JP3279636B2 - ヒドロシリル基含有イミド化合物 - Google Patents
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物に関する。さらに詳しくは、硬化時に低沸点化合物の
発生を伴わず、比較的低温で速やかに硬化し、硬化後に
優れた耐熱性、耐薬品性、機械的特性を有する硬化物を
与えるイミド化合物に関する。
が開発されている。その中でも比較的低温度で進行する
ヒドロシリル化反応を利用した硬化性組成物が開示され
ている(特開平1-138230号公報)。該組成物においては
硬化時に低沸点化合物の発生がほとんどなく良好な外観
を呈する硬化物がえられるが、該組成物の必須成分であ
るアルケニル基含有成分およびヒドロシリル基含有成分
はともに主鎖がポリエーテルであり、えられる硬化物は
耐熱性、耐薬品性などが充分でなく、100 ℃といった温
度でも短時間で機械的特性が大きく低下する、耐酸性、
耐溶剤性が悪いなどの欠点を有している。したがって耐
熱性、耐薬品性が要求される用途、たとえば電子部品ま
わりのコーティング剤、耐熱性接着剤などの用途には不
適である。
により、比較的低温度でアルケニル基と反応しうるヒド
ロシリル基含有イミド化合物を提供することを目的とす
る。
題について鋭意検討を重ねた結果、アルケニル基を含む
化合物と比較的低温でも速やかに硬化し、硬化時に低沸
点化合物の発生を伴わず、硬化物の作成が容易で、硬化
後に優れた耐熱性、耐薬品性、機械特性を有する硬化物
を与えるイミド化合物を見出し、本発明を完成するに至
った。
ニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′
−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ビス(4
−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4′−ジアミノ
ジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′−ジアミノベンゾフェノン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス
[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、
ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、ビス(3−エチル−
4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−
アミノフェニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミ
ノフェニル)メタン、4,4′−ジアミノビフェニル、
4,4′−ジアミノオクタフルオロビフェニル、3,
3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、
2,2′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミ
ノビフェニル、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジ
アミノビフェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′
−ジアミノビフェニル、2,4−ジアミノトルエン、
1,3−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼ
ン、2,2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン、2,2′−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,
2′−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2′
−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェ
ニル)プロパン、2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4
−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、9,9′
−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラ
セン、オルトトリジンスルホンからアミノ基を2個除い
た2価の基、または一般式(II):
分岐状の2価の飽和炭化水素基、フェニレン基、ナフチ
レン基、
R2、複数のR3はそれぞれ同一であってもよく、また異
なっていてもよく、kは1〜20の正の整数を表わす)
で表わされる基、R1は一般式:
1〜10のアルキル基より選ばれる基であり各々のR 4
は同じでも異なっていてもよい、mは2以上の整数、n
は0または正の整数、pは正の整数、qは0または正の
整数で、かつ2≦m+n<50、2≦p+q≦4を表わ
す)で示される枝分かれ状、環状の多価ハイドロジェン
シロキサン基)であって、2つのR1は同一であっても
よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
合物に関する。
般式(I) :
ニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′
−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ビス(4
−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4′−ジアミノ
ジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′−ジアミノベンゾフェノン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス
[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、
ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、ビス(3−エチル−
4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−
アミノフェニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミ
ノフェニル)メタン、4,4′−ジアミノビフェニル、
4,4′−ジアミノオクタフルオロビフェニル、3,
3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、
2,2′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミ
ノビフェニル、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジ
アミノビフェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′
−ジアミノビフェニル、2,4−ジアミノトルエン、
