JP3279636B2 - ヒドロシリル基含有イミド化合物 - Google Patents

ヒドロシリル基含有イミド化合物

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JP3279636B2
JP3279636B2 JP12471192A JP12471192A JP3279636B2 JP 3279636 B2 JP3279636 B2 JP 3279636B2 JP 12471192 A JP12471192 A JP 12471192A JP 12471192 A JP12471192 A JP 12471192A JP 3279636 B2 JP3279636 B2 JP 3279636B2
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廉一 赤堀
克哉 大内
和弥 米沢
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な反応性イミド化合
物に関する。さらに詳しくは、硬化時に低沸点化合物の
発生を伴わず、比較的低温で速やかに硬化し、硬化後に
優れた耐熱性、耐薬品性、機械的特性を有する硬化物を
与えるイミド化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から硬化性組成物として多くのもの
が開発されている。その中でも比較的低温度で進行する
ヒドロシリル化反応を利用した硬化性組成物が開示され
ている(特開平1-138230号公報)。該組成物においては
硬化時に低沸点化合物の発生がほとんどなく良好な外観
を呈する硬化物がえられるが、該組成物の必須成分であ
るアルケニル基含有成分およびヒドロシリル基含有成分
はともに主鎖がポリエーテルであり、えられる硬化物は
耐熱性、耐薬品性などが充分でなく、100 ℃といった温
度でも短時間で機械的特性が大きく低下する、耐酸性、
耐溶剤性が悪いなどの欠点を有している。したがって耐
熱性、耐薬品性が要求される用途、たとえば電子部品ま
わりのコーティング剤、耐熱性接着剤などの用途には不
適である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、触媒の作用
により、比較的低温度でアルケニル基と反応しうるヒド
ロシリル基含有イミド化合物を提供することを目的とす
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題について鋭意検討を重ねた結果、アルケニル基を含む
化合物と比較的低温でも速やかに硬化し、硬化時に低沸
点化合物の発生を伴わず、硬化物の作成が容易で、硬化
後に優れた耐熱性、耐薬品性、機械特性を有する硬化物
を与えるイミド化合物を見出し、本発明を完成するに至
った。
【0005】すなわち、本発明は一般式(I) :
【0006】
【化3】
【0007】(式中、R04,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′
−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ビス(4
−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4′−ジアミノ
ジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′−ジアミノベンゾフェノン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス
[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、
ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、ビス(3−エチル−
4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−
アミノフェニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミ
ノフェニル)メタン、4,4′−ジアミノビフェニル、
4,4′−ジアミノオクタフルオロビフェニル、3,
3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、
2,2′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミ
ノビフェニル、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジ
アミノビフェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′
−ジアミノビフェニル、2,4−ジアミノトルエン、
1,3−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼ
ン、2,2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン、2,2′−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,
2′−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2′
−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェ
ニル)プロパン、2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4
−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、9,9′
−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラ
セン、オルトトリジンスルホンからアミノ基を2個除い
2価の基、または一般式(II):
【0008】
【化4】
【0009】(R2は炭素数1〜20個の直鎖状または
