JP3359359B2 - 硬化性組成物 - Google Patents
硬化性組成物Info
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Description
合物を含有する硬化性組成物に関する。さらに詳しく
は、硬化時に低沸点化合物の発生を伴わず、比較的低温
で速やかに硬化し、硬化後に優れた耐熱性、耐薬品性、
機械的特性を有する硬化物を与える硬化性組成物に関す
る。
が開発されている。その中には、比較的低温で進行する
ヒドロシリル化反応を利用した硬化性組成物も開示され
ている(特開平1-138230号公報)。該組成物を使用する
と、硬化時に低沸点化合物の発生がほとんどなく、外観
の良好な化合物がえられるが、アルケニル基含有成分お
よびヒドロシリル基含有成分がともに主鎖がポリエーテ
ルからなり、えられる硬化物は耐熱性、耐薬品性などが
充分でなく、100 ℃といった温度でも短時間で機械的特
性が大きく低下する、耐酸性、耐溶剤性がわるいなどの
欠点を有している。したがって、耐熱性や耐薬品性の要
求される用途、たとえば電子部品まわりのコーティング
剤、耐熱性接着剤などの用途には適さない。
点化合物の発生を伴わず比較的低温で速やかに硬化し、
硬化後に耐熱性、耐薬品性、機械的強度の優れた硬化物
を与える硬化性組成物を提供することを目的とする。
について鋭意検討を重ねた結果、分子中に少なくとも2
個のヒドロシリル基を有するイミド化合物と分子内に少
なくとも2個の炭素−炭素2重結合を有するイミド化合
物とをヒドロシリル化触媒を用いて反応させると比較的
低温でも速やかに硬化し、硬化時に低沸点化合物の発生
を伴わないために硬化物の作製が容易で、硬化後に優れ
た耐熱性、耐薬品性、機械的特性を有する硬化物を与え
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
(I):
を含有する4価の有機基、R2 は炭素数6〜30個の芳香
族基を含有する2価の有機基、または一般式(II):
R5 は炭素数1〜20個の1価の有機基を表わし、複数の
R4 、R5 は同一であってもよく、また異なっていても
よい、lは1〜20の正の整数を表わす)で表わされる2
価の有機基、R3 は炭素数1〜20の2価の有機基、Yは
少なくとも1つのヒドロシリル基を含む炭素数1〜20の
有機基を表わし、2つのR3 およびYは同一であっても
よく、また異なってもいてもよい、nは1〜100 の整数
を表わす)で表わされるイミド化合物および一般式(I
II):
り、R6は少なくとも1つのヒドロシリル基を含む炭素
数1〜20個の2価の有機基であって、2つのR6は同一
であってもよく、また異なっていてもよい)で表わされ
るイミド化合物から選ばれた少なくとも1種のイミド化
合物、 (B)一般式(IV):
数2〜20個の炭素−炭素2重結合を有する1価の有機基
を表わし、2つのR 7 は同一であってもよく、また異な
っていてもよい)で表わされるイミド化合物、および一
般式(V):
くとも1つの炭素−炭素2重結合を含む炭素数2〜20個
の2価の有機基であって、2つのR 8 は同一であっても
よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
合物から選ばれた少なくとも1種のイミド化合物、およ
び (C)ヒドロシリル化触媒 を含有し、(A)成分中のヒドロシリル(Si−H)基
が、(B)成分中の炭素−炭素2重結合に対してモル比
で0.5〜10倍量、(C)成分が、(B)成分中の炭
素−炭素2重結合1モルに対して10 -1 〜10 -8 モルで
ある硬化性組成物に関する。
して、一般式(I):
を含有する4価の有機基、R2 は炭素数6〜30個の芳香
族基を含有する2価の有機基、または一般式(II):
R5 は炭素数1〜20個の1価の有機基を表わし、複数の
R4 、R5 は同一であってもよく、また異なっていても
よい、lは1〜20の正の整数を表わす)で表わされる2
価の有機基、R3 は炭素数1〜20の2価の有機基、Yは
少なくとも1つのヒドロシリル基を含む炭素数1〜20の
有機基を表わし、2つのR3 およびYは同一であっても
よく、また異なってもいてもよい、nは1〜100 の整数
を表わす)で表わされるイミド化合物および一般式(I
II):
り、R6 は少なくとも1つのヒドロシリル基を含む炭素
数1〜20個の2価の有機基であって、2つのR6 は同一
であってもよく、また異なっていてもよい)で表わされ
るイミド化合物から選ばれた少なくとも1種のイミド化
合物(以下、ヒドロシリル基含有イミド化合物ともい
う)が使用される。
有イミド化合物が炭素−炭素2重結合、たとえばアルケ
ニル基を有するイミド化合物と、触媒の存在下で反応し
て硬化物を生成することを利用したものであり、ヒドロ
シリル基を有する化合物および炭素−炭素2重結合を有
する化合物中にイミド基があるので、硬化後とくに優れ
た耐熱性、耐薬品性、機械的特性を示す硬化物がえられ
る。
(A)は、分子中に少なくとも2個、好ましくは2〜15
個、さらには3〜12個のヒドロシリル基を有する化合物
である。前記ヒドロシリル基含有イミド化合物(A)が
分子中に少なくとも2個のヒドロシリル基を有するた
め、後述する(B)成分である分子内に少なくとも2個
の炭素−炭素2重結合を有するイミド化合物との反応に
