像材料とを重ねて巻き、記録材料にレーザー光を走
査して画像記録を行う場合には、円筒状ドラム上におけ
るレーザー光の照射領域だけを押圧すると、円筒状ドラ
ムを高速回転させた際に記録材料と受像材料とを均一に
密着させられず、部分的な密着しか得られない。これを
防ぐために円筒状ドラムに捲回した記録材料と受像材料
とにカバーシートを装着し、カバーシートの張力によっ
て記録材料と受像材料との密着状態を達成せんとする方
法がある。この方法は、大面積を押圧するという点では
有力であるが、記録材料と受像材料との完全な密着を達
成することは困難であり、高品質の転写画像を得るには
十分とは言えないのが現状で、これの改良が強く望まれ
ている。現実的には、受像シートとインクシートを重ね
て真空密着させるのが好ましいが、大面積での真空密着
には時間が掛かるのが欠点である。
ースを小さくするために円筒状ドラムの表面に記録材料
と受像材料とを重ねて巻き、記録材料にレーザー光を走
査して画像記録を行う場合には、円筒状ドラム上におけ
るレーザー光の照射領域だけを押圧すると、円筒状ドラ
ムを高速回転させた際に記録材料と受像材料とを均一に
密着させられず、部分的な密着しか得られない。これを
防ぐために円筒状ドラムに捲回した記録材料と受像材料
とにカバーシートを装着し、カバーシートの張力によっ
て記録材料と受像材料との密着状態を達成せんとする方
法がある。この方法は、大面積を押圧するという点では
有力であるが、記録材料と受像材料との完全な密着を達
成することは困難であり、高品質の転写画像を得るには
十分とは言えないのが現状で、これの改良が強く望まれ
ている。現実的には、受像シートとインクシートを重ね
て真空密着させるのが好ましいが、大面積での真空密着
には時間が掛かるのが欠点である。
【0008】
【発明の目的】従って本発明の目的は、ヒートモードレ
ーザー型熱転写記録における熱転写記録材料と熱転写受
像材料との密着性を高め、又、両者を真空密着させるた
めの時間を短縮し、むらの無い良好な転写画像が得られ
る熱転写受像材料を提供することにある。
ーザー型熱転写記録における熱転写記録材料と熱転写受
像材料との密着性を高め、又、両者を真空密着させるた
めの時間を短縮し、むらの無い良好な転写画像が得られ
る熱転写受像材料を提供することにある。
【0009】
【発明の構成】本発明の上記目的は、下記構成によって
達成された。
達成された。
【0010】(1)熱転写記録材料のインク面と熱転写受
像材料の受像面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは
熱転写受像材料の裏面より画像情報に応じた光を照射す
ることにより、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応
じてインク層を転写するヒートモードレーザー型熱転写
記録において、端部の平均表面粗さが中央部の平均表面
粗さより大きい熱転写受像材料。
像材料の受像面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは
熱転写受像材料の裏面より画像情報に応じた光を照射す
ることにより、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応
じてインク層を転写するヒートモードレーザー型熱転写
記録において、端部の平均表面粗さが中央部の平均表面
粗さより大きい熱転写受像材料。
【0011】(2)前記熱転写受像材料の端部に、中央部
と比べ平均粒径の大きなマット材を含有させるか、又は
端部にのみマット材を含有させる(1)記載の熱転写受像
材料。
と比べ平均粒径の大きなマット材を含有させるか、又は
端部にのみマット材を含有させる(1)記載の熱転写受像
材料。
【0012】(3)前記熱転写受像材料の端部をエンボス
加工により凹凸を付ける(1)記載の熱転写受像材料。
加工により凹凸を付ける(1)記載の熱転写受像材料。
【0013】(4)前記熱転写受像材料の端部を微小突起
物で削り取ることにより凹凸を付ける(1)記載の熱転写
受像材料。
物で削り取ることにより凹凸を付ける(1)記載の熱転写
受像材料。
【0014】(5)熱転写記録材料のインク面と熱転写受
像材料の受像面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは
熱転写受像材料の裏面より画像情報に応じた光を照射す
ることにより、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応
じてインク層を転写するヒートモードレーザー型熱転写
記録において、端部に切込みが入れられている熱転写受
像材料。
像材料の受像面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは
熱転写受像材料の裏面より画像情報に応じた光を照射す
ることにより、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応
じてインク層を転写するヒートモードレーザー型熱転写
記録において、端部に切込みが入れられている熱転写受
像材料。
【0015】(6)熱転写受像材料の支持体と受像層の間
にクッション層を有する(1)〜(5)のいずれかに記載の
熱転写受像材料。
にクッション層を有する(1)〜(5)のいずれかに記載の
熱転写受像材料。
【0016】(7)前記クッション層の弾性率が25℃にお
いて200kg/cm2以下である(6)記載の熱転写受像材料。
いて200kg/cm2以下である(6)記載の熱転写受像材料。
【0017】(8)前記クッション層のガラス転移温度が
25℃以下である(6)記載の熱転写受像材料。
25℃以下である(6)記載の熱転写受像材料。
【0018】(9)前記支持体及びクッション層を併せて
の透過率が700〜1000nmの近赤外光の中で最も良く透過
する波長に対して70%以上ある(6)記載の熱転写受像材
料。
の透過率が700〜1000nmの近赤外光の中で最も良く透過
する波長に対して70%以上ある(6)記載の熱転写受像材
料。
【0019】(10)前記クッション層の屈折率が支持体の
屈折率より0.02以上小さい(6)記載の熱転写受像材料。
屈折率より0.02以上小さい(6)記載の熱転写受像材料。
【0020】(11)前記クッション層の膜厚が5μm以上
である(6)〜(10)のいずれかに記載の熱転写受像材料。 (12)熱転写記録材料のインク面と熱転写受像材料の受像
面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは熱転写受像材
料の裏面より画像情報に応じた光を照射することによ
り、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応じてインク