分岐状の2価の飽和炭化水素基、フェニレン基、ナフチ
レン基、
【化6】 3はメチル基またはフェニル基を表わし、2つの
2、複数のR3はそれぞれ同一であってもよく、また異
なっていてもよく、kは1〜20の正の整数を表わす)
で表わされる基、R1一般式:
【化7】 で表される基(式中、Yは
【化8】 (式中、R 4 はH、OSi(CH 3 3 および、炭素数が
1〜10のアルキル基より選ばれる基であり各々のR 4
は同じでも異なっていてもよい、mは2以上の整数、n
は0または正の整数、pは正の整数、qは0または正の
整数で、かつ2≦m+n<50、2≦p+q≦4を表わ
す)で示される枝分かれ状、環状の多価ハイドロジェン
シロキサン基)であって、2つのR1は同一であっても
よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
合物に関する。
【0010】
【作用および実施例】本発明の新規なイミド化合物は一
般式(I) :
【0011】
【化5】
【0012】(式中、R04,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′
−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4′−ビス(4
−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4′−ジアミノ
ジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′−ジアミノベンゾフェノン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス
[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、
ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、ビス(3−エチル−
4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−
アミノフェニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミ
ノフェニル)メタン、4,4′−ジアミノビフェニル、
4,4′−ジアミノオクタフルオロビフェニル、3,
3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニル、
3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、
2,2′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミ
ノビフェニル、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジ
アミノビフェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′
−ジアミノビフェニル、2,4−ジアミノトルエン、
1,3−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼ
ン、2,2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン、2,2′−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,
2′−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2′
−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェ
ニル)プロパン、2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4
−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、9,9′
−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラ
セン、オルトトリジンスルホンからアミノ基を2個除い
2価の基、または一般式(II):
【0013】
【化6】
【0014】(R2は炭素数1〜20個の直鎖状または
分岐状の2価の飽和炭化水素基、フェニレン基、ナフチ
レン基、
【化9】 3はメチル基またはフェニル基を表わし、2つの
2、複数のR3はそれぞれ同一であってもよく、また異
なっていてもよく、kは1〜20の正の整数を表わす)
で表わされる基、R1一般式:
【化10】 で表される基(式中、Yは
【化11】 (式中、R 4 はH、OSi(CH 3 3 および、炭素数が
1〜10のアルキル基より選ばれる基であり各々のR 4
は同じでも異なっていてもよい、mは2以上の整数、n
は0または正の整数、pは正の整数、qは0または正の
整数で、かつ2≦m+n<50、2≦p+q≦4を表わ
す)で示される枝分かれ状、環状の多価ハイドロジェン
シロキサン基)であって、2つのR1は同一であっても
よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
合物である。
【0015】一般式(I)におけるR0の具体例としては、
前述のごとく、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′
−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジ
フェニルスルフィド、4,4′−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、3,
3′−ジアミノベンゾフェノン、ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−
(2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4
−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビ
ス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
(4−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン、ビス(3−エチル−4−アミノ
フェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−アミノフェ
ニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミノフェニ
ル)メタン、4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′
−ジアミノオクタフルオロビフェニル、3,3′−ジメ
トキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジ
メチル−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジ
クロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、2,2′,
5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノビフェニ
ル、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノビフ
ェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノ
ビフェニル、2,4−ジアミノトルエン、1,3−ジア
ミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼン、2,2′−
ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパ
ン、2,2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビス(4
−アミノフェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−ア
ミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビ
ス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、
2,2′−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、9,9′−ビス(4−ア
ミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、オルトト
リジンスルホン、1,3−ビス(3−アミノプロピル)
テトラメチルジシロキサン、1,5−ビス(3−アミノ
プロピル)ヘキサメチルトリシロキサン、および一般式
(III):
【0016】
【化7】
【0017】(式中、R3 、kは前記に同じ)で表わさ
れるアミノ末端ポリシロキサンなどのジアミンからアミ
ノ基を除いた残基などがあげられ、これらを単独もしく
は2種以上の混合物として用いることができる。
【0018】また、R1 は環を構成する炭素原子にヒド
ロシリル基を有する基が直接結合した構造を有する2価
の有機基であり、具的には以下の構造式、
【0019】
【化8】
【0020】から選ばれたすくなくとも1つの基であっ
て、2つのR1 は同一であってもよく、また異なってい
てもよい。
【0021】Yは
【0022】
【0023】
【0024】
【化10】
【0025】(式中、R4H、OSi(CH 3 3 およ
び、炭素数が1〜10のアルキル基より選ばれる基であ
り各々のR 4 は同じでも異なっていてもよい、mは2以
の整数、nは0または正の整数、pは正の整数、qは
0または正の整数で、かつ2m+n<50、2≦p+
q≦4を表わす)で示される枝分かれ状、環状の多価ハ
イドロジェンシロキサン基があげられる。
【0026】同一分子中にヒドロシリル基含有基が2個
以上存在するばあいには、それらは互いに同一でも異な
ってもかまわない。本発明のヒドロシリル基含有イミド
化合物中に含まれるヒドロシリル基の総数については、
すくなくとも、1分子中に2個あればよいが、2〜15個
が好ましく、3〜12個がとくに好ましい。該ヒドロシリ
ル基の個数が2より少ないと本発明のヒドロシリル基含
有イミド化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下に、ア
ルケニル基を含有する化合物と混合してヒドロシリル化
反応により硬化させるばあいに、硬化不良を起こすばあ
いが多い。また、該ヒドロシリル基の数が15より多くな
ると、該イミド化合物の貯蔵安定性が悪くなり、そのう
え、硬化後も多量のヒドロシリル基が硬化物中に残存
し、ボイドやクラックの原因となる。
【0027】また一般式(II)において、R2 はメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などの直鎖
状または分岐状の炭素数1〜20個の2価の飽和炭化水
素基、フェニレン基、ナフチレン基、
【0028】
【化11】
【0029】あげることができる。
【0030】本発明のイミド化合物の具体例を以下に示
すが、本発明のイミド化合物はこれら具体例のみに限定
されるものではない。
【0031】
【化12】
【0032】
【化13】
【0033】
【化14】
【0034】一般式(I) で表わされるヒドロシリル基含
有イミド化合物の製造方法としてはとくに制限はなく、
種々の方法を用いることができる。たとえば、分子内
にSi−Cl基をもつイミド化合物をLiAlH4 、N
aBH4 などの還元剤で処理して該化合物中のSi−C
l基をSi−H基に還元する方法、分子内にある官能
基Xをもつイミド化合物と分子内に前記官能基と反応す
る官能基Zおよびヒドロシリル基を同時にもつ化合物と
を反応させる方法、炭素−炭素二重結合をもつイミド
化合物に対してすくなくとも2個のヒドロシリル基をも