より、直鎖状または網目状重合体となる。1分子中に含
まれるヒドロシリル基の数が2個より少ないと硬化不良
をおこすばあいが多い。一方、ヒドロシリル基の数が多
くなりすぎると、ヒドロシリル基含有イミド化合物
(A)の貯蔵安定性がわるくなり、そのうえ、硬化後も
多量のヒドロシリル基が硬化物中に残存し、ボイドやク
ラックの原因となる。
(A)は分子中に少なくとも2個のヒドロシリル基を有
するイミド化合物である限りとくに限定はないが、分子
量としては500 〜20000 程度、さらには500 〜10000 程
度のものであるのが溶解性や溶融性がよいため成形性に
優れ、かつ、えられる硬化物の耐熱性が優れるなどの点
から好ましい。
において、R1 は炭素数6〜30個の芳香族基を含有する
4価の有機基であるが、とりわけ炭素数6〜30個の4価
の芳香族基または2価の基を介して結合した芳香族環か
らなる4価の基が硬化後に耐熱性に優れた硬化物を与え
るという点から好ましい。とくに好ましい具体例として
は、ピロメリット酸、 3,3′,4,4′- ビフェニルテトラ
カルボン酸、 3,3′,4,4′- ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸、 3,3′,4,4′- ジフェニルスルホンテトラカル
ボン酸、 3,3′,4,4′- ジフェニルエーテルテトラカル
ボン酸、ナフタレン-1,2,5,6- テトラカルボン酸からカ
ルボン酸基を除いた残基などがあげられる。これらは単
独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
において、R2 は炭素数6〜30個の芳香族基を含有する
2価の有機基、または一般式(II):
たとえばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチ
レン基、ヘキシレン基、オクチレン基、イソプロピレン
基、イソブチレン基、フェニレン基、ナフチレン基、ベ
ンジレン基、フェネチレン基など、R5 は炭素数1〜20
個の1価の有機基、たとえばメチル、エチル、プロピ
ル、フェニルなどを表わし、複数のR4 、R5 は同一で
あってもよく、また異なっていてもよい、lは1〜20の
正の整数を表わす)で表わされる基であるが、このよう
な基の具体例としては、たとえば、 4,4′- ジアミノジ
フェニルエーテル、3,4′- ジアミノジフェニルエーテ
ル、 3,3′- ジアミノジフェニルエーテル、4,4′- ジ
アミノジフェニルスルフィド、 4,4′- ビス(4-アミノ
フェノキシ)ビフェニル、 4,4′- ジアミノジフェニル
スルホン、 3,3′- ジアミノジフェニルスルホン、 3,
3′- ジアミノベンゾフェノン、ビス[4-(4-アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(2-アミノフ
ェノキシ)フェニル]スルホン、1,4-ビス(4-アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)
ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェニル)ベンゼン、ビ
ス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、
4,4′- ジアミノジフェニルメタン、ビス(3-エチル-4-
アミノフェニル)メタン、ビス(3-メチル-4- アミノ
フェニル)メタン、ビス(3-クロロ-4- アミノフェニ
ル)メタン、 4,4′- ジアミノビフェニル、 4,4′- ジ
アミノオクタフルオロビフェニル、 3,3′- ジメトキシ
-4,4′- ジアミノビフェニル、 3,3′- ジメチル-4,4′
- ジアミノビフェニル、 3,3′- ジクロロ-4,4′- ジア
ミノビフェニル、 2,2′,5,5′- テトラクロロ-4,4′-
ジアミノビフェニル、 3,3′- ジカルボキシ-4,4′- ジ
アミノビフェニル、 3,3′- ジヒドロキシ-4,4′- ジア
ミノビフェニル、2,4-ジアミノトルエン、1,3-ジアミノ
ベンゼン、1,4-ジアミノベンゼン、 2,2′- ビス[4-
(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、 2,2′-
ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフル
オロプロパン、 2,2′-ビス(4-アミノフェニル)プロ
パン、 2,2′- ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、 2,2′- ビス(3-ヒドロキシ-4- アミノフ
ェニル)プロパン、 2,2′- ビス(3-ヒドロキシ-4- ア
ミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス[4-(4-
アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、9,9 ′- ビス
(4-アミノフェニル)-10-ヒドロアントラセン、 9,9-
ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、オルトトリジン
スルホン;1,3-ビス(3-アミノプロピル)テトラメチル