層を転写するヒートモードレーザー型熱転写記録におい
て、熱転写受像材料が支持体上に少なくとも微細な空隙
を有する多孔質層を有することを特徴とする熱転写受像
材料。
である(6)〜(10)のいずれかに記載の熱転写受像材料。 (12)熱転写記録材料のインク面と熱転写受像材料の受像
面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは熱転写受像材
料の裏面より画像情報に応じた光を照射することによ
り、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応じてインク
層を転写するヒートモードレーザー型熱転写記録におい
て、熱転写受像材料が支持体上に少なくとも微細な空隙
を有する多孔質層を有することを特徴とする熱転写受像
材料。
【0021】(13)前記多孔質層上に更に受像層を有する
(12)記載の熱転写受像材料。 (14)前記多孔質層の厚みが5μm以上で、かつ平均表面
粗さが1μm以下である(13)記載の熱転写受像材料。
(12)記載の熱転写受像材料。 (14)前記多孔質層の厚みが5μm以上で、かつ平均表面
粗さが1μm以下である(13)記載の熱転写受像材料。
【0022】以下、本発明をより具体的に説明する。
【0023】まず、本発明の受像材料と共に用いられる
記録材料について説明する。
記録材料について説明する。
【0024】記録材料は、支持体上に熱溶融性インク層
を少なくとも積層してなる構造を有すると共に、像様に
照射される光を熱に変換する機能を有する。支持体と熱
溶融性インク層との間に剥離層やクッション層を設ける
ことができる。
を少なくとも積層してなる構造を有すると共に、像様に
照射される光を熱に変換する機能を有する。支持体と熱
溶融性インク層との間に剥離層やクッション層を設ける
ことができる。
【0025】像様に照射される光を熱に変換する機能
は、例えば光熱変換物質を熱溶融性インク層(以下、単
に「インク層」と言う)に含有させる、又はインク層に
隣接して光熱変換物質を含有する光熱変換層を設けるこ
とにより実現できる。
は、例えば光熱変換物質を熱溶融性インク層(以下、単
に「インク層」と言う)に含有させる、又はインク層に
隣接して光熱変換物質を含有する光熱変換層を設けるこ
とにより実現できる。
【0026】支持体としては、寸法安定性が良く、画像
形成の際の熱に耐えるものならば何でもよく、具体的に
は特開昭63-193886号2頁左下欄12〜18行に記載のフィ
ルム又はシートを使用することができる。又、レーザー
光を記録材料側から照射して画像を形成するのであれ
ば、記録材料の支持体は透明であることが望ましい。レ
ーザー光を受像材料側から照射して画像を形成するので
あれば、記録材料の支持体は透明である必要はない。支
持体の厚さは特に制約はないが、通常2〜300μm、好ま
しくは5〜200μmである。
形成の際の熱に耐えるものならば何でもよく、具体的に
は特開昭63-193886号2頁左下欄12〜18行に記載のフィ
ルム又はシートを使用することができる。又、レーザー
光を記録材料側から照射して画像を形成するのであれ
ば、記録材料の支持体は透明であることが望ましい。レ
ーザー光を受像材料側から照射して画像を形成するので
あれば、記録材料の支持体は透明である必要はない。支
持体の厚さは特に制約はないが、通常2〜300μm、好ま
しくは5〜200μmである。
【0027】支持体の裏面(インク層を設けた表面とは
反対側の面)には、走行安定性、耐熱性、帯電防止等の
機能を付与するために、バッキング層を設けることがで
きる。バッキング層は、例えばニトロセルロース等の樹
脂を溶媒中に溶解した、或はバインダー樹脂と20〜30μ
mの微粒子を溶媒中に溶解又は分散したバッキング層塗
工液を、支持体表面に塗工することにより形成できる。
反対側の面)には、走行安定性、耐熱性、帯電防止等の
機能を付与するために、バッキング層を設けることがで
きる。バッキング層は、例えばニトロセルロース等の樹
脂を溶媒中に溶解した、或はバインダー樹脂と20〜30μ
mの微粒子を溶媒中に溶解又は分散したバッキング層塗
工液を、支持体表面に塗工することにより形成できる。
【0028】クッション層は記録材料と受像材料との密
着を増す目的で設けられる。このクッション層は熱軟化
性、弾性を有する層であり、低弾性率を有する材料ある
いはゴム弾性を有する材料を使用すればよい。具体的に
は、天然ゴム、アクリレートゴム、ブチルゴム、ニトリ
ルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン-
ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ウレタンゴム、シ
リコーンゴム、アクリルゴム、弗素ゴム、ネオプレンゴ
ム、クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリ
ン、EPDM(エチレン・プロピレン・ジエンゴム)、
ウレタンエラストマー等のエラストマー、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリブテン、耐
衝撃性ABS樹脂、ポリウレタン、ABS樹脂、アセテ
ート、セルロースアセテート、アミド樹脂、ポリテトラ
フルオロエチレン、ニトロセルロース、ポリスチレン、
エポキシ樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポ
リエステル、耐衝撃性アクリル樹脂、スチレン-ブタジ
エン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、アクリ
ロニトリル-ブタジエン共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、可塑剤入り塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン等の内、弾性率の小さな樹脂が挙げられる。
着を増す目的で設けられる。このクッション層は熱軟化
性、弾性を有する層であり、低弾性率を有する材料ある
いはゴム弾性を有する材料を使用すればよい。具体的に
は、天然ゴム、アクリレートゴム、ブチルゴム、ニトリ
ルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン-
ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ウレタンゴム、シ
リコーンゴム、アクリルゴム、弗素ゴム、ネオプレンゴ
ム、クロロスルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリ
ン、EPDM(エチレン・プロピレン・ジエンゴム)、