つポリヒドロシラン化合物を選択ヒドロシリル化するこ
とにより、反応後もヒドロシリル基を該化合物の分子中
に残存させる方法などによることができる。これらのう
ち、原料の入手のしやすさ、反応の簡便さ、収率のよさ
などの点からの炭素−炭素二重結合をもつイミド化合
物とポリヒドロシラン化合物との反応による方法がとく
に好ましい。
【0035】前記の方法によるばあい、反応成分であ
る炭素−炭素二重結合を有するイミド化合物を製造する
には(1)ジアミン成分と環状オレフィン含有酸無水物
とを有機極性溶媒中で反応させてアミド酸の溶液をえ、
ついで(a) 前記アミド酸の溶液を加熱することにより熱
的にイミド化する方法、あるいは(b) 前記アミド酸の溶
液に無水酢酸などの脱水剤を作用させ、化学的にイミド
化する方法、あるいは(c) 前記アミド酸の溶液を水、炭
化水素のようなアミド酸に対する貧溶媒と接触させてア
ミド酸を沈殿として析出させ、これを加熱する方法、あ
るいは(2)ジイソシアネート成分と環状オレフィン含
有酸無水物とを有機極性溶媒中で反応させて直接イミド
化合物をえる方法などをあげることができる。
【0036】これらのいずれの方法によっても同一分子
内に2つの環状オレフィンを含有するイミド化合物を製
造することができ、とくに制約を受けるものではない
が、製造装置や製造工程がより簡便あるいは容易である
ことや、使用する原料の入手が容易であることから、
(1)(a) の方法、すなわちジアミン成分と環状オレフ
ィン含有酸無水物とを有機極性溶媒中で反応させ、つい
で加熱してイミドをえる方法が好ましい。
【0037】前記有機極性溶媒としてはたとえばジメチ
ルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキ
シド系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチル
ホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチル
アセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミドなどのアセト
アミド系溶媒、N-メチル-2- ピロリドン、N-アセチル-2
- ピロリドン、N-ビニル-2- ピロリドンなどのピロリド
ン系溶媒、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、
p-クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、
カテコールなどのフェノール系溶媒、あるいはピリジ
ン、ヘキサメチルホスホルアミド、γ- ブチロラクトン
など、またはこれらの溶媒の2種以上の混合物があげら
れる。
【0038】反応はジアミン成分と環状オレフィン含有
酸無水物とを前記溶媒中で80℃以下の温度で反応させて
アミド酸の溶液をえ、ついでこれを100 〜250 ℃に加熱
することによる方法が好ましい。
【0039】前記環状オレフィン含有酸無水物は前記ジ
アミン成分に対して2〜5倍量(モル比、以下同様)、
好ましくは2〜3倍量、より好ましくは2〜2.5 倍量用
いて反応を行うのが望ましい。環状オレフィン含有酸無
水物の量が2倍量より少ないと、当然、未反応のジアミ
ンが残存し、目的のイミド化合物の収率は低下するので
好ましくない。また、5倍量以上用いると残存する未反
応のジアミンの量は減少するが、過剰に用いた環状オレ
フィン含有酸無水物の除去が困難になるので好ましくな
い。
【0040】使用されるジアミン成分としては前記R0
の具体例としてあげたものが好ましい。
【0041】使用される環状オレフィン含有酸無水物と
しては一般式:
【0042】
【化15】
【0043】(式中、R5 は炭素数1〜20の環状オレフ
ィンを表わす)で表わされる構造のものが挙げられる。
好ましい環状オレフィン含有酸無水物の具体例としては
5
【0044】
【化16】
【0045】のものなどをあげることができる。
【0046】前記環状オレフィン含有酸無水物とジアミ
ン成分との反応生成物であるイミド化合物は、室温で液
体または250 ℃以下の融点を有する。
【0047】ヒドロシリル化反応は、前記でえられた炭
素−炭素二重結合を有するイミド化合物とポリヒドロシ
リル化合物、たとえばジエチルシラン、フェニルシラ
ン、ジフェニルシランなどのシラン類、1,1,1,3,5,7,7,
7-オクタメチルテトラシロキサン、1,1,1,3,5,7,9,9,9-
ノナメチルペンタシロキサンなどの鎖状ハイドロジェン
ポリシロキサン類、1,3,5-トリメチルシクロトリシロキ
サン、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサンな
どの環状ハイドロジェンポリシロキサン類などの化合物
とをヒドロシリル化触媒の存在下、炭素−炭素二重結合
に対して2〜5倍量(モル比)のポリヒドロシリル化合
物を添加して行う。反応は一般に0〜150℃の温度範囲
で行なわれ、必要に応じて、たとえばヘキサン、ヘプタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶
媒、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコール、1,4-ブタンジオールなどのアルコール系溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオ
キサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、アニソールなどのエー
テル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチルなどのエ
ステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒
の単独もしくは2種以上の混合物などの適当な有機溶媒
を用いてもよい。
【0048】本発明のイミド化合物は、白または黄褐色
の室温で液体または融点150 ℃以下の固体で、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、