ジシロキサン、1,5-ビス(3-アミノプロピル)ヘキサメ
チルトリシロキサン、
れるアミノ基末端ポリシロキサンなどのシロキサンジア
ミンからアミノ基を除いた残基などがあげられる。これ
らは単独で用いもよく、2種以上を併用してもよい。
1〜20個の2価の有機基であるが、このような基の具体
例としては、たとえばメチレン基、エチレン基、プロピ
レン基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、イ
ソプロピレン基、イソブチレン基、フェニレン基、ナフ
チレン基、ベンジレン基、フェネチレン基などがあげら
れる。
のヒドロシリル基を含む基であるが、このような基の具
体例としては、たとえば
ル基(なお、−SiH3 のばあい、ヒドロシリル基を3
個含むことになる)、
基、
および炭素数が1〜10の有機基より選ばれる基であり、
複数個あるR9 は同一であってもよく、異なっていても
よい、m、nは正の整数で、かつ、2<m+n<50を満
たす)、
数、qは0または正の整数で、かつ、2≦p+q≦4、
kは正の整数、rは0または正の整数で、かつ、2≦k
+r<50)で示される鎖状、枝分かれ状、環状の各種の
多価ハイドロジェンシロキサンより誘導された基などが
あげられる。
以上存在するばあいには、それらは同一であってもよ
く、異なっていてもよい。
少なくとも1つのヒドロシリル基を含む炭素数1〜20個
の2価の有機基で、好ましくは環を構成する炭素原子に
直接結合したヒドロシリル基を有する基が結合した構造
を有する2価の有機基である。このような基の好ましい
具体例としては、構造式:
あげられる。一般式(III)で表わされるイミド化合
物に存在する2つのR6 は同一であってもよく、また異
なっていてもよい。
ミド化合物(A)の具体例を以下に示すが、これら具体
例のみに限定されるものではない。
種である一般式(I)で表わされるヒドロシリル基含有
イミド化合物の製法について説明する。
含有イミド化合物の製法にはとくに制限はなく、任意の
方法により製造しうる。
イミド化合物をLiAlH4 、NaBH4 などの還元剤
で処理して該化合物中のSi−Cl基をSi−H基に還
元する方法、分子内にある官能基Zを有するイミド化
合物と分子内に上記官能基と反応する官能基Y´および
ヒドロシリル基を同時に有する化合物とを反応させる方
法、炭素−炭素2重結合を有するイミド化合物に対し
て少なくとも2個のヒドロシリル基を有するポリヒドロ
シラン化合物を選択ヒドロシリル化することにより、反
応後もヒドロシリル基を該化合物の分子中に残存させる
方法などが考えられる。これらのうち、原料の入手のし
やすさ、反応の簡便さ、収率のよさなどの点からの方
法がとくに好ましい。
る炭素−炭素2重結合(たとえばアルケニル基)を有す
るイミド化合物を製造する方法としては、たとえばまず
芳香族テトラカルボン酸2無水物とジアミンとを有機極
性溶媒中で反応させ、続いて炭素−炭素2重結合含有1
級アミン化合物を反応させてポリアミド酸の溶液をえ、
ついで(i) 前記ポリアミド酸の溶液を加熱することによ
り熱的にイミド化する方法、もしくは(ii)前記ポリアミ
ド酸の溶液に無水酢酸などの脱水剤を作用させ、化学的
にイミド化する方法、もしくは(iii) 前記ポリアミド酸
の溶液を水、炭化水素のようなアミド酸に対する貧溶媒
と接触させてアミド酸を沈澱として析出させ、これを加
熱する方法などの方法があげられる。
素2重結合を有するイミド化合物を製造することがで
き、とくに制約を受けるものではないが、製造装置や製
造工程がより簡便あるいは容易であることや、使用する
原料の入手が容易であることから、(i) の方法、すなわ
ち芳香族テトラカルボン酸2無水物とジアミンとを有機
極性溶媒中で反応させ、続いて炭素−炭素2重結合含有
1級アミンを反応させてポリアミド酸の溶液をえ、つい
で加熱してイミド化合物をうる方法が好ましい。
ンおよび炭素−炭素2重結合含有1級アミン化合物を前
記のように溶媒中で80℃以下の温度で反応させてアミド
酸の溶液をえ、ついでこれを100 〜250 ℃に加熱する方
法が好ましい。
ン化合物は、前記テトラカルボン酸2無水物とジアンと
の反応により新たに生成した酸無水物に対して2〜5倍
量(モル比、以下同様)、好ましくは2〜3倍量、より
好ましくは2〜2.5 倍量用いて反応させるのが好まし
い。炭素−炭素2重結合含有1級アミン化合物の量が2
倍量より少ないと、当然、未反応の酸無水物が残存し、
目的のイミド化合物の収率は低下するので好ましくな
い。また、5倍量をこえて用いると、残存する未反応の
酸無水物の量は減少するが、過剰に用いた炭素−炭素2
重結合含有1級アミン化合物の除去が困難になるので好
ましくない。
は、前記R1 の具体例としてあげた基のもとになったテ
トラカルボン酸2無水物が好ましい。使用されるジアミ
ンとしては、前記R2 の具体例としてあげた基のもとに
なったジアミンが好ましい。好ましい炭素−炭素2重結
合含有1級アミン化合物としては、アリルアミン、ブテ
ニルアミン、o−アミノスチレン、m−アミノスチレ
ン、p−アミノスチレン、o−アリロキシアニリン、m
−アリロキシアニリン、p−アリロキシアニリンなどが
あげられる。
チルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホ
キシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセ
トアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−
ピロリドン、N−アセチル−2−ピロリドン、N−ビニ
ル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノー
ル、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾー
ル、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコール
などのフェノール系溶媒、ピリジン、ヘキサメチルホス
ホルアミド、γ−ブチロラクトン、これら2種以上の混
合物などがあげられる。
は炭素−炭素2重結合が存在するため、前述のごとき方
法によりヒドロシリル基を導入し、本発明に用いられる
ヒドロシリル基含有イミド化合物をうることができる。
ミド化合物は、通常250 ℃以下の融点を有する。
ドロシリル基含有イミド化合物の製法について説明す
る。
ル基含有イミド化合物の製法にもとくに制限はなく、一
般式(I)で表わされるヒドロシリル基含有イミド化合
物のばあいと同様にして製造しうる。
ロシリル基含有イミド化合物の製法においては、一般式
(I)で表わされるヒドロシリル基含有イミド化合物の
製造で用いた炭素−炭素2重結合含有1級アミン化合物
のかわりに環状オレフィン含有酸無水物が使用される。
前記テトラカルボン酸2無水物とジアミンとの反応によ
り新たに生成したジアミンに対して、一般式(I)で表
わされるヒドロシリル基含有イミド化合物のばあいと同
様に、2〜5倍量(モル比、以下同様)、好ましくは2
〜3倍量、より好ましくは2〜2.5 倍量用いて反応させ
るのが好ましい。
およびジアミンも一般式(I)で表わされるヒドロシリ
ル基含有イミド化合物のばあいと同様である。
物としては、
ンおよびテトラカルボン酸2無水物の反応生成物である
イミド化合物は250 ℃以下の融点を有する。
は炭素−炭素2重結合が存在するため、前述のごとき方
法によりヒドロシリル基を導入し、本発明に用いられる
ヒドロシリル基含有イミド化合物(A)にしうる。
ミド化合物(A)は、一般に250 ℃以下の融点を有し、
ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール
などのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、アニソールなどのエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、安息香酸メチ
ル、安息香酸エチルなどのエステル系溶媒、塩化メチレ
ン、クロロホルム、塩化エチレン、クロロベンゼンなど
のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメチルスルホキシド、
ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムア
ミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセ
トアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセト
アミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−アセ
チル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンな
どのピロリドン系溶媒、フェノール、o−クレゾール、
m−クレゾール、p−クレゾール、キシレノール、ハロ
ゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶
媒、ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチ
ロラクトン、これら2種以上の混合物などに可溶であ
り、水には不溶である。また、分子内にヒドロシリル基
を有するために、ヒドロシリル化触媒の存在下、0〜30
0 ℃の温度で容易にアルケニル基などの炭素−炭素2重
結合と反応する。
ミド化合物(A)はヒドロシリル基を有しており、湿分
が混入したりして粘度増大やゲル化などが起こりうる。
これを防止するために、ヒドロシリル基含有イミド化合
物(A)に脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リ
ン化合物、有機硫黄化合物、チッ素含有化合物、スズ系
化合物、有機過酸化物などの貯蔵安定性改良剤を含有さ
せてもよい。貯蔵安定性改良剤の使用量は均一に分散す
る限りほぼ任意に選ぶことができるが、該ヒドロシリル
基含有イミド化合物(A)1mol に対し、10-6〜10-1mo
l の範囲で用いるのが好ましい。これは、10-6mol 未満
だと該イミド化合物の貯蔵安定性が充分改良されず、10
-1mol をこえると硬化時に妨げとなるからである。貯蔵
安定性改良剤は単独で用いてもよく、また2種以上を併
用してもよい。
有イミド化合物(A)と反応する成分((B)成分)と
して分子内に少なくとも2個の炭素−炭素2重結合を有