ウレタンエラストマー等のエラストマー、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリブテン、耐
衝撃性ABS樹脂、ポリウレタン、ABS樹脂、アセテ
ート、セルロースアセテート、アミド樹脂、ポリテトラ
フルオロエチレン、ニトロセルロース、ポリスチレン、
エポキシ樹脂、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、ポ
リエステル、耐衝撃性アクリル樹脂、スチレン-ブタジ
エン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体、アクリ
ロニトリル-ブタジエン共重合体、塩化ビニル-酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、可塑剤入り塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン等の内、弾性率の小さな樹脂が挙げられる。
【0029】又、これらの材料を支持体形成時に適用し
て、支持体自身にクッション性を持たせることもでき
る。
て、支持体自身にクッション性を持たせることもでき
る。
【0030】クッション層の形成方法としては、前記素
材を溶媒に溶解又はラテックス状に分散したものを、ブ
レードコーター、ロールコーター、バーコーター、カー
テンコーター、グラビアコーター等の塗布法によるか、
ホットメルトによる押出しラミネーション法、又はフィ
ルムシートにしたものを基材と貼り合わせる方法などを
適用できる。
材を溶媒に溶解又はラテックス状に分散したものを、ブ
レードコーター、ロールコーター、バーコーター、カー
テンコーター、グラビアコーター等の塗布法によるか、
ホットメルトによる押出しラミネーション法、又はフィ
ルムシートにしたものを基材と貼り合わせる方法などを
適用できる。
【0031】クッション層は光照射時に熱軟化あるいは
弾性率の低下により被転写媒体との密着を促進する。好
ましいクッション層の厚さは5〜30μmである。
弾性率の低下により被転写媒体との密着を促進する。好
ましいクッション層の厚さは5〜30μmである。
【0032】光熱変換層はインク層に隣接して設けるこ
とができる。前述のようにインク層中に光熱変換物質を
含有させることもできる。光熱変換物質が実質的に透明
でない場合、転写画像の色再現性を考慮してインク層と
別に光熱変換層を設けることが望ましい。
とができる。前述のようにインク層中に光熱変換物質を
含有させることもできる。光熱変換物質が実質的に透明
でない場合、転写画像の色再現性を考慮してインク層と
別に光熱変換層を設けることが望ましい。
【0033】光熱変換物質を使用する場合、光源によっ
ても異なるが、光を吸収し効率良く熱に変換する物質が
よく、例えば半導体レーザーを光源として使用する場
合、近赤外に吸収帯を有する物質が好ましく、具体的に
はカーボンブラック、グラファイト、フタロシアニン系
色素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズ
レニウム系色素、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、ポ
リメチン系色素、ジチオール金属錯塩系色素、トリアリ
ールメタン系色素、、インドアニリン金属錯体色素、ナ
フトキノン系色素、アントラキノン系色素等を用いるこ
とができる。具体的には特開昭63-139191号、特開平3-1
03476号等に記載の化合物が挙げられる。
ても異なるが、光を吸収し効率良く熱に変換する物質が
よく、例えば半導体レーザーを光源として使用する場
合、近赤外に吸収帯を有する物質が好ましく、具体的に
はカーボンブラック、グラファイト、フタロシアニン系
色素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズ
レニウム系色素、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、ポ
リメチン系色素、ジチオール金属錯塩系色素、トリアリ
ールメタン系色素、、インドアニリン金属錯体色素、ナ
フトキノン系色素、アントラキノン系色素等を用いるこ
とができる。具体的には特開昭63-139191号、特開平3-1
03476号等に記載の化合物が挙げられる。
【0034】光熱変換層におけるバインダーとしては、
ガラス転移点(Tg)が高く熱伝導率の高い樹脂、例えば
ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、エチルセルロース、ニトロセルロース、ポリビニ
ルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、アラミド等の一般的な耐熱性樹脂を使用する
ことができる。
ガラス転移点(Tg)が高く熱伝導率の高い樹脂、例えば
ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリスチ
レン、エチルセルロース、ニトロセルロース、ポリビニ
ルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテル
スルホン、アラミド等の一般的な耐熱性樹脂を使用する
ことができる。
【0035】これらの中でも、水溶性ポリマーはインク
層との剥離性も良く好ましい。水溶性ポリマーを用いる
場合には、光熱変換物質を水溶性に変性(スルホ基の導
入等により)したり、水系分散することが望ましい。
層との剥離性も良く好ましい。水溶性ポリマーを用いる
場合には、光熱変換物質を水溶性に変性(スルホ基の導
入等により)したり、水系分散することが望ましい。
【0036】この光熱変換層の膜厚は0.1〜3μmが好ま
しく、より好ましくは0.2〜1.0μmである。光熱変換層
における光熱転換物質の含有量は、通常、画像記録に用
いる光源の波長での吸光度が0.3〜3.0、更に好ましくは
0.7〜2.5になるように決めることができる。
しく、より好ましくは0.2〜1.0μmである。光熱変換層
における光熱転換物質の含有量は、通常、画像記録に用
いる光源の波長での吸光度が0.3〜3.0、更に好ましくは
0.7〜2.5になるように決めることができる。
【0037】光熱変換層としては、この他にも蒸着膜と
して形成することも可能であり、カーボンブラック、特
開昭52-20842号に記載の金、銀、アルミニウム、クロ
ム、ニッケル、アンチモン、テルル、ビスマス、セレン
等のメタルブラックの蒸着層等を挙げることができる。
なお、光熱変換物質はインク層の色材そのものでもよ
く、又、上記のものに限定されず、様々な物質が使用で
きる。
して形成することも可能であり、カーボンブラック、特
開昭52-20842号に記載の金、銀、アルミニウム、クロ
ム、ニッケル、アンチモン、テルル、ビスマス、セレン