1,3−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼ
ン、2,2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン、2,2′−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,
2′−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2′
−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェ
ニル)プロパン、2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4
−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、9,9′
−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラ
セン、オルトトリジンスルホンからアミノ基を2個除い
た2価の基、または一般式(II):
分岐状の2価の飽和炭化水素基、フェニレン基、ナフチ
レン基、
R2、複数のR3はそれぞれ同一であってもよく、また異
なっていてもよく、kは1〜20の正の整数を表わす)
で表わされる基、R1は一般式:
1〜10のアルキル基より選ばれる基であり各々のR 4
は同じでも異なっていてもよい、mは2以上の整数、n
は0または正の整数、pは正の整数、qは0または正の
整数で、かつ2≦m+n<50、2≦p+q≦4を表わ
す)で示される枝分かれ状、環状の多価ハイドロジェン
シロキサン基)であって、2つのR1は同一であっても
よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
合物である。
前述のごとく、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′
−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジ
フェニルスルフィド、4,4′−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、3,
3′−ジアミノベンゾフェノン、ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−
(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4
−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
(4−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン、ビス(3−エチル−4−アミノ
フェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−アミノフェ
ニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミノフェニ
ル)メタン、4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′
−ジアミノオクタフルオロビフェニル、3,3′−ジメ
トキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジ
メチル−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジ
クロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、2,2′,
5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノビフェニ
ル、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノビフ
ェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノ
ビフェニル、2,4−ジアミノトルエン、1,3−ジア
ミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼン、2,2′−
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパ
ン、2,2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビス(4
−アミノフェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−ア
ミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビ
ス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、
2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、9,9′−ビス(4−ア
ミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、オルトト
リジンスルホン、1,3−ビス(3−アミノプロピル)
テトラメチルジシロキサン、1,5−ビス(3−アミノ
プロピル)ヘキサメチルトリシロキサン、および一般式
(III):
れるアミノ末端ポリシロキサンなどのジアミンからアミ
ノ基を除いた残基などがあげられ、これらを単独もしく
は2種以上の混合物として用いることができる。
ロシリル基を有する基が直接結合した構造を有する2価
の有機基であり、具体的には以下の構造式、
て、2つのR1 は同一であってもよく、また異なってい
てもよい。
び、炭素数が1〜10のアルキル基より選ばれる基であ
り各々のR 4 は同じでも異なっていてもよい、mは2以
上の整数、nは0または正の整数、pは正の整数、qは
0または正の整数で、かつ2≦m+n<50、2≦p+
q≦4を表わす)で示される枝分かれ状、環状の多価ハ
イドロジェンシロキサン基があげられる。
以上存在するばあいには、それらは互いに同一でも異な
ってもかまわない。本発明のヒドロシリル基含有イミド
化合物中に含まれるヒドロシリル基の総数については、
すくなくとも、1分子中に2個あればよいが、2〜15個
が好ましく、3〜12個がとくに好ましい。該ヒドロシリ
ル基の個数が2より少ないと本発明のヒドロシリル基含
有イミド化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下に、ア
ルケニル基を含有する化合物と混合してヒドロシリル化
反応により硬化させるばあいに、硬化不良を起こすばあ
いが多い。また、該ヒドロシリル基の数が15より多くな
ると、該イミド化合物の貯蔵安定性が悪くなり、そのう
え、硬化後も多量のヒドロシリル基が硬化物中に残存
し、ボイドやクラックの原因となる。
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などの直鎖
状または分岐状の炭素数1〜20個の2価の飽和炭化水
素基、フェニレン基、ナフチレン基、
すが、本発明のイミド化合物はこれら具体例のみに限定
されるものではない。
有イミド化合物の製造方法としてはとくに制限はなく、