するイミド化合物(以下、アルケニル化合物(B)とも
いう)が使用される。
とも2個のアルケニル基などの炭素−炭素2重結合を有
し、イミド基を含む化合物であり、たとえば分子量が50
0 〜20000 程度、さらには500 〜10000 程度であるのが
溶解性、溶融性がよいために成形性にすぐれ、かつ、え
られる硬化物の耐熱性がすぐれるなどの点から好まし
い。
ては、前記一般式(IV):
り、R7 は炭素数2〜20個の炭素−炭素2重結合を有す
る1価の有機基を表わし、2つのR7 は同一であっても
よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
合物や、一般式(V):
り、R8は少なくとも1つの炭素−炭素2重結合を含む
炭素数2〜20個の2価の有機基であって、2つのR8は
同一であってもよく、また異なっていてもよい)で表わ
されるイミド化合物が用いられうる。
20個の炭素−炭素2重結合を有する基の具体例として
は、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、
ヘキセニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル
基、ウンデセニル基、イソプロペニル基、2−メチル−
2−プロピル基、2−ビニルフェニル基、3−ビニルフ
ェニル基、4−ビニルフェニル基などがあげられる。
とも1つの炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2〜20個
の有機基としては、とりわけ環を形成する炭素−炭素2
重結合を有する基が好ましい。好ましいR8 の具体例と
しては、式:
化合物は、たとえばテトラカルボン酸2無水物、ジアミ
ンおよび環状オレフィン含有酸無水物または炭素−炭素
2重結合含有1級アミンなどを有機極性溶媒中で反応さ
せ、ついで加熱する前記のごとき方法によりうることが
できる。
炭素−炭素2重結合を有するイミド化合物を(B)成分
として使用した硬化性組成物は、アルケニル基などの炭
素−炭素2重結合を有する基を含有しイミド基を含まな
い化合物、たとえば炭化水素系化合物、エーテル系化合
物、エステル系化合物、カーボネート系化合物などを使
用する硬化性組成物にくらべて、えられる硬化物の耐熱
性、耐薬品性がさらに優れたものとなる。
有イミド化合物(A)とアルケニル化合物(B)とを反
応させるための触媒として、(C)成分であるヒドロシ
リル化触媒(C)が使用される。
は、たとえば白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボン
ブラックなどの単体に固体白金を担持させたもの、塩化
白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトン
などとの錯体、白金−オレフィン錯体(たとえばPt
(CH2 =CH2 )2 (PPh3 )2 、Pt(CH2 =
CH2 )2 Cl2 );白金−ビニルシロキサン錯体(た
とえばPtn (ViMe2 SiOSiMe2 Vi)m 、
Pt[(MeViSiO)4 ]m )、白金−ホスフィン
錯体(たとえばPt(PPh3 )4 、Pt(PB
u)4 )、白金−ホスファイト錯体(たとえばPt[P
(OPh)3 ]4 )(式中、Meはメチル基、Buはブ
チル基、Viはビニル基、Phはフェニル基を表わし、
m,nは整数を表わす)、ジカルボニルジクロロ白金、
また、アシュビー(Ashby )の米国特許第3159601 号明
細書および同3159662 号明細書中に記載された白金−炭
化水素複合体、ラモロー(Lamoreaux )の米国特許第32
20972 号明細書中に記載された白金アルコラート触媒な
どがあげられる。さらに、モディック(Modic )の米国
特許第3516946 号明細書中に記載された塩化白金−オレ
フィン複合体も本発明において有用である。
は、たとえばRhCl(PPh3 )3、RhCl 3、R
hAl2 O3 、RuCl3 、IrCl3 、FeCl3 、
AlCl3 、PdCl2 ・2H2 O、NiCl2 、Ti
Cl4 などがあげられる。
た2種以上を併用しても構わない。触媒活性の点から、
塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金ビニルシロキ
サン錯体が好ましい。
(B)成分の割合はヒドロシリル(Si−H)基が炭素
−炭素2重結合に対してモル比で0.5 〜10倍量、より好
ましくは0.5 〜5倍量となるように配合することが好ま
しい。0.5 倍量よりも少ないと硬化が充分に進行せず、
良好な硬化物がえられにくくなる。また、10倍量より多
くなると、(A)成分の安定性がわるくなり、そのう
え、硬化後も多量のヒドロシリル基が硬化物中に残存
し、ボイドやクラックの原因となりやすい。
としては、(B)成分のアルケニル基などの炭素−炭素
2重結合1molに対して、10-1〜10-8mol、好ましくは10
-3〜10-6molの範囲で用いるのが好ましい。ヒドロシリ
ル化触媒の使用量が10-8molより少ないと硬化が充分に
進行しにくくなり、またヒドロシリル化触媒は一般に高
価で腐食性である。また、水素ガスが大量に発生して硬
化物が発泡してしまうばあいがあるので、10-1molをこ
えて用いない方が好ましい。