等のメタルブラックの蒸着層等を挙げることができる。
なお、光熱変換物質はインク層の色材そのものでもよ
く、又、上記のものに限定されず、様々な物質が使用で
きる。
【0038】インク層とは、加熱時に溶融又は軟化して
色材とバインダー等を含有する層毎転写可能である層を
意味し、完全な溶融状態で転写しなくてもよい。
色材とバインダー等を含有する層毎転写可能である層を
意味し、完全な溶融状態で転写しなくてもよい。
【0039】上記色材としては、例えば無機顔料及び有
機顔料などの顔料ならびに染料を挙げることができる。
機顔料などの顔料ならびに染料を挙げることができる。
【0040】無機顔料としては、二酸化チタン、カーボ
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩等が挙げられる。
ンブラック、酸化亜鉛、プルシアンブルー、硫化カドミ
ウム、酸化鉄ならびに鉛、亜鉛、バリウム及びカルシウ
ムのクロム酸塩等が挙げられる。
【0041】有機顔料としては、アゾ系、チオインジゴ
系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェ
ンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシア
ニン顔料(例えば銅フタロシアニン)及びその誘導体、
キナクリドン顔料などが挙げられる。
系、アントラキノン系、アントアンスロン系、トリフェ
ンジオキサジン系の顔料、バット染料顔料、フタロシア
ニン顔料(例えば銅フタロシアニン)及びその誘導体、
キナクリドン顔料などが挙げられる。
【0042】又、有機染料としては、酸性染料、直接染
料、分散染料、油溶性染料、含金属油溶性染料又は昇華
性色素等が挙げられる。
料、分散染料、油溶性染料、含金属油溶性染料又は昇華
性色素等が挙げられる。
【0043】インク層における色材の含有率は特に限定
されないが、通常5〜70重量%の範囲内にあり、好まし
くは10〜60重量%である。
されないが、通常5〜70重量%の範囲内にあり、好まし
くは10〜60重量%である。
【0044】インク層のバインダーとしては、熱溶融性
物質、熱軟化性物質、熱可塑性樹脂を挙げることがで
き、公知の熱溶融性インク材料に用いられるものがその
まま適用できる。
物質、熱軟化性物質、熱可塑性樹脂を挙げることがで
き、公知の熱溶融性インク材料に用いられるものがその
まま適用できる。
【0045】熱溶融性物質の具体例としては、カルナバ
蝋、木蝋、オウリキュリー蝋、エスパル蝋等の植物蝋;
蜜蝋、昆虫蝋、セラック蝋、鯨蝋等の動物蝋;パラフィ
ンワックス、マイクロクリスタルワックス、ポリエチレ
ンワックス、エステルワックス、酸ワックス等の石油
蝋;並びにモンタン蝋、オゾケライト、セレシン等の鉱
物蝋等のワックス類を挙げることができ、更にこれらの
ワックス類などの他に、パルミチン酸、ステアリン酸、
マルガリン酸、ベヘン酸等の高級脂肪酸;パルミチルア
ルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコー
ル、マルガニルアルコール、ミリシルアルコール、エイ
コサノール等の高級アルコール;パルミチン酸セチル、
パルミチン酸ミリシル、ステアリン酸セチル、ステアリ
ン酸ミリシル等の高級脂肪酸エステル;アセトアミド、
プロピオン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン
酸アミド、アミドワックス等のアミド類;並びにステア
リルアミン、ベヘニルアミン、パルミチルアミン等の高
級アミン類などが挙げられる。
蝋、木蝋、オウリキュリー蝋、エスパル蝋等の植物蝋;
蜜蝋、昆虫蝋、セラック蝋、鯨蝋等の動物蝋;パラフィ
ンワックス、マイクロクリスタルワックス、ポリエチレ
ンワックス、エステルワックス、酸ワックス等の石油
蝋;並びにモンタン蝋、オゾケライト、セレシン等の鉱
物蝋等のワックス類を挙げることができ、更にこれらの
ワックス類などの他に、パルミチン酸、ステアリン酸、
マルガリン酸、ベヘン酸等の高級脂肪酸;パルミチルア
ルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコー
ル、マルガニルアルコール、ミリシルアルコール、エイ
コサノール等の高級アルコール;パルミチン酸セチル、
パルミチン酸ミリシル、ステアリン酸セチル、ステアリ
ン酸ミリシル等の高級脂肪酸エステル;アセトアミド、
プロピオン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン
酸アミド、アミドワックス等のアミド類;並びにステア
リルアミン、ベヘニルアミン、パルミチルアミン等の高
級アミン類などが挙げられる。
【0046】又、熱可塑性樹脂としては、エチレン系共
重合体、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹
脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ロジン系樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセター
ル系樹脂、アイオノマー樹脂、石油系樹脂等の樹脂類;
天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、
クロロプレンゴム、ジエン系コポリマー等のエラストマ
ー類;エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフ
ェノール樹脂、水添ロジン等のロジン誘導体;並びにフ
ェノール樹脂、テルペン樹脂、シクロペンタジエン樹
脂、芳香族系炭化水素樹脂等の高分子化合物などを挙げ
ることができる。
重合体、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹
脂、塩化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ロジン系樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセター
ル系樹脂、アイオノマー樹脂、石油系樹脂等の樹脂類;
天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、イソプレンゴム、
クロロプレンゴム、ジエン系コポリマー等のエラストマ
ー類;エステルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフ
ェノール樹脂、水添ロジン等のロジン誘導体;並びにフ
ェノール樹脂、テルペン樹脂、シクロペンタジエン樹
脂、芳香族系炭化水素樹脂等の高分子化合物などを挙げ
ることができる。
【0047】上記熱溶融性物質及び熱可塑性物質を適宜