1,4-ブタンジオールなどのアルコール系溶媒、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、エチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、アニソールなどのエーテル系溶媒、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
安息香酸メチル、安息香酸エチルなどのエステル系溶
媒、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン、クロ
ロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジメチル
スルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシ
ド系溶媒、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホ
ルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N-ジメチルア
セトアミド、N,N-ジエチルアセトアミドなどのアセトア
ミド系溶媒、N-メチル-2- ピロリドン、N-アセチル-2-
ピロリドン、N-ビニル-2- ピロリドンなどのピロリドン
系溶媒、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-
クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カ
テコールなどのフェノール系溶媒、あるいはピリジン、
ヘキサメチルホスホルアミド、γ- ブチロラクトンおよ
びこれら2種以上の混合物に可溶で、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、ペンゼン、トルエン、キシレンなどの炭
化水素系溶媒および水には不溶または極めて難溶であ
る。
【0049】本発明のヒドロシリル基含有化合物は湿分
により貯蔵中に粘度の増加やゲル化などの起ることを防
ぐために、イミド化合物の中に、脂肪族不飽和結合を含
有する化合物、有機リン化合物、有機硫黄化合物、窒素
含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物などの貯蔵安
定性改良剤を含有させることができる。
【0050】前記貯蔵安定性改良剤の使用量は均一に分
散する限りにおいてほぼ任意に選ぶことができるが、該
イミド化合物1 molに対し、10-6〜10-1 molの範囲で用
いることが好ましい。10-6 mol以下では貯蔵安定性の効
果が充分には発揮されず、10-1 mol以上では硬化を阻害
する恐れが大きい。貯蔵安定性改良剤は単独で用いて
も、また、2種以上を混合して用いてもよい。
【0051】本発明のイミド化合物は、分子内にヒドロ
シリル基を有するために、ヒドロシリル化触媒たとえば
白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラックなど
の単体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、塩化
白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトンなどとの錯
体、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン錯
体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体な
どの白金系触媒、またはRhCl(PPh3 3 、Rh
Cl3 、RhAl2 3 、RuCl3 、IrCl3 、F
eCl3 、AlCl3 、PdCl2 ・2H2 O、NiC
2 、TiCl4などの存在下で0〜300 ℃の温度範囲
で容易にアルケニル基を有する化合物と反応する。
【0052】前記アルケニル基を有する化合物、たとえ
ば1,3-ブタジエン、1,5-ヘキサジエン、1,9-デカジエ
ン、o-ジビニルベンゼン、m-ジビニルベンゼン、p-ジビ
ニルベンゼンなどの炭化水素系化合物、ビスフェノール
A- ジアリルエーテル、ビスフェノールP- ジアリルエ
ーテルなどのエーテル系化合物、ジアリルテレフタレー
ト、ジアリルイソフタレートなどのエステル系化合物、
ジアリルカーボネートなどのカーボネート系化合物など
であり、前記触媒の存在下0〜300 ℃の温度範囲で容易
に硬化させることができる。必要に応じて、ヒドロシリ
ル基含有イミド化合物、アルケニル基含有化合物、ヒド
ロシリル化触媒の3成分を混合する際に前記の溶媒を使
用し、混合後溶媒を除去したのちに前記の温度範囲に加
熱する方法を用いてもよい。
【0053】本発明のイミド化合物は、一般式(I) で表
わされるごとく耐熱性向上に寄与する芳香族の基や一般
式(II)で表わされる基を分子内に含んでいるので、本発
明の化合物を使用して硬化させてえられる樹脂は優れた
耐熱性、耐薬品性、機械的特性を有し、種々の用途、た
とえば樹脂改質剤、高温に曝されやすい部位へのコーテ
ィング材などに好適に用いられる。
【0054】以下に、実施例によって本発明を具体的に
説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるも
のではない。
【0055】実施例1 (ヒドロシリル基含有イミド化合物の合成1)窒素気流
下、2,3-ジカルボキシ- ビシクロ[2.2.1 ]ヘプタ-5-
エン二無水物32.8g(0.20 mol)を、N,N-ジメチルアセ
トアミド(以下、DMAcと略す)200 mlに溶解した。
室温において 4,4′- ジアミノジフェニルエーテル20.0
g(0.10 mol)をDMAc200 mlに溶解した溶液を約30
分間かけて徐々に添加した。添加終了後20分間撹拌を続
け、アミド酸溶液をえた。
【0056】引続き、えられたアミド酸溶液を還流する
まで加熱し、さらに3時間加熱撹拌を続けた。放冷後反