よび(B)成分が固体であるばあいには、(A)成分、
(B)成分および(C)成分を適当な有機溶媒、たとえ
ばヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、プロ
パノール、エチレングリコール、1,4-ブタンジオールな
どのアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、1,4-ジオキサン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ア
ニソールなどのエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息
香酸エチルなどのエステル系溶媒、塩化メチレン、クロ
ロホルム、塩化エチレン、クロロベンゼンなどのハロゲ
ン化炭化水素系溶媒、ジメチルスルホキシド、ジエチル
スルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなど
のホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド
系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−アセチル−
2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピ
ロリドン系溶媒、フェノール、o−クレゾール、m−ク
レゾール、p−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化
フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、ピリ
ジン、ヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクト
ンなどの単独もしくは2種以上の混合物などに溶解した
溶液を組成物として使用してもよい。
接着性改良剤、物性調整剤、保存安定性改良剤、可塑
剤、充填剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、金属不活性化
剤、オゾン劣化防止剤、光安定剤、アミン系ラジカル連
鎖禁止剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、発泡剤
などの各種添加剤を適宜添加してもよい。添加剤の総量
は硬化物の諸特性を著しく低下させない範囲ならばとく
に制限はないが、好ましくは前記イミド化合物(A)10
0 部に対して1〜300 部である。
(A)成分または(B)成分の分解温度以下の温度範
囲、好ましくは50〜350 ℃、より好ましくは50〜300 ℃
の温度範囲で1分〜30時間処理するだけでよい。処理温
度が高すぎるばあいには硬化時に局部的な発熱や発泡が
生じ、良好な硬化物がえられにくくなるので、好ましく
ない。また、組成物が有機溶剤溶液のばあいには、この
組成物の硬化前または硬化中の任意の段階で有機溶媒を
留去または揮発し、前記の硬化条件にいたらしめること
により、硬化物をうることができる。
物は優れた耐熱性、耐薬品性、機械的特性を有し、種々
の用途、たとえば樹脂改質剤、高温に曝され易い部位へ
のコーティング材などに好適に用いられる。
て説明する。
物の合成) チッ素気流下、メカニカルスターラー、玉型冷却管、温
度計つきの1000cc4つ口フラスコに 3,3′,4,4′- ジフ
ェニルエーテルテトラカルボン酸2無水物(ODPA)
31.0g(0.10mol)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)
230 gを入れ、均一な溶液を調製した。この溶液に2,2-
ビス(4-アミノフェノキシ)フェニルプロパン20.5g
(0.050mol) をNMP123 gに溶解させた溶液を室温で
ロートを用いて添加し、室温で1時間攪拌を続けた。つ
いでこの反応溶液に、室温でアリルアミン5.7 g(0.10
mol)を滴下し、さらに30分間攪拌を続けたのち、200 ℃
のオイルバスで内温が165 〜170 ℃になるまで加熱し
た。この温度でさらに5時間加熱を続けた。
ールにそそぎ込み、生成した沈澱を濾過し、メタノール
で洗浄したのち80℃で減圧乾燥して、アルケニル基含有
イミド化合物42.0gをえた。
サン4.5 gを200ml の4つ口フラスコに仕込み、そこに
H2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を0.93
ml加えた。室温において、えられたアルケニル基含有イ
ミド化合物10gをクロロホルム90g に溶解させた溶液
を、約30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、60℃
で10時間反応させた。反応後、クロロホルムおよび未反
応の1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサンをエ
バポレートしたのち、室温で数時間減圧乾燥し、目的と
するヒドロシリル基含有イミド化合物(VI)14.2g
(M.P. 144℃)をえた。
物の合成) チッ素気流下、メカニカルスターラー、玉型冷却管、温
度計つきの1000cc4つ口フラスコにODPA31.0g(0.