種々の方法を用いることができる。たとえば、分子内
にSi−Cl基をもつイミド化合物をLiAlH4 、N
aBH4 などの還元剤で処理して該化合物中のSi−C
l基をSi−H基に還元する方法、分子内にある官能
基Xをもつイミド化合物と分子内に前記官能基と反応す
る官能基Zおよびヒドロシリル基を同時にもつ化合物と
を反応させる方法、炭素−炭素二重結合をもつイミド
化合物に対してすくなくとも2個のヒドロシリル基をも
つポリヒドロシラン化合物を選択ヒドロシリル化するこ
とにより、反応後もヒドロシリル基を該化合物の分子中
に残存させる方法などによることができる。これらのう
ち、原料の入手のしやすさ、反応の簡便さ、収率のよさ
などの点からの炭素−炭素二重結合をもつイミド化合
物とポリヒドロシラン化合物との反応による方法がとく
に好ましい。
る炭素−炭素二重結合を有するイミド化合物を製造する
には(1)ジアミン成分と環状オレフィン含有酸無水物
とを有機極性溶媒中で反応させてアミド酸の溶液をえ、
ついで(a) 前記アミド酸の溶液を加熱することにより熱
的にイミド化する方法、あるいは(b) 前記アミド酸の溶
液に無水酢酸などの脱水剤を作用させ、化学的にイミド
化する方法、あるいは(c) 前記アミド酸の溶液を水、炭
化水素のようなアミド酸に対する貧溶媒と接触させてア
ミド酸を沈殿として析出させ、これを加熱する方法、あ
るいは(2)ジイソシアネート成分と環状オレフィン含
有酸無水物とを有機極性溶媒中で反応させて直接イミド
化合物をえる方法などをあげることができる。
内に2つの環状オレフィンを含有するイミド化合物を製
造することができ、とくに制約を受けるものではない
が、製造装置や製造工程がより簡便あるいは容易である
ことや、使用する原料の入手が容易であることから、
(1)(a) の方法、すなわちジアミン成分と環状オレフ
ィン含有酸無水物とを有機極性溶媒中で反応させ、つい
で加熱してイミドをえる方法が好ましい。
ルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキ
シド系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチル
ホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチル
アセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミドなどのアセト
アミド系溶媒、N-メチル-2- ピロリドン、N-アセチル-2
- ピロリドン、N-ビニル-2- ピロリドンなどのピロリド
ン系溶媒、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、
p-クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、
カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはピリジ
ン、ヘキサメチルホスホルアミド、γ- ブチロラクトン
など、またはこれらの溶媒の2種以上の混合物があげら
れる。
酸無水物とを前記溶媒中で80℃以下の温度で反応させて
アミド酸の溶液をえ、ついでこれを100 〜250 ℃に加熱
することによる方法が好ましい。
アミン成分に対して2〜5倍量(モル比、以下同様)、
好ましくは2〜3倍量、より好ましくは2〜2.5 倍量用
いて反応を行うのが望ましい。環状オレフィン含有酸無
水物の量が2倍量より少ないと、当然、未反応のジアミ
ンが残存し、目的のイミド化合物の収率は低下するので
好ましくない。また、5倍量以上用いると残存する未反
応のジアミンの量は減少するが、過剰に用いた環状オレ
フィン含有酸無水物の除去が困難になるので好ましくな
い。
の具体例としてあげたものが好ましい。
しては一般式:
ィンを表わす)で表わされる構造のものが挙げられる。
好ましい環状オレフィン含有酸無水物の具体例としては
R5 が
ン成分との反応生成物であるイミド化合物は、室温で液
体または250 ℃以下の融点を有する。
素−炭素二重結合を有するイミド化合物とポリヒドロシ
リル化合物、たとえばジエチルシラン、フェニルシラ
ン、ジフェニルシランなどのシラン類、1,1,1,3,5,7,7,
7-オクタメチルテトラシロキサン、1,1,1,3,5,7,9,9,9-
ノナメチルペンタシロキサンなどの鎖状ハイドロジェン
ポリシロキサン類、1,3,5-トリメチルシクロトリシロキ
サン、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサンな
どの環状ハイドロジェンポリシロキサン類などの化合物
とをヒドロシリル化触媒の存在下、炭素−炭素二重結合
に対して2〜5倍量(モル比)のポリヒドロシリル化合
物を添加して行う。反応は一般に0〜150℃の温度範囲
で行なわれ、必要に応じて、たとえばヘキサン、ヘプタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶
媒、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコール、1,4-ブタンジオールなどのアルコール系溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオ
キサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、アニソールなどのエー
テル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチルなどのエ
ステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒
の単独もしくは2種以上の混合物などの適当な有機溶媒
を用いてもよい。
の室温で液体または融点150 ℃以下の固体で、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、
1,4-ブタンジオールなどのアルコール系溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、エチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、アニソールなどのエーテル系溶媒、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
安息香酸メチル、安息香酸エチルなどのエステル系溶
媒、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン、クロ
ロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメチル
スルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシ
ド系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホ
ルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチルア
セトアミド、N,N-ジエチルアセトアミドなどのアセトア
ミド系溶媒、N-メチル-2- ピロリドン、N-アセチル-2-
ピロリドン、N-ビニル-2- ピロリドンなどのピロリドン