応溶液を大量のメタノール中へ注ぎ込み、生成物を沈殿
させたのち濾過し、えられたイミド化合物の針状結晶を
メタノールで洗浄、室温で数時間減圧乾燥した。
【0057】1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキ
サン52.2gを500 mlの4つ口フラスコに仕込み、そこに
2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を1.02
ml加えた。この液に前記イミド化合物10gをクロロベン
ゼン1リットルに溶解させた溶液を、室温で約30分かけ
てゆっくり滴下した。滴下終了後、100 ℃で40時間反応
させた。反応後、クロロベンゼンおよび未反応の1,3,5,
7-テトラメチルシクロテトラシロキサンを留去したの
ち、室温で数時間減圧乾燥し、目的とするヒドロシリル
基を有するイミド化合物(IV)17.2gをえた。
【0058】
【化17】
【0059】実施例2 (ヒドロシリル基含有イミド化合物の合成2)窒素気流
下、1,2,3,6-テトラヒドロフタル酸無水物30.4g(0.20
mol)を、DMAc200 mlに溶解した。室温において
4,4′- ジアミノベンゼン10.8g(0.10mol)をDMAc
200 mlに溶解した溶液を約30分間かけて徐々に添加し
た。添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶液をえ
た。
【0060】引続き、実施例1と同様に処理してイミド
化合物をえた。 1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシ
ロキサン63.8gを500 mlの4つ口フラスコに仕込み、そ
こにH2 PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を
1.33ml加えた。前記イミド化合物10gをクロロベンゼン
500 mlに溶解させた溶液を、室温で約30分かけてゆっく
り滴下した。滴下終了後、50℃で15時間反応させた。反
応後、クロロベンゼンおよび未反応の1,3,5,7-テトラメ
チルシクロテトラシロキサンを留去したのち、室温で数
時間減圧乾燥し、目的とするヒドロシリル基を有するイ
ミド化合物(V)20.7gをえた。
【0061】
【化18】
【0062】実施例3 (ヒドロシリル基含有イミド化合物の合成3)窒素気流
下、2,3-ジカルボキシ-7- オキサビシクロ[2.2.1 ]ヘ
プタ-5- エン二無水物33.2g(0.20 mol)を、DMAc
200 mlに溶解した。室温において1,3-ビス(3-アミノプ
ロピル)テトラメチルジシロキサン24.8g(0.10 mol)
をDMAc200 mlに溶解した溶液を約30分間かけて徐々
に添加した。添加終了後20分間撹拌を続け、アミド酸溶
液をえた。
【0063】引続き、実施例1と同様に処理してイミド
化合物をえた。
【0064】1,3,5-トリメチルシクロトリシロキサン3
3.1gを500 mlの4つ口フラスコに仕込み、そこにH2
PtCl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液を0.92ml加
えた。前記イミド化合物10gをクロロベンゼン500 mlに
溶解させた溶液を、室温で約30分かけてゆっくり滴下し
た。滴下終了後、50℃で15時間反応させた。反応後、ク
ロロベンゼンおよび未反応の1,3,5-トリメチルシクロト
リシロキサンをエバポレートしたのち、室温で数時間減
圧乾燥し、目的とするヒドロシリル基を有するイミド化
合物(VI)15.3gをえた。
【0065】
【化19】
【0066】参考例1 (ヒドロシリル基含有イミド化合物とアリル基含有化合
物との反応)実施例1で合成したイミド化合物(IV)1.30
gおよび式(VII) :
【0067】
【化20】
【0068】で表わされるアリル基含有化合物1.0 gを
クロロホルム18gに溶解し、そこにH2 PtCl6 ・6
2 Oの10%エタノール溶液3.2 μリットルを加えて熱
硬化性組成物をえた。該組成物を50℃で1日間保存し、
このあと100 ℃で1時間処理して硬化物を作製した。え
られた硬化物の外観およびゲル分率(クロロホルム不溶
分の重量分率)を表1に示す。
【0069】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG−DTAを用いて、窒素気流下、TGA
測定を行なった。そこでえられた5%および10%重量損
失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホル
ムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観
評価の結果を表2に示す。
【0070】参考比較例1 両末端にアリル基を有するポリプロピレングリコール
(分子量約8000)3gと、両末端に1,3,5,7-テトラメチ
ルシクロテトラシロキシ基を有するポリプロピレングリ
コール(分子量約8000)1gを混合し、そこにH2 Pt
Cl6 ・6H2 Oの10%エタノール溶液4μリットルを
配合して硬化性組成物を調製した。該組成物を100 ℃に
保ったオーブン内に1時間保存して硬化物を作成した。
えられた硬化物の外観およびゲル分率を表1に示す。
【0071】えられた硬化物に対して理学電機(株)製
示差熱天秤TG−DTAを用いて、窒素気流下、TGA
測定を行なった。そこでえられた5%および10%重量損
失温度を表1に示す。また、硬化物をN,N-ジメチルホル
ムアミド、10%塩酸に室温で10日間浸漬したのちの外観
評価の結果を表2に示す。
【0072】
【表1】
【0073】
【表2】
【0074】表1から本発明のイミド化合物を用いた組
成物を硬化してえた樹脂は耐熱性に優れたものであるこ
とがわかる。また、表2から本発明のイミド化合物を用
いた組成物を硬化してえた樹脂は耐薬品性に優れたもの
であることがわかる。
【0075】
【発明の効果】本発明のイミド化合物は、比較的低い融