に選択することにより、所望の熱軟化点あるいは熱溶融
点を有する熱軟化性インク層を形成することができる。
に選択することにより、所望の熱軟化点あるいは熱溶融
点を有する熱軟化性インク層を形成することができる。
【0048】好ましいインク層の厚さは0.2〜2μm、更
に好ましくは0.3〜1.5μmである。
に好ましくは0.3〜1.5μmである。
【0049】次に、本発明の受像材料について述べる。
【0050】受像材料は、前記記録材料から像様に剥離
したインク層を受容して画像を形成する。通常、受像材
料は支持体と受像層とを有し、又、支持体のみから形成
されることもある。ただし、インクとの接着性を改善す
るために接着性樹脂をコーティングしてもよい。接着層
に用いられる素材としては、インク層に用いられる熱可
塑性樹脂がそのまま適用できる。又、インクシートと同
様、クッション層を設けることも可能である。特に一度
受けたインクを更に他の被転写媒体(紙など)に転写す
る場合、クッション層は有効である。
したインク層を受容して画像を形成する。通常、受像材
料は支持体と受像層とを有し、又、支持体のみから形成
されることもある。ただし、インクとの接着性を改善す
るために接着性樹脂をコーティングしてもよい。接着層
に用いられる素材としては、インク層に用いられる熱可
塑性樹脂がそのまま適用できる。又、インクシートと同
様、クッション層を設けることも可能である。特に一度
受けたインクを更に他の被転写媒体(紙など)に転写す
る場合、クッション層は有効である。
【0051】受像材料は画像が適正に形成されるよう寸
法安定性に優れることが望ましい。更に他の被転写物に
ラミネートするなどの場合は耐熱性が要求される。
法安定性に優れることが望ましい。更に他の被転写物に
ラミネートするなどの場合は耐熱性が要求される。
【0052】本発明の受像材料は、記録材料のインク層
との密着性を高める目的で、その受像面の端面部の平均
表面粗さを中央部の平均表面粗さより大きくする、受像
材料の端面部に切込みを入れる、支持体と受像層との間
に中間層を有する、支持体上に多孔質層を設けることに
特徴がある。
との密着性を高める目的で、その受像面の端面部の平均
表面粗さを中央部の平均表面粗さより大きくする、受像
材料の端面部に切込みを入れる、支持体と受像層との間
に中間層を有する、支持体上に多孔質層を設けることに
特徴がある。
【0053】受像材料の端面部の平均表面粗さを中央部
の平均表面粗さより大きくする、即ち粗面化する方法と
しては、(a)マット材を含有させる、(b)エンボス加工し
て凹凸を付ける、(c)微小突起物で削り取って凹凸を付
ける等がある。
の平均表面粗さより大きくする、即ち粗面化する方法と
しては、(a)マット材を含有させる、(b)エンボス加工し
て凹凸を付ける、(c)微小突起物で削り取って凹凸を付
ける等がある。
【0054】マット材としては、有機又は無機のマット
材が用いられる。有機マット材としてはポリメチルメタ
クリレート(PMMA)、無機マット材としては金属酸
化物(酸化亜鉛、アルミナ、酸化チタン等)、珪酸塩
(珪酸カルシウム)、硫酸塩(硫酸バリウム)、炭酸塩
(炭酸カルシウム)等が挙げられる。マット材の粒径は
1〜20μmが好ましく、添加量は受像層表面で10個/mm2
以上あればよい。
材が用いられる。有機マット材としてはポリメチルメタ
クリレート(PMMA)、無機マット材としては金属酸
化物(酸化亜鉛、アルミナ、酸化チタン等)、珪酸塩
(珪酸カルシウム)、硫酸塩(硫酸バリウム)、炭酸塩
(炭酸カルシウム)等が挙げられる。マット材の粒径は
1〜20μmが好ましく、添加量は受像層表面で10個/mm2
以上あればよい。
【0055】エンボス加工するには、通常、紙、皮革、
プラスチック等の加工に用いられる機器で十分である。
プラスチック等の加工に用いられる機器で十分である。
【0056】端部を削り取るための微小突起物として
は、サンドペーパー等を用いることができる。この時の
凸部と凹部の深さ方向の差が5μm以上あることが好ま
しい。
は、サンドペーパー等を用いることができる。この時の
凸部と凹部の深さ方向の差が5μm以上あることが好ま
しい。
【0057】又、端部に入れる切込みは、切手状の形態
が有利である。
が有利である。
【0058】支持体と受像層の間に設けるクッション層
は、弾性率が25℃において200kg/cm2以下であること、
又は/及びTgが25℃以下であることが好ましい。
は、弾性率が25℃において200kg/cm2以下であること、
又は/及びTgが25℃以下であることが好ましい。
【0059】弾性率200kg/cm2(25℃)以下のクッショ
ン層を形成するには、前記クッション層で説明した材
料、方法を用いることができる。
ン層を形成するには、前記クッション層で説明した材
料、方法を用いることができる。
【0060】尚、支持体及びクッション層を通しての透
過率が、700〜1000nmの近赤外域で最も良く透過する波
長に対して70%以上あること、クッション層の屈折率が
支持体の屈折率より0.02以上小さいこと、クッション層
の膜厚が5μm以上であること、はいずれも本発明の効
果をより発揮する好ましい態様である。
過率が、700〜1000nmの近赤外域で最も良く透過する波
長に対して70%以上あること、クッション層の屈折率が
支持体の屈折率より0.02以上小さいこと、クッション層
の膜厚が5μm以上であること、はいずれも本発明の効
果をより発揮する好ましい態様である。
【0061】本発明の受像材料の支持体上に好ましく設
けられる多孔質層は微小気泡含有層である。微小気泡を
含有する層の形成法としては、塗工法の場合には、塗工
液を機械的撹拌により気泡を含有させ塗布・乾燥させる
方法、発泡剤を含有する塗工液を塗布・乾燥した後に発
泡剤を発泡させる方法、中空微粒子を含有させ塗布・乾
燥させる方法、下記樹脂を溶解する溶媒と、該溶媒より
も高沸点でかつ溶媒に親和性があり、樹脂に対しては溶
解性のない溶媒を混合し、塗布・乾燥する方法、高沸点
溶媒を混合した塗工液を塗布・乾燥した後、溶媒に浸け
高沸点溶媒を溶出する方法などがある。
けられる多孔質層は微小気泡含有層である。微小気泡を
含有する層の形成法としては、塗工法の場合には、塗工
液を機械的撹拌により気泡を含有させ塗布・乾燥させる
方法、発泡剤を含有する塗工液を塗布・乾燥した後に発
泡剤を発泡させる方法、中空微粒子を含有させ塗布・乾
燥させる方法、下記樹脂を溶解する溶媒と、該溶媒より
も高沸点でかつ溶媒に親和性があり、樹脂に対しては溶
解性のない溶媒を混合し、塗布・乾燥する方法、高沸点
溶媒を混合した塗工液を塗布・乾燥した後、溶媒に浸け
高沸点溶媒を溶出する方法などがある。
【0062】又、ラミネート法の場合には、発泡剤を含
有させた樹脂溶融組成物をラミネート後、加熱して発泡
させる方法、中空微粒子を含有する溶融組成物をラミネ