系溶媒、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-
クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カ
テコールなどのフェノール系溶媒、あるいはピリジン、
ヘキサメチルホスホルアミド、γ- ブチロラクトンおよ
びこれら2種以上の混合物に可溶で、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ペンゼン、トルエン、キシレンなどの炭
化水素系溶媒および水には不溶または極めて難溶であ
る。
により貯蔵中に粘度の増加やゲル化などの起ることを防
ぐために、イミド化合物の中に、脂肪族不飽和結合を含
有する化合物、有機リン化合物、有機硫黄化合物、窒素
含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物などの貯蔵安
定性改良剤を含有させることができる。
散する限りにおいてほぼ任意に選ぶことができるが、該
イミド化合物1 molに対し、10-6〜10-1 molの範囲で用
いることが好ましい。10-6 mol以下では貯蔵安定性の効
果が充分には発揮されず、10-1 mol以上では硬化を阻害
する恐れが大きい。貯蔵安定性改良剤は単独で用いて
も、また、2種以上を混合して用いてもよい。
シリル基を有するために、ヒドロシリル化触媒たとえば
白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラックなど
の単体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化
白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトンなどとの錯
体、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯
体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体な
どの白金系触媒、またはRhCl(PPh3 )3 、Rh
Cl3 、RhAl2 O3 、RuCl3 、IrCl3 、F
eCl3 、AlCl3 、PdCl2 ・2H2 O、NiC
l2 、TiCl4などの存在下で0〜300 ℃の温度範囲
で容易にアルケニル基を有する化合物と反応する。
ば1,3-ブタジエン、1,5-ヘキサジエン、1,9-デカジエ
ン、o-ジビニルベンゼン、m-ジビニルベンゼン、p-ジビ
ニルベンゼンなどの炭化水素系化合物、ビスフェノール
A- ジアリルエーテル、ビスフェノールP- ジアリルエ
ーテルなどのエーテル系化合物、ジアリルテレフタレー
ト、ジアリルイソフタレートなどのエステル系化合物、
ジアリルカーボネートなどのカーボネート系化合物など
であり、前記触媒の存在下0〜300 ℃の温度範囲で容易
に硬化させることができる。必要に応じて、ヒドロシリ
ル基含有イミド化合物、アルケニル基含有化合物、ヒド
ロシリル化触媒の3成分を混合する際に前記の溶媒を使
用し、混合後溶媒を除去したのちに前記の温度範囲に加
熱する方法を用いてもよい。
わされるごとく耐熱性向上に寄与する芳香族の基や一般
式(II)で表わされる基を分子内に含んでいるので、本発
明の化合物を使用して硬化させてえられる樹脂は優れた
耐熱性、耐薬品性、機械的特性を有し、種々の用途、た
とえば樹脂改質剤、高温に曝されやすい部位へのコーテ
ィング材などに好適に用いられる。
説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるも
のではない。
下、2,3-ジカルボキシ- ビシクロ[2.2.1 ]ヘプタ-5-
エン二無水物32.8g(0.20 mol)を、N,N-ジメチルアセ
トアミド(以下、DMAcと略す)200 mlに溶解した。
室温において 4,4′- ジアミノジフェニルエーテル20.0
g(0.10 mol)をDMAc200 mlに溶解した溶液を約30
分間かけて徐々に添加した。添加終了後20分間撹拌を続
け、アミド酸溶液をえた。
まで加熱し、さらに3時間加熱撹拌を続けた。放冷後反
応溶液を大量のメタノール中へ注ぎ込み、生成物を沈殿
させたのち濾過し、えられたイミド化合物の針状結晶を
メタノールで洗浄、室温で数時間減圧乾燥した。
サン52.2gを500 mlの4つ口フラスコに仕込み、そこに
H2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を1.02
ml加えた。この液に前記イミド化合物10gをクロロベン
ゼン1リットルに溶解させた溶液を、室温で約30分かけ
てゆっくり滴下した。滴下終了後、100 ℃で40時間反応
させた。反応後、クロロベンゼンおよび未反応の1,3,5,
7-テトラメチルシクロテトラシロキサンを留去したの
ち、室温で数時間減圧乾燥し、目的とするヒドロシリル
基を有するイミド化合物(IV)17.2gをえた。
下、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物30.4g(0.20
mol)を、DMAc200 mlに溶解した。室温において
4,4′- ジアミノベンゼン10.8g(0.10mol)をDMAc
200 mlに溶解した溶液を約30分間かけて徐々に添加し
た。添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえ
た。
化合物をえた。 1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシ
ロキサン63.8gを500 mlの4つ口フラスコに仕込み、そ
こにH2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を
1.33ml加えた。前記イミド化合物10gをクロロベンゼン
500 mlに溶解させた溶液を、室温で約30分かけてゆっく
り滴下した。滴下終了後、50℃で15時間反応させた。反
応後、クロロベンゼンおよび未反応の1,3,5,7-テトラメ
チルシクロテトラシロキサンを留去したのち、室温で数
時間減圧乾燥し、目的とするヒドロシリル基を有するイ
ミド化合物(V)20.7gをえた。
下、2,3-ジカルボキシ-7- オキサビシクロ[2.2.1 ]ヘ
プタ-5- エン二無水物33.2g(0.20 mol)を、DMAc
200 mlに溶解した。室温において1,3-ビス(3-アミノプ
ロピル)テトラメチルジシロキサン24.8g(0.10 mol)
をDMAc200 mlに溶解した溶液を約30分間かけて徐々
に添加した。添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶
液をえた。
化合物をえた。
3.1gを500 mlの4つ口フラスコに仕込み、そこにH2
PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を0.92ml加
えた。前記イミド化合物10gをクロロベンゼン500 mlに
溶解させた溶液を、室温で約30分かけてゆっくり滴下し
た。滴下終了後、50℃で15時間反応させた。反応後、ク
ロロベンゼンおよび未反応の1,3,5-トリメチルシクロト
リシロキサンをエバポレートしたのち、室温で数時間減
圧乾燥し、目的とするヒドロシリル基を有するイミド化