点を有し、かつ有機溶媒への溶解性に優れている。また
該イミド化合物はアルケニル基含有化合物と容易に反応
し、えられた硬化物はきわめて優れた耐熱性、耐薬品性
を有している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米沢 和弥 兵庫県神戸市垂水区つつじが丘五丁目12 −11 (56)参考文献 特開 平2−62884(JP,A) 特開 平3−279358(JP,A) 特開 昭63−295555(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07F 7/10 C07F 7/21 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) : 【化1】 (式中、R04,4′−ジアミノジフェニルエーテ
    ル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′
    −ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジ
    フェニルスルフィド、4,4′−ビス(4−アミノフェ
    ノキシ)ビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニルス
    ルホン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、3,
    3′−ジアミノベンゾフェノン、ビス[4−(4−アミ
    ノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−
    アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−
    (2−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4
    −ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビ
    ス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
    (4−アミノフェニル)ベンゼン、ビス[4−(4−ア
    ミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,4′−ジア
    ミノジフェニルメタン、ビス(3−エチル−4−アミノ
    フェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−アミノフェ
    ニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミノフェニ
    ル)メタン、4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′
    −ジアミノオクタフルオロビフェニル、3,3′−ジメ
    トキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジ
    メチル−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジ
    クロロ−4,4′−ジアミノビフェニル、2,2′,
    5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノビフェニ
    ル、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノビフ
    ェニル、3,3′−ジヒドロキシ−4,4′−ジアミノ
    ビフェニル、2,4−ジアミノトルエン、1,3−ジア
    ミノベンゼン、1,4−ジアミノベンゼン、2,2′−
    ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパ
    ン、2,2′−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
    ェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビス(4
    −アミノフェニル)プロパン、2,2′−ビス(4−ア
    ミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2′−ビ
    ス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、
    2,2′−ビス( 3−ヒドロキシ−4−アミノフェニ
    ル)ヘキサフルオロプロパン、9,9′−ビス(4−ア
    ミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、オルトト
    リジンスルホンからアミノ基を2個除いた2価の基、ま
    たは一般式(II): 【化2】 (R2は炭素数1〜20個の直鎖状または分岐状の2価
    飽和炭化水素基、フェニレン基、ナフチレン基、 【化3】 3はメチル基またはフェニル基を表わし、2つの
    2、複数のR3はそれぞれ同一であってもよく、また異
    なっていてもよく、kは1〜20の正の整数を表わす)
    で表わされる基、R1一般式: 【化4】 で表される基(式中、Yは 【化5】 (式中、R 4 はH、OSi(CH 3 3 および、炭素数が
    1〜10のアルキル基より選ばれる基であり各々のR 4
    は同じでも異なっていてもよい、mは2以上の整数、n
    は0または正の整数、pは正の整数、qは0または正の
    整数で、かつ2≦m+n<50、2≦p+q≦4を表わ
    す)で示される枝分かれ状、環状の多価ハイドロジェン
    シロキサン基)であって、2つのR1は同一であっても
    よく、また異なっていてもよい)で表わされるイミド化
    合物。
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