10mol)、NMP230gを入れ、均一な溶液を調製した。この
溶液にビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スル
ホン36.0g(0.083mol) をNMP187.0gに溶解させた溶液
を室温でロートを用いて添加し、室温で1時間攪拌を続
けた。ついでこの反応溶液に、室温でアリルアミン1.9
g(0.033mol)を滴下し、さらに30分間攪拌を続けたの
ち、200 ℃のオイルバスで内温が165 〜170 ℃になるま
で加熱した。この温度でさらに5時間加熱を続けた。
ニル基含有イミド化合物76.0gをえた。
92gを200ml の4つ口フラスコに仕込み、そこにH2 P
tCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を0.26ml加え
た。室温において、えられた炭素−炭素2重結合を有す
るイミド化合物10gをクロロホルム90gに溶解させた溶
液を約30分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、60℃
で10時間反応させた。反応後、クロロホルムおよび未反
応の1,3,5-トリメチルシクロトリシロキサンをエバポレ
ートしたのち、室温で数時間減圧乾燥し、目的とするヒ
ドロシリル基含有イミド化合物(VII)10.7gをえ
た。
物の合成) チッ素気流下、メカニカルスターラー、玉型冷却管、温
度計つきの1000cc4つ口フラスコに1,3-ビス(3-アミノ
フェノキシ)ベンゼン29.2g(0.10mol)、NMP120gを入
れ、均一な溶液を調製した。ここに 3,3′ 4,4′- ジフ
ェニルエーテルテトラカルボン酸2無水物15.5g(0.05
0mol) をNMP140.0gに溶解させた溶液を室温で添加し、
室温で1時間攪拌を続けた。ついでこの反応溶液に、室
温で2,3-ジカルボキシル- ビシクロ[2.2.1] ヘプタ-5-
エン2無水物16.4g(0.10mol)をNMP 140 gに溶解した
溶液を滴下し、さらに30分間攪拌を続けたのち、200 ℃
のオイルバスで内温が165 〜170 ℃になるまで加熱し
た。この温度でさらに5時間加熱を続けた。そののち、
合成例1と同様に処理して炭素−炭素2重結合を有する
イミド化合物46.8gをえた。
サン4.4 gを500ml の4つ口フラスコに仕込み、そこに
H2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を0.91
ml加えた。室温において、えられた炭素−炭素2重結合
を有するイミド化合物10gをクロロベンゼン90gに溶解
させた溶液を、約30分かけてゆっくり滴下した。滴下終
了後、100 ℃で40時間反応させた。反応後、クロロベン
ゼンおよび未反応の1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラ
シロキサンをエバポレートしたのち、室温で数時間減圧
乾燥し、目的とするヒドロシリル基含有イミド化合物
(VIII)14.1gをえた。
(VI)1.0 gおよび式(IX):
ド化合物1.9 gをクロロホルム18gに溶解し、そこにH
2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液35.0μL
を配合して熱硬化性組成物をえた。該組成物を50℃で1
日間保存し、このあと150 ℃で1時間処理して硬化物を
作製した。
の示差熱天秤TG−DTAを用いて、チッ素気流下、T
GA測定を行なった。そこでえられた5%および10%重
量損失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N−ジメ
チルホルムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したの
ちの外観評価の結果を表2に示す。
(VI) 1.0gおよび式(X):
ド化合物0.70gをクロロホルム18gに溶解し、そこにH
2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液35.0μL
を配合して熱硬化性組成物をえた。該組成物を50℃で1
日間保存し、このあと150 ℃で1時間処理して硬化物を
作製した。
の示差熱天秤TG−DTAを用いて、チッ素気流下、T
GA測定を行なった。そこでえられた5%および10%重
量損失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N−ジメ
チルホルムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したの
ちの外観評価の結果を表2に示す。
(VII) 2.0gおよび式(XI):
ド化合物0.93gをクロロホルム18gに溶解し、そこにH
2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液 8.0μL
を配合して熱硬化性組成物をえた。該組成物を50℃で1
日間保存し、このあと150 ℃で1時間処理して硬化物を
作製した。
の示差熱天秤TG−DTAを用いて、チッ素気流下、T
GA測定を行なった。そこでえられた5%および10%重