ートする方法、クッション層を形成する溶融組成物中に
微粒子を含有させ、溶融組成物を押出しし、少なくとも
1軸方向に延伸して微小気泡を含有するシートにした
後、支持体にラミネートする方法、溶剤に溶解する成分
と溶解しない成分とを溶融混練してラミネートした後、
溶剤に浸け溶解成分を溶解させる方法などにより形成す
ることができる。
有させた樹脂溶融組成物をラミネート後、加熱して発泡
させる方法、中空微粒子を含有する溶融組成物をラミネ
ートする方法、クッション層を形成する溶融組成物中に
微粒子を含有させ、溶融組成物を押出しし、少なくとも
1軸方向に延伸して微小気泡を含有するシートにした
後、支持体にラミネートする方法、溶剤に溶解する成分
と溶解しない成分とを溶融混練してラミネートした後、
溶剤に浸け溶解成分を溶解させる方法などにより形成す
ることができる。
【0063】又、予め発泡させたシート状の組成物を、
接着剤などを介して貼り合わせてもよい。
接着剤などを介して貼り合わせてもよい。
【0064】多孔質層を形成する樹脂としては、ポリウ
リタン、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリ(メタ)
アクリル酸エステル、エポキシ、ポリアミド、ロジン変
性フェノール、テルペンフェノール、ポリオレフィン
系、セルロース系の各樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重
合体、ゼラチン、カゼイン等が挙げられる。
リタン、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリ(メタ)
アクリル酸エステル、エポキシ、ポリアミド、ロジン変
性フェノール、テルペンフェノール、ポリオレフィン
系、セルロース系の各樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重
合体、ゼラチン、カゼイン等が挙げられる。
【0065】多孔質層の厚みは5μm以上、その平均表
面粗さは1μm以下であることが好ましい。多孔質層の
上に更に受像層を設けることも好ましい態様である。
面粗さは1μm以下であることが好ましい。多孔質層の
上に更に受像層を設けることも好ましい態様である。
【0066】受像層は、バインダーと必要に応じて添加
される各種添加剤や、前記クッション性を付与するため
の物質とで形成することができる。
される各種添加剤や、前記クッション性を付与するため
の物質とで形成することができる。
【0067】受像層に用いられるバインダーとしては、
エチレン-塩化ビニル共重合体系接着剤、ポリ酢酸ビニ
ルエマルジョン系接着剤、クロロプレン系接着剤、エポ
キシ樹脂系接着剤等の接着剤、天然ゴム、クロロプレン
系ゴム、ブチルゴム系、ポリブタジエンゴム、ポリアク
リル酸エステル系、ニトリルゴム系、ポリサルファイド
系、シリコンゴム系、ロジン系樹脂、塩化ビニル系樹
脂、石油系樹脂及びアイオノマー樹脂などの粘着剤、再
生ゴム、SBR、ポリイソプレン、ポリビニルエーテル
等を挙げることができる。
エチレン-塩化ビニル共重合体系接着剤、ポリ酢酸ビニ
ルエマルジョン系接着剤、クロロプレン系接着剤、エポ
キシ樹脂系接着剤等の接着剤、天然ゴム、クロロプレン
系ゴム、ブチルゴム系、ポリブタジエンゴム、ポリアク
リル酸エステル系、ニトリルゴム系、ポリサルファイド
系、シリコンゴム系、ロジン系樹脂、塩化ビニル系樹
脂、石油系樹脂及びアイオノマー樹脂などの粘着剤、再
生ゴム、SBR、ポリイソプレン、ポリビニルエーテル
等を挙げることができる。
【0068】支持体とクッション層と受像層を有する受
像材料における支持体の厚み、或は支持体と多孔質層だ
けで形成された受像材料における支持体の厚みについて
は特に制限はないが、通常5〜300μmの範囲で用いられ
る。又、受像層の厚みは通常、0.1〜20μmであるが、多
孔質層を受像層として用いる場合は5〜20μmである。
像材料における支持体の厚み、或は支持体と多孔質層だ
けで形成された受像材料における支持体の厚みについて
は特に制限はないが、通常5〜300μmの範囲で用いられ
る。又、受像層の厚みは通常、0.1〜20μmであるが、多
孔質層を受像層として用いる場合は5〜20μmである。
【0069】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0070】実施例1 まず、本発明の受像材料と組み合わせて用いる記録材料
を作成した。
を作成した。
【0071】100μmのPET(ポリエチレンテレフタレー
ト)支持体上に、下記クッション層、光熱変換層及びイ
ンク層を順次塗設してインクシートを作成した。
ト)支持体上に、下記クッション層、光熱変換層及びイ
ンク層を順次塗設してインクシートを作成した。
【0072】尚、以下の組成において「部」は重量部を
表す。
表す。
【0073】(クッション層)クッション層用塗布液
(JSR0617:日本合成ゴム製カルボキシ変性スチレン-ブ
タジエン樹脂)を、ブレードコーターを用いて塗布・乾
燥した。乾燥膜厚60μm。
(JSR0617:日本合成ゴム製カルボキシ変性スチレン-ブ
タジエン樹脂)を、ブレードコーターを用いて塗布・乾
燥した。乾燥膜厚60μm。
【0074】(光熱変換層)下記組成の光熱変換層用塗
布液を調製し、上記クッション層上にワイヤーバーを用
いて塗布・乾燥した。膜厚0.3μm。830nmでの吸光度は
1.3であった。
布液を調製し、上記クッション層上にワイヤーバーを用
いて塗布・乾燥した。膜厚0.3μm。830nmでの吸光度は
1.3であった。
【0075】 光熱変換物質(IR−1) 3.5部 ポリビニルアルコール 3.5部 水 93.0部
【0076】
【化1】
【0077】(インク層)下記組成のインク層用塗布液
を調製し、上記光熱変換層上にワイヤーバーを用いて塗
布・乾燥した。乾燥膜厚0.5μm。 DS-90(播磨化成製) 4.7部 SD0012(東京インキ製パラフィンワックス分散物) 0.5部 EV-40Y(三井デュポン製) 0.5部 ジオクチルフタレート 0.3部 MHI-R527(御国色素製マゼンタ顔料) 4.0部 メチルエチルケトン 90.0部 (受像材料の作成)以下のようにして3種の本発明に係
る受像材料を作成した。
を調製し、上記光熱変換層上にワイヤーバーを用いて塗
布・乾燥した。乾燥膜厚0.5μm。 DS-90(播磨化成製) 4.7部 SD0012(東京インキ製パラフィンワックス分散物) 0.5部 EV-40Y(三井デュポン製) 0.5部 ジオクチルフタレート 0.3部 MHI-R527(御国色素製マゼンタ顔料) 4.0部 メチルエチルケトン 90.0部 (受像材料の作成)以下のようにして3種の本発明に係
る受像材料を作成した。
【0078】受像材料−1 75μmPET支持体上に乾燥膜厚が1μmになるようEVA(エ