合物(VI)15.3gをえた。
物との反応)実施例1で合成したイミド化合物(IV)1.30
gおよび式(VII) :
クロロホルム18gに溶解し、そこにH2 PtCl6 ・6
H2 Oの10%エタノール溶液3.2 μリットルを加えて熱
硬化性組成物をえた。該組成物を50℃で1日間保存し、
このあと100 ℃で1時間処理して硬化物を作製した。え
られた硬化物の外観およびゲル分率(クロロホルム不溶
分の重量分率)を表1に示す。
示差熱天秤TG−DTAを用いて、窒素気流下、TGA
測定を行なった。そこでえられた5%および10%重量損
失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホル
ムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観
評価の結果を表2に示す。
(分子量約8000)3gと、両末端に1,3,5,7-テトラメチ
ルシクロテトラシロキシ基を有するポリプロピレングリ
コール(分子量約8000)1gを混合し、そこにH2 Pt
Cl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液4μリットルを
配合して硬化性組成物を調製した。該組成物を100 ℃に
保ったオーブン内に1時間保存して硬化物を作成した。
えられた硬化物の外観およびゲル分率を表1に示す。
示差熱天秤TG−DTAを用いて、窒素気流下、TGA
測定を行なった。そこでえられた5%および10%重量損
失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホル
ムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観
評価の結果を表2に示す。
成物を硬化してえた樹脂は耐熱性に優れたものであるこ
とがわかる。また、表2から本発明のイミド化合物を用
いた組成物を硬化してえた樹脂は耐薬品性に優れたもの
であることがわかる。
点を有し、かつ有機溶媒への溶解性に優れている。また
該イミド化合物はアルケニル基含有化合物と容易に反応
し、えられた硬化物はきわめて優れた耐熱性、耐薬品性
を有している。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(I) : 【化1】 (式中、R0は4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′
−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジ
フェニルスルフィド、4,4′−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、3,
3′−ジアミノベンゾフェノン、ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−
(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4
−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
(4−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン、ビス(3−エチル−4−アミノ
フェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−アミノフェ
ニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミノフェニ
ル)メタン、4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′
−ジアミノオクタフルオロビフェニル、3,3′−ジメ
トキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジ
メチル−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジ
クロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、2,2′,
5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノビフェニ
ル、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノビフ
ェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノ
ビフェニル、2,4−ジアミノトルエン、1,3−ジア
ミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼン、2,2′−
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパ
ン、2,2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビス(4
−アミノフェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−ア
ミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビ
ス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、
2,2′−ビス( 3−ヒドロキシ−4−アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、9,9′−ビス(4−ア
ミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、オルトト
リジンスルホンからアミノ基を2個除いた2価の基、ま
たは一般式(II): 【化2】 (R2は炭素数1〜20個の直鎖状または分岐状の2価
の飽和炭化水素基、フェニレン基、ナフチレン基、 【化3】 、R3はメチル基またはフェニル基を表わし、2つの
R2、複数のR3はそれぞれ同一であってもよく、また異
なっていてもよく、kは1〜20の正の整数を表わす)
で表わされる基、R1は一般式: 【化4】 で表される基(式中、Yは 【化5】 (式中、R 4 はH、OSi(CH 3 ) 3 および、炭素数が
1〜10のアルキル基より選ばれる基であり各々のR 4
は同じでも異なっていてもよい、mは2以上の整数、n
は0または正の整数、pは正の整数、qは0または正の
整数で、かつ2≦m+n<50、2≦p+q≦4を表わ
す)で示される枝分かれ状、環状の多価ハイドロジェン
シロキサン基)であって、2つのR1は同一であっても
よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
合物。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12471192A JP3279636B2 (ja) | 1992-05-18 | 1992-05-18 | ヒドロシリル基含有イミド化合物 |
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1992
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