量損失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N−ジメ
チルホルムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したの
ちの外観評価の結果を表2に示す。
(VIII) 1.0gおよび式(XII):
ド化合物2.3 gをクロロホルム18gに溶解し、そこにH
2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液33.0μL
を配合して熱硬化性組成物をえた。該組成物を50℃で1
日間保存し、このあと150 ℃で1時間処理して硬化物を
作製した。
の示差熱天秤TG−DTAを用いて、チッ素気流下、T
GA測定を行なった。そこでえられた5%および10%重
量損失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N−ジメ
チルホルムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したの
ちの外観評価の結果を表2に示す。
(分子量約8000)3gと、両末端に1,3,5,7-テトラメチ
ルシクロテトラシロキシ基を有するポリプロピレングリ
コール(分子量約8000)1gとを混合し、そこにH2 P
tCl6 ・6H2Oの10%エタノール溶液4μLを配合
して硬化性組成物を調製した。該組成物を100 ℃に保っ
たオーブン内に1時間保存して硬化物を作製した。
の示差熱天秤TG−DTAを用いて、チッ素気流下、T
GA測定を行なった。そこでえられた5%および10%重
量損失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N−ジメ
チルホルムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したの
ちの外観評価の結果を表2に示す。
に優れたものであることがわかる。また、表2から本発
明の組成物の硬化物は耐薬品性に優れたものであること
がわかる。
とイミド基を含有するアルケニル化合物(B)とヒドロ
シリル化触媒(C)とを含有する本発明の硬化性組成物
は、容易に様々な形状の硬化物にすることができ、えら
れる硬化物は極めて優れた耐熱性、耐薬品性を有するも
のである。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)一般式(I): 【化1】 (式中、R1は炭素数6〜30個の芳香族基を含有する4
価の有機基、R2は炭素数6〜30個の芳香族基を含有す
る2価の有機基、または一般式(II): 【化2】 (R4は炭素数1〜20個の2価の有機基、R5は炭素数1
〜20個の1価の有機基を表わし、複数のR4、R5は同一
であってもよく、また異なっていてもよい、lは1〜20
の正の整数を表わす)で表わされる2価の有機基、R3
は炭素数1〜20の2価の有機基、Yは少なくとも1つの
ヒドロシリル基を含む炭素数1〜20の有機基を表わし、
2つのR3およびYは同一であってもよく、また異なっ
ていてもよい、nは1〜100の整数を表わす)で表わさ
れるイミド化合物および一般式(III): 【化3】 (式中、R1、R2、nは前記と同じであり、R6は少な
くとも1つのヒドロシリル基を含む炭素数1〜20個の2
価の有機基であって、2つのR6は同一であってもよ
く、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化合
物から選ばれた少なくとも1種のイミド化合物、 (B)一般式(IV): 【化4】 (式中、R 1 、R 2 、nは前記と同じであり、R 7 は炭素
数2〜20個の炭素−炭素2重結合を有する1価の有機基
を表わし、2つのR 7 は同一であってもよく、また異な
っていてもよい)で表わされるイミド化合物、および一
般式(V): 【化5】 (式中、R 1 、R 2 、nは前記と同じであり、R 8 は少な
くとも1つの炭素−炭素2重結合を含む炭素数2〜20個
の2価の有機基であって、2つのR 8 は同一であっても
よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
合物から選ばれた少なくとも1種のイミド化合物、およ
び (C)ヒドロシリル化触媒 を含有し、(A)成分中のヒドロシリル(Si−H)基
が、(B)成分中の炭素−炭素2重結合に対してモル比
で0.5〜10倍量、(C)成分が、(B)成分中の炭
素−炭素2重結合1モルに対して10 -1 〜10 -8 モルで
ある硬化性組成物。
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---|---|---|---|
JP23106592A JP3359359B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 硬化性組成物 |
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- 1992-08-31 JP JP23106592A patent/JP3359359B2/ja not_active Expired - Fee Related
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