チレン-酢酸ビニル重合体)を塗布した受像シートAを
用意した。このシートの縁部1cm幅に、マット剤として
平均粒径8μmのシリカ系微粒子を付量20mg/m2になる
ようEVAをバインダーとして塗布して受像材料−1とし
た。「図1(a)参照」 受像材料−2 受像材料−1と同じ受像シートAの縁部1cm幅に、深さ
20μm・周期100μmのエンボス加工を施したものを受像
材料−2とした。「図1(b)参照」 受像材料−3 75μmPET支持体上に、25℃での弾性率が約20kg/cm2、
ガラス転移点(Tg)が18℃(バイブロン測定機,11Hz)
のSBR0617(日本合成ゴム製)を乾燥膜厚30μmになるよ
う塗布して、クッション層とした。
チレン-酢酸ビニル重合体)を塗布した受像シートAを
用意した。このシートの縁部1cm幅に、マット剤として
平均粒径8μmのシリカ系微粒子を付量20mg/m2になる
ようEVAをバインダーとして塗布して受像材料−1とし
た。「図1(a)参照」 受像材料−2 受像材料−1と同じ受像シートAの縁部1cm幅に、深さ
20μm・周期100μmのエンボス加工を施したものを受像
材料−2とした。「図1(b)参照」 受像材料−3 75μmPET支持体上に、25℃での弾性率が約20kg/cm2、
ガラス転移点(Tg)が18℃(バイブロン測定機,11Hz)
のSBR0617(日本合成ゴム製)を乾燥膜厚30μmになるよ
う塗布して、クッション層とした。
【0079】このクッション層の上に、受像層としてRB
820(ポリブタジエン樹脂:日本合成ゴム製)をトルエ
ンにて溶解したものを塗布して設け(乾燥膜厚2μ
m)、受像シートBを用意した。このシートの周囲に図
1(c)に示す切手状の切込みを入れ、受像材料−3とし
た。
820(ポリブタジエン樹脂:日本合成ゴム製)をトルエ
ンにて溶解したものを塗布して設け(乾燥膜厚2μ
m)、受像シートBを用意した。このシートの周囲に図
1(c)に示す切手状の切込みを入れ、受像材料−3とし
た。
【0080】受像材料−3の830nmでの透過率は90%で
あった。(PETの屈折率は1.65、中間層の屈折率は1.5
5) 受像シートBとは弾性率、ガラス転移点が異なる下記素
材で設けたクッション層を設けた受像シートC、D及び
Eを用いて受像材料−3C、3D及び3Eを作成した。
あった。(PETの屈折率は1.65、中間層の屈折率は1.5
5) 受像シートBとは弾性率、ガラス転移点が異なる下記素
材で設けたクッション層を設けた受像シートC、D及び
Eを用いて受像材料−3C、3D及び3Eを作成した。
【0081】 素 材 弾 性 率 ガラス転移点 (kg/mm2) (℃) 受像シートC ポリウレタンCA-118 220 63 (東洋モートン) 受像シートD ポリウレタンCA-128 70 18 (東洋モートン) 受像シートE ハイテックS-8533 37 15 (熱転写記録)受像材料−1,2,A,B,3,3C,
3D,3Eの受像面を前記インクシートのインク層と重ね
合わせ、図2のように受像材料の支持体側より吸引圧着
し、インクシートの支持体側から画像情報を半導体レー
ザー(吸収極大830nm)で走査露光を与えた後、受像シ
ートをインクシートから剥離し受像材料上に転写画像を
得た。結果を以下に示す。
3D,3Eの受像面を前記インクシートのインク層と重ね
合わせ、図2のように受像材料の支持体側より吸引圧着
し、インクシートの支持体側から画像情報を半導体レー
ザー(吸収極大830nm)で走査露光を与えた後、受像シ
ートをインクシートから剥離し受像材料上に転写画像を
得た。結果を以下に示す。
【0082】 受像材料 受像材料 クッション層 密着時間* 転写ムラ の形状 の場所 A フラット インク 60分以上 ○ 1 シリカ インク 10分以下 ○ 2 エンボス インク 10分以下 ○ B フラット インク+受像 60分以上 ○ 3 切込み インク+受像 10分以下 ○ 3C 切込み インク+受像 10分以下 ○ 3D 切込み インク+受像 10分以下 ◎ 3E 切込み インク+受像 10分以下 ◎ *A4の試料シートを完全に密着させるに要する時間
(真空度は400torr)上記実施例においては全て転写ム
ラのない良好な画像が得られたが、受像材料−A及びB
は転写ムラの出ないように真空密着させるのに長時間を
要した。
(真空度は400torr)上記実施例においては全て転写ム
ラのない良好な画像が得られたが、受像材料−A及びB
は転写ムラの出ないように真空密着させるのに長時間を
要した。
【0083】実施例2 75μmPET支持体上に下記組成の多孔質層形成用塗布液を
塗布・乾燥して多孔質層を形成した。「図1(d)参照」 (多孔質層−1) ポリウレタン樹脂(タケラックT:武田薬品製) 15部 トルエン/i-プロピルアルコール(2/1)混合溶液 85部 溶解後、水40部と混合した。多少白濁した溶液。
塗布・乾燥して多孔質層を形成した。「図1(d)参照」 (多孔質層−1) ポリウレタン樹脂(タケラックT:武田薬品製) 15部 トルエン/i-プロピルアルコール(2/1)混合溶液 85部 溶解後、水40部と混合した。多少白濁した溶液。
【0084】 (多孔質層−2) ポリエステル(エリーテルUE-3690:ユニチカ製) 74部 ブチル錫ラウレート(BL-42A:昭島化学工業製) 4部 バリウム-亜鉛有機化合物(LT701B:昭島化学工業製) 4部 シリカ(平均粒径0.015μm) 4部 炭酸カルシウム(平均粒径0.2μm) 4部 この多孔質層−1及び2の上に、実施例1と同様にして
RB820(ポリブタジエン樹脂:日本合成ゴム製)をトル
エンにて溶解したものを塗布・乾燥して受像層を設け受
像材料−4及び5を作成した。
RB820(ポリブタジエン樹脂:日本合成ゴム製)をトル
エンにて溶解したものを塗布・乾燥して受像層を設け受
像材料−4及び5を作成した。
【0085】このようにして得た受像材料−4、5及び
実施例1における受像シートA(受像材料−4又は5か
ら多孔質層を除いたものに相当)と実施例1と同じイン
クシートを用いてヒートモードレーザー型熱転写を行
い、実施例1と同様に評価した。
実施例1における受像シートA(受像材料−4又は5か
ら多孔質層を除いたものに相当)と実施例1と同じイン
クシートを用いてヒートモードレーザー型熱転写を行
い、実施例1と同様に評価した。
【0086】本実施例においても、良好な転写画像を得
たが、受像材料−4及び5は受像シートAに比べて大幅
な密着時間の短縮が可能であった。
たが、受像材料−4及び5は受像シートAに比べて大幅
な密着時間の短縮が可能であった。
【0087】
【発明の効果】本発明によれば、ヒートモードレーザー
型熱転写記録における熱転写記録材料と熱転写受像材料
との密着性が高められ、むらの無い良好な転写画像を得
ることができる。又、記録材料と受像材料の密着に要す
る時間も短縮できた。
型熱転写記録における熱転写記録材料と熱転写受像材料
との密着性が高められ、むらの無い良好な転写画像を得
ることができる。又、記録材料と受像材料の密着に要す
る時間も短縮できた。
【図1】(a)受像層の端部にマット材を含有させた本発
明の受像材料−3の断面図。 (b)受像層の端部にエンボス加工を施した本発明の受像
材料−2の断面図。 (c)受像層の端部に切込みを入れた本発明の受像材料−
3の平面図。 (d)クッション層を多孔質層とした本発明の受像材料−
4,5の断面図。
明の受像材料−3の断面図。 (b)受像層の端部にエンボス加工を施した本発明の受像
材料−2の断面図。 (c)受像層の端部に切込みを入れた本発明の受像材料−
3の平面図。 (d)クッション層を多孔質層とした本発明の受像材料−
4,5の断面図。
【図2】本発明の真空密着方法を示す断面模式図。
1 支持体 2 クッション層 3 受像層 4 多孔質層 11 熱転写受像材料 12 熱転写記録材料 13 密着用ドラム 14 減圧孔 15 減圧方向
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−187788(JP,A) 特開 平3−248855(JP,A) 特開 昭63−145083(JP,A) 特開 昭61−237692(JP,A) 特開 昭61−270192(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41M 5/38 - 5/40
Claims (14)
- 【請求項1】 熱転写記録材料のインク面と熱転写受像
材料の受像面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは熱
転写受像材料の裏面より画像情報に応じた光を照射する
ことにより、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応じ
てインク層を転写するヒートモードレーザー型熱転写記
録において、端部の平均表面粗さが中央部の平均表面粗
さより大きいことを特徴とする熱転写受像材料。 - 【請求項2】 前記熱転写受像材料の端部に、中央部と
比べ平均粒径の大きなマット材を含有させるか、又は端
部にのみマット材を含有させることを特徴とする請求項
1記載の熱転写受像材料。 - 【請求項3】 前記熱転写受像材料の端部をエンボス加
工により凹凸を付けることを特徴とする請求項1記載の
熱転写受像材料。 - 【請求項4】 前記熱転写受像材料の端部を微小突起物
で削り取ることにより凹凸を付けることを特徴とする請
求項1記載の熱転写受像材料。 - 【請求項5】 熱転写記録材料のインク面と熱転写受像
材料の受像面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは熱
転写受像材料の裏面より画像情報に応じた光を照射する
ことにより、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応じ
てインク層を転写するヒートモードレーザー型熱転写記
録において、端部に切込みが入れられていることを特徴
とする熱転写受像材料。 - 【請求項6】 熱転写受像材料の支持体と受像層の間に
クッション層を有することを特徴とする請求項1〜5の
いずれかに記載の熱転写受像材料。 - 【請求項7】 前記クッション層の弾性率が25℃におい
て200kg/cm2以下であることを特徴とする請求項6記載
の熱転写受像材料。 - 【請求項8】 前記クッション層のガラス転移温度が25
℃以下であることを特徴とする請求項6記載の熱転写受
像材料。 - 【請求項9】 前記支持体及びクッション層を併せての
透過率が700〜1000nmの近赤外光の中で最も良く透過す
る波長に対して70%以上あることを特徴とする請求項6
記載の熱転写受像材料。 - 【請求項10】 前記クッション層の屈折率が支持体の
屈折率より0.02以上小さいことを特徴とする請求項6記
載の熱転写受像材料。 - 【請求項11】 前記クッション層の膜厚が5μm以上
であることを特徴とする請求項6〜10のいずれかに記載
の熱転写受像材料。 - 【請求項12】 熱転写記録材料のインク面と熱転写受
像材料の受像面を重ね合わせ、熱転写記録材料あるいは
熱転写受像材料の裏面より画像情報に応じた光を照射す
ることにより、熱転写受像材料の受像面に画像情報に応
じてインク層を転写するヒートモードレーザー型熱転写
記録において、熱転写受像材料が支持体上に少なくとも
微細な空隙を有する多孔質層を有することを特徴とする
熱転写受像材料。 - 【請求項13】 前記多孔質層上に更に受像層を有する
ことを特徴とする請求項12記載の熱転写受像材料。 - 【請求項14】 前記多孔質層の厚みが5μm以上で、
かつ平均表面粗さが1μm以下であることを特徴とする
請求項13記載の熱転写受像材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13091592A JP3215987B2 (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | 熱転写受像材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13091592A JP3215987B2 (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | 熱転写受像材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05318952A JPH05318952A (ja) | 1993-12-03 |
JP3215987B2 true JP3215987B2 (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=15045716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13091592A Expired - Fee Related JP3215987B2 (ja) | 1992-05-22 | 1992-05-22 | 熱転写受像材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3215987B2 (ja) |
-
1992
- 1992-05-22 JP JP13091592A patent/JP3215987B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05318952A (ja) | 1993-12-03 |
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